[go: up one dir, main page]

TWI351581B - Photosensitive resin composition and color filter - Google Patents

Photosensitive resin composition and color filter Download PDF

Info

Publication number
TWI351581B
TWI351581B TW093123169A TW93123169A TWI351581B TW I351581 B TWI351581 B TW I351581B TW 093123169 A TW093123169 A TW 093123169A TW 93123169 A TW93123169 A TW 93123169A TW I351581 B TWI351581 B TW I351581B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
photosensitive resin
resin composition
component
carbon atoms
Prior art date
Application number
TW093123169A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200508799A (en
Inventor
Manabu Higashi
Masahiro Tsuchiya
Masanori Kono
Original Assignee
Nippon Steel Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Chemical Co filed Critical Nippon Steel Chemical Co
Publication of TW200508799A publication Critical patent/TW200508799A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI351581B publication Critical patent/TWI351581B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
    • C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D471/08—Bridged systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D498/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D498/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D498/04—Ortho-condensed systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

1351581 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明乃關於光硬化性組成物及採用該光硬化性組成 物的彩色濾光片，更詳細而言，乃關於適用於彩色遽光片 用油墨之感光性樹脂組成物。 " 【先前技術】 ： 彩色液晶顯示裝置是以控制光的穿透量或是反射量的 液晶部及彩色濾光片為構成要素。該彩色濾光片的製造方 法一般為於玻璃或塑膠片等透明基板的表面上形成黑色矩籲 陣（black matrix)，接下來以長條狀或是馬赛克狀等顏色圖 案，依序形成紅、綠、藍等不同色相的方法。圖案尺寸因 彩色濾光片的用途及各個顏色的不同而不同，隨著紅、綠、 藍的晝素從200至300 "!!1往100"m，黑色矩陣由2〇"m 往10 /z m薄線化，因而更進一步要求能夠達到高精密尺寸 的感光性樹脂材料。 最近幾年，於液晶電視、液晶顯示器、彩色液晶手機 等領域中’採用彩色液晶顯示裝置。彩色滤光片為決定彩籲 色液晶顯示裝置的視覺性的重要元件之一，視覺性的提 升亦即為了獲得更為鮮盤的晝像，構成彩色滤光片之紅、 綠、藍等晝素必須達到比目前更高的色純度，以及黑色矩 陣的冋遮光f生’因而必須於感光性樹脂組成物當中添加較 以往更多的著色劑。 圖案的形成乃利用光反應性樹脂與光聚合起始劑的反 應所產生的光硬化仙，且主要以為水銀燈紐頻譜之一 316123 6 1351581 的i線（365nm)做為使顏料分散系列負型彩色光阻層硬化 的曝光波長。紅、綠、藍及黑色的感光性樹脂組成物（亦稱·> 為油墨）中’著色劑本身吸收紫外線，且由於著色劑在感光 v 性樹脂組成物中所占的比例高，因此，基於下述理由，感 光性樹脂組成物的光硬化性及顯像性惡化，而難以獲得圖〜 案尺寸女疋性、顯像圖框、圖案密著性、及圖案輪廊之形 狀皆良好之彩色濾光片。（1)於曝光部分上，在膜厚方向上 的交聯密度產生差距，即使於塗膜表面上達到足夠的光硬 化，於基板底面上亦難以進行光硬化，（2)曝光部分及未曝· 光部分中的交聯密度難以達到差距，（3)由於添加多量不溶, 於顯像液中的不溶性著色劑，因而使顯像性顯著下降。而 這些問題尤其在感光性樹脂組成物的分光特性上，及遮光 感光性樹脂組成物中更為顯著。 再者’最近幾年，為了提升生產效率及降低成本，彩 色濾光片生產線上的母玻璃基板有逐年增大的趨勢，甚至 於製造出超過lm的母玻璃基板。此外，為了降低作業時 間及提升生產效率，於曝光製程中要求較短的曝光時間， 亦即，要求可採用低曝光量來進行光硬化之彩色濾光片用 感光性樹脂組成物。 由於如上述期求可使著色劑之含有比率高且光硬化困 難之彩色遽光片用感光性樹脂脂組成物於低曝光量下，獲 得圖案尺寸安定性、圖案密著性及圖案輪廓之形狀之清晰 f白良好且顯像圖框寬之圖案，所以感光性樹脂組成物的 南感度為不可或缺。 316123 7 1351581 [專利文獻1]日本特開平1·152449號公報 [專利文獻2]曰本特開平7_278214號公報 [專利文獻3]日本特開2〇〇1_26453〇號公報 [專利文獻4]曰本特開2〇〇2_323762號公報 [專利文獻5]曰本特開2〇〇3_96ii8號公報 [專利文獻6]日本特開平7_3122號公報 * 於專利文獻1 _，提示為了提升顏料濃度而達到優良 的顏色再現性並防止感度降低，採用_甲基。惡二唾系列化 合物及鹵曱基-S-三啡系列化合物來做為高感度光聚合起鲁 始劑之例子。然而，這些化合物雖然藉由抑制因氧引起之 反應而使表面平坦性降低的情形改善’但是就圖案尺寸的 精密度而言，仍無法達到令人滿意的程度。此外，於專利 文獻2 i 5等中揭示於感光性樹脂組成物中採用汚醋 (Oxime ester)系列的光聚合起始劑，來做為高感度光聚合 起始劑，但尚未達到令人滿意的程度。於專利文獻6中揭 示採用含不飽和基的驗可溶性樹脂化合物之彩色滤光片用 感光性樹脂組成物。 攀 【發明内容】 因此，為了解決上述問題，本發明的目的在於提供可 形成圖案尺寸的安定性優良，顯像圖框寬，以及圖案密著 ,及圖案輪廓之形狀之清晰度良好之圖案之彩色遽光片用 感光性树脂組成物。此外，其他目的在於提供採用此彩色 濾光片用感光性樹脂組成物所形成的塗膜及彩色濾光片。 本發明者為了解決上述課題而探討之後的結果發現， 8 316123 1351581 將衍生自雙酚（bisphenol)的芳香族環氧化合物與（甲基）丙 烯酸的反應物，再與多元羧酸或是多元羧酸酐進行反&應，
得到含不飽和基的化合物，於包含此含不飽和基的化合物 的感光性樹脂組成物的光聚合起始劑中，若添加具有特定 化學構造之0-醯基肟（〇-aCyl〇xime)系列光聚合起始劑，將' 可解決上述問題點，因而完成本發明。 I 本發明為一種彩色濾光片用感光性樹脂組成物，乃以 下列（A)至（D)成份為必需成份：（A)將具有衍生自雙酚 (bisphenol)類之2個縮水甘油醚基之環氧化合物與（^基）# 丙烯酸的反應物，再與多元羧酸或多元羧酸酐反應所得^到· 之含不飽和基的鹼可溶性樹脂化合物，（B)具有至少〗個以 上的乙烯性不飽和鍵結之光聚合性單體，（c)光聚合起始 劑，（D)著色劑；其特徵為，（A)成份與（B)成份的重量比例 (A)/(B)為20/80至90/10;相對於（A)成份與（B)成份合計1〇〇 重量份，（C)成份之含量為2至30重量份；且以下列通式 ⑴所表示的化合物做為成份光聚合起始劑： 【化學式1】 ’
於通式⑴中，Ri表示苯基（可被碳數1至ό的烷基、 316123 9 1351581 苯基或崮素原子取代），碳數丨至2〇的烷基（可被丨個以上 羥基取代，且烷基鏈中間可具有丨個以上氧原子），碳數5 至8的環烷基，碳數2至20的烷醯基或苯甲醯基（可被碳 數1至6的烷基或苯基取代）；化表示碳數2至12的烷醯 基（可被1個以上的鹵素原子或氰基取代），雙鐽與羰基非 呈共軛之碳數4至6的烯醯基，苯甲醯基（可被碳數丨至6 的烷基、鹵素原子或氰基取代），碳數2至6的烷氧基羰基 或苯氧基羰基（可被1個以上碳數丨至6的烷基或齒素原子 取代）；R3、R4、R5、R6、r7、r8、化及Riq相互獨立各 表示氫原子’鹵素原子’碳數1至12的烷基，環戊基環 己基，苯基，笨甲基，苯甲醯基，碳數2至12的烷醯基， 石厌數2至12的烷氧基羰基（烷氧基的碳數為2至丨丨的情 況，主鏈碳原子間可具有丨個以上氧原子，且 上經基取彳mm録。 本發明之彩色濾光片用感光性樹脂組成物中，具備有 衍生自雙酚類的2個縮水甘油醚基的環氧化合物為以下列 通式（II)所表示的環氧化合物： 【化學式2】 -Λιι ΟΒ,-ΟΗ-Μ,Ο--^^·1
OCH,-CH-CH,0 I » OH R丨： Ru (D)
Rn Ria Y 316123 10 1351581 於通式（Π)中，Rn及心相互獨立 碳數1至5的焓其主 合表不虱原子， Μ基或鹵素原子；χ表以〇· ， (3)2- * 'Si(CH3)2- , _ch2- » -C(CH ) π (―)或不存在;一至1〇=:〇- 成份(。)光二1明之节色濾光片用感光性樹脂組成物中， 【化起始劑為以下列通_)所表示的化合物：
On)
^本&明之彩色;慮光片用感光性樹脂組成物中， 成份（D)著Μ為遮紐分散純。再者，本發明之彩色滤 光片用感光性樹脂組成物中，遮光性分散顏料為碳黑分散 體。此外’本發明為使上述彩色遽光片用感光性樹脂也成 物硬化而形成之塗膜。再者’本發明為彩色濾光片盆且 備藉由於透明基板上塗佈上述彩色渡光片用感光性樹脂组 成物’前供烤之後，以紫外㈣光裝置進行曝《，用驗性 水溶液進行顯像，以及進行後烘烤而製作出之畫素或是黑 色矩陣（black matrix)。 以下詳細說明本發明。本發明的彩色濾光片用感光性 樹脂組成物（以下亦僅稱為組成物），乃以（A)至（D)成份為 必須成份，關於（B)成份及（D)成份及因應必要所加入的溶 316123 1351581 劑及其他成份記載於專利文獻1至6中，可從其中加以選 擇使用。因此，簡單說明（A)成份及（C)成份之外的成份， 並詳細說明（A)成份及（〇成份。 (A)成伤之含不飽和基的化合物，乃藉由（曱基）丙稀酸 (此意味丙烯酸及/或甲基丙烯酸），與具有衍生自雙酚類的 2個縮水甘油醚基的環氧化合物進行反應，然後將所獲得 之具羥基（hydroxy)的化合物與多元羧酸或多元羧酸酐進 行反應，而獲得環氧（甲基）丙烯酸酯加成物。該加成物的 化學式及製法的一例，記载於專利文獻6。所謂衍生自雙 酚類的環氧化合物係指使雙酚類與表鹵醇（epihal〇hydrin) 反應所獲得的環氧化合物或是與環氧化合物同等的化合 物由於為（A)成伤之含不飽和基的化合物同時具有稀性不 飽和雙鍵讀基，因此可賦予彩色滤光片用感光性樹脂組 成物優良的光硬化性、良好顯像性、圖案特性，並提升遮 光膜的物性。 (A)成伤即含不餘和基的化合物，較佳衍生自通 :表示的環氧化合物。此環氧化合物射自雙_卜由於 措由說明雙酚類可明瞭含不飽和基的化合物，因此藉由雙 紛類來說明較佳具體例。於通式（11)中，^及心相互獨
丁氫原子，奴數1至5的烷基或是鹵素原子，X =^S〇2 ’ C(CF3)2〜Si(CH3)2_、CH2〜C(CH3)2·， 難敫/基或是不存在’以9,9_苟基為較佳。 是f佳為G或是平均值在之間的範圍。 ，勿基疋指以下列化學式所表示的基。 316123 12 1351581 【化學式4】
做為供應較理想的含不飽和基的化合物之雙紛類，有 下列化合物。包含，雙（4_羥基笨基）酮、雙（4_羥基_3,5_二 甲基笨基）_、雙（4,基_3,5_二氣苯基）酮、雙（㈣基笨基 楓、雙（4-沒基_3,5_二甲基笨基）楓、雙（4_經基_3,5_二氣笨 基）碉、雙（4-羥基苯基）六氟丙烷、 _二
基）六說丙烧、雙（4.經基.3,5•二氣苯基）六氟丙烧、雙; 羥基苯基）二甲基石找、雙⑷經基Μ•二甲基苯基）二甲基 矽烷、雙（4-說基-3,5-二氣苯基）二甲基石夕烧、雙（4_經基笨 基）甲烷、雙（4-沒基-3,5·二氣苯基）甲烧、雙（4_經基-3,5 二漠苯基）曱院、2,2-雙（4_經基苯基）丙烧、2,2_雙（4•經基 ¥二曱基苯基）丙烧、2,2_雙（4·窥基·V•二氣苯基^ 烷2,2-雙（4·說基-3-曱基苯基）丙燒、2,2雙（4_經基j氣 笨基)丙烷、雙(4-羥基苯基)喊、雙(4游3,5•二甲基苯美 域、雙（4-經基·3’5-二氣苯基）驗等化合物；及χ為上述的 9,9_苟基之9,9-雙（4_經基苯基）苟、9,9雙（4經基·3_甲 部，基-3-氣苯基)场、9,9_雙(4·經基 =9,雙(4-經基_3·氟苯基)苟、”雙㈣基 基苟、9,9-雙㈣基_3,5·二甲基苯基）苟、9,9 經土-3,5·二氯苯基）¾ ' 9,9,4nm 苯 ^ 316123 13 1351581 等，此外，亦可舉出4,4’-雙酚類及3,3’·雙酚類等。 此含不飽和基的化合物，雖可由上述衍生自雙紛類的 環氧化合物獲得，但亦可使用除了含有該環氧化合物之 外，亦含顯著量紛系盼經樹脂型環氧化合物及甲驗系驗酸 樹脂型（Cresylic Novolak)環氧化合物等具有2個縮水甘油 謎基的化合物。此外，將雙齡類予以縮水甘油醚化之際， 若以寡聚物单位混入’即通式（II)中的η的平均值為〇至 10(以0至2為較佳），則本樹脂組成物的功能將無任何問 題。 此外，與「環氧化合物與（甲基）丙烯酸反應所獲得之 (曱基）丙烯酸環氧酯之羥基」反應之多元羧酸或多元羧酸 酐，例如有，順丁烯二酸、琥拍酸、衣康酸、苯二曱酸、 四氫苯二曱酸（tetrahydrophthalic acid)、六氫苯二曱酸 (hexahydrophthalic acid)、 曱基内亞曱基四氫苯二甲酸 (methylendomethylene tetrahydrophthalic acid)，六氣内亞-曱基四氫苯二曱酸（chlorendic acid)、曱基四氫苯二曱酸 (methyl tetrahydrophthalic acid)、偏苯三曱酸（trimellitic acid) ’苯均四甲酸（pyromellitic Acid)等，及這些化合物的 酸酐類；再者’二苯曱嗣四鲮酸（benz〇phen〇ne tetracarboxylic acid)、聚苯四羧酸、二苯驗四叛酸 (diphenylether tetracarboxylic acid)等芳香族多元羧酸及這 些酸的二酸酐類等。關於酸酐類及二醆酐類的使用^例， 可選擇適於在因驗性液顯像操作時形成精密圖案之比例。 關於（A)成份之含不飽和基的化合物，可僅使用1種， 316123 14 種以上的混合物。此外，使環氧化合物與(T ^丙烯:反應’獲得的⑽）丙料環氧㈣多频酸或 = : 應’以製造㈧成份的含不飽和基的化合物 =法，錢職定，例如可採用下财法製造。亦即， ==9,9-雙（4-經基苯基巧與表氯醇㈣咖⑽反 二、口成以下列通式（IV)所表示的雙紛努型環氧化合物， 二:使該通切V)表示的雙_型環氧化合物與下列通式 丁的（曱基）丙婦酸進行反應，獲得以下列通式（νι)表 不的㈣酸雙㈣型環氧醋’接下來於丙二醇單甲驗溶劑 =匕於加熱之下使通式（VI)表示的丙烯酸雙酚芴型環氧酯 H與上述多元竣酸或多元幾酸的酸酐類進行反應，而 出為目標之含不飽和基的化合物。於通式（ιν)至（νι) 中’R〗1及R12與上述相同，R13為Η或ch3。 【化學式5】
316123 1351581 就該反應而言’較佳以環氧丙烯酸酯樹脂的OH基1 莫耳與酸肝類1/2莫耳進行定量反應為佳，反應溫度以9〇 °C至130°C為較佳’以95。〇至i25〇c為更佳。於此反應當 中’關於具備通式（I)的單位構造的化合物，全體均相同。 做為（B)成份之具有至少1個以上乙烯性不飽和鍵結 之光聚合性單體，例如有，（曱基）丙烯酸2_羥基乙酯、（曱 基）丙稀酸2-經基丙酯、（曱基）丙烯酸2_乙基己酯等具備羥 基的單體，及乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙二醇二（曱基） 丙烯酸酯、三乙二醇二（曱基）丙烯酸酯、四乙二醇二（甲基） 丙稀酸醋、1，4-丁二醇二（曱基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷 (trimethylol propane)三（曱基）丙烯酸酯、三羥曱基乙烷三 (曱基）丙烯酸酯、季戊四醇二（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三 (甲基）丙烯酸醋、季戊四醇四（曱基）丙烯酸酯、季戊四醇四 (甲基）丙烯酸酯、雙季戊四醇六（曱基）丙烯酸酯、甘油 (glycerol)(曱基）丙烯酸酯等（曱基）丙烯酸酯類，這些化合 物可單獨採用1種，亦可併用2種以上。 這些（A)成份與（B)成份的重量調配比例（a)/(B)為 20/80至90/10，以40/60至80/20為較佳。（A)成份的調配 比例若少於20/80，由於光硬化後的硬化物容易變脆，且 未曝光部分中塗膜的酸價會降低，因此對鹼性顯像液的溶 解性會降低，使圖案輪廓產生鋸齒狀，而發生「不清晰」 的問題；此外’若多於9〇/1 〇，由於光反應性官能基在樹 脂中所占的比例較少’無法形成足夠的交聯構造，且樹脂 成份中的酸價度將過高’曝光部份對鹼性顯像液的溶解性 16 316123 1351581 會過高，因此使所形成的圖案線寬比希望的線寬度細，容 易產生圖案缺陷的問題。 · 做為（C)成份的光聚合起始劑，以上述通式⑴表示的化 合物做為必須成份，藉由紫外線光等的照射而產生自由基 (Radical) ’此等自由基與光聚合性的化合物進行加成反應 而引發自由基聚合，並硬化組成物。其中，於通式⑴中，， Ri表示苯基（可被碳數1至6的烷基、苯基或鹵素原子取 代）’碳數1至20的烷基（可被1個以上羥基取代，烷基鏈 的中可具有1個以上的氧原子，亦可具有羥基與氧原子兩籲 者），碳數5至8的環院基，碳數2至20的烧酿基或是苯 甲醯基（可被碳數1至6的烷基或苯基取代）。化表示碳數 2至12的烷醯基（可被1個以上的鹵素原子或氰基取代）， 雙鏈與幾基非為共軛的碳數4至6的烷醯基、苯曱醯基（可 被碳數1至6的烷基、齒素原子或氰基取代），碳數2至6 的烷氧羰基或笨氧羰基（可被1個以上的碳數1至6的烧 基、苯基或鹵素原子取代），此等基總稱為醯基（acyl)。R3、 R4、R5、R6、R7、R8、R9及R1Q相互獨立，各表示氫原子， 函素原子，碳數1至12的烷基，環戊基，環己基，苯基， 笨甲基，苯甲酿基’碳數2至12的烷醯基，碳數2至12 的烷氧基羰基（烷氧基的碳數為2至11的情況，該院氧基 (於主鏈碳原子間可具有1個以上氧原子及/或被丨個以^ 羥基取代）或是苯氧基羰基。 該化合物的製造係參照專利文獻4記載的類似的化合 物的製造方法。於本發明中之以通式⑴表示的光聚合起二 316123 17 1351581 劑中，以上述通式（III)表示的化合物為較佳。 此外，於本發明令，可與通式⑴表示的光聚合起始劑 可與1種以上的其他光聚合起始劑或是感光劑（Sensit㈣ 併用。上述其他光聚合起始劑或是感光劑，例如有苯乙 酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、對二甲基笨乙酮、對二甲基胺， 基苯丙酮、二氣苯乙_、三氣苯乙綱、對·第三丁基苯乙酮. 等苯乙酮類，及二苯甲酮（benz〇phen〇ne)、2氯二苯曱酮、 P，P’-雙二甲基胺基二苯甲酮等二笨甲酮類；苯偶醯 (benzil);苯偶因（benzoin)、苯偶因甲基醚、苯偶因異丙基φ 醚、苯偶因異丁基醚等苯偶因醚類；2_(鄰氯苯基）_4,5_二 苯基聯嘴嗤（2-(0-chl〇rophenyl)-4,5_diphenylbiimidaz〇le)、 2-(鄰氯笨基）-4,5-一（間甲氧基苯基）聯嘧唾、2_(鄰氟苯 基）_4,5_二苯基聯嘧唑、2-(鄰甲氧基苯基）_4,5_二笨基聯嘧 <»坐、2，4，5-二方香基聯喊哇等聯嘴唾系列化合物，2_三氣曱 基-5-苯乙烯基-1，3,4-噁二唑、2-三氯甲基_5_(對氰基苯乙烯 基）-1，3,4-噁二唑、2-三氣甲基_5_(對甲氧基苯乙烯春 基）-l，3,4-w惡一哇等il曱基π坐化合物類；2,4,6-三（三氣曱 基）-1,3,5-三畊、2，-甲基-4,6-雙（三氣甲基）_ι，3,5-三畊、2,-苯基-4,6-雙（二氣曱基）-1,3,5-三啡、2-(4-氯苯基）-4,6-雙（三 氯甲基-二D井、2-(4-曱氧基苯基）-4,6-雙（三氣曱 基）-1，3,5-三哄、2-(4-曱氧基萘基）_4,6_雙（三氣曱基）_1，3,5-三哄、2-(4-曱氧基苯乙烯基）_4,6·雙（三氣曱基）_ι，3,5-三 畊、2-(3,4,5-三甲氧基苯乙烯基）_4,6_雙（三氣曱基pi%% 三畊、2-(4-曱基硫笨乙烯基）_4,6-雙（三氣曱基）-l，3,5-三哄 1S 316123 1351581 等鹵甲基-S-三哄系列化合物類；l-[4-(苯硫基）苯基]-2-(0-笨曱醯肟）-辛-1，2-二酮、1-(4-苯硫基苯基）丁-1，2-二酮-2-時-0-苯曱酸醋（l-(4-phenylsulfanylphenyl)butane-l，2-dione -2-oxime-0-benzoate)、1-(4-曱硫基苯基）丁-1，2-二酮-2-月亏 •0-乙酸酯、1-(4-甲硫基苯基）丁-1-酮肟-〇-乙酸酯等上述通 式⑴未包含的範圍中之0-醯基后系列化合物類；二甲醇縮 笨曱酮（benzyl dimethyl ketal);硫口山酮（thioxanthone)、2-氣硫灿酮、2,4-二乙基硫口山酮、2-曱基硫口山酮、2_異丙基 硫口山酮等硫化合物；2-乙基蒽醌、八甲基蒽醌、L2-苯并 蒽醌、2,3-二苯基蒽醌等蒽醌類；偶氮雙異丁腈（az〇 bis-isobutylnitrile)、苯曱醯過氧化物、異丙苯（cumene)過 氧化物等有機過氧化物；2-硫醇基苯并咪唑、2_硫醇基苯 并喔唾、2-硫醇基苯并噻唑等硫醇化合物等。 這些光聚合起始劑或是感光劑，可採用單獨丨種，亦 可併用2種以上。此外，可以添加本身雖無光聚合起始劑 或是感光劑之作用’但可藉由與上述化合物的組合，而可 增加光聚合起始劑或是感光劑能力的化合物。此等化人 :算例f為若與二苯甲洞組合使用將可發揮效果的三乙醇 胺等二級胺。
成伤（C)光聚合起始劑的借用旦，—B 成份合計Η)。重乂 是以(A)成份與(B) 重置伤為基準，則較佳為2至3〇 旦 更佳為5至20沾舌的重里份， 目丨丄， 的重置伤。若（C)成份的添加比例未滿2 則光聚合的诘疮料阻0 β 列禾/雨2 ’ 重量份，降低’另—方面，若超過30 則感度過強，圖案線寬將比圖案光罩寬，而無法 316123 1351581 忠實地重現光罩的線寬，此外，圖案輪廓呈鋸齒狀，恐產 生不清晰的問題。成份（c)光聚合起始劑以通式⑴所表示的 光聚合起始劑為必需成份，其之用量，於未添加其他（C) 成份時’只要在可單獨發揮光聚合起始劑之作用之量以上 即可，該劑量，以（A)成份與（B)成份合計100重量份為基 準時，較佳為2至30重量份’更佳為3至15重量份。 成份（D)著色劑之色調並未特別限定，可依彩色遽光片 的用途而適當的選定，顏料染料及天然色素均可。由於彩 色濾光片要求高精密的顏色顯現及耐熱性，因此一般乃採籲 用顏料，尤其較為理想者為採用有機顏料及碳黑。關於上 述有機顏料，就紅色顏料言之，可採用單一的紅色顏料系 列’亦可於紅色顏料系列之中混合黃色顏料系列來進行調 色。關於紅色顏料’例如有蒽醌（anthraquinone)系列顏料、 喹吖啶酮系列顏料’二酮基吡咯系列顏料、祐加:細） 系列顏料# ’以二酮卩比洛并卩比洛紅（Diket〇 pyrr〇i〇加… ^幻⑷丄顏料紅254)及蒽醌紅（c〗·顏料紅η?)等為尤佳。 此外’關於黃色的顏料，例如有，異養啉黃（is。— Yell〇w)(C丄顏料黃139)、鎳偶氮黃㈤加丨Az〇 ah⑽狀丄 ，料θ 150)、雙芳香酿苯胺黃⑼㈣也训⑽)i顏料 黃83)等。這些紅色顏料系列及黃色顏料系列各可混合2 =上來使用。此外’於混合使用紅色顏料系列及黃色顏 =列的：況’，於紅色顏料系列與黃色顏料系列的總 里00重里份，頁色顏料系列以為90重量份以下為較佳。 關於綠色的顏料可採用單一的綠色顏料系列，亦可混合黃 316123 20 1351581 色顏料系列於綠色顏料系列之中來進行調色。關於綠色的 顏料，例如有，氯化献菁綠（chlorophthal〇cyaninegreen)顏 料（C.I.顏料綠7)、溴化酞綠顏料（C I顏料綠3幻等。此外， 關於！色的顏料，例如有異吲哚啉黃（C I.顏料黃13巧、雙 芳香醯苯胺頁（C.I.顏料黃83)等。這些綠色顏料系列及黃 色顏料系列各可混合2種以上來使用。此外，於混合使用 綠色顏料系列及黃色顏料系列而使用的情況，相對於綠色 顏料系列與黃色顏料系列的總量為100重量份，黃色顏料 系列較佳為90重量份以下。關於藍色的顏料可採用單一的 藍色顏料系列，亦可現合紫色顏料系列於藍色顏料系列之 中來進行調色。關於藍色的顏料，例如有，_系_料、 陰丹士林（Indanthrene)系列顏料等，尤其是較為理想者為 ε 型酞菁藍（Phthalocyanine Blue)顏料（c.I.顏料藍 15 . 6) 等。此夕卜，關於紫色的顏料，例如有，二喔哄紫 %⑻(C.!.顏料紫23)，這些藍色顏料系列及紫色顏料系列 各可混合2種以上來使用。此外，於混合使用藍色顏料系 列及紫色顏料㈣的情況，相對於藍色顏料㈣及紫 料系列的總量100重量份1色顏料系列的重量份為：〇 以下。
此外，關於遮光性分散_例如有黑色有機 色有機顏料或是遮光材料等，關於黑色有機顏料 L 比黑、花青素（c—ne)黑等。關於黑色有機顏料，例 從紅、藍、綠、紫、黃、花青素、洋紅當中採用 2種以上的顏料來混而而成為近似黑色者。 ： 316123 21 =例如有’碳黑、氧化鉻、氧化鐵鈦黑、苯胺 二、花青素黑等’亦可適當地選擇2種以上來採用，在這 Γΐ丄較為理想者為具備良好的遮光性，表面平滑性及分 政女疋f生且與樹脂具相容性（compatabi脚)之碳黑。 此外’著色劑視需要，可與分散劑合用。關於此等分 散劑’例如有陽離子系列'陰離子系列、非離子系列、兩 i·系歹J石夕_系列、氟系列等界面活性劑。關於上述界面 活性劑的具體例，例如有聚氧伸乙基十二烷基醚、聚氧伸 乙基硬脂基醚等聚氧伸乙基烷基醚。 本發明中之成份（D)的色素的使用量，若是以（A)成份 ”（B)成伤合计1〇〇重量份為基準則以⑽至“ο重量份 為較佳，以50至23〇重量份為更佳。若未滿3〇重量份， 則不具足夠的顏色純度及遮光性，為了獲得所希望的對比 而必須增加膜厚’因而難以獲得具備平滑面的彩色滤光 片，相對的，若超過280重量份，則包含（D)成份的彩色濾 光片用感光性樹脂組成物的分散安定性下降，此外，由於 原先做為黏結劑的感光性樹脂的含量降低，因此可能產生 可能損及顯像特性並可能損及膜形成能力之問題。 於本發明的彩色滤光片用感光性樹脂組成物當中，較 理心除了上述（A)至（D)成份之外’亦採用溶劑。關於溶劑， 例如有，甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、乙二醇、丙二醇 等醇類，或是点-松油醇（terpineol)等萜類（terpene)、丙 酉同、丁酮、環己酮、N_甲基_2_吡咯烷酮 (N-Methyl-2-Pyrr〇iid〇ne)等酮類；甲笨、二曱苯、四曱基 316123 22 1351581 本·#务香知奴氫化合物類；赛璐素（cell〇s〇lve)、乙二醇單 曱醚（methyl cellosolve)、乙二醇單乙醚（ethyl celi〇solve)、 卡必醇（carbitol)、曱基卡必醇、乙基卡必醇、丁基卡必醇、 丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、二丙二醇單甲基醚、 一丙一醇單乙基醚、三丙二醇單甲基趟、三乙二醇單乙基 崎等二元醇醚類；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙二醇單醋酸酯 (Cellosolve Acetate)、乙二醇單乙醚單醋酸酯、乙二醇單 丁醚單醋酸酯、卡必醇醋酸酯、乙基卡必醇醋酸酯、丁基 卡必醇醋酸酯、丙二醇單曱基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚 乙酸酯等醋酸酯類，藉由溶解並混合這些化合物，可製作 均一的溶液狀組成物。 此外’於本發明的彩色濾光片用感光性樹脂組成物 中’可視需要添加硬化促進劑、熱聚合禁止劑、可塑劑、 填充材料、勻染劑、消泡劑等添加劑。關於熱聚合禁止劑， 例如有對苯二朌（hydroquinone)、對苯二酚單甲基醚、焦掊 酚（pyrogallol)、第三級 丁基鄰苯二酚（tert_ butylcatech〇1)、 啡噻畊（phenothiazine)等；關於可塑劑，例如有鄰苯二曱酸 二丁酯（dibutyl phthalate)、鄰苯二曱酸二辛酯（di〇ctyl phthalate)、甲酚混合物（tricresol，鄰曱酚、間曱酚及對曱 酚之混合物）等；關於填充材，例如有玻璃纖維、矽膠、雲 母、氧化鋁等；此外’關於消泡劑及勻染劑，例如有石夕系 列、氟系列、丙烯酸系列化合物。 此外’本發明彩色滤'光片用感光性樹脂組成物以上述 (A)至（D)成份或者（A)至（D)成份與溶劑為主成份。於去除 316123 23 1351581
溶劑的固形成份中，（A)至（d)成份合計為70wt%以上，較 佳為80wt%以上，更佳為9〇wt%以上。溶劑的量乃因目標 · 黏度的不同而改變，較佳為20至80wt%。本發明的彩色 濾光片用感光性樹脂組成物雖適合用於黑色及r、G、B 用光阻層（油墨），但更適合用於黑色用光阻層（遮光用油‘ 墨）。 - 接下來說明採用感光性樹脂組成物的彩色濾光片的製 造方法。首先，視需要，於基板表面上形成用於區隔形成 晝素之部分之遮光層，於此基板上塗佈例如分散有紅色的鲁 顏料的感光性樹脂組成物的液狀組成物，之後進行前烘烤 使溶劑蒸發形成塗膜。接下來於此塗膜上通過光罩來曝 光，之後採用鹼性顯像液顯像，溶解以去除塗膜的未曝光 部分之後’藉由後供烤，形成紅色晝素圖案按預定排列而 配置的畫素陣列（array)。之後，採用分散有綠色或藍色顏 料的感光性樹脂組成物的液狀組成物，進行與上述相同之 各個液狀組成物的塗佈、前烘烤、曝光、顯像及後供烤， 以於同I板上依序形成綠色的晝素陣列及藍色的畫素陣# 列’藉此獲得紅色、綠色及藍色的晝素陣列被配置於基 上的彩色遽光片。 於基板上塗佈感光性樹脂組成物的液狀組成物之際， 除了可採用眾所皆知的溶液浸泡法及喷濃法之外，亦可採 用依據滾輪塗佈機，圓盤塗佈機及旋床（spinner)之方法 等。根據這些方法，於塗佈所希望的厚度之後，去除溶前 供烤）而形成覆膜。前供烤可藉由烤箱、加熱板等來進行。 316123 24 1351581 刖烘烤中的加熱溫度及加埶時間，可;田μ 而滴m γ ”、、㈣了視所使用的溶劑種類 、擇，例如於80至120°c的溫度進行】至10分鐘。 用可=製Π色濾光片之際所使用的放射線’例如可使 先、紫外線、遠紫外線、電子束、χ射線等，較佳 :波長25〇s 450mM|圍内的放射線。此外，關於適用於 4驗=顯像的顯像液，例如有驗金屬及驗土金屬之碳酸鹽 的水溶液’驗金屬氫氧化物水溶液等，其中，以採用包含 〇’〇5至1〇重量％的碳酸鈉、碳酸妈、碳酸鐘等碳酸鹽之 弱鹼m讀’於2G i贼下顯像為佳並㈣市:上 所販賣的顯像機及超音波洗淨機，而可精密的形成纖細的 晝像。於驗性顯像讀’進行清洗。關於顯像處理法，例 如可適用沖淋顯像法、喷灑顯像法、浸泡（浸液）顯像法、 攪拌顯像法等。顯像條件較佳為於常溫下進行10至丨20 秒。 如此顯像之後，可於180至250。〇的溫度及2〇至1〇〇 分鐘的條件下進行熱處理（後烘烤）。進行後烘烤的目的為 提升形成圖案後的塗膜與基板之間的密著性。後供烤與前 烘烤相同’可藉由烤箱、加熱板等來進行。本發明之形成 圖案後的塗膜’乃經由依據上述光微影（ph〇t〇Hth〇graphy) 製程法之各個步驟而形成。 此外，黑色矩陣（black matrix)可採用遮光感光性樹脂 組成物’並以與上述晝素陣列相同之方式形成。 形成具有晝素及/或黑色基質之彩色濾光片之際所使 用的基板’例如為於玻璃或透明薄膜（例如聚碳酸酯、聚對 316123 25 丄乃1581 ，一甲酸 丁 —酯（po】yethylene terephthalate)、聚醚碉等）上 為錢ITO、金等透明電極或鍍上圖案等者。此外，可視需 要預先於這些基板上，適當地施以矽烷偶合處理劑等藥 二處理、電漿處理、離子蒸鍍、減鑛、氣相反應法、真空 蒸鑛等前處理。 [發明之效果] 本發明的彩色濾光片用感光性樹脂組成物可以形成圖 案尺寸女疋性優異’且顯像圖框（margin)、圖案密著性及 圖案之輪廓形狀良好的圖案，因此，本發明的彩色濾光片鲁 用感光性樹脂組成物，可適當的用做彩色液晶顯示裝置、 彩色傳真機、影像感測器等各種多色彩顯示器及光學機器 等之彩色濾光片用的著色油墨，又，藉由該感光樹脂組成 物形成之具有黑色基質之彩色濾光片適合用於電視、視訊 顯示器、或是電腦的顯示器等。此外，如此獲得的彩色濾 光片極適合用於例如穿透型或是反射型的彩色液晶顯示裝 置、彩色影像管元件及色彩感測器等。 【實施方式】 籲 以下根據實施例及比較例’具體說明本發明，但是本 發明並不限定於此。其中，於實施例及比較例的彩色濾光 片的製造中所採用的原料及省略符號如下所述。 (A)-1 .具備芴骨架的環氧丙烯酸酯的酸酐類聚縮合物 的丙二醇單曱基醚乙酸酯溶液（樹脂固形成份濃度=56.1重 量％ ’日本新日鐵化學公司製造，商品名稱為V259me) ⑷七Mw8800’酸價130的Ν·苯基醯亞胺/曱基丙烯 316123 26 1351581 西文/甲基丙稀酸苯甲酯共聚合物的丙二醇單甲基醚乙酸酯 溶液（樹脂固形成份濃度=37·9重量％)(N苯基醯亞胺：甲 基丙烯酸：曱基丙烯酸苯甲酯=26 : 34 ·· 4〇莫耳 ^ (A)_3 : Mwl60000，酸價95的N-苯基醯亞胺/甲基丙 烯1/曱基丙烯酸卞酯共聚合物的丙二醇單甲基醚乙酸酯 溶液（樹脂固形成份濃度=381重量％)(队苯基醯亞胺：甲 基丙稀酸··甲基丙烯酸T酯=36 : 25 : 39莫耳％) (B) 又季戊四醇六丙烯酸酯及雙季戊四醇五丙浠酸酯 的混合物(日本化葯公司製造，商品名稱為DpHA) (C) 1 ·上述通式⑴所表示的化合物 (C)-2 : p，p’_雙乙基胺基二苯曱酮 一 （）3 . 2·(4-甲氧基苯乙烯基）_4,6_雙（三氣甲基 三哄 ’ ’ ()笨曱基-2_二甲基胺基-1-(4-嗎啉基笨基）丁 (C)-5 : (C)-6 : 酮（化學式如 甲基-1-[4-(甲基硫）苯基]_2·嗎啉基丙_丨_酮 M4-(苯硫基）苯基]_2-(〇_苯甲醯月亏）_辛_12_二 下） ?
【化學式6J
15 : 6)濃度 13.7 316123 27 1351581 重量％，高分子分散劑濃度5.4重量％的丙二醇單曱基醚 乙酸酯分散液（固形成份19.1%) (D)-2:溴氣化駄菁綠顏料（C.I.顏料綠36)濃度15.1重 量％，高分子分散劑濃度4.0重量％的丙二醇單曱基醚乙 酸酯分散液（固形成份19.1%) * (D)_3 :二酮基吡咯并吡咯紅顏料（C.I.顏料紅254)濃度 15.0重量％ ’高分子分散劑濃度5.3重量％的丙二醇單曱 基醚乙酸酯分散液（固形成份18.3%) (D)-4.鎳偶氮黃顏料（c.l.顏料黃15〇)濃度13.3重量馨 % ’高分子分散劑濃度4.4重量％的丙二醇單曱基醚乙酸 酯分散液（固形成份17.7%) (D) -5 :碳黑濃度20重量％，高分子分散劑濃度5重 量％的丙二醇單曱基醚乙酸酯分散液（固形成份25.0%) (E) -l :丙二醇單甲基醚乙酸酯 (E) -2 .乳酸乙醋（ethyi lactate) (F) ·環氧樹脂（曰本環氧樹脂公司（japan Ep0Xy Resin) _ 製造，商品名稱為γΧ4〇〇〇Η) (G) :矽烷（Siiane)偶合劑 (H) :界面活性劑 [實施例] 按第1表所記載的比例來添加上述添加成份，而調製 出貫知例1至8的組成物。於表中所謂的P/B，係顯示（分 散液中的顏料重量）/((A)、（B)、（F)成份中的固形成份合計 重量）。 28 316123 ⑶丄581 [第1表]
採用旋轉塗佈機，將混合這些組成物所得到的彩色濾 光片用感光性樹脂組成物’以使前烘烤後的膜厚成為1.0 或是l 5//m之方式，來塗佈於i25mmx l25mm的玻 璃基板上，於90t下前烘烤2分鐘。之後，調整曝光間 距為80/zm’於乾燥塗膜上方配置線/空間為2〇"m/2〇# m ’ 100# m/lOOy m的負型光罩，以ϊ線明度3〇mW/cm2 的超高壓水銀燈照射1 〇〇mj/ cm2的紫外線，而進行感光部 分的光硬化反應。接下來，以0.04%的氫氧化鉀水溶液， 於23°C以lkgf/ cm2壓力沖淋曝光後的塗膜板5〇秒或8〇 秒以使之顯像’並進行1 kgf/ cm2壓力的喷灑水洗，去除塗 316123 29 1351581 膜的未曝光部分後’於玻璃基板上形成畫素圖案，之後才采 用熱烘乾機’於進行230t的熱後烘烤30分鐘之後，評估 圖案線寬、圖案直線性及塗膜表面粗糙度。 再者’於121°C、100%RH、2atm、24小時的條件下， 對後烘烤後的圖案形成後的基板實施) Cooker Test，高壓水氣測試），並於20/zm的圖案部上面. 貼附玻璃紙膠帶（Cellophane Tape)，藉由進行剝落試驗來 評估圖案密著性。 實施例、比較例中的圖案畫素之圖案評估項目及方法籲 如下所述。 公司 膜厚·採用觸針式高度差形狀測定器（美商科磊 (KLA-Tencor)製造，商品名稱為p_1〇)來測定。站 圖案線寬：採用長度測定顯微鏡（日本尼康（耻叫公 司製造，商品名稱為XD_20)，對於紅、綠、黃色感光性樹 ^组成物，光罩寬度為_心，對於黑色感光性樹脂组成 物，光罩寬度為20/zm，若是峻官' 右疋線見率未超過± 10%之際為 〇(良好）’超過± 10%之際為χ (不良）。 圖案直線性：以顯微鏡觀察顯像後的晝素圖案 觀察到從基板剝落及圖荦輪麻 '、 好），若觀察到從基板剝落及阓宏 為〇（良 X (不良)。 及圖案邊緣部分呈鋸齒狀，則為 塗膜表面粗链度·顯像、 度（Ra)之值，若未滿15〇 Α， A，則為χ (不良）。 熱燒結之後的塗膜表面粗糙 則為〇（良好），若超過150 316123 30 1351581 將結果示於第2表中。於第2矣击 „ 弟2表中，各個實施例的左 欄為顯像間5 〇秒的例子，六總支# J 右襴為顯像時間80秒的例子 的結果。如第2表所示，均為良好。 [第2表] 膜厚（// m) 實施例 1.5 實施例2 1.5 線寬（// m) 線粗率(％) 判定 圖案直線性 表面粗鏠度 Ra(A) ~备著性~ 106.4 1W] 106.8 5.48 108.3 ~fjr\ 107.4 ~6^89~ 一 102.3 — 〇 ~0~ (60) 〇 ~〇~ (76) 〇 ~〇~~ (75) 〇 (83) 〇— (106) 〇 〇 〇 〇 -v / 〇 L例3 實施例4 .5 1.5 98.6 105.3 103.2 -1.42 5.03 3.10 〇 〇 〇 —〇 〇 〇 〇 〇 〇 (110) (80) (92) 〇 〇 〇 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 膜厚（A m) 1.0 1 •0 1.0 1.0 線寬（// m) 20.32 18.98 20.89 19.50 21.67 19.67 21.80 20.78 線粗率(％) 1.57 -5.88 4.26 -2.56 7.71 -1.68 8.26 3.75 判定 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 圖案直線性 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 表面凹凸 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 Ra(A) (94) (110) (93) (100) (86) (93) (83) (80) 密著性 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 比較例1 關於（C)成份’除了（C)-4變更為〇.3重量份及（C)-6變 更為1.5重量份之外，其他以與實施例1相同的條件來形 成畫素圖案’評估之後’觀察到圖案輪廓呈鋸齒狀，因此 圖案直線性為不良（X )。 比較例 除了將（A)成份變更為（A)-2之外，其他以與實施例3 31 3J6123 1351581 相同的條件製造畫素圖案並進行評估，確認於9〇秒顯像 下，線寬變細10%以上，因此線寬判定為不良（>< 此外， 圖案直線性及密著性判定亦為不良（x)。 _比較例3 除將（C)成份變更為2.〇重量份之（c)_3之外，其他以 與實施例4相同的條件製造畫素圖案，評估之後，觀察到 圖案直線性不良（X )，此外，被認為是（(：>3的不溶物之異 物’以點狀存在於塗膜表面上。 比較例4 除了將（A)成份變更為（a)-2之外，其他以與實施例5 相同的條件製造成晝素圖案，評估之後，確認於8〇秒顯像 下，由於感度不足而使圖案產生缺陷，因而判定為不良 (X )。 比較例5 除了將（C)成份變更為丨8重量份之（c)_6之外，其他以 與實施例5相同的條件製造畫素圖案，評估之後，確認於 90秒顯像下，線寬變細10%以上，因此線寬判定為不良 (X )。此外，圖案直線性亦不良（X )。 比較例6 除了將（C)成份的添加量變更為〇」重量份之外，其他 以與實施例5相同的條件製造畫素圖案，評估之後，確認 於5 0秒顯像下，線寬變細1 〇 %以上，因此線寬判定為不 良（X )。此外，圖案直線性及密著性判定亦為不良（χ )，表 面粗糙度為250人’亦為不良（χ)。 316123 32 1351581 比較例7 除將（A)成份的種類變更為（A)-3之外，其他以與實施 例8相同的條件製造晝素圖案，評估之後，圖案直線性及 密著性均判定為不良（X )。 气一》 316123

Claims (1)

1351581 【峙s月4曰修正替換頁 第93123169號專利申請案 100年8月26曰修正替換頁 十、申請專利範圍： ， 1. 一種彩色濾光片用感光性樹脂組成物，該彩色濾光片用 感光性樹脂組成物係R、G、B用之油墨，以下列（A)至 (D)成份為必需成份：（A)具有衍生自雙酚類之2個縮水 甘油醚基之環氧化合物與（曱基）丙烯酸的反應物，再與 多元緩酸（polybasic carboxylic acid)或多元叛酸針反應 所得到之含不飽和基之驗可溶性樹脂化合物，（B)具有 至少1個以上乙稀性（ethylenic)不飽和鍵結之光聚合性 單體，（C)光聚合起始劑，（D)著色劑（不包括黑色色 鲁 材）；其特徵為： - (A)成份與（B)成份的重量比例（A)/(B)為20/80至 90/10，相對於（A)成份與（B)成份合計100重量份，（C) 成份之含量為2至30重量份，且以下列通式（I)所表示 的化合物做為成份（C)光聚合起始劑： 【化學式1】
(I)
通式⑴中， 心表示苯基（可被碳數1至6的烷基、苯基或鹵素原子 取代），碳數1至20的烷基（可被1個以上羥基取代，且 34 316123(修正版) I35l58l 2月vi日修正替換頁· 第93123169號專利申請案 100年8月26曰修正替換頁 燒基鏈中間可具有1個以上氧原子），碳數5至8的環 燒基，碳數2至20的烷醯基或是苯τ醯基（可被碳數1 至6的烧基或苯基取代）； R2表示碳數2至12的烷醯基（可被1個以上的鹵素原子 或氰基取代），雙鍵與羰基非呈共軛之碳數4至6的烯 醯基，苯f醯基（可被碳數1至6的烷基、幽素原子或 氰基取代），碳數2至6的烷氧基羰基或苯氧基羰基（可 被1個以上碳數1至6的烷基或鹵素原子取代）； R3、R4、R5、R6、R7、R8、尺9及Rl〇相互獨立，各表示_ 氫原子’齒素原子’碳數1至12的烷基，環戊基，環 -己基’苯基’苯甲基，苯曱醯基’碳數2至12的烷醯 基，碳數2至12的烷氧基羰基（構成烷氧基之烷基的碳 數為2以上的情況，烧基可被1個以上的經基取代且 烷基鏈中間可具有1個以上的氧原子）或苯氧基羰基。 2. 如申請專利範圍第1項之彩色濾光片用感光性樹脂組成 物，其中，具有衍生自雙酚類的2個縮水甘油醚基的環 氧化合物為以下列通式（π)表示的環氧化合物： · 【化學式2】
316123(修正版) 35 1351581 月H曰修正替換頁 第93123169號專利申請案 100年8月26曰修正替換頁 [通式（II)中，Rll及r12相互獨立，各，碳數 1至5的烷基或鹵素原子；X表示_c〇_，_s〇2·, -C(CF3)2-，-Si(CH3)2-，-CH2-，-C(Ch3)2_，·〇·，9 9 苗 基或不存在；η為0至1〇的整數]。 如申請專利範圍第1項之彩色渡光片用感光性樹脂組成 物，其中，成份（c)光聚合起始劑為以下列通式（πι)表示 的化合物： 【化學式3】
(m) 4.如申請專利範圍第2項之彩色濾光片用感光性樹脂組成 物，其中，成份（c)光聚合起始劑為以下列通式（ΙΠ)表示 的化合物：
(m) 5·—種塗膜，係將申請專利範圍第1項至第4項中任一項 之采^色遽光片用感光性樹脂組成物硬化而成。 一種彩色濾光片’其特徵為：具備藉由於透明基板上塗 6. 36 316123(修正版) 1351581 (房？Μ曰修正替換頁 第93123169號專利申請案 100年8月26曰修正替換頁 佈申請專利範圍第1項至第4項中任一項之彩色濾光片 用感光性樹脂組成物，於前烘烤之後，以紫外線曝光裝 置進行曝光，用鹼性水溶液進行顯像，並進行後烘烤而 製作出之晝素。 37 316123(修正版)
TW093123169A 2003-08-28 2004-08-03 Photosensitive resin composition and color filter TWI351581B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003304248A JP4437651B2 (ja) 2003-08-28 2003-08-28 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200508799A TW200508799A (en) 2005-03-01
TWI351581B true TWI351581B (en) 2011-11-01

Family

ID=34407988

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW100126952A TWI447523B (zh) 2003-08-28 2004-08-03 感光性樹脂組成物及使用該感光性樹脂組成物之彩色濾光片
TW093123169A TWI351581B (en) 2003-08-28 2004-08-03 Photosensitive resin composition and color filter

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW100126952A TWI447523B (zh) 2003-08-28 2004-08-03 感光性樹脂組成物及使用該感光性樹脂組成物之彩色濾光片

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4437651B2 (zh)
KR (1) KR101077077B1 (zh)
TW (2) TWI447523B (zh)

Families Citing this family (71)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3754065B2 (ja) * 2003-06-10 2006-03-08 三菱化学株式会社 光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター
JP4484482B2 (ja) * 2003-09-25 2010-06-16 東洋インキ製造株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP2005202252A (ja) * 2004-01-16 2005-07-28 Dainippon Printing Co Ltd 固体撮像素子カラーフィルター用感光性着色組成物、固体撮像素子カラーフィルター、固体撮像素子、及び固体撮像素子カラーフィルターの製造方法
JP2005215147A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物
TWI285297B (en) * 2004-02-09 2007-08-11 Chi Mei Corp Light-sensitive resin composition for black matrix
JP4556479B2 (ja) * 2004-04-27 2010-10-06 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよび液晶表示パネル
JP4448381B2 (ja) * 2004-05-26 2010-04-07 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP4492238B2 (ja) * 2004-07-26 2010-06-30 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示パネル
TWI385485B (zh) * 2004-11-17 2013-02-11 Jsr股份有限公司 A photosensitive resin composition, a display panel spacer, and a display panel
JP2006195425A (ja) * 2004-12-15 2006-07-27 Jsr Corp 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示パネル
JP4526964B2 (ja) * 2005-01-27 2010-08-18 旭化成イーマテリアルズ株式会社 光重合性樹脂積層体、並びにそれを用いたブラックマトリックス付きガラス基板、及びカラーフィルタの製造方法
JP4508929B2 (ja) * 2005-03-31 2010-07-21 新日鐵化学株式会社 絶縁膜用感光性樹脂組成物
TW200710572A (en) * 2005-05-31 2007-03-16 Taiyo Ink Mfg Co Ltd Photocuring/thermosetting resin composition, curing/setting product thereof and printed wiring board obtained using the same
EP1906243A4 (en) * 2005-07-20 2010-11-24 Toppan Printing Co Ltd PHOTOSENSITIVE COLORED COMPOSITION DEVELOPABLE IN ALKALI
JP4821206B2 (ja) * 2005-07-29 2011-11-24 東レ株式会社 カラーフィルター用感光性着色組成物、およびカラーフィルター
TW200728379A (en) * 2005-09-06 2007-08-01 Taiyo Ink Mfg Co Ltd Resin composition, cured product of the same, and printed circuit board made of the same
JP2007072035A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性組成物
JP4633582B2 (ja) * 2005-09-06 2011-02-16 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP4640971B2 (ja) * 2005-09-08 2011-03-02 東京応化工業株式会社 プラズマディスプレイの遮光性パターン形成用感光性樹脂組成物
JP4826415B2 (ja) * 2005-10-12 2011-11-30 東レ株式会社 感光性樹脂組成物
KR100777561B1 (ko) * 2005-11-24 2007-11-28 주식회사 엘지화학 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR100655044B1 (ko) 2005-12-30 2006-12-06 제일모직주식회사 우수한 전기적 특성을 가지는 컬러필터용 감광성 수지조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR100740550B1 (ko) * 2006-02-10 2007-07-18 주식회사 코오롱 수지 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물
JP2007233230A (ja) * 2006-03-03 2007-09-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性黒色組成物およびカラーフィルタ
JP2007279668A (ja) * 2006-03-14 2007-10-25 Asahi Kasei Electronics Co Ltd ブラックマトリックス及びその製造方法
KR101286101B1 (ko) 2006-03-28 2013-07-15 후지필름 가부시키가이샤 감광성 조성물, 감광성 필름, 영구 패턴 형성방법, 및 프린트 기판
JP5073342B2 (ja) * 2006-03-31 2012-11-14 新日鐵化学株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP4827088B2 (ja) * 2006-04-13 2011-11-30 太陽ホールディングス株式会社 アルカリ現像型ソルダーレジスト及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
JP4827089B2 (ja) * 2006-04-13 2011-11-30 太陽ホールディングス株式会社 アルカリ現像型ソルダーレジスト及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
WO2007119651A1 (ja) * 2006-04-13 2007-10-25 Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. アルカリ現像型ソルダーレジスト及びその硬化物並びにそれを用いて得られるプリント配線板
TWI416174B (zh) * 2006-06-01 2013-11-21 Nippon Steel & Sumikin Chem Co 濾色片用光阻組成物及其製造方法以及使用該組成物之濾色片
JP5108300B2 (ja) * 2006-12-28 2012-12-26 新日鉄住金化学株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
KR101047703B1 (ko) * 2007-02-20 2011-07-08 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
JP5003200B2 (ja) * 2007-02-26 2012-08-15 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
WO2008138732A1 (en) 2007-05-11 2008-11-20 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP2144876B1 (en) 2007-05-11 2012-09-12 Basf Se Oxime ester photoinitiators
JP5096814B2 (ja) * 2007-07-04 2012-12-12 東京応化工業株式会社 着色感光性組成物
JP5529370B2 (ja) * 2007-10-03 2014-06-25 新日鉄住金化学株式会社 多官能チオール化合物を含んだブラックレジスト用感光性樹脂組成物、それを用いたカラーフィルター用ブラックマトリクス、及びカラーフィルター
JP5189392B2 (ja) * 2008-03-28 2013-04-24 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP2009244401A (ja) * 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp 固体撮像素子用黒色感光性樹脂組成物及び画像形成方法
JP2010053330A (ja) * 2008-08-01 2010-03-11 Jsr Corp 硬化性組成物、液晶シール剤及び液晶表示素子
KR101279614B1 (ko) * 2008-11-12 2013-06-27 주식회사 엘지화학 플루오렌 그룹을 포함하는 알칼리 가용성 수지 중합체와, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 네가티브형 감광성 수지 조성물
US8507569B2 (en) 2009-03-23 2013-08-13 Basf Se Photoresist compositions
JP5439937B2 (ja) * 2009-04-30 2014-03-12 Ｊｓｒ株式会社 着色感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP4999891B2 (ja) * 2009-07-13 2012-08-15 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
KR101831912B1 (ko) 2010-10-05 2018-02-26 바스프 에스이 벤조카르바졸 화합물의 옥심 에스테르 유도체 및 광중합성 조성물에서의 광개시제로서의 그의 용도
US9051397B2 (en) 2010-10-05 2015-06-09 Basf Se Oxime ester
WO2012101245A1 (en) 2011-01-28 2012-08-02 Basf Se Polymerizable composition comprising an oxime sulfonate as thermal curing agent
CN103998427A (zh) 2011-12-07 2014-08-20 巴斯夫欧洲公司 肟酯光敏引发剂
JP5333879B1 (ja) 2011-12-19 2013-11-06 Ｄｉｃ株式会社 液晶表示装置
JP5333880B1 (ja) 2012-02-01 2013-11-06 Ｄｉｃ株式会社 液晶表示装置
KR101831798B1 (ko) 2012-05-09 2018-02-26 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
WO2014045371A1 (ja) 2012-09-20 2014-03-27 Dic株式会社 液晶表示装置
TWI476270B (zh) * 2012-10-04 2015-03-11 迪愛生股份有限公司 液晶顯示裝置
KR101495128B1 (ko) 2013-06-06 2015-02-24 디아이씨 가부시끼가이샤 액정 표시 장치
KR20160030233A (ko) 2013-07-08 2016-03-16 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
WO2015036910A1 (en) 2013-09-10 2015-03-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators
EP2983037B1 (en) 2013-09-24 2018-05-09 DIC Corporation Liquid-crystal display
KR101832812B1 (ko) 2013-10-30 2018-02-28 디아이씨 가부시끼가이샤 액정 표시 소자
WO2015064630A1 (ja) 2013-10-30 2015-05-07 Dic株式会社 液晶表示素子
CN105745572A (zh) 2013-11-12 2016-07-06 Dic株式会社 液晶显示元件
JP6070897B2 (ja) 2014-07-29 2017-02-01 Dic株式会社 液晶表示素子
CN106537242B (zh) 2014-07-29 2020-06-05 Dic株式会社 液晶显示元件
JP6437388B2 (ja) * 2015-05-28 2018-12-12 日本化薬株式会社 エポキシ（メタ）アクリレート化合物を含有する樹脂組成物及びその硬化物
WO2016030790A1 (en) 2014-08-29 2016-03-03 Basf Se Oxime sulfonate derivatives
KR102654596B1 (ko) * 2016-03-30 2024-04-04 동우 화인켐 주식회사 네가티브형 감광성 수지 조성물
CN111095044B (zh) 2017-09-25 2022-08-12 东丽株式会社 着色树脂组合物、着色膜、滤色器及液晶显示装置
US20220121113A1 (en) 2019-01-23 2022-04-21 Basf Se Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore
TWI894219B (zh) 2020-03-04 2025-08-21 德商巴地斯顏料化工廠 肟酯光起始劑
CN113189842B (zh) * 2020-12-20 2024-05-17 江苏穿越光电科技有限公司 一种彩色滤光片的制备方法
TW202302739A (zh) * 2021-06-30 2023-01-16 住華科技股份有限公司 感光性樹脂組合物、及應用其之彩色濾光片和顯示裝置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MY121423A (en) 1998-06-26 2006-01-28 Ciba Sc Holding Ag Photopolymerizable thermosetting resin compositions
WO2002100903A1 (en) 2001-06-11 2002-12-19 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime ester photoinitiators having a combined structure
JP3986406B2 (ja) 2002-09-25 2007-10-03 株式会社ニデック 非接触式眼圧計
TWI289577B (en) * 2002-10-28 2007-11-11 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerization composition and color filter using the same
JP2005062494A (ja) 2003-08-13 2005-03-10 Fujifilm Arch Co Ltd 光硬化性組成物及びそれを用いたカラーフィルタ

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050021902A (ko) 2005-03-07
JP4437651B2 (ja) 2010-03-24
TW201142502A (en) 2011-12-01
TW200508799A (en) 2005-03-01
KR101077077B1 (ko) 2011-10-26
JP2005077451A (ja) 2005-03-24
TWI447523B (zh) 2014-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI351581B (en) Photosensitive resin composition and color filter
JP4570999B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
KR101746607B1 (ko) 블랙 레지스트용 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 차광막
JP4489564B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP4290483B2 (ja) ブラックレジスト用感光性樹脂組成物並びにこれを用いて形成された遮光膜
TWI485167B (zh) 鹼可溶性樹脂、感光性樹脂組成物、彩色濾光片及其製造方法、液晶顯示裝置
KR20080107298A (ko) 블랙 레지스트용 감광성 수지 조성물 및 이것을 이용한차광막 및 컬러 필터
JP5281357B2 (ja) ブラックレジスト用感光性樹脂組成物及びカラーフィルター遮光膜
TWI829905B (zh) 黑色抗蝕劑用感光性樹脂組成物以及使其硬化而成的遮光膜以及彩色濾光片
TWI383254B (zh) A photosensitive resin composition and a color filter using the same
JP6700710B2 (ja) ブラックカラムスペーサー用の感光性樹脂組成物、ブラックカラムスペーサー、液晶表示装置、ブラックカラムスペーサー用の感光性樹脂組成物の製造方法、ブラックカラムスペーサーの製造方法、および液晶表示装置の製造方法
JP2024022626A (ja) 遮光膜用の感光性樹脂組成物、遮光膜、液晶表示装置、スペーサー機能を有する遮光膜の製造方法、および液晶表示装置の製造方法
TWI397769B (zh) Alkali-soluble resin and method for producing the same, and a photosensitive resin composition, a hardened product and a color filter using an alkali-soluble resin
JPH08278629A (ja) 遮光性薄膜形成用組成物及びこれを用いて形成された遮光膜
TWI463254B (zh) Black photoresist with photosensitive resin composition and color filter shading film
JP2007271987A (ja) ブラックレジスト用感光性樹脂組成物
KR20110069468A (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터
JP2020173433A (ja) 感光性樹脂組成物、それを硬化してなる硬化膜、およびその硬化膜を有する表示装置
JP7780251B2 (ja) ブラックレジスト用感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物の製造方法およびこれを硬化してなる遮光膜、当該遮光膜を有するカラーフィルターおよびタッチパネル、当該カラーフィルターおよびタッチパネルを有する表示装置
KR20090006021A (ko) 컬러 필터 격벽 형성용 감광성 수지 조성물과 이것을사용하여 형성한 차광성 컬러 필터 격벽, 및 컬러 필터와컬러 필터의 제조 방법
KR101051399B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 그것을 사용한 컬러필터
JP4508924B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP5073342B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP7705745B2 (ja) ブラックレジスト用感光性樹脂組成物、その製造方法、遮光膜、カラーフィルター、タッチパネルおよび表示装置
JP4833324B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルター

Legal Events

Date Code Title Description
MK4A Expiration of patent term of an invention patent