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TWI452351B - 光學薄膜用黏著劑 - Google Patents

光學薄膜用黏著劑 Download PDF

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TWI452351B
TWI452351B TW96145497A TW96145497A TWI452351B TW I452351 B TWI452351 B TW I452351B TW 96145497 A TW96145497 A TW 96145497A TW 96145497 A TW96145497 A TW 96145497A TW I452351 B TWI452351 B TW I452351B
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triblock copolymer
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acrylic
acrylic triblock
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Yoshihiro Morishita
Kenichi Hamada
Tetsuya Kunimune
Kazushige Ishiura
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Kuraray Co
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Description

光學薄膜用黏著劑
本發明係有關於一種光學薄膜用黏著劑，適合使用於將偏光板、相位差薄膜及其他的光學薄膜黏貼在液晶面板等被黏著物，或將保護薄膜黏貼在光學薄膜。又，本發明係有關於一種具有由前述光學薄膜用黏著劑所構成的黏著劑層之黏著型光學薄膜及黏著型的光學薄膜用保護薄膜，及有關係一種使用前述黏著型的光學薄膜及/或黏著型的光學薄膜用保護薄膜而成之影像顯示裝置。
使用黏著劑將偏光板、相位差薄膜等光學薄膜黏貼在液晶面板等，或是將保護薄膜黏貼在光學薄膜時，在咬進皺紋、氣泡及異物等，或是在貼合位置產生偏移等時，有時會暫時將已黏貼光學薄膜或保護薄膜剝離而再次重新進行黏貼作業，或是在剝離光學薄膜後將昂貴的液晶面板回收再使用。因為此種情形，所以對於為了將光學薄膜黏貼於液晶顯示器等被黏著物，或是為了將光學薄膜黏貼保護薄膜時所使用的光學薄膜用黏著劑，要求必須不可有殘糊，且以適當的剝離強度能夠剝離，以及能夠再次黏貼的再加工性。
而且，對於光學薄膜用黏著劑，要求即使曝露於加熱、濕熱狀態，亦必須不會產生發泡、不會從被黏著物剝離及具有高耐久性。
光學薄膜用黏著劑有提案揭示(1)一種偏光板或相位 差板用黏著劑(參照專利文獻1)，係由整體的分子量為40萬~200萬的接枝共聚物或嵌段共聚物所構成，且具有玻璃轉移點(Tg)為50℃以上且分子量為500~100萬的高Tg聚合物部分及Tg比其低70C以上的低Tg聚合物部分；(2)一種光學薄膜用黏著劑(參照引用文獻2)，係相對於重量平均分子量100萬以上丙烯酸系聚合物100重量份，以1~40重量份的比率含有玻璃轉移溫度為－50℃以下、且重量平均分子量為800~5萬的丙烯酸系低聚物；及(3)一種含有丙烯酸系低聚物之光學薄膜用黏著劑(參照引用文獻3)，該丙烯酸系低聚物係由以重量平均分子量較佳為100萬以上的丙烯酸系聚合物作為主成分，且具有單獨時的玻璃轉移溫度為－5℃以下的聚合物嵌段之嵌段共聚物所構成。
但是，在專利文獻1，實際上唯一具體地記載作為實施例的黏著劑，係由以高Tg聚苯乙烯部分作為枝部、以丙烯酸丁酯系聚合物部分作為幹部之接枝共聚物所構成。而且，專利文獻1所揭示的黏著劑為了發揮其黏著特性，化學交聯處理係必要的，為了使其交聯，預先在構成前述接枝聚合物(作為黏著劑的原料用以使其交聯)的低Tg聚合物部分(幹部分)導入如羥基或羧基的官能基，並在黏著劑的塗布時在黏著劑溶液添加交聯劑(3官能異氰酸酯化合物之「CORONATE L」等)來使其化學性交聯。因此，專利文獻1所記載之黏著劑在製造黏著型光學薄膜時必須有稱為化學交聯的後處理製程，而使生產力降低、且容易因交聯不均而產生黏著性能的偏差。
又，在引用文獻2及3所記載的黏著劑，因為作為黏著劑的原料之丙烯酸系聚合物的重量平均分子量非常高而達到100萬以上，所以溶液黏度高，為了得到塗布優良之低黏度的黏著劑溶液，必須使用大量的有機溶劑而使黏著劑溶劑的固體成分濃度下降。大量地使用有機溶劑，會有環境污染、塗布後除去溶劑製程的長時間化等方面之問題。而且，因為在引用文獻2及3所記載的黏著劑亦與引用文獻1所記載的黏著劑同樣地，係在作為原料的丙烯酸系聚合物中，預先導入羧基或其他的官能基用以與交聯劑(3官能異氰酸酯化合物之「CORONATE L」等)反應而產生化學交聯，並在因為黏著劑的塗布時在黏著劑溶液添加交聯劑來進行化學交聯，所以在製造黏著型光學薄膜時必須有稱為化學交聯的後處理製程，而使生產力降低。並且容易因交聯不均而產生黏著性能的偏差。
又，已知一種熱熔融型黏著劑(參照專利文獻4及5)，係含有丙烯酸系三嵌段共聚物，但是該等文獻未揭示將該熱熔融型黏著劑使用於光學薄膜，又，亦未揭示將該熱熔融型黏著劑溶解於有機溶劑中來代替將該熱熔融型黏著劑熔融而製成溶液型黏著劑，用以使用於光學薄膜。
專利文獻1：特開平7－82542號公報 專利文獻2：特開2003－329837號公報 專利文獻3：特開2004－58289號公報 專利文獻4：特開平11－302617號公報 專利文獻5：特開平11－323072號公報 專利文獻6：特開平6－93060號公報 專利文獻7：特公平7－25859號公報 專利文獻8：特開平11－335432號公報
非專利文獻1：「Macromol.Chem.Phys.」，2000年，201卷，第1108~1114頁
本發明的目的係提供一種光學薄膜用黏著劑，其在將光學薄膜黏貼在被黏著物，或是將保護薄膜黏貼在光學薄膜時，能夠以適當的剝離強度剝離而沒有殘糊、且再加工性優良，而且即使曝露在加熱狀態或濕熱狀態，亦不會產生黏著力降低或發泡等，能夠長期間維持良好的黏著特性且耐久性優良。
而且，本發明的目的係提供一種光學薄膜用黏著劑，其不需要化學交聯處理而能夠以未進行化學交聯的方式良好生產力地製造黏著性能及耐久性優良的黏著型光學薄膜等。
而且，本發明的目的係提供一種溶液型的光學薄膜用黏著劑，其溶解在有機溶劑時能夠調製低黏度的溶液，藉此，雖然降低有機溶劑的使用量，亦具有優良的塗布性及處理性。
又，本發明的目的係提供一種具有前述光學薄膜用黏著劑所構成的黏著劑層之黏著型的光學薄膜及黏著型的光學薄膜用光學薄膜，及使用前述的黏著型的光學薄膜及/或 黏著型的光學薄膜用光學薄膜而成的影像顯示裝置。
為了解決上述課題，本發明者等反覆專心研討。結果發現若使用特定的丙烯酸系三嵌段共聚物來調製光學薄膜用黏著劑時，即使未進行化學交聯處理，亦能夠得到再加工性、黏著特性、耐熱性及耐久性等特性優良的光學薄膜用黏著劑，該特定的丙烯酸系三嵌段共聚物亦即係以玻璃轉移溫度為－20℃以下的丙烯酸丙烯酸酯聚合物嵌作為中央嵌段，並在其兩端各自鍵結玻璃轉移溫度為100C以上的甲基丙烯酸酯聚合物而成的丙烯酸系三嵌段共聚物，其重量平均分子量(Mw)為50,000~300,000、分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5、且中央的丙烯酸丙烯酸酯聚合物嵌段的含量為50~95質量%。
又，本發明者等發現，將前述特定丙烯酸系三嵌段共聚物溶解在有機溶劑而成的溶液即使高濃度亦具有低溶液黏度，將含有該丙烯酸系三嵌段共聚物之黏著劑塗布在基材上時的處理或保存安定性優良，且在調製光學薄膜用黏著劑時，雖然減少會對環境污染或塗布後的除去溶劑製程造成負荷之有機溶劑的使用量，亦能夠塗布在基材上。
而且，本發明者等發現此時前述的丙烯酸系三嵌段共聚物若使用以特定的質量比調配重量平均分子量(Mw)為50,000以上小於100,000之丙烯酸系三嵌段共聚物與重量平均分子量(Mw)為100,000以上300,000以下之丙烯酸系三嵌段共聚物而成者時，能夠將光學薄膜用黏著劑的黏著 物性(黏著力、潛變等)及本體物性(動態黏彈性等)等，更簡單順利地調整至需要的物性，同時，該光學薄膜用黏著劑的再加工性及耐久性亦更為提高。
又，本發明者等發現與上述的特定丙烯酸系三嵌段共聚物同時以特定的量使用二嵌段共聚物時，能夠得到再加工性更優良的光學薄膜用黏著劑，該二嵌段共聚物係特定的丙烯酸系二嵌段共聚物亦即係甲基丙烯酸烷酯與丙烯酸烷酯共聚物嵌段各自1個鍵結而成、且重量平均分子量(Mw)為50,000~300,000、分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5、丙烯酸烷酯聚合物嵌段的含量為50~95質量%。
而且，本發明者等發現此時使該光學薄膜用黏著劑的儲存彈性模數為特定範圍時，對基材或被黏著物的變形膨脹及收縮等的變化之追隨性增加，能夠減輕賦予基材或被黏著物的應力，經過長期間能夠發揮更安定的黏著力及耐久性，本發明係基於此等見識而完成。
亦即，本發明係
(1)一種非化學交聯型的光學薄膜用黏著劑，其特徵係以基於在黏著劑所含有的總固體成分的合計質量為60質量%以上的比率，含有具備下述必要條件(E1)、(E2)、(E3)及(E4)之丙烯酸系三嵌段共聚物(I)，○丙烯酸系三嵌段共聚物 (I)：(E1)下述通式(1)：A1-B-A2 (1)(式中，A1及A2係各自獨立地表示玻璃轉移溫度為100℃ 以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且B係玻璃轉移溫度為－20℃以下的丙烯酸烷酯聚合物嵌段)所示之丙烯酸系三嵌段共聚物；(E2)聚合物嵌段B的含量為50~95質量%；(E3)重量平均分子量(Mw)為50,000~300,000；及(E4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
而且，本發明係(2)如前述(1)之光學薄膜用黏著劑，其特徵係該丙烯酸系三嵌段共聚物(I)係將具備下述必要條件(E1)、(E2)、(E3，)及(E4)之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)與具備下述必要條件(E1)、(E2)、(E3＂)及(E4)之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)以丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)：丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)＝45：55~75：25的質量比調配而成者。
○丙烯酸系三嵌段共聚物 (Ia)：(E1)下述通式(1)：A1－B－A2 (1)(式中，A1及A2係各自獨立地表示玻璃轉移溫度為100℃以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且B係玻璃轉移溫度為－20℃以下的丙烯酸烷酯聚合物嵌段)所示之丙烯酸系三嵌段共聚物；(E2)聚合物嵌段B的含量為50~95質量%；(E3＇)重量平均分子量(Mw)為50,000以上小於100,000；及(E4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
○丙烯酸系三嵌段共聚物 (Ib)：(E1)下述通式(1)：A1－B－A2 (1)(式中，A1及A2係各自獨立地表示玻璃轉移溫度為100C以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且B係玻璃轉移溫度為－20℃以下的丙烯酸烷酯聚合物嵌段)所示之丙烯酸系三嵌段共聚物；(E2)聚合物嵌段B的含量為50~95質量%；(E3＂)重量平均分子量(Mw)為100,000以上300,000以下；及(E4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
而且，本發明係(3)如前述(2)之光學薄膜用黏著劑，其中該丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)的重量平均分子量(Mw)為100,000以上200,000以下。
(4)如前述(2)或(3)之光學薄膜用黏著劑，其中在該丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)之聚合物嵌段B的含量為50~70質量%，且在該丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)之聚合物嵌段B的含量為65~95質量%。
(5)如前述(2)~(4)中任一項之光學薄膜用黏著劑，其中該丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)係使用將具備上述必要條件(E1)、(E2)及(E4)、且重量平均分子量(Mw)為100,000以上小於120,000之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－1)與具備上述必要條件(E1)、(E2)及(E4)、且重量平均分子量(Mw)為 120,000以上200,000以下之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib-2)，以丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib-1)：丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib-2)=10：90~90：10的質量比調配而成者。
(6)如前述(1)~(5)中任一項之光學薄膜用黏著劑，其中構成該丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)、丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)、丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib-1)或丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib-2)之甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段的間規度(syndiotacticity)為65%以上。
又，本發明係
(7)係如前述(1)~(6)中任一項之光學薄膜用黏著劑，其中以基於在黏著劑所含有的總固體成分的合計質量為3~25質量%的比率，更含有具備下述必要條件(F1)、(F2)、(F3)及(F4)之丙烯酸系二嵌段共聚物(II)，○丙烯酸系二嵌段共聚物(II) ：(F1)下述通式(2)：C-D (2)(式中，C為甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且D為丙烯酸烷酯聚合物嵌段)所示之丙烯酸系二嵌段共聚物；(F2)聚合物嵌段D的含量為50~95質量%；(F3)重量平均分子量(Mw)為50,000~300,000；及(F4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
又，本發明係
(8)係如前述(1)~(7)中任一項之光學薄膜用黏著劑，其中將黏著劑以振動數6.28rad/s測定動態黏彈性時，在23℃ 的儲存彈性模數[G’(23℃)]為1.0×105 ~8.0×105 Pa，且在90℃的儲存彈性模數[G’(90℃)]為7.0×104 ~6.0×105 Pa。
(9)如前述(1)~(8)中任一項之光學薄膜用黏著劑，係溶解於有機溶劑而成之溶液型的黏著劑。
(10)如前述(1)~(9)中任一項之光學薄膜用黏著劑，係製成固體成分濃度為45質量%的甲苯溶液，在溫度25℃以B型黏度計測定的溶液黏度為1000~4000mPa．s。
(11)一種黏著型的光學薄膜或黏著型的光學薄膜用保護薄膜，係由前述(1)~(10)中任一項的光學薄膜用黏著劑所形成的黏著層，且未經過交聯製程所製成。
(12)一種影像顯示裝置，係使用前述(11)的黏著型的光學薄膜及/或黏著型的光學薄膜用保護薄膜而成。
以具備上述必要條件(E1)~(E4)的丙烯酸系三嵌段共聚物(I)構成主體之本發明的光學薄膜用黏著劑係不需要化學交聯處理，且即使未進行化學交聯處理，亦顯示高凝聚力，且具有良的再加工性、黏著特性、耐熱性及耐久性等，雖然省略了交聯製程，亦能夠良好製程性且良好生產力地製造黏著型的光學薄膜及黏著型的光學薄膜用黏著劑。
因為本發明的光學薄膜用黏著劑係非化學交聯型，所以黏著劑溶液的保存安定性優良(先前的化學交聯型的光學薄膜用黏著劑時保存安定性會成為問題)，且不會因乾燥製程或保管中的條件(溫度、風量、生產線速、保管期間等)而產生交聯不均，致使製品的黏著性能產生偏差之不良， 並具有均勻且高性能的黏著特性。
以前述特定的丙烯酸系三嵌段共聚物(I)作為主體之本發明的光學薄膜用黏著劑，在溶解於有機溶劑而成為溶液型的黏著劑時，因為即使高濃度亦具有低溶液黏度，雖然減少有機溶劑的使用量，亦能夠成為固體成分濃度比先前高的溶液型的黏著劑(固體成分濃度為35質量%以上的溶液型黏著劑)，該固體成分濃度高的溶液型黏著劑，在塗布時的處理性或生產線速的提升等製程性優良。
而且，藉由降低有機溶劑的使用量，能夠減少因有機溶劑所造成的作業環境變差或環境污染的問題，而且能夠減少塗布後的除去溶劑製程所需要的時間或熱能等。
而且，藉由製成固體成分濃度高的溶劑型黏著劑，能夠謀求藉由削減輸送成本及黏著劑槽的填加次數等來提升生產力。
特別是在本發明，以本發明所規定的特定質量比使用具備上述的必要條件(E1)、(E2)及(E4)之重量平均分子量(Mw)為50,000以上小於100,000之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)與具備上述的必要條件(E1)、(E2)及(E4)之重量平均分子量(Mw)為100,000以上300,000以下之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)作為丙烯酸系三嵌段共聚物(I)而成的光學薄膜用黏著劑，能夠將黏著物性(黏著力、潛變等)及本體物性(動態黏彈性等)等，更簡單順利地調整至需要的物性，且耐久性亦更為提高，而且經時性黏著力的變化更小，即使長時間加熱後亦能夠維持優良的再加工性。
在本發明的光學薄膜用黏著劑，與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)同時，以基於在黏著劑所含有的總固體成分的合計質量為3~25質量%以上的比率調配具備下述必要條件(F1)~(F4)之特定丙烯酸系二嵌段共聚物(II)而成者，黏著劑對被黏著物的潤濕性良好、且黏著力的經時變化小、再加工性優良。
又，本發明的光學薄膜用黏著劑之中，以振動數6.28rad/s測定動態黏彈性時，在23℃的儲存彈性模數[G＇(23C)]為1.0×105 ~8.0×105 Pa，且在90C的儲存彈性模數[G＇(90℃)]為7.0×104 ~6.0×105 Pa之光學薄膜用黏著劑，對基材或被黏著物的變形、膨脹及收縮等的變化之追隨性增加，能夠減輕賦予基材或被黏著物的應力，經過長期間能夠發揮更安定的黏著力及耐久性。
以下，詳細地說明本發明。
本發明係有關於光學薄膜用黏著劑者。
本發明的「光學薄膜用黏著劑」係指在光學用途所使用的各種薄膜(未限定，例如偏光薄膜、偏光板、相位差薄膜、視野角擴大薄膜、亮度提高薄膜、防止反射薄膜、防眩薄膜、彩色濾光片、導光板、擴散薄膜、稜鏡薄片、電磁波遮蔽薄膜、近紅外線吸收薄膜及複合複數個光學功能而成的功能性複合薄膜等)的一面或兩面的一部分或全部形成黏著劑層所使用的黏著劑，及為了保護前述光學薄膜的表面而將保護薄膜黏貼於光學薄膜表面時所使用的黏著 劑之總稱。
本發明的光學薄膜用黏著劑所使用的丙烯酸系三嵌段共聚物(I)係具備：(E1)下述通式(1)：A1－B－A2 (1)(式中，A1及A2係各自獨立地表示玻璃轉移溫度為100C以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且B係玻璃轉移溫度為－20℃以下的丙烯酸烷酯聚合物嵌段)所示之丙烯酸系三嵌段共聚物；；(E2)重量平均分子量(Mw)為50,000~300,000；(E3)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5；及(E4)聚合物嵌段B的含量為50~95質量%；之必要條件(E1)~(E4)之丙烯酸系三嵌段共聚物。
作為本發明的光學薄膜用黏著劑的主體之丙烯酸系三嵌段共聚物(I)係在由甲基丙烯酸烷酯聚所構成的2個聚合物嵌段A1與A2之間，鍵結由丙烯酸烷酯所構成的聚合物嵌段B而成、且以式：A1－B－A2所示之丙烯酸系三嵌段共聚物[上述的必要條件(E1)]。
在丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之2個聚合物嵌段A1及聚合物嵌段A2，任一者都是由玻璃轉移溫度100C以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物所構成的聚合物嵌段。玻璃轉移溫度100℃以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物所構成的聚合物嵌段A1及A2，於黏著劑通常的使用溫度，在構成微相分離結構之丙烯酸系三嵌段共聚物(I)，具有作為束縛相(物理性 模擬交聯點)之作用。因此，本發明的光學薄膜用黏著劑係與進行化學交聯來顯現黏著力之前述專利文獻1~3所記載的先前的光學薄膜用黏著劑不同，不需要調配交聯劑，即使未進行化學交聯，亦能夠顯現充分的凝聚力，能夠發揮優良的黏著特性及耐久性。
在丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段A1及A2，玻璃轉移溫度為100~200℃、特別是100~150℃的甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，就耐久性、耐熱性、對基材變形的追隨性及適當的應力緩和性而言，乃是較佳。
在丙烯酸系三嵌段共聚物(I)，只要2個聚合物嵌段A1及A2係由玻璃轉移溫度為100℃以上甲基丙烯酸烷酯聚合物所構成的聚合物嵌段時，可以是由相同聚合物[分子量、單體組成、立體結構(間規度等)等係相同之相同甲基丙烯酸烷酯聚合物]所構成，亦可以由不相同聚合物[分子量、單體組成、立體結構(間規度等)等之中1或2項以上互相不同的甲基丙烯酸烷酯聚合物]所構成。
構成聚合物嵌段A1及A2之甲基丙烯酸烷酯單位可舉出例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸2－乙基己酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸十三酯、甲基丙烯酸硬脂酯及甲基丙烯酸異莰酯等的甲基丙烯酸烷酯所構成的單位，聚合物嵌段A1及A2能夠只由前述的甲基丙烯酸烷酯單位的1種類所形成，亦可以由2種類 以上所形成。
此等之中，因為原料之甲基丙烯酸甲酯容易以經濟的價格取得，且聚甲基丙烯酸甲酯具有優良的耐久性及耐候性，聚合物嵌段A1及A2以由聚甲基丙烯酸甲酯所構成為佳。
構成丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段B係由丙烯酸烷酯所構成，若是玻璃轉移溫度為－20℃以下的聚合物嵌段時，構成聚合物嵌段B之丙烯酸烷酯單位的種類或成分組成沒有特別限定。
玻璃轉移溫度為－20℃以下的聚合物嵌段B，於通常的使用溫度在構成微相分離結構之丙烯酸系三嵌段共聚物(I)，能夠賦予優良的柔軟性及潤濕性，能夠使本發明光學薄膜用黏著劑(以下有時簡稱為「本發明的黏著劑」或「黏著劑」)，顯現適當的黏著力及良好的再加工性。
其中，聚合物嵌段B係由玻璃轉移溫度－30C以下、特別是－40~－80℃的丙烯酸烷酯聚合物所構成時，就在低溫條件下的耐久性優良而言，乃是較佳。
構成聚合物嵌段B之丙烯酸烷酯單位可舉出例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸2－乙基己酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸十三酯及丙烯酸硬脂酯等的丙烯酸烷酯所構成的單位，聚合物嵌段B能夠只由前述的丙烯酸烷酯單位的1種類所形成，亦可以由2種類以上所形成。
其中，從聚合物嵌段B的玻璃轉移溫度為－20C以下、黏著劑在低溫時的黏著力及膠黏性良好，且能夠抑制在高速剝離時的黏著力上升及發出尖嘯聲(zipping)現象，聚合物嵌段B以使用由丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2－乙基己酯及丙烯酸正辛酯所構成的單位之1種或2種以上所構成為佳。
特別是聚合物嵌段B係由丙烯酸正丁酯單位及/或丙烯酸2－乙基己酯單位所構成時，從丙烯酸正丁酯及丙烯酸2－乙基己酯能夠以作為泛用藥品的方式價廉地取得，且聚合物嵌段A與聚合物嵌段B的相分離清晰，聚合物嵌段A的模擬交聯點不會崩潰，作為黏著劑時凝聚力高、且耐久性優良而言，乃是較佳。
構成丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段A1及A2和聚合物嵌段B，在不損害本發明效果的範圍，少量(通常係相對於各聚合物嵌段的質量，為10質量%以下的比率)，亦可具有其他單體單位。聚合物嵌段A1及A2和聚合物嵌段B之亦可具有的其他單體單位，可舉出例如具有(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯(係意指丙烯酸甲氧基乙酯或甲基丙烯酸甲氧基乙酯，以下同樣)、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2－羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2－胺基乙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯等的官能基之(甲基)丙烯酸酯；具有(甲基)丙烯酸、巴豆酸、順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、反丁烯二酸、(甲基)丙烯醯胺等具有羧基之乙烯系單體；苯乙烯、α－甲基 苯乙烯、對甲基苯乙烯等的芳香族乙烯系單體；丁二烯、異戊二烯等的共軛二烯系單體；乙烯、丙烯等的烯烴系單體；及由ε－己內酯、戊內酯等的內酯系單體所構成的單位，此等單體單位可按照必要含有1種或2種以上。
在丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段B的比率，係基於丙烯酸系三嵌段共聚物(I)為50~95質量%[上述的必要條件(E2)]，以60~85質量%為佳，以65~80質量%為更佳。
藉由使在丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段B的含有比率在上述範圍內，能夠使黏著劑的黏著力變為安定。
在丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段B的含有比率為小於50質量%時，黏著劑的黏著力下降，另一方面，大於95質量%時，因為成為模擬交聯點的聚合物嵌段A1及A2的含有比率相對地降低，所以凝聚力變小、黏著劑的耐久性下降。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的重量平均分子量(Mw)為50,000~300,000[上述的必要條件(E3)]，從耐久性及再加工性性雙方的觀點，以60,000~250,000為佳，以70,000~200,000為更佳。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的重量平均分子量(Mw)小於50,000時，黏著劑的凝聚力不充分，使用黏著劑將光學薄膜黏貼在被黏著物，或是將保護薄膜黏貼在光學薄膜時，容易產生剝離、且耐久性變差。另一方面，丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的重量平均分子量(Mw)大於300,000時， 因為製品在保管中等，黏著力慢慢地上升，為了消除咬進皺紋、氣泡及異物、或是位置偏移，將光學薄膜或保護薄膜剝下並再次貼合時的再加工會成為困難。又，丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的重量平均分子量(Mw)大於300,000時，因為溶液黏度變高而無法以高濃度塗布，會使溶劑用量增加。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5[上述必要條件(E4)]，就黏著劑在高溫時的凝聚力變高、且耐久性更為優良而言，分子量分布(Mw/Mn)以1.0~1.4為佳，以1.0~1.3為更佳。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的分子量分布(Mw/Mn)大於1.5時，因為無法忽視低分子量成分的影響，容易產生凝聚力下降、或再加工時的殘糊等不良。
在此，在本說明書之丙烯酸系三嵌段共聚物，以下所記載之丙烯酸二嵌段共聚物的重量平均分子量(Mw)、數量平均分子量(Mn)及分子量分布(Mw/Mn)係藉由以下的實施例所記載的方法所求得的值。
構成本發明的光學薄膜用黏著劑的主體之丙烯酸系三嵌段共聚物(I)，可以是滿足上述的必要條件(E1)~(E4)之1種類的丙烯酸系三嵌段共聚物所構成，亦可以是由滿足上述的必要條件(E1)~(E4)之2種類或3種類以上的丙烯酸系三嵌段共聚物所構成。
特別是，在本發明的黏著劑，構成主體之丙烯酸系三嵌段共聚物(I)，係使用由具備下述必要條件(E1)、(E2)、 (E3＇)及(E4)之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)與具備下述必要條件(E1)、(E2)、(E3＂)及(E4)之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)以丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)：丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)＝45：55~75：25的質量比、較佳是50：50~70：30的質量比、更佳是60：40~70：30的質量比所調配而成者時，能夠將光學薄膜用黏著劑的黏著物性(黏著力、潛變等)及本體物性(動態黏彈性等)等，更簡單順利地調整至需要的物性，而且黏著劑的耐久性及再加工性亦更為提高。
○丙烯酸系三嵌段共聚物 (Ia)：(E1)下述通式(1)：A1－B－A2 (1)(式中，A1及A2係各自獨立地表示玻璃轉移溫度為100℃以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且B係玻璃轉移溫度為－20℃以下的丙烯酸烷酯聚合物嵌段)所示之丙烯酸系三嵌段共聚物；(E2)聚合物嵌段B的含量為50~95質量%；(E3＇)重量平均分子量(Mw)為50,000以上小於100,000；及(E4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
○丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib) ：(E1)下述通式(1)：A1－B－A2 (1)(式中，A1及A2係各自獨立地表示玻璃轉移溫度為100C以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且B係玻璃轉移溫度 為－20℃以下的丙烯酸烷酯聚合物嵌段)所示之丙烯酸系三嵌段共聚物；(E2)聚合物嵌段B的含量為50~95質量%；(E3＂)重量平均分子量(Mw)為100,000以上300,000以下；及(E4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
丙烯酸系三嵌段共聚物(I)係使用調配上述的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)及丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)而成者時，丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)以使用具備上述必要條件(E1)、(E2)及(E4)、且重量平均分子量(Mw)為50,000~90,000、更佳是55,000~85,000、特佳是60,000~75,000者，又，丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)以使用具備上述必要條件(E1)、(E2)及(E4)、且重量平均分子量(Mw)為100,000~200,000、更佳是105,000~190,000、特佳是110,000~180,000者，藉此，黏著劑的耐久性、再加工性、因溫度及濕度所引起光學薄膜的膨脹及收縮等的追隨性變為更加良好。
又，丙烯酸系三嵌段共聚物(I)係使用調配丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)及丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)而成者時，將聚合物嵌段B的含量為50~70質量%之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)與聚合物嵌段B的含量為65~95質量%之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)調配使用時，丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)的聚合物嵌段A1及A2的分子量與丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)的聚合物嵌段A1及A2的分子量接近，擔任丙烯 酸系三嵌段共聚物(Ia)與丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)的物理交聯之聚合物嵌段之間的相容性提高，藉由丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)與丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)的物理交聯能夠產生網狀結構，而使黏著劑的耐久性更為提高。
又，丙烯酸系三嵌段共聚物(I)係調配丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)及丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)而使用時，丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)係使用由具備的必要條件(E1)、(E2)及(E4)、且重量平均分子量(Mw)為100,000以上小於120,000之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－1)與具備的必要條件(E1)、(E2)及(E4)、且重量平均分子量(Mw)為120,000以上200,000以下之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－2)，以丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－1)：丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－2)＝10：90~90：10、較佳是50：50~90：10、更佳是60：40＝80：20的質量比混合而成者時，能夠將光學薄膜用黏著劑的黏著物性(黏著力、潛變等)及本體物性(動態黏彈性等)等，更簡單順利地調整至需要的物性，且耐久性及再加工性優良，能夠以高濃度塗布及削減溶劑使用量。
在丙烯酸系三嵌段共聚物(I)、丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)、丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)、丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－1)或丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－2)，構成該等的三嵌段共聚物之甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段的間規度以65%以上為佳，以70~95%為更佳。藉由該聚合物嵌段的間規度為65%以上，黏著劑的耐久性(黏著特性的持續性)變為良好。
本發明的黏著劑必須基於在黏著劑所含有的總固體成 分的合計質質量，以60質量%以上的比率含有上述的丙烯酸系三嵌段共聚物(I)，以75質量%以上的比率含有為佳，以80質量%以上的比率含有為更佳[前述含量係調配使用丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)及丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)作為丙烯酸系三嵌段共聚物(I)時之兩者合計量]。
基於在黏著劑所含有的總固體成分的合計質質量，丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的含量小於60質量%時，凝聚力下降、且黏著劑的耐久性(黏著力的持續性)下降。
與上述的丙烯酸系三嵌段共聚物(I)同時，本發明的黏著劑亦可按照必要含有具備下述的必要條件(F1)、(F2)、(F3)及(F4)之丙烯酸係二嵌段共聚物(II)。
○丙烯酸系二嵌段共聚物(II) ：(F1)下述通式(2)：C－D (2)(式中，C為甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且D為丙烯酸烷酯聚合物嵌段)所示之丙烯酸系二嵌段共聚物；(F2)聚合物嵌段D的含量為50~95質量%；(F3)重量平均分子量(Mw)為50,000~300,000；及(F4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
與上述的丙烯酸系三嵌段共聚物(I)同時，本發明的黏著劑按照必要更含有丙烯酸係二嵌段共聚物(II)時，基於在黏著劑所含有的總固體成分的合計質質量，丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的含量以3~25質量%為佳，以3~20質量%為更佳。
以前述的量含有二嵌段共聚物(II)時，能夠改良黏著劑對被黏著物的潤濕性、且黏著力的經時變化變小，能夠得到再加工性優良的光學薄膜用黏著劑。丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的含量大於25質量%時，黏著劑的凝聚力下降，會有耐久性(維持長期的黏著狀態)變差之情況。
在丙烯酸系二嵌段共聚物(II)，聚合物嵌段C以由玻璃轉移溫度為50℃以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物所構成的聚合物嵌段為佳，又，聚合物嵌段D係以由玻璃轉移溫度為－20℃以下的丙烯酸烷酯聚合物所構成的聚合物嵌段為佳。
而且，丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的聚合物嵌段C與黏著劑中的主成分之丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的聚合物嵌段A相容為佳，又，丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的聚合物嵌段D與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的聚合物嵌段B相容為佳。
藉此，丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的聚合物嵌段C被在丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段A1及A2所構成的束縛相所束縛，來防止凝聚力的降低。又，丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的聚合物嵌段D係存在於由丙烯酸系三嵌段共聚物(I)聚合物嵌段B所構成的非束縛相中，在與被黏著物的界面於黏著過程能夠提高潤濕性，而在貼合的初期階段顯現安定的黏著力。
在丙烯酸系二嵌段共聚物(II)，構成聚合物嵌段C之甲基丙烯酸烷酯單位可舉出例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸環己酯、甲 基丙烯酸2－乙基己酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸十三酯、甲基丙烯酸硬脂酯及甲基丙烯酸異莰酯等的甲基丙烯酸烷酯所構成的單位，且聚合物嵌段C能夠只由前述的甲基丙烯酸烷酯單位的1種類所形成，亦可以由2種類以上所形成。此等之中，聚合物嵌段C係由聚甲基丙烯酸甲酯所構成，因為原料之甲基丙烯酸甲酯容易以經濟的價格取得，且聚甲基丙烯酸甲酯具有優良的耐久性及耐候性，乃是較佳。
在丙烯酸系二嵌段共聚物(II)，構成聚合物嵌段D之丙烯酸烷酯單位可舉出例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸正已酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸2－乙基己酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸十三酯及丙烯酸硬脂酯等的丙烯酸烷酯所構成的單位，聚合物嵌段D能夠只由前述的丙烯酸烷酯單位的1種類所形成，亦可以由2種類以上所形成。
其中，聚合物嵌段D以使用由丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2－乙基己酯及丙烯酸正辛酯所構成的單位之1種或2種以上所構成為佳，藉此，聚合物嵌段D的玻璃轉移溫度為－20℃以下、黏著劑在低溫時的黏著力及膠黏性良好，且能夠抑制在高速剝離時的黏著力上升及發出尖嘯聲(zipping)現象。上述的單體之中，丙烯酸正丁酯及丙烯酸2－乙基己酯係泛用藥品，能夠價廉地取得。
構成丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段C和聚合物嵌段D，在不損害本發明效果的範圍，少量(通常係相 對於各聚合物嵌段的質量，為10質量%以下的比率)，亦可具有其他單體單位。聚合物嵌段C和聚合物嵌段D之亦可具有的其他單體單位，可舉出例如具有(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯(係意指丙烯酸甲氧基乙酯或甲基丙烯酸甲氧基乙酯，以下同樣)、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙胺基乙酯、(甲基)丙烯酸2－羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2－胺基乙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯等的官能基之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸、巴豆酸、順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、反丁烯二酸、(甲基)丙烯醯胺等具有羧基之乙烯系單體；苯乙烯、α－甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯等的芳香族乙烯系單體；丁二烯、異戊二烯等的共軛二烯系單體；乙烯、丙烯等的烯烴系單體；及由ε－己內酯、戊內酯等的內酯系單體所構成的單位，此等單體單位可按照必要含有1種或2種以上。
在丙烯酸系二嵌段共聚物(II)之聚合物嵌段D的比率，係基於丙烯酸系二嵌段共聚物(II)為50~95質量%[上述的必要條件(F2)]，以70~95質量%為佳。
藉由使在丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段B的含有比率在上述範圍內，能夠使黏著劑的黏著力變為安定。
在丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之聚合物嵌段B的含有比率為小於50質量%時，黏著劑的黏著力下降，另一方面，大於95質量%時，因為成為模擬交聯點的聚合物嵌段C的含有比率相對地降低，所以會有凝聚力變小、黏著劑的耐久性下降的情形。
丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的重量平均分子量(Mw)為50,000~300,000[上述的必要條件(F3)]，從耐久性及再加工性性雙方的觀點，以60,000~250,000為佳，以70,000~200,000為更佳。
丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的重量平均分子量(Mw)小於50,000時，黏著劑的凝聚力不充分，使用與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)同時含有丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的黏著劑，將將光學薄膜黏貼在被黏著物時，或是將保護薄膜黏貼在光學薄膜時，容易產生剝離、且耐久性變差。另一方面，丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的重量平均分子量(Mw)大於300,000時，因為潤濕性降怟，製品在保管中等，黏著力慢慢地上升，為了消除咬進皺紋、氣泡及異物、或是位置偏移，將光學薄膜或保護薄膜剝離並再次貼合時的再加工會變為困難。
丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5[上述必要條件(F4)]，就凝聚力優良、被黏著物污染性(殘糊、低分子量成分的黏附等)低而言，以1.0~1.4為佳，以1.0~1.3為更佳。
本發明的黏著劑所使用的丙烯酸系三嵌段共聚物(I)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)的製法，只要能夠得到滿足上述必要條件之丙烯酸系三嵌段共聚物或丙烯酸系二嵌段共聚物時沒有特別限定，能夠採用依據眾所周知的手法之方法。通常，得到分子量分布狹窄的嵌段共聚物之方法，能夠採用使構成單位之單體活性聚合的方法。此種活性聚合 的手法可舉出例如以有機稀土類金屬錯合物作為聚合引發劑而進行聚合之方法(參照專利文獻6)；以有機鹼金屬化合物作為聚合引發劑並在鹼金屬或鹼土類金屬的鹽等的礦酸鹽的存在下進行陰離子聚合之方法(參照專利文獻7)；以有機鹼金屬化合物作為聚合引發劑並在有機鋁化合物的存在下進行陰離子聚合之方法(參照專利文獻8)；原子移動自由基聚合方法(ATRP)(參照非專利文獻1)等。
上述的製法之中，藉由在有機鋁化合物的存在下進行陰離子聚合之方法時，因為聚合途中的失活減少，失活成分之同元聚合物的混入少，結果所得到黏著劑的透明性高。又，因為單體的聚合轉化率高，所以製品中殘餘單體少，使用作為光學薄膜用黏著劑時，能夠抑制貼合後產生氣泡。而且，甲基丙烯酸酯聚合物嵌段的分子結構變為高間規，使用於光學薄膜用黏著劑時具有高耐久性的效果。而且，因為能夠在比較緩和的溫度條件下進行活性聚合，所以工業上生產時，具有減少環境負荷(主要是為了控制聚合溫度之冷凍機所需要的電力)的優點。從上述而言，在本發明所使用的丙烯酸系三嵌段共聚物(I)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)以藉由在有機鋁化合物的存在下進行陰離子聚合之方法來製造為佳。
上述在有機鋁化合物的存在下進行陰離子聚合之方法，例如能夠採用以有機鋰化合物及下述通式(III)：AlR1 R2 R3 (III)(式中，R1 、R2 及R3 係各自獨立地表示亦可具有取代基之 烷基、亦可具有取代基之環烷基、亦可具有取代基之芳基、亦可具有取代基之芳烷基、亦可具有取代基之烷氧基、亦可具有取代基之芳氧基或N,N－二取代胺基，或是R1 係前述的任何基，而R2 及R3 同時形成亦可具有取代基之伸芳基二氧基)所示的有機鋁化合物的存在下，按照必要在反應系統內更添加二甲基醚、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、12－冠－4等的醚化合物；三乙胺、N,N,N＇,N＇－四甲基伸乙二胺、N,N,N＇,N＂,N＂－五甲基二伸乙三胺、1,1,4,7,10,10－六甲基三伸乙四胺、吡啶、2,2＇－二吡啶基等的含氮化合物，而使(甲基)丙烯酸酯聚合之方法等。
上述的有機鋰化合物可舉出例如甲基鋰、乙基鋰、正丙基鋰、異丙基鋰、正丁基鋰、第二丁基鋰、異丁基鋰、第三丁基鋰、正戊基鋰、正己基鋰、四亞甲基二鋰、五亞甲基二鋰、六亞甲基二鋰等的烷基鋰及烷基二鋰；苯基鋰、間甲苯基鋰、對甲苯基鋰、二甲苯基鋰、萘基鋰等的芳基鋰及芳基二鋰；苄基鋰、二苯基甲基鋰、三苯甲基鋰、1,1－二苯基－3－甲基戊基鋰、α－甲基苯乙烯基鋰、二異丙烯基苯與丁基鋰反應所生成的二鋰等的芳烷基鋰及芳烷基二鋰；二甲胺基鋰、二乙胺基鋰及二異丙胺基鋰等的胺基鋰；甲氧基鋰、乙氧基鋰、正丙氧基鋰、異丙氧基鋰、正丙氧基鋰、第二丁氧基鋰、第三丁氧基鋰、戊氧基鋰、己氧基鋰、庚氧基鋰、辛氧基鋰、苯氧基鋰、4－甲基苯氧基鋰、苄氧基鋰、4－甲基苄氧基鋰等的烷氧化鋰。此等可單獨使用，亦可並用2種以上。
又，上述通式(III)所示之有機鋁化合物可舉出例如三甲基鋁、三乙基鋁、三正丁基鋁、三第二丁基鋁、三第三丁基鋁、三異丁基鋁、三正己基鋁、三正辛基鋁、三2－乙基己基鋁、三苯基鋁等的三烷基鋁；二甲基(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、二甲基(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、二乙基(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、二乙基(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、二異丁基(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、二異丁基(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、二－正辛基(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、二－正辛基(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁等的二烷基苯氧基鋁；甲基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、甲基雙(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、乙基[2，2，－亞甲基雙(4－甲基－6－第三丁基苯氧基)]鋁、乙基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、乙基雙(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、乙基[2,2＇－亞甲基雙(4－甲基－6－第三丁基苯氧基)]鋁、異丁基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、異丁基雙(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、異丁基[2,2＇－亞甲基雙(4－甲基－6－第三丁基苯氧基)]鋁、正辛基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、正辛基雙(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、正辛基[2,2＇－亞甲基雙(4－甲基－6－第三丁基苯氧基)]鋁等的烷基二苯氧基鋁；甲氧基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、甲氧基雙(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、甲氧基[2,2＇－亞甲基雙(4－甲基－6－第三丁基苯氧基)]鋁、乙氧基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、乙氧基雙(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、乙氧基[2,2＇－亞甲基雙(4－甲基－6－第 三丁基苯氧基)]鋁、異丙氧基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、異丙氧基雙(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、異丙氧基[2,2＇－亞甲基雙(4－甲基－6－第三丁基苯氧基)]鋁、第三丁氧基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、第三丁氧基雙(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、第三丁氧基[2,2＇－亞甲基雙(4－甲基－6－第三丁基苯氧基)]鋁等的烷氧基二苯氧基鋁；參(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、參(2,6－二苯基苯氧基)鋁等的參苯氧基鋁等。此等有機鋁化合物之中，就處理容易、且在比較溫和的溫度條件下不會失活而能夠使丙烯酸酯進行聚合而言，以異丁基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁、異丁基雙(2,6－二－第三丁基苯氧基)鋁、異丁基[2,2＇－亞甲基雙(4－甲基－6－第三丁基苯氧基)]鋁等為特佳。此等可單獨使用，亦可並用2種以上。
本發明的黏著劑可以只含有丙烯酸系三嵌段共聚物(I)作為固體成分(有機溶劑以外的成分)，亦可以含有其他成分，亦可以只含有丙烯酸系三嵌段共聚物(I)及丙烯酸系二嵌段共聚物(II)，或是按照必要含有黏著賦予樹脂、可塑劑及其他的添加劑中至少1種或2種以上。
在本發明的黏著劑，因為丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的含量係基於在黏著劑所含有的總固體成分的合計質量為60質量%以上，所以含有丙烯酸系二嵌段共聚物(II)、黏著賦予樹脂、可塑劑及其他的成分等丙烯酸系三嵌段共聚物(I)以外的固體成分時，其等的其他固體成分的合計含量係基於在黏著劑所含有的總固體成分的合計質量必須為40質 量%以下，以25質量%以下為佳，以20質量%以下為更佳。
在本發明的黏著劑中調配黏著賦予樹脂時，膠黏性、黏著力及保持力的調節變為容易。黏著賦予樹脂能夠使用先前在黏著劑所使用的黏著賦予樹脂中任一種，可舉出例如松香系樹脂、萜烯系樹脂等天然樹脂、石油樹脂、香豆酮－茚系樹脂、酚系樹脂、二甲苯樹脂及苯乙烯系樹脂等的合成樹脂等，此等之中可只使用1種，亦可並用2種以上。
在前述的黏著賦予樹脂之中，就與丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的相容性高、顯現安定的黏著力而言，以使用加氫萜烯樹脂、萜烯酚等的萜烯系樹脂、加氫松香酯、不均化松香酯、聚合松香等松香系樹脂；C5/C9系石油系樹脂、芳香族系石油樹脂等的石油樹脂；α－甲基苯乙烯聚合物、苯乙烯/α－甲基苯乙烯聚合物等的苯乙烯系樹脂等的黏著賦予樹脂為佳。此等之中可單獨使用，亦可並用2種以上。
為了顯現高黏著力，黏著賦予樹脂的軟化點以50℃~150℃為佳。
在本發明的黏著劑之黏著賦予樹脂的調配量能夠按照被黏著物的種類等而適當地選擇，因為調配量多時凝聚力降低，在再加工時會產生殘糊等不良，基於在黏著劑所含有的總固體成分的合計量以25質量%以下為佳，以20質量%以下為較佳，以10質量%以下為更佳。
在本發明的黏著劑能夠按照必要使用的可塑劑可舉出例如酞酸二丁酯、酞酸二正辛酯、酞酸二2－乙基己酯、酞酸二正癸酯及酞酸二異癸酯等的酞酸酯類；己二酸二2－乙 基己酯、己二酸二正辛酯等的己二酸酯類；癸二酸二2－乙基己酯及癸二酸二正丁酯等的癸二酸酯類；壬二酸二2－乙基己酯等的壬二酸酯類等的脂肪族酯類；氯化石蠟等的石蠟類；聚丙二醇等甘醇類；環氧化大豆油、環氧化亞麻仁油等的環氧高分子可塑劑；磷酸三辛酯、磷酸三苯酯等的磷酸酯類；亞磷酸三苯酯等的亞磷酸酯類；己二酸與1,3－丁二醇之酯化物等的酯低聚物類；聚(甲基)丙烯酸正丁酯、聚(甲基)丙烯酸2－乙基己酯等的丙烯酸系低聚物；聚丁烯；聚異丁烯；聚異戊二烯；操作油劑；環烷系油等，此等可只使用1種，亦可並用2種以上。
在本發明的黏著劑之可塑劑的調配量係基於在黏著劑所含有的總固體成分的合計量，以25質量%以下為佳，以10質量%以下為更佳。可塑劑的調配量多時凝聚力降低，在再加工時容易產生殘糊等不良。
在本發明的黏著劑中能夠按照添加之上述以外的成分，可舉出例如用以改良耐候性、耐熱性、耐氧化性之抗氧化劑或紫外線吸收劑；碳酸鈣、氧化鈦、雲母及滑石等的無機粉末填料；玻璃纖維、有機增強用纖維等的纖維狀填料等。又，為了提高在高濕下與玻璃的黏著性，亦可以含有矽烷偶合劑。而且，亦可含有光擴散率、近紅外線吸收劑、著色劑、防靜電劑及導電性賦予劑等，來賦予黏著劑層需要的功能。
本發明的光學薄膜用黏著劑為了藉由追隨基材或被黏著物的變形、膨脹、收縮等變化，來減輕在基材或被黏著 物所承受的應力而經過長期間能夠顯現安定的黏著劑及耐久性，以6.28rad/s測定黏著劑的動態黏彈性時，以在23℃時的儲存彈性模數[G＇(23℃)]為1.0×105 ~6.0×105 Pa、且在90℃時的儲存彈性模數[G＇(90℃)]為7.0×104 ~6.0×105 Pa為佳，前述儲存彈性模數以[G＇(23℃)]為2.0×105 ~8.0×105 Pa、且在90℃時的儲存彈性模數[G＇(90℃)]為8.0×104 ~5.5×105 Pa為較佳，以儲存彈性模數[G＇(23℃)]為4.0×105 ~8.0×105 Pa、且在90℃時的儲存彈性模數[G＇(90℃)]為2.0×105 ~5.5×105 Pa為更佳。
在此，本說明書以振動數為6.28rad/s測定動態黏彈性時，前述在23C的儲存彈性模數[G＇(23℃)]及在90℃時的儲存彈性模數[G＇(90℃)]係藉由以下實施例所記載的方法測定。
藉由調整丙烯酸系三嵌段共聚物(I)的重量平均分子量(Mw)及聚合物嵌段B的質量%、構成單體單位及各種添加劑(黏著賦予樹脂、可塑劑等)的添加量，能夠簡單且順利地得到前述儲存彈性模數[G＇(23℃)]及儲存彈性模數[G＇(90℃)]。
又，因為藉由使用複數種丙烯酸系三嵌段共聚物(I)、並改變各聚合物的比率，能夠製造具有最適合的動態黏彈性之黏著劑，所以能夠容易地製造提供配合各種光學薄膜基材之黏著劑。而且，來自原料的偏差能夠藉由在調配黏著劑時微細地調整調配組成，能夠供給品質非常穩定的黏著劑。
在光學薄膜所用的塑膠材料，可舉出例如聚對酞酸乙二酯(PET)、三乙醯纖維素(TAC)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯、環烯烴系樹脂、環烯烴、苯乙烯－甲基丙烯酸甲酯共聚樹脂(MS樹脂)、丙烯酸樹脂及丙烯酸UV樹脂等，為了使光學薄膜的功能顯現，能夠分別使用該等。例如，在光學薄膜之偏光板，能夠使用使二色性色料(主要是碘)吸附配向於PVA而成的薄膜，只有PVA時薄膜強度不足，為了抑制在濕熱、熱環境下的伸縮，通常係在兩側貼合具有作為保護薄膜的任務之TAC薄膜而使用。又，亦有賦予相位差功能之偏光板，此時，係在保護薄膜之TAC上進行塗布碟狀液晶，又，將聚碳酸酯或環烯烴系樹脂等延伸所得到的相位差薄膜能夠使用來代替TAC作為保護薄膜。而且，稜鏡薄片時能夠使用在PET薄膜上以丙烯酸UV樹脂等形成稜鏡而成者，擴散板時能夠使用MS樹脂或聚碳酸酯。而且，擴散薄膜有在PET薄膜或聚碳酸酯薄膜的上面塗布珠粒層而成者、施加表面加工者及含有內部擴散劑者等。導光板有對丙烯酸板的表面進行特殊加工，來使從端面進入的光能夠均勻地面發光而成者等，在該導光板的下側係使用反射薄膜(採用PET薄膜)。
影像顯示裝置係由前述的複數個光學薄膜的積層體所構成的。使光學薄膜貼合於玻璃基板等，或是貼合不同種類的光學薄膜所使用的黏著劑，以能夠追隨光學薄膜與玻璃基板之間的熱膨脹率(伴隨溫度上升之尺寸變化)的差異、或是在不同種類的光學薄膜之間的熱膨脹率(伴隨溫度 上升之尺寸變化)的差異而黏著為佳。光學薄膜之中，特別是偏光板時，因為對已延伸的PVA施加熱壓時，偏光板會恢復至原來的狀態(延伸前的狀態)，所以會有在熱條件下產生大幅度收縮的情形。因此，要求作為將偏光板黏貼在液晶胞的黏著劑，或是作為黏貼在偏光板之其他的光學薄膜所使用的黏著劑，對應力緩和所引起的尺寸變化具有追隨性。而且，偏光板時，因為偏光板承受應力時會產生應力雙折射(相位差)，搭載於液晶顯示器時會有產生光學不均(當使液晶顯示器黑暗顯示時，在畫面周邊部洩漏白光之現象)的不良之情形，此時，藉由提高黏著劑對尺寸變化的追隨性，能夠降低光學不均。
本發明的黏著劑可以是溶液型黏著劑，亦可以是固態黏著劑。
溶液型黏著劑時能夠藉由使丙烯酸系三嵌段共聚物(I)及按照必要的其他成分[丙烯酸系二嵌段共聚物(II)、黏著賦予樹脂、可塑劑及其他成分等]，在比較低溫(通常為0~70℃左右的溫度)溶解於例如甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯及甲基乙基酮等有機溶劑而調製得到。
又，固態黏著劑時，能夠藉由使用揑合機、擠壓機、混合輥及班伯里混煉機等已知的混煉裝置，通常在100℃~250℃的溫度範圍混合而調製得到。
其中，本發明的黏著劑以使用作為溶液型黏著劑為佳，不會產生基材、被黏著物變形或變質、配向、殘留應力等，並且能夠將薄且厚度均勻的黏著劑層以未伴隨高溫 加熱的方式形成於基材料或被黏著物上。
特別是以丙烯酸系三嵌段共聚物(I)為主體之本發明的黏著劑，在溶解於有機溶劑時，即使高固體成分濃度亦顯示低溶液黏度，即使以固體成分濃度為45質量%之高濃度溶解在甲苯時，在溫度25℃以B型黏度計測定的溶液黏度以1000~4000mPa．s的範圍為佳，以1500~3500mPa．s的範圍為較佳，以2000~3500mPa．s的範圍為更佳。因此，本發明的黏著劑雖然降低有機溶劑的使用量，亦能夠製造固體成分濃度比先前高的溶液型的黏著劑(固體成分濃度為35質量%以上的溶液型黏著劑)，該高固體成分的溶液型黏著劑儘管固體成分濃度高，塗布時亦具有優良的處理性或製程性(降低乾燥負荷、提高塗布速度及熟化製程的省略等)。
本發明的黏著劑使用作為溶液型黏著劑時，相對於溶液型黏著劑的質量，丙烯酸系三嵌段共聚物(I)及按照必要所使用的丙烯酸系二嵌段共聚物(II)、黏著賦予樹脂、可塑劑及其他成分的總固體成分的合計含量為30~60質量%，就溶液型黏著劑的塗布性、處理性及製程性等而言，以35~55質量%為特佳。
如上述，本發明的光學薄膜用黏著劑係非化學交聯型的光學薄膜用黏著劑。
在此，非化學交聯型係指在黏著製品的製程(黏著劑的保管製程、塗布製程、乾燥製程、熟化製程、輸送製程等)，未有伴隨著聚合物(黏著劑成分)形成共價鍵之化學交聯反 應。
先前的光學薄膜用黏著劑所使用的丙烯酸系聚合物係如專利文獻1~3，通常係丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸2－羥基乙酯、丙烯酸6－羥基己酯等共聚合而成，具有羧基或羥基。因為此種先前的光學薄膜用黏著劑只有丙烯酸系聚合物時，黏著劑無法顯現必要的凝聚力，通常係調配多官能的交聯劑(例如，異氰酸酯化合物、環氧化合物及伸乙亞胺化合物等)，並在黏著製品的製程使聚合物中的反應性基與交聯劑化學交聯反應而顯現凝聚力。
相對地，因為本發明的光學薄膜用黏著劑係在構成黏著劑主體之丙烯酸系三嵌段共聚物(I)中聚合物嵌段A1及A2係形成物理性模擬交聯，所以即使未進行化學交聯(在先前的光學薄膜用黏著劑係必要的)，亦能夠顯現具有充分的耐久性之黏著性能。
因為本發明的光學薄膜用黏著劑係非化學交聯型，所以能夠從黏著製品的製程省略化學交聯反應所需要的時間，能夠大幅度地提高生產力。又，因為本發明的光學薄膜用黏著劑不需要調配交聯劑，又，未含有具有反應性的官能基，所以保存安定性優良，製造黏著型光學薄膜時在黏著劑槽內所多餘的黏著劑能夠在此狀態長期間保管，或是回收再利用。
先前的交聯型丙烯酸黏著劑係以主劑與交聯劑的雙液系為主流，因為混合雙液後交聯反應即使在室溫亦會進行，所以混合後未迅速用時黏著物性或塗布特性會變化掉。
而且，先前的光學薄膜用黏著劑時，因為上述的交聯反應係在乾燥製程或製品保管中進行，依照乾燥條件(溫度、風量、生產速度等)或保管條件(保管期間、溫度等)會產生交聯不均、製品的黏著性能偏差之不良，但是非化學交聯型之本發明的光學薄膜用黏著劑則無此種不良。
又，施行本發明的黏著劑而成的光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜，因為黏著劑係非化學交聯型，所以經時黏著力的上升較低，即使長期間黏貼在被黏著物後，亦不會產生殘糊而能夠容易地剝離。
先前的交聯型丙烯酸黏著劑時，因為異氰酸酯等的交聯劑會與水反應，所以黏著劑溶液必須進行嚴格的水分管理。因此，光學薄膜係偏光板時，因為在偏光板所殘留的水分或醇類殘留多，此等會與交聯型丙烯酸黏著劑中的交聯劑反應，會有黏著劑的交聯無法安定地進行而使黏著物性不安定之問題。相對地，本發明的光學薄膜用黏著劑因為不需要交聯劑，亦具有不需要嚴格地管理黏著劑溶液或光學薄膜基材的水分，亦能夠得到高製品品質安定性的優點。
藉由使用本發明的光學薄膜用黏著劑，能夠得到具有未化學交聯的本發明的黏著劑層之黏著型的光學薄膜或黏著型的光學薄膜用保護薄膜。
具有本發明的光學薄膜用黏著劑之黏著型的光學薄膜及光學薄膜用保護薄膜，係在使用於液晶顯示裝置、PDP、有機EL顯示裝置、電子紙等各種影像顯示裝置所使用的光 學薄膜或該光學薄膜用的保護薄膜的一面或兩面的一部分或全部，具有至少一層由本發明的光學薄膜用黏著劑所構成的黏著層，能夠以未經過交聯製程的方式來製造。此時的光學薄膜可舉出例如偏光薄膜、偏光板、相位差薄膜、視野角擴大薄膜、亮度提升薄膜、防止反射薄膜、防眩薄膜、彩色濾光片、導光板、擴散薄膜、稜鏡薄片、電磁波遮蔽薄膜、近紅外線吸收薄膜及複合複數個光學功能而成的功能性複合薄膜等。又，光學薄膜用保護薄膜係用以保護前述的各種光學薄膜，可舉出黏貼在該等光學薄膜之薄膜。
使用本發明的光學薄膜用黏著劑之黏著型光學薄膜及光學薄膜用保護薄膜，能夠藉由例如(i)在上述光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜上，塗布本發明的光學薄膜用黏著劑之方法；及(ii)在預先脫膜處理過的聚對酞酸乙二酯薄膜等的離型薄膜上，塗布本發明的光學薄膜用黏著劑，再該其與光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜重疊並將黏著層轉印至光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜上之方法等來製造。
使用非化學交聯型之本發明的光學薄膜用黏著劑所製造的黏著型光學薄膜及光學薄膜用保護薄膜不需要進行退火或熟化的處理(使用交聯型丙烯酸黏著劑時係必要的)，而能夠以貼在液晶面板或其他可能的被黏著物作為製品的方法直接出貨，生產力優良。
使用本發明的光學薄膜用黏著劑所形成的黏著型光學薄膜或光學薄膜用保護薄膜具有優良的再加工性，係因為 未進行官能基或交聯劑的經時性化學交聯反應，所以黏著力的經時變化較小之緣故。在含有交聯劑之先前的光學薄膜用丙烯酸系黏著劑，在製品的保管中會進行反學交聯反應，會有黏著力上升而造成再加工性變為困難之情形。
要求再加工性之用途時，在進行再加工性操作的時點的180°剝離黏著力通常以0.05~20N/25毫米為佳，以0.1~15N/25毫米為較佳，以3~10N/25毫米為更佳。本發明的光學薄膜用黏著劑係在熱處理後亦保持前述較佳的180°剝離黏著力。
實施例
以下藉由實施例來更具體地說明本發明，但是本發明未限定於此等實施例。
在實施例及比較例所使用的丙烯酸系三嵌段共聚物及丙烯酸系二嵌段共聚物係使用藉由常用方法乾燥精製的藥品，並依照以下所示的合成例來合成。
又，所合成的丙烯酸系三嵌段共聚物及丙烯酸系二嵌段共聚物的重量平均分子量(Mw)、數量平均分子量(Mn)、分子量分布(Mw/Mn)、組成(在丙烯酸系三嵌段共聚物及丙烯酸系二嵌段共聚物之聚丙烯酸正丁酯嵌段的含有比率)、在三嵌段共聚物之聚甲基丙烯酸甲酯嵌段的間規度[立體規則性(rr)]、各種聚合物嵌段的玻璃轉移溫度、添加單體的聚合轉化率、黏著劑的儲存彈性模數、黏著劑的溶液黏度、黏著劑的黏著力及殘糊性(貼合初期時的黏著力及殘糊性、熱處理後的黏著力及殘糊性、高壓釜處理後的黏 著力及殘糊性、高壓釜處理和熱處理後的黏著力及殘糊性)、黏著型光學薄膜的保持力試驗(潛變試驗)及黏著劑的剪切黏著破壞溫度(SAFT)的測定或評價係如下進行。
(1)嵌段共聚物的重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)：使用將嵌段共聚物溶解於四氫呋喃而成的溶液，並使用下述的裝置及條件，藉由凝膠滲透色譜儀(GPC)，測定丙烯酸系三嵌段共聚物及丙烯酸系二嵌段共聚物的重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)。
．裝置：TOSOH公司製凝膠滲透色譜儀「HLC－8020」 ．柱：將TOSOH公司製的TSKgel GMHXL、G4000HXL及G5000HXL串聯地連結 ．洗提劑：四氫呋喃 ．洗提劑流量：1.0毫升/分鐘 ．柱溫度：40℃ ．檢測方法：差示折射係數(RI) ．校正曲線：使用標準聚乙烯製作
(2)嵌段共聚物的分子量分布(Mw/Mn)：將上述(1)所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物及丙烯酸系二嵌段共聚物的重量平均分子量(Mw)的值除以數量平均分子量(Mn)，來求得丙烯酸系三嵌段共聚物及丙烯酸系二嵌段共聚物各自的分子量分布(Mw/Mn)。
(3)嵌段共聚物的組成：將丙烯酸系三嵌段共聚物或丙烯酸系二嵌段共聚物溶 解於重氯仿，並使用日本電子股份公司製核磁共振裝置(「JNM－LA400」)且使用重氯仿作為溶劑，藉由質子核磁共振(1 H－NMR)分光法，來測定嵌段共聚物的組成(在丙烯酸系三嵌段共聚物及丙烯酸系二嵌段共聚物之聚甲基丙烯酸甲酯嵌段及聚丙烯酸正丁酯嵌段的含有比率)。
此等，在1 H－NMR光譜，3.6ppm及4.0ppm附近的信號係各自屬於甲基丙烯酸甲酯單位的酯基(－O－CH 3 )、及丙烯酸正丁酯單位的酯基(－O－CH 2 －CH2 －CH2 －CH3 )，藉由其積分值的比來求取共聚合成分的含量。
(4)在丙烯酸系三嵌段共聚物之聚碳酸甲酯嵌段的間規度[立體規則性(rr)]：將丙烯酸系三嵌段共聚物溶解於重氯仿，並使用日本電子股份公司製核磁共振裝置(「JNM－LA400」)，來求取在丙烯酸系三嵌段共聚物之聚碳酸甲酯嵌段(聚合物嵌段A1及A2)的間規度[立體規則性(rr)]。
此時，在13 C－NMR光譜，於44.5ppm、44.8ppm及45.5ppm附近的信號係屬於聚甲基丙烯酸甲酯嵌段的四級碳，且各自對應立體規則性rr、mr及mm，藉由其積分值來求取立體規則性rr。又，立體規則性亦可藉由1 H－NMR法來求取。在本發明的實施例及比較例所使用的嵌段共聚物，因為1 H－NMR法時，來自聚甲基丙烯酸甲酯的信號與來自聚丙烯酸正丁酯的信號難以分離，所以採用藉由13C－NMR法來分析。
(5)各聚合物嵌段的玻璃轉移溫度(Tg)： 使用METTLER公司製的DSC測定裝置(DSC－822)，並在以升溫速度10℃/分鐘的條件進行DSC測定所得到的曲線，將外插開始溫度(Tgi)作為玻璃轉移溫度(Tg)。
(6)添加單體的聚合轉化率：在結束各聚合物嵌段的形成反應的階段，採取反應液的一部分，並採用以下的裝置及條件，測定在反應液中殘餘的單體量，來求取單體的聚合添加率。
．裝置：島津製作所製氣體層析儀「GC－14A」 ．玻璃：GL Sciences Inc.製「INERT CAP1」[內徑0.25毫米×長度60公尺、膜厚度(df)0.4微米] ．分析條件：injection300℃、detecter300℃、60℃(保持0分鐘)→5。C/分鐘→10℃(保持0分鐘)→15℃/分鐘→300℃(保持2分鐘)
(7)黏著劑的儲存安定性：(i)將下述實施例或比較例的黏著劑溶解於甲苯來調製固體成分濃度為30質量%的黏著劑溶液後，將該溶液注入使用離型紙(基材)製成的箱中。接著，在室溫風乾24小時後，在60℃真空乾燥24小時，來製造黏著劑層約為1毫米的薄片，將該薄片沖孔為直徑8毫米的圓形後，將基材剝離來製造試片。
(ii)使用在上述(i)所製造的試片，採用下述的裝置及條件，測定動態黏彈性溫度分散，將在溫度23℃及90℃的儲存彈性模數(G＇)的值，各自為「G＇(23℃)」及「G＇(90℃)」。
．裝置：Rhemetric Scientific公司製「Advanced Rheometric Expansion System」 ．平行板：直徑8毫米 ．振動數：6.28rad/s ．測定溫度範圍：－50℃~250℃ ．升溫速度：3℃/分鐘 ．變形：0.05%(－50℃~－37℃)、1.0%(－37℃~－15℃)、5.0%(－15℃~250℃)
(8)黏著劑的溶液黏度：將下述實施例或比較例的黏著劑溶解於甲苯來調製固體成分濃度為45質量%的黏著劑溶液，使用B型黏度計(東京計器製作所製「BL型黏度計」)測定該黏著劑溶液在溫度25℃時的黏度。
(9)黏著劑的黏著力與殘糊性：(i)將實施例或比較例所製造之由離型聚對酞酸乙二酯薄膜/黏著劑/聚對酞酸乙二酯薄膜基材所構成的黏著型光學薄膜[以下將其稱為「黏著劑光學薄膜(α)」，或是由離型聚對酞酸乙二酯薄膜/黏著劑/偏光板所構成的黏著型光學薄膜(黏著型偏光板)[以下將其稱為「黏著劑光學薄膜(β)」，切斷成寬度×長度＝25毫米×200毫米的尺寸，來製造試片[又，在以下的實施例及比較例，會有將黏著劑光學薄膜(α)及黏著型光學薄膜(β)總稱為「黏著型光學薄膜」的情形]。
(ii)在貼合初期(非熱處理)之黏著力及殘糊性：(a)將在上述(i)所製造的試片的一側的表面的離型PET 薄膜剝下，貼於被黏著物之玻璃板或聚碳酸酯製平板，將2公斤的輥以10毫米/秒的速度2次往復來使其黏貼在黏著型光學薄膜上，並於溫度23℃、濕度50%RH且大氣壓下放置24小時後，接著依據JIS Z0237，以300毫米/分鐘的剝離速度來測定180°剝離黏著力。
(b)藉由目視觀察前述(a)在180°剝離黏著力的測定試驗後的玻璃板面或聚碳酸酯製平板面是否有黏著劑殘餘，有黏著劑殘餘時評價為「有殘糊」，又，黏著劑未殘餘而清潔地被剝下時評價為「無殘糊」。
(iii)熱處理後的黏著力與殘糊性：(a)剝下上述(i)所製造的試片的一側表面的離型PET薄膜，並貼在被黏著物之玻璃板或聚碳酸酯製平板，將2公斤的輥以10毫米/秒的速度2次往復來使其黏貼在黏著型光學薄膜上，並於溫度70℃的熱風烘箱中放置15小時來進行熱處理後，更在溫度23℃、濕度50%RH的大氣壓下放置1小時進行調濕，依據JIS Z0237，以300毫米/分鐘的剝離速度來測定180°剝離黏著力。
(b)藉由目視觀察前述(a)在180°剝離黏著力的測定試驗後的玻璃板面或聚碳酸酯製平板面是否有黏著劑殘餘，有黏著劑殘餘時評價為「有殘糊」，又，黏著劑未殘餘而清潔地被剝下時評價為「無殘糊」。
(iv)高壓釜處理後的黏著力及殘糊性：(a)剝下上述(i)所製造的試片的一側表面的離型PET薄膜，並貼在被黏著物之玻璃板或聚碳酸酯製平板，將2 公斤的輥以10毫米/秒的速度2次往復來使其黏貼在黏著型光學薄膜上，並於溫度50℃、壓力5氣壓(0.5MPa)的條件下放置15分鐘來進行高壓釜處理後，更在溫度23℃、濕度50%RH的大氣壓下放置1小時進行調濕，依據JIS Z0237，以300毫米/分鐘的剝離速度來測定180°剝離黏著力。
(b)藉由目視觀察前述(a)在180°剝離黏著力的測定試驗後的玻璃板面或聚碳酸酯製平板面是否有黏著劑殘餘，有黏著劑殘餘時評價為「有殘糊」，又，黏著劑未殘餘而清潔地被剝下時評價為「無殘糊」。
(v)高壓釜處理及熱處理後的黏著力及殘糊性：(a)剝下上述(i)所製造的試片的一側表面的離型PET薄膜，並貼在被黏著物之玻璃板或聚碳酸酯製平板，將2公斤的輥以10毫米/秒的速度2次往復來使其黏貼在黏著型光學薄膜上，並於溫度50C、壓力5氣壓(0.5MPa)的條件下放置15分鐘來進行高壓釜處理後，在溫度70C的熱風烘箱中放置15小時來進行熱處理後，接著在溫度23℃、濕度50%RH的大氣壓下放置1小時進行調濕，依據JIS Z0237，以300毫米/分鐘的剝離速度來測定180°剝離黏著力。
(b)藉由目視觀察前述(a)在180°剝離黏著力的測定試驗後的玻璃板面或聚碳酸酯製平板面是否有黏著劑殘餘，有黏著劑殘餘時評價為「有殘糊」，又，黏著劑未殘餘而清潔地被剝下時評價為「無殘糊」。
(10)黏著型光學薄膜的保持力試驗(潛變試驗)：(i)將下述的將實施例或比較例所製造之黏著劑光學薄膜(α)(由離型PET薄膜/黏著劑/PET薄膜基材所構成的積層體)或黏著劑光學薄膜(β)(由離型PET薄膜/黏著劑/偏光板所構成積層體)，切斷寬度25毫米、長度40毫米作為試片。
(ii)上述(i)所製造的試片係殘留安裝重錘的部分，並將一側表面的離型PET薄膜剝下，以橫向為25毫米(相對於負荷方向為直角方向)、縱向為10毫米(相對於負荷方向為同方向)的方式貼在被黏著物之玻璃板或聚碳酸酯製平板，且在該試片安裝1公斤的重錘，在溫度90℃依據JIS Z0237，測定30分鐘、60分鐘或1000分鐘後試片的位置偏移之同時，將試片從玻璃板或聚碳酸酯製平板剝下，來測定重錘落下的時間。
而且，依照下述表1所示的評價基準，來評價黏著劑的耐久性(黏著保持力)點數。
該試驗係為了調查黏著劑的耐久性之試驗，試片位置未偏移，又，試片至脫落為止的時間越長，係表示黏著劑耐久性優良。
(11)黏著劑的剪切黏著破壞溫度(SAFT)：依據ASTM D4498測定。
具體上係將下述的將實施例或比較例所製造之黏著劑光學薄膜(α)(由離型PET薄膜/黏著劑/PET薄膜基材所構成的積層體)或黏著劑光學薄膜(β)(由離型PET薄膜/黏著劑/偏光板所構成積層體)，切斷寬度25毫米、長度60毫米作為試片，並殘留安裝重錘的部分，且將一側表面的離型PET薄膜剝下，以25毫米×25毫米的方形尺寸貼在玻璃板，在溫度25℃、濕度50%RH的條件下將其保管24小時後，放入40C的烘箱內，並在試片一邊的中央部安裝500克的重錘，接著使烘箱的溫度以0.5℃/分鐘的升溫速度從40℃上升至220℃，記錄重錘從試片脫落時的溫度。
該試驗係為了調查黏著劑的耐久性及耐熱性之試驗，重錘脫落時的溫度越高，係表示黏著劑耐久性及耐熱性優 良，適合在該溫條件下使用。
《合成例1》[丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－1)的合成]
(1)在2升的三口燒瓶安裝三通旋栓並以氮氣取代內部後，在室溫添加868克甲苯、43.4克1,2－二甲氧基乙烷、60.0克含有40.2毫莫耳異丁基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁之甲苯溶液，及2.89克含有5.00毫莫耳第二丁基鋰之環己烷及正己烷的混合溶液。接著，對其添加35.9克甲基丙烯酸甲酯。反應係最初的著色為黃色，在室溫攪拌60分鐘後變為無色。此時，甲基丙烯酸甲酯的聚合轉化率為99.9%以上。接著將聚合液的內部溫度冷卻至－30℃，並以2小時滴加240克丙烯酸正丁酯，且在滴加終了後於－30℃攪拌5分鐘。此時，丙烯酸正丁酯的聚合轉化率為99.9%以上。而且，對其添加35.9克甲基丙烯酸甲酯，並於室溫攪拌一夜後，添加3.50克甲醇來使聚合反應停止。此時，甲基丙烯酸甲酯的聚合轉化率為99.9%以上。將所得到的反應液注入15公斤的甲醇中，使白色沈澱物析出。隨後，藉由過濾來回收白色沈澱物，並使其乾燥而得到308克丙烯酸系三嵌段共聚物[丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－1)]。
(2)以上述方法測定的結果，前述(1)所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－1)係由聚碳酸酯樹脂甲酯(PMMA)－丙烯酸正丁酯(PnBA)－甲基丙烯酸甲酯(PMMA)所構成的丙烯酸系三嵌段共聚物，重量平均分子量(Mw)為73,000且數量平均分子量(Mn)為65,200，分子量分布(Mw/Mn)為1.12。
又，在丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－1)之各聚合物嵌段的 質量比係PMMA(11.5質量%)－PnBA(77.0質量%)－PMMA(11.5質量%)，PnBA嵌段的含量為77.0質量%。
而且，在丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－1)之PMMA嵌段的玻璃轉移溫度為100.3℃，且PnBA嵌段的玻璃轉移溫度為－46.5℃。
又，PMMA嵌段的間規度[立體規則性(rr)]為67.3%。
《合成例2》[丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－2)的合成]
(1)在2升的三口燒瓶安裝三通旋栓並以氮氣取代內部後，在室溫添加868克甲苯、43.4克1,2－二甲氧基乙烷、60.0克含有40.2毫莫耳異丁基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁之甲苯溶液，及3.68克含有6.37毫莫耳第二丁基鋰之環己烷及正己烷的混合溶液。接著，對其添加49.9克甲基丙烯酸甲酯。反應係最初的著色為黃色，在室溫攪拌60分鐘後變為無色。此時，甲基丙烯酸甲酯的聚合轉化率為99.9%以上。接著將聚合液的內部溫度冷卻至－30℃，並以2小時滴加212克丙烯酸正丁酯，且在滴加終了後於－30℃攪拌5分鐘。此時，丙烯酸正丁酯的聚合轉化率為99.9%以上。而且，對其添加49.9克甲基丙烯酸甲酯，並於室溫攪拌一夜後，添加3.50克甲醇來使聚合反應停止。此時，甲基丙烯酸甲酯的聚合轉化率為99.9%以上。將所得到的反應液注入15公斤的甲醇中，使白色沈澱物析出。隨後，藉由過濾來回收白色沈澱物，並使其乾燥而得到310克丙烯酸系三嵌段共聚物[丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－2)]。
(2)以上述方法測定的結果，前述(1)所得到的丙烯酸 系三嵌段共聚物(Ia－2)係由PMMA－PnBA－PMMA所構成的丙烯酸系三嵌段共聚物，重量平均分子量(Mw)為63,000且數量平均分子量(Mn)為50,000，分子量分布(Mw/Mn)為1.26。
又，在丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－2)之各聚合物嵌段的質量比係PMMA(16.0質量%)－PnBA(68.0質量%)－PMMA(16.0質量%)，PnBA嵌段的含量為68.0質量%。
而且，在丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－2)之PMMA嵌段的玻璃轉移溫度為101.8℃，且PnBA嵌段的玻璃轉移溫度為－44.6℃。
又，PMMA嵌段的間規度[立體規則性(rr)]為70.5%。
《合成例3~6》[丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－3)及(Ib－1)~(Ib－3)的合成]
進行與實施例1的(1)同樣的操作，來各自合成具有下述表2所示重量平均分子量(Mw)、分子量分布(Mw/Mn)、PnBA嵌段含量、各聚合物嵌段的玻璃轉移溫度及PMMA的間規度之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－3)及(Ib－1)、(Ib－2)及(Ib－3)。
《合成例7》[丙烯酸系二嵌段共聚物(IIa)的合成]
(1)在2升的三口燒瓶安裝三通旋栓並以氮氣取代內部後，在室溫添加868克甲苯、43.4克1,2－二甲氧基乙烷、30.0克含有20.1毫莫耳異丁基雙(2,6－二－第三丁基－4－甲基苯氧基)鋁之甲苯溶液，及3.31克含有4.30毫莫耳第二丁基鋰之環己烷及正己烷的混合溶液。接著，對其添加21.5 克甲基丙烯酸甲酯。反應係最初的著色為黃色，在室溫攪拌60分鐘後變為無色。此時，甲基丙烯酸甲酯的聚合轉化率為99.9%以上。接著將聚合液的內部溫度冷卻至－30℃，並以2小時滴加291克丙烯酸正丁酯，且在滴加終了後於－30℃攪拌5分鐘後，添加3.5克甲醇來使聚合反應停止。此時，丙烯酸正丁酯的聚合轉化率為99.9%以上。將所得到的反應液注入15公斤的甲醇中，使無色油狀物沈澱。傾析後，藉由乾燥而得到295克丙烯酸系二嵌段共聚物[丙烯酸系二嵌段共聚物(IIa)]。
(2)以上述方法測定的結果，前述(1)所得到的丙烯酸系二嵌段共聚物(IIa)係由PMMA－PnBA所構成的丙烯酸系二嵌段共聚物，重量平均分子量(Mw)為92,000且數量平均分子量(Mn)為76,000，分子量分布(Mw/Mn)為1.21。
又，在丙烯酸系二嵌段共聚物(IIa)之各聚合物嵌段的質量比係PMMA(6.9質量%)－PnBA(93.1質量%)
將上述合成例1~6所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia~1)－(Ia－3)及(Ib－1)~(Ib－3)及合成例7所得到的丙烯酸系二嵌段共聚物(IIa)內容整理並記載在以下的表2。
1)嵌段共聚物S1：PMMA－PnBA－PMMA S2：PMMA－PnBA 2)嵌段共聚物整體的重量平均分子量(Mw) 3)嵌段共聚物的分子量分布(Mw/Mn) 4)在三嵌段共聚物A1－B－A2或二嵌段共聚物C－D之PnBA嵌段的含量 5)在三嵌段共聚物A1－B－A2之PMMA嵌段的間規度[立體規則性(rr)]
《實施例1》
(1)單獨使用合成例1所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－1)來調製光學薄膜用黏著劑。
使用上述方法測定實施例1的黏著劑的儲存彈性模數 數[G＇(23℃)]及儲存彈性模數[G＇(90℃)]時，如下述表3所示。
又，使用上述方法測定該實施例1的黏著劑的溶液黏度時，如下述表3所示。
(2)將丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－1)溶解在甲苯中來調製固體成分濃度30質量%的黏著劑溶液，並將其塗布在聚對酞酸乙二酯薄膜(厚度50微米)上，以60℃乾燥10分鐘後，使用離型聚丙烯酸丙烯酸酯聚合物(厚度38微米)覆蓋黏著劑面，來製造由離型PET薄膜/黏著劑/PET薄膜基材所構成的黏著型光學薄膜(α)。
(3)使用上述(2)所製造的黏著型光學薄膜(α)，並藉由上述方法測定或評價各種物性時，係如下述表3所示。
《實施例2》
(1)將合成例2所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－2)與合成例7所得到的丙烯酸系二嵌段共聚物(IIa)，以85：15的質量比且固體成分為45質量%的方式溶解在甲苯中來調製光學薄膜用黏著劑。
使用上述方法測定該黏著劑的儲存彈性模數數[G＇(23℃)]及儲存彈性模數[G＇(90℃)]時，如下述表3所示。
(2)除了使用將(1)所得到的黏著劑以甲苯稀釋而調製而成之固體成分濃度30質量%的黏著劑溶液以外，與實施例1的(2)同樣地製造黏著型光學薄膜(α)(由離型PET薄膜/黏著劑/PET薄膜基材所構成的積層體)，並藉由上述方法測定或評價各種物性時，係如下述表3所示。
《實施例3》
(1)將合成例2所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－2)與合成例7所得到的丙烯酸系二嵌段共聚物(IIa)，以85：15的質量比且固體成分為45質量%的方式溶解在甲苯中來調製光學薄膜用黏著劑。
使用上述方法測定該黏著劑的儲存彈性模數數[G＇(23℃)]及儲存彈性模數[G＇(90℃)]時，如下述表3所示。
(2)將上述(1)所得到的黏著劑以甲苯稀釋來調製固體成分濃度30質量%的黏著劑溶液，並將其進行塗布在已離型加工過的聚對酞酸乙二酯薄膜(厚度38微米)上後，以60℃乾燥10分鐘，使其成為在離型聚對酞酸乙二酯薄膜上具有黏著劑層之薄膜，並將其以貼壓機貼合於市售偏光板，來製造黏著型光學薄膜(β)(離型PET薄膜/黏著劑/偏光板所構成的積層體)。
(3)使用上述(2)所製造的黏著型光學薄膜(β)，並藉由上述方法測定或評價各種物性時，係如下述表3所示。
《實施例4》
(1)將合成例3所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－3)、合成例7所得到的丙烯酸系二嵌段共聚物(IIa)及黏著賦予樹脂(荒川化學工業股份公司製「KE311」、特殊松香酯樹脂)，以85：5：10的質量比且固體成分為45質量%的方式溶解在甲苯中來調製光學薄膜用黏著劑。
使用上述方法測定該黏著劑的儲存彈性模數數[G＇(23℃)]及儲存彈性模數[G＇(90℃)]時，如下述表3所示。
(2)除了使用(1)所得到的黏著劑以外，與實施例3的(2)同樣地製造黏著型光學薄膜(β)(由離型PET薄膜/黏著劑/偏光板所構成的積層體)，並藉由上述方法測定或評價各種物性時，係如下述表3所示。
《比較例1》
(1)將合成例1所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－1)、合成例7所得到的丙烯酸系二嵌段共聚物(IIa)及黏著賦予樹脂(荒川化學工業股份公司製「KE311」、特殊松香酯樹脂)，以53：5：42的質量比且固體成分為45質量%的方式溶解在甲苯中來調製光學薄膜用黏著劑。
使用上述方法測定該黏著劑的儲存彈性模數數[G＇(23℃)]及儲存彈性模數[G＇(90℃)]時，如下述表3所示。
(2)除了使用(1)所得到的黏著劑以外，與實施例3的(2)同樣地製造黏著型光學薄膜(β)(由離型PET薄膜/黏著劑/偏光板所構成的積層體)，並藉由上述方法測定或評價各種物性時，係如下述表3所示。
《實施例5~9及比較例2》
(1)將合成例1所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－1)、合成例4所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－1)、合成例5所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－2)中之1種或2種、合成例7所得到的丙烯酸系二嵌段共聚物(IIa)，以下述表4所示的質量比且固體成分為45質量%的方式溶解於甲苯中，來調製光學薄膜用黏著劑。
使用上述方法測定該黏著劑的儲存彈性模數數[G＇ (23℃)]及儲存彈性模數[G＇(90C)]時，如下述表4所示。
(2)除了使用(1)所得到的黏著劑以外，與實施例3的(2)同樣地製造黏著型光學薄膜(β)(由離型PET薄膜/黏著劑/偏光板所構成的積層體)，並藉由上述方法測定或評價各種物性時，係如下述表4所示。
《實施例10~13》
(1)將合成例2所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－2)、合成例4所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－1)、合成例6所得到的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－3)中之2種或3種，以下述表5所示的質量比且固體成分為45質量%的方式溶解於甲苯中，來調製光學薄膜用黏著劑。
使用上述方法測定該黏著劑的儲存彈性模數數[G＇(23℃)]及儲存彈性模數[G＇(90℃)]時，如下述表5所示。
(2)除了使用(1)所得到的黏著劑以外，與實施例1的(2)同樣地製造黏著型光學薄膜(α)(由離型PET薄膜/黏著劑/PET薄膜基材所構成積層體)(實施例10及12)，或與實施例的(3)的(2)同樣地製造黏著型光學薄膜(β)(由離型PET薄膜/黏著劑/偏光板所構成的積層體)(實施例11及13)，並藉由上述方法測定或評價各種物性時，係如下述表3所示。
1)黏著劑的溶液黏度：固體成分濃度45質量%的甲苯溶液(25℃) 2)黏著型光學薄膜的種類：α：黏著型光學薄膜(α)(由離型PET薄膜/黏著劑/PET薄膜基材所構成的積層體) β：黏著型光學薄膜(β)(由離型PET薄膜/黏著劑/偏光板所構成的積層體) 3)PC板：聚碳酸酯製平板
1)黏著劑的溶液黏度：固體成分濃度45質量%的甲苯溶液(25℃) 2)黏著型光學薄膜的種類：β：黏著型光學薄膜(β)(由離型PET薄膜/黏著劑/偏光板所構成的積層體)
1)黏著劑的溶液黏度：固體成分濃度45質量%的甲苯溶液(25℃) 2)黏著型光學薄膜的種類：α：黏著型光學薄膜(α)(由離型PET薄膜/黏著劑/PET薄膜基材所構成的積層體) β：黏著型光學薄膜(β)(由離型PET薄膜/黏著劑/偏光板所構成的積層體)
觀察上述表3~5的結果，得知實施例1~13的光學薄膜用黏著劑藉由以在黏著劑所含有的總固體成分的60質量%以上的比率，含有具備上述的必要條件(E1)~(E4)之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－1)~(Ia－3)及(Ib－1)~(Ib－3)中之1種、2種或3種，儲存彈性模數數[G＇(23℃)]在1.0×105 ~8.0×105 Pa的範圍內且及儲存彈性模數[G＇(90℃)]在7.0×104 ~6.0×105 Pa的範圍內，對基材或被黏著物的變形、膨脹及收縮等的變化之追隨性良好，能夠減基材或被黏著物承受的應力，經過長期間能夠發揮更安定的黏著力及耐久性。
而且，使用該實施例1~13的黏著劑所製造的黏著型光學薄膜(α)((由離型PET薄膜/黏著劑/PET薄膜基材所構成積層體)及黏著型光學薄膜(β)(由離型PET薄膜/黏著劑/偏光板所構成的積層體)，在貼合初期、熱處理後、高壓釜處理後及高壓釜熱處理後任一都具有適當的黏著力(通常為0.05~20N/25毫米)，在剝下時沒有殘糊、且再加工性優良。
而且，實施例1~13的黏著劑在潛變試驗，即使在60分鐘後，黏貼在玻璃板或聚碳酸酯製平板的試片[從黏著型光學薄膜(α)或黏著型光學薄膜(β)所採取的試片]未產生偏移或落下、且耐久性優良，而且SAFT高達151℃以上、耐久性及耐熱性優良。
特別是實施例7及實施例10~13的光學薄膜用黏著劑時，藉由將重量平均分子量(Mw)為50,000以上小於 100,000的範圍的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)[丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia－2)]及重量平均分子量(Mw)為100,000以上300,000以下的範圍的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)[丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－1)、或(Ib－1)及(Ib－3)]，以丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)：丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)＝45：55~75：25(質量比)的範圍內的比率使用，在潛變試驗，即使1000分鐘後，黏貼在玻璃板或聚碳酸酯製平板之試片[從黏著型光學薄膜(α)或黏著型光學薄膜(β)所採取的試片]未產生落下，而且SAFT特別高而達到163℃以上、耐久性及耐熱性極為優良。
相對地，比較例1及比較例2的光學薄膜用黏著劑，雖然含有丙烯酸系三嵌段共聚物(I)，但是因為其比率相對於光學薄膜用黏著劑的總固體成分小於60質量%材，所以對基材或被黏著物的變形、膨脹及收縮等的變化之追隨性差。
而且，使用比較例1及比較例2的黏著劑所製造的黏著型偏光板(離型PET/黏著劑/偏光板)在貼合初期、熱處理後、高壓釜處理後及高壓釜及熱處理後的黏著力太高，又，剝下時有殘糊、且再加工性差。
而且，比較例1及比較例2的光學薄膜用黏著劑在潛變試驗，黏貼在在玻璃板或聚碳酸酯製平板之試片[從黏著型偏光板(離型PET/黏著劑/偏光板)所採取的試片]在1分鐘後早已落掉，而且SAFT低至121℃或125℃、耐久性及耐熱性差。
產業上之利用可能性
本發明的光學薄膜用黏著劑不需要化學交聯，即使未進行化學交聯處理，亦能夠顯示高凝聚力，具有優良的再加工性、黏著特性、耐熱性及耐久性，而且在溶解於有機溶劑而成為溶液型的黏著劑時，因為即使高濃度亦具有低溶液黏度，雖然減少有機溶劑的使用量，亦能夠成為固體成分濃度比先前高的溶液型的黏著劑，作業環境的變差及環境污染的問題少，且能夠減少塗布或除去溶劑製程所需要的時間或熱能等。
特別是在本發明，將丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之重量平均分子量(Mw)為50,000小於100,000之上述的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)、重量平均分子量(Mw)為100,000以上300,000以下的範圍之上述的丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)[丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib－1)，以45：55~75：25的質量比調配而成的光學薄膜用黏著劑，能夠更簡單順利地調整黏著物性(黏著力、潛變等)及本體物性(動態黏彈性等)等，而且耐久性、耐熱性及對基材變形之追隨性更為優良，在工業上作為光學薄膜用黏著劑係極為有用的。

Claims (11)

  1. 一種非化學交聯型的光學薄膜用黏著劑，其係以基於在黏著劑所含有的總固體成分的合計質量為60質量%以上的比率，含有具備下述必要條件(E1)、(E2)、(E3)及(E4)之丙烯酸系三嵌段共聚物(I)之非化學交聯型的光學薄膜用黏著劑，丙烯酸系三嵌段共聚物(I)：(E1)下述通式(1)所示之丙烯酸系三嵌段共聚物：A1-B-A2 (1)(式中，A1及A2係各自獨立地表示玻璃轉移溫度為100℃以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且B係玻璃轉移溫度為-20℃以下的丙烯酸烷酯聚合物嵌段)；(E2)聚合物嵌段B的含量為50~95質量%；(E3)重量平均分子量(Mw)為50,000~300,000；及(E4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5；其特徵為該丙烯酸系三嵌段共聚物(I)係將具備下述必要條件(E1)、(E2)、(E3’)及(E4)之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)與具備下述必要條件(E1)、(E2)、(E3”)及(E4)之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)以丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)：丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)=45：55~75：25的質量比調配而成者，丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)：(E1)下述通式(1)所示之丙烯酸系三嵌段共聚物：A1-B-A2 (1) (式中，A1及A2係各自獨立地表示玻璃轉移溫度為100℃以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且B係玻璃轉移溫度為-20℃以下的丙烯酸烷酯聚合物嵌段)；(E2)聚合物嵌段B的含量為50~95質量%；(E3’)重量平均分子量(Mw)為50,000以上小於100,000；及(E4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5，丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)：(E1)下述通式(1)所示之丙烯酸系三嵌段共聚物：A1-B-A2 (1)(式中，A1及A2係各自獨立地表示玻璃轉移溫度為100℃以上的甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且B係玻璃轉移溫度為-20℃以下的丙烯酸烷酯聚合物嵌段)；(E2)聚合物嵌段B的含量為50~95質量%；(E3”)重量平均分子量(Mw)為100,000以上300,000以下；及(E4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜用黏著劑，其中該丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)的重量平均分子量(Mw)為100,000以上200,000以下。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑，其中在該丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)之聚合物嵌段B的含量為50~70質量%，且在該丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)之聚合物嵌段B的含量為65~95質量%。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑，其中該丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)係使用將具備上述必要條件(E1)、(E2)及(E4)、且重量平均分子量(Mw)為100,000以上小於120,000之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib-1)與具備上述必要條件(E1)、(E2)及(E4)、且重量平均分子量(Mw)為120,000以上200,000以下之丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib-2)，以丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib-1)：丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib-2)=10：90~90：10的質量比調配而成者。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑，其中構成該丙烯酸系三嵌段共聚物(I)、丙烯酸系三嵌段共聚物(Ia)、丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib)、丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib-1)或丙烯酸系三嵌段共聚物(Ib-2)之甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段A1及A2的間規度(syndiotacticity)為65%以上。
  6. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑，其中以基於在黏著劑所含有的總固體成分的合計質量為3~25質量%的比率，更含有具備下述必要條件(F1)、(F2)、(F3)及(F4)之丙烯酸系二嵌段共聚物(II)，丙烯酸系二嵌段共聚物(II)：(F1)下述通式(2)所示之丙烯酸系二嵌段共聚物：C-D (2)(式中，C為甲基丙烯酸烷酯聚合物嵌段，且D為丙烯酸烷酯聚合物嵌段)；(F2)聚合物嵌段D的含量為50~95質量%； (F3)重量平均分子量(Mw)為50,000~300,000；及(F4)分子量分布(Mw/Mn)為1.0~1.5。
  7. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑，其中將黏著劑以振動數6.28rad/s測定動態黏彈性時，在23℃的儲存彈性模數[G’(23℃)]為1.0×105 ~8.0×105 Pa，且在90℃的儲存彈性模數[G’(90℃)]為7.0×104 ~6.0×105 Pa。
  8. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑，其係溶解於有機溶劑而成之溶液型的黏著劑。
  9. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑，其係製成固體成分濃度為45質量%的甲苯溶液，在溫度25℃以B型黏度計測定的溶液黏度為1000~4000mPa．s。
  10. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜用黏著劑，其係形成黏著層，且用於製造未經過交聯製程而具有該黏著層之黏著型的光學薄膜或黏著型的光學薄膜用保護薄膜。
  11. 如申請專利範圍第10項之光學薄膜用黏著劑，其係用於製造使用該黏著型的光學薄膜或黏著型的光學薄膜用保護薄膜之影像顯示裝置。
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