TWI311525B - Droplet ejection apparatus - Google Patents

Description

1311525 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係液滴喷出裝置有關。 【先前技術】 -般而言’液晶顯示裝置、電激發光顯示裝置般之顯示 裝置係包含用於顯示圖像之基板。以品質管理、製造管理 為目的，在此類基板中係形成顯示含有其製造商、製品號 φ石馬之製造資訊的識別碼（譬如，2次元碼）。識別碼包含複數 之點，而其係譬如由含有有色薄膜或凹部等之點所構成 者。此類點係以形成特定圖案之方式作配置，此種點之配 置圖案則決定識別碼。 就識別碼之形成方法而言，日本特開平u_7734〇號公報 係提出將雷射光照射於金屬箱而將點作濺鍍成膜之雷射賤 鑛法；日本特開平2003_127537號公報係提出將含有研磨 材之水喷射至基板等把點刻印在該基板之水喷射法。 在上述雷射濺鍍法方面’為了製得期望大小的點，必須 將金屬落與基板間的間隙調整為數叩〜數十㈣才行。亦 即，基板之表面及與金屬箔之表面需具有極高之平坦性. 且必須以級之精度將金屬箱與基板間的間隙作調整才 行。基於此因’可適用雷射濺鑛法之基板的對象範圍受到 :制’導致同方法之泛用性不佳。又’在水嘴射法方面， 板進行刻印時，會有水、塵埃、研磨劑等飛濺而污 乐同基板的情形發生。 因此’就用於解決此生產上問題之識料的形成方法而 】16035.doc 1311525 =喷墨法係文到_目。在噴墨法方面，係將含有金屬微 粒子之液滴，從液滴喷出頭朝基板由喷嘴喷出，藉由將該 液滴乾燥，而在基板上形成點。基於此因，可適用同方法 之基板的對象範圍變得較大’且可不污染基板而形成識別 在日本特開平8·17侧號公報、日本特開平9_29〇5 Μ號 公報、。日本特開2001_225479號公報、日本特開平·: _ 83號a報、及再公開專利公報w〇 2〇〇_如7中，係揭 示了以上述喷墨法利用之液滴噴出裝置。此液滴噴出裝置 在料墨水之墨水槽與液滴喷出頭之間’係包含藉由墨水 之廢差而開閉之閥機構。闕機構係因藉由液滴噴出頭中之 墨水消耗而產生之負屬而士丁 以穩定之壓力將墨水供應 :ΠΓ。藉由此方式，液滴喷出裝置可避免墨水之 可使液滴之大小、噴落位置穩定，在高位置 精度下形成點。 在上述顯示裝置之製造步 生產力，係在一片母心 為了如兩该顯示裝置之 母基板分別切出二Γ:形成複數之識別碼。接著，從 母基板製造複=:各區域，… 液滴喷出頭僅在散佈於母 ’墨法方面， 液滴喷出動作。其結果/ 之識別碼形成區域上執行 之識別碼所需…在上述喷墨法方面’形成複數 之液滴嘴出頭部分’係㈣於識別碼形成區域間 為了提高識別碼之生產力 因此，在上述嘴墨法方面 116035.doc 1311525 係/將液滴噴出頭搭載於多關節機器人，使液滴喷出頭往 2次元方向作高速移動為佳。 在再公開專利公報W0 2000/03877中，係記載包含線圈 彈菩、β # ” 精由線圈彈簧而與閥座經常彈接之可動膜之結 構起因於液滴冑出頭之移冑的墨水搖冑，係 所承受， 、 4 ^ 七& ’藉由此方式，而使液滴喷出頭之壓力狀態呈現穩 疋亦即，因液滴喷出頭在 頌在人兀方向上之加速度與墨 .1間的相互作用而顯現之力，係由線圏彈簧所承 因液滴噴出頭之 之力作任何研討 或液滴噴出頭之 虞：設於上述閥 閥機構誤動作。 如將液滴噴出 問題之虞：連結 繞於多關節機器 應。 在再公開專利公報W〇 2〇〇〇/〇3877中，並未針彥 if!诗百今丄^A — 加速度與閥體之質量間之相互作用而顯ί 基於此因，當閥體之質量大之情形時 加速度大之情形時，則有發生如下問題： 機構中之閥體在加速度方向上受力而造力 =搭載W㈣機H人等，則有發生 :狀體槽與液滴喷出頭之液狀體供應管纏 之手臂等，而難以維持液狀體之穩定供 頭搭载於多關節 出頭之液滴嘴出 裝 因此，將液滴噴出 置係難以確保液滴噴 【發明内容】 機器人之液滴噴出 動作之穩定性。 體 W碲提供一種 穩定供應至液滴喷出頭者 I16035.doc 1311525 為了達成上述目的，在本發 裝置係包含將液滴喷出至對象物之液= 滴喷出 液滴喷出單元係搭载於多關節機器人，前述 係使前述液滴噴出單元纟t 別〃夕關卽機器人 月®早兀在刖述對象物之上 _ 移動。前述液滴喷出單元包含液滴嘴出頭、液狀Z方向 ;密封閥。自行密封閥係將從前述液狀二=及自 /噴出頭之液狀體的壓力控制於特定之壓力者二卜液 密封間包含間體，其係依照前述液 2者別述自行 :力“述液狀體槽側之液狀體的屢力間的差塵 ： 與開放位置之間移動者。前述閥體係配設為： …2述_從前述閉鎖位置往前㈣放位 的加速度之方向不同於往前述2次元方向移動 = 滴噴出單元的加速度之方向。 述液 【實施方式】 以下’依照圖1至圖8，呤 型態。首先，針對二=:明具體化之第1實施 太發明曰曰』不裝置Η乍說明，其係含有利用 本發月之液滴噴出裝置2 G㈣成之朗碼】〇者。 在圖1中’在基板2之-側面（作為被噴出面之表面蝴 略中央位置’係形成封入液晶分子之四角形的顯示部3。 在顯不°卩3之外側形成有掃描線驅動電路4及資料線驅動電 路5。液晶顯示裝置1依據此等掃描線驅動電路4所產生之 ㈣信號及資料線驅動電路5所產生之資料信號，而控制 前述顯示部3内之涪曰八？ 曰日刀子之配向狀態。液晶顯示裝置1藉 由平面光依昭该a八2 '、，、液日日刀子之配向狀態被調變，而在顯示部3 116035.doc 1311525 琢平面光係來自未圖 之區域顯示所期望之圖像 明裝置者。 在表面2a之左侧之下隅，一邊係形成約imm之正方形之 碼區域s。該碼區域㈣、被模擬分割為構成16心6行之矩 陣的複數之資料單元（點形成區域）c。在該碼區域仏被選 擇的資料單元C中，係分別形成作為標記之點D;藉由此 複數之點D，而構成液晶顯示裝置}之識別碼心 在本實施型態中’係將應形成點D之資料單元c的中心 位置稱為"目射MW，將各資料單元C之-邊長度稱 為單元寬度W。 _各點D之外徑係形成為與資料單元c的一邊長度(前述單 寬度W)相同’各點係呈半球狀。含有將金屬微粒子(譬 如’錄微粒子、錢微粒子）分 卞）刀散於分散介質之液狀體F(參 考圖4)的液滴Fb，係被往 + _ 貝竹早兀c噴出，並喷落於該資 科皁7CC。點D係藉由將 赁洛之液滴扑予以乾燥及燒結 >成。已噴落之液滴Fb之乾 — 乾屎及燒結係精由將雷射光 B(參考圖句照射液滴扑來 菸择月“ I本實施型態中’係藉由 ^及燒結液紐而形成點D，但並不限定於此，#如， 猎由僅以雷射❹之乾燥而形成點D亦可。 ° 識別碼10係藉由點的配置圖案， 之劁σ躲狀日日糊不裝置1 之Im唬碼、批號等重新 見，而點的配置圖案係依照各 貪枓早兀C内之點D的有無而決定者。 谷 從圖1至圖7，太*參μ 本實施型態中，將上述基板2之長邊方 σ疋義為X方向丨將在虚 隹/、基板2平行之面内且與乂方向呈正 116035.doc 1311525 :之方向定義為γ方向。又’將與乂方向及¥方 乂之方向定義為ζ方向。特別將圖中箭頭所示之 +Χ方向、+Υ方6 7. 向稱為 方向、+ζ方向，而與之相反之方向，則八 稱為-X方向、·γ方向、_ζ方向。 刀

接著’針㈣於形成前述識別碼1G之液滴噴出裝置20作 說明。在本f施型態中’係針對在成為複數之前述基板2 之母材(母基板2M)上’使複數之前述識別碼1〇分散而形成 之情形作說明。藉由將母基板2M切出，而製得分別含有 識別碼10之複數之基板2。母基板观係液滴噴出裝置2〇將 液滴喷出之對象物。 在圖2中，液滴喷出裝置2〇係包含形成為略正方體形狀 而構成裝置本體之基台21。在基台21之一侧部（又方向上之 一側部），係配設著收容複數之母基板2M之基板儲備箱 22。基板儲備箱22係往圖2中之上下方向（+z方向及_2方 向）移動，實施收容於基板儲備箱22之母基板2河之往基台 2 1上的搬出，及往基台2丨上之母基板2m所對應之收容槽 的搬入。 在基台21之上面21a且靠近該基板儲備箱22之部位，係 配設著沿著Y方向延伸之移動裝置23。移動裝置23係在其 内部包含移動馬達MS(參考圖8)，其係使連結於移動馬達 MS之輸出軸的搬送裝置24沿著γ方向移動者。搬送裝置24 係水平多關節機器人，其包含可把母基板2M之反面2Mb吸 附並保持之搬送臂24a。搬送裝置24係在其内部包含搬送 馬達MT(參考圖8)，其係使連結於搬送馬達MT之輸出軸的 116035.doc •12- 1311525 , 搬送臂24a，於包含X方向及Y方向之平面（χ_γ平面）内伸 縮及旋動’且往上下方向移動者。 在基台21之上面21a且於γ方向上之兩側，係併設著載置 母基板2M之一對載置台25R、25L。一對載置台25R、25L 係在分別使表面2Ma朝上側而被載置之母基板2M的反面 2Mb側，畫定讓前述搬送臂24a進出穿梭之空間（凹部 25a)。搬送臂24a係在凹部25a之内部作上動或下動，將母 # 基板2M從各載置台25R、25L提起或載置於各載置台2511、 25L 上。 當移動馬達MS及搬送馬達MT接到特定之信號時，移動 裝置23及搬送裝置24係將前述基板儲備箱22内之母基板 2M搬出而載置於載置台25R、25L之任一方。又，移動裝 置23及搬送裝置24係將載置於載置台25R、2几之母基板 2M，搬入基板儲備箱22内之特定收容槽，實施母基板2M 之回收。

在本實施型態中，如圖3所示般，載置於各載置台說、 25L之母基板2%之碼區域8係往1方向依序（亦即，從圖3 之上側往下側依序）為第丨列碼區域81、第2列碼區域 S 2、…、弟5列碼區域s 5。 在圖2中在基台21之上面21a且在前述一對載置台 25R、25L之間，係'配設著多關節機器人(以下稱無向量機 器人）26。無向量機器人26係固定於基台21之上面2ia，且 包含往上方（+z方向）延伸之主軸27。在主軸”之上端，係 設置著_28a。第繒仏之基端部係連結於設置於主軸 116035.doc 1311525 ' 27之第1馬達Ml(參考圖8)的輸出車I第1臂28a可在水平面 ··内（亦13 著2方向延伸之軸的周圍）進行旋動。在第1臂 -28&之先端部係設置著第2馬達M2(參考圖8)。該第2馬達 M2之輸出軸係連結第2臂2815之基端部丨第2臂可在水 平面内進行軚動。在第2臂28b之先端部係設置著第3馬達 M3(參考圖8)。該第3馬達M3之輸出軸係連結著圓柱狀之 第3臂28c。該第3臂28c可在沿著2方向延伸之軸的周圍進 • 行奴動。在第3臂28(：之下端部，係配設著作為液滴喷出單 元之頭單元30。 當此第1、第2及第3馬達Ml、M2、M3接到特定之控制 k號時，無向篁機器人26係使對應之第i、第2及第3臂 28a' 28b、28c進行旋動；在圖3中，使頭單元3〇在上面 2 1 a上之掃描區域E(2點短劃線所示區域）内進行掃描。 詳細而言’如圖3之箭頭所示般，首先，無向量機器人 26係使第1臂28a、第2臂28b、及第3臂28c進行旋動，以使 Φ 頭單元30在第1列碼區域81上往+Y方向掃描。此時，無向 Ϊ機器人26係使頭卓元30在各碼區域s之上方位置作低速 移動’而在鄰接之碼區域S之間的上方位置作高速移動。 接著’無向量機器人26係使第3臂28c及頭單元30—起， 以相當於180度往左旋轉。然後，無向量機器人26係使第1 臂28a、第2臂28b、及第3臂28c進行旋動，以使頭單元3〇 在第2列碼區域S2上往-Y方向掃描。此時，無向量機器人 26係使頭單元30在各碼區域S之上方位置作低速移動，而 在鄰接之碼區域S之間的上方位置作高速移動。其後，以 116035.doc -14- 1311525 同樣方式’無向量機器人26係使臂28a、28b、及28c進行 旋動，以使頭單元30在第3列、第4列及第5列碼區域S3、 S4、S5依序作掃描。 亦即’本實施型態之無向量機器人26係將頭單元3〇之方 向按照該頭單元3 〇之移動方向（掃描方向j)作變更，使頭單 元30沿著通過全部碼區域s上的鋸尺狀掃描路徑而移動。 頭單元30之掃描方向j(亦即，掃描路徑）係存在於χ_γ平面

内0 如圖4所示般，頭單元30包含形成為箱狀體之盒31。在 揽3 1之内部係配設液狀體槽32、及位於該液狀體槽下側 之自行密封閥33;自行密封閥33係連通於液狀體槽32。在 麗3 1之下側，係配設連通於前述自行密封閥3 3之液滴噴出 頭（以下’僅稱為喷出頭）34。 液狀體槽32係收容前述液狀體F。液狀體F係利用其水頭 差壓，而被往比液狀體槽32内之液面^更下方（自行密封 閥33及喷出頭34)導出。 如圖5所示般，自行密封閥33包含閥本體35，在該閥本 體35之内部係形成導入路36。導入路％係連通於前述液狀 體槽32’把從液狀體槽32所導出之液狀·導人閥本體^ 之内部。在閥本體35之内部係形成連通於導入路刊之下游 端的剖面四角形之空間(亦即，閥體收容室37S)。閥體收 容室3 7 S係收容從導入路3 6所 在閥體收容室37S之上方包含 口於閥本體35之上面35a者。 導出之液狀體F。閥本體35係 凹部（受壓凹部37b)，其係開 閥本體3 5亦包含圓孔（連通孔 116035.doc 1311525 • 37a) ’其係沿著Z方向延伸，以使閥體收容室37S連通於受 . 壓凹部37b者。 « • 在閥本體35之上面35a’係貼著可撓性受壓片38，其係 可往上下方向（z方向）撓曲者。藉由此受壓片38將受壓凹 部37b密封而形成空間（受壓室39S)。被此受壓凹部37b及 受壓片38所包圍之受壓室39S ,其容積為可變。受壓室39s 係連通於閥體收容室37S，而收容液狀體F。 • 在受壓片38之下側，係黏貼著可往上下方向移位之受壓 板38T，在該受壓板38T與受壓凹部37b之底面之間，係配 設著作為施力構件之線圈彈簧SP1。線圈彈簧spi係將受壓 板38T(叉壓片38)往上方施力，使受壓板38τ(受壓片38)與 受壓凹部37b之底面之間，以相當於特定距離（”恆常距離 H1”）分離。在本實施型態中，係將使受壓板38丁與受壓凹 部37b之底面之間的距離成為前述"怪常距離ηι "之受壓室 39S的壓力稱為”恆常壓"。 | 閥本體35包含從受壓凹部37b之底面往乙方向延伸之導出 路40。導出路40係使受壓室39S連通於前述噴出頭％之流 路，其係將液狀體F從受壓室398往喷出頭34引導者。 當叉壓室39S内之液狀體F被導入喷出頭34時，受壓室 39S之壓力變得比前述"恆常壓"為低，受壓板“π受壓片 38)係對抗線圈彈簧SP1之施力力而往向下移動。 在閥體收容室37S之内部係配設著閥體41。閥體Μ包含 圓板狀之軸環部41a、及從軸環部41&之中心往上方延伸之 軸部41b ;其重心〇係以位於轴環部4u之約略中心位置之 116035.doc 1311525 • 方式形成。軸環部41a係配置於閥體收容室37S之内部；軸 °卩41b係通過連通孔37a而延伸至受壓室39S之内部。連通 孔3 7a係僅容許閥體41之往上下移動。 —在閥體4!之下面與閥體收容室37S之底面之間，係配設 著將閥體41往上方施力之作為施力構件的線圈彈簧sj>2。 當受壓室39S之壓力為"恆常壓，，時，線圈彈簧sp2之施力力 係使軸環部41a抵接於閥體收容室37S之上面，將閥體收容 • 室378與受壓室39S之間的連通予以截斷。 閥體41係可在"閉鎖位置"與"開放位置，，之間移動。當閥 體41位於”閉鎖位置"時，則軸環部41a抵接於閥體收容室 37S之上面，將閥體收容室378與受壓室39s之間的連通予 以截斷。當閥體41位於”開放位置"時，則軸環部4U從閥 體收容室37S之上面分離，使閥體收容室37S與受壓室39s 相互連通。 如圖6所示般，當液狀體]f從受壓室398被導出至噴出頭 » 34,受壓室39S之壓力變得比"恆常壓”為低時，則受壓板 38T係對抗線圈彈簧SP1之施力力而往下移動，使閥體41從 閉鎖位置"往"開放位置"移動。當閥體4丨移動至”開放位置" 時’則閥體收容室37S係介以連通孔37a而與受壓室398連 通，藉由此方式，液狀體F被從閥體收容室37S導入至受壓 室39S，而使受壓室39S之壓力降低得到補償。當受壓室 39S之壓力再度恢復至"怪常壓”時，則閥體41係藉由線圈 彈簧SP1之施力力而再度移動至”閉鎖位置"，而將閥體收 容室37S與受壓室39S之間的連通予以戴斷。亦即’閥體4ι 116035.doc -17· 1311525 . 係將從闕體收容室37S往受壓室39S之液狀體]7的導入予以 截斷，而將受壓室39S之壓力保持於，，恆常壓”。因此，自 • 行捃封閥33係將供應至嘴出頭34的液狀體ρ之壓力維持 於"恆常壓”。 自打密封閥33之開閉方向，亦即，閥體41之移動方向 (閥體41之重心G之移動方向）係上下方向。換言之，閥體 41之移動方向係對包含頭單元3〇之掃描方向】的χ_γ平面呈 • 垂直。基於此因，起因於Χ-Υ平面内之頭單元30之動作而 作用於閥體41的加速度之方向，係對閥體41之移動方向呈 垂直。因而，自行密封閥33並不受在χ_γ平面内之頭單元 30之動作的影響，而按照受壓室39S之壓力作適切之開閉 動作’使液狀體F之供應壓良好維持於"但常麼"。 當頭單元30在掃描方向J(X_Y平面）作加速或減速時，自 行密封閥33(閥體41)係按照頭單元3〇之加速度，而承受與 X-Y平面呈平行之方向之力（作用力）。此力之方向係與自 鲁 行密封閥33作開閉動作時之閥體41的重心G之移動方向呈 垂直。基於此因，自行密封閥33並不受頭單元3〇之加速或 減速之影響，而按照受壓室39S之壓力作適切之開閉動 作。因而，自行密封閥33並不受頭單元3〇之加速或減速之 影響，而可將供應至喷出頭34之液狀體F的壓力良好維持 於''恆常壓”。 如圖7所不般，在噴出頭34之下側係包含噴嘴板42 ;在 該喷嘴板42之下面（噴嘴形成面42&)，沿著z方向而貫通喷 嘴板42的複數之圓孔（噴嘴N)係呈開口狀（在圖7中，僅顯 116035.doc -18- 1311525 • 示Η固喷嘴N)。噴嘴N係沿著與頭單元30之掃描方向了呈正 交之方向（在圖7中’係垂直於紙面之方向）而排列，其排列 . 間距係與前述單元寬度W相同。 在本實施型態中’係將在母基板2M之表面2Ma上、且在 各噴嘴N之於Z方向之正下方的位置，稱為，，喷落位置pF"。 噴出頭34係在各喷嘴N之上側，包含連通於前述自行密 封閥33(導出路40)之室43，各室43係將從自行密封閥33所 % 導出之液狀體F供應至對應之喷嘴N的内部。在各室43之上 侧係貼著振動板44 ;各振動板44係可往上下方向振動，以 使對應之室43的容積擴大及縮小。 在振動板44之上側，係配設著分別對應於噴嘴N之複數 之壓電元件PZ。當各壓電元件Pz接到驅動信號（驅動電壓 COM1:參考圖8)，則以對應於驅動電壓c〇M1之驅動量往 上下方向收縮及伸展。振動板44係藉由壓電元件PZ之收縮 及伸展’往上下方向振動，而使噴嘴N内之液狀體F之介面 i (彎液面K)往上下方向振動。 當分別對應之"噴落位置PF”位於碼區域8之”目標噴出位 置P"時，則各壓電元件PZ接受驅動電壓c〇Ml。接到驅動 電壓COM1之壓電元件pz係使彎液面κ振動，而使特定容 量之液滴Fb從對應之噴嘴Ν噴出。液狀體F係藉由自行密 封閥33而被穩定供應至喷出頭34，因此從喷嘴\噴出之液 滴Fb係被良好控制於特定容量。液滴Fb係沿著ζ方向往下 方作穩定飛行，而喷落於對應之噴落位置pF(目標噴出位 置Ρ)。喷落於喷落位置PF之液滴抑係沿著表面2Ma而擴大 116035.doc -19- 1311525 潮濕範圍，使其外徑成為單元寬度w。 型態中，將從液滴Fb之噴出動作 喷出之液滴Fb的外徑成為單元寬度w為止之時間= =射待機時間"W係在此，，照射 ^ 動相當於單元寬度W。 之間移 如圖4所示般，在前述喷出頭34之一側，係配設著雷射

頭45。雷射頭45係關聯於掃描方向;而位於噴出頭μ之後 側。在雷射頭45之内部，分別對應於噴嘴N之複數之雷射 照射裝置（半導體雷射LD)，係沿著喷嘴N之排列方向（在圖 钟，係垂直於紙面之方向）而排列。當各半導體雷射⑶接 到驅動信號（驅動電壓C〇M2:參考圖8)，則將對應於液滴扑 之吸收波長之波長區域的雷射光B，沿著z方向往下方射 出。 ▲在半導體雷射LD之正下方，光學系（反射鏡M)係以沿著 刖述喷嘴N之排列方向而延伸之方式配置。反射鏡μ係將 來自半導體雷射LD之雷射光3予以全反射，作全反射後之 雷射光Β係被引導至"照射位置ρτ"。照射位置？丁係關聯於 掃描方向J而位於喷落位置PF之後側。 如圖7所示般，喷落位置PF與照射位置ρτ之間的距離係 设定為頭單元30在前述照射待機時間之間移動之距離，亦 即’等於單元寬度W之距離。 畲分別對應之照射位置ΡΤ位於目標喷出位置ρ時，則各 半導體雷射LD接受驅動電壓COM2。接到驅動電壓COM2 之各半導體雷射LD，係將射出之雷射光β讓反射鏡Μ作全 116035.doc •20· 1311525 反射’把雷射光B照射於存在於照射位置ρτ之液滴F}^照 射液滴Fb之雷射光B係使液滴Fb之溶劑或分散介質等蒸 發，把液滴Fb中之金屬微粒子在照射位置ρτ予以燒結。藉 由此方式’而在目標噴出位置Ρ形成具有等於單元寬度w 之外徑之點D。 接著，根據圖8，針對具有如上述結構之液滴喷出裝置 20之電性結構作說明。 如圖8所示般，控制裝置51包含cpu、ram及ROM ;遵 照儲存於ROM之各種資料及各種控制程式，將移動裴置 23、搬送裝置24及無向量機器人26驅動，並且將喷出頭34 及雷射頭45驅動。 控制裝置5 1係連接於包含啟動開關及停止開關等之操作 開關的輸入裝置52 ;透過此輸入裝置52，識別碼1〇之圖像 係被作為既定之描晝資料1&而被輸入。控制裝置51係按照 來自輸入裝置52之描畫資料Ia，而產生位元映像資料 BMD、對壓電元件Pz之驅動電壓c〇M1、及對半導體雷射 LD之驅動電壓COM2。 位70映像資料BMD係按照各位元之值（0或1}將壓電元件 PZ之導通或切斷予以規定者。亦即，纟元映像資料 係規定是否將液滴Fb喷出至位於二次元之描晝平面（母基 板2M之表面2Ma)上之各資料單元c之資料。 控制裝置51係連接於移動裝置驅動電路53。移動裝置驅 動電路53係連接於移動馬達MS及移動4達旋轉檢測器 MSE。移動裝置驅動電路53係反應來自控制裝置51之控制 116035.doc -21 . B11525 信號’而使移動馬達MS進行正轉或反轉；同時依據來自 移動馬達旋轉檢測器MSE之檢測信號而將搬送裝置24之移 動方向及移動量予以運算。 控制裝置5 1係連接於搬送裝置驅動電路54。搬送裝置驅 動電路54係連接於移動馬達MT及搬送馬達旋轉檢測器 MTE。搬送裝置驅動電路54係反應來自控制裝置5丨之控制 信號’而使移動馬達MT進行正轉或反轉；同時依據來自 • 搬送馬達旋轉檢測器MTE之檢測信號而將搬送臂2乜之移 動方向及移動量予以運算。 控制裝置5 1係連接於無向量機器人驅動電路55。無向量 機器人驅動電路55係連接於第i馬達M1、第2馬達M2、及

第3馬達M3 ;其反應來自控難置51之控制信號，而使第 1第2及第3馬達Ml、M2、M3進行正轉或反轉。無向量機 器人驅動電路55係連接於第達旋轉檢測器mie、第2馬 達旋轉檢測器M2E、及第3馬達旋轉檢測器_;依據來 自第1、第2及第3馬達旋轉檢測器M1E' M2e、贿之檢測 信號，而將頭單元30之移動方向及移動量予以運算。 控制裝置51係介以無向量機器人驅動電路”，而使頭單 元？沿著掃描方向J呈錫尺狀移動，依據來自無向量 機器人驅動電路55之運算結果而輸出各種控制信號。 控制裝置51係連接於噴出頭驅動電路％。控制裝置㈣ 將同步於特定之時脈信號的嘴出時點信號Lp輪出至喷出頭 驅動電路56。控制裝置51亦使驅動電塵c〇mi同步於特定 之時脈㈣’而輸出至噴出頭駆動電⑽。制裝以更依 116035.doc -22· 1311525 據位元映像資料BMD ’而產生同步於特定之基準時脈信號 的噴出控制信號S1，並將該噴出控制信號S1作串聯傳送至 噴出頭驅動電路56。喷出頭驅動電路56係將來自控制裝置 51之噴出控制信號SI作串聯/並聯變換，使之對應於複數之 壓電元件PZ。 ” ，™，口肌_貝JQ頌驅動 電路56係對依據已被作串聯/並聯變換之喷出控制信號幻而 被選擇之壓電％件PZ，分別供應驅動電壓。亦即， 控制裝置51係在各喷落位置冲與目標喷出位置致之 時點，使依據喷出控制信號SI(位元映像資料bmd)而被選 =喷嘴N喷出液祕，使喷出之液滴F.b喷落於目標喷出 :。又，喷出頭驅動電路56係將依據已被作串聯/並聯 、之喷出控制信號si輸出至雷射頭驅動電路57。 控制裝置5!係連接於雷射頭驅動電路57。控制裝置 =步於特定之基準時脈信號之驅動電至 雷射頭驅動電路57。當雷射頭驅動 = 驅動電路56之噴出控 * -來自噴出頭 即，相當於前述照射待機：)後則:物定之崎 供應至對應於喷出控制信號si ’m驅動電社〇奶 經過照射待機時間“ 導體雷射❿。亦即，在 呈-致。控=係::::置。T係與目標喷出位置。 一狀時點’使雷射頭45射出雷射光^目^出位置p呈 作針對使用液滴嘴出裝置20而形成識別碼H)之程序 116035.doc -23 . 1311525 首先，操作輸入裝置52，將描畫資料“輸入至控制裝置 51。接著，控制裝置51係介以移動裝置驅動電路53及搬送 裝置驅動電路54，而驅動移動裝置23及搬送裝置24，將母 基板2M從基板儲備箱22搬送至載置台25R或載置台25乙， 並載置於該處。 又，控制裝置51係產生依據描畫資料Ia之位元映像資料 BMD並儲存之’同時並產生驅動電壓C0M1及驅動電壓 COM2。接著，控制裝置㈣介以無向量機器人驅動電路 55而驅動無向量機器人26，使頭單元3〇開始進行掃描。控 制裝置51係依據從無向量機器人驅動電路55所獲得之運算 '°果而判斷與頭單元30一起移動之喷落位置PF是否已經 到達先頭之資料單元c(目標噴出位置p)。先頭之資料單元 c係在第1列碼區域81之中，於圖3中位於最右側之碼區域$ 中，位於最右側之一行分之資料單元C。 又，控制裝置51在輸出喷出控制信號81至噴出頭驅動電 的同時，並分別將驅動電壓COM 1及驅動電壓COM2 輸出至喷出頭驅動電路56及雷射頭驅動電路57。 當嘴落位置PF到達先頭之資料單元c(目標噴出位置p), 、J控制裝置5 1係輸出喷出時點信號至喷出頭驅動電路 接著’喷出頭驅動電路56係分別供應驅動電壓com 1 至依據噴出控制信號SI而被選擇之壓電元件PZ ,使對應之 喷嘴N—齊噴出液滴肋。 此時，各噴係藉由自行密封閥33之壓力控制，而持 續被供應穩定壓力之液狀體F。基於此因，噴出之液滴扑 116035.doc -24 - 1311525 之容量、飛行方向呈現穩定，液滴Fb係正確喷落 目標喷出位置p。喷落於目標喷 、、、〜、之 „„ , ' 置Ρ之液滴Fb係隨著時 間經過而擴大潮濕範圍，從嘴出動作開始在經過照射待機 時間後，液滴Fb之外徑係成為單元寬度诹。 又’控制裝置51係介以喷出頭驅動電路56，將已作串聯/ «㈣之噴出控制信號幻輸出至雷射頭驅動電路 者，‘從喷出動作開始經過照射待機時間，照射位 目標喷出位置p呈—致時，則雷射頭驅動電路㈣分別供 應驅動電MC0M2至依據喷出控制信號si而被選擇之 體雷射LD’使被選擇之半導體雷射LD_齊射出雷射光b。 從+導體雷射LD所射出之射出雷射光B，係藉由反射鏡 Μ被作全反射’而照射於存在於照射位置ρτ之液滴巧。接 著’液滴几中之溶劑或分散介質在蒸發的同時，液滴扑中 之金屬微粒子被燒結；藉由此方式’液滴抑係作為具有相 等於單元寬度w之外徑的點D而黏固於表面2M。如此一 來’則形成整合為單元寬度w之點D。 以後’如同前述般，頭單元30沿著掃描路徑逐漸移動， 每當喷落位置PF到達目標喷出位置㈣，則從被選擇之喷 嘴噴出液滴Fb。接著· ’在哨·落於表面2Ma之液滴抑的外 徑成為單元寬度冒之時點，則雷射光B對該液滴Fb進行照 射。其結果為’在母基板2河之各碼區域§形成具有特定配 置圖案之點D。 接著’以下說明本實施型態之優點。 (1)利用水頭差壓而供應液狀體F之液狀體槽32、將液 116035.doc -25- 1311525 .狀體槽32所供應之液狀體？之壓力控制於怪常壓之自行密 • •封閥33,係與噴出頭34 一起搭載於無向量機器人％。液狀 體槽32及自行密封閥33係與喷出頭34一起，係沿著存在於 X-Y平面内之掃描方向j而移動。 因此，相較於將液狀體槽32、自行密封閥33配設於基台 21之情形’可使用於供應液狀，之供給線較短，可避免 起因於供給線之彎曲等之液狀體F之供給不良。其結果 鲁為，可對往2次元方向作加速或減速之喷出頭“穩定供應 液狀體F，而提高含有液滴扑之識別碼1〇的生產力。 (2)閥體41之轴部4113係被延伸於閥體收容室37s及受壓 室39S之間之連通孔37a所插通；閥體41係僅能往上下方向 (Z方向）移動。自行密封閥33作如下配置以使：產生可移 動閥體41之力之加速度的方向，係對在χ_γ平面内移動之 頭單元30之加速度的方向呈垂直。 亦即，即使ζ方向之加速度對閥體41產生作用之情形 >時，閥體41係承受因該加速度及本身之質量所產生之力， 而可往ζ方向移動。然而，在本實施型態中，頭單元30之 加速度之方向係對Ζ方向呈垂直。因此，不受頭單元之 加速或減速之影響，可按照受壓室39S之壓力而適切控制 闕體41之位置。並{士 ^ —p 直八…果為，可使供應至喷出頭34之液狀體 F的壓力維持穩定。 (3)自行密封閥33之開閉方向係對頭單元儿之掃描方向j 呈垂直。因此，可更確實控制自行密封閥33之開閉動作， 故可使供應至喷出頭34之液狀體F的壓力更維持穩定。 116035.doc -26- 1311525 • ⑷閥體41之重心G之移動方向係與自行密封閥33之開 ，閉方向呈—致°因此’可使自行密封閥33之開閉動作更穩 定化，故可更穩定將液狀體]F供應至噴出頭34。 (5)線圈彈簧SP2係將閥體41往閉鎖位置施力。因此， 可依據線圈彈簧SP2之施力力，將自行密封㈣之開閉動 作予以規定，故可使供應至噴出頭34之液狀體1?的壓力更 維持穩定。 • ⑹雷射頭45係搭載於頭單元30,藉由從該雷射頭45所 射出之雷射光B而使液滴扑乾燥。基於此因，可提高噴落 後之液滴Fb的形狀控制性。χ ’亦可提高識別碼⑺之生產 力。 接著，依照圖9,針對將本發明具體化之第2實施型態作 說明。第2實施型態之液滴噴出裝置2〇僅在自行密封㈣ 方面與1實施型態之液滴喷出裝置2〇不同。因此，以下僅 針對自行密封閥33之變更點作說明。 I 在圖9中，閥本體35包含連通於導入路36之導入室37&、 連通於導出路40之導出室39R、及連通於導入室咖與導 出室39R之連通孔37a。在導出室39R中，係設置往垂直於 圖9紙面之方向延伸的旋動轴A，並配設可以旋動轴a為中 心旋動之剖面呈L字形的閥體41。 閥體41包含截斷部41c ’當截斷部4ic抵接於導出室外尺 之内壁面時，則連通孔37a與導出室遭間之連通被截斷。 自此狀態起，當截斷部41c以旋動似為中心往右旋動，則 截斷部仏從導出室遭之内壁面分離，而容許連通孔w ll6035.doc -27· 13 Π 525 與導出室39R間形成遠诵女b上 , 珉連通。亦即，自行密封閥33之開閉方 D係相田於以灰動轴A為中心之圓的圓周方向。 "閥體41係可在截斷部仏抵接於導出室观之内壁面的 閉鎖位置、及截斷部…從導出室撤之内壁面分離 的"開放位置"之間進行旋動。 ，在截斷部4lc之下部係形成旋動部4id。當閥體“ 鎖位置之狀態時，截斷部41c係沿著z方向延伸，旋動部 ㈣/。著掃為方向J(Y方向）延伸。旋動部川具有比截斷 °Mlc更大的質量，故閥體41之重心g係存在於該旋動部 d之約略中〜位置。旋動部4丄d係藉由插通於該旋動部 41d之前述旋動轴A，以可旋動方式被支持。在本實施型態 之自行密封閥33中，產生可旋動閥體41之力之加速度的方 向，係與閥體41之重心G的移動方向（亦即，在重心g之部 位的閥體41之移動方向）呈一致，且對包含頭單元3〇之掃 為方向J的X-Y平面呈略垂直。 在旋動部41d與導出室39R之内側壁之間，係配設著將旋 動邛41 d在閉鎖位置施力之作為施力構件的線圈彈簣π〗。 當液狀體F被從導出室39R導出至喷出頭34，導出室39R 之壓力變得比特定之壓力（恆常壓）為低時，則閥體4i係對 抗線圈彈簧SP3之施力力而從閉鎖位置往開放位置旋動。 當閥體41往開放位置移動’則液狀體f被從導入室37R導入 至導出室39R，而使導出室39R之壓力降低得到補償。當 導出室39R之壓力再度恢復為恆常壓，則閥體41係藉由線 圈彈簧SP3之施力力，從開放位置往閉鎖位置旋動，而截 116035.doc -28 - 1311525 斷導入室37R與導出室39r之間的連通。亦即’閥體41係 截斷從導入室37R往導出室39R之液狀體F的導入，而將導 出室39R之壓力維保於恆常壓。藉由此方式’自行密封閥 33係將供應至噴出頭34之液狀體ρ的壓力維持於恆常壓。 备頭單元30在掃描方向〗(χ_γ平面）作加速或減速時，自 打密封閥33(閥體41)係按照頭單元3〇之加速度，而承受與 χ-Υ平面呈平行之方向之力（作用力）。此力之方向係垂直 於自行密封閥33作開閉動作時之閥體41的重心(^之移動方 向。基於此因，自行密封閥33並不受頭單元3〇之加速或減 速之影響，而按照導出室39R之壓力作適切之開閉動作。 因而，自行密封閥33並不受頭單元3〇之加速或減速之影 響，而可將供應至喷出頭34之液狀體1?的壓力維持於”丨互常 因此，藉由本實施型態之結構所獲得之優點係與藉由第 1實施型態之結構所獲得之優點相同。 以下，依照圖1 〇， 1 〇，針對將本發明具體化之第3實施型態

33方面與2實施型態之液滴噴出裝置20不同。 僅針對自行密封閥33之變更點作說明。

閥體收容室與導入室37R之間係藉由 僅在自行密封閥 同。因此，以下 由圓錐孔（連通孔 116035.doc -29- 1311525 -37h)而連通。如圖10之實線所示般，藉由閥體41抵接於連 _ 通孔37h之内壁，而截斷閥體收容室41R與導入室37R之連 - 通。在閥體41抵接於連通孔37h之内壁的狀態下，連通孔 37h係僅容許閥體41之沿著上下方向之移動。 閥體收容室斗丨尺與導出室39R之間係藉由圓形孔（連通孔 39h)而連通。連通孔39h係與連通孔37h位於同一軸線上。 如圖10之2點短劃線所示般，藉由閥體41堵塞連通孔3孙之 φ 開口 ’而截斷閥體收容室41R與導出室39r之連通。 閥體41係可在堵塞連通孔3711之"第！閉鎖位置（在圖1〇 中，以實線所示之位置）”、及堵塞連通孔39h之”第2閉鎖位 置（在圖1 0中，以2點短劃線所示之位置）"之間移動。當閥 體41位於第1閉鎖位置與第2閉鎖位置之間之位置（亦即， "開放位置"）時，導入室3711與導出室39厌係透過閥體收容 室41R而連通。 在本實施型態中，自行密封閥33之開閉方向係設定為上 i 下方向（Z方向），其係垂直於頭單元3〇之掃描方向"又-丫平 面）。再者，自行密封閥33係在開放位置之上下兩側包含 閉鎖位置。 在閥體4 1之左右兩側，係配設將閥體4丨往第j閉鎖位置 施力之一對線圈彈簧（施力構件）SP4。當導出室39R之壓力 為特定之壓力（恆常壓）時，線圈彈簧SP4係藉由其施力力 而將閥體41配置於第1閉鎖位置。當導出室3 9R之壓力變得 比值常壓為小時，線圈彈簧SP4係容許閥體41移動至開放 位置。又’當位於第1閉鎖位置之閥體4丨承受往上方之加 116035.doc •30- 1311525 - 速度時，線圏彈箬ςρ4在-丄 萍！ SP4係稭由該加速度與閥體41之質量所 產生之为Η令田 - 力）’而容許閥體41移動第2閉鎖位置。 - 本實施型態之自行密封閥33(閥體41)係與第1及 第2實施型鲅；)；曰π 斗卞丈 心相同’並不焚藉由頭單元3〇之加速或減速所 之力的影響’而可將供應至喷出頭34之液狀體F的壓 力良好維持於惶常愿。再者，即使起因於意外之振動等而 使頭單tl3 0承受上下方向之加速度時，藉由閥體41在第1 φ Μ鎖位置與第2閉鎖位置之間的移動，自行密封闕η可良 好維持閉鎖狀態。 根據本實施型態之結構，除了第丨及第2實施型態之優點 外’並可獲得如下優點：可提高處於閉鎖狀態之自行密封 閥33的控制性。其結果為，可使供應至喷出頭34之液狀體 F的壓力更穩定化。 上述實施型態亦可作如下變更。 在上述第1實施型態中，自行密封閥3 3之開閉方向、及 籲 閥體41之重心〇的移動方向係分別與頭單元30之掃描方向 J(x_y平面）呈垂直。然而，並不限定於此，如自行密封閥 3 3之開閉方向及閥體41之重心G的移動方向為分別對χ_γ 平面呈傾斜之方向（亦即，與頭單元3〇之加速度方向為不 同之方向）亦可。藉由此方式，可提高自行密封閥33之配 置的自由度。 在上述第1實施型態中，自行密封閥33之開閉方向係與 閥體41之重心G的移動方向為同一。然而，並不限定於 此，譬如’將可以重心G為中心進行旋動之閥體41設於自 116035.doc -31 - 1311525 4亍拉封閥33 ’使間體41 ·> 士/· W體41之紅動方向與自行密封閥33之開閉 方向相同亦可。亦即— 刀即如自订密封閥33之開閉方向與閥體 41之重心G的移動方向不同亦可。 在上述各實施㈣中，頭單元观搭載雷射頭45，但並 不限定於此’如為頭單元3〇未搭載雷射頭45之結構亦可。 藉由此方式’可將液滴噴出頭34之移動以更高速進行控 制，故可提尚識別碼1 〇之生產力。

在上述各實施型g中，係藉由照射液滴Fb之區域的雷射 光㈣將液滴Fb予以乾燥及燒結。但並不限定於此，譬 如’耩由照射之雷射光B的能量使液滴^往所期望之方向 流動亦可。或是，將雷射光Μ照射於液滴扑之外緣，使 液滴關離亦可”料，如為藉由照射於液㈣之區域的 雷射光B而形成含有液滴巧之標記的結構即可。 在上述各實施型態中 點D ;但並不限定於此 狀之標記亦可。 係藉由液滴Fb而形成半圓球狀之 譬如’如為形成橢圓形之點或線 在上述各實施型態中，係藉由 稭田噴出之液滴Fb而形成構成 識別碼10之點D ;但並不限定於卜 个限疋於此，譬如，如形成設於液 晶顯示裝置1之各種薄膜、厶遛 溥膜孟屬布線、彩色濾光片等亦 可。或是’如形成設於場效型裝置（FED、咖等）之各種 薄膜、金屬布線等亦可；而該場 麥双坦裝置係包含使螢光物 質發光之平面狀之電子釋放元件者。 -如為藉由喷落之液㈣而形成標記之結構=喷出裝置 在上述各實施型態中，係將應嘴出液滴之對象物以液晶 116035.doc •32· 1311525 '顯示裝置1之基板2予以具體化。然而，並不限定於此，譬 -如，將對象物以矽基板、可撓式基板或金屬基板等予以具 ‘體化亦可。亦即，應噴出液滴之對象物如為藉由噴落之液 滴Fb而形成標記者即可。 【圖式簡單說明】 圖1係液晶顯示裝置之平面圖。 圖1A係圖1中圓ία所圍起之部分之放大圖。 • 圖2係與本發明之第1實施型態有關之液滴噴出 略立體圖。 裝置之概 圖3係圖2之液滴噴出裝置之概略平面圖。 圖4係圖2之液滴噴出裝置之頭單元之圖。 圖5係設於圖4之頭單元之自行密封閥之剖面圖 圖6係圖5之自行密封閥之剖面圖。 圖7係液滴喷出頭之圖。 圖8係圖2之液滴噴出裝置之電性結構之區 • L啄圖。 圖9係第2實施形態之自行密封閥之剖面圖。 圖10係第3實施形態之自行密封閥之剖面圖。 【主要元件符號說明】 1 1A 2 2a 2M 2Ma 116035.doc 液晶顯示裝置 圓 基板 表面 母基板 母基板2M之表面 -33 - 1311525

2Mb 母基板2M之反面 3 顯示畜p 4 掃描線驅動電路 5 資料線驅動電路 10 識別碼 20 液滴喷出裝置 21 基台 21a 基台2 1之上面 22 基板儲備箱 23 移動裝置 24 搬送裝置 24a 搬送臂 25a 凹部 25R、25L 載置台 26 無向量機器人 27 主軸 28a 第1臂 28b 第2臂 28c 第3臂 30 頭單元 31 盒 32 液狀體槽 33 自行密封閥 34 液滴喷出頭 116035.doc -34- 1311525

35 35a 36 37a ' 37h ' 39h 37b

37R

37S ' 41R 38

38T

39R

39S 40 41 41a 41b 41c 41d 42 42a 43 44 45 51 52 閥本體 閥本體之上面 導入路 連通孔 受壓凹部 導入室 閥體收容室 受壓片 受壓板 導出室 受壓室 導出路 閥體 軸環部 軸部 截斷部 旋動部 喷嘴板 噴嘴形成面 室 振動板 雷射頭 控制裝置 輸入裝置 116035.doc -35- 1311525 53 移動裝置驅動電路 54 搬送裝置驅動電路 55 無向量機器人驅動電路 56 噴出頭驅動電路 57 雷射頭驅動電路 A 旋動軸 B 雷射光 BMD 位元映像資料 C 資料單元 C0M1、COM2 驅動電壓 D 點 E 掃描區域 F 液狀體 Fb 液滴 FS 液面 G 重心 HI 恆常距離 la 描晝資料 J 掃描方向 K 彎液面 LD 半導體雷射 LP 喷出時點信號 M 反射鏡 Ml 第1馬達 116035.doc •36- 1311525

M2 M3

M1E

M2E

M3E

MS

MSE

MT

MTE

N

P

PF

PT

PZ

S 51 52 53 54

55 SI SP1 、 SP2 、 SP3 、 SP4 W 第2馬達 第3馬達 第1馬達旋轉檢測器 第2馬達旋轉檢測器 第3馬達旋轉檢測器 移動馬達 移動馬達旋轉檢測器 搬送馬達 搬送馬達旋轉檢測器 喷嘴 目標喷出位置 噴落位置 照射位置 壓電元件 碼區域 第1列碼區域 第2列碼區域 第3列碼區域 第4列碼區域 第5列碼區域 噴出控制信號 線圈彈簧 單元寬度 116035.doc -37-

Claims (1)

1311525 钤、申請專利範圍： • ~種液滴噴出裝置，其特徵為包含： 液滴噴出單元，其係將液滴喷出至對象物者；及 多關節機器人，其係搭載前述液滴噴出單元 滴：出單元在前述對象物之上方往2次元方向移動者广液 前述液滴噴出單元包含： 液滴噴出頭，其係噴出前述液滴者； 液狀體槽’其係在比前述液滴噴出頭更 狀體者；及 夺夜 自行密封閥，其係配設於前述液滴 壯鞅秘B ，同I出碩及刖逑液 •槽間，將從前述液狀體槽供應至前述液滴噴 頭之液狀體的壓力控制於特定之壓力者； 前述自行密封閥包含間體，其係按照前述液 碩侧之液狀體的壓力及前述液狀體槽側之液狀 力間的差屋’而可在閉鎖位置與開放位置之 前述闕體係配設為：產生可使前述閥體從 鎖位置往前述開放位置移動之力的加速度之方向不a 於往前述2次元方向移動時之前述液滴喷出單同 速度之方向。 ^ 2. 之液滴噴出裝置，其中從前述閉鎖位置往前 述開放位置之前述間體之移動方向不同於往前述之次元 方向移動時之前述液滴噴出單元的加速度之方向。 3.如請求項2之液滴噴出奘w 買出凌置，其中從前述閉鎖位置往 述開放位置之前述間體之移動方向係略垂直於往前述2 Π6035 13 π 525 4.述液滴噴出單元的加速度之方向。 %^ 、，出裝置，其中前述閥體之重 動方向係不同於往前述〈重〜的移 出h的加速度之方向的方向。 β液滴噴 如吻求項4之液滴噴出裝 # 6. 動方向係略垂直於二其中剛述闕體之重心的移 噴出單元的加速度之方向。 移動字之則述液滴 如：求们之液滴噴出裝置，其中 出;含連結前述液狀體槽及前述液滴噴 ^ °二間則述間體設於前述連結空間； 月1』述閉鎖位置係盆7 ‘ 貝罝係第1閉鎖位置與第2閉鎖位置之一 位置設於前述第1閉鎖位置與前述第2閉鎖位置 與前述二=前述第1閉鎖位置截斷前述液狀體槽 滴喑+ 間’在前述第2閉鎖位置截斷前述液 滴喷出頭與前述連姓办 液狀體槽d 』述開放位置使前述 ^體糟及别述噴出頭之間連通； 」述閥體係按照前述差廢’在前述第！閉鎖位置與前 “弟2閉鎖位置之-方及前述開放位置之間移動，另— 方面，當承受沿著閥體移動方向之方向的加速度時 可從前述第1閉雜& 方移動。才’鎖位置與前述第2閉鎖位置之一方往另— 一长員6之液滴噴出裝置’其中從前述第1閉鎖位置往 第F才’鎖位置之前述閥體之移動方向不同於往前述2 人兀方向移動時之前述液滴喷出單元的加速度之方向。 Π6035 1311525 8.如請求項7之液滴噴 前述第2閉鎖位置之 前述2次元方向移動 方向。 出裝置’其中從前述第1閉鎖位置往 則述閥體之移動方向係略垂直於往 時之前述液滴喷出單元的加速度之 9.

如請求項1〜8巾彳：p ^ 項之液滴喷出裝置，其中前述自杆 :封:包含將前述闕體往前述閉鎖位置施力之施力構 前述^mr前述閥體施力之方向係略垂直於往 方向。°移動時之前述液滴噴出單元的加速度之 10. 如唄求項1〜8中任一項之液滴噴出裝置，其中 噴出單元係包含將雷射光照射於著落於前述斜 述液滴之雷射照射裝置者。 月'J述液滴 象物之前

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