TWI329036B - Nozzle for jetting fluid - Google Patents

Description

1329036 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種流體喷嘴’尤其涉及一種藉由改盖其 結構而能夠均勻喷射藥液的流體喷嘴。 【先前技術】 通常，流體喷嘴是向基板表面噴射藥液等流體的裝置。 該流體喷嘴根據其用途可應用於各種領域。 即，該流體喷嘴可應用於在基板上塗敷藥液而形成塗 層的塗敷裝置、利用藥液對基板進行顯影作業的顯影裝 置、以噴射清洗液來除去基板上異物的清洗裝置等種種裝 置。 < 圖1和圖2舉例示出流體噴嘴用於顯影裝置上的示意 圖。如圖1所示，流體喷嘴丨的喷嘴本體2設置於基板G j上部。而且，該喷嘴本體2上連接有用於供給藥液貿的 藥液供給管6。由此，藥液供給管6所供給的藥液臀，通 過喷嘴本體2的喷出口 N而喷射到基板G上面。 此時，噴嘴本體2由第-板體4及第二板體3構成， 且該第-板體4及第二板體3相隔預定距離而設置，從而 '兩個板體之間形成流&，並在該流路端部形成喷出口 N。藥液w則通過該喷出口 N而向外喷射。 朴但是’現有技術的流體喷嘴在通過噴嘴喷射藥液時， 其樂液沿著直線軌跡高速喷出後與基板相接觸。此時，由 於南速噴出的藥液與基板點接觸，故在基板上面由喷出華 液所形成表面為不均句且呈波紋狀而在生産製程中會 1329036 導致障礙。 爲了克服上述問題，當藉由加大 藥液減速時，嘖中oria主工卜 、出的柄截面來使 組成華液的八t 表 液之間的附著力減弱，而 聚=子之間引力相對變大，進而使藥液相互凝 樂液以不均勻狀態噴射。 【發明内容】 於上述問題而生’其目的在於提供一種藉由 。一結構來向基板均勻地喷出藥液的流體喷嘴。 喷嘴現t述目的’本發明提供"'種流體噴嘴，其包括： ^^嘴本體，由4 喷出口；〜甘 且具有向基板喷出流體的 出口方向料流體。1中，㈣t 且用於朝該嗔 於該流路的橫截面面積曲面積大 冑此、、，。構可使4在通過該流路的流 體減速後贺出該流體。 本發明所提供的流體噴嘴具有如下優點。 第一，由於形成在噴嘴内部的流路寬度比較窄，故該 流體對流路内表面的附著六卜妒 ㈣者力比較大。因此，可在關 時使殘留的流體停止流動，# π & μ π ^ ]阀门 減少流體使用量。 ⑼防止不必要的流體嘴出而 第二，由於喷出口的哈φ 97赁出面積大於流路的橫截面面積， 因此可使大量流體低速嘴出。 第三’由於在噴出口上形成曲面，故流體可沿著該曲 面喷出’因此可以使大量流體低速向基板喷出。 第 在抓路上叹置腔室的結構，可以使流過該流路 1329036 的流體暫時停留在腔室後再流出。因此，此種結構可以使 流體在流路上均勻地流動。 【實施方式】 以下，參照附圖詳細說明本發明優選具體實施例的流 體喷嘴結構。 該流體噴嘴可適用於顯影裝置、塗敷裝置及清洗裝置， 但下面只對其在顯影裝置上的應用情況進行說明。

圖3是本發明優選具體實施例的流體嘴嘴的簡單立體 圖，圖4是圖3所示流體噴嘴的正視圖。 如圖所示，本發明的流體喷嘴1〇可配置於藉由輥輪r 輸送的基板G的上方。 該流體喷嘴1〇具有用於向基板G喷出流體w (以下 稱爲藥液）的喷出口 N，並且包括用於向該噴嘴1()供认藥 液W的流體供給管18 (以下稱爲藥液供給管）。 、

具有一定的傾斜 液w朝基板G 設置後的該流體喷嘴10與該基板G 角度》因此’通過該流體噴嘴1〇喷出的藥 前進的相反方向喷出。 J J说體噴嘴1 〇 包括：喷嘴…2’其由-對板體組成，且具有用於向基 板G喷出樂液W的喷出"；流路2〇，其形成在該喷嘴 本體12内部，且用於朝該噴出口 \方向引導流體。 組成該喷嘴本體12的—對板體包括第-板體16 Μ 二板體14,其中該第一板體16靠近該基板g， 板體Η則與該第-板體16以相對方式進行設置，並藉: 1329036 其他連接部件（未圖示）與該第一板體16相連接。該板 體的形狀爲長方體狀。 其中，該第一板體16和第二板體14相隔預定距離地 而進行設置，且兩者之間形成流路20。 如述’該流路20可將第一板體16及第二板體14之兩 個板體藉由連接部件相互連接而形成’也可藉由對一個板 體内部進行加工而形成。 另外，該等多個藥液供給管18分別與該喷嘴本體12 相連通’而在該長方體狀喷嘴本體12上，該等多個藥液 供給管1 8之間最好具有預定的間隔，以便向該流路2〇供 給均勻的藥液。 此時’在預定範圍内形成該流路2〇的寬度t，例如， 其寬度範圍爲〇.lmm至19mm。即，該寬度1窄於現有裝 置的流路寬度2.0mm。 如此，當流路20的寬度t較窄時，單位面積的流量就 會減乂進而使流路20内表面和藥液w之間的附著力增 加。 即，作用於藥液W和流路20内表面之間的附著力將 會克服作用於藥液之間的引力。 口此，通過該流路20流出的藥液w，與其之間互相 凝聚的傾向相比’沿著扁平狀流％ 2〇内表面流下的傾向 占優勢°因此’該藥液w可通過扁平狀流路2g的内表面 而均勻喷出。 而且，向該流路20供給藥液貨的藥液供給管18藉由 1329036 開關功旎，可有效地喷射流體。 即，如果阻斷向噴嘴12的流路2〇供 由於藥液w得不到繼續#认 ’、。、、液w，則 故流路2〇中的藥液w所禹 到的重力小於其對流路2G内表面的附著力。 所又 因此，殘留在流路20中的藥液w在該附著力 下停留在某一位置上。 作用 藉由該喷嘴12的開關功能可防止不必要的藥液噴出， 從而可節省約5〇%的藥液。 另外，該流路20上形成有腔室c，其對藥液w 引導作用，從而使藥液w喷射得更加均勻。即，該腔室C 是在該第一板體16表面上以預定深度形成之具有半圓型 剖面的槽。該腔室C在第一板體16的表面以橫向 成。 因此，通過該流路20而流下的藥液w儲存在該腔室 c内後，在腔室c内互相混合。並且，如果腔室c内部儲 存預疋量的藥液W就會溢出，從而使藥液％沿著流路 流下。 如此’在藥液W通過腔室C的過程中，在流過流路2〇 的上部區域即流過腔室c上部區域時，由於藥液w與流 路20内表面接觸，因此藥液w的流動性増加，從而會以 不均勻的狀態流下。 因此，設置該腔室C，可在腔室C内暫時儲存及混合 流入的藥液W後，再使其通過流路20的下部區域向下流。 藉由此過程，可使藥液W互相混合’進而可以在比較均勻 1329036 的狀態下噴出。 上述說明中，腔吉r .^ R c的剖面形狀爲半圓形 亚不局限於上述形狀，也 本發明 是能夠儲存藥液w即可。疋二角形、四角形等’只要 卜如圖6所不，本發明具體實施例的口 n 由該第一板體16的端部25及第__ 及第一板體14的端部22所形 成。該噴出口 N的寬度tl大於該流路2〇的寬度卜 由於喷出口 N端部的噴出面面積大於流路20的橫截 面面積’因此可以使通過該流路2〇的藥液w減速後噴出。 而且，本發明的具體實施例中，與第二板體"的端部 22相比，該第一板體16的端部25向基板g方向更加凸出。 較佳的是，在該第一板體16的噴出口 N的端部25上形成 曲面24。 具體而言，將該第一板體16的端部25設成比第二板 體14的端部22更向基板G方向凸出的原因是爲了使第一 板體16的端部25與第二板體14的端部22之間具有預定 的高度差t2,以便使藥液W沿著與基板G相鄰設置的第 一板體16喷出。 在該第一板體10的端部25上形成曲面24,可使藥液 沿著曲面24並在第一板體16的底面和基板G的上表面之 間噴出。 此時，該第一板體16的底面可與喷出於基板G上的 藥液上層接觸。 因此，可使大量的藥液W在低速狀態下沿著該第一板

10 1329036 、 的下端噴出後與該基板G表面線接觸，從而均勻地 ”布於基板G上，或者藉由該第—板體ι6的底面與藥液 上層的接觸，而使該藥液w更加均勻地分布於基板上。 下面’參照附圖進-步詳細說明本發明優選具體實施 ' 例的流體噴嘴的操作過程。 如圖3至圖6所示’藉由藥液供給管18所供給的藥液 w供,’。到噴觜本體12的流路2〇巾。此時，如果把該流路 20的寬度t設定得比較窄，就可減少單位面積的流量，而 _ 增加流路20内表面和藥液W之間的附著力。 因此，通過該流路20流出的藥液w，與其之間互相 凝聚的傾向相比，沿著扁平狀流路2〇内表面流下的傾向 占優勢。因此’該藥液W可藉由扁平狀流路2〇的内表面 而均勻喷出。 而且，流過該流路20的藥液W經過腔室c可以均勻 方式混合。 即，流過流路20的上部區域時，因流動性增加而可能 以不均句狀態向下流的藥液w，在腔室C内暫時被儲存及 混合之後，再經過流路20的下部區域流出，因此，藥液 W可以在經過混合後在更爲均勻狀態下流出。 如此，藥液W可以均勻的狀態經由該流路20内部， 並通過該喷出口 N喷出。 另外，該藥液供給管1 8藉由開關功能可有效地噴射流 體。 、抓 即，如果阻斷向喷嘴12的流路2〇供給的藥液w，由 、樂液W得不到繼續供仏 η ^ ^ 故該樂液w的重力將小於其 卞机路20内表面的附著力。 因此，殘留在流路20内部 w 用下：停止流動而停留在某一位置上。 Q力的作 藉由該噴嘴 1 W噴出，^ 的上相關功能可防止不必要的藥液 育出從而可節省約50%的藥液w。 出在該流路2〇的藥"可通過喷出口 N而喷

:在基…面。此時，該喷出口 N的寬 J 路2〇的寬度t。g m 的橫截面面積，從而Λ 出面面積大於流路20 噴出。 ，使通過該流路20的藥液減速後再 此外，盈塗-4c jwb 的端…基板更7部22相比’該第一板雜16 的喷出口 Ν端部25切口凸出，而且在該第一板體16 上升/成有曲面24。 藉由這一結構，經 板體16的-側喷出。喷出〇 N〇t出的錢…可由第一 7 wTT喷出的藥^ W沿著形成在該第一板體16端部 25上的曲面24’並通過第一板體“的 ： 之間而喷出。 土低^上面 此時，該第一缸 扳體16的底面可與噴出於基板 藥液上層接觸。 双^上的 可使大里的藥液w在低速狀態下沿 體16的下端噴出祛 矛板 .〃該基板G表面線接觸，從而均勻地 分布於基板G上.赤本姑， ^地 ，成者藉由該第一板體16的底面與 12 1329036 22 ' 25 端部 C 腔室 G 基板 N 噴出口 R 輥輪 t ' tl 寬度 t2 面度差 W 藥液

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Claims (1)

1. ijzyujo

   十、申請專利範圍·· ι —種流體喷嘴，包括： 且具有向基板噴出流 喷嘴本體，其由一對板體構成 體的喷出口 ； 八形成在該喷嘴本體内部，且用於朝 方向引導流體， 貧出口 :中：該嗔出口端部的喷出面面積大於該流路的橫截 以使通過該流路的流體減速後噴出。 2·如申請專利範圍帛】項所述之流體喷嘴，其中 喷嘴本體包括： 孩 第一板體，其設置在鄰接於基板的位置上； 第二板體，其設置在該第-板體的上側，並與該第 板體相連接， 其中，與該第二板體的端部相比，該第一板體的端部 向基板方向更加凸出。 3_如申請專利範圍帛2項所述之流體噴嘴，其中： 該第一板體的噴出口端部爲曲面。 4 如申叫專利範圍第丨項所述之流體喷嘴，其中： 該流路具有當阻斷該流體的流動時，可藉由流體與流 路内表面之間的附著力’而停止流體流動的寬度。 5·如申請專利範圍帛i項至第4項其中任何一 之流體喷嘴’其特徵在於，進一步係包括腔室，該腔室开: 成在該流路上，並具有預定容積，其可以暫時儲存流過該 流路的流體，之後再使該流體流下。 15 1329036 ，其中： »並與該基 流體接觸， 6.如申請專利範圍第3項所述之流體喷嘴 藉由該噴出口而喷射的流體係沿曲面噴出 板線接觸，而該第一板體的下端與該基板上的 從而使流體均勻地塗覆於基板上。 Η•一、圖式： 如次頁。

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