[go: up one dir, main page]

TWI556269B - 透明導體、製備其的方法以及包括其的光學顯示器 - Google Patents

透明導體、製備其的方法以及包括其的光學顯示器 Download PDF

Info

Publication number
TWI556269B
TWI556269B TW103142077A TW103142077A TWI556269B TW I556269 B TWI556269 B TW I556269B TW 103142077 A TW103142077 A TW 103142077A TW 103142077 A TW103142077 A TW 103142077A TW I556269 B TWI556269 B TW I556269B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
transparent conductor
transparent
monomer
hollow particles
matrix composition
Prior art date
Application number
TW103142077A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201523650A (zh
Inventor
沈大燮
具永權
申東明
李道想
黃伍顯
姜炅求
Original Assignee
三星Ｓｄｉ股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 三星Ｓｄｉ股份有限公司 filed Critical 三星Ｓｄｉ股份有限公司
Publication of TW201523650A publication Critical patent/TW201523650A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI556269B publication Critical patent/TWI556269B/zh

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/0274—Optical details, e.g. printed circuits comprising integral optical means
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H05K1/097—Inks comprising nanoparticles and specially adapted for being sintered at low temperature
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/01—Dielectrics
    • H05K2201/0104—Properties and characteristics in general
    • H05K2201/0108—Transparent
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203—Fillers and particles
    • H05K2201/0242—Shape of an individual particle
    • H05K2201/0254—Microballoons or hollow filler particles
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203—Fillers and particles
    • H05K2201/0242—Shape of an individual particle
    • H05K2201/026—Nanotubes or nanowires

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

透明導體、製備其的方法以及包括其的光學顯示器 【相關申請案的交叉引用】
在2013年12月04日於韓國智慧財產局申請的韓國專利申請案第10-2013-0150230號以全文引用的方式併入本文中。
本發明涉及一種透明導體、用於製備所述透明導體的方法及包含所述透明導體的光學顯示器。
透明導體用於各種領域，例如包含在顯示器、可撓式顯示器等等中的觸控屏面板。透明導體應展現較佳特性，例如透明度、薄層電阻等等，並且還需要彎曲特性，因為其應用範圍近年來已延伸到可撓式顯示器。儘管包含含有銀奈米線的透明導電層的透明導體展現極好的彎曲特性，但所述透明導電層進一步包含用於改良耐久性和到基層的黏著力的基質。然而，由於基質增加 透明導電層的透射b*值(在色差係數中)，因此透明導體可能遭受色彩失真和例如透光度、霧度等等的光學特性的退化。此外，由於銀奈米線，含有銀奈米線的透明導電層可能看上去呈黃色。在這點上，韓國專利公開案第2012-0053724A號公開一種透明導電薄膜和用於製備所述透明導電薄膜的方法。
本發明提供了透明導體、製備其的方法以及包括其的光學顯示器。所述透明導體可展現良好的光學特性。
本發明提供了透明導體、製備其的方法以及包括其的光學顯示器。所述透明導體可防止色彩失真。
本發明的一個實施例涉及一種透明導體，其包含：基層以及形成於所述基層上並且包含金屬奈米線和基質的導電層，其中所述基質由包含無機中空粒子、氟單體或其混合物的基質組成物形成。
在本發明的一個實施例中，所述透明導體具有1.0或小於1.0的透射b*值。
在本發明的一個實施例中，所述無機中空粒子具有1.4或小於1.4的折射率。
在本發明的一個實施例中，就固體含量而言，所述無機中空粒子以10wt%到70wt%的量存在於所述基質組成物中。
在本發明的一個實施例中，所述無機中空粒子由矽、鋁、 鎂、鋰、鋯以及鋅中的至少一者的氧化物、碳化物或氮化物形成。
在本發明的一個實施例中，所述基質組成物包括6wt%或小於6wt%的氟。
在本發明的一個實施例中，就固體含量而言，所述基質組成物包括40wt%到80wt%的所述無機中空粒子、所述氟單體或其混合物；15wt%到55wt%的黏合劑；以及0.1wt%到5wt%的引發劑。
在本發明的一個實施例中，所述金屬奈米線包括銀奈米線。
在本發明的一個實施例中，所述透明導體進一步包括防蝕層、防眩光塗層、黏著促進層以及寡聚物洗提防止層中的至少一者，形成於所述基層的上表面或下表面上。
在本發明的一個實施例中，所述基質組成物進一步包括多官能單體，所述多官能單體包括五官能單體或六官能單體、以及三官能單體。
在本發明的一個實施例中，所述三官能單體包括基於(甲基)丙烯酸酯的單體。
在本發明的一個實施例中，所述三官能單體包括烷氧基化的基於(甲基)丙烯酸酯的單體。
在本發明的一個實施例中，所述基質進一步包括黏著力促進劑、UV吸收劑、增稠劑以及分散劑中的至少一者。
本發明的另一實施例涉及一種用於製備透明導體的方 法，其包含：在基層上形成金屬奈米線網路層；以及使用包含無機中空粒子、氟單體或其混合物的基質組成物在金屬奈米線網路層上形成導電層。
在本發明的一個實施例中，所述基質組成物進一步包括多官能單體，所述多官能單體包括五官能單體或六官能單體、以及三官能單體。
本發明的另一實施例涉及一種光學顯示器，其包含：顯示面板；形成於所述顯示面板上的透明導體；以及形成於所述透明導體上的窗，其中所述透明導體是根據如上文所述的本發明實施例的透明導體。
在本發明的一個實施例中，所述顯示面板包括LCD、OLED或LED。
本發明提供了透明導體、製備其的方法以及包括其的光學顯示器。所述透明導體可藉由確保低霧度和高透光度展現良好的光學特性。
本發明提供了透明導體、製備其的方法以及包括其的光學顯示器。所述透明導體可藉由確保低透射b*值防止色彩失真。
100、150‧‧‧透明導體
110、110a、110b‧‧‧基層
120、120a、120b、120'‧‧‧導電層
121‧‧‧金屬奈米線
122‧‧‧基質
200、300、400、500、600、700、800‧‧‧光學顯示器
205‧‧‧窗玻璃
210、212、214‧‧‧黏著薄膜
230、330、430a、430b、530、630‧‧‧透明電極結構
235、235'、250‧‧‧偏光板
240‧‧‧基底
245‧‧‧顯示面板
255、260、265、270‧‧‧電極
圖1說明根據本發明的一個實施例的透明導體的截面圖。
圖2說明根據本發明的另一個實施例的透明導體的截面圖。
圖3說明根據本發明的一個實施例的光學顯示器的截面圖。
圖4說明根據本發明的另一個實施例的光學顯示器的截面圖。
圖5說明根據本發明的另一實施例的光學顯示器的截面圖。
圖6說明根據本發明的又一實施例的光學顯示器的截面圖。
圖7說明根據本發明的又一實施例的光學顯示器的截面圖。
圖8說明根據本發明的又一實施例的光學顯示器的截面圖。
圖9說明根據本發明的又一實施例的光學顯示器的截面圖。
現將參考附圖詳細描述本發明的實施例。應理解，本發明不限於以下實施例並且可以以不同的方式實施。在圖式中，為清楚起見將省去與本說明書無關的部分。在本說明書通篇中，相似元件將由相似參考數位表示。如本文所用，例如“上側面(表面)”和“下側面(表面)”的定向術語參考附圖經定義。因此，應理解，“上側面(表面)”可以與“下側面(表面)”互換使用。術語“(甲基)丙烯酸酯”可以指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。
本發明的實施例提供一種透明導體，其可以包含：基層；以及形成於所述基層的上表面上並且包含金屬奈米線和基質的透明導電層，其中所述基質可以由包含無機中空粒子、氟單體或其混合物的組成物形成。透明導體可以增加總透光度，同時藉由允許反射自基質的光被反射自透明導電層的光偏移來減小霧度，由 此增強光學特性。
基質可以由包含無機中空粒子、氟單體或其混合物的基質組成物形成。無機中空粒子、氟單體或其混合物具有低折射率並且因此可以減小基質的折射率。因此，可以校正透明導電層的色差，由此防止由透明導體的透射b*值降低所造成的色彩失真。在此情況下，在藉由圖案化透明導體形成透明電極薄膜之後，在經圖案化部分與非圖案化部分之間存在改良的圖案可見度的效果。此外，無機中空粒子增加透明導電層的表面硬度，由此改良透明導體的處理特性。
透明導體可以藉由減小透射b*值防止色彩失真。舉例來說，透明導體可以具有1.0或小於1.0，確切地說0.85或小於0.85，更確切地說0.1到0.85，更確切地說0.4到0.85的透射b*值。在此透射b*值範圍內，透明導體可以防止色彩失真。
如本文所用，“透射b*值”可以藉由使用CM 3600D分光光度計(柯尼卡美能達有限公司(Konica Minolta Co.,Ltd.))在400奈米到700奈米的可見光波長下於透明導體上測量，所述透明導體包含聚碳酸酯基底薄膜和堆疊在所述基底薄膜上並且包含金屬奈米線和基質的導電層。在這裏，應理解，藉由改變基底薄膜的材料和厚度、導電層的厚度和測量波長而測量的透射b*值也屬於本發明的範圍內。
接下來，將參考圖1描述根據本發明的一個實施例的透明導體100。圖1說明根據本發明的一個實施例的透明導體的截面 圖。參考圖1，根據這一實施例的透明導體100包含基層110；和形成於基層110的一個表面上並且包含金屬奈米線121和基質122的透明導電層120。基質包含無機中空粒子、氟單體、或其混合物以減小其折射率同時校正透明導電層的色差。因此，可以藉由減小透明導體的透射b*值來防止透明導體的色彩失真。因此，透明導體具有包含透光度、霧度等等的改良光學特性。
基層110是透明薄膜並且可以在550奈米的波長下具有85%到100%，確切地說88%到99%的透光度。另外，基層可以具有1.5到1.65的折射率。在此範圍內，透明導體可以展現改良的光學特性。
基層110可以是可撓式絕緣薄膜。舉例來說，基層110可以包含但不限於至少一種選自由以下各者組成的群組的材料：包含聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯等等的聚酯樹脂；聚碳酸酯；環烯烴聚合物；聚烯烴樹脂；聚碸樹脂、聚醯亞胺樹脂、矽酮樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂，以及其混合物。另外，基層110可以由單個層或至少兩個藉由黏合劑彼此結合的樹脂薄膜所組成的堆疊結構構成。
基層110可以具有10微米到200微米、確切地說30微米到150微米，或40微米到125微米、更確切地說50微米到125微米的厚度。在此範圍內，基層可以有利地用於顯示器，例如可撓式顯示器。
透明導電層120可以形成於基層110的上表面上。
透明導電層120包含金屬奈米線121和基質122。透明導電層120包含由金屬奈米線121構成的導電網路，由此確保導電性、良好的可撓曲性和彎曲性。所述透明導電層可以藉由例如蝕刻等等的圖案化方法形成電極，並且可以用於可撓式裝置以便確保可撓曲性。在一些實施例中，電極可以在第一方向和第二方向中以多條線形成。
由於奈米線的形狀，金屬奈米線121與金屬奈米粒子相比展現更好的分散性。另外，由於粒子形狀與奈米線形狀之間的不同，金屬奈米線121可以大大減小透明導電薄膜的薄層電阻。金屬奈米線121具有具特定橫截面的超細線形狀。在一些實施例中，金屬奈米線121的長度(L)與橫截面直徑(d)的比率(L/d，縱橫比)可以在10到2,000的範圍內。舉例來說，金屬奈米線可以具有500到1,000的縱橫比，例如500到700。在此範圍內，透明導體即使在低密度奈米線下仍可以實現高導電網路，並且展現減少的薄層電阻。金屬奈米線可以具有100奈米或小於100奈米的橫截面直徑(d)。舉例來說，金屬奈米線可以具有30奈米到100奈米或60奈米到100奈米的橫截面直徑(d)。在此範圍內，可以藉由確保高L/d來實現展現高導電性和低薄層電阻的透明導體100。金屬奈米線可以具有20微米或以上的長度(L)。舉例來說，金屬奈米線可以具有20微米到50微米的長度(L)。在此範圍內，可以藉由確保高L/d來實現展現高導電性和低薄層電阻的導電薄膜。金屬奈米線121可以包含由任何金屬形成的奈米線。舉例來 說，金屬奈米線可以包含銀奈米線、銅奈米線、金奈米線以及其混合物。在一個實施例中，金屬奈米線可以是銀奈米線或包含銀奈米線的混合物。
金屬奈米線121可以藉由典型方法製備或可購得。舉例來說，金屬奈米線可以藉由在多元醇和聚(乙烯基吡咯烷酮)存在的情況下還原金屬鹽(例如，硝酸銀AgNO3)來製備。或者，可以使用由例如坎布利歐有限公司(Cambrios Co.,Ltd.)製造的可購得的產品(例如，含金屬奈米線溶液ClearOhm墨)。
金屬奈米線121可以以40wt%或以上，例如40wt%到80wt%或50wt%到80wt%的量存在於透明導電層120中。在此範圍內，金屬奈米線可以形成導電網路以確保充足的導電性並且可以展現到基層的黏著力。
金屬奈米線121浸漬入基質122中。也就是說，金屬奈米線可以分散或嵌入在基質122中。基質122可以防止可能自透明導電層120的上側面曝露的金屬奈米線121的氧化和磨損。所述基質122在透明導電層120與基層110之間賦予黏著力，並且改良透明導體的光學特性、耐化學性和耐溶劑性。另外，一些金屬奈米線121可以自基質122的表面曝露並且伸出。
基質122可以由包含無機中空粒子、氟單體或其混合物的基質組成物形成。基質組成物可以以分散在液體中的狀態使用以便確保易於塗佈到基層110上以及到基層110上的黏著力。
基於基質組成物的固體含量，無機中空粒子、含氟單體 或其混合物的總量可以是約100wt%或小於100wt%、例如約10wt%到約90wt%、約40wt%到約80wt%、或約50wt%到約80wt%。
無機中空粒子、氟單體或其混合物具有低折射率並且因此可以減小基質122的折射率。因此，可以藉由校正透明導電層的色差減少透明導體的透射b*值，由此防止透明導體的色彩失真。
無機中空粒子具有中空結構並且因此具有低折射率。確切地說，無機中空粒子具有1.4或小於1.4，確切地說1.33到1.38的折射率。在此範圍內，透明導體可以展現低透射b*和高透光度。無機中空粒子可以具有30奈米到100奈米，確切地說40奈米到70奈米的平均粒度。在此範圍內，無機中空粒子可以包含在基質中並且可以有利地經施加到透明導電層。此外，與由有機材料形成的有機粒子相比，無機中空粒子可以藉由進一步減小透射b*值來進一步改良透明導電層的耐久性和光學特性。
無機中空粒子可以由例如矽、鋁、鎂、鋰、鋯、鋅等等的氧化物、碳化物或氮化物或其混合物形成。確切地說，無機中空粒子可以包含但不限於二氧化矽、多鋁紅柱石、氧化鋁、碳化矽(SiC)、MgO-Al2O3-SiO2、Al2O3-SiO2、MgO-Al2O3-SiO2-Li2O，以及其混合物。用這一組成物，無機中空粒子可以進一步改良透明導電層的耐久性同時維持透明導電層的低折射率。
在基質組成物中，就固體含量而言，無機中空粒子可以以例如10wt%到80wt%、40wt%到80wt%、40wt%到70wt%，確切地說50wt%到70wt%的量存在。在此範圍內，無機中空粒子 可以減小透明導體的透射b*值同時改良其透光度。另外，在此範圍內，由於在基質組成物中黏合劑的含量並非過低，因此形成基質是有利的。
無機中空粒子可以包含未經表面處理的無機中空粒子或經表面處理的無機中空粒子，所述經表面處理的無機中空粒子經過使用例如(甲基)丙烯酸酯基團的可固化官能團的表面處理。例如，經表面處理的無機中空粒子可以藉由與基質組成物的黏合劑的固化反應改良基質和透明導電層的耐久性，並且可以更牢固地結合到基層。確切地說，經表面處理的無機中空粒子可以藉由使用(甲基)丙烯酸酯化合物來表面處理無機中空粒子的全部外表面的10%到80%，確切地說20%到70%、例如40%到60%來獲得。在此範圍內，經表面處理的無機中空粒子可以展現與黏合劑的極好的反應性以改良透明導電層的耐久性，並且可以更牢固地結合到基層。經過使用(甲基)丙烯酸酯化合物的表面處理的無機中空粒子可以藉由典型方法製備或可以在商業上獲得。經表面處理的無機中空粒子可以藉由例如用含矽烷基團化合物塗佈中空二氧化矽粒子的表面，接著與(甲基)丙烯酸酯化合物的加成反應來獲得。經表面處理的無機中空粒子也可以具有1.4或小於1.4的折射率，例如1.33到1.38。在此範圍內，有可能減小透明導體的透射b*值同時改良透明導體的透光度。對於未經表面處理的無機中空粒子的描述也可以應用於經表面處理的無機中空粒子。在一個實施例中，無機中空粒子可以包含未經表面處理的無機中空粒子與經表 面處理的無機中空粒子的混合物。
氟單體具有低折射率並且因此可以減小基質的折射率。另外，氟單體與包含在基質中的黏合劑一起使固化反應成為必要，由此進一步減小基質的折射率。確切地說，氟單體可以是具有1.4或小於1.4，例如1.33到1.38的折射率的低折射率單體。在此範圍內，氟單體可以減小基質的折射率，由此減小透明導體的透射b*值同時改良其透光度。基於基質組成物的固體含量，氟單體可以具有例如6wt%或小於6wt%、5wt%或小於5wt%，確切地說2wt%到5wt%的量的氟。並且就固體含量而言，氟單體可以以例如5wt%到90wt%、10到70wt%或40wt%到70wt%的量存在於基質組成物中。在這一含量範圍內，有可能控制折射率並且減小透明導體的透射b*值同時改良其透光度。
確切地說，氟單體可以包含：具有季戊四醇結構的氟單體、具有二季戊四醇結構的氟單體、具有三羥甲基丙烷結構的氟單體、具有二(三羥甲基丙烷)結構的氟單體、具有環己基結構的氟單體、具有線性結構的氟單體，或其混合物。這些氟單體可以單獨或以兩者或兩者以上的組合使用。
更確切地說，氟單體可以由以下式1到式19中的一個表示。
<式1>
<式6>
<式11>
<式15>
<式19>(A)n-(B)m， 在式19中，A是含氟C1到C20烴基；B是丙烯酸酯基團、甲基丙烯酸酯基團、含氟丙烯酸酯基團或含氟甲基丙烯酸酯基團；n是從1到6的整數；並且m是從1到16的整數。
在一個實施例中，基質組成物可以包含無機中空粒子與氟單體的混合物。在此情況下，無機中空粒子與氟單體的混合物促進透明導體的透光度增加，且因此透明導體可以具有進一步改良的透光度。為此目的，無機中空粒子：氟單體的重量比可以是1：0.1到1：9，確切地說1：0.1到1：4，或1：0.1到1：0.3。在此範圍內，混合物可以降低透明導體的透射b*值同時進一步減小薄層電阻。
基質組成物可以包含黏合劑和引發劑以促進基質的形成。
黏合劑可以包含單官能或多官能單體中的至少一者。多官能單體可以包含例如雙官能到六官能單體。舉例來說，單官能或多官能單體可以是基於(甲基)丙烯酸酯的單體。基於(甲基)丙烯酸酯的單官能或多官能單體可以包含含有氟的氟單體或不含氟的非氟單體。另外，基於(甲基)丙烯酸酯的單官能或多官能單體可以是不含胺基甲酸酯基團的非胺基甲酸酯單體，並且可以包含直鏈或分支鏈的C1到C20含烷基(甲基)丙烯酸酯、具有羥基的C1到C20(甲基)丙烯酸酯、含脂環基的C3到C20(甲基)丙烯酸酯、C3到C20多元醇的多官能(甲基)丙烯酸酯，以及其混合物。確切地說，黏合劑可以包含五官能或六官能單體、以及三官能單體。五官能或六官能單體可以包含五官能或六官能(甲基)丙烯酸酯單體，確切地說C3到C20多元醇的五官能或六官能單體。特別地，黏合劑包含非胺基甲酸酯五官能單體或非胺基甲酸酯六官能單體，因此，固化 產物可以密集地堆疊在金屬奈米線121的網狀結構中並且基質到基層110的黏著力可以得到改良。五官能或六官能單體可以包含但不限於選自二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯和己內酯改質二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯中的至少一者。
三官能單體可以是三官能(甲基)丙烯酸酯單體，並且可以包含不含胺基甲酸酯基團的非胺基甲酸酯三官能單體，因此，固化產物可以密集地堆疊在金屬奈米線121的網狀結構中並且基質到基層110的黏著力可以得到改良。三官能單體可以包含C3到C20多元醇的三官能單體和C3到C20多元醇的烷氧基化三官能單體中的至少一者。更確切地說，C3到C20多元醇的三官能單體可以包含但不限於選自三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯和二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯中的至少一者。與不含烷氧基的C3到C20多元醇的三官能單體相比，C3到C20多元醇的烷氧基化三官能單體可以進一步改良透明導體的透光度和可靠性，同時減小透明導體的透射b*值，由此防止導電層由於色彩失真而看上去呈黃色。確切地說，具有烷氧基(例如，C1到C5烷氧基)的三官能單體可以包含但不限於乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯和丙氧基化甘油基三(甲基)丙烯酸酯中的至少一者。
在基質組成物中，五官能或六官能單體、以及三官能單體可以以1：1到5：1，確切地說2：1到5：1、2：1到3.5：1的重量比 存在。在此範圍內，透明導體100可以具有改良的透光度和可靠性。當三官能單體的量高於五官能或六官能單體時，基質展現到基層110的較低黏著力並且具有較低可靠性。
引發劑可以是典型的光聚合引發劑，並且可以包含α-羥基酮引發劑，例如1-羥基環己基苯基酮或其混合物。
在一個實施例中，就固體含量而言，基質組成物可以包含40wt%到80wt%，例如40wt%到70wt%的無機中空粒子、氟單體或其混合物，15wt%到55wt%，例如25wt%到55wt%的黏合劑，以及0.1wt%到5wt%的引發劑。在這一含量範圍內，基質組成物允許容易地形成基質並且可以藉由減小透明導體的透射b*值改良透明導體的透光度。
在另一實施例中，就固體含量而言，基質組成物可以包含40wt%到80wt%的無機中空粒子、氟單體或其混合物，15wt%到55wt%的黏合劑，以及0.1wt%到5wt%的引發劑。在這一含量範圍內，基質組成物允許容易地形成基質並且可以藉由減小透明導體的透射b*值改良透明導體的透光度。
在另一實施例中，就固體含量而言，基質組成物可以包含50wt%到70wt%的無機中空粒子，5wt%到40wt%的氟單體，5wt%到40wt%的黏合劑，以及0.1wt%到5wt%的引發劑。在這一含量範圍內，基質組成物可以藉由基質折射率的減小降低透明導體的透射b*值，由此改良透明導體的透光度。
基質組成物可以包含溶劑。溶劑可以非限制性地是任何 典型的溶劑，只要所述溶劑既不溶解中空粒子也不使氟單體的特徵退化。確切地說，溶劑可以包含丙二醇單甲基醚等等。在此情況下，溶劑可以以不包含固體內含物的剩餘重量存在於具有前述組分的基質組成物中。
基質組成物可以進一步包含抗氧化劑。抗氧化劑可以防止透明導電層120的金屬奈米線網路的氧化。抗氧化劑可以是一或多種抗氧化劑的混合物，例如，選自基於三唑的抗氧化劑、基於三嗪的抗氧化劑、基於磷的抗氧化劑(例如基於亞磷酸鹽的抗氧化劑等等)、HALS(受阻胺光穩定劑)抗氧化劑以及基於酚的抗氧化劑中的兩種或兩種以上抗氧化劑的混合物，以防止金屬奈米線121的氧化同時改良可靠性。在基質組成物中，抗氧化劑可以以0.01wt%到5wt%，確切地說0.5wt%到2wt%的量存在。在此範圍內，抗氧化劑可以防止金屬奈米線的氧化並且確保藉由圖案化透明導體100所形成的透明電極的高圖案均勻性以實現精細圖案。
由根據這一實施例的基質組成物形成的基質具有低折射率，由此減小透明導電層的折射率。在此情況下，基質可以增加透明導體的總透光度，同時藉由允許反射自基質的光被反射自透明導電層的光偏移來減小霧度。確切地說，可以將基層與基質之間的折射率差值設定在0.35到0.02的範圍內以改良透明導體的透光度。
透明導電層120可以具有10奈米到200奈米、20奈米到 200奈米、50奈米到200奈米、確切地說70奈米到150奈米的厚度。在這一厚度範圍內，透明導電層可以有利地應用於用於可撓式顯示器的透明導體。
接下來，將描述根據本發明的另一實施例的透明導體。根據本發明的這一實施例的透明導體具有與根據本發明上述實施例的透明導體的特徵實質上相同的特徵。然而，根據這一實施例的透明導體可以進一步包含添加劑，例如黏著力促進劑、UV吸收劑、增稠劑、分散劑等等，以便改良基質組成物的效能。在此實施例中，就固體含量而言，添加劑可以以0.01wt%到5wt%，確切地說1wt%到5wt%的量存在於基質組成物中。在此範圍內，添加劑可以改良基質組成物的效能而不使基質的特性退化。
接下來，將描述根據本發明的另一實施例的透明導體。根據這一實施例的透明導體可以進一步包含堆疊在基層的一個或兩個表面上的功能層。功能層可以包含但不限於防蝕層、防眩光塗層、黏著促進層和寡聚物洗提防止層。
接下來，將參考圖2描述根據這一實施例的透明導體。參考圖2，根據這一實施例的透明導體150包含基層110，以及形成於基層110的上表面上並且經圖案化以形成含金屬奈米線的導電層120a的導電層120'，其包含金屬奈米線121和基質122，以及不含金屬奈米線的導電層120b，其不包含金屬奈米線。根據這一實施例的透明導體與根據本發明上述實施例的透明導體100實質上相同，除了導電層120'經圖案化。
可以藉由預定方法圖案化導電層120'，例如用酸溶液蝕刻。在這裏，導電層120'可以經圖案化以形成x和y通道以用作導體。舉例來說，如圖2中所示，導電層120'可以經圖案化以形成包含含金屬奈米線的導電層120a和不含金屬奈米線的導電層120b的模式。在這裏，不含金屬奈米線的導電層120b可以由不含金屬奈米線121的基質122構成。
根據上述實施例的透明導體可以具有90%或以上，確切地說90%到99%的透光度，以及10%或小於10%，確切地說1%到10%的可靠性。在此範圍內，透明導體100具有高透光度和低電阻變化，並且可以藉由透明導體的圖案化用作透明電極薄膜。如本文所用，術語“可靠性”是指如在透明導體上所測量的電阻變化率，所述透明導體在85℃和85%相對濕度(RH)的條件下靜置240小時之後附著上50~125微米厚的透明黏合劑薄膜(光學透明黏合劑8215，3M有限公司)和38~125微米厚的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜。當透明導體具有10%或小於10%，確切地說1%到10%的電阻變化率時，判定透明導體具有可靠性。
根據上述實施例的透明導體可以在可見光範圍內展現透明度，例如在400奈米到700奈米的波長下。舉例來說，透明導體可以具有0%到1.5%，確切地說0.01%到1.5%或0.01%到1.3%的霧度值，如在400奈米到700奈米的波長下使用霧度計所測量。在此範圍內，所述透明導體由於其良好透明度而可用於透明導體的目的。
根據上述實施例的透明導體可以具有100Ω/□或小於100Ω/□，確切地說50Ω/□到100Ω/□或30Ω/□到100Ω/□的薄層電阻，如使用4探針測試儀所測量。在此範圍內，透明導體由於低薄層電阻而可以用作用於觸控面板的電極薄膜並且可以施用於大面積觸控面板。
根據上述實施例的透明導體可以具有10微米到250微米，確切地說50微米到200微米或50微米到150微米的厚度，但不限於其中。在此範圍內，透明導體可以用作透明電極薄膜，包含用於觸控面板的薄膜，並且可以用作用於可撓式觸控面板的透明電極薄膜。透明導體可以藉由蝕刻等等進行圖案化來以薄膜形式用作用於觸控面板、電子紙或太陽能電池的透明電極薄膜。
接下來，將描述製造根據本發明的一個實施例的透明導體的方法。
製造根據本發明的一個實施例的透明導體的方法可以包含：在基層的一個表面上形成金屬奈米線網路層；以及過量塗佈包含無機中空粒子、氟單體或其混合物的基質組成物到金屬奈米線網路層上。在此情況下，有可能獲得就導電性、光學特性、耐化學性和可靠性而言展現極好特性的透明導體。
首先，使用金屬奈米線組成物在基層上形成金屬奈米線網路層。如本文所用，分散有金屬奈米線的液體組成物稱為“金屬奈米線組成物”。金屬奈米線組成物是分散有金屬奈米線的液體組成物，並且可以包含用於分散金屬奈米線的黏合劑。在此情 況下，金屬奈米線組成物允許容易的沈積並且可以改良到基層的黏著力。對於金屬奈米線組成物而言，黏合劑可以包含但不限於：例如，羧甲基纖維素(carboxy methylcellulose，CMC)、2-羥乙基纖維素(2-hydroxy ethyl cellulose，HEC)、羥基丙基甲基纖維素(hydroxy propyl methylcellulose，HPMC)、甲基纖維素(MC)、聚乙烯醇(PVA)、三聚丙烯乙二醇(TPG)、聚乙烯吡咯啶酮、黃原膠(xanthan gum，XG)、烷氧基化物(例如乙氧基化物、環氧乙烷、環氧丙烷)以及其共聚物。可使用例如(但不限於)棒塗、旋塗、浸塗、滾塗、澆塗、模塗等等的塗佈方法將金屬奈米線組成物塗佈到基層上。金屬奈米線網路層可以藉由將金屬奈米線組成物塗佈到基層上繼而乾燥以形成在基層上。乾燥可以例如在80℃到140℃下進行1分鐘到30分鐘。
隨後，使用基質組成物將透明導電層形成於金屬奈米線網路層上。基質組成物可以包含黏合劑和引發劑。在一些實施例中，基質組成物可以進一步包含溶劑。基質組成物的細節與根據如上文所描述的本發明實施例的透明導體的細節相同。
可以使用例如(但不限於)棒塗、旋塗、浸塗、滾塗、澆塗、模塗等等的塗佈方法將基質組成物塗佈到金屬奈米線網路層上。
塗佈到金屬奈米線網路層上的基質組成物滲透金屬奈米線網路層。因此，金屬奈米線浸漬在基質組成物中，由此形成包含金屬奈米線和基質的導電層。金屬奈米線可以完全浸漬在基質 中，或可以部分曝露於導電層的表面。
所述方法可進一步包含在塗佈基質組成物之後乾燥所述基質組成物。舉例來說，基質組成物可以在80℃到120℃下乾燥1分鐘到30分鐘。
在乾燥基質組成物之後，所述方法可進一步包含藉由進行光固化和熱固化中的至少一者來固化。可以藉由在300毫焦/平方釐米到1000毫焦/平方釐米的強度下照射具有400奈米或小於400奈米波長的光來進行光固化，並且熱固化可以包含在50℃到200℃下固化1小時到120小時。
所述方法可進一步包含藉由蝕刻等等來圖案化經固化的透明導電層。
接下來，將描述根據本發明實施例的裝置。根據本發明實施例的裝置包含根據如上文所描述的本發明實施例的透明導體。確切地說，根據本發明實施例的裝置可以包含但不限於光學顯示器，例如觸控面板、觸控屏面板、可撓式顯示器等等；電子紙；或太陽能電池。應注意，在涉及圖3到圖7的描述中，術語“玻璃”不僅可以意謂由玻璃材料形成的玻璃片，也可以意謂由透明塑膠薄膜形成的玻璃片。
接下來，將參考圖3描述根據本發明的一個實施例的光學顯示器。圖3說明根據本發明的一個實施例的光學顯示器的截面圖。
參考圖3，根據本發明的一個實施例的光學顯示器600 可以包含顯示面板245；形成於所述顯示面板上的透明電極結構230；以及形成於所述透明導體上的窗玻璃205。
顯示面板245可以是LCD、OLED或LED。當顯示面板245是OLED面板時，可以在OLED面板上形成包封層以遮蔽濕氣和氧氣。
在一個實施例中，黏著薄膜210、黏著薄膜212可以安置在顯示面板245與透明電極結構230之間以及在透明電極結構230與窗玻璃205之間。
透明電極結構230可以包含根據本發明實施例的透明導體。
窗玻璃205在光學顯示器中執行螢幕顯示功能，並且可以由典型的玻璃材料或透明塑膠材料製備。
黏著薄膜210、黏著薄膜212是典型的黏著薄膜，例如光學透明黏著劑(optically clear adhesive，OCA)薄膜。
接下來，將參考圖4描述根據本發明的另一實施例的光學顯示器200。圖4是根據本發明的另一實施例的光學顯示器的截面圖。根據這一實施例的光學顯示器200可以包含：透明電極結構230，其包含基層110，形成於基層110的上表面上的第一電極255和第二電極260，以及形成於基層110的下表面上的第三電極265和第四電極270；放置在第一電極255和第二電極260上方的窗玻璃205；放置在第三電極265和第四電極270下方的第一偏光板235；放置在第一偏光板235的下表面上的上基底240；放置在 上基底240的下表面上的顯示面板245；以及放置在顯示面板245的下表面上的第二偏光板250。在這裏，上基底240可以是彩色濾光片(CF)玻璃、封裝玻璃等等。顯示面板245可以是LCD、OLED或LED。在一些實施例中，顯示面板245可以包含薄膜電晶體(TFT)玻璃，並且第二偏光板250可以形成於TFT玻璃的下表面上。
透明電極結構230可以包含根據本發明實施例的透明導體。可以藉由使用預定方法(例如蝕刻等等)圖案化根據本發明實施例的透明導電層以形成第一、第二、第三和第四電極來製造透明電極結構230。第一電極255和第二電極260可以是Rx電極並且第三電極265和第四電極270可以是Tx電極，或第一電極255和第二電極260可以是Tx電極並且第三電極265和第四電極270可以是Rx電極。
窗玻璃205在光學顯示器中執行螢幕顯示功能，並且可以由典型的玻璃材料或透明塑膠材料製備。
第一偏光板235和第二偏光板250用以賦予光學顯示器偏光能力並且可以使外部光或內部光偏振。另外，第一偏光板235和第二偏光板250中的每一者可以包含偏光器或偏光器與保護膜的堆疊體，並且偏光器和保護膜可以分別包含本領域中已知的典型偏光器和保護膜。黏著薄膜210、黏著薄膜212可以分別安置在窗玻璃205與透明電極結構230之間以及在透明電極結構230與第一偏光板235之間，由此維持在透明電極結構230、窗玻璃205 與第一偏光板235之間的結合。黏著薄膜210、黏著薄膜212是典型的黏著薄膜並且可以包含例如光學透明黏著劑(OCA)薄膜。
接下來，將參考圖5描述根據本發明的另一實施例的光學顯示器300。圖5是根據本發明的另一實施例的光學顯示器的截面圖。根據這一實施例的光學顯示器300可以包含：透明電極結構230，其包含基層110，形成於基層110的上表面上的第一電極255和第二電極260，以及形成於基層110的下表面上的第三電極265和第四電極270；放置在第一電極255和第二電極260上方的第一偏光板235'；放置在第一偏光板235'上方的窗玻璃205；放置在第三電極265和第四電極270下方的上基底240；以及包含薄膜電晶體(TFT)玻璃的放置在上基底240的下表面上的顯示面板245。在這裏，上基底240可以是彩色濾光片(CF)玻璃、封裝玻璃等等。此外，在一些實施例中，顯示面板245可以是LCD、OLED或LED。
透明電極結構230可以包含根據本發明實施例的透明導體。可以藉由使用預定方法(例如蝕刻等等)圖案化透明導電層以形成第一、第二、第三和第四電極來製造透明電極結構230。第一電極255和第二電極260可以是Rx電極並且第三電極265和第四電極270可以是Tx電極，或第一電極255和第二電極260可以是Tx電極並且第三電極265和第四電極270可以是Rx電極。
窗玻璃205在光學顯示器中執行螢幕顯示功能，並且可以由典型的玻璃材料或透明塑膠材料製備。
偏光板235'用以賦予光學顯示器偏光能力並且可以使外部光或內部光偏振。另外，偏光板235'可以包含偏光器、偏光器與保護膜的堆疊體或偏光器與保護膜的一體式單層結構。偏光器和保護膜可以分別包含本領域中已知的典型偏光器和保護膜。黏著薄膜210、黏著薄膜212可以分別安置在偏光板235'與窗玻璃205之間以及在透明電極結構230與偏光板235'之間，由此維持在透明電極結構230、窗玻璃205與偏光板235'之間的結合。黏著薄膜210、黏著薄膜212是典型的黏著薄膜並且可以包含例如光學透明黏著劑(OCA)薄膜。
接下來，將參考圖6描述根據本發明的又一實施例的光學顯示器400。參考圖6，根據這一實施例的光學顯示器400包含：透明電極結構330，其包含基層110和形成於基層110的上表面上的第三電極265和第四電極270；窗玻璃205，其放置在第三電極265和第四電極270上方並且包含形成於其下表面上的第一電極255和第二電極260；放置在透明電極結構330下方的第一偏光板235；放置在第一偏光板235的下表面上的上基底240；放置在上基底240的下表面上的顯示面板245；以及放置在顯示面板245的下表面上的第二偏光板250。在一些實施例中，上基底240可以是彩色濾光片(CF)玻璃、封裝玻璃等等。顯示面板245可以是LCD、OLED或LED。在一些實施例中，顯示面板245可以包含薄膜電晶體(TFT)玻璃，並且第二偏光板250可以形成於TFT玻璃的下表面上。
透明電極結構330可以包含根據本發明實施例的透明導體。可以藉由使用預定方法圖案化透明導體以形成第三電極265和第四電極270來製造透明電極結構330。可以藉由典型電極形成方法來形成第一電極255和第二電極260。黏著薄膜210、黏著薄膜212可以分別安置在窗玻璃205與透明電極結構330之間以及在透明電極結構330與第一偏光板235之間，由此維持透明電極結構、窗玻璃與第一偏光板之間的結合。
接下來，將參考圖7描述根據本發明的又一實施例的光學顯示器500。參考圖7，根據這一實施例的光學顯示器500包含：第一透明電極結構430a，其包含第一基層110a和形成於第一基層110a的上表面上的第一電極255和第二電極260；第二透明電極結構430b，其形成於第一透明電極結構430a下方並且包含第二基層110b和形成於第二基層110b的上表面上的第三電極265和第四電極270；形成於第二透明電極結構430b下方的第一偏光板235；放置在第一偏光板235的下表面上的上基底240；放置在上基底240的下表面上的顯示面板245；以及放置在顯示面板245的下表面上的第二偏光板250。第一透明電極結構430a和第二透明電極結構430b包含根據本發明實施例的透明導體。在一些實施例中，上基底240可以是彩色濾光片(CF)玻璃、封裝玻璃等等。顯示面板245可以是LCD、OLED或LED。在一些實施例中，顯示面板245可以包含薄膜電晶體(TFT)玻璃，並且第二偏光板250可以形成於TFT玻璃的下表面上。
可以藉由使用預定方法圖案化透明導體以形成第一、第二、第三和第四電極來製造第一透明電極結構430a和第二透明電極結構430b。
黏著薄膜210、黏著薄膜212、黏著薄膜214可以分別安置在第一透明電極結構430a與窗玻璃205之間、第一透明電極結構430a與第二透明電極結構430b之間以及第二透明電極結構430b與第一偏光板235之間，由此維持透明電極結構、窗玻璃與第一偏光板之間的結合。黏著薄膜210、黏著薄膜212、黏著薄膜214是典型的黏著薄膜並且可以包含例如光學透明黏著劑(OCA)薄膜。
接下來，將參考圖8描述根據本發明的又一實施例的光學顯示器設備700。圖8是根據本發明的又一實施例的光學顯示器的截面圖。根據這一實施例的光學顯示器700可以包含：透明電極結構530，其包含基層110、形成於基層110的上表面上的第一電極255和第二電極260以及形成於基層110的下表面上的第三電極265和第四電極270；放置在第一電極255和第二電極260上方的第一偏光板235；放置在第一偏光板235上方的窗玻璃205；放置在第三電極265和第四電極270下方的上基底240；以及放置在上基底240的下表面上的顯示面板245。在這裏，上基底240可以是彩色濾光片(CF)玻璃、封裝玻璃等等。在一些實施例中，顯示面板245可以具有以下結構：其中例如薄膜電晶體(TFT)的下基底形成於例如LCD、OLED或LED的光學裝置的 下側面上。此外，第二偏光板250可以形成於顯示面板245下方。
透明電極結構530可以包含根據本發明實施例的透明導體。可以藉由使用預定方法(例如蝕刻等等)圖案化透明導電層以形成第一、第二、第三和第四電極來製造透明電極結構530。第一電極255和第二電極260可以是Rx電極並且第三電極265和第四電極270可以是Tx電極，或第一電極255和第二電極260可以是Tx電極並且第三電極265和第四電極270可以是Rx電極。
窗玻璃205在光學顯示器中執行螢幕顯示功能，並且可以由典型的玻璃材料或透明塑膠材料製備。
第一偏光板235和第二偏光板250用以賦予光學顯示器偏光能力並且可以使外部光或內部光偏振。另外，第一偏光板235和第二偏光板250中的每一者可以包含偏光器或偏光器與保護膜的堆疊體，並且偏光器和保護膜可以分別包含本領域中已知的典型偏光器和保護膜。儘管未在圖式中顯示，但黏著薄膜可以分別安置在窗玻璃205與第一偏光板235之間以及在透明電極結構530與第一偏光板235之間，由此維持在透明電極結構530、第一偏光板235與窗玻璃205之間的結合。另外，黏著薄膜可以進一步安置在顯示面板245的第二偏光板與薄膜電晶體(TFT)玻璃之間。黏著薄膜是典型的黏著薄膜並且可以包含例如光學透明黏著劑(OCA)薄膜。
接下來，將參考圖9描述根據本發明的又一實施例的光學顯示器800。圖9是根據本發明的又一實施例的光學顯示器的截 面圖。根據這一實施例的光學顯示器800可以包含：透明電極結構630，其包含基層110、形成於基層110的上表面上的第一電極255和第二電極260以及形成於基層110的下表面上的第三電極265和第四電極270；放置在第一電極255和第二電極260上方的上基底240；放置在上基底240的上表面上的第一偏光板235；放置在第一偏光板235的上表面上的窗玻璃205；放置在第三電極265與第四電極270下方的顯示面板245；以及放置在顯示面板245的下表面上的第二偏光板。在一些實施例中，上基底240可以是彩色濾光片(CF)玻璃、封裝玻璃等等。在一些實施例中，顯示面板245可以具有以下結構：其中例如薄膜電晶體(TFT)的下基底形成於例如LCD、OLED或LED的光學顯示器裝置的下側面上。
透明電極結構630可以包含根據本發明實施例的透明導體。可以藉由使用預定方法(例如蝕刻等等)圖案化透明導電層以形成第一、第二、第三和第四電極來製造透明電極結構630。第一電極255和第二電極260可以是Rx電極並且第三電極265和第四電極270可以是Tx電極，或第一電極255和第二電極260可以是Tx電極並且第三電極265和第四電極270可以是Rx電極。
窗玻璃205在光學顯示器中執行螢幕顯示功能，並且可以由典型的玻璃材料或透明塑膠材料製備。
第一偏光板235和第二偏光板250用以賦予光學顯示器偏光能力並且可以使外部光或內部光偏振。另外，第一偏光板235和第二偏光板250中的每一者可以包含偏光器或偏光器與保護膜 的堆疊體，並且偏光器和保護膜可以分別包含本領域中已知的典型偏光器和保護膜。儘管未在圖式中顯示，但黏著薄膜可以分別安置在窗玻璃205與第一偏光板235之間、第一偏光板235與上基底240之間以及顯示面板245與第二偏光板250之間，由此維持在上基底240、第一偏光板235與窗玻璃205之間的結合。另外，黏著薄膜可以安置在顯示面板245的第二偏光板與薄膜電晶體(TFT)玻璃之間。黏著薄膜是典型的黏著薄膜並且可以包含例如光學透明黏著劑(OCA)薄膜。
另外，儘管未在圖3到圖9中顯示，但基層也可以具有其中的樹脂薄膜藉由黏合劑等等堆疊的結構。
在下文中，將參考一些實例更詳細地描述本發明。應理解，提供這些實例僅為了說明，並且不應以任何方式將其理解為限制本發明。
實例 實例1
將50wt%金屬奈米線溶液(包含金屬奈米線總數的2.45wt%和黏合劑(金屬奈米線與黏合劑的重量比=1：1.45)，以及1wt%或小於1wt%的增稠劑、分散劑等等，以及一種溶劑，其產品名稱是：ClearOhm墨，坎布利歐有限公司)添加到50wt%超純蒸餾水中，繼而攪拌，由此製備金屬奈米線組成物。
將0.35wt%二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、0.1wt%三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、0.5wt%無機中空粒子 (XJA-2502-LR，平均粒子直徑：60奈米，折射率：1.36，表面處理粒子)，以及0.05wt%豔佳固(Irgacure)-184(汽巴有限公司(CIBA Co.,Ltd.))與99wt%丙二醇單甲基醚混合，由此製備基質組成物。
使用旋塗器將金屬奈米線組成物塗佈到聚碳酸酯薄膜(厚度：50微米)上，繼而在80℃下於烘箱中乾燥2分鐘。接著，使用旋塗器將基質組成物塗佈到金屬奈米線層上，繼而在80℃下於烘箱中乾燥2分鐘，隨後使其在500毫焦/平方釐米下經過UV固化以形成85奈米厚的透明導電層，由此製備透明導體。
實例2
以與實例1中相同的方式製備透明導體，除了基質組成物是藉由混合99wt%丙二醇單甲基醚、0.125wt% DPHA、0.125wt% TMPTA、0.7wt%無機中空粒子(XJA-2502-LR，平均粒子直徑：60奈米，折射率：1.36，表面處理粒子)以及0.05wt%豔佳固-184(汽巴有限公司)來製備。
實例3
以與實例1中相同的方式製備透明導體，除了基質組成物是藉由混合99wt%丙二醇單甲基醚、0.125wt% DPHA、0.125wt% TMPTA、0.7wt%氟單體(LINC-3A，共榮社有限公司(Kyoeisha Co.,Ltd.))以及0.05wt%豔佳固-184來製備。
實例4
以與實例1中相同的方式製備透明導體，除了基質組成物是藉由混合99wt%丙二醇單甲基醚、0.035wt% DPHA、0.015wt% TMPTA、0.7wt%無機中空粒子(XJA-2502-LR，平均粒子直徑：60奈米，折射率：1.36，表面處理粒子)、0.2wt%氟單體(LINC-3A，共榮社有限公司)以及0.05wt%豔佳固-184來製備。
實例5
以與實例1中相同的方式製備透明導體，除了基質組成物是藉由混合99wt%丙二醇單甲基醚、0.105wt% DPHA、0.045wt% TMPTA、0.7wt%無機中空粒子(XJA-2502-LR，平均粒子直徑：60奈米，折射率：1.36，表面處理粒子)、0.1wt%氟單體(AR-110，大金有限公司(DAIKIN Co.,Ltd.))以及0.05wt%豔佳固-184來製備。
實例6
以與實例1中相同的方式製備透明導體，除了基質組成物是藉由混合99wt%丙二醇單甲基醚、0.10wt% DPHA、0.04wt% TMPTA、0.7wt%無機中空粒子(XJA-2502-LR，平均粒子直徑：60奈米，折射率：1.36，表面處理粒子)、0.1wt%氟單體(AR-110，大金有限公司)、0.05wt%豔佳固-184以及0.005wt%廷納芬(Tinuvin)152(巴斯夫)以及作為抗氧化劑的0.005wt%依佳弗(Igafos)168(巴斯夫)來製備。
比較實例1
以與實例1中相同的方式製備透明導體，除了基質組成物是藉由混合99wt%丙二醇單甲基醚、0.7wt% DPHA、0.295wt% TMPTA、0wt%無機中空粒子(XJA-2502-LR，平均粒子直徑：60奈米，折射率：1.36，表面處理粒子)以及0.05wt%豔佳固-184 來製備。
比較實例2
以與實例1中相同的方式製備透明導體，除了基質組成物是藉由混合99wt%丙二醇單甲基醚、0.315wt% DPHA、0.135wt% TMPTA、0.5wt%球形(非中空)二氧化矽奈米粒子(SST450V，蘭柯有限公司(Ranco Co.,Ltd.)，平均粒子直徑：30奈米)以及0.05wt%豔佳固-184來製備。
評估在實例和比較實例中製備的透明導體中的每一者的以下特性。結果顯示於表1中。
(1)薄層電阻(Ω/□)：使用非接觸式薄層電阻計(EC-80P，納普森有限公司(NAPSON Co.,Ltd.))測量透明導體表面上的薄層電阻。
(2)霧度和總透光度(%)：面向光源放置透明導體的透明導電薄膜，繼而使用霧度計(NDH-9000)在400奈米到700奈米波長下測量霧度和總透光度。
(3)透射b*值：使用分光光度計(發光體65度，觀測者2度)CM 3600D(柯尼卡美能達有限公司)在400奈米到700奈米波長下於實例和比較實例中所製備的透明導體(聚碳酸酯薄膜厚度：50微米，包括金屬奈米線和基質的導電層厚度：85奈米)上測量透射色彩座標。
如表1中所示，確認實例1到實例6的透明導體可以藉由確保低霧度和高透光度展現良好的光學特性，並且可以藉由確保低透射b*值防止色彩失真。
相反，在相同電阻下，在不使用無機中空粒子和氟單體的情況下所製備的比較實例1的透明導體具有霧度值高的問題。在不使用氟單體和包含在內的固體二氧化矽粒子的情況下所製備的比較實例1的透明導體和比較實例2的透明導體中，存在由於透射b*值增加而色彩失真的問題，以及例如透光度、霧度等等的光學特性退化的問題。
儘管上文已經描述了一些實施例，但本領域的技術人員顯而易知，這些實施例僅以說明方式給出，並且在不脫離本發明的精神和範圍的情況下，可以進行各種修改、改變、更改和等效實施例。本發明的範圍應僅受所附申請專利範圍和其等效物限制。
100‧‧‧透明導體
110‧‧‧基層
120‧‧‧導電層
121‧‧‧金屬奈米線
122‧‧‧基質

Claims (17)

  1. 一種透明導體，包括：基層；以及導電層，形成於所述基層上並且包括金屬奈米線以及基質，其中所述基質由包括無機中空粒子與氟單體的基質組成物形成，其中所述透明導體具有1.0或小於1.0的透射b*值。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的透明導體，其中所述無機中空粒子具有1.4或小於1.4的折射率。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的透明導體，其中就固體含量而言，所述無機中空粒子以10wt%到70wt%的量存在於所述基質組成物中。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的透明導體，其中所述無機中空粒子由矽、鋁、鎂、鋰、鋯以及鋅中的至少一者的氧化物、碳化物或氮化物形成。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的透明導體，其中所述基質組成物包括6wt%或小於6wt%的氟。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的透明導體，其中就固體含量而言，所述基質組成物包括40wt%到80wt%的所述無機中空粒子與所述氟單體；15wt%到55wt%的黏合劑；以及0.1wt%到5wt%的引發劑。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的透明導體，其中所述金屬奈米線包括銀奈米線。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的透明導體，更包括：防蝕層、防眩光塗層、黏著促進層以及寡聚物洗提防止層中 的至少一者，形成於所述基層的上表面或下表面上。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的透明導體，其中所述基質組成物更包括多官能單體，所述多官能單體包括五官能單體或六官能單體、以及三官能單體。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的透明導體，其中所述三官能單體包括基於(甲基)丙烯酸酯的單體。
  11. 如申請專利範圍第9項所述的透明導體，其中所述三官能單體包括烷氧基化的基於(甲基)丙烯酸酯的單體。
  12. 如申請專利範圍第9項所述的透明導體，其中所述基質更包括黏著力促進劑、UV吸收劑、增稠劑以及分散劑中的至少一者。
  13. 一種製造透明導體的方法，包括：在基層上形成金屬奈米線網路層；以及使用包括無機中空粒子與氟單體的基質組成物在所述金屬奈米線網路層上形成導電層，其中所述透明導體具有1.0或小於1.0的透射b*值。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的製造透明導體的方法，其中所述基質組成物更包括多官能單體，所述多官能單體包括五官能單體或六官能單體、以及三官能單體。
  15. 一種光學顯示器，包括如申請專利範圍第1到12項中任一項所述的透明導體。
  16. 一種光學顯示器，包括：顯示面板；形成於所述顯示面板上的透明導體；以及形成於所述透明導體上的窗，所述透明導體是如申請專利範圍第1到12項中任一項所述的透明導體。
  17. 如申請專利範圍第16項所述的光學顯示器，其中所述顯示面板包括LCD、OLED或LED。
TW103142077A 2013-12-04 2014-12-04 透明導體、製備其的方法以及包括其的光學顯示器 TWI556269B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130150230 2013-12-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201523650A TW201523650A (zh) 2015-06-16
TWI556269B true TWI556269B (zh) 2016-11-01

Family

ID=53266498

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103142077A TWI556269B (zh) 2013-12-04 2014-12-04 透明導體、製備其的方法以及包括其的光學顯示器

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9674947B2 (zh)
KR (1) KR101813749B1 (zh)
CN (1) CN104700927B (zh)
TW (1) TWI556269B (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106339116B (zh) * 2015-07-11 2023-07-14 宸新科技(厦门)有限公司 触控面板及其制作方法
US10088931B2 (en) * 2015-11-16 2018-10-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Silver nanowires, production methods thereof, conductors and electronic devices including the same
KR101854509B1 (ko) * 2015-12-01 2018-06-15 삼성에스디아이 주식회사 투명 도전체, 그의 제조 방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
KR101942152B1 (ko) * 2016-01-18 2019-01-24 삼성에스디아이 주식회사 도전성 윈도우 필름 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
KR20170120461A (ko) * 2016-04-21 2017-10-31 삼성에스디아이 주식회사 디스플레이 장치
KR20180003352A (ko) * 2016-06-30 2018-01-09 삼성에스디아이 주식회사 투명 도전체 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
KR20180012098A (ko) * 2016-07-26 2018-02-05 삼성에스디아이 주식회사 투명 도전체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
CN106833353B (zh) * 2016-12-21 2019-10-18 华南理工大学 一种触摸屏用uv固化纳米银线浆料及其制备方法
CN108920994B (zh) * 2018-03-28 2021-09-17 上海天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置
CN108829289A (zh) * 2018-06-30 2018-11-16 云谷（固安）科技有限公司 导电叠层结构及其制备方法、触控屏
KR20220007826A (ko) 2020-07-10 2022-01-19 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치 및 그 제조방법
KR20240114822A (ko) 2023-01-17 2024-07-25 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN118488654A (zh) * 2023-02-10 2024-08-13 鹏鼎控股(深圳)股份有限公司 透明电路板的制造方法、透明显示屏及其制造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102324462A (zh) * 2006-10-12 2012-01-18 凯博瑞奥斯技术公司 基于纳米线的透明导体及其应用

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6001163A (en) * 1997-04-17 1999-12-14 Sdc Coatings, Inc. Composition for providing an abrasion resistant coating on a substrate
JP3973330B2 (ja) * 1999-12-10 2007-09-12 触媒化成工業株式会社 透明被膜付基材、透明被膜形成用塗布液、および表示装置
US6589658B1 (en) * 2001-11-29 2003-07-08 Guardian Industries Corp. Coated article with anti-reflective layer(s) system
EP1965438A3 (en) * 2005-08-12 2009-05-13 Cambrios Technologies Corporation Nanowires-based transparent conductors
US8018568B2 (en) * 2006-10-12 2011-09-13 Cambrios Technologies Corporation Nanowire-based transparent conductors and applications thereof
CN101689568B (zh) * 2007-04-20 2014-02-26 凯博瑞奥斯技术公司 复合透明导体及其形成方法
TWI480653B (zh) 2007-04-20 2015-04-11 Cambrios Technologies Corp 高對比透明導體及形成其之方法
JP5507440B2 (ja) 2008-02-27 2014-05-28 株式会社クラレ 金属ナノワイヤの製造方法並びに得られた金属ナノワイヤよりなる分散液および透明導電膜
JP5443878B2 (ja) * 2009-07-27 2014-03-19 パナソニック株式会社 透明導電膜付き基材
JP5443881B2 (ja) 2009-07-28 2014-03-19 パナソニック株式会社 透明導電膜付き基材
EP2489046A1 (en) * 2009-10-16 2012-08-22 O'Brien, Paul Gregory Transparent conductive porous nanocomposites and methods of fabrication thereof
TWI540593B (zh) 2010-01-15 2016-07-01 坎畢歐科技公司 低霧度透明導體
JP5600457B2 (ja) * 2010-03-26 2014-10-01 パナソニック株式会社 透明導電膜付き基材
EP2592119B1 (en) 2010-07-08 2016-04-13 LG Chem, Ltd. Antireflection film and method for manufacturing same
JP5699352B2 (ja) 2010-11-11 2015-04-08 北川工業株式会社 透明導電フィルム
KR101253553B1 (ko) 2010-11-18 2013-04-11 안철흥 투명 도전성 필름 및 그 제조방법
KR101525953B1 (ko) * 2010-11-30 2015-06-09 닛토덴코 가부시키가이샤 터치 입력 기능을 가지는 표시 패널 장치
WO2013080908A1 (ja) * 2011-11-29 2013-06-06 東レ株式会社 導電積層体およびそれを用いてなる表示体
WO2013094832A1 (ko) * 2011-12-21 2013-06-27 제일모직 주식회사 도전성 필름용 조성물, 이로부터 형성된 도전성 필름 및 이를 포함하는 광학 표시 장치
KR20140046923A (ko) * 2012-10-11 2014-04-21 제일모직주식회사 투명 도전체, 이를 제조하기 위한 조성물 및 이를 포함하는 광학표시 장치
US20140186587A1 (en) * 2012-12-27 2014-07-03 Cheil Industries Inc. Transparent conductor and apparatus including the same
DE102014115156B4 (de) * 2013-10-17 2021-09-16 Samsung Sdi Co., Ltd. Transparenter Leiter und damit ausgestattetes optisches Display
US9754698B2 (en) * 2013-10-24 2017-09-05 Samsung Sdi Co., Ltd. Transparent conductor, method for preparing the same, and optical display including the same
KR101665173B1 (ko) * 2014-03-05 2016-10-11 제일모직주식회사 투명 도전체 및 이를 포함하는 광학표시장치
TWI534840B (zh) * 2014-10-30 2016-05-21 國立臺灣大學 可撓性透明電極及製備其之方法
US20170003808A1 (en) * 2015-06-30 2017-01-05 Samsung Sdi Co., Ltd. Transparent conductor, method of fabricating the same and optical display including the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102324462A (zh) * 2006-10-12 2012-01-18 凯博瑞奥斯技术公司 基于纳米线的透明导体及其应用

Also Published As

Publication number Publication date
CN104700927A (zh) 2015-06-10
KR101813749B1 (ko) 2018-01-02
US20150156866A1 (en) 2015-06-04
US9674947B2 (en) 2017-06-06
KR20150065597A (ko) 2015-06-15
TW201523650A (zh) 2015-06-16
CN104700927B (zh) 2018-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI556269B (zh) 透明導體、製備其的方法以及包括其的光學顯示器
KR101802567B1 (ko) 투명 도전체 및 이를 포함하는 광학표시장치
KR102018356B1 (ko) 윈도우 필름, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
KR101737156B1 (ko) 투명 도전체 및 이를 포함하는 장치
US9754698B2 (en) Transparent conductor, method for preparing the same, and optical display including the same
US20170003808A1 (en) Transparent conductor, method of fabricating the same and optical display including the same
KR20110025146A (ko) 광학 적층체, 편광판 및 그것을 이용한 표시장치
KR102205622B1 (ko) 광학 적층체 및 면광원 장치
CN106538052A (zh) 有机el发光装置
CN107109101A (zh) 光学膜涂覆组合物及包含其的光学膜
CN106538053A (zh) 有机el发光装置
TW201538636A (zh) 低折射組合物及其製備方法以及透明導電膜
KR101696978B1 (ko) 투명 도전체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 광학표시장치
JP2012171984A (ja) 色調補正フィルムとこれを用いた機能性フィルム
JP2011070821A (ja) 透明異方導電性フィルム
CN106104706A (zh) 透明导体、其制造方法和包括其的光学显示器装置
KR20170003429A (ko) 투명 도전체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 광학표시장치
KR101900538B1 (ko) 투명도전체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 광학표시장치
KR102004026B1 (ko) 투명 도전체 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
JP2008233371A (ja) 反射防止フィルム
KR101813752B1 (ko) 투명 도전체 및 이를 포함하는 광학표시장치
CN105636774B (zh) 阻挡膜及制备该阻挡膜的方法
KR101939307B1 (ko) 투명 전도성 막 코팅용 조성물, 상기 조성물로 형성된 코팅층을 포함하는 투명 전도성 막, 그 제조방법 및 상기 조성물로 형성된 코팅층을 포함하는 전자기기
CN109564795B (zh) 透明导体和包括该透明导体的显示装置
KR101822710B1 (ko) 투명 도전체 및 이를 포함하는 디스플레이 장치