TWI456641B - 濕蝕刻基板之方法 - Google Patents
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Claims (10)
- 一種濕蝕刻基板的方法，用以形成多個通孔以埋置多個晶圓級光學透鏡模組，該濕蝕刻基板的方法包括：提供多個基板；以一罩幕屏蔽每一基板，以形成多個經屏蔽的基板；於一蝕刻槽中提供一蝕刻劑；以及在一預定時間中將該些經屏蔽的基板浸於該蝕刻劑中，以形成多個經蝕刻的基板，其中每一經蝕刻的基板具有適於埋置多個晶圓級光學透鏡模組的多個通孔。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕蝕刻基板的方法，其中每一基板的至少相對兩表面於該預定時間中被蝕刻。
- 如申請專利範圍第2項所述之濕蝕刻基板的方法，其中相鄰兩基板之間存在一間隙。
- 如申請專利範圍第3項所述之濕蝕刻基板的方法，其中該蝕刻槽的底部具有多個溝渠，且該些溝渠對應容納該些基板的一部分。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕蝕刻基板的方法，其中每一基板為一玻璃基板，且該玻璃基板用以作為該些晶圓級光學透鏡模組的間隙層。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕蝕刻基板的方法，其中該蝕刻劑包括氫氟酸。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕蝕刻基板的方法，其中該些基板的數目等於或大於十個。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕蝕刻基板的方法，其中每一罩幕具有一預定圖案，該預定圖案暴露每一基板將被蝕刻的部分，並覆蓋每一基板不被蝕刻的其他部分。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕蝕刻基板的方法，更包括：移除該些經蝕刻之基板的該些罩幕；以及清潔該些經蝕刻的基板。
- 如申請專利範圍第1項所述之濕蝕刻基板的方法，更包括：在於該蝕刻槽中提供該蝕刻劑之後，加熱該蝕刻劑。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| TW100123517A TWI456641B (zh) | 2011-07-04 | 2011-07-04 | 濕蝕刻基板之方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| TW100123517A TWI456641B (zh) | 2011-07-04 | 2011-07-04 | 濕蝕刻基板之方法 |
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| TW201303986A TW201303986A (zh) | 2013-01-16 |
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| TW (1) | TWI456641B (zh) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020139475A1 (en) * | 2001-03-30 | 2002-10-03 | Industrial Technology Research Institute | Apparatus and method for etching glass panels |
| CN101230226A (zh) * | 2007-01-25 | 2008-07-30 | 新应材股份有限公司 | 一种双面微影蚀刻新制程及其保护层的组成 |
| TW200921234A (en) * | 2007-11-02 | 2009-05-16 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Miniature camera module and method for making same |
-
2011
- 2011-07-04 TW TW100123517A patent/TWI456641B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
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| CN101230226A (zh) * | 2007-01-25 | 2008-07-30 | 新应材股份有限公司 | 一种双面微影蚀刻新制程及其保护层的组成 |
| TW200921234A (en) * | 2007-11-02 | 2009-05-16 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Miniature camera module and method for making same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| TW201303986A (zh) | 2013-01-16 |
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