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TWI646391B - 黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用 - Google Patents

黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用 Download PDF

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TWI646391B
TWI646391B TW104143587A TW104143587A TWI646391B TW I646391 B TWI646391 B TW I646391B TW 104143587 A TW104143587 A TW 104143587A TW 104143587 A TW104143587 A TW 104143587A TW I646391 B TWI646391 B TW I646391B
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蔡宇傑
吳鎭宇
陳奕光
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奇美實業股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用。感光性樹脂組成物包含鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基之化合物(B)、光起始劑(C)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)、黑色顏料(E)以及溶劑(F)。應用本發明之感光性樹脂組成物，可製得具有良好解析度之黑色矩陣。

Description

黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應 用
本發明是有關於一種黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用，且特別是有關於一種具有良好解析度之黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用。
近年來，隨著各式各樣的液晶顯示器技術蓬勃發展，而為了提高目前液晶顯示器的對比度及顯示品質，通常會於液晶顯示器中的彩色濾光片的條紋(stripe)及點(dot)間隙中放置黑色矩陣(black matrix)。上述黑色矩陣可防止因畫素間的漏光(light leakage)所引起的對比度(contrast ratio)下降及色純度(color purity)下降等問題。
一般而言，黑色矩陣所使用的材料皆以含有鉻或氧化鉻等的蒸鍍膜為主。然而，以上述蒸鍍膜作為黑色矩陣的材料時，存在製造程複雜且材料昂貴等缺點。為了解決此問題，先前提出有利用感光性樹脂組成物透過光平版印刷(photo lithographic)的方式形成黑色矩陣的技術。
隨著對於黑色矩陣的遮光性要求日益提高，其解決方法之一就是增加黑色顏料的使用量，藉此提高黑色矩陣的遮光性。舉例而言，日本專利特開第2006-259716號公報揭示一種黑色矩陣用感光性樹脂組成物，其包含高使用量的黑色顏料、鹼可溶性樹脂、光聚合起始劑、具有二官能基的反應性單體以及有機溶劑。值得注意的是，具有二官能基的反應性單體可改善化合物間的反應，以形成精細的圖案(fine pattern)。藉此，於感光性樹脂組成物中，當以提升黑色顏料使用量的方式以增加遮光性的同時，尚可保持感光性樹脂組成物的感度。
另外，日本專利特開第2008-268854號公報揭示一種黑色矩陣用的感光性樹脂組成物。上述感光性樹脂組成物包含具有羧酸基及具有不飽和基的鹼可溶性樹脂、具有乙烯性不飽和基的光聚合單體、光聚合起始劑及高使用量的黑色顏料。上述黑色矩陣用感光性樹脂組成物中，藉由使用特定的鹼可溶性樹脂來改善高使用量黑色顏料的感光性樹脂組成物的解析度。
雖然現有技術中提高了黑色顏料使用量的感光性樹脂組成物能夠增加遮光性，並選用具有羧酸基及具有不飽和基的鹼可溶性樹脂彌補所製得之黑色矩陣的解析度，然而，上述習知的感光性樹脂組成物所製得之黑色矩陣的解析度仍無法符合目前業界之需求。有鑑於此，仍需開發一種解析度佳的黑色矩陣用感光性樹脂組成物。
因此，本發明之一態樣是在提供一種感光性樹脂組成物。
本發明之另一態樣是在提供一種黑色矩陣，其係將上述之感光性樹脂組成物經預烤處理、曝光處理、顯影處理及後烤處理所形成。
本發明之又一態樣是在提供一種彩色濾光片，其包括上述之黑色矩陣。
本發明之又一態樣是在提供一種液晶顯示器，其包括上述之彩色濾光片。
根據本發明之上述態樣，首先提供一種感光性樹脂組成物，其包含鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基之化合物(B)、光起始劑(C)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)、黑色顏料(E)以及溶劑(F)。以下分別析述之。
術語「及/或」或「或/及」在本發明上下文中意欲表達不僅可存在所定義替代物(取代基)中之一者，而且可存在總共若干所定義替代物(取代基)，即不同替代物(取代基)之混合物。
術語「至少」意欲定義一者或一者以上，例如一者或兩者或三者、較佳一者或兩者。
術語「視情況經取代」意指其提及之基團未經取代或經取代。
術語「視情況經間雜」意指其提及之基團未經雜或經間雜。
在整個本說明書及下文之申請專利範圍中，除非上下文另有要求，否則詞語「包含(comprise)」或變體(例如，「comprises」或「comprising」)應理解為暗指包括所述整數或步驟或整數群組或步驟群組，但並不排除任一其他整數或步驟或整數群組或步驟群組。術語「(甲基)丙烯酸酯」在本申請案上下文中意欲指丙烯酸酯以及相應甲基丙烯酸酯。
鹼可溶性樹脂(A)
本發明之鹼可溶性樹脂(A)包括鹼可溶性樹脂(A-1)、鹼溶性樹脂(A-2)以及其他鹼可溶性樹脂(A-3)。
鹼可溶性樹脂(A-1)
鹼可溶性樹脂(A-1)是由混合物聚合而得。混合物包括含有聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1)、四羧酸或其酸二酐(a-1-2)以及二羧酸或其酸酐(a-1-3)。
含有聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1)
含有聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1)是由具有至少二個環氧基的環氧化合物及具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物反應而得。
具有至少二個環氧基的環氧化合物包括式(II-1)所示的結構、式(II-2)所示的結構以及式(II-3)所示的結構，或上述三種結構。以下分別具體說明式(II-1)所示的結構、式(II-2)所示的結構、式(II-3)所示的結構。
具體而言，式(II-1)所表示的結構如下：
式(II-1)中，W1、W2、W3以及W4各自獨立表示氫原子、鹵素原子、碳數為1至5的烷基、碳數為1至5的烷氧基、碳數為6至12的芳基或碳數為6至12的芳烷基。
含有式(II-1)所表示的結構的具有至少二個環氧基的環氧化合物可包括由雙酚茀型化合物與鹵化環氧丙烷反應而得的具有環氧基的雙酚茀型化合物。
詳言之，雙酚茀型化合物的具體例包括：9,9-雙(4-羥基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-氯苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-溴苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-氟苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-甲氧基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3,5-二氯苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3,5-二溴苯基)茀或其類似物，或上述化合物之組合。
鹵化環氧丙烷的具體例包括3-氯-1,2-環氧丙烷或3-溴-1,2-環氧丙烷或其類似物，或上述化合物之組合。
具有環氧基的雙酚茀型化合物的具體例包括(1)新日鐵化學製造的商品：例如ESF-300或其類似物；(2)大阪瓦斯製造之商品：例如PG-100、EG-210或其類似物；(3)S.M.S Technology Co.製造之商品：例如 SMS-F9PhPG、SMS-F9CrG、SMS-F914PG或其類似物。
另外，具體而言，式(II-2)所表示的結構如下：
式(II-2)中，W5至W18各自獨立表示氫原子、鹵素原子、碳數為1至8的烷基或碳數為6至15的芳香基，s表示0至10的整數。
含有式(II-2)所表示的結構的具有至少二個環氧基的環氧化合物可包括在鹼金屬氫氧化物存在下，使具有下式(II-2-I)結構的化合物與鹵化環氧丙烷進行反應而得。
在上式(II-2-I)中，W5至W18以及s的定義是分別與式(II-2)中的W5至W18以及s的定義相同，在此不另贅述。
含有式(II-2)所表示的結構的具有至少二個環氧基的環氧化合物的合成方法可參考台灣公開號TW201508418之專利。
上述含有式(II-2)所表示的結構的具有至少二個環氧基的環氧化合物的具體例包括商品名為NC-3000、NC-3000H、NC-3000S以及NC-3000P等由日本化藥製造 的商品。
另外，具體而言，式(II-3)所表示的結構如下。
式(II-3)中，Ar1表示萘環，Q1表示氰基、鹵素或烴基，Q2表示烴基、烷氧基、環烷氧基、芳氧基、芳烷氧基、烷硫基、環烷硫基、芳硫基、芳烷硫基、醯基、鹵素、硝基、氰基或是經取代的氨基，J表示伸烷基，xa表示0至4的整數，xb以及xc表示0或0以上的整數。
上述含有式(II-3)所表示的結構的具有至少二個環氧基的環氧化合物的具體例包括：9,9-雙(縮水甘油氧基萘基)芴，且例如是9,9-雙(6-縮水甘油氧基-2-萘基)芴或9,9-雙(5-縮水甘油氧基-1-萘基)芴等類似之化合物。
前述之具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物選自於由以下(1)至(3)所組成的族群的其中一種：(1)丙烯酸、甲基丙烯酸、2-甲基丙烯醯氧乙基丁二酸、 2-甲基丙烯醯氧丁基丁二酸、2-甲基丙烯醯氧乙基己二酸、2-甲基丙烯醯氧丁基己二酸、2-甲基丙烯醯氧乙基六氫鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧乙基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丙基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丁基馬來酸、2-甲基丙烯醯氧丙基丁二酸、2-甲基丙烯醯氧丙基己二酸、2-甲基丙烯醯氧丙基四氫鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧丙基鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧丁基鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧丁基氫鄰苯二甲酸或其類似物；(2)由具有羥基之(甲基)丙烯酸酯與二元羧酸化合物反應而得的化合物，其中二元羧酸化合物的具體例包括己二酸、丁二酸、馬來酸、鄰苯二甲酸或其類似物；以及(3)由具有羥基之(甲基)丙烯酸酯與羧酸酐化合物反應而得的半酯化合物，其中具有羥基的(甲基)丙烯酸酯的具體例包括2-羥基乙基丙烯酸酯、2-羥基乙基甲基丙烯酸酯、2-羥基丙基丙烯酸酯、2-羥基丙基甲基丙烯酸酯、4-羥基丁基丙烯酸酯、4-羥基丁基甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯或其類似物。
另外，此處所述的羧酸酐化合物與以下所述之四羧酸二酐或二羧酸酐相同，在此不另贅述。
四羧酸或其酸二酐(a-1-2)
四羧酸或其酸二酐(a-1-2)包括含有氟原子的四羧酸或其酸二酐、除了所述含有氟原子的四羧酸或其酸二酐之外的其他四羧酸或其酸二酐或上述兩者的組合。
含有氟原子的四羧酸或其酸二酐選自由式(IV-1)表示的含有氟原子的四羧酸化合物以及由式(IV-2)表示的含有氟原子的四羧酸二酐化合物所組成的族群。具體而言，由式(IV-1)表示的含有氟原子的四羧酸化合物以及由式(IV-2)表示的含有氟原子的四羧酸二酐化合物如下。
式(IV-1)與式(IV-2)中，L2為具有氟的四價芳香族基團，且較佳為具有苯環。具體而言，較佳為選自由式(L-1)至式(L-6)表示的基團中的其中一者。
式(L-1)至式(L-6)中，E各自獨立表示氟原子或三氟甲基，*表示與碳原子鍵結的位置。
詳言之，含有氟原子的四羧酸或其酸二酐的具 體例包括4,4'-六氟亞異丙基二鄰苯二甲酸、1,4-二氟均苯四甲酸、1-單氟均苯四甲酸、1,4-二(三氟甲基)均苯四甲酸等含氟的芳香族四羧酸，或上述四羧酸之二酐化合物，或上述化合物的組合。
含有氟原子的四羧酸或其酸二酐的具體例還包括3,3'-六氟亞異丙基二鄰苯二甲酸、5,5'-[2,2,2-三氟-1-[3-(三氟甲基)苯基]亞乙基]二鄰苯二甲酸、5,5'-[2,2,3,3,3-五氟-1-(三氟甲基)亞丙基]二鄰苯二甲酸、5,5'-氧基雙[4,6,7-三氟-均苯四甲酸]、3,6-雙(三氟甲基)均苯四甲酸、4-(三氟甲基)均苯四甲酸、1,4-雙(3,4-二羧酸三氟苯氧基)四氟苯等含氟的四羧酸，或上述四羧酸之二酐化合物，或上述化合物的組合。
其他四羧酸或其酸二酐包括飽和直鏈烴四羧酸、脂環式四羧酸、芳香族四羧酸，或上述四羧酸之二酐化合物，或其組合。
飽和直鏈烴四羧酸的具體例包括丁烷四羧酸、戊烷四羧酸、己烷四羧酸，或上述化合物的組合。飽和直鏈烴四羧酸亦可具有取代基。
脂環式四羧酸的具體例包括環丁烷四羧酸、環戊烷四羧酸、環已烷四羧酸，降冰片烷四羧酸，或上述化合物的組合。脂環式四羧酸亦可具有取代基。
芳香族四羧酸的具體例包括均苯四甲酸、二苯甲酮四羧酸、聯苯四羧酸、聯苯醚四羧酸、二苯基碸四羧酸、1,2,3,6-四氫鄰苯二甲酸，或上述化合物的組合。芳香族四 羧酸亦可具有取代基。
二羧酸或其酸酐(a-1-3)
二羧酸或其酸酐(a-1-3)包括含有氟原子的二羧酸、飽和直鏈烴二羧酸、飽和環狀烴二羧酸、不飽和二羧酸、上述二羧酸化合物之酸酐，或上述化合物的組合。
含有氟原子的二羧酸的具體例包括3-氟鄰苯二甲酸、4-氟鄰苯二甲酸、四氟鄰苯二甲酸、3,6-二氟鄰苯二甲酸、四氟琥珀酸，或上述二羧酸之酸酐化合物，或上述化合物的組合。
飽和直鏈烴二羧酸的具體例包括丁二酸、乙醯基丁二酸、己二酸、壬二酸、檸蘋酸、丙二酸、戊二酸、檸檬酸、酒石酸、氧代戊二酸、庚二酸、癸二酸、辛二酸、二甘醇酸，或上述化合物的組合。飽和直鏈烴二羧酸中的烴基亦可被取代。
飽和環狀烴二羧酸的具體例包括六氫鄰苯二甲酸、環丁烷二羧酸、環戊烷二羧酸、降冰片烷二羧酸、六氫偏苯三酸，或上述化合物的組合。飽和環狀烴二羧酸亦可為飽和烴經取代的脂環式二羧酸。
不飽和二羧酸的具體例包括馬來酸、衣康酸、鄰苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸、甲基橋亞甲基四氫鄰苯二甲酸、氯茵酸、偏苯三酸，或上述化合物的組合。
二羧酸或其酸酐(a-1-3)可更包括除上述二羧酸或其酸酐以外之其他二羧酸酐或其二羧酸化合物，其具體例包括三甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐、三乙氧基矽烷基丙基 丁二酸酐、甲基二甲氧基矽烷基丙基丁二酸酐、甲基二乙氧基矽烷基丙基丁二酸酐、三甲氧基矽烷基丁基丁二酸酐、三乙氧基矽烷基丁基丁二酸酐、甲基二乙氧基矽烷基丁基丁二酸酐、對(三甲氧基矽烷基)苯基丁二酸酐、對(三乙氧基矽烷基)苯基丁二酸酐、對(甲基二甲氧基矽烷基)苯基丁二酸酐、對(甲基二乙氧基矽烷基)苯基丁二酸酐、間(三甲氧基矽烷基)苯基丁二酸酐、間(三乙氧基矽烷基)苯基丁二酸酐、間(甲基二乙氧基矽烷基)苯基丁二酸酐等二羧酸酐，或上述二羧酸酐之二羧酸化合物，或上述化合物的組合。
鹼可溶性樹脂(A-1)的合成方法並無特別限制，只要將含有聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1)、四羧酸二酐或其四羧酸(a-1-2)以及二羧酸酐或其二羧酸(a-1-3)反應即可獲得，並且可參考台灣專利公開號TW201508418之方法進行合成。
鹼可溶性樹脂(A-1)的重量平均分子量一般為1,200至15,000，較佳為1,500至13,000，更佳為1,800至10,000。
基於所述鹼可溶性樹脂(A)100重量份，所述鹼可溶性樹脂(A-1)的使用量為30重量份至100重量份，較佳為50重量份至100重量份，且更佳為70重量份至100重量份。
其他鹼可溶性樹脂(A-2)
鹼可溶性樹脂(A)更可選擇性包括其他鹼可溶 性樹脂(A-2)。其他鹼可溶性樹脂(A-2)為鹼可溶性樹脂(A-1)以外的樹脂。其他鹼可溶性樹脂(A-2)例如為具有羧酸基或羥基的樹脂，但不限於具有羧酸基或羥基的樹脂。其他鹼可溶性樹脂(A-2)的具體例包括丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、酚醛清漆樹脂等樹脂。
基於所述鹼可溶性樹脂(A)為100重量份，所述具鹼可溶性樹脂(A-2)的使用量為0至70重量份，較佳為0重量份至50重量份，且更佳為0重量份至30重量份。
具有乙烯性不飽和基之化合物(B)
本發明之具有乙烯性不飽和基之化合物(B)包括具有一個乙烯性不飽和基的化合物、具有二個以上(含二個)乙烯性不飽和基的化合物或具有酸性基與至少三個(以上)乙烯性不飽和基之化合物。
前述具有一個乙烯性不飽和基之化合物可包含但不限於(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯嗎啉、(甲基)丙烯酸-7-胺基-3,7-二甲基辛酯、異丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸異冰片基氧乙酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、乙基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、第三辛基(甲基)丙烯醯胺、二丙酮(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸四氯苯酯、(甲基)丙烯酸-2-四氯苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氫糠 酯、(甲基)丙烯酸四溴苯酯、(甲基)丙烯酸-2-四溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-三氯苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、(甲基)丙烯酸-2-三溴苯氧基乙酯、2-羥基-(甲基)丙烯酸乙酯、2-羥基-(甲基)丙烯酸丙酯、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸五氯苯酯、(甲基)丙烯酸五溴苯酯、聚單(甲基)丙烯酸乙二酯、聚單(甲基)丙烯酸丙二酯或(甲基)丙烯酸冰片酯等之化合物。該具有一個乙烯性不飽和基的化合物可單獨一種或混合複數種使用。
前述具有二個以上(含二個)乙烯性不飽和基之化合物可包含但不限於乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羥基乙基)異氰酸二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羥基乙基)異氰酸三(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質之三(2-羥基乙基)異氰酸三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙酯、環氧乙烷(簡稱EO)改質之三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙酯、環氧丙烷改質(簡稱PO)之三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質之二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸二三羥甲基丙 酯、經環氧乙烷改質之雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、經環氧丙烷改質之雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、經環氧乙烷改質之氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、經環氧丙烷改質之氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、經環氧乙烷改質之雙酚F二(甲基)丙烯酸酯或酚醛清漆聚縮水甘油醚(甲基)丙烯酸酯等之化合物。該具有二個以上(含二個)乙烯性不飽和基之化合物可單獨一種使用或混合複數種使用。
前述具有酸性基與至少三個(以上)乙烯性不飽和基之化合物具有酸性基，且酸性基可與鹼性顯影劑產生作用。該酸性基之具體例，如：羧基、磺酸基或磷酸基等。其中，該酸性基較佳是可與鹼性顯影劑產生良好作用之羧基。
前述具有酸性基與至少三個(以上)乙烯性不飽和基之化合物可為(1)將具有羥基之多官能(甲基)丙烯酸酯與二元羧酸酐或二元酸進行改質反應，以合成出含羧基的多官能(甲基)丙烯酸酯，或者(2)將芳香族多官能(甲基)丙烯酸酯與濃硫酸或發煙硫酸進行改質反應，以合成出含磺酸基的多官能(甲基)丙烯酸酯。
前述具有酸性基與至少三個(以上)乙烯性不飽和基之化合物之具體例可為單羥基寡聚丙烯酸酯或單羥基寡聚甲基丙烯酸酯與二酸類所形成之含有羧基的單酯化合物。單羥基寡聚丙烯酸酯或單羥基寡聚甲基丙烯酸酯可為季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯與二季戊四醇五甲基丙烯酸酯。二酸類可為丙二酸、琥珀酸、戊二酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、鄰苯二甲酸。
基於前述之鹼可溶性樹脂(A)之總使用量為100重量份，具有乙烯性不飽和基之化合物(B)之使用量為5重量份至50重量份，較佳為8重量份至45重量份，更佳為10重量份至40重量份。
光起始劑(C)
光起始劑(C)包括光起始劑(C-1)以及其它光起始劑(C-2)。
光起始劑(C-1)
光起始劑(C)包括由式(1)表示的光起始劑(C-1)。
其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、COR16、OR17、鹵素、NO2、由式(2)所表示的基團或是由式(3)所表示的基團、 或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地為經由式(4)所表示的基團取代之C2-C10烯基、 或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)p-Y-(CH2)q-；或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為式(5)所表示的基團； 但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中之至少一對是由式(5)所表示的基團，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵 素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、-(CO)OH或-(CO)O-(C1-C4烷基)；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、CN、OR17、SR18或NR19R20；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20，其中該等取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由該等基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環中一個碳原子形成5員或6員環；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為COR16、NO2或式(2)所表示的基團、 Y 表示O、S、NR26或直接鍵；p 表示0、1、2或3之整數；q 表示1、2或3之整數；X 表示CO或直接鍵；R13表示C1-C20烷基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2或是式(6)所表示的基團； 或R13表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO，或是C2-C12烯基，其是未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26，其中該經間雜之C2-C20烷基及該未經間雜或經間雜之C2-C12烯基是未經取代或經一或多個鹵素取代；或R13表示C4-C8環烯基、C2-C12炔基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基；或R13表示苯基或萘基，其各為未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20、COR16、CN、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C2-C20烷基、或式(7)表示的基團、 或其各經C3-C10環烷基或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基取代；k表示1至10之整數；R14表示氫、C3-C8環烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、C1-C20烷基苯基或CN； 或R14表示苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、CN、OR17、SR18及/或NR19R20；或R14表示C3-C20雜芳基、C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基，該苄氧基及苯氧基是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基及/或鹵素；R15是C6-C20芳基或C3-C20雜芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR12R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷基、間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基；或其各經C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R15表示氫、C2-C12烯基、未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26之C3-C8環烷基；或R15是C1-C20烷基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、NR19R20、COOR17、CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、苯基、式(6)所表示的基團或式(8)所表示的基團、 式(8)；或該C1-C20烷基是經苯基取代，該苯基是經鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代；或R15表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、SO或SO2，且該經間雜之C2-C20烷基是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或經OR17、SR18或NR19R20取代之苯基；或R15表示C2-C20烷醯基或苯甲醯基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、苯基、OR17、SR18或NR19R20；或R15是未經取代或經一或多個OR17取代之萘甲醯基或是C3-C14雜芳基羰基；或R15表示C2-C12烷氧基羰基，其是未經間雜或間雜有一或多個O且該經間雜或未經間雜之C2-C12烷氧基羰基是未經取代或經一或多個羥基取代；或R15表示苯氧基羰基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20；或R15表示CN、CONR19R20、NO2、C1-C4鹵代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未經取代或經C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代之S(O)m-苯基； 或R15表示SO2O-苯基，其是未經取代或經C1-C12烷基取代；或是二苯基膦醯基或二-(C1-C4烷氧基)-膦醯基；m表示1或2；R'14具有針對R14所給出含義中之一者；R'15具有針對R15所給出含義中之一者；X1表示O、S、SO或SO2；X2表示O、CO、S或直接鍵；R16表示C6-C20芳基或C3-C20雜芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C1-C20烷基；或其各經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16表示氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4)烷基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R16表示C2-C12烷基，其間雜有一或多個O、S或NR26；或R16表示(CH2CH2O)n+1H、 (CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基；或R16表示經SR18取代之苯基，其中該基團R18表示鍵結至該COR16基團所附接之該咔唑部分之該苯基或萘基環的直接鍵；n表示1至20；R17表示氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)、O(C1-C4鹵代烷基)或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S或NR26；或R17表示(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基；或R17表示C1-C8烷基-C3-C10環烷基，其是未經間雜或間雜有一或多個O； 或R17表示苯甲醯基，其是未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代；或R17表示苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基或式(7)所表示的基團； 或R17形成鍵結至該具有由式(2)所表示的基團、或是式(7)所表示的基團所處之苯基或萘基環之其中一個碳原子的直接鍵、 R18表示氫、C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基，其中該C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基是未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18是C1-C20烷基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、 O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基或(CO)OR17；或R18表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18表示(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基；或R18表示苯甲醯基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、OH、C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基；或R18表示苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、(CO)N(C1-C8烷基)2或式(7)所表示的基團、 R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)或苯甲醯基； 或R19及R20表示苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲醯基或C1-C12烷氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、NO2、鹵素、C1-C4-鹵代烷基、CN、苯基、未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17之C3-C20環烷基、或式(7)表示的基團、 或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該環系統是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、鹵素、NO2、CN、苯基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR17之C3-C20環烷基、或式(7)表示的基團、 R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基；或R21及R22與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環是未稠合或該5員或6員飽和或不飽和環與苯環稠合；R23表示氫、OH、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、CO或NR26之C2-C20烷基、未經間雜或間雜有O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基，或R23表示苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、SR18或NR21R22；R24表示(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17；或R24具有針對R19及R20所給出含義中之一者；R25表示COOR17、CONR19R20、(CO)R17；或R25具有針對R17所給出含義中之一者；R26表示氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或CO；或是苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基，其是未經間雜或間雜有一或多個O或CO；或是(CO)R19；或是苯基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20或式(7)表示的基團； 但條件為在該分子中存在至少一個式(2)或是式(7)所表示的基團
式(1)化合物之特徵在於其在咔唑部分上包含一或多個成環(annelated)不飽和環。換言之，R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中至少一對是由式(5)所表示的基團。
C1-C20烷基是直鏈或支鏈且是(例如)C1-C18-、C1-C4-、C1-C12-、C1-C8-、C1-C8-或C1-C4烷基或C4-C12-或C4-C8烷基。實例是甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基、庚基、2,4,4-三甲基戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十二基、十四基、十五基、十六基、十八基及二十基。C1-C6烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。
含有一或多個C-C多重鍵之未經取代或經取代之C1-C20烷基是指如下文所解釋之烯基。
C1-C4鹵代烷基是如下文所定義經鹵素取代之如上文所定義C1-C4烷基。烷基基團是(例如)單-或多鹵化，直至所有H-原子替換為鹵素。其是(例如)CzHxHaly，其中x+y=2z+1且Hal是鹵素，較佳為F。具體實例是氯甲基、三氯甲基、三氟甲基或2-溴丙基，尤其為三氟甲基或三氯甲基。C2-C4羥基烷基意指經一或兩個O原子取代之C2-C4烷基。烷基基團是直鏈或支鏈。實例是2-羥基乙基、1-羥基乙基、1-羥基丙基、2-羥基丙基、3-羥基丙基、1-羥基丁基、4-羥基丁基、2-羥基丁基、3-羥基丁基、2,3-二羥基丙基或2,4-二羥基丁基。C2-C10烷氧基烷基是間雜有一個O原子之C2-C10烷基。C2-C10烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。實例是甲氧基甲基、甲氧基乙基、甲氧基丙基、乙氧基甲基、乙氧基乙基、乙氧基丙基、丙氧基甲基、丙氧基乙基、丙氧基丙基。
間雜有一或多個O、S、NR26或CO之C2-C20烷基經O、S、NR26或CO間雜(例如)1至9次、1至5次、1至3次或1次或2次。若存在一個以上間雜基團，則其為相同種類或不同。兩個O原子由至少一個亞甲基、較佳至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。該等烷基是直鏈或支鏈。舉例而言，將存在以下結構單元：-CH2-CH2-O-CH2CH3、-[CH2CH2O]y-CH3(其中y=1至9)、- (CH2-CH2O)7-CH2CH3、-CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH3、-CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH3、-CH2-CH2-S-CH2CH3、-CH2-CH(CH3)-NW26-CH2-CH3、-CH2-CH2-COO-CH2CH3或-CH2-CH(CH3)-OCO-CH2-CH2CH3。
C3-C10環烷基、C3-C10環烷基及C3-C8環烷基在本申請案上下文中應理解為至少包含一個環之烷基。其是(例如)環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環辛基、戊基環戊基及環己基。C3-C10環烷基在本發明上下文中亦意欲涵蓋二環，換言之，橋聯環，例如
以及相對應的環。其他實例是諸如 (例如)或是 等結構、以及僑聯或稠合環系統，舉例 而言，該術語亦意欲涵蓋： 、、等結構。
間雜有O、S、CO、NR26之C3-C20環烷基具有上文給出之含義，其中烷基中至少一個CH2-基團替換為O、S、CO或NR26。實例是諸如 (例如)、 、、等結構。
C1-C8烷基-C3-C10環烷基是經一或多個具有最多8個碳原子之烷基取代的如上文所定義之C3-C10環烷基。實例是： 、等。
間雜有一或多個O之C1-C8烷基-C3-C10環烷基是經一或多個具有最多8個碳原子之烷基取代的如上文所定義之O間雜C3-C10環烷基。實例是： 、等。
C1-C12烷氧基是經一個O原子取代之C1-C12烷基。C1-C12烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。C1-C4烷氧基是直鏈或支鏈，例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、異丁氧基或第三丁氧基。C1-C8烷氧基及C1-C4-烷氧基具有與上文所述相同之含義且具有最高相應C原子數。
C1-C12烷基硫基是經一個S原子取代之C1-C12烷基。C1-C20烷基具有與上文針對C1-C20烷基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。C1-C4烷基硫基是直鏈或支鏈，例如甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、異丙 基硫基、正丁基硫基、第二丁基硫基、異丁基硫基、第三丁基硫基。
苯基-C1-C3烷基是(例如)苄基、苯基乙基、α-甲基苄基或α,α-二甲基-苄基，尤其為苄基。
苯基-C1-C3烷氧基是(例如)苄氧基、苯基乙氧基、α-甲基苄氧基或α,α-二甲基苄氧基，尤其為苄氧基。
C2-C12烯基是單-或多不飽和且是(例如)C2-C10-、C2-C8-、C2-C5-烯基，例如乙烯基、烯丙基、甲基烯丙基、1,1-二甲基烯丙基、1-丁烯基、3-丁烯基、2-丁烯基、1,3-戊二烯基、5-己烯基、7-辛烯基或十二烯基，尤其為烯丙基。C2-C5烯基具有與上文針對C2-C12烯基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。
間雜有一或多個O、CO或NR26之C2-C12烯基經O、S、NR26或CO間雜(例如)1至9次、1至5次、1至3次或1次或2次。若存在一個以上間雜基團，則其為相同種類或不同。兩個O原子由至少一個亞甲基、較佳至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。烯基是直鏈或支鏈且如上文所定義。舉例而言，可形成以下結構單元：-CH=CH-O-CH2CH3、-CH=CH-O-CH=CH2等。
C4-C8環烯基具有一或多個雙鍵且是(例如)C4-C6-環烯基或C6-C8-環烯基。實例是環丁烯基、環戊 烯基、環己烯基或環辛烯基，尤其為環戊烯基及環己烯基，較佳為環己烯基。
C3-C6烯氧基是單或多不飽和且具有上文針對烯基所給出含義中之一者，且附接氧基具有最高相應C原子數。實例是烯丙氧基、甲基烯丙氧基、丁烯氧基、戊烯氧基、1,3-戊二烯氧基、5-己烯氧基。
C2-C12炔基是單或多不飽和直鏈或支鏈且是(例如)C2-C8-、C2-C6-或C2-C4炔基。實例是乙炔基、丙炔基、丁炔基、1-丁炔基、3-丁炔基、2-丁炔基、戊炔基己炔基、2-己炔基、5-己炔基、辛炔基等。
C2-C20烷醯基是直鏈或支鏈且是(例如)C2-C18-、C2-C14-、C2-C12-、C2-C8-、C2-C6-或C2-C4烷醯基或C4-C12-或C4-C8烷醯基。實例是乙醯基、丙醯基、丁醯基、異丁醯基、戊醯基、己醯基、庚醯基、辛醯基、壬醯基、癸醯基、十二醯基、十四醯基、十五醯基、十六醯基、十八醯基、二十醯基，較佳為乙醯基。C1-C8烷醯基具有與上文針對C2-C20烷醯基所給出相同之含義且具有最高相應C原子數。
C2-C12烷氧基羰基是直鏈或支鏈且是(例如)甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正丁氧基羰基、異丁氧基羰基、1,1-二甲基丙氧基羰基、戊氧基羰基、己氧基羰基、庚氧基羰基、辛氧基羰基、壬氧基羰基、癸氧基羰基或 十二氧基羰基，尤其為甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、正丁氧基羰基或異丁氧基羰基，較佳為甲氧基羰基。
間雜有一或多個O之C2-C12烷氧基羰基是直鏈或支鏈。兩個O原子由至少兩個亞甲基(即伸乙基)隔開。該經間雜之烷氧基羰基未經取代或經一或多個羥基取代。C6-C20芳氧基羰基是(例如)苯基氧基羰基[=苯基-O-(CO)-]、萘氧基羰基、蒽氧基羰基等。C5-C20雜芳氧基羰基是C5-C20雜芳基-O-CO-。
C3-C10環烷基羰基是C3-C10環烷基-CO-，其中環烷基具有上文所示含義中之一者且具有最高相應C原子數。間雜有一或多個O、S、CO、NR26之C3-C10環烷基羰基是指經間雜環烷基-CO-，其中經間雜環烷基是如上文所述所定義。
C3-C10環烷氧基羰基是C3-C10環烷基-O-(CO)-，其中環烷基具有上文所示含義中之一者且具有最高相應C原子數。間雜有一或多個O、S、CO、NR26之C3-C10環烷氧基羰基是指經間雜環烷基-O-(CO)-，其中經間雜環烷基是如上文所述所定義。
C1-C20烷基苯基是指經一或多個烷基取代之苯基，其中C原子之總和最多為20。
C6-C20芳基是(例如)苯基、萘基、蒽基、菲基、芘基、屈基、并四苯基、聯伸三苯基等，尤其為苯基或萘基，較佳為苯基。萘基是1-萘基或2-萘基。
在本發明上下文中，C3-C20雜芳基意欲包含單環或多環系統，例如稠合環系統。實例是噻吩基、苯并[b]噻吩基、萘并[2,3-b]噻吩基、噻蒽基、呋喃基、二苯并呋喃基、呫噸基、噻噸基、啡噁噻基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡嗪基、嘧啶基、噠嗪基、中氮茚基、異吲哚基、吲哚基、吲唑基、嘌呤基、喹嗪基、異喹啉基、喹啉基、酞嗪基、萘啶基、喹噁啉基、喹唑啉基、噌啉基、喋啶基、咔唑基、β-哢啉基、菲啶基、吖啶基、萘嵌間二氮苯基、菲咯啉基、吩噻基、異噻唑基、吩噻嗪基、異噁唑基、呋呫基、吩噁基、7-菲基、蒽醌-2-基(=9,10-二側氧基-9,10-二氫蒽-2-基)、3-苯并[b]噻吩基、5-苯并[b]噻吩基、2-苯并[b]噻吩基、4-二苯并呋喃基、4,7-二苯并呋喃基、4-甲基-7-二苯并呋喃基、2-呫噸基、8-甲基-2-呫噸基、3-呫噸基、2-啡噁噻基、2,7-啡噁噻基、2-吡咯基、3-吡咯基、5-甲基-3-吡咯基、2-咪唑基、4-咪唑基、5-咪唑基、2-甲基-4-咪唑基、2-乙基-4-咪唑基、2-乙基-5-咪唑基、1H-四唑-5-基、3-吡唑基、1-甲基-3-吡唑基、1-丙基-4-吡唑基、2-吡嗪基、5,6-二甲基-2-吡嗪基、2-中氮茚基、2-甲基-3-異吲哚基、2-甲基-1-異吲哚基、1-甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲哚基、 1,5-二甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲唑基、2,7-二甲基-8-嘌呤基、2-甲氧基-7-甲基-8-嘌呤基、2-喹嗪基、3-異喹啉基、6-異喹啉基、7-異喹啉基、3-甲氧基-6-異喹啉基、2-喹啉基、6-喹啉基、7-喹啉基、2-甲氧基-3-喹啉基、2-甲氧基-6-喹啉基、6-酞嗪基、7-酞嗪基、1-甲氧基-6-酞嗪基、1,4-二甲氧基-6-酞嗪基、1,8-萘啶-2-基、2-喹噁啉基、6-喹噁啉基、2,3-二甲基-6-喹噁啉基、2,3-二甲氧基-6-喹噁啉基、2-喹唑啉基、7-喹唑啉基、2-二甲基胺基-6-喹唑啉基、3-噌啉基、6-噌啉基、7-噌啉基、3-甲氧基-7-噌啉基、2-喋啶基、6-喋啶基、7-喋啶基、6,7-二甲氧基-2-喋啶基、2-咔唑基、3-咔唑基、9-甲基-2-咔唑基、9-甲基-3-咔唑基、β-哢啉-3-基、1-甲基-β-哢啉-3-基、1-甲基-β-哢啉-6-基、3-菲啶基、2-吖啶基、3-吖啶基、2-萘嵌間二氮苯基、1-甲基-5-萘嵌間二氮苯基、5-菲咯啉基、6-菲咯啉基、1-吩嗪基、2-吩嗪基、3-異噻唑基、4-異噻唑基、5-異噻唑基、2-吩噻嗪基、3-吩噻嗪基、10-甲基-3-吩噻嗪基、3-異噁唑基、4-異噁唑基、5-異噁唑基、4-甲基-3-呋呫基、2-吩噁基、10-甲基-2-吩噁基等。
C3-C20雜芳基尤其為噻吩基、苯并[b]噻吩基、噻蒽基、噻噸基、1-甲基-2-吲哚基或1-甲基-3-吲哚基；尤其為噻吩基。
C4-C20雜芳基羰基是經由CO基團連接至分子其餘部分之如上文所定義C3-C20雜芳基。
經取代之芳基(苯基、萘基、C6-C20芳基或C5-C20雜芳基)是分別經1至7次、1至6次或1至4次、尤其1次、2次或3次取代。顯而易見，所定義芳基不能具有比芳基環處之自由位置為多之取代基。
苯基環上之取代基較佳在苯基環上之位置4中或呈3,4-、3,4,5-、2,6-、2,4-或2,4,6-組態。
間雜1次或多次之經間雜基團間雜(例如)1至19次、1至15次、1至12次、1至9次、1至7次、1至5次、1至4次、1至3次或1次或2次(顯而易見，間雜原子數取決於擬間雜之C原子數)。經1次或多次取代之經取代基團具有(例如)1至7個、1至5個、1至4個、1至3個或1個或2個相同或不同取代基。
經一或多個所定義取代基取代之基團意欲具有一個取代基或多個如所給出相同或不同定義之取代基。鹵素是氟、氯、溴及碘，尤其為氟、氯及溴，較佳為氟及氯。若R1及R2、R2及R3、R3及R4或R5及R6、R6及R7、R7及R8彼此獨立地共同為由式(5)所表示的基團、 ，則形成例如以下(Ia)-(Ii) 結構：
較佳為結構(Ia)。
式(1)化合物之特徵在於至少一個苯基環與咔唑部分稠合以形成「萘基」環。亦即上述結構中之一者是以式(1)給出。
若R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)P-Y-(CH2)q-，則形成(例如)諸如：
等結構。
若苯基或萘基環上之取代基OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環之一個碳原子形成5員或6員環，則獲得包含3個或更多個環(包括萘基環)之結構。實例是： 等結構。
若R17形成鍵結至其上具有基團 式(7)之苯基或萘基環之一個碳原子之直接鍵，則形成例如諸如
結構。
若R16表示經SR18取代之苯基，其中基團R19表示鍵結至其中附接有COR16基團之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵，則形成(例如)諸如 等結構。亦即，若R16是經SR18取代之苯基，其中基團R18表示鍵結至其中附接有COR16基團之咔唑部分之苯基或萘基環的直接鍵，則噻噸基部分與咔唑部分之一個苯基或萘基環一起形成。
若R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環，則形成飽和或不飽和環，例如氮丙啶、吡咯、噻唑、吡咯啶、噁唑、吡啶、1,3-二嗪、1,2-二嗪、六氫吡啶或嗎啉。較佳地，若R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環，則形成未經間雜或間雜有O或NR17、尤其O之5員或6員飽和環。
若R21及R22與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環，且苯環視情況與該飽和或不飽和環稠合，則形成飽和或不飽和環，例如氮丙啶、吡咯、噻唑、吡咯啶、噁唑、吡啶、1,3-二嗪、1,2-二嗪、六氫吡啶或嗎啉或相應成環，例如 等。
若R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，則該環系統意欲包含一個以上環(例如2個或3個環)以及來自相同種類或不同種類之一個或一個以上雜原子。適宜雜原子是(例如)N、S、O或P、尤其N、S或O。實例是咔唑、吲哚、異吲哚、吲唑、嘌呤、異喹啉、喹啉、哢啉、吩噻嗪等。式(1)肟酯是藉由文獻中所述方法來製備，例如藉由在以下條件下使相應肟與醯鹵、尤其氯化物或酸酐反應：在惰性溶劑(例如第三丁基甲基醚、四氫呋喃(THF)或二甲基甲醯胺)中，在鹼(例如三乙胺或吡啶)存在時，或在鹼性溶劑(例如吡啶)中。在下文中作為實例，闡述式Ia化合物之製備，其中R7表示肟酯基團且X表示直接鍵[自適當肟開始實施化合物(Ib)-(Ih)之反應]。
R1、R2、R5、R6、R8、R13、R14及R15是如上文所定義，Hal意指鹵素原子、尤其為Cl。
R14較佳為甲基。
此等反應為彼等熟習此項技術者所熟知，且通常在-15℃至+50℃、較佳0至25℃之溫度下實施。
當X表示CO時，相應肟是藉由用亞硝酸烷基酯(例如亞硝酸甲酯、亞硝酸乙酯、亞硝酸丙酯、亞硝酸丁酯或亞硝酸異戊酯)將亞甲基亞硝化來合成。然後，酯化是在與上文所述相同之條件下實施。
因此，本發明之標的亦是藉由在鹼或鹼之混合物存在下使相應肟化合物與式VI之醯鹵或式VII之酸酐反應來製備如上文所定義式(1)化合物之方法。
其中Hal是鹵素、尤其C1，且R14是如上文所定義。
所需作為起始材料之肟可藉由標準化學教材(例如J.March,Advanced Organic Chemistry，第4版，Wiley Interscience，1992)或專著(例如S.R.Sandler & W.Karo,Organic functional group preparations，第3卷，Academic Press)中所述多種方法來獲得。
最便利的一種方法是(例如)在極性溶劑(例如二甲基乙醯胺(DMA)、DMA水溶液、乙醇或乙醇水溶液)中使醛或酮與羥胺或其鹽反應。在此情形下，添加諸如乙酸鈉或吡啶等鹼來控制反應混合物之pH。眾所周知，反應速度具有pH依賴性，且可在開始時或在反應期間連續地添加鹼。亦可使用諸如吡啶等鹼性溶劑作為鹼及/或溶劑或共溶劑。反應溫度通常為室溫至混合物之回流溫度，一般為約20℃至120℃。
相應酮中間體是(例如)藉由文獻(例如標準化學教材，例如J.March,Advanced Organic Chemistry，第4版，Wiley Interscience，1992)中所述方法來製備。另外，連續弗裏德-克拉夫茨反應(Friedel-Crafts reaction)可有效用於合成中間體。此等反應為彼等熟習此項技術者所熟知。
肟之另一便利合成是用亞硝酸或亞硝酸烷基酯將「活性」亞甲基亞硝化。鹼性條件(如(例如)Organic Syntheses coll.第VI卷(J.Wiley & Sons,New York,1988)，第199頁及第840頁中所述)與酸性條件(如(例如)Organic Synthesis coll.第V卷，第32頁及第373頁，coll.第III卷，第191頁及第513頁，coll.第II卷，第202頁、第204頁及第363頁中所述)二者適於製備在本發明中用作起始材料之肟。一般自亞硝酸鈉產生亞硝酸。亞硝 酸烷基酯可為(例如)亞硝酸甲酯、亞硝酸乙酯、亞硝酸丙酯、亞硝酸丁酯或亞硝酸異戊酯。
本發明另一實施例是游離式(1A)肟化合物 ，其中其中 R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、C1-C20 烷基、、COR16、OR17、鹵素、NO2或是由 式(3)所表示的基團、 或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地為經 取代之C2-C10烯基； 或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為-(CH2)p-Y-(CH2)q-；或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為式(5)所表示的基團、 但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中之至少一對是由式(5)所表示的基團、 R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、-(CO)OH或-(CO)O-(C1-C4烷基)；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、CN、OR17、SR18或NR19R20；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20，其中該等取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由該等基團R17、 R18、R19及/或R20與萘基環中一個碳原子形成5員或6員環；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為 、COR16或NO2； Y 表示O、S、NR26或直接鍵；p 表示0、1、2或3之整數；q 表示1、2或3之整數；X 表示CO或直接鍵；R13表示C1-C20烷基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2或是式(6)所表示的基團、 或R13表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO，或是C2-C12烯基，其是未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26，其中該經間雜之C2-C20烷基及該未經間雜或經間雜之C2-C12烯基是未經取代或經一或多個鹵素取代； 或R13表示C4-C8環烯基、C2-C12炔基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基；或R13表示苯基或萘基，其各為未經取代或經一或多 個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20、、 COR16、CN、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C2-C20烷基；或其各經C3-C10環烷基或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C10環烷基取代；k表示1至10之整數；R15表示C6-C20芳基或C3-C20雜芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷基、間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基；或其各經C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R15表示氫、C2-C12烯基、C3-C8環烷基，基未經間雜或間雜有一或多個O、CO或NR26； 或R15表示C1-C20烷基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、NR19R20、COOR17、CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、苯 基、或式(6)所表示的基團 ；或該C1-C20烷基是經苯基取代， 該苯基是經鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代；或R15表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、SO或SO2，且該經間雜之C2-C20烷基是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或經OR17、SR18或NR19R20取代之苯基；或R15表示C2-C20烷醯基或苯甲醯基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、苯基、OR17、SR18或NR19R20；或R15表示未經取代或經一或多個OR17取代之萘甲醯基或是C3-C14雜芳基羰基；或R15表示C2-C12烷氧基羰基，其是未經間雜或間雜有一或多個O且該經間雜或未經間雜之C2-C12烷氧基羰基是未經取代或經一或多個羥基取代； 或R15表示苯氧基羰基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20；或R15表示CN、CONR19R20、NO2、C1-C4鹵代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未經取代或經C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代之S(O)m-苯基；或R15表示SO2O-苯基，其是未經取代或經C1-C12烷基取代；或是二苯基膦醯基或二-(C1-C4烷氧基)-膦醯基；m表示1或2；R'15具有針對R15所給出含義中之一者；X1表示O、S、SO或SO2；X2表示O、CO、S或直接鍵；R16表示C6-C20芳基或C3-C20雜芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C1-C20烷基；或其各經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16表示氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、 CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4)烷基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R16表示C2-C12烷基，其間雜有一或多個O、S或NR26；或R16表示(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基；或R16表示經SR18取代之苯基，其中該基團R18表示鍵結至該COR16基團所附接之該咔唑部分之該苯基或萘基環的直接鍵；n表示1至20；R17表示氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)、O(C1-C4鹵代烷基)或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S或NR26；或R17表示(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12 烯基、C3-C6烯醯基或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基；或R17表示C1-C8烷基-C3-C10環烷基，其是未經間雜或間雜有一或多個O；或R17表示苯甲醯基，其是未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代；或R17表示苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基- 胺基或； 或R17形成鍵結至其上具有基團、 或之苯基或萘基環之其 中一個碳原子的直接鍵；R18表示氫、C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基，其中該C2-C12烯基、C3-C20環烷基或苯基-C1-C3烷基是未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18是C1-C20烷基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、 OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基或(CO)OR17；或R18表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18表示(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基；或R18表示苯甲醯基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、OH、C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基；或R18表示苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、 (CO)N(C1-C8烷基)2或； R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基、SO2-(C1-C4鹵代烷基)或苯甲醯基； 或R19及R20表示苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲醯基或C1-C12烷氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、NO2、鹵素、C1-C4-鹵代烷基、CN、苯基、 或未經間雜或間雜有一或多個O、S、CO 或NR17之C3-C20環烷基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該環系統是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C20烷氧基、=O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、 、鹵素、NO2、CN、苯基或未經間雜或 間雜有一或多個O、S、CO或NR17之C3-C20環烷基；R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基； 或R21及R22與其所附接之N原子一起形成未經間雜或間雜有O、S或NR26之5員或6員飽和或不飽和環，且該5員或6員飽和或不飽和環是未稠合或該5員或6員飽和或不飽和環與苯環稠合；R23表示氫、OH、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、間雜有一或多個O、CO或NR26之C2-C20烷基、未經間雜或間雜有O、S、CO或NR26之C3-C20環烷基；或R23表示苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、SR18或NR21R22；R24表示(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17；或R24具有針對R19及R20所給出含義中之一者；R25表示COOR17、CONR19R20、(CO)R17；或R25具有針對R17所給出含義中之一者；R26表示氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或CO；或是苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基，其是未經間雜或間雜有一或多個O或CO；或是(CO)R19；或是苯基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20、 但條件為在該分子中存在至少一個基團 或。
針對式(1A)化合物所定義基團之較佳者對應於如針對如上文所給出式(1)化合物給出者，只是每一所定 義肟酯基團(例如)皆替換為相應游 離肟基團。
每一肟酯基團可以兩種構型(Z)或(E)存在。可藉由習用方法來分離異構體，但亦可使用異構體混合物作為(例如)光起始物質。因此，本發明亦是關於式(1)化合物之構型異構體之混合物。
較佳者是如上文所定義之式(1)化合物，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、COR16、NO2或式(2)所表示的基團 或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此獨立地共同為式(5)所表示的基團 但條件為R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中之至少一對是由式(5)所表示的基團 X 表示CO或直接鍵；R13表示C1-C20烷基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2；或R13表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO；或R13表示苯基或萘基，此二者未經取代或經一或多 個COR16或所取代； R14表示C1-C20烷基、苯基或C1-C8烷氧基；R15表示苯基、萘基、C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18或C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或S；或其各經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20 芳氧基羰基、C4-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18、NR19R20或PO(OCkH2k+1)2；或R15表示C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、NR19R20、COOR17、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；R'14具有針對R14所給出含義中之一者；R'15具有針對R15所給出含義中之一者；R16表示苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O、S或NR26之C2-C20烷基，或R16表示苯基，其經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C3-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C4-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16表示C1-C20烷基，其未經取代或經以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)O(C1-C4烷基)；R17表示C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(C1-C4 烷基)、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；R18表示經(CO)OR17取代之甲基；R19及R20彼此獨立地為氫、苯基、C1-C20烷基、C1-C8烷醯基或C1-C8烷醯基氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環 系統，該環系統未經取代或經 取代；但條件為在該分子中存在至少一個式(2)所表示的基團或是式(7)所表示的基團、
必須重視如上文所定義之式(1)化合物，其中R1、R2、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、COR16NO2或式(2)所表示的基團、 R3及R4一起為式(5)所表示的基團 R9、R10、R11及R12表示氫X表示直接鍵；R13表示C1-C20烷基；R14表示C1-C20烷基；R15表示C1-C20烷基或苯基，其經一或多個OR17或C1-C20烷基取代；R16表示苯基，其經一或多個C1-C20烷基或OR17取代；且R17表示未經取代或經一或多個鹵素取代之C1-C20烷基或是間雜有一或多個O之C2-C20烷基。
但條件為在該分子中存在至少一個由式(2)所表示的基 團。
本發明之標的進一步是如上文所定義之式(1)化合物，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫，或R1及R2、R3及R4或R5及R6彼此獨立地共同為式(5)所表示的基團、 但條件為R1及R2、R3及R4或R5及R6中至少一對為式(5)所表示的基團、 或R2為式(2)所表示的基團、COR16、NO2或是由式(3)所表示的基團、 或R7為COR16或式(2)所表示的基團、 R9、R11及R12表示氫； R10表示氫、OR17或COR16；X表示CO或直接鍵；R13表示C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、OR17、SR18或PO(OCkH2k+1)2；或R13表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；或R13表示苯基；k表示2的整數；R14表示C1-C20烷基或噻吩基；R15表示苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個OR17或C1-C20烷基取代；或R15表示噻吩基、氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、C3-C8環烷基、NR19R20或COOR17；或R15表示C2-C20烷基，其間雜有SO2；R16表示苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基；或R16表示噻吩基；R17表示氫、C1-C8烷醯基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團：鹵素、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基或間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或R17表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O； R18表示C3-C20環烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個OH、O(CO)-(C2-C4)烯基或(CO)OR17取代；或R18表示苯基，其未經取代或經一或多個鹵素取代；R19及R20彼此獨立地為C1-C8烷醯基或C1-C8烷醯基氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成間雜有O之5員或6員飽和環；但條件為在該分子中存在至少一個式(2)所表示的基團
本發明化合物之實例是如上文所定義之式(Ia)-(Ig)化合物。式(Ia)、(Ib)、(Ic)、尤其式(Ia)或(Ic)、或式(Ia)、(Ic)或(Id)、尤其式(Ia)之化合物令人關注。
舉例而言，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此獨立地為氫、COR16、由式(2)所表示的基團、或R1及R2、R2及R3、R3及R4或R5及R6、R6及R7、R7及R8彼此獨立地共同為式(5)所表示的基團、
舉例而言，R3及R4或R1及R2共同為式(5)所表示的基團、 或R3及R4及R5及R6共同為式(5)所表示的基團、 R3及R4尤其共同為式(5)所表示的基團、
舉例而言，R1、R5、R6及R8表示氫。
R7尤其為氫COR16或式(2)所表示的基團、
或R7為COR16或式(2)所表示的基團，尤其為式(2)所表示的基團、
R2尤其為COR16、式(2)所表示的基團或是由式(3)所表示的基團、
或R2與R1一起為式(5)所表示的基團
X較佳為直接鍵。
舉例而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18或NR19R20，其中取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環之一個碳原子形成5員或6員環；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為 COR16或式(2)所表示的基團、 (2)。
具體而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18或NR19R20；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為COR16 或式(2)所表示的基團、。
舉例而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個C1-C6烷基取代之苯基；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為COR16或式(2)所表示的基團、
在另一實施例中，舉例而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、OR17 或SR18；或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18或NR19R20，其中取代基OR17、SR18或NR19R20視情況經由基團R17、R18、R19及/或R20與萘基環之一個碳原子形成5員或6員環。
此外，舉例而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18，或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、SR18、NR19R20或COR16。
或舉例而言，R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、未經取代之苯基或經一或多個以下基團取代之苯基：C1-C6烷基、鹵素、OR17或SR18，或R9、R10、R11及R12彼此獨立地為鹵素、OR17、COR16或NR19R20。
較佳地，R9、R11及R12表示氫且R10表示氫、OR17或COR16。
R13表示(例如)C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17或CONR19R20；或R13表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、SO、SO2、NR26或CO，或是C2-C12烯基，其視情況間雜有一或多個O、CO或NR26，或R13表示C3-C10環烷基，其視情況間雜有一或多個O、S、CO、NR26，或R13表示苯基 或萘基，此二者未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20、COR16、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、或式(7)表示的基團、 或是C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；或是C2-C20烷基，其間雜有一或多個O。
此外，R13表示(例如)C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、COOR17、OR17、SR18、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；或是C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；或是C2-C12烯基、C3-C10環烷基；或R13表示苯基或萘基，此二者未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20、COR16、NO2、鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、或式(7)表示的基團、
在另一實施例中，R13表示(例如)C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、 OR17、SR18或PO(OCkH2k+1)2；或是C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；或是C2-C12烯基、C3-C10環烷基、苯基或萘基。
或R13表示(例如)C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、R17、OR17、SR18或PO(OCkH2k+1)2；或是C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；或是苯基、C2-C12烯基或C3-C10環烷基。
或R13表示(例如)C1-C20烷基、苯基、C2-C12烯基或C3-C10環烷基。
或R13表示(例如)C1-C20烷基、C2-C12烯基或C3-C10環烷基。
較佳地，R13表示C1-C20烷基，尤其為C1-C8烷基，例如2-乙基己基。
R14表示(例如)氫、C3-C8環烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個鹵素或苯基取代；或R14表示苯基或萘基，此二者未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、OR17、SR18及/或NR19R20；或R14表示C3-C5雜芳基，例如噻吩基，或是C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基。
或R14表示(例如)C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個鹵素或苯基取代；或R14表示C3-C5雜芳基(例如噻吩基)或是未經取代或經取代一或多個以下基團取代之 苯基：C1-C6烷基、C1-C4鹵代烷基、鹵素、OR17、SR18及/或NR19R20；或R14表示C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基。
在另一實施例中，R14表示C1-C20烷基，其未經取代或經苯基取代；或R14表示苯基，其未經取代或經一或多個C1-C6烷基取代。
較佳地，R14表示C1-C20烷基、C3-C5雜芳基(例如噻吩基)，或是苯基，尤其為C1-C20烷基或噻吩基，尤其為C1-C8烷基。
R15表示(例如)C6-C20芳基或C5-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、C1-C20烷基；或R15表示氫、C3-C8環烷基，該C3-C8環烷基視情況間雜有一或多個O、CO或NR26；或R15表示C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OR17、C3-C8環烷基、C5-C20雜芳基、C8-C20苯氧基羰基、C5-C20雜芳氧基-羰基、NR19R20、COOR17、CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、式(6)所表示的基團、苯基、或經以下基團取代之苯基：鹵素、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、OR17或NR19R20； 或R15表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S或SO2，或R15表示C2-C20烷醯基、苯甲醯基、C2-C12烷氧基羰基、苯氧基羰基、CONR19R20、NO2或C1-C4鹵代烷基。
此外，R15表示(例如)氫、C6-C20芳基，尤其為苯基或萘基，其各未經取代或經C1-C12烷基取代；或是C3-C5雜芳基，例如噻吩基；或是C3-C8環烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR17、C3-C8-環烷基、NR19R20或COOR17；或R15表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或SO2。
式(1)化合物令人關注，其中R15表示(例如)氫、苯基、萘基，其各未經取代或經C1-C8烷基取代；或R15表示噻吩基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR17、C3-C8-環烷基、NR19R20或COOR17；或R15表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或SO2。
R15尤其為(例如)C3-C8環烷基或C1-C20烷基，尤其為C1-C20烷基，尤其為C1-C12烷基。
R'14及R'15之較佳者分別是如上文針對R14及R15所給出者。
X1表示(例如)O、S或SO，例如O或S，尤其為O。
R16表示(例如)C6-C20芳基(尤其苯基或萘基、尤其苯基)或C5-C20雜芳基(尤其噻吩基)，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或間雜有一或多個O之C1-C20烷基；或其各經一或多個C1-C20烷基取代，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8環烷基、C5-C20雜芳基、C6-C20芳氧基羰基、C5-C20雜芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16表示氫、C1-C20烷基，該C1-C20烷基未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、C3-C6烯氧基、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R16表示C2-C12烷基，其間雜有一或多個O；或表示(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基，且n是1至20，例如1至12或1至8，尤其為1或2。
此外，R16表示(例如)苯基或萘基，尤其為苯基、噻吩基或咔唑，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基；或R16表示C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、苯基、OH、SH、C3-C6烯 氧基、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R16表示C2-C12烷基，其間雜有一或多個O；或是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8環烷基，且n是1至20，例如1至12或1至8，尤其為1或2。
此外，R16表示(例如)苯基或萘基，尤其為苯基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：苯基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基；或R16表示C3-C5雜芳基，尤其為噻吩基。
R16尤其為(例如)苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基，或R16表示噻吩基。
較佳地，R16表示(例如)苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個C1-C20烷基取代。
R16尤其為苯基，其經一或多個C1-C20烷基取代。
R17表示(例如)氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20環烷基或間雜有一或多個O 之C3-C20環烷基；或R17表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C9烷基)、C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基或C3-C20環烷基，其視情況間雜有一或多個O；或R17表示苯甲醯基，其未經取代或經一或多個C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基取代；或R17表示苯基、萘基或C5-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基或式(7)表示的基團
在另一實施例中，R17表示(例如)氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4烯基)或間雜有一或多個O之C2-C20烷基；或是C1-C8烷醯基、C2-C12烯基、C3-C6烯醯基、間雜有一或多個O之C2-C20烷基、視情況間雜有一或多個O之C3-C20環烷基；或是苯甲醯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C6烷基、鹵素、OH或C1-C3烷氧基；或是苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基。
R17亦為(例如)氫、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C3-C20環烷基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4烯基)或間雜有一或多個O之C2-C20烷基，或R17表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O。
R17尤其為氫、C1-C8烷醯基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4烯基)或間雜有一或多個O之C2-C20烷基，或R17表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O。
R18表示(例如)C3-C20環烷基，其未經間雜或間雜有一或多個O；或R18表示C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)OR17；或R18表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O、S、CO、NR26或COOR17；或R18表示C2-C8烷醯基或C3-C6烯醯基、苯甲醯基；或R18表示苯基、萘基或C3-C20雜芳基，其各未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素、C1-C12烷基、C1-C4鹵代烷基、C1-C12烷氧基或NO2。
在另一實施例中，R18表示(例如)C3-C20環烷基、C1-C20烷基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)或 (CO)OR17；或R18表示苯基或萘基，其各未經取代或經一或多個鹵素或C1-C12烷基、尤其鹵素取代。
R18表示(例如)C1-C20烷基、C2-C12烯基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C2-C8烷醯基、苯甲醯基、苯基或萘基。
舉例而言，R18表示C1-C20烷基，其經一或多個以下基團取代：OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)OR17，或R18表示苯基，其經一或多個鹵素取代。
較佳地，R18表示C1-C8烷基，其如上文所定義經取代。
舉例而言，R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、苯基或萘基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基或苯甲醯基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O、S或NR17之5員或6員飽和或不飽和環；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成雜芳香族環系統，該環系統未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、或式(7)表示的基團、
此外，舉例而言，R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基或苯甲醯基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O或NR17之5員或6員飽和環；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成咔唑環。
舉例而言，R19及R20彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C2-C4羥基烷基、C3-C20環烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基、C3-C12烯醯基或苯甲醯基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成視情況間雜有O或NR17之5員或6員飽和環。
較佳地，R19及R20彼此獨立地為C1-C8烷醯基、C1-C8烷醯基氧基；或R19及R20與其所附接之N原子一起形成嗎啉環。
舉例而言，R21及R22彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C3-C10環烷基或苯基；或R21及R22與其所附接之N原子一起形成嗎啉環。R21及R22尤其彼此獨立地為氫或C1-C20烷基。
R23表示(例如)氫、OH、苯基或C1-C20烷基。R23尤其為氫、OH或C1-C4烷基。
R24之較佳者是如針對R19及R20所給出。R25之較佳者是如針對R17所給出。
R26表示(例如)氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基、C2-C20烷基，其間雜有一或多個O或CO；或是苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基，其視情況間雜有一或多個O或CO；或是(CO)R19或苯基，其未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基、鹵素、C1-C4鹵代烷基、OR17、SR18、NR19R20。
或R26表示(例如)氫、C1-C20烷基、C1-C4鹵代烷基；是苯基-C1-C4烷基、C3-C8環烷基、(CO)R19或苯基，其未經取代或經一或多個C1-C20烷基取代。此外，R26表示(例如)氫或C1-C20烷基、尤其為C1-C4烷基。
發明式(1)化合物之實例包括下列由式(1-1)至式(1-84)所表示的化合物：
基於所述鹼可溶性樹脂(A)為100重量份，所述由式(1)表示的光起始劑(C-1)的使用量為4重量份至40重量份，較佳為5重量份至35重量份，更佳為6重量份至30重量份。當感光性樹脂組成物使用光起始劑(C-1)時，可進一步改善感光性樹脂組成物所製得之黑色矩陣的解析度。
光起始劑(C-2)
光起始劑(C-2)的具體例包括其他氧-醯基肟類化合物(O-acyloxime)或非氧-醯基肟類光起始劑。
其他氧-醯基肟類化合物
其它氧-醯基肟類化合物的具體例包括具體例包括1-[4-(苯基硫代)苯基]-丙烷-3-環戊烷-1,2-二酮2-(O-苯醯基肟)、1-[4-(苯基硫代)苯基]-庚烷-1,2-二酮2-(O-苯醯基肟)、1-[4-(苯基硫代)苯基]-辛烷-1,2-二酮-2-(O-苯醯基肟)，或上述化合物的組合。1-[4-(苯基硫代)苯基]-辛烷-1,2-二酮-2-(O-苯醯基肟)可為由汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)有限公司製造，型號為IRGACURE OXE-01的商品。
此外，其他氧-醯基肟類化合物的具體例包括1-[4-(苯醯基)苯基]-庚烷-1,2-二酮-2-(O-苯醯基肟)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)、1-[9-乙基-6-(3-甲基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)、1-[9-乙基-6-苯醯基-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫呋喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫吡喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫呋喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫吡喃基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫呋喃基甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫吡喃基甲氧基 苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫呋喃基甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫吡喃基甲氧基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-{2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧雜戊環基)苯醯基}-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-{2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧雜戊環基)甲氧基苯醯基}-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙醯基肟)，或上述化合物的組合。1-[9-乙基-6-(2-甲基苯醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙醯基肟)可為由汽巴精化有限公司製造，型號為IRGACURE OXE-02的商品。
其他氧-醯基肟類化合物可單獨使用或組合多種來使用。
非氧-醯基肟類光起始劑
非氧-醯基肟類光起始劑的具體例包括三氮雜苯類化合物、苯乙烷酮類化合物、二咪唑類化合物、二苯甲酮類化合物、α-二酮類化合物、醇酮類化合物、醇酮醚類化合物、醯膦氧化物類化合物、醌類化合物、含鹵素類化合物、過氧化物，或上述化合物的組合。
三氮雜苯類化合物的具體例包括乙烯基-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物、2-(萘并-1-取代基)-4,6-二(鹵代甲基)-s-三氮雜苯化合物、4-(對-胺基苯基)-2,6-二(鹵代甲基)-s-三氮雜苯化合物，或上述化合物的組合。
乙烯基-鹵代甲基-s-三氮雜苯化合物的具體例包括2,4-二(三氯甲基)-6-對-甲氧基苯乙烯基-s-三氮雜苯、2,4-二(三氯甲基)-3-(1-對-二甲基胺基苯基-1,3-丁二烯基)-s-三氮雜苯、2-三氯甲基-3-胺基-6-對-甲氧基苯乙烯基-s-三氮雜苯，或上述化合物的組合。
2-(萘并-1-取代基)-4,6-二(鹵代甲基)-s-三氮雜苯化合物的具體例包括2-(萘并-1-取代基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-(4-甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-(4-乙氧基-萘并-1-取代基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-(4-丁氧基-萘并-1-取代基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-[4-(2-甲氧基乙基)-萘并-1-取代基]-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘并-1-取代基]-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-[4-(2-丁氧基乙基)-萘并-1-取代基]-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-(2-甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-(6-甲氧基-5-甲基-萘并-2-取代基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-(6-甲氧基-萘并-2-取代基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-(5-甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-(4,7-二甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-(6-乙氧基-萘并-2-取代基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2-(4,5-二甲氧基-萘并-1-取代基)-4,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯，或上述化合物的組合。
4-(對-胺基苯基)-2,6-二(鹵代甲基)-s-三氮雜 苯化合物的具體例包括4-[對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-甲基-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-甲基-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[對-N,N-二(苯基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(對-N-氯乙基羰基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[對-N-(對-甲氧基苯基)羰基胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-溴-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氯-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氟-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-溴-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-氯-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-氟-對-N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-溴-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[鄰-氯-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三 氮雜苯、4-[鄰-氟-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-溴-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氯-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-[間-氟-對-N,N-二(氯乙基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-溴-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-氯-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-氟-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-溴-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氯-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氟-對-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-溴-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-氯-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(間-氟-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-溴-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氯-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、4-(鄰-氟-對-N-氯乙基胺基苯基)-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2,4-二(三氯甲基)-6-[3-溴-4-[N,N-雙(乙氧基羰基甲基)胺基]苯基]-1,3,5-三氮雜苯，或上述化合物的組合。三氮雜苯類化合物可單獨使用或組合多種來使用。
三氮雜苯類化合物較佳為包括4-[間-溴-對 -N,N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2,6-二(三氯甲基)-s-三氮雜苯、2,4-二(三氯甲基)-6-對-甲氧基苯乙烯基-s-三氮雜苯，或上述化合物的組合。
苯乙烷酮類化合物的具體例包括對二甲胺苯乙烷酮、α,α’-二甲氧基氧化偶氮苯乙烷酮、2,2’-二甲基-2-苯基苯乙烷酮、對-甲氧基苯乙烷酮、2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-嗎啉代-1-丙酮、2-苄基-2-N,N-二甲胺-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮，或上述化合物的組合。
苯乙烷酮類化合物可單獨使用或組合多種來使用。
2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-嗎啉代-1-丙酮可為由汽巴精化有限公司製造，型號為IRGACURE 907的商品。2-苄基-2-N,N-二甲胺-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮可為由汽巴精化有限公司製造，型號為IRGACURE 369的商品。
苯乙烷酮類化合物較佳為包括2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-嗎啉代-1-丙酮、2-苄基-2-N,N-二甲胺-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮，或上述化合物的組合。
二咪唑類化合物的具體例包括2,2’-雙(鄰-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-氟苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-甲基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-甲氧基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰-乙基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(對-甲氧基苯 基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(2,2’,4,4’-四甲氧基苯基]-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑，或上述化合物的組合。
二咪唑類化合物可單獨使用或組合多種來使用。
二咪唑類化合物較佳為2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑。
二苯甲酮類化合物的具體例包括噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、噻噸酮-4-碸、二苯甲酮、4,4’-雙(二甲胺)二苯甲酮、4,4’-雙(二乙胺)二苯甲酮，或上述化合物的組合。二苯甲酮類化合物可單獨或混合使用。二苯甲酮類化合物較佳為4,4’-雙(二乙胺)二苯甲酮。
α-二酮類化合物的具體例包括苯偶醯、雙乙醯，或上述化合物的組合。α-二酮類化合物可單獨使用或組合多種來使用。
酮醇類化合物的具體例包括二苯乙醇酮。酮醇類化合物可單獨使用或組合多種來使用。
酮醇醚類化合物的具體例包括二苯乙醇酮甲醚、二苯乙醇酮乙醚、二苯乙醇酮異丙醚，或上述化合物的組合。酮醇醚類化合物可單獨使用或組合多種來使用。
醯膦氧化物類化合物的具體例包括2,4,6-三甲基苯醯基二苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯醯)-2,4,4-三甲基苯基膦氧化物，或上述化合物的組合。醯膦氧化物類 化合物可單獨使用或組合多種來使用。
醌類化合物的具體例包括蒽醌、1,4-萘醌，或上述化合物的組合。醌類化合物可單獨使用或組合多種來使用。
含鹵素類化合物的具體例包括苯醯甲基氯、三溴甲基苯碸、三(三氯甲基)-s-三氮雜苯，或上述化合物的組合。含鹵素類化合物可單獨使用或組合多種來使用。
過氧化物的具體例包括二-第三丁基過氧化物等。過氧化物可單獨使用或組合多種來使用。
基於所述鹼可溶性樹脂(A)100重量份，所述光起始劑(C)的使用量為6重量份至50重量份，較佳為7重量份至45重量份，更佳為8重量份至40重量份。
鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)
本發明之鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)可包含具有如下式(I)所示之結構的鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1)。其次，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)可選擇性地包含其他鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-2)。
鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1)
該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1)具有如下式(I)所示之結構：
於式(I)中，R1d分別獨立地代表氫原子、經取代或未取代之烷基、芳香基或烯基。R2d分別獨立地代表氫原子或具有醌二疊氮結構之官能基。a、b、d及e分別代表大於或等於0之整數，且f及g之總和為大於或等於1之整數。當a、b、d及e之總和大於1時，複數個R1d分別可為相同或不同；當f及g之總和大於1時，複數個R2d之至少一者具有醌二疊氮結構之官能基。
具有如式(I)所示之結構的鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1)可利用具有羥基之茀化合物來合成，或者藉由芴酮與苯酚、鄰苯二酚或鄰苯三酚於硫代乙酸及酸性觸煤之存在下進行反應製得。
具有如式(I)所示之結構的鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1)是可為完全酯化或部份酯化的酯化物，較佳係由鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與具有羥基之茀化合物反應所製得，更佳係由鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與具有多元羥基之茀化合物反應所製得。
前述具有羥基之茀化合物的具體例可包含JFE化學株式會社製造之產品，且其型號為BPF[如下式(I-1)所示]或BCF[如下式(I-2)所示]；本州化學株式會社製造之產品，且其型號為BisP-FL[如下式(I-1)所示]；或者如下式 (I-3)至式(I-5)所示之化合物：
該鄰萘醌二疊氮磺酸可包含但不限於鄰萘醌二疊氮-4-磺酸、鄰萘醌二疊氮-5-磺酸或鄰萘醌二疊氮-6-磺酸等。該鄰萘醌二疊氮磺酸的鹽類可包含但不限於鄰萘醌二疊氮磺酸鹵鹽，具體例可包含鄰萘醌二疊氮-4-磺酸氯或鄰萘醌二疊氮-5-磺酸氯。
該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1)之使用量沒有特別之限制，基於鹼可溶性樹脂(A)之總使用量為100重量份，該具有如式(I)所示之結構的鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1)之使用量為0.5重量份至5重量份，較佳為0.8重量份至4.5重量份，且更佳為1重量份至4重量份。
此外，當本發明之感光性樹脂組成物不包含具有如式(I)所示之結構的鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1)時，利用 感光性樹脂組成物所製得之黑色矩陣的解析度不佳。
其他鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-2)
該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)可選擇性地具有其他鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-2)。
在本發明之一實施例中，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-2)是可為完全酯化或部份酯化的酯化物。該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-2)較佳係由鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與羥基化合物反應所製得，更佳係由鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與多元羥基化合物反應所製得。
該鄰萘醌二疊氮磺酸可包含但不限於鄰萘醌二疊氮-4-磺酸、鄰萘醌二疊氮-5-磺酸或鄰萘醌二疊氮-6-磺酸等。該鄰萘醌二疊氮磺酸的鹽類可包含但不限於鄰萘醌二疊氮磺酸鹵鹽。
該羥基化合物可包含但不限於羥基二苯甲酮類化合物、羥基芳基類化合物、(羥基苯基)烴類化合物或其他芳香族羥基類化合物。該羥基化合物可單獨一種或混合複數種使用。
前述之羥基二苯甲酮類化合物可包含但不限於2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,4,4’-三羥基二苯甲酮、2,4,6-三羥基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羥基二苯甲酮、2,4,2’,4’-四羥基二苯甲酮、2,4,6,3’,4’-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2’,4’-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2’,5’-五羥基二苯甲酮、2,4,5,3’,5’-五羥基二苯甲酮或2,3,4,3’,4’,5’-六羥基 二苯甲酮等。
前述之羥基芳基類化合物可具有如下式(XI-1)所示之結構：
於式(V-1)中，E1至E3表示氫原子或碳數為1至6之烷基；E4至E9表示氫原子、鹵素原子、碳數為1至6之烷基、碳數為1至6之烷氧基(alkoxy)、碳數為1至6之脂烯基(alkenyl)，或者環烷基(cycloalkyl)；E10及E11表示氫原子、鹵素原子及碳數為1至6之烷基；j、k及m表示1至3的整數；h表示0或1。
如式(V-1)所示的羥基芳基類化合物可包含但不限於三(4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-2,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯 基)-2,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基苯基)-3-甲氧基-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯、1-[1-(3-甲基-4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)乙基]苯或4,4’-[1-[4[-1-(4-羥基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚等。
前述之(羥基苯基)烴類化合物可具有如下式(V-2)所示之結構：
於式(V-2)中，E12及E13表示氫原子或碳數為1至6之烷基，且p及q表示1至3的整數。
如式(V-2)所示的(羥基苯基)烴類化合物可包 含但不限於2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(2’,3’,4’-三羥基苯基)丙烷、2-(2,4-二羥基苯基)-2-(2’,4’-二羥基苯基)丙烷、2-(4-羥基苯基)-2-(4’-羥基苯基)丙烷、雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷或雙(2,4-二羥基苯基)甲烷等。
前述之其他芳香族羥基類化合物可包含但不限於苯酚、對-甲氧基苯酚、二甲基苯酚、對苯二酚、雙酚A、萘酚、鄰苯二酚、1,2,3-苯三酚甲醚、1,2,3-苯三酚-1,3-二甲基醚、3,4,5-三羥基苯甲酸，或者部份酯化或部份醚化的3,4,5-三羥基苯甲酸等。
上述之羥基化合物較佳係選自於1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯、2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羥基二苯甲酮或上述材料之任意組合。
該鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與羥基化合物的反應通常在二氧雜環己烷(dioxane)、N-吡咯烷酮(N-pyrrolidone)或乙醯胺(acetamide)等有機溶媒中進行。前述之反應更佳係添加三乙醇胺、鹼金屬碳酸鹽或鹼金屬碳酸氫鹽等鹼性縮合劑。
該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)的酯化度較佳在50%以上，亦即以該羥基化合物中的羥基總量為100莫耳百分比計，該羥基化合物中有50莫耳百分比以上的羥基與鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類進行酯化反應。該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)的酯化度更佳在60%以上。
基於該鹼可溶性樹脂(A)之總使用量為100重 量份，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)之使用量可為0.5重量份至10重量份，較佳為1重量份至8重量份，且更佳為2重量份至5重量份。
黑色顏料(E)
黑色顏料(E)較佳為具有耐熱性、耐光性以及耐溶劑性的黑色顏料。
黑色顏料(E)的具體例包括：二萘嵌苯黑(perylene black)、花青黑(cyanine black)或苯胺黑(aniline black)等的黑色有機顏料；由紅、藍、綠、紫、黃色、花青(cyanine)或洋紅(magenta)等的顏料中，選擇兩種或兩種以上的顏料進行混合，使其形成接近黑色化的混色有機顏料；碳黑(carbon black)、氧化鉻、氧化鐵、鈦黑(titanium black)或石墨等的遮光材，其中上述碳黑的具體例包括C.I.pigment black 7或三菱化學所製造的市售品(商品名MA100、MA230、MA8、#970、#1000、#2350或#2650)。上述黑色顏料(E)可單獨使用或組合多種來使用。
黑色顏料(E)較佳為碳黑，且碳黑例如是三菱化學所製造的市售品MA100或MA230。
基於上述鹼可溶性樹脂(A)的使用量為100重量份，黑色顏料(E)的使用量為60重量份至600重量份，較佳為70重量份至500重量份，更佳為80重量份至400重量份。
溶劑(F)
溶劑(F)是指可以將鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基的化合物(B)以及光起始劑(C)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)、黑色顏料(E)以及下述之矽烷化合物(G)溶解，但又不與上述成分反應的溶劑，並且較佳為具有適當揮發性者。
上述溶劑(F)的具體例包括：烷基二醇單烷醚類化合物、烷基二醇單烷醚醋酸酯類化合物、二乙二醇烷基醚、其他醚類化合物、酮類化合物、乳酸烷酯類化合物、其他酯類化合物、芳香族烴類化合物、羧酸胺類化合物或上述化合物的組合。
烷基二醇單烷醚類化合物的具體例包括：乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單正丙醚、二乙二醇單正丁醚、三乙二醇單甲醚、三乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚、二丙二醇單正丙醚、二丙二醇單正丁醚、三丙二醇單甲醚或三丙二醇單乙醚或其類似物，或上述化合物的組合。
烷基二醇單烷醚醋酸酯類化合物的具體例包括：乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯或丙二醇甲醚醋酸酯或丙二醇乙醚醋酸酯或其類似物，或上述化合物的組合。
二乙二醇烷基醚的具體例包括二乙二醇二甲 醚、二乙二醇甲乙醚、二乙二醇二乙醚或其類似物，或上述化合物的組合。
其他醚類化合物的具體例包括四氫呋喃或其類似物。
酮類化合物的具體例包括甲乙酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮、二丙酮醇或其類似物，或上述化合物的組合。
乳酸烷酯類化合物的具體例包括乳酸甲酯、乳酸乙酯或其類似物，或上述化合物的組合。
其他酯類化合物的具體例包括2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、羥基醋酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸異丙酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁酯、醋酸正戊酯、醋酸異戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸異丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙醯醋酸甲酯、乙醯醋酸乙酯、2-氧基丁酸乙酯或其類似物，或上述化合物的組合。
芳香族烴類化合物的具體例包括甲苯、二甲苯或其類似物，或上述化合物的組合。
羧酸胺類化合物N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺或其類似物，或上述化合物的組合。上述溶劑(F)可單獨使用或組合多種來使用。
溶劑(F)較佳為丙二醇甲醚醋酸酯、環己酮或3- 乙氧基丙酸乙酯。
基於上述鹼可溶性樹脂(A)的使用量為100重量份，溶劑(F)的使用量為600重量份至5000重量份，較佳為800重量份至4200重量份，更佳為900重量份至3500重量份。
矽烷化合物(G)
本發明之矽烷化合物(G)主要是以含有尿素鍵結的2價有機基連結具有不飽和基的有機官能基與水解性基所鍵結的矽原子者，則沒有特別的限制，較佳為單體。作為具有不飽和基的有機官能基，可例示乙烯基、丙烯基(acryl)、甲基丙烯基等，更佳為丙烯基、甲基丙烯基。作為鍵結於矽原子的水解性基，可例示甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等之烷氧基、氯、溴等的鹵素原子、乙醯氧基等，較佳為烷氧基，更佳為碳原子數1至4之烷氧基，特佳為甲氧基、乙氧基。
具有不飽和基的有機官能基與含有尿素鍵結的2價有機基之連結構造，較佳為下述式(III)所示者：
Z1表示丙烯基(acryl group)或(甲基)丙烯基((meth)acryl group)； Z2表示氫原子、或中間可摻雜由氧原子、硫原子、氮原子所選出的雜原子或羰基碳之可有取代基的1價烴基；L表示中間可摻雜由氧原子、硫原子、氮原子所選出的雜原子或羰基碳之可有取代基的2價烴基；及W表示中間可摻雜由氧原子、硫原子、氮原子所選出的雜原子或羰基碳之可有取代基的2價烴基。
上述構造中，Z2、L、W中的取代基例如是由鹵素原子、烷基、全氟烷基、聚醚基、全氟聚醚基、水解性矽烷基、(甲基)丙烯基、環氧基、胺基、巰基所組成族群所選出的1種等，其中較佳為烷基、水解性矽烷基、(甲基)丙烯基。
作為Z2的1價烴基，較佳為碳原子數1至20，特佳為1至10者，可舉出烷基、烯基、芳基、環烷基等。又，作為L及W的2價烴基，較佳為碳原子數1至20，特佳為1至10者，可舉出伸烷基、伸芳基等。
該矽烷化合物(G)之較佳具體例可為下述式(III-1)至(III-3)所示結構：
式(III-1)中，Q表示水解性基，Z3獨立地表示非取代或取代的碳原子數1至4之烷基，s表示1至3之整數；M表示非取代或取代的碳原子數1至6之伸烷基，Z4表示氫原子、或非取代或取代的碳原子數1至8之烷基，Z5表示下式(i)或式(ii)所示 結構之基：
式中，Z6及Z7各自獨立地表示氫原子或甲基，t表示1至4；
式(III-2)中，Q表示水解性基，Z3獨立地表示非取代或取代的碳原子數1至4之烷基，s表示1至3之整數；M表示非取代或取代的碳原子數1至6之伸烷基；Z8、Z9任一方表示前述式(i)或式(ii)所示結構之基，另一方則表示前述式(i)或式(ii)所示結構之基、氫原子、或非取代或取代的碳原子數1至8之烷基；
式(III-3)中，Q獨立地表示水解性基，Z3獨立地表示非取代或取代的碳原子數1至4之烷基，s表示1至3之整數；M表示非取代或取代的碳原子數1至6之伸烷基，Z10表示上式(i)或式(ii)所示結構之基。
上述式(III-1)至(III-3)中，Q表示水解性基， 可例示甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等的烷氧基、氯、溴等的鹵素原子、乙醯氧基等，較佳為烷氧基，更佳為碳原子數1至4的烷氧基，特佳為甲氧基、乙氧基。又，Z3獨立地表示非取代或取代的碳原子數1至4之烷基，具體地可例示甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基等。s表示1至3之整數，較佳為2或3。
上述式(III-1)中的Z4獨立地表示氫原子、非取代或取代的碳原子數1至8之烷基，具體地可例示氫原子、甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基、環己基、辛基等。
又，上述式(III-1)至(III-3)中，M例如是亞甲基、伸乙基、伸丙基、1-甲基-伸丙基、2-甲基-伸丙基、3-甲基-伸丙基、伸丁基等，惟不受此處例示者所限定。
本發明的在一分子中具有不飽和基與尿素鍵結的矽烷化合物之具體例，係下式(III-4)至(III-12)所示，其中，Me表示甲基。
又，以上述式的甲氧基當作乙氧基的化合物亦可同樣地例示。
本發明矽烷化合物(G)係可藉由使含有一級胺基及/或二級胺基和水解性基的矽烷化合物與具有光聚合性基的異氰酸酯化合物反應而得。
於本發明矽烷化合物(G)之製造時，按照需要亦可使用溶劑，溶劑只要是與原料的胺基矽烷及異氰酸酯化合物沒有反應性，則沒有特別的限定，具體地可舉出戊烷、己烷、庚烷、癸烷等的脂肪族烴系溶劑、二乙基醚、四氫呋喃、1,4-二噁烷等的醚系溶劑、甲醯胺、二甲基甲醯胺、N-甲基吡咯烷酮等的醯胺系溶劑、苯、甲苯、二甲苯等的芳香族烴系溶劑等。
於本發明矽烷化合物(G)製造時，反應係放熱反應，若成為不宜的高溫，則有發生副反應之虞。因此在製造時，較佳為反應溫度為-10至150℃，尤佳為0至100℃， 更佳為5至50℃的範圍。比-10℃低時，除了反應速度變慢，生產性會降低，亦必須特殊的製造設備來維持極低溫，而不符合現實。另一方面，比150℃高時，有發生從聚合性官能基而來之聚合反應等的副反應之虞。
本發明矽烷化合物(G)之製造時所需要的反應時間，只要是可藉由如上述的放熱反應來溫度管理，而且放熱反應結束，則沒有特別的限定，較佳為10分鐘至24小時，更佳為1小時至10小時左右。
作為本發明矽烷化合物(G)之製造時所需要的原料之含有一級胺基及/或二級胺基與水解性基的矽烷化合物，並沒有特別的限定，具體地可舉出α-胺基甲基三甲氧基矽烷、α-胺基甲基甲基二甲氧基矽烷、α-胺基甲基二甲基甲氧基矽烷、α-胺基甲基三乙氧基矽烷、α-胺基甲基甲基二乙氧基矽烷、α-胺基甲基二甲基乙氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-胺基丙基二甲基甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-胺基丙基二甲基乙氧基矽烷、N-2(胺基乙基)α-胺基甲基三甲氧基矽烷、N-2(胺基乙基)α-胺基甲基甲基二甲氧基矽烷、N-2(胺基乙基)α-胺基甲基二甲基甲氧基矽烷、N-2(胺基乙基)α-胺基甲基三乙氧基矽烷、N-2(胺基乙基)α-胺基甲基甲基二乙氧基矽烷、N-2(胺基乙基)α-胺基甲基二甲基乙氧基矽烷、雙-(三甲氧基矽烷基丙基)胺、雙-(甲基二甲氧基矽烷基丙基)胺、雙-(二甲基甲氧基矽烷基丙基)胺、雙-(三乙 氧基矽烷基丙基)胺、雙-(甲基二乙氧基矽烷基丙基)胺、雙-(二甲基乙氧基矽烷基丙基)胺等。
作為本發明矽烷化合物(G)之製造時所需要的原料之具有光聚合性基的異氰酸酯化合物，只要是具有上述官能基，則沒有特別的限定，作為市售容易取得者，可舉出(甲基)丙烯醯氧基乙基異氰酸酯、乙二醇-異氰酸基乙基醚單(甲基)丙烯酸酯、雙-1,1-((甲基)丙烯醯氧基甲基)乙基異氰酸酯等。
於製造本發明矽烷化合物(G)時，含有一級胺基及/或二級胺基和水解性基的矽烷化合物、與具有光聚合性基的異氰酸酯化合物之配合比係沒有特別的限定，但從反應性、生產性之點來看，對於1莫耳的含有一級胺基及/或二級胺基和水解性基的矽烷化合物，較佳為使0.5至3莫耳、尤其0.8至2.5莫耳的範圍之具有光聚合性基的異氰酸酯化合物。若具有光聚合性基的異氰酸酯化合物之配合量過少，則含有一級胺基及/或二級胺基和水解性基的矽烷化合物係大量殘留，雖然不會對矽烷的諸物性造成影響，但是除了純度降低，亦發生缺乏生產性等的缺點。相反地若過多，則彼等有發生聚合而膠化之虞。
藉由胺基與異氰酸酯基的反應來形成尿素鍵結，而得到本發明矽烷化合物(G)。再者，如此所得之矽烷化合物係適用作為矽烷偶合劑。
基於鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該矽烷化合物(G)之使用量為3重量份至25重量份，較 佳為4重量份至20重量份，且更佳為5重量份至15重量份。
當使用矽烷化合物(G)時，該感光性樹脂組成物所形成之黑色矩陣具有較佳的解析度。
添加劑(H)
在不影響本發明功效之前提下，本發明的黑色矩陣用感光性樹脂組成物可進一步選擇性地添加添加劑(H)。該添加劑(H)之具體例可包含界面活性劑、填充劑、密著促進劑、抗氧化劑、防凝集劑或前述鹼可溶性樹脂(A)以外之其他能增加各種性質(例如機械性質)的聚合物。
前述界面活性劑之具體例可包含陽離子型界面活性劑、陰離子型界面活性劑、非離子型界面活性劑、兩性界面活性劑、聚矽氧烷界面活性劑、氟素界面活性劑或上述界面活性劑之任意組合。
該界面活性劑之具體例可包含但不限於聚乙氧基十二烷基醚、聚乙氧基硬酯醯醚或聚乙氧基油醚等之聚乙氧基烷基醚類；聚乙氧基辛基苯基醚或聚乙氧基壬基苯基醚等之聚乙氧基烷基苯基醚類；聚乙二醇二月桂酸酯或聚乙二醇二硬酸酯等之聚乙二醇二酯類；山梨糖醇酐脂肪酸酯化合物；脂肪酸改質的聚酯化合物；三級胺改質的聚胺基甲酸酯化合物；或者市售之商品。其中，該市售商品可為信越化學工業公司製造之產品，且其型號為KP；道康寧東麗股份有限公司(Dow Corning Toray Co.,Ltd.)製造之產品，且其型號為SF-8427；共榮社油脂化學工業製造之產品，且其型 號為Polyflow；得克姆股份有限公司(Tochem Products Co.,Ltd.)製造之產品，且其型號為F-Top；大日本印墨化學工業製造之產品，且其型號為Megafac；住友3M製造之產品，且其型號為Fluorade；或者旭硝子公司製造之產品，且其型號為Asahi Guard或Surflon。該界面活性劑可單獨一種或混合複數種使用。
前述填充劑之具體例可包含玻璃或鋁等。
前述密著促進劑之具體例可包含乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學製造之商品，且其型號為KBM-403)、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙醯氧基丙基三甲氧基矽烷或3-巰丙基三甲氧基矽烷等之化合物，或者上述化合物之任意組合。
前述抗氧化劑之具體例可包含2,2-硫代雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,6-二-第三丁基苯酚或上述化合物之任意組合。
前述防凝集劑之具體例可包含聚丙烯酸鈉等之化合物。
基於前述鹼可溶性樹脂(A)之使用量為100重量份，該添加劑(H)中之填充劑、密著促進劑、抗氧化劑、 防凝集劑或鹼可溶性樹脂(A)以外之聚合物的使用量係不超過10重量份，且較佳係不超過6重量份。
感光性樹脂組成物的製備方法
可用來製備感光性樹脂組成物的方法例如：將鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基的化合物(B)、光起始劑(C)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)、黑色顏料(E)以及溶劑(F)放置於攪拌器中攪拌，使其均勻混合成溶液狀態，必要時亦可添加矽烷化合物(G)及/或添加劑(H)，予以均勻混合後，便可獲得溶液狀態的感光性樹脂組成物。
又，感光性樹脂組成物的製備方法沒有特別的限制。感光性樹脂組成物的製備方法例如是先將一部分的鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基的化合物(B)分散於一部分的溶劑(F)中，以形成分散溶液；並且接著混合其餘的鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基的化合物(B)、光起始劑(C)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)、黑色顏料(E)以及溶劑(F)來製備。
或者，感光性樹脂組成物也可以是由先將一部分的黑色顏料(E)分散於由部分鹼可溶性樹脂(A)以及一部分的溶劑(F)所組成的混合物來形成黑色顏料分散液後；並且加入鹼可溶性樹脂(A)、具有乙烯性不飽和基的化合物(B)、光起始劑(C)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)、黑色顏料(E)以及溶劑(F)來製備。又，上述黑色顏料(E)的分散步驟可藉由例如珠磨機(beads mill)或輥磨機(roll mill)等混合器 混合來進行。
黑色矩陣的製造方法
黑色矩陣是由上述的感光樹脂組成物依序在基板上施予預烤、曝光、顯影及曝後烤處理而製造得。又，所得之黑色矩陣的膜厚為1μm時，光學密度範圍可為3.0以上，較佳為3.2至5.5，且更佳為3.5至5.5。以下詳述黑色矩陣的製備方法。
首先，藉由旋轉塗佈或流延塗佈等塗布方式，在基板上均勻地塗佈溶液狀態的黑色矩陣用感光性樹脂組成物，以形成塗膜。上述基材的具體例包括：用於液晶顯示裝置等的無鹼玻璃、鈉鈣玻璃、硬質玻璃(派勒斯玻璃)、石英玻璃及於該玻璃上附著透明導電膜者；或用於固體攝影裝置等的光電變換裝置基板(如：矽基板)等。
形成塗膜之後，以減壓乾燥去除大部分溶劑，然後以預烤(pre-bake)方式將殘餘的溶劑完全去除，以形成預烤塗膜。擲得注意的是，減壓乾燥及預烤的條件，依各成分的種類、比率而改變。一般而言，減壓乾燥是在小於200mmHg的壓力下進行1秒至20秒，並且預烤乃在70℃至110℃溫度下對塗膜進行1分鐘至15分鐘的加熱處理。
接著，以具有特定圖案的光罩對上述預烤塗膜進行曝光。在曝光過程中所使用的光線例如是g線、h線或i線等的紫外線為佳，而紫外線照射裝置可為(超)高壓水銀燈及金屬鹵素燈。
然後，在23±2℃的溫度下，將上述經曝光的預烤塗膜浸漬於顯影液中，以去除上述未經曝光的部分的預烤塗膜，藉此可在基板上形成特定的圖案。
顯影液例如是氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、碳酸鉀、碳酸氫鉀、矽酸鈉、甲基矽酸鈉、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲胺、氫氧化四乙胺、膽鹼、吡咯、哌啶或1,8-二氮雜二環-[5,4,0]-7-十一烯等的鹼性化合物等。顯影液的濃度一般為0.001wt%至10wt%，較佳為0.005wt%至5wt%，且更佳為0.01wt%至1wt%。
在預烤塗膜經顯影之後，將具有特定的圖案的基板以水洗淨，再以壓縮空氣或壓縮氮氣將上述特定的圖案風乾。然後，以熱板或烘箱等加熱裝置進行後烤處理。後烤溫度通常為150至250℃，其中使用熱板的加熱時間為5分鐘至60分鐘，並且使用烘箱的加熱時間為15分鐘至150分鐘。經過上述的處理步驟後，即可於基板上形成黑色矩陣。
畫素層與彩色濾光片的製備方法
畫素層的製造方法與黑色矩陣的製造方法類似。具體而言，將彩色濾光片用感光性組成物塗佈在上面已形成黑色矩陣的基板上，接著依序施予預烤、曝光、顯影及後烤處理而製得。惟，在減壓乾燥的條件中，減壓乾燥是在0mmHg至200mmHg的壓力下進行1秒至60秒。經過上述的處理步驟後，即可固定特定的圖案，藉此形成畫素層。並且， 重覆上述步驟，依序在基板上形成紅、綠、藍等畫素層，即可獲得上面形成了黑色矩陣及畫素層的基板(即具有畫素層的彩色濾光片)。
液晶顯示元件的製備方法
首先，將藉由上述彩色濾光片的製造方法所形成的彩色濾光片以及設置有薄膜電晶體的基板作對向配置，並且在上述兩者之間設置間隙(晶胞間隔，cell gap)。接著，以黏著劑貼合彩色濾光片與上述基板的周圍部分並且留下注入孔。然後，在基板表面以及黏著劑所分隔出的間隙內由注入孔注入液晶，最後封住注入孔來形成液晶層。隨後，藉由在彩色濾光片中接觸液晶層的另一側與基板中接觸液晶層的另一側提供偏光板來製作液晶顯示裝置。上述所使用的液晶，亦即液晶化合物或液晶組成物，此處並未特別限定。惟，可使用任何一種液晶化合物及液晶組成物。
此外，於製作彩色濾光片中所使用的液晶配向膜是用來限制液晶分子的配向，並且沒有特別的限制，舉凡無機物或有機物任一者均可，並且本發明並不限於此。
製備聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1) 製備例1
首先，將100重量份的茀環氧化合物(型號ESF-300，新日鐵化學製造；環氧當量231)、30重量份的丙烯酸、0.3重量份的氯化苄基三乙基銨、0.1重量份的2,6-二第三丁基對甲酚以及130重量份的丙二醇單甲醚醋酸酯以連續式添加方式加入至500毫升的四頸燒瓶中。入料速度控制在25重量份/分鐘，並且反應過程的溫度維持在100℃至110℃，反應15小時後，即可獲得固成分濃度為50重量%的淡黃色透明混合液。接著，使上述淡黃色透明混合液經受萃取、過濾及加熱烘乾的步驟，即可得固體成分含量為99.9重量%的製備例1的含有聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1-a)。
製備例2
首先，將100重量份的茀環氧化合物(型號NC-3000，大阪瓦斯製造；環氧當量259)、35重量份的甲基丙烯酸、0.3重量份的氯化苄基三乙基銨、0.1重量份的2,6-二第三丁基對甲酚以及135重量份的丙二醇單甲醚醋酸酯以連續添加方式加入至500毫升的四頸燒瓶中。入料速度控制在25重量份/分鐘，並且反應過程的溫度維持在100℃至110℃下，反應15小時後，即可獲得固體成分含量為50重量%的淡黃色透明混合液。使上述淡黃色透明混合液經受萃取、過濾及加熱烘乾的步驟，即可得固體成分含量為99.9重量%的製備例2的含有聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1-b)。
製備例3
將100重量份的9,9-雙(6-縮水甘油氧基-2-萘基)芴、100重量份的2-甲基丙烯醯乙氧基丁二酸酯、0.3重量份的氯化苄基三乙基銨、0.1重量份的2,6-二第三丁基對甲酚以及200重量份的丙二醇單甲醚醋酸酯以連續添加方式加入至500毫升的四頸燒瓶中。入料速度控制在25重量份/分鐘，且反應過程的溫度維持在100℃至110℃下，反應15小時後，即可獲得固體成分含量為50重量%的淡黃色透明混合液。使上述淡黃色透明混合液經受萃取、過濾及加熱烘乾的步驟，可得固體成分含量為99.9重量%的製備例3的含有聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1-c)。
製備鹼可溶性樹脂(A-1) 合成例A-1-1
首先，將1.0莫耳製備例1的具有聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1-a)、0.3莫耳的聯苯四羧酸(a-1-2-b)、1.4莫耳的丁二酸(a-1-3-d)、1.9克的氯化苄基三乙基銨、0.6克的2,6-二第三丁基對甲酚、700克的丙二醇單甲醚醋酸酯以及100克的3-乙氧基丙酸乙酯以同時添加方式加入至500毫升的四頸燒瓶中，以形成反應溶液。在此，「同時添加」是指於相同反應時間添加四羧酸或其酸二酐(a-1-2)與二羧酸或其酸酐(a-1-3)。接著，將上述反應溶液加熱至110℃，並且反應2小時，即可得酸價為125毫克KOH/克且數量平均分子量為2455的鹼可溶性樹脂A-1-1。
合成例A-1-2
將1.0莫耳製備例2的具有聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1-b)、2.9克的氯化苄基三乙基銨以及950克的丙二醇甲醚醋酸酯加入至500毫升的四頸燒瓶中，以形成反應溶液。接著，添加0.6莫耳的二苯甲酮四羧酸二酐(a-1-2-c)並在90℃下反應2小時。然後，添加0.8莫耳的馬來酸(a-1-3-b)，並在90℃下反應4小時。在此，「分段添加」是指於不同的反應時間分別添加四羧酸或其酸二酐(a-1-2)與二羧酸或其酸酐(a-1-3)，亦即先添加四羧酸或其酸二酐(a-1-2)，之後再添加二羧酸或其酸酐(a-1-3)。經上述合成步驟，可得酸價為92毫克KOH/克且數量平均分子量為5130的鹼可溶性樹脂A-1-2。
合成例A-1-3、合成例A-1-5以及合成例A-1-6
合成例A-1-3、合成例A-1-5以及合成例A-1-6合的鹼可溶性樹脂是以與合成例A-1-2相同的步驟來製備，並且其不同處在於：改變第一鹼可溶性樹脂的成分種類及其使用量、反應時間、反應溫度以及反應物添加時間(如表1所示)。
合成例A-1-4
合成例A-1-4的鹼可溶性樹脂是以與合成例A-1-1相同的步驟來製備，並且其不同處在於：改變第一鹼可溶性樹脂的成分種類及其使用量、反應時間、反應溫度以及反應物添加時間(如表1所示)。
製備鹼可溶性樹脂(A-2) 合成例A-2-1
在容積為500毫升的三頸燒瓶中，加入0.40莫耳的二甲基二甲氧基矽烷(以下簡稱DMDMS)、0.55莫耳的苯基三乙氧基矽烷(以下簡稱PTES)、0.05莫耳的矽烷醇末端聚矽氧烷(以下簡稱DMS-S27)以及180克的4-羥基-4-甲基-2-戊酮(以下簡稱DAA)，並於室溫下一邊攪拌一邊於30分鐘內添加草酸水溶液(0.40克草酸/75克水)。接著，將燒瓶浸漬於30℃的油浴中並攪拌30分鐘。然後，於30分鐘內將油浴升溫至120℃。待溶液的溫度降到110℃(亦即反應溫度)時，持續加熱攪拌進行聚合6小時(亦即聚縮合時間)。再接著，利用蒸餾方式將溶劑移除，即可獲得鹼可溶性樹脂(A-2-1)。
合成例A-2-2
在一容積1000毫升之四頸錐瓶上設置氮氣入口、攪拌器、加熱器、冷凝管及溫度計。導入氮氣後，添加5重量份的甲基丙烯酸(以下簡稱為MAA)、5重量份的甲基丙烯酸環氧丙酯(以下簡稱為GMA)、10重量份的甲基丙烯酸2-羥基乙酯(以下簡稱為HEMA)、30重量份之甲基丙烯酸二環戊烯氧基乙酯(以下簡稱為FA-513M)、30重量份之甲基丙烯酸苯甲酯(以下簡稱為BzMA)、20重量份之苯乙烯(以下簡稱為SM)、2.4重量份的2,2’-偶氮二(2-甲基丁腈)(以下簡稱為AMBN)及240重量份的二乙二醇二甲醚(以下簡稱為Diglyme)至反應瓶中。接著，緩慢攪拌上述成份，並將溶液加熱至85℃。進行聚縮合反應5小時後，將溶 劑脫揮，即可製得鹼可溶性樹脂(A-2-2)。
製備鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1) 合成例D-1-1
於乾燥之氮氣環境中，將0.1莫耳前述式(I-1)所示具有羥基之茀化合物及0.13莫耳之鄰萘醌二疊氮-5-磺酸氯加至450g之γ-丁內酯中。
然後，將0.14莫耳之三乙胺溶解於50g之1,4-二噁烷中，以配置成一混合溶液。將該混合溶液滴加至前述之γ-丁內酯溶液中，並避免溶液之溫度超過35℃。
於30℃攪拌2小時後，過濾沉澱析出之三乙胺鹽，並將濾液倒入水中。
然後，過濾收集沉澱物，並利用真空乾燥機烘乾沉澱物，即可製得具有如下式(I-1-1)所示之結構的合成例D-1-1之鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1-1)，且其酯化率為65%：
於式(I-1-1)中，Q1代表或氫原子，且兩者之 比值為1.3：0.7。
合成例D-1-2
於乾燥之氮氣環境中，將0.1莫耳前述式(I-2)所示具有羥基之茀化合物及0.14莫耳之鄰萘醌二疊氮-5-磺酸氯加至450g之γ-丁內酯中。
然後，將0.154莫耳之三乙胺溶解於50g之1,4-二噁烷中，以配置成一混合溶液。將該混合溶液滴加至前述之γ-丁內酯溶液中，並避免溶液之溫度超過35℃。
於30℃攪拌2小時後，過濾沉澱析出之三乙胺鹽，並將濾液倒入水中。
然後，過濾收集沉澱物，並利用真空乾燥機烘乾沉澱物，即可製得具有如下式(I-2-1)所示之結構的合成例D-1-2之鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1-2)，且其酯化率為70%：
於式(I-2-1)中，Q2代表或氫原子，且兩者之比 值為1.4：0.6。
合成例D-1-3
於乾燥之氮氣環境中，將0.1莫耳前述式(I-3)所示具有羥基之茀化合物及0.26莫耳之鄰萘醌二疊氮-5-磺 酸氯加至450g之γ-丁內酯中。
然後，將0.28莫耳之三乙胺溶解於50g之1,4-二噁烷中，以配置成一混合溶液。將該混合溶液滴加至前述之γ-丁內酯溶液中，並避免溶液之溫度超過35℃。
於30℃攪拌2小時後，過濾沉澱析出之三乙胺鹽，並將濾液倒入水中。
然後，過濾收集沉澱物，並利用真空乾燥機烘乾沉澱物，即可製得具有如下式(I-3-1)所示之結構的合成例D-1-3之鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1-3)，且其酯化率為65%：
於式(I-3-1)中，Q3代表或氫原子，且兩者之 比值為1.3：0.7。
合成例D-1-4
於乾燥之氮氣環境中，將0.1莫耳前述式(I-3)所示具有羥基之茀化合物及0.28莫耳之鄰萘醌二疊氮-5-磺酸氯加至450g之γ-丁內酯中。
然後，將0.33莫耳之三乙胺溶解於50g之1,4-二噁烷中，以配置成一混合溶液。將該混合溶液滴加至前述之γ-丁內酯溶液中，並避免溶液之溫度超過35℃。
於30℃攪拌2小時後，過濾沉澱析出之三乙胺鹽，並將濾液倒入水中。
然後，過濾收集沉澱物，並利用真空乾燥機烘乾沉澱物，即可製得具有如下式(I-4-1)所示之結構的合成例D-1-4之鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1-4)，且其酯化率為70%：
於式(I-4-1)中，Q4代表或氫原子，且兩者之 比值為1.4：0.6。
製備感光性樹脂組成物 實施例1
將100重量份的鹼可溶性樹脂A-1-1、5重量份的季戊四醇三丙烯酸酯與鄰苯二甲酸之酯化物(簡稱為B-1)、9重量份由式(1-1)所表示的光起始劑(簡稱為C-1-1)、1重量份之合成例D-1-1之鄰萘醌二疊氮磺酸酯、60重量份的黑色顏料MA100(簡稱E-1)以及3重量份的如式(III-6)所示之化合物(簡稱為G-1)加入500重量份的丙二醇單甲醚醋酸酯(簡稱為F-1)和100重量份之3-乙氧基丙酸 乙酯(簡稱為F-2)中，並且以搖動式攪拌器攪拌均勻後，即可製得實施例1的感光性樹脂組成物。
實施例2至10及比較例1至2
實施例2至10及比較例1至2係使用與實施例1相同的步驟來製備，並且其不同處在於：改變感光性樹脂組成物的成分種類及其使用量(如表2所示)。將所製得的膜以下列各評價方式進行評價，其結果如表2所示。
評價方式 解析度
以旋轉塗佈方式將實施例以及比較例所製得的各種感光性樹脂組成物，塗佈於玻璃基板上。接著，在100℃下預烤2分鐘，即可得到約1.2μm的預烤塗膜。然後，將上述預烤塗膜放置於線與間距的光罩(由日本惠爾康(Nibbon Filcon)製造)下，並且利用50mJ/cm2的紫外光(曝光機型號AG500-4N；由M&R Nano Technology製造)進行曝光。接著，以0.045%氫氧化鉀水溶液於23℃下顯影1分鐘，以將基板上未曝光部份的塗膜除去。然後，將具有特定的圖案的玻璃基板以水洗淨。最後，將玻璃基板上所形成的圖案的線條幅度的最小值定義為解析度。將線條幅度以下列方式評價。值得注意的是，最小圖案線幅越小代表感光性樹脂組成物的解析度越好。
◎：最小圖案線幅≦4μm
○：4μm<最小圖案線幅≦6μm
△：6μm<最小圖案線幅≦8μm
×：8μm<最小圖案線幅。
根據本發明之表2的評價結果可知，當本發明之感光性樹脂組成物中包括光起始劑(C-1)及/或矽烷化合物(G)時，應用感光性樹脂組成物所製得之黑色矩陣的解析度佳。另一方面，若感光性樹脂組成物中不包含鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D-1)，則感光性樹脂組成物所製得之黑色矩陣的解析度不佳。
雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，在本發明所屬技術領域中任何具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (12)

  1. 一種感光性樹脂組成物，包含：鹼可溶性樹脂(A)；具有乙烯性不飽和基之化合物(B)；光起始劑(C)；鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)；黑色顏料(E)；以及溶劑(F)，其中該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)包含具有如下式(I)所示之結構的鄰萘醌二疊氮磺酸酯化合物(D-1)：
    Figure TWI646391B_C0001
    於該式(I)中，該R1d分別獨立地代表氫原子、經取代或未取代之烷基、芳香基或烯基；該R2d分別獨立地代表氫原子或具有醌二疊氮結構之官能基；該a、該b、該d及該e分別代表大於或等於0之整數，且該f及該g之總和為大於或等於1之整數；當該a、該b、該d及該e之總和大於1時，複數個R1d分別為相同或不同，當該f及該g之總和大於1時，複數個R2d之至少一者具有醌二疊氮結構之官能基；以及該光起始劑(C)包含由式(1)表示的光起始劑(C-1)：
    Figure TWI646391B_C0002
    於該式(1)中，其中R1、R2、R3、R4、R7及R8彼此獨立地為氫、C1-C20烷基、COR16、NO2、由式(2)所表示的基團；
    Figure TWI646391B_C0003
    R5及R6共同為式(5)所表示的基團；
    Figure TWI646391B_C0004
    R9、R10、R11及R12彼此獨立地為氫；X表示直接鍵；R13表示C1-C20烷基；R14表示氫或C1-C20烷基；R15表示C6-C20芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：OR17或C1-C20烷基；或R15表示C1-C20烷基；R16表示C6-C20芳基，其各是未經取代或經一或多個以下基團取代：C1-C20烷基或OR17；R17表示C1-C20烷基，其是未經取代或經一或多個以下基團取代：鹵素；或R17表示C2-C20烷基，其間雜有一或多個O；但條件為在該分子中存在至少一個式(2)所表示的基團：
    Figure TWI646391B_C0005
  2. 如申請專利範圍第1項所述之感光性樹脂組成物，其中基於該鹼可溶性樹脂(A)的使用量為100重量份，該具有乙烯性不飽和基之化合物(B)之使用量為5重量份至50重量份，該光起始劑(C)之使用量為6重量份至50重量份，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(D)之使用量為0.5重量份至10重量份，該黑色顏料(E)之使用量為60重量份至600重量份，且該溶劑(F)之使用量為600重量份至5000重量份。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組成物，其中該鹼可溶性樹脂(A)包括鹼可溶性樹脂(A-1)，該鹼可溶性樹脂(A-1)是由混合物聚合而得，並且該混合物包括：含有聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1)；四羧酸或其酸二酐(a-1-2)；以及二羧酸或其酸酐(a-1-3)，其中該含有聚合性不飽和基的二醇化合物(a-1-1)是由具有至少二個環氧基的環氧化合物及具有至少一個羧酸基及至少一個乙烯性不飽和基的化合物反應而得，且具有至少二個環氧基的環氧化合物包括式(II-1)至式(II-3)所示的結構或其組合，
    Figure TWI646391B_C0006
    於該式(II-1)中，該W1、該W2、該W3以及該W4各自獨立表示氫原子、鹵素原子、碳數為1至5的烷基、碳數為1至5的烷氧基、碳數為6至12的芳基或碳數為6至12的芳烷基；
    Figure TWI646391B_C0007
    於該式(II-2)中，該W5至該W18各自獨立表示氫原子、鹵素原子、碳數為1至8的烷基或碳數為6至15的芳香基，s表示0至10的整數；
    Figure TWI646391B_C0008
    於該式(II-3)中，該Ar1表示萘環，該Q1表示氰基、鹵素或烴基，該Q2表示烴基、烷氧基、環烷氧基、芳氧基、芳烷氧基、烷硫基、環烷硫基、芳硫基、芳烷硫基、醯基、鹵素、硝基、氰基或是經取代的氨基，該J表示伸烷基，該xa表示0至4的整數，該xb以及該xc表示0或0以上的整數。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之感光性樹脂組成物，其中基於該鹼可溶性樹脂(A)的使用量為100重量份，該鹼可溶性樹脂(A-1)之使用量為30重量份至100重量份。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之感光性樹脂組成物，其中基於該鹼可溶性樹脂的使用量為100重量份，該光起始劑(C-1)之使用量為4重量份至40重量份。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之感光性樹脂組成物，更包含矽烷化合物(G)，其中該矽烷化合物(G)分子內具有至少一如下式(III)所示之結構：
    Figure TWI646391B_C0009
    於該式(III)中，該Z1表示丙烯基(acryl group)或(甲基)丙烯基((meth)acryl group)，該Z2表示氫原子、或中間夾入由氧原子、硫原子、氮原子所選出的雜原子或羰基碳之具有取代基的1價烴基，該L表示中間夾入由氧原子、硫原子、氮原子所選出的雜原子或羰基碳之具有取代基的2價烴基，且該W表示中間夾入由氧原子、硫原子、氮原子所選出的雜原子或羰基碳之具有取代基的2價烴基。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之感光性樹脂組成物，其中該矽烷化合物(G)具有如下式(III-1)之結構：
    Figure TWI646391B_C0010
    於該式(III-1)中，Q表示水解性基，Z3獨立地表示非取代或取代的碳數為1至4之烷基，s表示1至3之整數；M表示非取代或取代的碳數為1至6之伸烷基，Z4表示氫原子、或非取代或取代的碳數為1至8之烷基，Z5表示下式(i)或式(ii)所示結構之基：
    Figure TWI646391B_C0011
    Figure TWI646391B_C0012
    於式(i)和式(ii)中，Z6及Z7各自獨立地表示氫原子或甲基，t表示1至4。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之感光性樹脂組成物，其中該矽烷化合物(G)具有如下式(III-2)之結構：
    Figure TWI646391B_C0013
    於該式(III-2)中，Q表示水解性基，Z3獨立地表示非取代或取代的碳數為1至4之烷基，s表示1至3之整數；M表示非取代或取代的碳數為1至6之伸烷基；Z8、Z9任一方表示式(i)或式(ii)所示結構之基，另一方則表示式(i)或式(ii)所示結構之基、氫原子、或非取代或取代的碳數為1至8之烷基；
    Figure TWI646391B_C0014
    Figure TWI646391B_C0015
    於式(i)和式(ii)中，Z6及Z7各自獨立地表示氫原子或甲基，t表示1至4。
  9. 如申請專利範圍第6至8項中任一項所述之感光性樹脂組成物，其中基於該鹼可溶性樹脂(A)的使用量為100重量份，該矽烷化合物(G)之使用量為3重量份至25重量份。
  10. 一種黑色矩陣，其是由如申請專利範圍第1至9項之任一項所述的感光性樹脂組成物經一預烤處理、一曝光處理、一顯影處理及一後烤處理所形成。
  11. 一種彩色濾光片，包括：如申請專利範圍第10項所述的黑色矩陣，設於一基板上；以及複數個畫素層，設於該黑色矩陣上方。
  12. 一種液晶顯示器，包括：如申請專利範圍第11項所述的彩色濾光片；一薄膜電晶體基板，與該彩色濾光片相對設置；以及一液晶層，設於該薄膜電晶體基板與該彩色濾光片之間。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI773782B (zh) * 2018-06-28 2022-08-11 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物、黑色矩陣、彩色濾光片及顯示器
JP7568413B2 (ja) * 2019-04-12 2024-10-16 日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社 感光性樹脂組成物、それを硬化してなる硬化膜、およびその硬化膜を有する表示装置
WO2021106423A1 (ja) * 2019-11-26 2021-06-03 富士フイルム株式会社 組成物、膜、マイクロレンズ、固体撮像素子および表示装置
KR20230170903A (ko) * 2021-04-14 2023-12-19 닛폰 포리텍쿠 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 및 유기 el 소자 격벽
CN117658780A (zh) * 2022-08-29 2024-03-08 常州强力电子新材料股份有限公司 多羟基酚化合物及其制备方法、重氮萘醌磺酸酯及其制备方法和光刻胶组合物

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201040192A (en) * 2009-02-17 2010-11-16 Shinetsu Chemical Co Photopolymerizable functional radical-containing organosilicon compound and making method
TW201404781A (zh) * 2012-03-30 2014-02-01 Toray Industries 矽烷偶合劑、感光性樹脂組成物、硬化膜及觸控面板構件
TW201426178A (zh) * 2012-12-20 2014-07-01 Chi Mei Corp 感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其液晶顯示元件

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6038033B2 (ja) * 2010-10-05 2016-12-07 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ ベンゾカルバゾール化合物のオキシムエステル誘導体ならびに前記誘導体の光重合性の組成物における光開始剤としての使用
JP5726632B2 (ja) * 2011-05-19 2015-06-03 メルクパフォーマンスマテリアルズＩｐ合同会社 感光性シロキサン樹脂組成物
TWI506372B (zh) * 2013-12-05 2015-11-01 Chi Mei Corp 正型感光性樹脂組成物、圖案形成方法、薄膜電晶體陣列基板以及液晶顯示元件
JP6199811B2 (ja) * 2014-06-18 2017-09-20 信越化学工業株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、光硬化性ドライフィルム並びにその製造方法、積層体、及びパターン形成方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201040192A (en) * 2009-02-17 2010-11-16 Shinetsu Chemical Co Photopolymerizable functional radical-containing organosilicon compound and making method
TW201404781A (zh) * 2012-03-30 2014-02-01 Toray Industries 矽烷偶合劑、感光性樹脂組成物、硬化膜及觸控面板構件
TW201426178A (zh) * 2012-12-20 2014-07-01 Chi Mei Corp 感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其液晶顯示元件

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