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TWI375663B - - Google Patents

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TWI375663B
TWI375663B TW098111099A TW98111099A TWI375663B TW I375663 B TWI375663 B TW I375663B TW 098111099 A TW098111099 A TW 098111099A TW 98111099 A TW98111099 A TW 98111099A TW I375663 B TWI375663 B TW I375663B
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glass
glass substrate
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TW098111099A
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Seiji Shimizu
Tomihisa Sunata
Koji Yamamoto
Kenji Otoda
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Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd
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  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Description

1375663 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種利用雷射劃線加工之貼合玻璃基板 之加工方法。 此處,所謂雷射劃線加工係指如下加工:使藉由照射 雷射光束而形成於基板上之光束點相對移動,以軟化溫度 以下之溫度對基板進行局部加熱,其後使其冷卻(自然冷卻 或強制冷卻)’藉此使基板產生深度方向之溫度差,利用由 δ亥溫度差引起之應力梯度而形成劃線。 又’所謂劃線’係指形成於基板面上之線狀之裂縫。 此外,於以下之說明中,劃線係指裂縫之下端於基板内停 止之深度有限之裂縫,貫通基板之裂縫(完全切斷基板之裂 縫)不屬於劃線。 【先前技術】 液晶顯示器、電漿顯示器等之平板顯示器(以下稱作 FPD(Flat Panel Display))係於大面積之貼合玻璃基板上,預 ' 先形成複數個逐一作為FPD之單位顯示基板,其後分割每 個單位顯示基板’以此方式進行量產。 例如,於液晶顯示器中,使用兩片大面積玻璃基板(母 基板),於其中一個基板上圖案化形成彩色濾光片(cf,c〇l〇r Filter),於另一個基板上圖案化形成驅動液晶之TFT(Thin film Transistor,薄膜電晶體)以及用於外部連接之端子部。 接著,將上述兩片基板以各自之圖案形成面為内側彼此貼 3 1375663 合,藉此形成大面積之貼合某 丞板。其後,經由將大面積之 貼合基板分割為各個單位龜_ 早位顯不基板之步驟,藉此製造液晶 顯示器。 自大面積貼合基板切出單位顯示基板之分割步驟,至 今為止’已可藉由各種加工方法來實施。 例如,可利用以特定順序進行如下步驟之分割方法: 了面將刀輪塵接於大面積貼合基板一面使該刀輪移動, =於貼合基板上刻畫出劃線;以及沿著已形成之劃線施加 萼曲力矩,以使上述大面積貼合基板機械性斷裂(參照專利 文獻1)。 對於組合有刀輪之壓接步驟及藉由施加㈣力矩而進 行之斷裂步驟之分割方法而t,當欲分割之基板之板厚較 薄或較厚之情形時,均可藉由對刀輪之刀尖形狀及壓接負 載進行調整而確實地進行分割。 、 又,作為其他方法,已揭示有包括以下步驟之分割方 法.(1)於貼合前,藉由雷射劃線加工而分別於FPD用之一 對CF基板用母玻璃及TFT基板用母玻璃上形成劃線;(2) 繼而,將形成有劃線之CF基板用母玻璃及TFT基板用母玻 璃相互貼合(此時,可以形成有劃線之面處於内側之方式進 行貼合’亦可以上述面處於外側之方式進行貼合);(3)其 後’依序分別對CF基板用母玻璃及TFT基板用母玻璃谁耔 分割(參照專利文獻2)。 根據該方法,由於無需於母玻璃彼此貼合之狀態下形 成劃線’因此不易受到黏住兩片母玻璃之密封材料之影 1375663 響,從而可穩定且準確地形成劃線。 根據該方法,由於藉由不會產生玻璃屑之雷射劃 :加工來形成劃線,故即使於貼合步驟之前之步驟中形成 』線’於貼合面上亦不會產生由於產生玻璃屑而引起之 題0 進而與其他加工方法相比,藉由雷射劃線加工而形 成之劃線之端面品質、#面強度非常優異,故可提高分割 面之端面品質。 又,作為其他方法’已揭示有利用蝕刻步驟之切斷分 離方法(參照專利文獻3)。根據該方法,進行將雷射彙聚於 玻璃内部而使玻璃内部變f之步驟,其後進㈣刻步驟。' 進打蝕刻步驟時,因蝕刻液會滲入至變質區域(微裂縫區 域)’故可提高變質區域之#刻速度。藉此,無需進行長時 間之餘刻’即可將玻璃切斷分離。 亦即,根據專利文獻3,如圖2⑷所*,若使利用密封 劑26而經貼合之玻璃板21、22與蝕刻液接觸,則玻璃板 21、22受到蝕刻。不久之後,當蝕刻到達玻璃板Μ、u内 部之變質區域23時,會於變質區域23形成微裂縫,蝕刻 浪滲入至該微裂縫中,藉此,變質區域23之蝕刻速度會快 於#變質區域,與其他區域相較,該變質區域23會更快土 受到蝕刻。並且,如圖2(b)所示,藉由蝕刻而將變質區^ 23完全地切斷分離。 根據專利文獻3,進而如圖2(c)所示,若藉由輪式切割 機或雷射照射而預先於單片之玻璃板27形成劃線,' °、 貝!於 5 1375663 其後之钱刻步驟中,書1丨。JO· -r* i <· 《 到線28之下端受到蝕刻(即蝕刻劃線内 X到蝕刻)’不久之後,當上述蝕刻液到達變質區域29時, ㈣速度加快。並且,如圖2(d)所示,變質區域29與劃線 28 —併受到蝕刻而完全分離。 [專利文獻1]日本特開平6_48755號公報 [專利文獻2]日本特開2〇〇4·157145號公報 [專利文獻3]曰本特開2〇〇5·21996〇號公報 【發明内容】 平板顯示器(FPD)中,顯示器之薄型化係為市場之需 •托並力實現FPD之薄型化之基礎上,要求用貼 合玻璃基板之薄板化。 一般而言,玻璃基板有隨著基板之板厚越薄對基板進 行分割之難度則越高的傾向。當於製造步驟中包含自大面 積貼合玻璃基板切出單位顯示基板(小面積貼合玻璃基板) 之分割步驟時,為了實現貼合玻璃基板之薄板化,必需同 時考慮分割步驟》 上述專利文獻1中揭示之組合有利用刀輪之壓接步驟 及藉由施加彎曲力矩而進行之斷裂步驟之分割方法具有如 下優點:根據基板之板厚而對刀輪之刀尖形狀或壓接負載 2行調整’藉此,於板厚較薄或較厚之情形時,均能夠可 靠地進行分割。 然而,有時會因刀輪之壓接而產生切屑,且切斷端面 會產生裂紋,若與藉由雷射劃線加工所形成之端面相比 1375663 較’則端面強度 '端面品質會產生差異…於形成劃線 後之斷裂步驟時,必需利用切斷條等機械式地施加力,此 情形下有時會產生玻璃屑。 另一方面,根據專利文獻2所揭示之方法,即藉由雷 射劃線加工而形成劃線,繼而使基板用玻璃相互貼合,其 後將基板用玻璃切斷,不僅可形成穩定且準確之劃線,且 與利用刀輪而形成之端面相比較,端面強度、端面品質亦 格外優異。 然而,若基板之板厚㈣,則難以進行該雷射劃線加 工。即,為了利用雷射劃線加工而於玻璃基板形成劃線, 原理上必需使基板内部產生深度方向之溫度差,從而形成 基於溫度差之應力梯度。對於板厚為lmm以上之玻璃基板 而言’容易藉由光束點使基板内部產生溫度差,可容易地 於基板内部形成應力梯度,故可形成劃線,但隨著板厚變 薄’難以產生深度方向之溫度差。具體而言,若板厚為!麵 以下,則可形成劃線之雷射照射條件逐步受到限制,進而 若板厚變薄至o.4mm以下,則非常難以藉由雷射照射而產 生深度方向之溫度差,其結果為,可利用雷射劃線加工來 形成劃線之條件極其苛刻,不適於實際使用。 關於基板之板厚變薄則難以形成劃線之理由,藉由與 板厚較厚之情形進行比較來說明。首先,對板厚較厚之玻 璃基板GA之情形加以說明1 3⑷係用以說明雷射昭射時 (加熱時)之示意圖’圖3(b)係用以說明加熱後喷射冷媒而進 行冷卻時之示意圖,圖3(〇係用以說明產生劃線(裂縫)時之 7 1375663 基板剖面上之溫度分布之示意圖。 於厚基板GA中,藉由光束點之經過而進行加熱,藉此 如圖3(a)所示,於基板内部形成加熱部位hr,加熱部位HR 局部膨脹,從而產生壓縮應力(圖中以虛線箭頭表示)。此 外,圖中為了便於說明,誇大地表示了基板GA產生之變形。 繼而,稍後藉由冷卻點(被喷射冷媒之區域)之經過而產 生冷熱,藉此,如圖3(b)所示,於表面附近形成冷卻部位 CR,冷卻部位CR局部收縮,從而產生拉伸應力(圖中以實 線箭頭表示)。 於厚基板GA之情形時,由於基板較厚,故形成冷卻部 位CR時,加熱部位HR不會達到背面,成為加熱部位HR 停留於基板内部之狀態。 並且,如圖3(c)所示,冷卻部位CR存在於基板上面附 近’加熱部位HR存在於該冷卻部位Cr之下方。由於該加 熱部位HR已產生壓縮應力,故成為於基板内部存在内部壓 縮應力場Hin之狀態。 於基板GA形成内部壓縮應力場Hin,且於基板之 上面附近形成拉伸應力,藉此於厚板基板GA上局部地產生 上凸之應變,在基板上面產生使基板往與拉伸應力相同之 方向彎曲之力(圖中以一點鎖線箭頭表示)。 其結果為,於基板GA之上面,藉由拉伸應力以及使 基板以上凸之方式彎曲之力,在始於基板上表面之厚度方 向(深度方向)上形成垂直之劃線C(裂縫)。 此外,如上所述,於基板GA之内部形成有内部壓縮應 1375663 力場mn,因此當劃線C(裂缝)之前端到達該内部壓縮應力 場時,由於該内部壓縮應力場而阻礙劃線。(裂縫)之前端 更深處進展,故劃線C(裂縫)停止。 藉此,於基板GA之雷射劃線加工中,形成深度有限之 劃線C(裂縫)。以如此之方式所形成之劃線c(裂縫)之端面 品質優異,以切剖面而言為理想狀熊。
其次,對板厚較薄之玻璃基板GB加以說明。圖4⑷ 係用以說明雷射照射時(加熱時)之示意圖,0购係用以說 明加熱後噴射冷媒而進行冷卻時之示意圖,圖_係用㈣ 明圖4(b)之後之基板剖面上之溫度分布之示意圖。 於基板GB中,藉由光束點之經過而進行加熱,藉此, 如圖4⑷所示’雖會於基板内部形成加熱部位hr並產生麗 縮應力.(圖中以虛線箭頭表示),但由於板厚較薄,故加熱部 位HR‘立刻到達背面。到達背面後之加熱部位狀之一部分 與下面脫離’所產生之壓縮應力變弱。 繼而,藉由冷卻點CS之經過而產生冷熱,藉此,如圖 4(b)所示,於表面附近形成冷卻部位CR,冷卻部位cR立 刻會到達基板GB之中央。此時,加熱部位HR變弱,或者 幾乎消失。 進而若冷熱繼續傳遞,則如圖4(c)所示,冷卻部位CR 會到達基板GB之下表面。如此,於薄基板GBt,溫熱及 冷熱會迅速地自薄基板GB之上面傳遞至下面,因此難以形 成基板之深度方向之溫度梯度,從而難以產生由溫度梯度 所引起之應力梯度。又,即使可形成基板之厚度方向之應 9 1375663 力梯度,由於板厚較薄,故溫熱及冷熱之範圍分別較窄, 因此’各自之壓縮應力及拉伸應力之大小亦受到限定。因 此,於薄基板GB之情形時,難以形成劃線。 進而,於專利文獻2所揭示之方法之情形時即使可 藉由雷射劃線加工形成劃線,於形成劃線之後,與專利文 獻1之方法相同地,必需進行斷裂步驟。此時若機械式地 施加彎曲力矩,則仍然存在產生玻璃屑之情形。 相對於此,於專利文獻3中所揭示之方法中,即於進 行將雷射彙聚於玻璃内部而使玻璃内部變質之步驟,其後 進行玻璃蝕刻之步驟之方法中,可抑制玻璃屬之產生。/又\ 亦可藉由蝕刻而實現玻璃基板之薄板化。 然而,如圖2所示,於玻璃内部形成因照射強雷射而 受損之變質區域23(微裂縫區域)。繼而,姓刻液渗入至該 變質區域23内’藉由蝕刻而進行分割,因此存在變質區域 23作為加工端面而殘留之情形,於該情形下,端面強度、 端面品質均遜色於由雷射切割產生之端面。 若持續地蝕刻直至變質區域23被完全除去,則可消除 變質區域23之影響,因此,即便對玻璃基板進行分割之後, 仍必需對玻璃基板進行㈣直至已切實地除去了心變質 區域23為止。 因此,本發明之目的在於提供如下之加工方法:當進 行自形成有作為單位顯示基板(小面積貼合基板)之複:個 區域之大面積貼合玻璃基板上,分割出作為單位顯示基板 個區域之加工時,可形成端面品質、端面強度優異之 刀割面’且可作為經薄板化之單位顯示基板。 又,本發明之目的在於提供如下之加工方法:可製作 此夠維持優異之端面品f、端面強度且無先例之板厚較薄 之貼合玻璃基板。 用以解決上述問題之本發明之加工方法係巧妙地利用 了如下兩點者·在將兩片玻璃基板隔著狹小間隙彼此貼合 之狀態下進行加工;藉由雷射劃線加工所形成之劃線係處 於切割面彼此密著(於多數情形下’施加壓縮應力而成為封 閉裂縫狀態)’且液體等不易滲入至内部之狀態。 即,本發明之貼合玻璃基板之加工方法進行以下之步 驟。 首先,(a)針對貼合前之兩片玻璃基板各自之單側面, 藉由雷射劃線加工而於分割預定位置形成所欲深度之劃 線。當於玻璃基板上形成有功能元件等(例如液晶顯示器中 之TFT膜或彩色濾光片時,預先將進行雷射劃線加工 之側之單側面設為形成功能元件等之面。藉此’於後續步 驟中,不會使功能元件等受到蝕刻。又,利用雷射劃線加 工所形成之劃線之深度係成為於後續步驟中進行薄板化及 分割時之板厚之值,因此,預先將該深度設為所欲之值。 繼而,(b)以形成有劃線之單側面彼此為内侧將該兩片玻璃 基板加以貼合。可使用密封劑進行貼合。繼而,(c)對經貼 合之兩片玻璃基板之外側面(貼合面之相反側之面)進行餘 刻。蝕刻可為濕式蝕刻亦可為乾式蝕刻。 當對貼合玻璃基板進行钱刻之情形時,於貼合玻璃基 11 1375663 板之外侧面附近存在較多钱刻能力高之新鮮餘刻液或钱刻 氣體,而於貼合面側(形成有劃線之面),面間之間隙狹窄, 即使姓刻液或_氣體滲人至貼合面之間,亦容易滯留於 此。因此,與外側面相比較,幾乎無法進行蝕刻。而且, 藉由雷射劃線加工所形成之劃線之裂縫内係處於切割面彼 此密著且颠刻液等不易滲入至内部之狀態,故難以受到蝕 刻。因此’對於貼合破璃基板而言,冑質上係自外側面單 向地受到飯刻,從而推進基板之薄板化。並且,若蝕刻進 *專板化至到達劃線之深度為止,則劃線成為端面而被 分割。藉此,可獲得由雷射劃線加工所形成之劃線成為端 面之經薄板化之貼合玻璃基板。此外,即便預先形成較深 之劃線’使貼合玻璃基板薄板化並對其進行分割之後,亦 可繼續進行蝕刻直至兩片玻璃基板達到所欲之板厚為止。 根據本發明,被分割為小面積之貼合玻璃基板(單位顯 :基板)之端面係藉由雷射劃線加工時之端面而形成,因此 可製造具有端面品質、端面強度優異之加工面之薄板化貼 合玻璃基板。 μ於⑷步财,亦可將形成劃線之前之各玻璃基板之板 厚。X為0.4 mm〜2 mm。如上所述,為了能夠藉由雷射劃線 加工而形成劃線’必、需具有一定以上之板厚,可藉由使用 。亥數值紅圍之板厚之玻璃基板而實施雷射劃線加工,且能 夠以適當之姓刻時間分割貼合玻璃基板。 又,於U)步驟中,亦可將所要形成之劃線之深度設為 0 01 贿〜0‘2 mm。
12 1375663 藉此由於根據劃線之深度來決定經薄板化及分割之 玻璃基板之板厚’因此藉由將劃線之深度設定於該範圍 内’可製作先前難以分割之較薄之貼合玻璃基板。 又’於(b)步驟中,亦可將玻璃基板間之間隙寬度設為 10 V m以下。 藉此’由於玻璃基板間之間隙寬度非常狹小,故而進 入至該間隙内之蝕刻液或蝕刻氣體不會被更換而容易滯 留’可抑制貼合面側之腐蝕,從而可單向地自外側面進行 钱刻。 又’於上述發明申,貼合前之兩片玻璃基板亦可分別 於基板周緣具有端材區域,於(b)步驟中,在與各基板之端 材區域之邊界處形成劃線。 藉此’由於在基板周緣存在端材區域,故而渗入至貼 合後之玻璃基板之間隙内之蝕刻液等更容易滯留,始於内 側之蚀刻受到抑制,從而確切地自外側面進行餘刻。 【實施方式】 以下,根據圖式來對本發明之實施形態加以說明。圖1 係表示本發明之一實施形態即貼合玻璃基板之加工方法之 順序的圖。此處’以液晶顯示器之製造步驟為例進行說明。 如圖1 (a)所示,準備形成有矩陣狀之圖案之彩色遽光片 (CF)之CF用母玻璃基板1、以及形成有矩陣狀之圖案之薄 膜電晶體(TFT)之TFT用母玻璃基板2。CF用母玻璃基板1 上除了設置有彩色濾光片(CF)之外’亦設置有對向電極、定 13 1375663 位用對準標記等,又,TFT用母玻璃基板2上除了設置有薄 膜電晶體(TFT)之外,亦設置有像素電極、定位用對準標記 等0 繼而,如圖1(b)所示,藉由雷射劃線加工,而於CF用 母玻璃基板1以及TFT用母玻璃基板2上形成用以分割各 彩色滤光片(CF)、各薄膜電晶體(TFT)之劃線3、4。此外, 劃線3'4最好係形成於彩色遽光片(CF)及薄膜電晶體(τρτ) 之各圖案之整個周圍,於靠近基板端之側之邊亦形成劃線 3、4。並且,最好係於母基板丨、2之周緣部分設置端材區 域5,使得彩色濾光片(CF)或薄膜電晶體(TFT)之圖案形成 位置不會過於靠近基板端。
只要可形成劃線,則用於加工之雷射種類並無特別限 定’例如可使用C〇2雷射P
右加工别之基板之板厚過薄,則無法進行雷射劃線 工。又,若基板之板厚過厚,則雖可形成劃線,但由於 下述蝕刻步驟中進行薄板化時需要較長時間&將上述 厚設為〇.4mm〜2mm,更佳設為臟左右。 力:工時之雷射照射條件設為一定,將各劃線之深度 為一疋。除了配合欲镇此儿> l 4板化之板厚而對雷射功率、光束 形狀進仃調整之外,亦枏 據加工前之基板之板厚而對劃 之冰度進行調整。若加工 ^月』之基板板厚處於0.4 mm〜2 ι 之範圍,則可藉由選擇 mni_n 0 伴"、、射條件而將劃線之深度設為〇, mm〜0.2 mm。
繼而 如圖1(c)所示 於CF用母玻璃基板ι或tft用 14 1375663 母玻璃基板2中之任—方之形成有劃線之侧的面上塗佈密 封幻6將形成有劃線3、4之側之面彼此貼合。 所貼合之母基板1、2間之間隙寬度設為適合於注入液 B曰之值具體而言,設為1 " m〜10 # m左右,較佳設為 以m °若間隙寬度為10 // m以下則並無特別之 問題’間隙寬度越小,則於後續步驟中滲人至間隙内之姓 刻液之滲入量越少,又,渗人至間隙内之餘刻、液不易被更 換’因此可進一步抑制形成有劃線之側之面之蝕刻。
繼而,如圖1(d)所示,將已貼合之基板丨、2浸潰於蝕 刻液7中错刻液7係可使用敗化物溶液(氟化氫、氣化録、 氟化鉀、氟化鈉等)等之玻璃蝕刻用之市售品。 基板1 2之外側面1 a、2a(貼合面之相反側之面)均受 到#刻而内側自i b、2b之蚀刻被抑制。進而,由於切割 面被者,银刻液不易滲入至内部,故而藉由雷射劃線加工 而形成之劃線3、4幾乎不會被腐蝕而殘留。
接著,蝕刻繼續進行,除去外側面側直至劃線3、4之 深度為止,藉此如® i⑷所示"分割為各個單位顯示基板8。 於進行分割之同時將單位顯示基板8自㈣液7中取出, 藉此如圖1(f)所示,劃線3、4之端面大體上保留原狀地殘 留,形。成端面品質、端面強度優異之單位顯示基板8。而且, 可使單位顯示基板8之板厚薄至劃線3、4之深度(例如〇〇1 mm〜〇_2 mm)為止。 但與圖2所示之 之劃線之位置不 上述實施形態令並未設置端子區域, 先前例相同地,亦可藉由使兩片基板之間 r— 15 1375663 同而形成端子區域。 本發明之加工方法可用於貼合玻璃基板之薄膜化。 【圖式簡單說明】 圖1 (a)〜(f)係表示本發明之一實施形態即貼合玻璃基 板之加工方法之圖β 圖2(a)〜(d)係表示習知利用蝕刻之加工方法之圖。 圖3(a)〜(c)係表示厚基板之雷射劃線加工之圖。 圖4(a)〜(c)係表示薄基板之雷射劃線加工之圖。 【主要元件符號說明】 1 CF用母玻璃基板 2 TFT用母玻璃基板 3 4 劃線 劃線 5 端材區域 6 密封劑 7 餘刻液 8 單位顯示基板 CF 彩色慮光片 TFT 薄膜電晶體

Claims (1)

1375663 七 、申請專利範圍: 1.—種貼合玻璃基板之加工方法,其包括如下步驟. U)針對貼合前之兩片玻璃基板各自之單侧面,藉由雷 射劃線加工而於分割預定位置形成所欲深度之劃線;a (b) 以形成有劃線之單側面彼此為内側將該兩片玻璃基 板加以貼合.;以及 土 (c) 對經貼合之兩片玻璃基板之外側面進行蝕刻,使各 基板薄化至該劃線之深度為止’藉此以該劃線為端面分割 各基板。 、2.如申請專利範圍第1項之貼合玻璃基板之加工方 法1其中’於該⑷步驟中,形成劃線之前之各玻璃基板之 板厚為0.4 mm〜2 mm。 、3.如_請專利f丨項之貼合玻璃基板之加工方 法’其中,於該(a)步驟中,所要形成之劃線之深度為〇〇ι爪⑺ 〜0.2 mm。 、4.如申請專利範園第1項之貼合玻璃基板之加工方 法其中,於該(b)步騍中,玻璃基板間之間隙寬度為1〇 " m以下。 5.如申請專利範圍f 1項之貼合玻璃基板之加工方 法’其中,貼八益1" 、 贴σ別之兩片玻璃基板分別於基板周緣具有端 材&域》且於·I·# 、jt 、° (b)步驟中,於與各基板之端材區域之邊界 處形成劃線》 八、圖式: (如次頁) \A 17
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