TWI506211B - 滑動構造、支承裝置及免震構造物 - Google Patents
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Description
本發明係有關於一種滑動構造、支承裝置及免震構造物。
本發明依據2009年4月27日於日本申請之特願2009-107618號主張優先權,在此援用其內容。
以往,利用於免震構造物等滑動支承裝置具有互相相對設置之滑動構件(第1構件)與相對構件(第2構件)是已知的。該滑動支承裝置中,滑動構件可沿著面積十分大地形成之相對構件的表面滑動,且構成為可將負載由滑動構件及相對構件之其中一者傳達至另一者。在如此之滑動支承裝置中,使滑動構件及相對構件之滑動面中之摩擦係數儘可能地小在免震性能上是重要的。為了得到摩擦係數為0.1以下之低摩擦係數,一般是在滑動面塗布油脂及油等凝膠狀或液體狀等之流體系潤滑劑。但是,該等流體系潤滑劑在滑動構件與相對構件反覆滑動之交替滑動時,隨著滑動逐漸地由滑動面排出,因此滑動面中之摩擦係數會增大。為了防止如此之潤滑劑流出,以更少之維護頻率維持低摩擦係數狀態,已有人提出如下之各種支承裝置。
在專利文獻1、2中,提出了以自潤滑性樹脂形成滑動構件並且於其表面實施凹加工,填充潤滑劑,且相對構件為其表面平滑地形成之平滑材,以維持互相滑動面中之潤
滑性的支承裝置。
在記載於專利文獻1之支承裝置中,於低摩擦係數之固體滑動構件設有凹部,於該凹部封入凝膠狀潤滑劑,於凹部周邊塗布凝膠狀潤滑劑。另一方面,相對構件由不鏽鋼板構成,或成為令貼附四氟乙烯之樹脂板之表面為平滑面的構造。
在記載於專利文獻2之支承裝置中,於由四氟乙烯構成之滑動構件表面,形成互相連通且於外緣沒有開放端之凹部,並且塗布由氟油脂形成之潤滑劑。另一方面,相對構件成為使用表面平滑之平滑板的構造。該平滑板之表面粗度設定於藉JIS B0601-2001(ISO 4287)規定之最大高度為0.05~0.50μm(較佳為0.10~0.20μm)的範圍。
在記載於專利文獻3之支承裝置中,藉具有比較高強度之合成樹脂構成滑動構件,並且於其表面實施凹加工,填充潤滑劑。另一方面,相對構件係以具有與滑動構件相同程度以下之表面彈性模數(楊氏模數)之薄合成樹脂的板構成。如此,在專利文獻3中,提出了用以確保相對構件之強度的支承裝置。
在記載於專利文獻3之支承裝置中,滑動構件係以具有50~120MPa之壓縮強度之合成樹脂(聚縮醛、聚醯胺、聚苯醚、苯酚、含玻璃纖維之聚碳酸酯等)構成,相對構件構成有由混合具自潤滑性之四氟乙烯之聚醯胺醯亞胺樹脂形成之合成樹脂皮膜。該相對構件之合成樹脂皮膜設定於膜厚為100μm以下(較佳為20~40μm),用以在滑動構件與相對構
件之滑動面,得到0.02~0.04之低摩擦係數(μ)。
在專利文獻4中,提出了以藉特殊製法具有空孔且浸漬流體潤滑劑之四氟乙烯樹脂(自潤滑性樹脂)構成滑動構件,並且藉以與此相同之製法形成之樹脂被覆相對構件之表面的支承裝置。如此,在專利文獻4中,提出了可防止潤滑劑之流出,維持低摩擦係數狀態之支承裝置。
在記載於專利文獻4之支承裝置中,一對滑動構件與相對構件之至少其中一者係由具有多數空隙之多孔質構造之成形體構成,且該成形體係藉以含有四氟乙烯樹脂為主成分之芳香族聚酯的組成物形成。又,在記載於專利文獻4之支承裝置中,藉於該空隙浸漬聚矽氧烷(聚矽氧)之潤滑劑,防止潤滑劑之流出。
在專利文獻5、6中,提出了由自潤滑性樹脂構成滑動構件,且以化學鍵結含氟聚合物及矽油之樹脂膜被覆相對構件之滑動面,藉此防止潤滑劑之流出。
記載於專利文獻5之支承裝置由具有自潤滑性之合成樹脂構成滑動構件。另一方面,於相對構件之滑動面形成組成固化物之被著膜,該組成固化物係由環氧樹脂及於側鏈具有環氧基之環氧當量為1000以下之反應性矽油形成。又,在組成固化物中,藉180℃燒成處理,反應性矽油形成立體網狀構造,藉此可防止矽油之流出。
記載於專利文獻6之支承裝置藉以四氟乙烯樹脂為主成分之樹脂構成滑動構件之滑動面,且由在表面具有被覆膜之金屬板構成相對構件。該被覆膜藉於末端具有官能基
之氟聚合物或有機矽氧烷之單獨或混合物形成,以其膜厚為大約0.01~5μm構成。
【專利文獻1】實開平1-122102號公報
【專利文獻2】特開2000-320611號公報
【專利文獻3】特開2001-132757號公報
【專利文獻4】特開2001-82543號公報
【專利文獻5】特開平11-124591號公報
【專利文獻6】特開平1-146042號公報
但是,前述各先前技術有如下之缺點。
首先,在記載於專利文獻1、2之技術中,必須將相對構件之滑動面平滑地研磨加工,或於滑動面配置具有自潤滑性之合成樹脂。具體而言,在記載於專利文獻2之技術中,顯示表面粗度之最大高度Rz為大於0.5μm時,滑動構件之磨耗特性受損,摩擦係數μ不利地增大。
又,在記載於專利文獻3之技術中,為了耐受因滑動構件之凹部加工產生之滑動構件對相對構件之接觸面的減少,需要壓縮強度為50~100MPa之材料作為滑動構件。此外,關於相對構件,為了確保耐負載性能,亦必須使被覆其表面之合成樹脂皮膜之厚度變薄,且為了成形皮膜需要
高度之加工技術。
此外,在記載於專利文獻4~6之技術中,需要用以於相對構件之滑動面形成具有特殊自潤滑性之樹脂膜的特殊混合材料,或需要加熱處理等複雜之製造程序及特殊製造設備等,製造成本增加。
本發明之目的是提供可以不要複雜之製造程序及設備且比較容易地製造,可確實地維持低摩擦狀態之滑動構造、具有該滑動構造之支承裝置及免震構造物。
本發明之滑動構造具有相對設置之第1構件及第2構件,第1構件構成可沿該第2構件之表面滑動。前述第1構件中,與前述第2構件滑接之第1滑接面由具有預定楊氏模數之合成樹脂材料構成,在前述第2構件中,與前述第1滑接面滑接之第2滑接面由相對前述第1滑接面之楊氏模數具有2倍以上之楊氏模數的彈性體構成。同時,前述第2滑接面具有最大高度(Rz)為3μm以上之凹凸,且被塗布潤滑劑。
在此,最大高度(Rz)是指以JIS B0601.2001(按照ISO 4287,幾何產品規格(GPS)-表面紋路:輪廓方法-用語、定義及表面紋路參數)規定之最大高度Rz,前述第2滑接面之凹凸(稱為粗面或粗糙部份)中之最大高度(Rz)以70μm以下為佳。
最大高度(Rz)表示基準長度(lr)中之輪廓曲線之山高(Zp)之絕對值之最大值與谷深(Zv)之絕對值之最大值的和。在此,基準長度(lr)表示粗面之輪廓曲線之X軸方向的
長度。山高(Zp)表示藉X軸切斷前述輪廓曲線時之平均線上側之山中,由X軸至山頂之高度的絕對值。另一方面,谷深(Zv)表示藉X軸切斷前述輪廓曲線時之平均線下側之谷中,由X軸至谷底之深度的絕對值。
依據以上之本發明,由相對前述第1滑接面之楊氏模數具有2倍以上之楊氏模數的彈性體構成第2滑接面,於該第2滑接面形成最大高度(Rz)為3μm以上之凹凸。因此,楊氏模數比第2滑接面小之第1滑接面仿照第2滑接面之凹凸變形,可藉該變形吸收第2滑接面之凹凸,以低摩擦滑接該等滑接面。又,藉將第2滑接面之楊氏模數設定為大,即使構成該第2滑接面之彈性體厚度尺寸為大,亦可抑制其變形。因此,第2滑接面之凹凸可比較容易地形成,成形彈性體之製造程序可簡單化,並且其製造設備規模不大,可謀求低成本化。而且,藉將塗布於第2滑接面之潤滑劑保持於凹凸之凹部,可防止潤滑劑之流出,可維持滑接面間之低摩擦係數(例如,動摩擦係數μ≦0.1或μ≦0.03之狀態)。動摩擦係數越低越好,其下限值沒有特別限制。又,在此,潤滑劑可為凝膠狀之潤滑劑,亦可為液體狀之潤滑劑。因此,因為於第2構件之彈性體不需要使用具有自潤滑性之特殊合成樹脂材料,所以本發明之滑動構造可減少材料成本,比較便宜地製造。
此時,較佳地,在本發明之滑動構造中,前述第1滑接面由具有自潤滑性之合成樹脂材料構成。
因為由具有自潤滑性之合成樹脂材料構成面積小於第
2滑接面之第1滑接面,故可抑制材料成本且進一步降低滑接面間的摩擦係數。
此外,較佳地,在本發明之滑動構造中,前述第2滑接面由厚度40μm以上之合成樹脂材料構成。
依據如此構造,由於令構成第2滑接面之合成樹脂材料厚度為40μm以上,故可比較容易地形成第2滑接面之凹凸。例如,可使用噴塗合成樹脂等簡便之形成方法,形成第2滑接面之凹凸,可促進製造設備之簡單化及低成本化。
又,本發明之支承裝置係具有前述任一種滑動構造之支承裝置,前述第1構件之第1滑接面及前述第2構件之第2滑接面分別以平面構成。
另外,本發明之支承裝置係具有前述任一種滑動構造之支承裝置,亦可分別地,前述第1構件之第1滑接面以具有凸狀曲率之曲面構成,前述第2構件之第2滑接面以具有凹狀曲率之曲面構成。
此外,本發明之支承裝置係具有前述任一種滑動構造之支承裝置,亦可分別地,前述第1構件之第1滑接面以具有凹狀曲率之曲面構成,前述第2構件之第2滑接面以具有凸狀曲率之曲面構成。
依據如此之支承裝置,與前述滑動構造同樣地,可實現使第1滑接面及第2滑接面以低摩擦狀態滑接,並且防止潤滑劑流出,維持低摩擦狀態之支承裝置。
此時,在本發明之支承裝置中,積層橡膠裝置亦可與前述第1構件或第2構件排成一列地連結。
依據如此構造,因為滑動支承部份之第1構件或第2構件與積層橡膠裝置排成一列地連結,故可實現具有依據設計條件之適當滑動方向初期彈性剛性及衰減性能的支承裝置。
又,本發明之免震構造物之特徵在於藉前述任一種支承裝置支持來自上部構造之負載。
依據如此之免震構造物,與前述支承裝置同樣地,可維持低摩擦狀態。即,於構造物之長期使用期間,即使受到多數次外來干擾(地震、風、及機械振動等之反覆負載),亦可防止支承裝置之性能降低,並且可減輕或省略在該期間中之潤滑劑補充等之維護工夫。
依據如上之本發明之滑動構造、具有該滑動構造之支承裝置及免震構造物,因為由楊氏模數為第1滑接面2倍以上之彈性體形成第2滑接面,故可比較容易地形成其表面之凹凸,因此可不需要複雜之製造程序及設備等,謀求低成本化。此外,第1滑接面可仿照第2滑接面變形,並且潤滑劑可保持於第2滑接面之凹部,防止流出。
第1圖是顯示本發明實施型態之免震構造物一部份的截面圖。
第2A圖、第2B圖是本發明第1實施例之支承裝置之負載試驗結果的圖。
第3A圖、第3B圖是本發明第2實施例之支承裝置之負載試驗結果的圖。
第4圖是第1圖之免震構造物之滑動構造部之放大截面圖的一例。
第5圖是第1圖之免震構造物之滑動構造部之放大截面圖的一例。
第6圖是顯示本發明免震構造物之一部份的截面圖。
第7圖是顯示本發明免震構造物之一部份的截面圖。
以下,依據圖式說明本發明之一實施型態。
在第1圖中,本發明之免震構造物於基礎F與上部構造S間具有作為支承裝置之免震裝置1,上部構造S之負載透過免震裝置1傳達至基礎F。又,地震等水平力作用於本發明之免震構造物時,藉免震裝置1之水平變形,可減少對上部構造S之水平力之輸入。免震裝置1係藉上下排成一列地連結設於基礎F側之滑動支承部2及設於上部構造S側之積層橡膠支承部(積層橡膠裝置)3構成。
積層橡膠支承部3構成有上下之凸緣31、32,及於該等凸緣31、32間交互積層橡膠板與鐵板之積層橡膠部33。上側之凸緣31固定於上部構造S,下側之凸緣32與滑動支承部2固定。積層橡膠部33藉鐵板拘束橡膠板之垂直變形(伸縮),且不拘束橡膠板之剪切變形,故可支持上部構造S之載重且可於前後左右剪切變形。藉如此之積層橡膠部33的剪切變形,使直到滑動支承部2滑動程度之來自基礎F之水平力不易傳達至上部構造S。
滑動支承部2包含固定於積層橡膠支承部3之下側之凸緣32之(即,上部構造S側之)第1構件21(以下稱為滑動構件21),固定於基礎F之第2構件22(以下稱為相對構件22),及設於滑動構件21與相對構件22間之潤滑劑101。在本發明之滑動支承部2中,由於該等滑動構件21與相對構件22上下相對地設置,並且滑動構件21沿相對構件22之上面前後左右地滑動,故來自基礎F之水平力不易傳達至積層橡膠支承部3及上部構造S。
滑動構件21構成有固定於下側之凸緣32之鋼製固持部23,及固持於該保持部23下側之合成樹脂製滑動構件本體24。固持部23全體形成平坦圓盤狀並且形成有於下方開口之凹狀截面,滑動構件本體24藉連接於該凹狀部份而被固定。滑動構件本體24由聚乙烯樹脂等具自潤滑性之合成樹脂材料及其混合物等形成全體圓盤狀,滑動構件本體24之下面形成有與相對構件22滑接之第1滑接面25。第1滑接面25是滑動構件21之與相對構件22滑接的面。第1滑接面25之楊氏模數沒有特別限制,但大約為400MPa~800MPa。
另一方面,相對構件22構成有由埋入固定於基礎F之鋼板形成之相對構件本體26,及形成於該相對構件本體26之上面之作為彈性體的合成樹脂製皮膜27。皮膜27藉環氧系及胺基甲酸酯系之厚膜塗裝等,例如,形成有膜厚50μm以上之厚度尺寸。而且,藉皮膜27之表面,構成與滑動構件21之第1滑接面25滑接之第2滑接面28。第2滑接面28係相對構件22之與滑動構件21之第1滑接面25滑接的面。
第4圖及第5圖顯示第1滑接面25及第2滑接面28之放大圖。
該第2滑接面28形成有以JIS B0601.2001(ISO 4287)規定之最大高度Rz為3μm以上、70μm以下之微細凹凸,最大高度Rz為3μm以上、40μm以下更佳。又,第2滑接面28於其任意位置處,凹凸形狀均類似。此外,相對於構成滑動構件本體24之合成樹脂,構成皮膜27之合成樹脂係由具有2倍以上之楊氏模數的樹脂材料構成。即,相對於滑動構件21之第1滑接面25,相對構件22之第2滑接面28具有2倍以上之楊氏模數。
又,相對構件22中之皮膜27的形成方法係例如,若為環氧系塗裝則藉在常溫下進行無空氣噴霧塗裝等簡便之方法形成具有凹凸之皮膜27。此外,若皮膜27之膜厚為50μm,則可藉比較簡便之方法形成凹凸,但是若膜厚大約為到達200μm或500μm之厚度,則可更容易形成皮膜27及凹凸。另外,皮膜27之表面可併用使氟系樹脂等皮膜面本身之摩擦係數減少之表面處理。又,藉氟系樹脂塗覆被膜時,該塗覆層之厚度為大約10nm~30nm,不會影響相對構件22之第2滑接面28中之凹凸(粗度)及彈性模數。
此外,如第5圖所示,相對構件22亦可僅由鋼板,即相對構件本體26形成。此時,相對構件22之表面,即第2滑接面28宜藉蝕刻等形成粗面,蝕刻劑可使用氯化鐵、鹽酸、硫酸等。
相對構件22僅由鋼板等相對構件本體26形成時,相對構件22之第2滑接面28相對於滑動構件21之第1滑接面25,
具有大約300~400倍之楊氏模數。
設於滑動構件21與相對構件22之間的潤滑劑101可為由礦物油系及合成油系(矽油、氟油等)等之油脂類(包含有添加劑)形成之凝膠狀潤滑劑,亦可為合成油(矽油、氟油、酯油)及礦物油等形成之液體狀潤滑劑。又,潤滑劑中亦可混合有二硫化鉬等固體潤滑劑。具體之潤滑劑宜為矽油脂、氟油脂、礦物油系油脂、矽油、氟油、及礦物油等。
就以上之滑動支承部2,製作如以下表1般設定滑動構件21、相對構件22及潤滑劑條件之試驗體(實施例1~4),並且製作相對構件22之表面條件不同之試驗體(比較例1、2),實施等速交替反覆負載試驗。
在此,實施例1~4及比較例1、2之各試驗體中,滑動構件21是含填充材之四氟乙烯製,且構成有形成直徑尺寸φ為100mm,厚度尺寸為4mm之圓盤狀的滑動構件本體24,滑動構件本體24之楊氏模數為600MPa。又,實施例1~4之試驗體中,相對構件22於由鋼板形成之相對構件本體26表面,構成有噴霧塗裝環氧系塗料之皮膜27,該皮膜27之塗膜厚為250μm,皮膜27之楊氏模數為5GPa。此外,測定皮膜27表面(第2滑接面28)之最大高度Rz(JIS B0601.2001/ISO 4287)時,基準長度為0.8mm時Rz為4.86μm,基準長度為2.5mm時Rz為9.7μm,基準長度為8mm時Rz為30.8μm。
如表1所示,在各實施例1~4中之負載試驗上的參數如下。
在實施例1中,潤滑劑使用稠度(依照JIS K2220/ISO 2137、ISO 2176及ISO11009)為約260之矽油脂,滑動構件21與相對構件22之面壓為10MPa。
在實施例2中,潤滑劑使用稠度(依照JIS K2220/ISO 2137、ISO 2176及ISO11009)為約260之矽油脂,滑動構件21與相對構件22之面壓為20MPa。
在實施例3中,潤滑劑使用稠度(依照JIS K2220/ISO 2137、ISO 2176及ISO11009)為約260之矽油脂,滑動構件21與相對構件22之面壓為40MPa。
在實施例4中,潤滑劑使用動黏度為1000cSt(25℃)之矽油,滑動構件21與相對構件22之面壓為20MPa。
稠度是指在25℃使安裝於稠度計之圓錐落下至盛滿至凸緣之試料(潤滑劑)中,5秒鐘後之進入深度,且以mm為單位。
動黏度是指液體在重力作用下流動時之阻力大小。在本發明中,動黏度是指以密度(g/cm3
)除25℃之液體黏度的
值,其單位為cSt(或mm2
/s)。
另一方面,在比較例1中,相對構件之表面進行SUS拋光加工,其表面之最大高度Rz為1.1μm。此外,在比較例1中,潤滑劑使用稠度(依照JIS K2220/ISO 2137、ISO 2176及ISO11009)為約260之矽油脂,滑動構件21與相對構件22之面壓為20MPa。
又,在比較例2中,相對構件之表面進形成膜厚30μm之四氟乙烯焙燒皮膜,其表面之最大高度Rz為24μm。此外,在比較例2中,潤滑劑使用稠度(依照JIS K2220/ISO 2137、ISO 2176及ISO11009)為約260之矽油脂,滑動構件21與相對構件22之面壓為20MPa。
就以上各試驗體,在試驗速度10mm/s、振幅±100mm之條件下實施等速交替反覆負載試驗。
等速交替反覆負載試驗是指滑動構件21與相對構件22間之面壓在施加負載成為顯示於表1之各面壓值後,進行如速度10mm/s,振幅±100mm,時間-位移關係為預定循環數之山型波之交替負載的試驗。
在以上各條件下實施負載試驗之結果,在實施例1~4中,滑動構件21與相對構件22之摩擦係數為0.007~0.011,在比較例1中為0.009,在比較例2中為0.013。即,確認本發明實施例1~4之任一者中得到與先前技術之比較例1、2相同程度之低摩擦係數。
又,實施例2之水平位移量與摩擦係數之關係顯示於第2A圖及第2B圖中。在顯示於第2A圖之第1次循環之遲滯環
及顯示於第2B圖之第250次循環之遲滯環中,在水平位移量與摩擦係數之關係方面看不出差異。即,已確認的是到交替反覆次數250次循環為止,未發生潤滑劑流出,維持穩定之低摩擦狀態。
實施例2之相對構件22之皮膜27表面中之凹凸(粗面或粗糙部份)的狀態顯示於表2中。在皮膜27表面中,於其任意位置處凹凸形狀均類似。即,遍及面全體均設有凹凸(粗糙部份),求出顯示於表2之一定基準長度(lr)中之算術平均高度(Rz)。特別地,如表2所示,具有最大高度(Rz)為3μm以上之凹凸的表面中,可遍及面全體設置可充分保持潤滑劑之凹凸(粗糙部份)。
在此,算術平均高度(Ra)表示基準長度(lr)中之輪廓曲線之高度(縱座標值(Zx))之絕對值的平均。
在第2實驗例中,與第1實驗例同樣地,使用楊氏模數為600MPa之含填充材之四氟乙烯製之直徑尺寸φ為100mm,厚度尺寸為4mm之圓盤狀的滑動構件本體24,作為滑動構件21之滑動構件本體24。又,與第1實驗例同樣地,使用於鋼板表面形成有噴霧塗裝環氧系塗料之皮膜27
者作為相對構件22,該皮膜27之塗膜厚為250μm,皮膜27之楊氏模數為5GPa。此外,測定皮膜27表面(第2滑接面28)之最大高度Rz(JIS B0601.2001/ISO 4287)時,如表3所示,基準長度為0.8mm時Rz為10.2μm,基準長度為2.5mm時Rz為18.5μm,基準長度為8mm時Rz為39.2μm。又,潤滑劑使用稠度(依照JIS K2220/ISO 2137、ISO 2176及ISO11009)為約260之矽油脂。另外,在各實施例5~7中之滑動構件21與相對構件22之面壓分別為5MPa、20MPa、40MPa3種。而且,負載試驗以正弦波交替反覆負載進行,且以其試驗最大速度mm/s,振幅±200mm之條件實施。
正弦波交替反覆負載之負載試驗係在滑動構件21與相對構件22間之面壓在施加負載成為顯示於表2之各面壓值後,進行如最大速度400mm/s,時間-位移關係為預定循環數之正弦波之交替負載的試驗。
在以上各條件下實施負載試驗之結果,在實施例5~7中,滑動構件21與相對構件22之摩擦係數為0.005~0.015,
且確認與第1實驗例中之各實施例同樣地得到低摩擦係數。
又,面壓為20MPa時(實施例6)之水平位移量與摩擦係數之關係顯示於第3A圖及第3B圖中。在顯示於第3A圖之第1次循環之遲滯環及顯示於第3B圖之第50次循環之遲滯環中,在水平位移量與摩擦係數之關係方面看不出差異。即,已確認的是即使試驗速度時,到交替反覆次數50次循環為止,未發生潤滑劑流出,維持穩定之低摩擦狀態。
實施例6之相對構件22之皮膜27表面中之凹凸(粗面或粗糙部份)的狀態顯示於表4中。在皮膜27表面中,於其任意位置處凹凸形狀均類似。即,遍及面全體而設有凹凸(粗糙部份),求出顯示於表4之一定基準長度(lr)中之算術平均高度(Rz)。特別地,如表4所示,具有最大高度(Rz)為3μm以上之凹凸的表面中,可遍及面全體設置可充分保持潤滑劑之凹凸(粗糙部份)。
如上所述,在本發明中,藉合成樹脂製之滑動構件本體24構成滑動構件21之第1滑接面25,於相對構件22之第2滑接面28形成楊氏模數比第1滑接面25大2倍以上之合成樹脂製之皮膜27。同時,在本發明中,於該皮膜27表面形成Rz為3μm以上之細微凹凸。依據本發明以上之構造,潤滑
劑可被保持於該凹凸之凹部,防止潤滑劑之流出,可維持動摩擦係數μ為大約0.03以下之穩定低摩擦狀態。
又,本發明不限於前述實施型態,包含可達成本發明目的之其他構造等,且如下所示之變形亦包含於本發明中。
例如,滑動構件本體24可採用大略方形等圓盤狀以外之形狀。滑動構件本體24可藉直接黏結固定於沒有凹部之平板狀固持部23,或者,滑動構件本體24於具有於下方開口之凹部的固持部23,除了黏結以外之方法,例如,可藉嵌入等機械接合或藉黏著固定等。
又,例如,在前述實施型態中,相對構件本體26為鋼製,但是亦可為鋼材以外之金屬或樹脂類。
此外,例如,第1圖所示之前述實施型態,及第6圖之免震裝置1中,相對構件本體26埋入基礎F之表面中,但是亦可將鋼材等之平板狀的承接構件設置於基礎F上或表面中,並使用螺栓、熔接等方法固定於該承接構件上面。或者,亦可如第7圖之免震裝置1中所示,將相對構件本體26直接設置於基礎F之上面,藉螺栓等固定。
又,例如,在前述實施型態中,將滑動構件21設於上部構造S側之上側,將相對構件22設於基礎F側之下側,但是,不限於此,亦可將滑動構件21設於下側,將相對構件22設於上側,互相相對地配置。
此外,在前述實施型態中,說明於滑動構件21之上部排成一列地連結積層橡膠支承部3之免震裝置1,但是亦可於相對構件本體26之下部排成一列地配置積層橡膠支承部
3,作為免震構裝置。又,亦可省略積層橡膠支承部3,即,如第6及7圖所示,滑動支承部2與上部構造S直接連接,亦可排成一列地連結基礎F、滑動支承部2及基礎F。
又,前述實施型態中,說明滑動構件21之第1滑接面25及相對構件22之第2滑接面28分別以平面構成之滑動支承部2,但是面的形狀不是特定的。
例如,在本發明之免震裝置1中,如第6圖所示,亦可滑動構件21之第1滑接面25以具有凸狀曲率之曲面構成,相對構件22之第2滑接面28以具有凹狀曲率之曲面構成。又,例如,在本發明之免震裝置1中,如第7圖所示,亦可滑動構件21之第1滑接面25以具有凹狀曲率之曲面構成,相對構件22之第2滑接面28以具有凸狀曲率之曲面構成。
此外,藉本發明之支承裝置支持之對象物不限於建物等之免震構造物,亦可為土木構造物、工作物及機械基礎等,只要可期待減低支承裝置之振動輸入即可,未特別限定對象。
又,本裝置之配置方向不限於水平,只要滑動方向相對於減低振動方向大致平行即可。即,例如,可舉例如使用在機械振動中之垂直除震等。
此外,用以實施本發明之最佳構造、方法等揭示於以上之記載中,但是,本發明不限定於此。即,雖然主要有關於特定實施型態特別地圖示且說明了本發明,但是,不脫離本發明之技術的思想及目的之範圍,發明所屬技術領域中具有通常知識者可對上述實施型態,關於形狀、材質、
數量、其他詳細之構造,施加種種之變形。
因此,限定以上揭示之形狀、材質等之記載係用以輕易理解本發明之例示性記載,不是限定本發明之記載,因此以該等形狀、材質等之限定之一部分或全部之限制以外之構件名稱的記載,亦包含於本發明中。
1‧‧‧免震裝置
2‧‧‧滑動支承部
3‧‧‧積層橡膠支承部(積層橡膠裝置)
21‧‧‧第1構件(滑動構件)
22‧‧‧第2構件(相對構件)
23‧‧‧固持部
24‧‧‧滑動構件本體
25‧‧‧第1滑接面
26‧‧‧相對構件本體
27‧‧‧皮膜
28‧‧‧第2滑接面
31‧‧‧上側之凸緣
32‧‧‧下側之凸緣
33‧‧‧積層橡膠部
101‧‧‧潤滑劑
F‧‧‧基礎
S‧‧‧上部構造
第1圖是顯示本發明實施型態之免震構造物一部份的截面圖。
第2A圖、第2B圖是本發明第1實施例之支承裝置之負載試驗結果的圖。
第3A圖、第3B圖是本發明第2實施例之支承裝置之負載試驗結果的圖。
第4圖是第1圖之免震構造物之滑動構造部之放大截面圖的一例。
第5圖是第1圖之免震構造物之滑動構造部之放大截面圖的一例。
第6圖是顯示本發明免震構造物之一部份的截面圖。
第7圖是顯示本發明免震構造物之一部份的截面圖。
1‧‧‧免震裝置
2‧‧‧滑動支承部
3‧‧‧積層橡膠支承部(積層橡膠裝置)
21‧‧‧第1構件(滑動構件)
22‧‧‧第2構件(相對構件)
23‧‧‧固持部
24‧‧‧滑動構件本體
25‧‧‧第1滑接面
26‧‧‧相對構件本體
27‧‧‧皮膜
28‧‧‧第2滑接面
31‧‧‧上側之凸緣
32‧‧‧下側之凸緣
33‧‧‧積層橡膠部
F‧‧‧基礎
S‧‧‧上部構造
Claims (10)
- 一種滑動構造,具有相對設置之第1構件及第2構件,第1構件構成可沿該第2構件之表面滑動,在前述第1構件中,與前述第2構件滑接之第1滑接面由具有預定楊氏模數之合成樹脂材料構成,在前述第2構件中,與前述第1滑接面滑接之第2滑接面由相對前述第1滑接面之楊氏模數具有2倍以上之楊氏模數的彈性體構成,並且形成有最大高度(Rz)為3μm以上之凹凸,且於該第2滑接面塗布有潤滑劑。
- 如申請專利範圍第1項之滑動構造,其中前述第2滑接面之凹凸之最大高度(Rz)為70μm以下。
- 如申請專利範圍第1或2項之滑動構造,其中前述第1滑接面由具有自潤滑性之合成樹脂材料構成。
- 如申請專利範圍第1或2項之滑動構造,其中前述第2滑接面由厚度40μm以上之合成樹脂材料構成。
- 如申請專利範圍第3項之滑動構造,其中前述第2滑接面由厚度40μm以上之合成樹脂材料構成。
- 一種支承裝置,具有如申請專利範圍第1至5項中任一項之滑動構造,前述第1構件之第1滑接面及前述第2構件之第2滑接面分別以平面構成。
- 一種支承裝置,具有如申請專利範圍第1至5項中任一項之滑動構造,分別地,前述第1構件之第1滑接面以具有凸狀曲率之曲面構成,前述第2構件之第2滑接面以具有凹狀曲率之曲面構成。
- 一種支承裝置,具有如申請專利範圍第1至5項中任一項之滑動構造,分別地,前述第1構件之第1滑接面以具有凹狀曲率之曲面構成,前述第2構件之第2滑接面以具有凸狀曲率之曲面構成。
- 如申請專利範圍第6至8項中任一項之支承裝置,其中積層橡膠裝置與前述第1構件或第2構件排成一列地連結。
- 一種免震構造物,係藉如申請專利範圍第6至9項中任一項之支承裝置支持來自上部構造之負載。
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