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TWI232355B - Light exposing apparatus - Google Patents

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Publication number
TWI232355B
TWI232355B TW089125222A TW89125222A TWI232355B TW I232355 B TWI232355 B TW I232355B TW 089125222 A TW089125222 A TW 089125222A TW 89125222 A TW89125222 A TW 89125222A TW I232355 B TWI232355 B TW I232355B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
exposure
slider
guide rail
exposure device
substrate
Prior art date
Application number
TW089125222A
Other languages
English (en)
Inventor
Takanori Tahara
Masaki Mori
Yukihiro Uehara
Original Assignee
Toray Eng Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Eng Co Ltd filed Critical Toray Eng Co Ltd
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Publication of TWI232355B publication Critical patent/TWI232355B/zh

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

1232355 A7 B7___ 五、發明說明() 發明之技術領域 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係有關在基板上曝光識別碼的曝光裝置,尤其是 有關曝光數個識別碼的曝光裝置,其係使用於對液^製= 步驟等使用之玻璃基板等基板的各項處理執行履歷管理及 品質管理。 先前技術 通系在液晶面板的製造步驟中,於玻璃基板上塗佈特定 的樹脂時’係分別以圖案曝光裝置進行電路圖案曝光,以 識別曝光裝置進行基板識別碼及面板識別碼等曝光·,以周 邊曝光裝置進行基板周邊部分不需光阻之部分的曝光,並 於曝光完成後,以顯像裝置進行顯像。 繼續從完成特定處理的一片玻璃基板製作一片或數片液 晶面板。 該玻璃基板50上標示有基板識別,用於識別 所示的基柢’並利用在履歷管理及品質管理等上,以提高 各項處理及整個製造線的成品率。此外,爲求在一片玻璃 基板5 0分割成數片液晶面板5 1後仍然能夠識別,標示有附 加液晶面板5 1之排列號碼等的面板識別碼5丨a,及標示有 用於判定切斷位置的切斷位置識別碼5 〇 b,使用在切斷數 片液晶面板5 1。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 該基板識別碼5 0 a、切斷位置識別碼5 0 b及面板識別碼 51a等多標示在玻璃基板5〇的周圍部。 該基板識別碼5 0 a、切斷位置識別碼5 0 b及面板識別碼 5 1 a的標示僅爲其中一種實施例,其名稱及數量等當然會 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 1232355 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 發明說明(2) 有所改變。 基板識別碼5 0 a、切斷位置識別碼5 0 b及面板識別碼5 1 a 等識別碼的曝光,係在曝光單元固定的狀態下,藉由N C控 制來移動承載玻璃基板的枱,於玻璃基板上的特定位置使 用曝光識別碼的曝光裝置。 此外,曝光玻璃基板50上周邊部分52之不需光阻部分的 周邊曝光裝置,係使用與上述曝光裝置不同之曝光裝置或 是將其組合的曝光裝置,在曝光單元固定的狀態下,藉由 N C控制來移動承載玻璃基板—的枱,於玻璃基板上的特定位 置曝光識別碼。 因此,係使用數個曝光裝置,反覆移動枱及進行曝光操 作,來曝光數個識別碼。 發明所欲解決之課題 上述的曝光裝置,若玻璃基板大型化,欲從一片玻璃基 板製作數;t液晶面板時,會產生面板識別碼的數量增加及 曝光該識別碼費時等的問題,同時,以固定曝光單元,移 動承載玻璃基板的枱來構成時,也會因枱的移動範圍大, 而造成整個裝置過大的問題。 因。而嘗試開發出一種曝光裝置,其係設置標準的固定曝 光早TC30及可移動曝光單元3丨,移動承載玻璃基板之枱來 ^光,及没置數個單元3 2,每一個單元係由用於安裝曝光 單元的^塊及導軌所形成,移動承載玻璃基板之枱來曝 光。 此種曝域置的作業效率雖然比先前的曝光裝置提高若 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準ία^)Α4規格(21^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 297公釐) 1232355 A7 _______ _ B7___ 五、發明說明()
干’但疋如圖5及圖6所示,久g異水留—A q U /Tf 7F,各曝光早兀的移動範圍(L i, L2)仍有限制,無法達到預期的作業效率。 晴裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此外,由於係移動承載玻璃基板的枱,因此,A法解決 整個裝置過大的問題。 此外,迷有必須備有用於曝光基板周邊部之不需光阻部 分I周邊曝光裝置與曝光識別碼之曝光裝置的問題。 本發明之目的,在提供一種曝光裝置,可以於短時間内 在特足的位置曝光數個識別碼,而且縮小整個裝置的 積。 — " 課題之解決手段 本發明之曝光裝置的特徵,如申請專利範圍第1項所揭示 的,係分別設置可以移動的數個曝光單元,用於在塗佈有 感光材料的基板上曝光識別碼。 此外,本發明之曝光裝置如申請專利範圍第2項所揭示 的,可以由在基板上設置可以移動,用於周邊曝光的周邊 曝光單元來構成。
本發明之曝光裝置的基板,如申請專利範圍第3項所揭示 的’可以採用液晶用玻璃基板。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此外’如申請專利範圍第4項所揭示之本發明曝光裝置的 周邊曝光單元,可以設置在固定導軌或移動導軌中至少一 個導軌上來構成。 如申請專利範圍第5項所揭示,本發明之曝光裝置的特徵 馬具備:枱,其係承載基板;一對導軌,其係設置在上述 括的上方位置;數個滑塊,其係可以沿著上述導執移動; -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1232355 Α7 Β7 五、發明說明() 及曝光單元,其係對安裝在個滑塊上的識別碼進行曝光。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此外,本發明之曝光裝置的構成,可以定子,其係具有 向特定方向延伸的推進用場磁;及磁性資訊磁化組件來形 成申請專利範圍第6項之導軌·,可以設置在活動元件上的 磁頭,其係使具有電樞線圈之活動元件與磁性資訊磁化組 件相對’來形成安裝在上述導執上之滑塊;並將移動導 執’其係使安裝其上之申請專利範圍第7項的曝光單元安 裝用滑塊自由移動;與滑塊一體結合,該滑塊係安裝在配 置成與該移動導軌於水平方佝交叉的固定導執上,且可以 自由移動。 發明之實施形態 圖1爲顯示本發明之曝光裝置構成的概略斜視圖,曝光裝 置係设置成沿著基座(B a s e)(圖上未顯示)上所形成的導執 自由移動’其構成具備:枱1,其係以水平狀態承載玻璃 基板50 ;藤光機構2,其係設置在基座(圖上未顯示)上, 位於該枱1的上方,對基板識別碼5 〇 a、切斷位置識別碼$ 〇 及面板識別碼5 1 a之全部或任一個進行曝光;及周邊曝光 機構3,其係對基板周邊部不必要光阻的部分進行曝光。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 枱1使用承載玻璃基板的面採平面構成,連接減壓源的減 壓吸附用孔採貫穿構成,支撑用銷採凸出的構成者,或是 使用具有固定玻璃基板侧面之機構的構成者,使玻璃基板 5 0處於水平狀態或垂直狀態。 此外,枱1的構成採用在水平方向之前後方向(γ方向)與 左右方向(X方向),或在垂直方向的上下方向(ζ方向)與左 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1232355 A7 B7 五、發明說明( 右方向(X方向)可以自由移動、旋轉及可以在垂直方向升 降0 才口 1上放置破璃基板5 0的位置偏差時,測定位置偏差 量,旋轉枱1,或是向前後方向(Y方向)與左右方向(X方向) 移動來凋整位置的偏差。此外,在枱i上可設置如L形狀的 定位導板(Guide)將玻璃基板50卡在該導板内加以定位。 曝光機構2包含:固定導軌扣i、4_2,其係以托架(圖上 未顯不)支撑呈水平狀態,該托架在水平方向與基座(圖上 未顯不)距離特定的間隔;滑塊5 _ 1、5 _ 2,其係安裝在該 固定導執4-1、4-2上,沿左右方向(X方向)自由移動;移 動導執6 ’其係以結合組件7 - 1、7 · 2安裝在該滑塊5 - 1、 5 - 2上;滑塊8 - 1、s - 2、8 - 3,其係安裝在該移動導軌6 上’沿前後方向(Υ方向)自由移動;曝光單元9-i、9-2、 9 - 3 ’其係以焦點調整手段丨〇 ·丨、1 〇 · 2、i 〇 _ 3安裝在該滑 塊8-1、8〜2、8-3上,可以沿垂直方向(z方向)移動;及 紫外線光源手段1 1 · 1、1 i · 2、1 ^ 3,其係以光纖等的光 導 12-1、12-2、12-3 結合該曝光單元 9-1、9-2、9-3。 安裝在固定導執4上自由移動的滑塊5及移動導軌6的單 元組件數量,視面板識別碼5 1 a的數量來適切設定,使各 單元組件可以在特定的位置上移動。 此外,安裝在移動導執6上自由移動之滑塊8的數量,也 視面板識別碼的數量來適切設定,使各滑塊8可以在特定 的位置上移動。 上述之固定導執4(4-1、4-2)及移動導軌6,係使用由定 8- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂· ·
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1232355 A7 B7 五、發明說明(6 ) 子,其係具有向特定方向延伸的推進用場磁(沿長度方向, N極與S極等間距時交互磁化的磁鐵);及磁性資訊磁化组 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 件(編碼圖)所形成者,滑塊”5」、夂2)與滑塊8(84、8_2 、8-3)使用由磁頭,其係可以形成、刪除、讀取設置在活 動元件内的磁性資訊(位置檢測、速度控制等編碼資訊/, 使具有電樞線圈的活動元件與磁性資訊磁化部相對所形成 者。 滑塊5、8可以藉由螺旋進給機構(其構成與焦點調整機構 10相同),其具備螺軸及旋入該螺軸上的螺帽來移動,取 代以上述的線性馬達機構來移動,當然並不限定於這些移 動機構。 曝光單元9,如圖2所示,在端部上具有光導12的連接 4,其構成係容納:聚光鏡1 4,其係使光線在安裝於焦點 调整手段1 0内之曝光箱(C a s e ) 1 3内成概略平行狀態;滤 光器1 5,唭係衰減不需要之波長的光線;射入光偏光板 1 6 ’其係使特定光線穿透;光罩(Reticie) 1 7,其係顯示任 思的文4*及圖形;射出光偏光板1 8,其係使特定的光線穿 透;半透明反射鏡、棱鏡等的分光鏡1 9 ;及投影鏡2 〇等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 該曝光單元9内設有CCD相機2 1,其係自分光鏡1 9取得 圖像’自玻璃基板5 0或枱1之表面反射的光線係自投影鏡 20射入,並以分光鏡1 9改變角度,射入CCD相機2 1,該 圖像顯示在電視機(圖上未顯示)上。並與預先設定的資料 比對,進行焦點調整及光罩的位置調整等,將圖像資料自 該CCD相機2 1送至控制裝置(圖上未顯示)。 度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1232355 Α7 Β7 五 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 發明說明() 此外’顯示在電視機上的圖像,可以由作業人員觀察, 並以人工操作來進行焦點調整及光罩的位置調整等。 不需要確認焦點及曝光位置,不需要進行焦點及光罩的 位置調整等時,可以省略CCD相機2 1。 該曝光單元9的構成並不限定於此,其構成還可以設置遮 光罩’其係用於限制以光導元件1 2傳送之光線的照射範 圍;也可以將紫外線的光源手段i丨一體設置在曝光單元9 内0 焦點調整手段1 〇 ( 1 〇 · 1、-丨〇 _ 2、1 0 _ 3 )包含:活動組 件,其係用於安裝曝光單元9的曝光箱,該曝光單元9係沿 著形成在滑塊8上之導軌做垂直移動,·螺軸,其係驅動用 的脈衝馬達與端部結合,以托架呈垂直狀態安裝在滑塊 8(8-1、8·2、8-3)上自由旋轉;及螺帽,其係旋入該螺軸 上,同時安裝在曝光單元安裝用組件上。 也可以使用以球狀螺軸及旋入球狀螺軸之螺帽所構成者 來取代該螺軸及螺帽。 其構成可以採用不設置該焦點調整手段1 〇,直接將曝光 單元9安裝在滑塊8上,也可以藉由多關節機構,將曝光單 元9安裝在滑塊8上。 此外,當然也可以採用不設置焦點調整手段1 〇,使(骨塊 5可以垂直移動的構成,使固定導軌4可以垂直(Ζ方向)移 動的構成,使枱1可以垂直移動的構成。 周邊曝光機構3包含:滑塊22(22-1、22-2),其係安裝 在固定導軌4(4-1、4-2)上,可以自由移動;活動台 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) ---- -裝---- (請先閱讀背面之注意事頊存填寫本買〕
1232355 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7__— - _ 五、發明說明() 2 3 (2 3 - 1、23-2),其係設有導軌及滑塊,並安裝在滑塊 22(22-1、22-2)上;及曝光單元 24(24-1、24-2),其係 安裝在活動台23(23-1、23_2)上。 滑塊22的構成與滑塊5相同。 圖1中所示的滑塊5與滑塊2 2雖是分別獨立的,不過有時 也結合在一起。 活動台2 3之導軌的構成與固定導軌4相同,滑塊的構成 與滑塊5相同。 曝光單元2 4係採用與曝光-單元9相同的組件來形成,不 過其構成也可以使紫外線避開固定導軌4來照射。 此外’曝光單元2 4係以焦點調整手段(圖上未顯示)做垂 直移動。 玻璃基板識別碼5 0 a位於周圍之兩端部以外的位置(概略 中央部),以上述的周邊曝光機構3不易曝光時,則設置另 一種周邊曝光機構,其包含:移動導執,其係安裝在固定 導執4上,可以沿X方向自由移動;滑塊,其係安裝在該移 動導執上,可以沿γ方向自由移動;及曝光單元,其係以 焦點碉整手段安裝在該滑塊上,在沒有枱丨的移動操作等 下,仍可以有效進行曝光。 上述的各滑塊5、8、2 2等,係藉由相位同步控制等的 N C控制來移動。 上述光源手段1 1之紫外線的發光時間、發光間隔,滑塊 5 8、2 2的移動速度、移動量,及焦點調整手段丨〇之步 進馬達的旋轉量,係藉由具備輸入功能、記憶功能、比較 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
In I 裝
-11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 297公釐) 1232355
五、發明說明( ,算功能及操作指令功能等功能的電㈣㈣裝上未 頭示)來控制。 將坡璃I板50放進上述括,及將完成曝光之玻璃基 50,出的操作,係由作業人員利用破璃基板搬移機器 人、梭式搬移機構及滾筒輸送機等進行人工作業。 玻璃基板50放在上述曝光裝置的以上就定位後,曝光 機構2的滑塊5按照控制裝置(圖上未顯示)的輸出信號,向 X方向的特定位置移動,同時,滑塊8-1、8_2、8_3分別 向Y方向的特定位置移動,曝光單元9]、9_2、Μ移動 至面板識別碼50a的曝光位置時,焦點調整手段㈠的脈衝 馬達裕知'控制裝置(圖上未顯示)的輸出信號操作,曝光單 元9移動至特定照射高度的位置。此時,光源手段"小 H-2、11-3按照控制裝置(圖上未顯示)的輸出信號操作, 發射紫外線以形成特定的文字㈣像。該紫外線照射在玻 璃基板50上,該反射光射aCCD相機21時,確認該面板識 別碼5 la的焦點狀態及曝光位置,當曝光單元9的焦點有偏 差時,所對應之焦點調整手段1〇的脈衝馬達即正轉或逆轉 來升降曝光單元9,以進行對焦,當曝光單元9的曝光位置 偏差時,所對應的滑塊8則移動來修正曝光位置。各曝光 單元9-1、9-2、9-3藉由這些操作完成設定後,光源手段 1 1 - 1、1 1 - 2、1 1 - 3操作,進行面板識別碼5 i a、切斷位置 識別碼5 1 b及基板識別碼5 〇 a等的曝光。 上述滑塊5開始移動的同時,或是曝光單元9進行曝光操 作後,滑塊2 2向X方向的特定位置(玻璃基板5〇的端部)移 -12 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 一SJI· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1232355 A7 B7 10 五、發明說明() 動,同時活動台2 3的滑塊向Y方向移動,曝光單元2 4 - 1、 24-2移動至玻璃基板50周邊部不需光阻部52的曝光位 置。此時,爲使光源手段(圖上未顯示)按照控制裝置(圖上 未顯示)的輸出信號操作,以形成特定的圖像,與上述曝光 單元9同樣的進行對焦及定位操作後,對周邊不需光阻部 52(玻璃基板50的兩端部)進行曝光。進行該玻璃基板5〇兩 端部的曝光時,枱1旋轉9 0。,對剩餘之周邊不需光阻部·-5 2進行曝光。 該周邊曝光機構3的曝光單元24-1、24-2與曝光機構2 的曝光單元9同樣的係向X方向與Y方向移動來構成時,才台 1處於固定狀態,曝光單元2 4 · 1、2 4 - 2則向X方向與Y方 向移動,對玻璃基板50的周邊部進行曝光。 對圖4所示的玻璃基板50設置三個曝光單元9-1、9-2、 9 - 3時,於第一行的面板識別碼5 1 a進行曝光時,則移動枱 1或滑塊5 ★依序進行第二行及第三行面板識別碼5 1 a的曝 光。 該曝光單元9對應所有面板識別碼5 1 a設置時,則幾乎同 時進行全部的曝光。 如圖3所示,上述之曝光單元9_1、9-2、9-3的移動範圍 (L1〜L3),比先前之曝光裝置的移動範圍(L1,L2)大,同 時可以快速移動曝光位置,縮短曝光時間。 上述的實施例係説明液晶用之玻璃基板的曝光,不過本 發明的曝光裝置也適用於需要曝光識別碼的基板,且材 質、形狀等並無特別限制。 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) •裝--- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 !232355 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明( 發明之效果 由於本發明〈曝光裝置的構成,係如申請專利額第1項 所述,分別設置可以移動的數個曝光單a,用於在塗佈有 感光材料的基板上曝光識別碼,因此可以在短時間内於玻 璃基板的任何位置上對識別碼進行曝光,同時可以縮小整 個裝置的體積。 '如本發明心曝光裝置的構成,如申請專利範圍第2項所 述,係設置可以移動之周邊曝光單元,對基板周邊部不需 光阻4刀進仃曝光時,可以不需要設置用於周邊曝光的曝 光裝置,並可以同時對識別碼與基板周邊部進行曝光,以 提高作業效率。 如本發明之曝光裝置的基板爲申請專利範圍第3項之液晶 用玻璃基板時,可以在短時間内於玻璃基板上對基板識別 碼、面板識別碼等識別碼進行曝光,若在固定導執或移動 導執之至少一個導軌上設置如申請專利範圍第4項的周邊 曝光單元來構成時,可以確實達到申請專利範圍第2項的 效果,同時可以縮小整個裝置的體積。 此外,由於本發明之曝光裝置,如申請專利範圍第5項所 述,具備··枱,其係承載基板;一對導軌,其係設置在上 述枱的上方位置;數個滑塊,其係可以沿著上述導軌移 動;及曝光單元,其係用於對安裝在個滑塊上的識別碼進 行曝光,因此可以確實達到申請專利範圍第丨項的效果。 此外,本發明之曝光裝置的構成,係以定子,其係具有 向特定方向延伸的推進用場磁;及磁性資訊磁化組件來形 14- 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNS)A4規格(210 X 297公髮) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
1232355 A7 B7 五、發明説明(12 成申請專利範圍第6項之導軌;係以設置在活動元件上的磁 頭’其係使具有電樞線圈之活動元件與磁性資訊磁化組件 相對,來形成安裝在上述導軌上之滑塊時,可以確實且於 短時間内使曝光單元移動至特定位置;並將移動導軌,其 係使安裝其上之申請專利範圍第7項的曝光單元安裝用滑塊 自由移動;與滑塊一體結合,該滑塊係安裝在配置成與該 移動導軌於水平方向交叉的固定導軌上,且可以自由移動 時,可以使曝光單元同時向水平方向的前後方向及左右方 向移動,可以在短時間内移動曝光單元。 圖式之簡要說明 圖1為本發明之曝光裝置構成之一種實施例的概略斜視 圖。 圖2為圖1中之曝光單元部分的概略剖面圖。 圖3為本發明之曝光裝置中之曝光單元移動範圍的簡圖。 圖4為以本發明之曝光裝置進行曝光之玻璃基板一種實施 例的簡圖。 圖5為先前曝光裝置之曝光單元的移動範圍簡圖。 圖6為先如之其他曝光裝置之曝光單元的移動範圍簡圖。 符號說明 1 括 2 曝光機構 3 周邊曝光機構 4、 4-1、4-2 固定導軌 5、 5-1、5-2、8、8-1、8-2、8·3、22、22-1、22-2 滑塊 6 移動導軌 尺度適 1Γ中國Α4 規格(210^^------ 1232355 A7 B7 五、發明說明( 13 -1 -2 結合組件 9、 9-1、 9-2、 9-3 10、 10-1、 10-2、 10-3 1 1、1 1 - 1、11-2、1 1 -3 12 、 12_1 、 12_2 、 12_3 13 曝光箱 14 聚光鏡 15 遽光鏡 16、18 偏光板 17 光罩 19 分光鏡 20 投影鏡 2 1 CCD相機 2 3 活動台 50 玻璃基板 5 1 液晶面板 50a 基板識別碼 5 0b 切斷位置識別碼 5 1 a 面板識別碼 5 2 周邊曝光邵分 24、24 - 1、24-2 曝光單元 焦點調整手段 光源手段 光導 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 16- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. 1 · 一種曝光裝置,其特徵為分別設置可以移動的數個曝光 單元’用於在塗佈有感光材料的基板上曝光識別碼。 2 ·如申請專利範圍第i項之曝光裝置,其中設置可以移動的 周邊曝光單元,用於曝光基板周邊部不必要光阻的部 分。 3 ·如申請專利範圍第1項之曝光裝置,其中的基板為液晶用 玻璃基板。 4 ·如申請專利範圍第2項之曝光裝置,其中的周邊曝光單元 設置在固定導軌或移動導軌之至少一個導軌上。 5 · —種曝光裝置,其特徵為具備:枱,其係承載基板;一 對導軌’其係設置在上述枱的上方位置;數個滑塊,其 係可沿上述導軌移動;及曝光單元,其係用於對安裝在 數個滑塊上的識別碼進行曝光。 6 ·如申請專利範圍第5項之曝光裝置,其中之導軌係以具有 在特足方向延伸的推進用場磁鐵之定子,及磁性資訊磁 化組件來形成;其中安裝在上述導軌上之滑塊,係以具 有電樞線圈之活動元件及以與磁性資訊磁化組件相對之 方式設在活動元件上之磁頭來形成。 7 ·如申請專利範圍第5項或6項之曝光裝置,其中係使曝光 單兀安裝用滑塊自由移動地安裝之移動導軌與滑塊一體 結合,孩滑塊係可自由移動地安裝在配置成與該移動導 軌於水平方向交又的固定導軌上。
TW089125222A 1999-12-10 2000-11-28 Light exposing apparatus TWI232355B (en)

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