TWI540181B - 感光性聚矽氧烷組成物、保護膜及具有保護膜的元件 - Google Patents
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- TWI540181B TWI540181B TW101148690A TW101148690A TWI540181B TW I540181 B TWI540181 B TW I540181B TW 101148690 A TW101148690 A TW 101148690A TW 101148690 A TW101148690 A TW 101148690A TW I540181 B TWI540181 B TW I540181B
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- -1 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 108
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 45
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title description 3
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 67
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 38
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 28
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 26
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 21
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000008064 anhydrides Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 21
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 12
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 11
- NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylhex-1-yn-3-ol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#C NECRQCBKTGZNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical group OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 8
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 8
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical group CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002440 hydroxy compounds Chemical class 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 7
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 7
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical group O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical group CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 5
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- YRTGWRSQRUHPKX-UHFFFAOYSA-N 3-ethyloxolane-2,5-dione Chemical compound CCC1CC(=O)OC1=O YRTGWRSQRUHPKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241000501754 Astronotus ocellatus Species 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- XNWPXDGRBWJIES-UHFFFAOYSA-N Maclurin Natural products OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 XNWPXDGRBWJIES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 4
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O ZRDYULMDEGRWRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPEXFJVZFNYXGU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CPEXFJVZFNYXGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical group CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GXDMUOPCQNLBCZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-triethoxysilylpropyl)oxolane-2,5-dione Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCC1CC(=O)OC1=O GXDMUOPCQNLBCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JIUWLLYCZJHZCZ-UHFFFAOYSA-N 3-propyloxolane-2,5-dione Chemical compound CCCC1CC(=O)OC1=O JIUWLLYCZJHZCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 3
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 3
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether Substances COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEDWWPGWIXPVRQ-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-trihydroxyphenyl)-(3,4,5-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 XEDWWPGWIXPVRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GBQZZLQKUYLGFT-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O GBQZZLQKUYLGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKJFKPFBSPZTAH-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(4-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O OKJFKPFBSPZTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXIIFBJDJHDNGW-UHFFFAOYSA-N (2,5-dihydroxyphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(C(=O)C=2C(=C(O)C(O)=CC=2)O)=C1 AXIIFBJDJHDNGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 1-undecene Chemical compound CCCCCCCCCC=C DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFIAIUIEAKCWCD-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexyl-4-[(5-cyclohexyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methyl]-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C2CCCCC2)C=C1C(C=1C(=CC(O)=C(C2CCCCC2)C=1)C)C1=CC=CC=C1O AFIAIUIEAKCWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUBNHXBTFDDYPI-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexyl-4-[(5-cyclohexyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)-(4-hydroxyphenyl)methyl]-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C2CCCCC2)C=C1C(C=1C(=CC(O)=C(C2CCCCC2)C=1)C)C1=CC=C(O)C=C1 TUBNHXBTFDDYPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNDRWEVUODOUDW-UHFFFAOYSA-N 3-Hydroxy-3-methylbutan-2-one Chemical compound CC(=O)C(C)(C)O BNDRWEVUODOUDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBLFJUWXERDUEN-UHFFFAOYSA-N 4-[(2,3,4-trihydroxyphenyl)methyl]benzene-1,2,3-triol Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C(O)=C1O NBLFJUWXERDUEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FNFYXIMJKWENNK-UHFFFAOYSA-N 4-[(2,4-dihydroxyphenyl)methyl]benzene-1,3-diol Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1O FNFYXIMJKWENNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEZQZRQRHKJVHD-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)-(3-hydroxyphenyl)methyl]-2,5-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=C(O)C=CC=2)C=2C(=CC(O)=C(C)C=2)C)=C1C DEZQZRQRHKJVHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHKJCZQKHJHUBB-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-(3-hydroxyphenyl)methyl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=C(O)C=CC=2)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 WHKJCZQKHJHUBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHKTUDSKDILFJC-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-(4-hydroxyphenyl)methyl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=CC(O)=CC=2)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 OHKTUDSKDILFJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMSALPCDWZMQQG-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2,4-dihydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound C=1C=C(O)C=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1O YMSALPCDWZMQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QBFWOUJDPJACIQ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-[1,1-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)ethyl]phenyl]propan-2-yl]-2-methylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C=2C=C(C)C(O)=CC=2)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 QBFWOUJDPJACIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXYSZTISEJBRHW-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(C(C)(C=2C=CC(O)=CC=2)C=2C=CC(O)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 WXYSZTISEJBRHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QADWFOCZWOGZGV-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)methyl]benzene-1,2-diol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=C(O)C(O)=CC=2)C=2C(=CC(O)=C(C)C=2)C)=C1C QADWFOCZWOGZGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QLLXOMGGDNSEMO-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)methyl]benzene-1,3-diol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C(=CC(O)=CC=2)O)C=2C(=CC(O)=C(C)C=2)C)=C1C QLLXOMGGDNSEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWFUILMHBCVIMK-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]benzene-1,2-diol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=C(O)C(O)=CC=2)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 UWFUILMHBCVIMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TYHOGIGLTWTDIM-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]-2-methoxyphenol Chemical compound C1=C(O)C(OC)=CC(C(C=2C=CC(O)=CC=2)C=2C=CC(O)=CC=2)=C1 TYHOGIGLTWTDIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XHHCPUPIFYYPCN-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(5-cyclohexyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)methyl]benzene-1,2-diol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C2CCCCC2)C=C1C(C=1C(=CC(O)=C(C2CCCCC2)C=1)C)C1=CC=C(O)C(O)=C1 XHHCPUPIFYYPCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Natural products CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical group CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N succinic anhydride Chemical group O=C1CCC(=O)O1 RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- QWRVAXMLZCMVSL-UHFFFAOYSA-N (2,4,6-trihydroxyphenyl)-(3,4,5-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 QWRVAXMLZCMVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLBGWOVCPLFKCQ-UHFFFAOYSA-N (2-methylphenyl)-(2,3,4-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O XLBGWOVCPLFKCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCIXQOGTJBVUNW-UHFFFAOYSA-N (3,5-dihydroxyphenyl)-(2,4,5-trihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC(C(=O)C=2C(=CC(O)=C(O)C=2)O)=C1 FCIXQOGTJBVUNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) acetate Chemical compound COC(C)(C)CCOC(C)=O RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANBBCZAIOXDZPV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trimethoxy-2-methyldecane Chemical compound CC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC ANBBCZAIOXDZPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIESAWGOYVNHLV-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydropyrrol-2-one Chemical compound O=C1CC=CN1 VIESAWGOYVNHLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCC CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 1-tert-Butoxy-2-propanol Chemical compound CC(O)COC(C)(C)C GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWBBPBRQALCEIZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C QWBBPBRQALCEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 2,4,7,9-tetramethyldec-5-yne-4,7-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#CC(C)(O)CC(C)C LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTRWELPXUDWAGW-UHFFFAOYSA-N 2,4,7,9-tetramethyldecane-4,7-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)CCC(C)(O)CC(C)C BTRWELPXUDWAGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBEBOWPOGZFUTF-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexyl-4-[(3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(C=1C=C(C(O)=CC=1)C1CCCCC1)C1=CC=C(O)C(C2CCCCC2)=C1 YBEBOWPOGZFUTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKLREKOGUCIQMG-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexyl-4-[(3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl)-(3-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC(C(C=2C=C(C(O)=CC=2)C2CCCCC2)C=2C=C(C(O)=CC=2)C2CCCCC2)=C1 LKLREKOGUCIQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPUBZSPPCQQOIB-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexyl-4-[(3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl)-(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=C(C(O)=CC=1)C1CCCCC1)C1=CC=C(O)C(C2CCCCC2)=C1 HPUBZSPPCQQOIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIJEFGAYUMNPF-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexyl-4-[(5-cyclohexyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)-(3-hydroxyphenyl)methyl]-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C2CCCCC2)C=C1C(C=1C(=CC(O)=C(C2CCCCC2)C=1)C)C1=CC=CC(O)=C1 XYIJEFGAYUMNPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 2-dodecanoyloxyethyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCC ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLPQUCKLVZXJEH-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-4-[2-(3-fluoro-4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C(F)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(F)=C1 KLPQUCKLVZXJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- ADXRZEBGDJHQDY-UHFFFAOYSA-N 3-(3-trimethoxysilylpropyl)oxane-2,6-dione Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCC1CCC(=O)OC1=O ADXRZEBGDJHQDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMASDBUJEZKWEH-UHFFFAOYSA-N 3-(3-triphenoxysilylpropyl)oxane-2,6-dione Chemical compound O=C1OC(=O)CCC1CCC[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 OMASDBUJEZKWEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGWKUHMGVOBTBY-UHFFFAOYSA-N 3-(3-triphenoxysilylpropyl)oxolane-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)CC1CCC[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 NGWKUHMGVOBTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBIHNTAFJVHBLJ-UHFFFAOYSA-N 3-(triethoxymethyl)undec-1-ene Chemical compound C(=C)C(C(OCC)(OCC)OCC)CCCCCCCC LBIHNTAFJVHBLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSRHFTKAMSLMBK-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]propyl-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1(CC)COC1 FSRHFTKAMSLMBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-3-methylbutan-1-ol Chemical compound COC(C)(C)CCO MFKRHJVUCZRDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPYUENQFPVNPHY-UHFFFAOYSA-N 3-methoxycatechol Chemical compound COC1=CC=CC(O)=C1O LPYUENQFPVNPHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHYLXWCMXNGLKB-UHFFFAOYSA-N 3-propyloxane-2,6-dione Chemical compound CCCC1CCC(=O)OC1=O XHYLXWCMXNGLKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDGDHUUVXSDKE-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl but-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=CC VLDGDHUUVXSDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYFSNTFLFWUGGL-UHFFFAOYSA-N 4-(1-trimethoxysilylethyl)phenol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)C1=CC=C(O)C=C1 UYFSNTFLFWUGGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXKJURMSOICRCK-UHFFFAOYSA-N 4-(2-trimethoxysilylethyl)phenol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=C(O)C=C1 XXKJURMSOICRCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXPGQGNWEWPWQZ-UHFFFAOYSA-N 4-(triethoxymethyl)dodecan-1-amine Chemical compound NCCCC(C(OCC)(OCC)OCC)CCCCCCCC SXPGQGNWEWPWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFYGYTNMHPUJBY-UHFFFAOYSA-N 4-(trimethoxymethyl)dodecane-1-thiol Chemical compound SCCCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC DFYGYTNMHPUJBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVSRECWZBBJOTG-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxy-3-methyl-2-butanone Chemical compound OCC(C)C(C)=O VVSRECWZBBJOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLAQXRONBVEWMK-UHFFFAOYSA-N 4-[(2-hydroxyphenyl)-(4-hydroxy-2,3,5-trimethylphenyl)methyl]-2,3,6-trimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C(=CC=CC=2)O)C=2C(=C(C)C(O)=C(C)C=2)C)=C1C CLAQXRONBVEWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYSAMKJRACWTNY-UHFFFAOYSA-N 4-[(2-hydroxyphenyl)methyl]-2,5-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(CC=2C(=CC=CC=2)O)=C1C SYSAMKJRACWTNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNICUQBUXHBYCH-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methyl]-2,5-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C(=CC=CC=2)O)C=2C(=CC(O)=C(C)C=2)C)=C1C YNICUQBUXHBYCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFYOKZAFMIWTQL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)-(4-hydroxyphenyl)methyl]-2,5-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=CC(O)=CC=2)C=2C(=CC(O)=C(C)C=2)C)=C1C PFYOKZAFMIWTQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMCUJWGUNKCREZ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methyl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)C=2C(=CC=CC=2)O)=C1 BMCUJWGUNKCREZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCJZSIQEJPHPMR-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-3-methylphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methyl]-2-methylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=C(C)C(O)=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)O)=C1 LCJZSIQEJPHPMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDEVPILRDJKITQ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxyphenyl)methyl]-2,5-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(CC=2C=CC(O)=CC=2)=C1C GDEVPILRDJKITQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYIWTDSCYULDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2,3,4-trihydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,2,3-triol Chemical compound C=1C=C(O)C(O)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(O)=C1O NYIWTDSCYULDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUDHQMBWDYUTSK-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,2,3-triol Chemical compound C=1C=C(O)C(O)=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 DUDHQMBWDYUTSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJGTVJRTDRARGO-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound C=1C=C(O)C=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 XJGTVJRTDRARGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWYYDVQFWKOWDD-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]benzene-1,3-diol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)C=2C(=CC(O)=CC=2)O)=C1 DWYYDVQFWKOWDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQIRNCDYOTISD-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(5-cyclohexyl-2-hydroxy-4-methylphenyl)methyl]benzene-1,2-diol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C=2C=C(O)C(O)=CC=2)C=2C(=CC(C)=C(C3CCCCC3)C=2)O)C=C1C1CCCCC1 LFQIRNCDYOTISD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRQDOYYENOERHE-UHFFFAOYSA-N 4-cyclohexyl-2-[(5-cyclohexyl-2-hydroxy-4-methylphenyl)-(4-hydroxyphenyl)methyl]-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C=2C=CC(O)=CC=2)C=2C(=CC(C)=C(C3CCCCC3)C=2)O)C=C1C1CCCCC1 NRQDOYYENOERHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPGHHGIIIQDQLH-UHFFFAOYSA-N 4-cyclohexyl-2-[(5-cyclohexyl-2-hydroxyphenyl)-(2-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(C=1C(=CC=C(C=1)C1CCCCC1)O)C1=CC(C2CCCCC2)=CC=C1O NPGHHGIIIQDQLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHIKLTSNEOCLBV-UHFFFAOYSA-N 4-cyclohexyl-2-[(5-cyclohexyl-2-hydroxyphenyl)-(3-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC(C(C=2C(=CC=C(C=2)C2CCCCC2)O)C=2C(=CC=C(C=2)C2CCCCC2)O)=C1 IHIKLTSNEOCLBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPGQVTCIYHUNFF-UHFFFAOYSA-N 4-cyclohexyl-2-[(5-cyclohexyl-2-hydroxyphenyl)-(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C(=CC=C(C=1)C1CCCCC1)O)C1=CC(C2CCCCC2)=CC=C1O ZPGQVTCIYHUNFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLRIPFBLDKQDJL-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylphenol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(O)C=C1 HLRIPFBLDKQDJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSHPTIGHEWEXRW-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxypentan-2-one Chemical compound CC(=O)CCCO JSHPTIGHEWEXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical group CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHKIUBMQMDQRG-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC Chemical compound C(=C)C(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC JZHKIUBMQMDQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLSLUJUGERMXEN-UHFFFAOYSA-N C(C)C(C1CO1)COCCCC1C(=C(C2=C(C=CC=C12)OC)OC)OC Chemical compound C(C)C(C1CO1)COCCCC1C(=C(C2=C(C=CC=C12)OC)OC)OC YLSLUJUGERMXEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIJSDZBPGKZGHQ-UHFFFAOYSA-N C(C)C(C1CO1)COCCCC1C(=C(C2=C(C=CC=C12)OC1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(C)C(C1CO1)COCCCC1C(=C(C2=C(C=CC=C12)OC1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC=C1)OC1=CC=CC=C1 RIJSDZBPGKZGHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBWNUYMSVAACJF-UHFFFAOYSA-N C(C)OC(CCCCCCCCCCCCC1C(=O)OC(C1)=O)(OCC)OCC Chemical compound C(C)OC(CCCCCCCCCCCCC1C(=O)OC(C1)=O)(OCC)OCC LBWNUYMSVAACJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPMZJCHCOQJVLR-UHFFFAOYSA-N C(C)OC=1C(=C2C(=C(NC2=CC1)CCCC1C(=O)OC(C1)=O)OCC)OCC Chemical compound C(C)OC=1C(=C2C(=C(NC2=CC1)CCCC1C(=O)OC(C1)=O)OCC)OCC CPMZJCHCOQJVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEGSLYYEPIBFKB-UHFFFAOYSA-N C(C1CO1)OCCCC(C(OC)(C)C)CCCCCCCC Chemical compound C(C1CO1)OCCCC(C(OC)(C)C)CCCCCCCC VEGSLYYEPIBFKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGZBBHPTHLQSY-UHFFFAOYSA-N C(CCC)[Si](OC)(OC)OC.C(CCC)C(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC Chemical compound C(CCC)[Si](OC)(OC)OC.C(CCC)C(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC QJGZBBHPTHLQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLGRCLSJMGCOAO-UHFFFAOYSA-N C.C1(CCCCC1)C=1C=C(C(=CC1C)O)C=1C(=C(C=CC1)C1=CC(=C(C=C1O)C)C1CCCCC1)O Chemical compound C.C1(CCCCC1)C=1C=C(C(=CC1C)O)C=1C(=C(C=CC1)C1=CC(=C(C=C1O)C)C1CCCCC1)O QLGRCLSJMGCOAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSGRIFNBTXDZQU-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC JSGRIFNBTXDZQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFFOOPRPAQTBGZ-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)C(O[Si](OC(C)C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(O[Si](OC(C)C)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 GFFOOPRPAQTBGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPLKXGORNUYFBO-UHFFFAOYSA-N C1(CC2C(CC1)O2)CCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC Chemical compound C1(CC2C(CC1)O2)CCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC VPLKXGORNUYFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- GGXWDWNWNOINTP-UHFFFAOYSA-N CCCCOCCCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC Chemical compound CCCCOCCCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC GGXWDWNWNOINTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTYYBJNSLLBAGE-UHFFFAOYSA-N CN1C(CCC1)=O.[N] Chemical compound CN1C(CCC1)=O.[N] OTYYBJNSLLBAGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YADUTOJBOGYKKY-UHFFFAOYSA-N COC1=C2C(=C(C(C2=CC=C1)C(CCC1C(=O)OC(C1)=O)[Si](OC)(OC)OC)OC)OC Chemical compound COC1=C2C(=C(C(C2=CC=C1)C(CCC1C(=O)OC(C1)=O)[Si](OC)(OC)OC)OC)OC YADUTOJBOGYKKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWLCOGUMVCTSQV-UHFFFAOYSA-N COC1=C2C(=C(C(C2=CC=C1)CCC1C(=O)OC(C1)=O)OC)OC Chemical compound COC1=C2C(=C(C(C2=CC=C1)CCC1C(=O)OC(C1)=O)OC)OC VWLCOGUMVCTSQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol distearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCXXYEFLDNYCNW-UHFFFAOYSA-N FC(CC[Si](OC)(OC)OC)(F)F.FC(CCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC)(F)F Chemical compound FC(CC[Si](OC)(OC)OC)(F)F.FC(CCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC)(F)F FCXXYEFLDNYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 101001024616 Homo sapiens Neuroblastoma breakpoint family member 9 Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKMSSFJCZDEPEA-UHFFFAOYSA-N NC1=CC=CC=C1.N=C=O.N=C=O Chemical compound NC1=CC=CC=C1.N=C=O.N=C=O ZKMSSFJCZDEPEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKGLMZVUFXOXMU-UHFFFAOYSA-N NCCC(C(OC)(OC)C)(CCCCCCCC)CCCN.[N] Chemical compound NCCC(C(OC)(OC)C)(CCCCCCCC)CCCN.[N] AKGLMZVUFXOXMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSASHIJYBUQVAT-UHFFFAOYSA-N NCCC(C(OC)(OC)OC)(CCCCCCCC)CCCN.[N] Chemical compound NCCC(C(OC)(OC)OC)(CCCCCCCC)CCCN.[N] ZSASHIJYBUQVAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100037013 Neuroblastoma breakpoint family member 9 Human genes 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCDOULFCCCTGKL-UHFFFAOYSA-N O1C2CC(CCC21)CC[Si](OC)(OC)OC.O2C1CC(CCC12)CC[Si](OC)(OC)OC Chemical compound O1C2CC(CCC21)CC[Si](OC)(OC)OC.O2C1CC(CCC12)CC[Si](OC)(OC)OC HCDOULFCCCTGKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKSQBZRHUFIOFP-UHFFFAOYSA-N OC(CCC[Si](OC)(OC)OC)COC(=O)C1=CC=C(C=C1)O.OC(CCCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC)COC(=O)C1=CC=C(C=C1)O Chemical compound OC(CCC[Si](OC)(OC)OC)COC(=O)C1=CC=C(C=C1)O.OC(CCCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC)COC(=O)C1=CC=C(C=C1)O IKSQBZRHUFIOFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N Poloxamer Chemical compound C1CO1.CC1CO1 RVGRUAULSDPKGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N [cyclohexyl(diisocyanato)methyl]cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(N=C=O)(N=C=O)C1CCCCC1 KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- MYWRVJWWYQGSDR-UHFFFAOYSA-N bis[3-[2-(oxetan-2-yl)butoxy]propyl]-di(propan-2-yloxy)silane Chemical compound C1COC1C(CC)COCCC[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCOCC(CC)C1CCO1 MYWRVJWWYQGSDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- CGZZMOTZOONQIA-UHFFFAOYSA-N cycloheptanone Chemical compound O=C1CCCCCC1 CGZZMOTZOONQIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N dibutyl(dimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)CCCC YPENMAABQGWRBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGNPWEKFMNGWNJ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-bis[3-(oxetan-2-yl)pentyl]silane Chemical compound C1COC1C(CC)CC[Si](OC)(OC)CCC(CC)C1CCO1 LGNPWEKFMNGWNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- WUSMNKZFOXUXJK-UHFFFAOYSA-N ethene;oxolane-2,5-dione Chemical compound C=C.O=C1CCC(=O)O1 WUSMNKZFOXUXJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHBOIIOOTUCYQD-UHFFFAOYSA-N ethoxy-dimethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCOCC1CO1 HHBOIIOOTUCYQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N ethyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](CC)(OC(C)C)OC(C)C MYEJNNDSIXAGNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005313 fatty acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N gamma-valerolactone Chemical compound CC1CCC(=O)O1 GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940100608 glycol distearate Drugs 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRCZOYBOLHMGSL-UHFFFAOYSA-N hydrazine 2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound C(C(=C)C)(=O)O.NN LRCZOYBOLHMGSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- XLSMFKSTNGKWQX-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetone Chemical compound CC(=O)CO XLSMFKSTNGKWQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBNXYLDLGARYKQ-UHFFFAOYSA-N methoxy-dimethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCOCC1CO1 FBNXYLDLGARYKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N methyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)OC(C)C HLXDKGBELJJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N n,n-diheptylheptan-1-amine Chemical compound CCCCCCCN(CCCCCCC)CCCCCCC CLZGJKHEVKJLLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- GSGDTSDELPUTKU-UHFFFAOYSA-N nonoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCCOC1=CC=CC=C1 GSGDTSDELPUTKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPIRTVJRHUMMOI-UHFFFAOYSA-N octoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCOC1=CC=CC=C1 ZPIRTVJRHUMMOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003742 phenol Drugs 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006389 polyphenyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical group CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 229940030966 pyrrole Drugs 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N tetraphenyl silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N triacetyloxysilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZINNJYWGLAHPB-UHFFFAOYSA-N tributyl(methoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](CCCC)(CCCC)OC NZINNJYWGLAHPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(F)(F)F BOVWGKNFLVZRDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- UFTFJSFQGQCHQW-UHFFFAOYSA-N triformin Chemical compound O=COCC(OC=O)COC=O UFTFJSFQGQCHQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(trifluoromethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(F)(F)F ORVBHOQTQDOUIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRSPKXMQYAOQBM-UHFFFAOYSA-N trimethyl(pentan-2-yloxy)silane Chemical compound CCCC(C)O[Si](C)(C)C GRSPKXMQYAOQBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYRAEZLPSATLHH-UHFFFAOYSA-N trisodium methoxy(trioxido)silane Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].CO[Si]([O-])([O-])[O-] XYRAEZLPSATLHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Description
本發明是有關於一種感光化性聚矽氧烷組成物，特別是指一種包含聚矽氧烷高分子及每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物的正型感光性聚矽氧烷組成物、由此光硬化性聚矽氧烷組成物所形成的保護膜，及具有該保護膜的元件。
近年來，在半導體工業、液晶顯示器或有機電激發光顯示器等領域中，隨著尺寸的日益縮小化，對於微影製程中所需之圖案的微細化更甚要求。為了達到微細化的圖案，一般是透過具有高解析及高感度的正型感光性材料經曝光及顯影後而形成，其中，以聚矽氧烷高分子為成分的正型感光性材料漸成為業界使用之主流。
日本特開2008-107529號揭示一種形成硬化膜用的感光性樹脂組成物。該組成物包含聚矽氧烷高分子、醌二疊氮磺酸酯及溶劑。其中，該聚矽氧烷高分子之特徵是含環氧丙烷基或丁二酸酐基，其製法是由一含環氧丙烷基(oxetanyl)或丁二酸酐基的矽氧烷單體經加水分解且部分縮合所獲得。該聚矽氧烷於共聚合時會經開環反應形成親水性的結構，並在稀薄鹼性顯影液中具有高溶解性，然而，該感光性樹脂組成物之感度不佳，難以令業界接受。
由上述可知，目前仍有需要發展出一種正型感光性聚矽氧烷組成物，且由該組成物所形成的保護膜具有良好感
度，以滿足業界的需求。
首先要說明的是，在本文中，該(甲基)丙烯酸表示丙烯酸及/或甲基丙烯酸；(甲基)丙烯醯[(meth)acryloyl]表示丙烯醯(acryloyl)及/或甲基丙烯醯(methacryloyl)；(甲基)丙烯酸酯[(meth)acrylate]表示丙烯酸酯(acrylate)及/或甲基丙烯酸酯(methacrylate)。
本發明之第一目的，即在提供一種具有高感度的感光性聚矽氧烷組成物。
於是，本發明感光性聚矽氧烷組成物，包含聚矽氧烷高分子(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，及溶劑(D)。
本發明之第二目的，即在提供一種感度良好的保護膜。
於是，本發明保護膜，係將一如前所述之感光性樹脂組成物塗佈於一基材上，再經預烤、曝光、顯影及後烤處理後所形成。
本發明之第三目的，即在提供一種具有保護膜的元件。
本發明具有保護膜的元件，包含一基材以及一形成於該基材上的如上所述的保護膜。
本發明之功效在於：本發明感光性聚矽氧烷組成物透過添加該每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲
酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，形成的保護膜感度良好。
本發明感光性聚矽氧烷組成物，包含聚矽氧烷高分子(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，及溶劑(D)。
以下將逐一對聚矽氧烷高分子(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)及溶劑(D)進行詳細說明：
該聚矽氧烷高分子(A)的種類並沒有特別限制，只要可以達到本發明所訴求的目的即可。較佳地，該聚矽氧烷高分子(A)可選擇地使用矽烷單體、聚矽氧烷或矽烷單體與聚矽氧烷之組合進行加水分解及部分縮合而製得。
較佳地，該聚矽氧烷高分子(A)，是由具有式(I)的矽烷單體經加水分解及部份縮合而得之共聚物：Si(Ra)t(ORb)4-t (I)
其中，t為0至3之整數，且當t表示2或3時，複數個Ra各自為相同或不同；Ra表示氫、C1至C10的烷基、C2至C10的烯基、C6至C15的芳香基、經酸酐基取代的C1至C10烷基、經環氧基取代的C1至C10烷基，或經環氧基取代的烷氧基；Rb表示氫、C1至C6的烷基、C1至C6的醯基，或C6至
C15的芳香基，且當4-t表示2或3時，複數個Rb各自為相同或不同。
在該Ra的定義中，C1至C10的烷基例如但不限於甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、正己基、正癸基、三氟甲基、3,3,3-三氟丙基、3-胺丙基、3-巰丙基、3-異氰酸丙基。C2至C10的烯基例如但不限於乙烯基、3-丙烯醯氧基丙基、3-甲基丙烯醯氧基丙基等。C6至C15的芳香基例如但不限於苯基、甲苯基(tolyl])、對-羥基苯基、1-(對-羥基苯基)乙基、2-(對-羥基苯基)乙基、4-羥基-5-(對-羥基苯基羰氧基)戊基[4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyl]、萘基[naphthyl]等。
該經酸酐基取代的C1至C10烷基例如但不限於乙基丁二酸酐、丙基丁二酸酐、丙基戊二酸酐等。
該經環氧基取代的C1至C10烷基例如但不限於環氧丙烷基戊基(oxetanylpentyl)、2-(3,4-環氧環己基)乙基[2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyl]等。
該經環氧基取代的烷氧基例如但不限於環氧丙氧基丙基(glycidyloxypropyl)、2-環氧丙烷基丁氧基(2-oxetanylbutoxy)等。
在該Rb的定義中，C1至C6的烷基包含但不限於甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等。C1至C6的醯基包含但不限於乙醯基。C6至C15的芳香基包含但不限於苯基。
於式(I)中，當t表示0至3的整數時，t為0時表示矽烷單體為四官能性矽烷，t為1時表示矽烷單體為三官能性
矽烷，t為2時表示矽烷單體為二官能性矽烷，t為3時則表示矽烷單體為單官能性矽烷。
該矽烷單體包含但不限於(1)四官能性矽烷：四甲氧基矽烷(tetramethoxysilane)、四乙氧基矽烷(tetraethoxysilane)、四乙醯氧基矽烷(tetraacetoxysilane)、四苯氧基矽烷等(tetraphenoxy silane)；(2)三官能性矽烷：甲基三甲氧基矽烷(methyltrimethoxysilane簡稱MTMS)、甲基三乙氧基矽烷(methyltriethoxysilane)、甲基三異丙氧基矽烷(methyltriisopropoxysilane)、甲基三正丁氧基矽烷(methyltri-n-butoxysilane)、乙基三甲氧基矽烷(ethyltrimethoxysilane)、乙基三乙氧基矽烷(ethyltriethoxysilane)、乙基三異丙氧基矽烷(ethyltriisopropoxysilane)、乙基三正丁氧基矽烷(ethyltri-n-butoxysilane)、正丙基三甲氧基矽烷(n-propyltrimethoxysilane)、正丙基三乙氧基矽烷(n-propyltriethoxysilane)、正丁基三甲氧基矽烷(n-butyltrimethoxysilane)、正丁基三乙氧基矽烷(n-butyltriethoxysilane)、正己基三甲氧基矽烷(n-hexyltrimethoxysilane)、正己基三乙氧基矽烷(n-hexyltriethoxysilane)、癸基三甲氧基矽烷(decyltrimethoxysilane)、乙烯基三甲氧基矽烷(vinyltrimethoxysilane)、乙烯基三乙氧基矽烷(vinyltriethoxysilane)、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(3-acryoyloxypropyltrimethoxysilane)、3-甲基丙烯醯氧基丙基
三甲氧基矽烷(3-methylacryloyloxypropyltrimethoxysilane)、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷(3-methylacryloyloxypropyltriethoxysilane)、苯基三甲氧基矽烷(phenyltrimethoxysilane，簡稱PTMS)、苯基三乙氧基矽烷(phenyltriethoxysilane簡稱PTES)、對-羥基苯基三甲氧基矽烷(p-hydroxyphenyltrimethoxysilane)、1-(對-羥基苯基)乙基三甲氧基矽烷[1-(p-hydroxyphenyl)ethyltrimethoxysilane]、2-(對-羥基苯基)乙基三甲氧基矽烷[2-(p-hydroxyphenyl)ethyltrimethoxysilane]、4-羥基-5-(對-羥基苯基羰氧基)戊基三甲氧基矽烷[4-hydroxy-5-(p-hydroxyphenylcarbonyloxy)pentyltrimethoxysilane]、三氟甲基三甲氧基矽烷(trifluoromethyltrimethoxysilane)、三氟甲基三乙氧基矽烷(trifluoromethyltriethoxysilane)、3,3,3-三氟丙基三甲氧基矽烷(3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane)、3-胺丙基三甲氧基矽烷(3-aminopropyltrimethoxysilane)、3-胺丙基三乙氧基矽烷(3-aminopropyltriethoxysilane)、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane)、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷(3-glycidoxypropyltriethoxysilane)、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷[2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane]、3-巰丙基三甲氧基矽烷(3-mercaptopropyltrimethoxysilane)、3-乙基-3-[[3-(三苯氧基矽基)丙氧基]甲基]環氧丙烷{3-ethyl-3-[[3-
(triphenoxysilyl)propoxy)methyl]oxetane}、由東亞合成所製造之市售品：3-乙基-3-[[3-(三甲氧基矽基)丙氧基]甲基]環氧丙烷{3-ethyl-3-[[3-(trimethoxysilyl)propoxy)methyl]oxetane}(商品名TMSOX-D)、3-乙基-3-[[3-(三乙氧基矽基)丙氧基]甲基]環氧丙烷{3-ethyl-3-[[3-(triethoxysilyl)propoxy)methyl]oxetane}(商品名TESOX-D)、2-(三甲氧基矽基)乙基丁二酸酐[2-(trimethoxysilyl)ethyl succinic anhydride]、3-(三苯氧基矽基)丙基丁二酸酐[3-triphenoxysilyl propyl succinic anhydride]、由信越化學所製造之市售品：3-(三甲氧基矽基)丙基丁二酸酐[3-trimethoxysilyl propyl succinic anhydride](商品名X-12-967)、由WACKER公司所製造之市售品：3-(三乙氧基矽基]丙基丁二酸酐[3-(triethoxysilyl)propyl succinic anhydride](商品名GF-20)、3-(三甲氧基矽基)丙基戊二酸酐[3-(trimethoxysilyl)propyl glutaric anhydride，簡稱TMSG]、3-(三乙氧基矽基)丙基戊二酸酐[3-(triethoxysilyl)propyl glutaric anhydride]、3-(三苯氧基矽基)丙基戊二酸酐[3-(triphenoxysilyl)propyl glutaric anhydride]等；(3)二官能性矽烷：二甲基二甲氧基矽烷(dimethyldimethoxysilane簡稱DMDMS)、二甲基二乙氧基矽烷(dimethyldiethoxysilane)、二甲基二乙醯氧基矽烷(dimethyldiacetyloxysilane)、二正丁基二甲氧基矽烷[di-n-butyldimethoxysilane]、二苯基二甲氧基矽烷(diphenyldimethoxysilane)、二異丙氧基-二(2-環氧丙烷基丁
氧基丙基)矽烷[diisopropoxy-di(2-oxetanylbutoxypropyl)silane，簡稱DIDOS]、二(3-環氧丙烷基戊基)二甲氧基矽烷[di(3-oxetanylpentyl)dimethoxy silane]、(二正丁氧基矽基)二(丙基丁二酸酐)[(di-n-butoxysilyl)di(propyl succinic anhydride)]、(二甲氧基矽基)二(乙基丁二酸酐)[(dimethoxysilyl)di(ethyl succinic anhydride)]；(4)單官能性矽烷：三甲基甲氧基矽烷(trimethylmethoxysilane)、三正丁基乙氧基矽烷(tri-n-butylethoxysilane)、3-環氧丙氧基丙基二甲基甲氧基矽烷(3-glycidoxypropyldimethylmethoxysilane)、3-環氧丙氧基丙基二甲基乙氧基矽烷(3-glycidoxypropyldimethylethoxysilane)二(2-環氧丙烷基丁氧基戊基)-2-環氧丙烷基戊基乙氧基矽烷[di(2-oxetanylbutoxypentyl)-2-oxetanylpentylethoxy silane]、三(2-環氧丙烷基戊基)甲氧基矽烷[tri(2-oxetanylpentyl)methoxy silane]、(苯氧基矽基)三(丙基丁二酸酐)[(phenoxysilyl)tri(propyl succinic anhydride)]、(甲基甲氧基矽基)二(乙基丁二酸酐)[(methoxysilyl)di(ethyl succinic anhydride)]等。上述之各種矽烷單體可單獨一種使用或混合多種使用。
較佳地，前述聚矽氧烷包含但不限於由下式(I-2)所示之聚矽氧烷：
於式(I-2)中，Rg、Rh、Ri及Rj為相同或不同，且各別
表示氫原子、C1至C10烷基、C2至C6烯基，或C6至C15芳香基，該烷基、烯基及芳香基中任一者可選擇地含有取代基，當s為2至1000的整數時，每個Rg為相同或不同，且每個Rh為相同或不同。烷基例如但不限於甲基、乙基、正丙基等。烯基例如但不限於乙烯基、丙烯醯氧基丙基、甲基丙烯醯氧基丙基等。芳香基例如但不限於苯基、甲苯基、萘基等。
Rl及Rk分別表示氫原子、C1至C6烷基、C1至C6醯基或C6至C15芳香基，該烷基、醯基及芳香基中任一者可選擇地含有取代基。烷基可例如但不限於甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等。醯基可例如但不限於乙醯基。芳香基可例如但不限於苯基。
進一步地於式(I-2)中，s為1至1000的整數。較佳地，s為3至300的整數。更佳地，s為5至200的整數。
該式(I-2)所示的聚矽氧烷可單獨或混合使用，且該式(I-2)所示的聚矽氧烷包含但不限於1,1,3,3-四甲基-1,3-二甲氧基二矽氧烷、1,1,3,3-四甲基-1,3-二乙氧基二矽氧烷、1,1,3,3-四乙基-1,3-二乙氧基二矽氧烷、Ge1est公司製矽烷醇末端聚矽氧烷之市售品[商品名如DM-S12(分子量400至700)、DMS-S15(分子量1500至2000)、DMS-S21(分子量4200)、DMS-S27(分子量18000)、DMS-S31(分子量26000)、DMS-S32(分子量36000)、DMS-S33(分子量43500)、DMS-S35(分子量49000)、DMS-S38(分子量58000)、DMS-S42(分子量77000)、PDS-9931(分子量1000
至1400)等]等。
該矽烷單體與聚矽氧烷混合使用時，其混合比率並無特別限制。較佳地，該矽烷單體與聚矽氧烷之矽原子莫耳數比是介於100：0.01至50：50之間。
該聚矽氧烷高分子(A)除了可由上述之矽烷單體及/或聚矽氧烷進行加水分解及部分縮合而製得外，亦可混合二氧化矽[silicon dioxide]粒子進行共聚合反應。該二氧化矽之平均粒徑並無特別的限制，其範圍為2nm至250nm。較佳地，其平均粒徑範圍為5nm至200nm。更佳地，其平均粒徑範圍為10nm至100nm。
該二氧化矽粒子可單獨或混合使用，且該二氧化矽粒子包含但不限於由觸媒化成公司所製造的市售品[商品名如OSCAR 1132(粒徑12nm；分散劑為甲醇)、OSCAR 1332(粒徑12nm；分散劑為正丙醇)、OSCAR 105(粒徑60nm；分散劑為γ-丁內酯)、OSCAR 106(粒徑120nm；分散劑為二丙酮醇)等]、由扶桑化學公司所製造的市售品[商品名如Quartron PL-1-IPA(粒徑13nm；分散劑為異丙酮)、Quartron PL-1-TOL(粒徑13nm；分散劑為甲苯)、Quartron PL-2L-PGME(粒徑18nm；分散劑為丙二醇單甲醚)、Quartron PL-2L-MEK(粒徑18nm；分散劑為甲乙酮)等]、由日產化學公司所製造的市售品[商品名如IPA-ST(粒徑12nm；分散劑為異丙醇)、EG-ST(粒徑12nm；分散劑為乙二醇)、IPA-ST-L(粒徑45nm；分散劑為異丙醇)、IPA-ST-ZL(粒徑100nm；分散劑為異丙醇)等]。
該二氧化矽粒子與該矽烷單體及/或聚矽氧烷混合時，並無使用量的限制。較佳地，該二氧化矽粒子之矽原子莫耳數與該聚矽氧烷高分子(A)之矽原子莫耳數比為1：100至50：100之間。
該加水分解及部份縮合可使用一般的方法。例如，在矽烷單體及/或聚矽氧烷、二氧化矽粒子等的混合物中添加溶劑、水，或選擇性地可進一步添加觸媒，接著於50℃至150℃下加熱攪拌0.5小時至120小時。攪拌時，進一步地可藉由蒸餾除去副產物(醇類、水等)。
上述溶劑並沒有特別限制，可與本發明感光性聚矽氧烷組成物中所包含的溶劑(D)為相同或不同。較佳地，基於該矽烷單體及/或聚矽氧烷的總量為100克，該溶劑的使用量範圍為15克至1200克。更佳地，該溶劑的使用量範圍為20克至1100克。又更佳地，該溶劑的使用量範圍為30克至1000克。
基於該混合物中所含的可水解基團為1莫耳，該用於水解的水的使用量範圍為0.5莫耳至2莫耳。
該觸媒沒有特別的限制，較佳地，該觸媒是選自於酸觸媒或鹼觸媒。該酸觸媒包含但不限於鹽酸、硝酸、硫酸、氟酸、草酸、磷酸、醋酸、三氟醋酸、蟻酸、多元羧酸或其酐、離子交換樹脂等。該鹼觸媒包含但不限於二乙胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、三己胺、三庚胺、三辛胺、二乙醇胺、三乙醇胺、氫氧化鈉、氫氧化鉀、含有胺基的烷氧基矽烷、離子交換樹脂等。
較佳地，基於該矽烷單體及/或聚矽氧烷的總量為100克，該觸媒的使用量範圍為0.005克至15克。更佳地，該觸媒的使用量範圍為0.01克至12克。又更佳地，該觸媒的使用量範圍為0.05克至10克。
基於安定性的觀點，經縮合反應後所製得的聚矽氧烷高分子(A)以不含副產物(如醇類或水)、觸媒為佳，因此所製得的聚矽氧烷高分子(A)可選擇性地進行純化。純化方法並無特別限制，較佳地，可使用疏水性溶劑稀釋該聚矽氧烷高分子(A)，接著以蒸發器濃縮經水洗滌數回的有機層，以除去醇類或水。另外，可使用離子交換樹脂除去觸媒。
該感光性聚矽氧烷組成物中的鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)沒有特別的限制，可選用一般所使用的。
該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)可為完全酯化或部份酯化的酯化物。
較佳地，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)係由鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與羥基化合物反應所製得。更佳地，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)係由鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與多元羥基化合物反應所製得。
該鄰萘醌二疊氮磺酸包含但不限於鄰萘醌二疊氮-4-磺酸、鄰萘醌二疊氮-5-磺酸、鄰萘醌二疊氮-6-磺酸等。該鄰萘醌二疊氮磺酸的鹽類可例如但不限於鄰萘醌二疊氮磺酸鹵鹽。
該羥基化合物可單獨或混合使用，且該羥基化合物包
含但不限於：
(1)羥基二苯甲酮類化合物，例如但不限於2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,4,4'-三羥基二苯甲酮、2,4,6-三羥基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮、2,4,2',4'-四羥基二苯甲酮、2,4,6,3',4'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2',4'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2',5'-五羥基二苯甲酮、2,4,5,3',5'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,3',4',5'-六羥基二苯甲酮等。
(2)羥基芳基類化合物，例如但不限於由式(a)所示的羥基芳基類化合物：
於式(a)中，Rm至Ro表示氫原子或C1至C6的烷基；Rp至Ru表示氫原子、鹵素原子、C1至C6的烷基、C1至C6的烷氧基(alkoxy)、C1至C6的脂烯基(alkenyl)，或環烷基(cycloalkyl)；Rv及Rw表示氫原子、鹵素原子及C1至C6的烷基；x、y及z表示1至3的整數；k表示0或1。上式(a)所示的羥基芳基類化合物例如但不限於三(4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥
基-2,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-2,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基苯基)-3-甲氧基-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯、1-[1-(3-甲基-4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)乙基]苯等。
(3)(羥基苯基)烴類化合物，例如但不限於由式(b)所示之(羥基苯基)烴類化合物：
式(b)中，Rx及Ry表示氫原子或C1至C6的烷基；x'及y'表示1至3的整數。該式(b)所示的(羥基苯基)烴類化合物例如但不限於2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(2',3',4'-三羥基苯基)丙烷、2-(2,4-二羥基苯基)-2-(2',4'-二羥基苯基)丙烷、2-(4-羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷、雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷、雙(2,4-二羥基苯基)甲烷等。
(4)其他芳香族羥基類化合物，例如但不限於苯酚、對-甲氧基苯酚、二甲基苯酚、對苯二酚、雙酚A、萘酚、鄰苯二酚、1,2,3-苯三酚甲醚、1,2,3-苯三酚-1,3-二甲基醚、3,4,5-三羥基苯甲酸、部份酯化或部份醚化的3,4,5-三羥基苯甲酸等。
較佳地，該羥基化合物是擇自於1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯、2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮，或此等一組合。
該鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類，與羥基化合物的反應通常在二氧雜環己烷(dioxane)、氮-吡咯烷酮(N-pyrrolidone)、乙醯胺(acetamide)等有機溶媒中進行，同時在三乙醇胺、鹼金屬碳酸鹽或鹼金屬碳酸氫鹽等鹼性縮合劑存在下進行較有利。
較佳地，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的酯化度在50%以上，亦即以該羥基化合物中的羥基總量為100mol%計，該
羥基化合物中有50mol%以上的羥基與鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類進行酯化反應。更佳地，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的酯化度在60%以上。
基於該聚矽氧烷高分子(A)的總量為100重量份，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的使用量範圍為1重量份至50重量份。較佳地，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的使用量範圍是2重量份至40重量份。更佳地，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的使用量範圍是3重量份至30重量份。
當該感光性聚矽氧烷組成物不含有該每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)時，所形成的保護膜的感度不佳。
該每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)可由習知的方法獲得。具體的製備方法可例如但不限於：先由聚異氰酸酯與多元醇反應，接著再與含羥基的(甲基)丙烯酸酯反應而製得該氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)；或是先由聚異氰酸酯與含羥基的(甲基)丙烯酸酯反應，接著再與多元醇反應而製得該氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)。較佳地，該氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)是先由雙官能的聚異氰酸酯與雙官能的多元醇反應，接著再與異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯反應而得。更佳地，該製備方法還包括使用一反應觸媒，該反應觸媒可例如但不限於二丁基錫二月桂酸酯
等公知的氨基甲酸酯化觸媒。
該含羥基的(甲基)丙烯酸酯可例如但不限於：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基甲酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、二(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、三聚甘油二(甲基)丙烯酸酯、異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二異戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯等，可單獨或混合2種以上使用。較佳地，該含羥基的(甲基)丙烯酸酯為異戊四醇三(甲基)丙烯酸酯。
較佳地，該聚異氰酸酯是分子內具有2個以上異氰酸酯基的聚異氰酸酯，可例如但不限於：伸甲苯基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基聚異氰酸酯、甲苯胺二異氰酸酯、萘二異氰酸酯等芳香族系、或六亞甲基二異氰酸酯(hexamethylene diisocyanate)、異佛爾酮二異氰酸酯(isophorone diisocyanate)、伸茬基二異氰酸酯(xylylene diisocyanate)、氫化伸茬基二異氰酸酯(hydrogenated xylylene diisocyanate)、二環己基甲烷二異氰酸酯等；該聚異氰酸酯可單獨或混合2種以上使用。
較佳地，該多元醇可例如但不限於：聚(環氧丙烷)二醇、聚(環氧丙烷)三醇、共聚(環氧乙烷-環氧丙烷)二醇、聚(四氫呋喃)二醇、乙氧基化雙酚A、乙氧基化雙酚S、螺環二醇(spiro glycol)、己內酯改質二醇、碳酸酯二醇、三羥甲基丙烷、季戊四醇等；該多元醇可單獨或混合2種以上使
用。
較佳地，該每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的分子量範圍為1,000至200,000，較佳地為1,200至100,000，更佳地為1,500至50,000。
較佳地，該氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)是每分子具有至少含有七個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物，有助於使該感光性聚矽氧烷組成物所形成的保護膜感度更佳。
更佳地，該氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)是每分子具有至少含有八個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
該每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的市售品可例如但不限於：(1)每分子具有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物：日本合成化學(股)製造的紫光UV-7600B、紫光UV-7605B；根上工業(股)製造的Art Resin UN-3320HA、Art Resin UN-3320HC；新中村化學工業(股)製造的NK Oligo U-6HA、NK Oligo U-6LPA；DAICEL-CYTEC公司製造的EBECRYL 5129、EBECRYL 220、EBECRYL 8301、KRM 8200、KRM 8200AE；荒川化學工業(股)製造的Beam Set 575、Beam Set 577等；(2)每分子具有七個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物：如日本合成化學(股)製造的紫光UV-
6300B等；(3)每分子具有至少含有八個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物：日本合成化學(股)製造的紫光UV-7610B、紫光UV-7620EA、紫光UV-1700B；根上工業(股)製造的Art Resin UN-901T、Art Resin UN-3320HS；新中村化學工業(股)製造的NK Oligo UA-33H、NK Oligo UA-53H；DAICEL-CYTEC公司製造的KRM 8452等。
前述市售品可單獨或混合2種以上使用。其中，較佳者為：日本合成化學(股)製的紫光UV-1700B、紫光UV-6300B、紫光UV-7605B，新中村化學工業(股)製造的NK Oligo U-6HA，及根上工業(股)製造的Art Resin UN-3320HC、Art Resin UN-3320HS、Art Resin UN-901T。
基於該聚矽氧烷高分子(A)的總量為100重量份，該每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量範圍為0.1重量份至35重量份。較佳地，該每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量範圍是0.5重量份至30重量份。更佳地，該每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量範圍是1重量份至25重量份。
該感光性聚矽氧烷組成物中的溶劑(D)種類並沒有特別限制。該溶劑(D)可單獨或混合使用，且該溶劑(D)包含但不
限於含醇式羥基(alcoholic hydroxyl)的化合物或含羰基的環狀化合物等。
該含醇式羥基的化合物可單獨或混合使用，且該含醇式羥基的化合物包含但不限於丙酮醇、3-羥基-3-甲基-2-丁酮、4-羥基-3-甲基-2-丁酮、5-羥基-2-戊酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮(二丙酮醇，簡稱DAA)、乳酸乙酯、乳酸丁酯、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚(簡稱PGEE)、丙二醇甲醚醋酸酯(簡稱PGMEA)、丙二醇單正丙醚、丙二醇單正丁醚、丙二醇單第三丁醚、3-甲氧基-1-丁醇、3-甲基-3-甲氧基-1-丁醇或此等一組合。較佳地，該含醇式羥基的化合物是擇自於二丙酮醇、乳酸乙酯、丙二醇單乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯，或此等一組合。
該含羰基的環狀化合物可單獨或混合使用，且該含羰基的環狀化合物包含但不限於γ-丁內酯、γ-戊內酯、δ-戊內酯、碳酸丙烯酯、氮-甲基吡咯烷酮、環己酮或環庚酮等。較佳地，該含羰基的環狀化合物是擇自於γ-丁內酯、氮-甲基吡咯烷酮、環己酮，或此等一組合。
當該含醇式羥基的化合物與含羰基的環狀化合物混合使用時，其重量比率沒有特別限制。較佳地，該含醇式羥基的化合物與該含羰基的環狀化合物的重量比值為99/1至50/50。更佳地，該含醇式羥基的化合物與該含羰基的環狀化合物的重量比值為95/5至60/40。值得一提的是，當該溶劑(D)中該含醇式羥基的化合物與含羰基的環狀化合物的重量比值為99/1至50/50時，該聚矽氧烷高分子(A)中未反應
的矽烷醇基不易產生縮合反應而降低貯藏安定性，且其與該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的相容性佳，於塗佈成膜時不易有白化的現象，可維持該保護膜的透明性。
在不損及本發明之效果的範圍內，亦可以含有其他溶劑。該其他溶劑包含但不限於(1)酯類：醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸異丙酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁酯、丙二醇甲醚醋酸酯、3-甲氧基-1-醋酸丁酯、3-甲基-3-甲氧基-1-醋酸丁酯等；(2)酮類：甲基異丁酮、二異丙酮、二異丁酮等；(3)醚類：二乙醚、二異丙醚、二正丁醚、二苯醚等。
較佳地，基於該聚矽氧烷高分子(A)的總量為100重量份，該溶劑(D)的使用量範圍為50重量份至1,200重量份。
又較佳地，該溶劑(D)之含量範圍為80重量份至1000重量份。更佳地，該溶劑(D)之含量範圍為100重量份至800重量份。
該感光性聚矽氧烷組成物選擇性地可進一步添加添加劑(E)，其包含但不限於增感劑、密著助劑、界面活性劑、溶解促進劑、消泡劑，或此等一組合。
該增感劑的種類並無特別的限制，較佳地，該增感劑是使用含有酚式羥基(phenolic hydroxyl)的化合物，可例如但不限於：(1)三苯酚型化合物：如三(4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基-3-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,3,5-三甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-4-羥基
苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基苯基)-3-甲氧基-4-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-4-羥基-2-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-4-羥基-2-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(5-環己基-4-羥基-2-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷等；(2)雙苯酚型化合物：如雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷、雙(2,4-二羥基苯基)甲烷、2,3,4-三羥基苯基-4'-羥基苯基甲烷、2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(2',3',4'-三羥基苯基)丙烷、2-(2,4-二羥基苯基)-2-(2',4'-二羥基苯基)丙烷、2-(4-羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷、2-(3-氟基-4-羥基苯基)-2-(3'-氟基-4'-羥基苯基)丙烷、2-(2,4-二羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷、2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷、2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(4'-羥基-3',5'-二甲基苯基)丙烷等；(3)多核分枝型化合物：如1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯、1-[1-(3-甲基-4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)乙基]苯等；
(4)縮合型苯酚化合物：如1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷等；(5)多羥基二苯甲酮類：如2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,4,4'-三羥基二苯甲酮、2,4,6-三羥基二苯甲酮、2,3,4-三羥基-2'-甲基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮、2,4,2',4'-四羥基二苯甲酮、2,4,6,3',4'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2',4'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2',5'-五羥基二苯甲酮、2,4,6,3',4',5'-六羥基二苯甲酮、2,3,4,3',4',5'-六羥基二苯甲酮等，或(6)上述各種類的一組合。
基於聚矽氧烷高分子(A)的總量為100重量份，該增感劑的使用量範圍為5重量份至50重量份。較佳地，該增感劑的使用量範圍為8重量份至45重量份。更佳地，該增感劑的使用量範圍為10重量份至40重量份。
該密著助劑包含但不限於三聚氰胺(melamine)化合物及矽烷系化合物等，其作用在於增加感光性聚矽氧烷組成物與含半導體材料的基材間的密著性。該三聚氰胺的市售品可例如但不限於三井化學所製造的商品名為Cymel-300及Cymel-303等，三和化學所製造的商品名為MW-30MH、MW-30、MS-11、MS-001、MX-750及MX-706等。該矽烷系化合物例如但不限於乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、氮-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、氮-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽
烷、3-環氧丙氧基丙基二甲基甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷、由信越化學公司所製造的市售品(商品名如KBM403)等。
當使用三聚氰胺化合物做為密著助劑時，基於聚矽氧烷高分子(A)的總量為100重量份，該三聚氰胺化合物的使用量範圍為0重量份至20重量份。較佳地，該三聚氰胺化合物的使用量範圍為0.5重量份至18重量份。更佳地，該三聚氰胺化合物的使用量範圍為1.0重量份至15重量份。
當使用矽烷系化合物作為密著助劑時，基於聚矽氧烷高分子(A)的總量為100重量份，該矽烷系化合物的使用量範圍為0重量份至2重量份。較佳地，該矽烷系化合物的使用量是0.05重量份至1.5重量份。更佳地，該矽烷系化合物的使用量範圍為0.1重量份至1重量份。
該界面活性劑包含但不限於陰離子系、陽離子系、非離子系、兩性、聚矽氧烷系、氟系或此等一組合。該界面活性劑之具體例如：(1)聚環氧乙烷烷基醚類：聚環氧乙烷十二烷基醚等；(2)聚環氧乙烷烷基苯基醚類：聚環氧乙烷辛基苯基醚、聚環氧乙烷壬基苯基醚等；(3)聚乙二醇二酯類：聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬酸酯等；(4)山梨糖醇酐脂肪酸酯類；(5)經脂肪酸改質之聚酯類；及(6)經三級胺改質之聚胺基甲酸酯類等。市售商品如KP(信越化學工業製)、SF-8427(Toray Dow Corning Silicon製)、
Polyflow(共榮社油脂化學工業製)、F-Top(Tochem Product Co.,Ltd.製)、Megaface(DIC製)、Fluorade(住友3M製)、Surflon(旭硝子製)、SINOPOL E8008(中日合成化學製)、F-475(DIC製)，或此等一組合。
基於聚矽氧烷高分子(A)的總量為100重量份，該界面活性劑的使用量範圍為0.5重量份至50重量份。較佳地，該界面活性劑的使用量範圍為1重量份至40重量份。更佳地，該界面活性劑的使用量範圍為3至30重量份。
該消泡劑的具體例如：Surfynol MD-20、Surfynol MD-30、EnviroGem AD01、EnviroGem AE01、EnviroGem AE02、Surfynol DF 110D、Surfynol 104E、Surfynol 420、Surfynol DF 37、Surfynol DF 58、Surfynol DF 66、Surfynol DF 70、Surfynol DF 210(Air products製)等。
基於聚矽氧烷高分子(A)的總量100重量份，該消泡劑的使用量範圍為1重量份至10重量份。較佳地，該消泡劑的使用量範圍為2重量份至9重量份。更佳地，該消泡劑的使用量範圍為3重量份至8重量份。
該溶解促進劑包含但不限於氮-羥基二羧基醯亞胺化合物(N-hydroxydicarboxylic imide)或含酚式羥基的化合物。該溶解促進劑的具體例如鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)中所使用的含酚式羥基的化合物。
基於聚矽氧烷高分子(A)的總量為100重量份，該溶解促進劑的使用量範圍為1重量份至20重量份。較佳地，該溶解促進劑的使用量範圍為2重量份至15重量份。更佳
地，該溶解促進劑的使用量範圍為3重量份至10重量份。
該感光性聚矽氧烷組成物的製法是將聚矽氧烷高分子(A)、醌二疊氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)及溶劑(D)放置於攪拌器中攪拌，使其均勻混合成溶液狀態，必要時可加入添加劑(E)。
本發明保護膜係將一如上所述之感光性聚矽氧烷組成物塗佈於一基材上，再經預烤、曝光、顯影及後烤處理後所形成。
本發明保護膜可以藉由旋轉塗佈、流延塗佈或輥式塗佈等塗佈方法，將該感光性聚矽氧烷組成物塗佈在一基材上，再經預烤(prebake)方式將溶劑去除而形成一預烤塗膜。
其中，預烤的條件，依各成分的種類、配合比率而異，通常為溫度在70℃至110℃間，進行1分鐘至15分鐘。預烤後，將該塗膜於光罩下進行曝光，曝光所使用的光線，以g線、h線、i線等的紫外線為佳，而紫外線照射裝置可為(超)高壓水銀燈及金屬鹵素燈。然後於23±2℃的溫度下浸漬於一顯影液中，歷時15秒至5分鐘，以去除不要的部分而形成特定的圖案。該顯影液的具體例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、碳酸鉀、碳酸氫鉀、矽酸鈉、甲基矽酸鈉[sodium methylsilicate]、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲銨(簡稱THAM)、氫氧化四乙銨、膽鹼、吡咯、哌啶及1,8-二氮雜二環-[5,4,0]-7-十一烯等的鹼性化合物。
該顯影液的作用在於將感光性聚矽氧烷組成物經由曝光後所定義的特定圖案顯現出來。顯影液的濃度太高會使得特定圖案損毀或造成特定圖案的解析度變差；濃度太低會造成顯影不良導致特定圖案無法成型或者曝光部分的組成物殘留，故濃度的多寡會影響後續該感光性聚矽氧烷組成物經曝光後之特定圖案的形成。較佳地，該顯影液的濃度範圍為0.001wt%至10wt%。又較佳地，該顯影液的濃度範圍為0.005wt%至5wt%。更佳地，該顯影液的濃度範圍為0.01wt%至1wt%。
本發明的具體例是使用2.38wt%的氫氧化四甲銨的顯影液。其中，2.38wt%的顯影液是目前普遍被業界所使用的，而低於2.38%的顯影液需視應用端的需求來搭配使用。
本發明感光性聚矽氧烷組成物不僅可搭配目前業界所使用的顯影液，即使在後續應用時使用濃度更低的顯影液，本發明感光性聚矽氧烷組成物也能形成良好的微細化圖案。
使用上述鹼性化合物所構成的顯影液時，通常於顯影後以水洗淨，再以壓縮空氣或壓縮氮氣風乾。接著，使用熱板或烘箱等加熱裝置進行後烤處理。後烤溫度通常為100℃至250℃，其中，使用熱板的加熱時間為1分鐘至60分鐘，使用烘箱的加熱時間為5分鐘至90分鐘。經過以上的處理步驟後即可形成一保護膜。
該基材可選自於應用在液晶顯示器中的無鹼玻璃、鈉鈣玻璃、強化玻璃(Pyrex玻璃)、石英玻璃或表面上已附著透明導電膜的玻璃等之基材及用於固體攝影元件等之光電
變換元件基板(如：矽基板)等。
該具有保護膜的元件包含一基材以及一形成於該基材上的如上所述的保護膜。
該具有保護膜的元件包含但不限於顯示元件、半導體元件或光波導路等。
本發明將就以下實施例來作進一步說明，但應瞭解的是，該等實施例僅為例示說明之用，而不應被解釋為本發明實施之限制。
在一容積500毫升的三頸燒瓶中，加入0.30莫耳的甲基三甲氧基矽烷(以下簡稱MTMS)、0.65莫耳的苯基三甲氧基矽烷(以下簡稱PTMS)、0.05莫耳的3-(三乙氧基矽基)丙基丁二酸酐(以下簡稱GF-20)及200克的丙二醇單乙醚(以下簡稱PGEE)，並於室溫下一邊攪拌一邊於30分鐘內添加草酸水溶液(0.40克草酸/75克H2O)。接著，將燒瓶浸漬於30℃的油浴中並攪拌30分鐘，然後於30分鐘內將油浴升溫至120℃，待溶液的內溫達到105℃時，持續加熱攪拌進行聚縮合6小時，再利用蒸餾方式將溶劑移除，可得聚矽氧烷高分子(A-1)。製備例A-1的原料種類及其使用量如表1所示。
製備例A-2至A-4是以與製備例A-1相同的步驟來製
備該聚矽氧烷高分子，不同的地方在於：改變矽烷單體及/或聚矽氧烷的種類及用量、溶劑的種類、反應溫度及聚縮合時間。製備例A-2至A-4的原料種類及使用量，以及反應條件詳細記載於表1。
將100重量份的製備例A-1的聚矽氧烷高分子、3重量份的1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯與鄰萘醌二疊氮-5-磺酸所形成之鄰萘醌二疊氮磺酸酯(商品名「DPAP200」，DKC製，平均酯化度為67%)，及0.1重量份的U-6HA，並加入50重量份的丙二醇甲醚醋酸酯(簡稱PGMEA)中，以搖動式攪拌器攪拌均勻後，即可製得實施例1的感光性聚矽氧烷組成物，並以下記之各檢測項目進行評價，所得結果如表2所示。
實施例2至8及比較例1至3是以與實施例1相同的步驟來製備該感光性聚矽氧烷組成物，不同的地方在於：改變原料的種類及其使用量，該原料的種類及其使用量如表2所示。該等感光性聚矽氧烷組成物以下記各檢測項目進行評價，所得結果如表2所示。
將實施例1至8及比較例1至3的感光性聚矽氧烷組成物以旋轉塗佈的方式，分別塗佈在100 x 100 x 0.7mm3大
小的素玻璃基板上，得到厚度約2μm之預塗膜，接續以110℃預烤2分鐘後，在曝光機與塗膜間置入正光阻用之光罩，且以曝光機之紫外光分別照射該等預塗膜，接著浸漬於2.38wt%的THAM顯影液中60秒。觀察塗膜可形成圖樣之1μm線幅，其紫外光之曝光能量為多少mJ/cm2，並以下述方式記錄於表2。
◎：曝光能量<100mJ/cm2
○：100mJ/cm2≦曝光能量<200mJ/cm2
X：200mJ/cm2≦曝光能量
由表2可知，比較例1及比較例2之聚矽氧烷組成物分別使用了具有酸價的聚矽氧烷高分子(A-1)和不具有酸價的聚矽氧烷高分子(A-2)，皆未添加該每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，該等聚矽氧烷組成物所形成的保護膜感度不佳。比較例3所用的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物僅於每分子具有兩個(甲基)丙烯醯基，該聚矽氧烷組成物所形成的保護膜感度不佳。
實施例1至8之聚矽氧烷組成物，無論該聚矽氧烷高分子(A)是否具有酸價，搭配該每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，該等聚矽氧烷組成物所形成的保護膜均具有良好感度。其中，實施例2至6及8之聚矽氧烷組成物所配合的該每分
子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)是含有七個以上的(甲基)丙烯醯基，感度更佳。
綜上所述，本發明透過同時使用聚矽氧烷高分子(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)；及溶劑(D)，使該聚矽氧烷組成物形成之保護膜感度良好，故確實能達成本發明之目的。
惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
Claims (6)
- 一種感光性聚矽氧烷組成物，包含：聚矽氧烷高分子(A)；鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)；每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)；及溶劑(D)，其中，該聚矽氧烷高分子(A)是至少選自具有式(I)的矽烷單體經加水分解及部份縮合而得之共聚物：Si(Ra)t(ORb)4-t (I)其中，t表示1至3之整數，且當t表示2或3時，複數個Ra各自為相同或不同；Ra表示氫、C1至C10的烷基、C2至C10的烯基、C6至C15的芳香基、經酸酐基取代的C1至C10烷基、經環氧基取代的C1至C10烷基，或經環氧基取代的烷氧基，且至少一Ra表示經酸酐基取代的C1至C10烷基；Rb表示氫、C1至C6的烷基、C1至C6的醯基，或C6至C15的芳香基，且當4-t表示2或3時，複數個Rb各自為相同或不同。
- 根據申請專利範圍第1項所述之感光性聚矽氧烷組成物，其中，該氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)是每分子具有至少含有七個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
- 根據申請專利範圍第1項所述之感光性聚矽氧烷組成物，其中，該氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)是每分子具有至少含有八個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
- 根據申請專利範圍第1項所述之感光性聚矽氧烷組成物，其中，基於該聚矽氧烷高分子(A)的總量為100重量份，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)之含量為1至50重量份、該每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)之含量為0.1至35重量份，及該溶劑(D)之含量為50至1200重量份。
- 一種保護膜，係將一如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之感光性聚矽氧烷組成物塗佈於一基材上，再經預烤、曝光、顯影及後烤處理後所形成。
- 一種具有保護膜的元件，包含一基材以及一如申請專利範圍第4項所述的保護膜，其中該保護膜形成於該基材上。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW101148690A TWI540181B (zh) | 2012-12-20 | 2012-12-20 | 感光性聚矽氧烷組成物、保護膜及具有保護膜的元件 |
| US14/098,763 US8921024B2 (en) | 2012-12-20 | 2013-12-06 | Photosensitive polysiloxane composition and applications thereof |
| CN201310731751.6A CN103885294B (zh) | 2012-12-20 | 2013-12-18 | 感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW101148690A TWI540181B (zh) | 2012-12-20 | 2012-12-20 | 感光性聚矽氧烷組成物、保護膜及具有保護膜的元件 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201425476A TW201425476A (zh) | 2014-07-01 |
| TWI540181B true TWI540181B (zh) | 2016-07-01 |
Family
ID=50954251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW101148690A TWI540181B (zh) | 2012-12-20 | 2012-12-20 | 感光性聚矽氧烷組成物、保護膜及具有保護膜的元件 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8921024B2 (zh) |
| CN (1) | CN103885294B (zh) |
| TW (1) | TWI540181B (zh) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI561920B (en) * | 2014-12-22 | 2016-12-11 | Chi Mei Corp | Photosensitive polysiloxane composition, protecting film, and element having the protecting film |
| TWI557501B (zh) * | 2014-12-22 | 2016-11-11 | 奇美實業股份有限公司 | 感光性聚矽氧烷組成物、保護膜以及具有保護膜的元件 |
| CN106154750B (zh) * | 2015-03-23 | 2021-09-14 | 奇美实业股份有限公司 | 感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件 |
| TWI566036B (zh) * | 2015-03-31 | 2017-01-11 | 奇美實業股份有限公司 | 感光性聚矽氧烷組成物、保護膜以及具有保護膜的元件 |
| TWI584066B (zh) * | 2015-05-25 | 2017-05-21 | 奇美實業股份有限公司 | 正型感光性樹脂組成物及其圖案形成方法 |
| US11845828B2 (en) * | 2016-10-31 | 2023-12-19 | Mitsui Chemicals, Inc. | Polymerizable composition for optical material, optical material, and producing method thereof |
| KR20190056088A (ko) * | 2017-11-16 | 2019-05-24 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 경화막 |
| KR102375855B1 (ko) | 2019-09-25 | 2022-03-17 | 주식회사 엘지화학 | 광학 적층체 및 이를 포함하는 플렉서블 디스플레이 장치 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW528930B (en) * | 1999-11-26 | 2003-04-21 | Nitto Denko Corp | Photosensitive resin composition and porous resin |
| US6534235B1 (en) * | 2000-10-31 | 2003-03-18 | Kansai Research Institute, Inc. | Photosensitive resin composition and process for forming pattern |
| JP4137497B2 (ja) | 2002-04-19 | 2008-08-20 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタ用感光性組成物、及びそれを用いたカラーフィルタ |
| TW200813635A (en) * | 2006-05-16 | 2008-03-16 | Nissan Chemical Ind Ltd | Positive type photosensitive resin composition and porous film obtained therefrom |
| WO2009028360A1 (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-05 | Toray Industries, Inc. | 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
| CN101750887B (zh) * | 2008-12-19 | 2012-07-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 感光树脂组合物 |
-
2012
- 2012-12-20 TW TW101148690A patent/TWI540181B/zh active
-
2013
- 2013-12-06 US US14/098,763 patent/US8921024B2/en active Active
- 2013-12-18 CN CN201310731751.6A patent/CN103885294B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN103885294B (zh) | 2017-07-14 |
| US8921024B2 (en) | 2014-12-30 |
| US20140178819A1 (en) | 2014-06-26 |
| TW201425476A (zh) | 2014-07-01 |
| CN103885294A (zh) | 2014-06-25 |
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