TWI225511B - Coating composition, coating film thereof, antireflection coating, antireflection film, image display, and intermediate product - Google Patents

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1225511 五、發明說明（1) [技術領域] 本發明係關於具有優異之分散性、分散安定性、以及塗 覆適性之塗料組成物，暨在使用該塗料組成物之下所形成 之光學薄膜者。更具體而言，本發明係關於適合於下述光 學薄膜之形成之塗料組成物··即該光學薄膜為已調節折射 率之光學薄膜，典型上構成反射防止膜（用於影像顯示装 置如LCD、CRT等之顯示面之覆被）之層，尤其是兼具充當 中〜高折射率層之支持層之功能及充當高折射率層之功能 之高折射率硬塗層，以及對鄰接層（如蒸氣澱積層等）之密 合性（緊密附著性）良好之中〜高折率層者。 再者’本發明亦關於具有由該塗料組成物所形成之塗 膜層之反射防止膜，以及應用此種反射防止膜之反射防止 薄膜及影像顯示裝置。 [背景技術] 液日日1、員不I置（LCD)、陰極管顯示裝置（^了）等之影搞 射之光線少反射之性質。 表面被覆有低折射率之透明皮够 ，而有可能將利用此種現象之肩 置之顯示面，以提高視認性。反 構：在確保充分之硬度之目的下 而在其上，為了降低頂面之折系 為低之折射率之低折射率層，如 為了進一步提高反射防止效果， 示裝置之顯示面在提高其視認性之目的下需要一種=夕丨 光源（如營光燈等）所照& t - ·' · 、

已知，在透明物體之 反射率則會降低之現象 防止膜没在影像顯示裝 防止膜具有下述之層結 在基材上設置硬塗層， 率，設置具有比硬塗層 構成之層結構；或者，

1225511 五、發明說明（2) 上述硬塗層上設置一層或複數層之中〜高折射率層，而在 中〜高折射率層上，為了降低頂面之折射率，設置低折射 率層，如此構成之層結構。 、 此種反射防止膜之高折射率層或中折射率層被要求之性 質為，製成反射防止膜時可發揮充分之效果之折射率、透 明性等之光學特性，以及對鄰接之其他層（硬塗層、低折 射率層）之密合性、耐擦傷性等之物理特性。 反射防止膜之高折射率層或中折射率層之形成方法一般 粗略分為氣相法及塗覆法，其中之氣相法包括如直空蒗^ 澱積法、濺鍍法等之物理方法以及如CVD法（化學蒸氣澱積 法）、等之化學方法，而塗覆法包括輥塗法、凹版印刷法、 滑塗法、喷塗法、浸潰法、以及網板印刷法等。 ^依照氣相法之場合，雖然有可能形成高功能且高品質 之薄膜之高折射率層及中折射率層，但需要高真空系下之 精密之氣氛控制，又需要特殊之加熱裝置或離^ 2生加速 裝$，因士使製造裝置複雜化且大型化，而必然造成製造 成本之提局之問題。再者，難於達成高折射率層及中折射 率層之薄膜之大面積化，或難於使薄膜以均 於具有複雜形狀之膜片等之表面上。 在另一方面，依照塗覆法中之噴塗法之場合述問 題：塗覆液之利用效率不佳，難於控制成膜條件在依 照；昆塗法、凹版印刷法、㉟塗法、浸潰法、以及網版印刷 法等之場合，雖然成膜原料之利用效率良好而 量生產 或設備成本上有利，但一般而言，由塗覆法所得之高折射

C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 第5頁 1225511 五、發明說明（3) 率層及中折射率層與氣相法所 質上較差為其問題。 相較，前者在功能及品 最近，關於可形成具有優良σ μ 率層之薄膜之塗覆方法，有人:二之南折射率層及中折射 錫等之高折射率微粒在有機物;種將由氧化鈦、氧化 以下皆同）之溶液中分散而成之斤冷冓^之黏合劑（binder， 成塗膜之方法。 土復液塗覆於基板上以形 形成中〜高折射率層之塗膜 狀，因此有必要使用一種具 ff/可見光領域呈透明 以下之所謂超微粒以充當高折射‘：：為可”線之波長 高折射率微粒均勻分散於塗覆⑨中及塗且有必要使該 言，若使微粒之粒徑減少下去 夕、、。但，一般而 粒子間之凝聚力增強。繼之 ^J表面積則增大’而 時，所得之塗膜之霧度(haze，二\液分凝聚 而，高折射率層及中折射率白 j二心化。從 者，塗覆液被要求ii;成霧度很低之均句塗膜。再 保存。被u具有充分之分散安定性’俾可容易長期 超微粒之凝聚問題可使用一種對該超微 2 f散劑來解決。分散劑-邊滲透凝聚之微：：：“ 凝聚狀態鬆散之同：達：=;分散處理之過程中使 而，由於超微粒已增加表面積，為了 ：f化。然 液令而達到可耐長久保存之程产之安定化勻为放於塗覆 枉度之女疋化，乃需要大量之 C: \2D-OODE\91 -04\91100455.ptd ^5511 五、發明說明（4) 一 分散劑。塗覆液若摻配有大量之分散劑，則在使用該塗覆 液之下所形成之塗膜亦含有大量之分散劑，於是，此分散 劑妨礙黏合劑成分之硬化，極端降低塗膜之強度。 ★此外，為了在大量生產之觀點上可容易形成大面積薄 膜，塗覆液被要求一種在塗覆時可達均勻薄層之塗覆且不 兔生”乾燥不均勻乾燥後之含水率不均勻）之塗覆適性。 再者，中〜高折射率層被要求對所鄰接之硬塗層或低折 =率層具有充^之密合性。在依照所謂之濕式法之塗覆液 形成之中间折射率層上，依照如蒸氣澱積法等之所謂 =乾式塗法形成氧化秒（Si〇x)膜等之低折射率層之場合， 會簡單剝開’因此被要求特優之密合性。 再者’硬塗層本來具有一種充當中〜高折射率層之支持 層以防止反射防止膜受傷之Λ Λ -高折射率微粒以使成以：’，二在此項硬塗層摻配 而，中〜高折射率層之2二ft，防止膜之層數。然 佳）之程度，而硬塗芦^w2〇〇nm(以5〇〜160⑽較 a的下形成較厚=度在確保充分之硬度之本來之 較佳，而以2〜5㈣之程声^之程因度’以1〜10 _之程度 折射率層用塗覆液相同二舜佳’因此，在使用與中〜高 射率硬塗層之場合，覆液以依照濕式法來形成高折 相比’更容易招致古式法形成中〜高折射率層之場合 惡化。況且，硬塗微粒之凝聚所引起之透明性之 述，分散劑具有一種姑t ’的是’具有高硬度，而如上 妨锓塗膜藉黏合劑硬化之性質，因

1225511 五、發明說明（5) 此’關於可摻配於硬塗層用 高折射率層用塗覆液更受到 劑’高折射率硬塗層用塗覆 折射率層用塗覆液所需要者 [發明之揭示] 本發明係鑑於上述實情所 供一種塗料組成物，可形成 定性以及低霧度之塗膜，且 再者，本發明之第二目的 形成一具有優異之分散性及 異之塗覆適性之大面積薄膜 本發明之第三目的在於提 膜後，可由黏合劑成分之硬 本發明之第四目的在於提 邱接層尤其洛氣殿積層具有 本發明之第五目的在於提 目的至第四目的中之至少一 之塗膜，有可能被用作已調 尤其適於至少一層之反射防 本發明之第六目的在於提 係由具有優異之如透明性， 膜厚之均勻性等各性能之透 本發明之第七目的在於提 其具備各在透明性，膜強度 塗覆液内之分散劑量，比中〜 限制。從而，為了減少分散 液所需要之條件，乃比中〜高 更加嚴格。 創之發明，其第一目的在於提 一具有優異之分散性及分散安 其保存性良好者。 在於提供一種塗料組成物，可 分散安定性之同時，亦具有優 者。 供一種塗料組成物，在形成塗 化而得到充分之塗膜強度者。 供一種塗料組成物，可得到對 充分之密合性之塗膜者。 供一種在使用可達成上述第一 目的之塗料組成物之下所得到 節折射率之高品質光學薄膜且 止膜之形成者。 供一種高品質之反射防止膜， 膜強度，對鄰接層之密合性， 光層之積層所構成者。 供一種高品質之反射防止膜， ’對鄰接層之密合性，膜厚之

1225511 五、發明說明（6) ----------- — 均勻性等各性能卜7 ^ ^ 4 優異之同時折射率亦充分高之高折射率 層及/或中折射率層者。 1別午 再者，本發明> μ 止膜，其呈備一：：：目的在於提供-種高品質之反射防 及低折射率々之=射率硬塗層，此層以中〜高折射率層 硬度，透明：時可充當一具有優異之各性能如 同反射膜之硬度之 寸叫捉 充田中〜面折射率層起作用者。 刀] 再者，本發明 > 结t 顯示裝置，各設有於提供反射防止薄膜及影像 本發明係可遠^1ί 的之反射防止膜者。 解決上过門％此寺目的中之至少一個目的者。 者 *問敎本發明係根據以下之基本原理所構成 A. f發明有關之塗料組成物 曰在解决上述問題之本發明有涂 在於該組成物為，至少由⑴有二:光成物，其特徵 或消失之無機化合 ：：吏先觸媒活性降低 〜〇」…二=合:上If機金屬化合物之具有U〗 射線硬化性之黏合= 石^m(2)電離放 散劑，以及⑷有機溶劑所構成者 子性極性基之分 本發明有關之塗料組成物由於 氧化鈦，而可容易調節塗膜之折射之金紅石型 成物中…使氧化欽均勾且安匕，發明之塗料組 疋刀放，與氧化鈦一起摻 第9頁 C:\2D-roDH\91-04\9U00455.ptd 1225511

酉己有-具有陰離子性極性基之分散劑。此外，在本發明之 j組成物中，該氧化欽被覆有一無機化合物之同時，被 =一 I陰離子性極性基之有機化合物及/或有機金屬化 ":子軋化鈦使用有機化合物或有機金屬化合物以施加 表面處理而賦予對黏合劑成分等之親和性 步提高塗覆液中之氧化鈦之分散性。 精此進 述之塗料組成物有可能使高折射率之氧化鈦超 试拉充刀为放，又由於亦具有優異之分散安定性，有可能 用量抑制至少量之程度，而在該塗料組成物 塗後於被塗物面上之後經過電離放射線之照射而硬化時， 可藉此得到光學構件（如反射防止膜等）所需要之高折射率 及南透明性之同時，得到充分之塗膜強度及對鄰接層之穷 即，本發明之塗料組成物由於具有陰離子性極性基之分 散劑之摻配及具有陰離子性極性基之有機化合物及/或有 機金屬化合物之覆被，具有關於氧化鈦之優異之分散性及 分散安定性，可形成一已調節折射率之透明膜，其霧度低 且膜強度及對鄰接層之密合性亦均良好者。 再者，本發明之塗料組成物又具有很長之適用期。再 者，本發明之塗料組成物又具有優異之塗覆適性，而可容 易形成均勻之大面積薄膜。 此外，在^發明中，利用無機化合物來施行氧化鈦之表 面處理以使氧化鈦減低或失去光觸媒活性後再予以使用， 因此，難於發生隨著黏合劑成分之劣質化所發生之塗膜強

五、發明說明（8) 度’或反射防业性能降低之原因之黃變現象。 $節2 ί封ΐ ί塗料組成物若從可由改變氧化鈦摻配量來 以推斷，則適於中折射率[高折射 手漕次阿折射率硬塗層之形成。 其具備各m:明膜：j供：種高品質之反射防止膜， 均勻性等各性能上優=時：：=之密合性，膜厚之 層及/或中折射率層者门“斤射率亦充分高之高折射率 膜再=且：照明，亦可提供一種高品質之反射防止 低折射率層之底層形成時可南折射率層及 反射膜之硬度之:3=性，膜厚之均句性等而提高 當中〜高折射率層起作用者。、斤射羊问，亦可充 在此場合，使該高折射率 狀，以製成—種p:::硬塗層之表面形成細微凹凸形 為氧LU 層起作用之硬塗層亦可。 為巩化鈦被覆用之上述無機化合物， 化鋁，氧化矽，氧仆铉， _ k田使用選自氧 化錫（ΑΤΟ)，摻雜有錫負虱化錫，摻雜有銻之氧 〇摊有錫之虱化銦（ΙΤ0)，捩雜古此

(FT0)所構成一群之化合物。 鼠之氧化J 陰離子性極性基之側鏈結合於具有二成鍵之骨側架鍵之或主， 1225511 五、發明說明（9) 而得到之分子構造，且具有數平均分子量2,〇〇〇至2〇 〇〇〇 之化合物。 為電離放射線硬化性之黏合劑成分，最好能使用具有陰 f子性極性基之黏合劑成分。具有陰離子性極性基之黏合 f成分對氧化鈦有⑧度親和性而以分散助劑起作用，因此 提高塗料組成物中及塗膜中之氧化鈦之分散性， ^散劑使用量之效果’因此較佳。由於分散劑不 ： :劑起作用，減少分散劑之配比即可企求塗膜強度之提-、 南〇 為上述黏合劑成分，最好能使用在分子中留存有_ 3。經基為陰離子性之極性基而對氧化鈦有高度親二：， 因，，具有經基之黏合劑成分充當分散助劑起作用

可能減少上述分散劑之摻配量。 I 黏合劑成分以具有氯鍵形成基為陰離子性極性基 合適。在黏合劑成分具有氫鍵形成基之場合， ：： 之存在，有可能提高硬塗層、中折；；層加；折=氣鍵 低折射率層、透明導電層等之鄰接層互相之間之宓二=、 尤其在使用一種摻配有含氫鍵形成基黏合劑成二二^二 組成物來形成中〜高折射率層之場合，可在該中〜古塗枓 率層上形成高密合性之蒸積（暫代表”蒸氣澱積，，，回折射 同）膜例如氧化矽（SiOx)蒸積膜，因此非常有用。下皆 為具有氫鍵形成基之黏合劑成分，具體""可使用在八 具有經基之黏合劑成分。為在分子中具有經基之勘^劑成

C: \2D-mDE\91 -〇4\91100455 .ptd 第12頁 1225511 五、發明說明（ίο) 分，可適當使用異戊四醇多 多官能丙烯酸黯、里& ^夕丙烯义Sa、二（異戊四醇） (異戊四醇)多官心官能甲基丙烯酸酿、或二 殘留有異戊四醇；甲(基:戊=。此等化合物在其分子中 在本發明有關之中〜高折射率工I 經鍵形成基之同時，所鄰二二j =折射率硬塗層含有 合，可得到特優之密合性。層亦“經鍵形成基之場 為含有經鍵形成基之鄰接 濺鑛法來形成氧化鈦^ =用屬於乾式塗法之 者，為低折射率層，有時= =㈣層。再 者，有時來形成氧化石夕⑽X)膜。再 成透明導電層。再者，彳時亦發 ^物之濕式法來形 塗法來形成ΑΤΟ蒸積膜或IT〇蒸積膜以^ 即利用乾式 在以往之情形，在利用濕式法所形$:;明：電層： i二;;j】”來形成氧化鈦膜或氧化石夕：：ΐ ΐ率f >去付到充/刀之岔合性，其膜容易剝離。目口 : 本發明，按照使用一摻配有含氫鍵步装、b相對地，依據 塗料組成物之濕式法來形成中〜高折：二：：”成分之 塗層時，可藉此按乾式塗法以良好之或向折射率硬 高折射卑層上，因此非常有用。 口 ’丨成膜於該中〜 在使用一具有陰離子性極性基（如氫 黏合劑成分之場合，具體上可按相對.土專）之較佳 ^耵於虱化鈦10份（重量）

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五、發明說明（11) 之上述黏合劑成分4〜20份（重量）及具有陰離子性極性基 =散劑2〜4份（重量）之比率予以摻配。此項配比（摻酉土己 比率）乃對中〜高折射率層用之塗料組成物特別八適。 再者，按一種以氧化鈦10〜20份（重量）基準之"上k 人 劑成分（在分子中具有陰離子性極性基者）4〜4 〇份 ^ σ ^分散劑2〜10份（重量）之比率含有此等成分之=里 物尤其適於高折射率硬塗層之形成。 、、取 為氧化鈦被覆用之上述有機化合物，可適當 酸。再者，為氧化鈦被覆用之上述有機金^ 、夂 ^ y. 佩至屬化合物，可適 畐使用矽烷偶合劑及/或鈦酸酯偶合劑。 ^ 為上述有機溶劑 劑來配製本發明有 塗覆於基材表面上 速度而難於發生乾 勻之大面積塗膜。 ，可適當使用酮系 關之塗料組成物， ’並且塗覆後之溶 燥不均勻，因此可 洛β °若使用酮系溶 則可容易以薄層均勾 劑可達到適度之蒸發 容易得到稀薄程度均

有時使硬塗層（作為反射防止膜支持層者）之表面形成细 j凹凸’以賦予充當防眩層之功能。若使用_系溶劑來配 衣本發明有關之塗料組成物，則此種細微凹-予以均勾塗覆，而可防止塗覆不均句之發生。之表面亦可 _ 此外，上述塗料組成物即使在硬塗層（具有非 到干涉色斑之透明面者）上亦可在不產生塗斑之下形 勻之反射防止膜，而具有非常優異之塗覆適性。再^，二 可在具有細微凹凸之表面之消光硬塗層上形成未具塗斑^ 膜0

1225511 五、發明說明（12) 本發明有關之塗料組成物 及/或2-甲基-1 [4-(曱硫）苯 光引發劑（p h 〇 t 〇 i n i t i a t 〇 r ) 關於有機溶劑之量比，以 固形分與有機溶劑之合計量 本發明有關之塗料組成物中 對地’以5 0〜9 9 · 5份（重量） 有機溶劑之使用量在此範圍 之適於長期保存之塗料組成 B ·本發明有關之塗膜 本發明有關之塗膜係將本 覆於被塗物表面上而使之硬 為由被覆有一使光觸媒活性 含陰離子性極性基之有機化 具有0·01〜0.1 //m範圍内之 具有陰離子性極性基之分散 而成之硬化膜。 此項塗膜具有高透明性及 控制來調整折射率，因此適 反射防止膜之透光層例如中 層0 亦可以含有1-羥-環己—笨基_ 基]-2_嗎啉丙烷-卜_以充當 〇 本發明有關之塗料組成物中之 為100份（重量）時’最好能與 之固形分0.5〜5〇伤（重$)相 之比率掺配上述有機溶劑。若 内，則可得到分散安定性特優 物0 發明有關之上述塗料組成物塗 化即可得到者。硬化後之塗膜 降低或消失之無機化合物及_ 合物及/或有機金屬化合物之 一次粒徑之金紅石型氧化鈦與 劑在硬化之黏合劑中均句混合 低霧度且可藉氧化鈦摻配量之 於^作一層或二層以上之構成 南折射率層或高折射率硬塗 再者，在此項塗膜中之黏合劑具有氫鍵形 對鄰接層尤其蒸積層之密合性則有改進。 琢口’ 依照本發明，在形成一硬化後之膜厚為〇· 〇5〜〇 2 之

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五、發明說明（13) 塗膜時，有可能將折射率調節以達到h55〜2.3〇之範圍 内，且將依照JIS-K73 6 1 - 1之規定之在與基材形成一體之 狀悲下所測定之霧度值抑制以使該霧度值與上述基材單獨 之霧度值相等或相差在1 %以内，而可形成中〜高折射率 再者，依照本發明，在形成一硬化後之膜厚為〇·2〜2〇 /z m之塗膜日才，有可此使折射率達到1 · & 5〜2 · 3 〇之範圍 内，且抑制JIS-K73 6 1 - 1所規定之霧度值，以使該霧度與 上述基材單獨之霧度值相等或相差在丨〇 %以内，而亦可形 成高折射率硬塗層。 C ·本發明有關之反射防止膜 本發明有關之反射防止膜為一種反射防止膜，其特徵 為，具有下述構造，即由單一之具有透光性之透光層所構 成之單層構造，或由二層以上之各具透光性之在折射率上 互相不同之透光層經過積層所得之多層構造， m 上述透光層中之至少一透光層為，由被覆有一使光觸媒 活性降低或消失之無機化合物及一含陰離子性極性基之有 機化合物及/或有機金屬化合物之具有〇 〜範圍 内之一次粒徑之金紅石型氧化鈦與具有陰離子性極性基之 分散劑在硬化之黏合劑中均勻混合而成之硬化層者。 D·本發明有關之反射防止薄膜 再者，本發明有關之反射防止薄膜具有下述特徵··即該 膜片為由上述反射防止膜以該反射防止膜之低折射率層可 位於觀賞面側之位置之方式在具有透光性之基材薄膜之至 1225511 五、發明說明（14) 少一面上積層而成者。 E·本發明有關之影像顯示裝置 再者，本發明有關之顯像顯示裝置具有下述特徵：即該 裝置為以上述反射防止膜之低折射率層可位於觀賞面側之 位置之方式對顯示面被覆以該反射防止膜而成者。 [發明之最佳實施形態] 在下文中，詳細說明本發明之内容。本發明有關之塗料 組成物為由至少下述之必要成分 (1)被覆有一使光觸媒活性降低或消失之無機化合物及一 含陰離子性極性基之有機化合物及/或有機金屬化合物之 具有0. 0 1〜0 · 1 # m範圍内之一次粒徑之金紅石型氧化鈦， (2 )電離放射線硬化性之黏合劑成分， (3 )具有陰離子性極性基之分散劑，以及 (4 )有機溶劑。 所組成之塗覆材料，有時依照需要含有其他成分。 依照使用該塗料組成物來進行之塗覆方法，#可能以良 好之效率形成已調節折射率并與 射防止膜之各種透光層ί = 二典型上構成反 層如中〜$折M + s >八中尤其被要求南折射率之透光 層々τ同折射率層、高折射率硬塗層等。 在上述必要成分中，惫曰 , 鈦為將使用本發明有Μ夕+斗泣 ;;㈣形成之塗臈之折射率調節至指定 成刀。虱化鈦具有向折射率且 適於充當折射率調節用之出八二色次成手未者色，因此 鈦礦型、以及非晶型=二氧化鈦包括金紅石型、銳 而本發明使用一種在折射率上比銳 第17頁 1225511 五 '發明說明（15) 欽礦型或非晶型為高之金紅石型之氧化鈦。 >田，2 :化鈦之大小’為了不降低塗膜之透明性而使用所 氧：鈦。在此超微粒"在一般係指亞微細 :及之粒子而B，意指其粒徑小於具有數_至數1〇〇//m粒 徑之一般所稱之”微粒"。即在本發明中使用一種具有 拉，0.01 _以上，且_以下（最好能為0 03 "以下^ 之軋化鈦。若平均粒徑小於〇 · 〇丨# m，則難於使之均勻 ’於^料組成物中，因而無法得到均勾分散有氧化鈦 粒之塗膜。再者，若平均粒徑超過〇· J # m

=二此不合適。關於氧化鈦之-次粒徑之測定； 用拎掐型電子顯微鏡（SEM)來施行目視之計測亦可，或J 二：用動態光散亂法或靜態光散亂法等之方法之粒度曰 计專之類來施行機械計測亦可。 布 氧化鈦超微粒之一次粒徑若在上述 :形狀為球狀或針狀或其他任何形狀，均可使;;:發粒 由於氧化鈦具有光觸媒活性，若 表面處3里之氧化鈦之塗覆液來有全然未經過 作用，使形成塗膜之黏合劑間‘化：鍵力則會發生光觸媒 強度’或引起塗膜之黃、變，易於吏匕：=斷而降低塗膜 化。因此，先使氧化鈦之表面被iC度或霧度惡 或消失之無機化合物後，再予以^用=媒活性降低 之例子，可例示如氧化鋁、氣 ^ 種無機化合物 金屬氧化物，如摻雜有銻之氧 t化鋅，氧化鍅等之 乳化錫（ΑΤΟ)，摻雜有錫之氧 第18頁 C:\2D-00DE\91-04\91100455.ptd 1225511

化銦（ITO)，摻雜有辞之氧化銦（IZ0)，摻雜有鋁之氧化 (AzO)，以及摻雜有氟之氧化錫（FT〇)等之導電性複合凰 氧化物等’將其中之一種氧化物予以單獨使用或將其中之 一種以上之氧化物予以組合使用均可。 為了使氧化鈦微粒之表面被覆有無機化合物，對一 化欽微粒分散於水中而得到之分散液中，添加所欲被覆乳 (在該表面上）之無機化合物之鹽，或添加可藉水解 生所欲被覆之無機化合物之有機金屬化合物，而予以改綠 pH及/或溫度條件，以使所想要之無機化合物在物理化/ 上吸附於氧化欽微粒之表面上。 再者 氧化鈦 之氧化 在氧 為目的 散性為 關之塗 述具有 金屬化 一步提 基對氧 子性極 機金屬 為具

，在市面上出售之商品中亦有被覆有無機化合物$ 例士可自石原產業”公司購買一種被覆有 鈦” TT052 (A)，，（商品名）。

化鈦之表面上被覆有一以光觸媒活性之降低成消多 之無機化合物，亦被覆有一以提高有機溶劑中之S 目的之有機化合物或有機金屬化合物。在本發明肩 料組成物中，摻配有以氧化鈦之分散為目的之如德 陰離子f極性基之分散劑，而用有機化合物或有機 ΐ物，氧化鈦施加表面處理以賦予疏水性時，可遠 间塗覆液中之氧化鈦之分散性。由於陰離子性極担 化欽之親和性彳艮高，在本發明中特別使用具有陰离食 性基之有機化合物及/或具有陰離子性極性基之有 化合物以對氧化鈦施加被覆。 有陰離子性極性基之有機化合物可使用具有如羧

五、發明說明（17) 基、磷酸基、羥基等之降離； 例干额Ht舻日扯Z 子性極性基者，為其例子，可 1夕J不硬脂酸、月桂酸治赫、 ^ Λ ^ r " 亞麻仁油酸、次亞麻仁油、 氧r-—(異戊四知）五丙烯酸酯、Ε0(環 等。 岬四文転，交性丙三醇三丙烯酸酯 再者，為具有陰離子性極性基 石夕燒偶合劑及/或鈦酸酯偶合劑。 之有機金屬化合物可使用 為石夕烧偶合劑，具體可例示3—縮水甘油氧丙基三甲氧石夕 =、3-縮一水'油氧丙基曱基二曱氧石夕燒、2一（3,4一環氧環 片乙基一曱氧矽烷、3 -胺丙基三乙氧矽烷、卜胺丙基三 氧石f烷、N-(2 -胺乙基）3 -胺丙基曱基二乙氧矽烷、3 —毓 丙基三^氧矽烷、乙烯基三曱氧矽烷、乙烯基三乙氧矽 烧乙稀基叁（2-甲氧乙氧）石夕烧、3—曱基丙稀醯氧丙基三 曱氧矽烧等。 一 為鈦酸酯偶合劑，具體可例示由”味之素,，公司在市面上 所出售之產品名"PLENACT”KR-TTS，KR-46B，KR-55，KR〜

41B ， KR一38S ， KR一138S ， KR-238S ， 338X ， KR-44 ， KR-9SA ’ KR-ET等之物，此外，亦可使用四曱氧鈦、四乙氧鈦、 四異丙氧鈦、四正丙氧鈦、四正丁氧鈦、四第二丁氧鈦、 四第三丁氧鈦等之金屬醇鹽。 為氧化鈦之表面處理用之有機化合物及/或有機金屬化 口物’尤其較佳的是，使用偶合劑及有機羧酸。再者，在 ，用後述之_系溶劑之下配製塗料組成物之場合，較佳的 是’使用偶合劑，以及硬脂酸、月桂酸、油酸、亞麻仁油

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1225511 五、發明說明（18) 種以上之酸之組 酸、次亞麻仁油酸中之一種酸（單獨） 合’藉此可得到充分之分散性。 為了將氧化鈦之表面被覆以有機化合物及/或有機金屬 化合物而賦予疏水性，預先使具有陰離子性極性基之有機 化合物及/或有機金屬化合物溶於有機溶劑中（以形成一溶 液），而在此溶液中使尚未施加或已施加無機化合物表面 處理之氧化鈦分散後，將有機溶劑完全蒸發除去即可達成 被覆。 再者，在使用無機化合物及有機化合物之雙方之下完成 被覆之氧化欽亦存在於市售品中，例如可由，，石原產業，，公 司購買一種被覆有氧化鋁及硬脂酸之氧化鈦，其 TT051CC)。 電離放射線硬化性之黏合劑成分乃以必要成分被摻配以 使本發明有關之塗料組成物具有成膜性或對基材或鄰接層 之密合性。電離放射、線硬化性之黏合劑成分以未聚合之單 體或低聚物之狀態存在於塗料組成物中，因此使塗料組成 物具有優異之塗覆適性而$ I h 者，在塗覆後，使塗膜=面積薄膜。再 到充分之塗膜強度。 & w成分聚合及硬化即可得 為電離放射線硬化性之黏合劑成分，可使用一種且有被 應或受到引發劑之作用時电門子接泉Γ寺直接發生聚合反 自由基聚合性之單體或：取：要可使用具有乙烯性雙鍵之 一 δ*物’而依照需要與光引發劑組

C: \2D-CX)DE\91 -04\91100455 .ptd 第21頁 1225511 五、發明說明（19) " --- 合。然而，使用其他之電離放射線硬化性之黏合劑成分亦 有可行性二例如亦可以使用如含環氧基化合物之光陽離子 聚合性之單體或低聚物。將光陽離子聚合性之黏合劑成分 依照需要與光陽離子引發劑組合而予以使用。較佳的是， 黏合劑成分之單體或低聚物為具有2個以上之聚合性官能 基之多官能性黏合劑成分，俾可在黏合劑成分之分 產生交聯鍵。 Ί 為具有乙烯性雙鏈之自由基聚合性之單體或低聚物，具 體可例不如下：單官能（曱基）丙烯酸酯如（甲基）丙烯酸2一

羧士酯、j Γ基）丙烯酸2—羥丙酯、丙烯酸羥丁酯、丙烯酸 2 ^ 本氧丙酉曰、幾聚己内S旨丙稀酸g旨等；丙烯酸；甲 基丙烯，，丙烯醯胺；多官能（甲基）丙烯酸酯包括異戊四 醉二丙烯酸酯，二丙烯酸酯如乙二醇二丙烯酸酯、異戊四 醇二丙稀酸酯一硬脂酸酯等，三（甲基）丙烯酸酯如三羥曱 基丙烷三丙烯酸酯、異戊四醇三丙烯酸酯等，異戊四醇四 丙烯I S曰衍生物，二（異戊四醇）五丙烯酸酯等；或由此等 ^由基聚合性單體之聚合所得之低聚物。在此”（甲基）丙 烯酸酯之意義為丙烯酸酯及/或曱基丙烯酸酯。

在電離放射線硬化性之黏合劑成分中，具有陰離子性極 性基之黏合劑成分對氧化鈦之親和性很高而以分散助劑起 作用。從而’提高塗料組成物中及塗膜中之氧化鈦之分散 性，又具有減少分散劑使用量之效果，因此較佳。 黏合劑成分以具有陰離子性極性基中之氫鍵形成基者特 佳。在黏合劑成分具有氫鍵形成基之場合，除了可由陰離

η

第22頁 C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 1225511 五、發明說明（20) 一 子性極性基之效果來提高氧化鈦之分散性之外，由於具有 氫鍵’而有可能提高對鄰接層（如硬塗層、低折射率層、 中折射率層、高折射率層、透明導電層等）之密合性。 /在含有氧化鈦超微粒子之透光層之黏合劑成分具有氫鍵 ^成基時，硬塗層等之鄰接層亦含有氫鏈形成基之場 。，可藉氫鍵進一步提高兩者間之密合性，因此特別合 適。 〜!^ ί *用—#配有⑩合劑&分之塗料組成⑯來形成中 覆：冷J:】之場合，無論對於依照所謂之濕式法(將塗 膜形成面上而使之乾燥及/或硬化之方法)所 層，或對於“- 層、中折射率層、以及高折射率 相狀態之材料附著於皮膜η::之所明乾式塗法（使氣 形成之低折射率Γ、= ;:上，以細責之方法)所 得到優異之密合性。 …^ 以及咼折射率層，均可 形屬於乾式塗法之賤鍍法來 之回折射率硬塗層乃 Λ Λ 〜成基之膜顯示特停之玄人 在以往之愔形 ^ # 何1夂 < 岔合性 “ 在藉濕式法所形忠令； …^去寺之乾式塗法 阿折射率層 女；形成孔化鈦獏』、- ，)膜。氧化成氧切 對上述含有氫鍵形成基成刀而付到之高允以--. 或氧化矽膜 C:\2D-a®£\9〗-〇彻細 55.ptd 第23頁 1225511

五、發明說明（21) 之場合’無法得到充分之密合性，而容易發生氧化 膜之剝離，與此相對地，在使用一摻配有含氫鍵形 g貝 黏合劑成分之塗料組成物來形成中〜高折射率層之p :之 可在該中〜高折射率層上以良好之密合性形成^化J s ， (SiOx)蒸積膜等之乾式塗膜，因此非常有用。 再者，有時在防止帶電之目的下 精濕式法或乾式涂 ;反射：止膜中設置1T〇蒸積膜、AT0蒸積膜等之透明；Ϊ 層，而在該透明導電層上形成硬塗層。又按，為 ^ ^ 亦可以形成一種具有異方導電性（即，膜面方向之歸'、曰’ 阻率而於膜厚方向之體積電阻率）之硬塗層。在形成且“ 或未具有此種異方導電性之硬塗層之場合亦同樣'在具有 導電層上塗覆一摻配有含氫鍵形成基之黏合劑成分之j 組成物即可形成對透明導電層具有良好密 ^ 硬塗層，目此非常有用。 性之-折射率 在依照濕式法形成透明導電層之場合，在使用一含言 形成基之黏合劑成分之下形成透明導電層時，可氣鍵 明導，層亦含有大量之氫鍵形成▲，而在其與含‘鍵3 基之南折射率硬塗層之間得到特優之密合性。為透明^ “ 之黏合劑成分，可例示具有經基(即-種氫鍵形電 成基）之胺曱酸酯系丙烯酸酯樹脂。在依照乾式塗法妒 透明導電層之場合，可得到如：[T0蒸積膜、AT0蒸"積膜^、 金屬氧化物蒸積膜，而由於含氧原子之金屬氧化^伯=^ 膜組成分之大部分，可容易形成氫鍵，而在透明導電芦盘 含氮鍵形成基之高折射率硬塗層之間可得到充分之资:人

1225511 五、發明說明（22) 性。又按，為了形成具有異方導電性之高折射率硬塗層， 將異方導電性賦與用之導電性微粒與具有氫鍵形成基之黏 合劑成分一起摻配於本發明有關之高折射率硬塗層用塗料 組成物，而予以塗覆於透明導電層上即可。為異方導電性 賦予用之導電性微粒，可例示已被金及/或鎳施加表面處 理之有機珠粒。 為含氫鍵形成基之黏合劑成分，具體可使用在分子中擁 有羥基之黏合劑成分。為在分子中具有羥基之黏合劑成分 ，可使用異戊四醇多官能（曱基）丙烯酸酯或二（異戊四醇） 多官能（曱基）丙烯酸酯，其在分子中殘留有羥基之黏合劑 成分者。即，此種黏合劑成分雖然由1分子之異戊四醇或 二（異戊四醇）與2分子以上之（曱基）丙烯酸形成酯鍵，但 異戊四醇或二（異戊四醇）原有之羥基仍有一部分保持未被 酯化之狀態，例如，為此可例示異戊四醇三丙烯酸酯。異 戊四醇多官能（曱基）丙烯酸酯或二（異戊四醇）多官能（曱 基）丙烯酸酯由於在其分子中具有2個以上之乙烯性雙鍵， 可在聚合時發生交聯反應而得到很高之塗膜強度。 為自由基聚合引發用之光引發劑，例如可使用苯乙酮 類、二苯基酮類、縮酮類、蔥醌類、9 -氧二苯并硫哌喃 類、偶氮化合物、過氧化物、2，3 -二烷基二酮化合物類、 二硫化物類、硫胺甲酸化合物類、氟胺化合物等。更具體 地，可例示1-羥-環己-苯基酮、2-曱基-1-[ 4-(曱硫）苯 基]-2-嗎啉丙烷-1-酮、苄二曱基酮、1-(4_十二基苯 基2 -經-2-曱基丙烧-1-酮、2 -經-2-曱基-1-苯基丙烧

C:\2D-CGDE\91-04\91100455.ptd 第25頁 1225511 五、發明說明（23) ------- -1-酮、1-（4-異丙苯基）-2-羥-2〜曱基丙烷一！-酮、二苯基 酮等。其中之1-羥-壞己-苯基鲷、及2一甲基一卜^一（曱硫） 苯基]-2-嗎啉丙烷_1-酮，即使是少量亦可在受到電離放 射線之照射時引發聚合反應而促進該反應，因此均適於使 用於本發明。將此等二化合物中之任一方予以單獨使用， 或將雙方組合使用均可。此等化合物亦存在於市面上所出 售之商品中，例如為卜羥-環己-笨基酮，可按，，Irgacure 184” 之商品名從” Ciba Speciality Chemicals κ· κ"公司 購買此物。 具有陰離子性極性基之分散劑乃具有對氧化鈦顯示高親 和性之陰離子性極性基，而為了對氧化鈦賦予分散性，被 摻配於本發明有關之塗料組成物中。相當於陰離子性極性 基者，例如為魏基、鱗酸基、經基等。 為具有陰離子性極性基之分散劑，具體可例示由” B i g Chemie Japan Corp”公司以"Disperbyk·，之商品名供給之 商品群，即，Disperbyk-111、Disperbyk-ll〇、

Disperbyk-116 、Disperbyk-140 、Disperbyk-161 、 Disperbyk-162 、Disperbyk-163 、Disperbyk-164 、 Disperbyk-170、Disperbyk-171、Disperbyk-174、

Disperbyk-180 、 Disperbyk-182 等。 若使用其中之具有一種由如上所述之陰離子性極性基所 構成之側鏈或含陰離子性極性基之側鏈結合於具有環氧乙 烷鏈骨架之主鏈而得到之分子構造，且具有數平均分子量 2，0 0 0至2 0，0 0 0之化合物，則可得到特別良好之分散性，

C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 第 26 頁 1225511 五、發明說明（24) ^ 2t二數平均分子量可依照GPC(凝膠滲透層析）法測 疋之。，合此種條件者，包括± ι

Disperbyk 163 。 p ^ 在使用上述塗料纟且占a 對塗料組成物摻配：形成高折射率硬塗層之場合’ 時，可藉此使高折射^;(如有機系微粒等）而予以塗覆 對該層賦予防眩層之功At主層之表面形成細微凹凸狀，而 光材，具體可使用一且=。在此，為細微凹凸形成用之消 10. 〇 程度（以i〜u、n有依照SEM觀察之平均粒徑〇. 5〜 克力珠粒。 · / m程度較佳）之苯乙烯珠粒或壓 再者，用一具有較佳 表面之PET膜片，以對涂、面形狀之金屬版或具有消光調 加工，而在此狀態下經^*組成物之塗膜施壓以實行壓紋 片即可在高折射率硬涂硬化後，除去金屬版或PET膜 關於本發明之塗料=二ί面上形成細微凹凸。 機溶劑並未特別受到限制，所3固形物之溶解分散用之有 下述者：如異丙醇、曱1而可使用各種有機溶劑，例如 酮、甲基異丁基酮、環子己上醇等之醇類；如甲基乙基 丁酯等之酯類；_化烴；^ ^酮類；如乙酸乙酯、乙酸 或此等溶劑之混合物Γ ’ °甲苯、二甲苯等之芳香族羥； 在本發明中，最好炉你 劑來配製本發明有關之塗：=2有機溶劑。若用嗣系溶 塗覆於基材表面上，並且;^則可容易以薄層均句 發速度而難於發生乾焊 保持適度之溶劑之蒗 孔知不均勻，因此 N之瘵 J 4易侍到稀薄程度

C:\2D-00DE\91-04\91100455.ptd 第27頁 1225511 五、發明說明（25) 均勻之大面積塗膜。 為了對充當反射防止膜之 功能，有時使該硬洽層之 寺^之硬塗層賦予防眩層之 覆本發明有關之塗料組成物以微凹凸，而在其上塗 層。若用酮系溶劑來配製本明：中折射率層或高折射率 此種細微凹凸之表面亦可均有關之塗料組成物，則對 為酮系溶劑，可使用由—種=覆而可防止乾燥不均勻。 種以上之嗣所構成之混合溶；之單獨溶劑：由二 酮一起含有其他溶劑而未失 ^種或一種以上之 用含有一種或二種以上^「去_溶劑之性質者。最好能使 以上，f +、 ·同（以〉谷劑總重為基準時）70wt% 以上尤其80wt以上之酮系溶劑。 吏用酮系溶劑，並且使氧 如上述之有機化合物及/或有機金 #彳後有 積薄膜。在此場合亦更佳w异 易形成均勻之大面 分散南丨# m 為具有陰離子性極性基之 刀政j使用如上所述之環氧乙烷系之分散 :::子性極性基所構成之側鏈或含性 氧乙炫鏈骨架之主鏈而得到之分子二 且八有數平均为子量2, 0 0 0至20, 0〇〇之化合物。或 黏合劑成分，亦有效的是，使用異戊四醇多官能（·，·、 :t酯或二（異戊四醇）多官能（甲基）丙烯酸酯土 中殘留有羥基之黏合劑成分。 十 J::有關之塗料組成物以必要成分含有氧化鈦，電離 放射、·泉硬化性之黏合劑成分，具有陰離子性陰性基之分散

五、發明說明（26) 劑，以及 合劑成分 例如，依 面調整劑 各成分 氧化鈦1 0 及具有陰 以摻配。 性極性基 作用，可 量。由於 時可藉此 句飛溶劑 之聚合引 照需要γ ，氧化錯 之摻配比 份（重量） 離子性極 但在黏合 之劑物之 大巾S減少 分散劑不 企求塗膜 ’而依照 發劑，此 使用紫外 ，摻雜有 率可予以 基準之上 性基之分 劑成分係 場合，由 具有陰離 會以黏合 ^虫度之提 需要含有電離放射性硬化性黏 外，亦可以摻配有其他成分。 線遮蔽劑，紫外線吸收劑，表 銻之氧化錫（ΑΤΟ)等。 適當調節，一般而言，按照以 述黏合劑成分4〜20份（重量） 散劑4〜1 0份（重量）之比率予 使用一種在分子中具有陰離子 於該黏合劑成分以分散助劑起 子性極性基之分散劑之使用 劑起作用，減少分散劑之配比 南 〇

具體而言’可按氧化鈦1〇份（重量）基準之具有陰離子性 極性基之黏合劑成分4〜2 〇份（重量）及具有陰離子性極性 基之分散劑2〜4份（重量）之比率予以摻配。此項配比尤其 適於中〜高折射率層用之塗料組成物。

再者，按氧化鈦10份〜20份（重量）基準之上述黏合劑成 分（在分子中具有陰離子性極性基者）4〜4 0份（重量）及分 散劑2〜1 0份（重量）之比率含有上述各成分之塗料組成物 尤其適於高折射率硬塗層之形成。此外，此高折射率硬塗 層用塗料組成物為了具有充當防眩層之功能，亦可以掺配 有按前者組成之1〜20份（重量）及按後者組成之1〜5份（重 量）之各比率摻配有有機系微粒等之消光材粒子。 在使用光聚合引發劑之場合，相對於黏合劑成分1 〇 〇份

C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 第29頁 1225511 五、發明說明（27) (重量2 ’通常按3〜8份（重量）之比率摻配光聚合引發 配f後之：ί Ϊ劑Ϊ乃以可令各成分均句溶解分散，而在 發生凝聚’且在塗覆時不致形成太薄之 ι=ΐ 適當調節。較佳的是，在滿足此等條件之

Ur容劑之使用量以配製高濃度之塗料組成物，以 不i佔肽知之狀態下予以保存，在要用時取出所需要之旦 =::稀釋至適於塗覆作業之濃度。在本發明巾，在4 機溶劑之合計量為100份(重量)之下，按照又包 之5〇〜95刀二其他^成分之全固形分0· 5〜50份（重量）基準 種:=:rr;r'r 適於料 々】便用上述各成分來配製本 ^ 依照塗覆液之-般配製法施加;月=之塗料組成物， 必要成分及各指定成分按任選之;υ即可。例如，將各 等之媒體投入所得到之混合物，而予以混合後，將珠粒 磨機等之類適當施加分散處理」用油漆搖動機、珠粒 如此得到之塗料組成物係由_；:传到塗料組成物。 具有所指定之—次粒徑且被：：要：分所構成’即由 及/或有機金屬化合物之金έχ石…'―板化合物及有機化合物 線硬化性之黏合劑成分，以及罝ι乳化鈦粒子，電離放射 劑在有機溶劑中溶解分散而成ϊ=陰離子性極性基之分散 上所被覆之有機化合物及/或趟、中之氧化鈦粒子乃藉其 有拽金屬化合物以及具有陰

1225511 五、發明說明（28) 離子性極性基之分散劑均勻分散於塗料組成物中y 本發明有關之塗料組成物由於具有陰 推:陰離子性極性基之有機化合物及/或有 $:η:,被’具有優異之氧化鈦之分散性及分散 常低之霧度十控制本發明有關之塗 枓..且成物中之乳化鈦之摻配量以調節折射 組成物塗覆於被塗物（如基材等）之表面上，而使之= 硬化時’可得到一種具有所指定之折射率 ' 及低霧度之塗膜。從而，本發明有關之塗料組^ = 層或二層以上之構成反射防止膜之層之 由改變氧化鈦摻配量來調節之折射率範=斷右 於中折射率層、高折射率戶、 予乂推断，則適 a去，太恭日日士 丰層或同折射率硬塗層之形成。 再者本毛月有關之塗料組成物由於豆長划 性亦優異而且有很長之適用•，即使在長 心^ ^ 有向透明性及低霧度之塗膜。 此外，本發明有關之塗料組成物淨 易以薄層廣泛且均句塗覆於被塗物表面：塗=生， 句勻：大面積缚膜。尤其在使用酮系溶劑4 之站度，又由於_系溶劑蒸發速度命低者， f jI度 燥不均句’尤其容易形成均句之大；積薄膜，難於發生乾 將t發:月之塗料組成物塗覆於被塗物(如 上，使之乾紐，而藉電離放射線硬化才之表面 無色透明且低霧度之泠暄。4 s θ > j错此形成實質 明塗膜可利用以二2二:ί”調節之折射率之透 作各種先學物品之光學薄膜。尤其非常

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五、發明說明（29) 適於反射防止膜所含之透光層。 關於本叙明之塗料 酯纖維素（TAC)、节f+敲_ &一狀/仞玻离板，二乙酸 w从主 對酞I乙—酯（PET )、二乙醯纖维去 纖維素·乙酸酯·丁醅、繫科π 、戰、、隹素、 ^ ^ ^ 〗S夂自日 ♦喊颯、丙烯酸系樹脂、取… 曱酸酯糸樹脂、聚酯、枣石卢醅 艰月女 ,^ 來S日 承峽馱酯、聚颯、？《醚、二甲Α屮

烯、聚醚酮、（甲其、石略眸笙一 Τ基戊 辇古技麵々r甲基）烯之各種樹脂所形成之膜片 尋。支持體之厚度诵1 A 又、吊為〜l〇〇〇//m之程度，而以5〇 //m 〜190//m較佳。 βΑϋυ ”組成物可藉例如旋塗法、浸塗法、喷塗法、滑塗 ^=塗法、輥塗法、彎月型塗機法、fiex〇graphy(一種 使=彈性凸版及液狀油墨之凸版輪轉印刷法）、珠粒塗機 法專之各種方法塗覆於基材上。 將本發明有關之塗料組成物按所指定之塗覆量塗覆於被 塗物（如基材等）表面上之後，通常利用烘箱等之加熱裝置 予以加熱乾燥，然後照射電離放射線（如紫外線、電子線 等）以使硬化即可形成塗膜。 如此得到之塗膜係由被覆有一使光觸媒活性降低或消失 之無機化合物及一含陰離子性極性基之有機化合物及/或 有機金屬化合物之具有〇 · 0 1〜0 · i # m範圍内之一次粒徑之 金紅石型氧化鈦，和具有陰離子性極性基之分散劑，在硬 化之黏合劑中均勻混合而成者，但亦可以依照需要含有其 他之成分。 由本發明得到之塗膜（硬化層）可適當被利用以充當一層

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或二層以亡之構成反射防止膜之層，尤其若從可由改變氧 化鈦摻配量來調節之折射率範圍予以推斷，則適於中〜高 折射率層之形成。依照本發明，在形成一具有硬化後之^ 厚0 · 0 5二0 · 2 // m之塗膜時，有可能將折射率調節在1 · 5 5」 2· 30之範圍内，並且有可能將依照JIS_K73 6 1 —丨之規定之 以與基材形成一體之狀態下所測定之霧度值抑制以使該霧 度值與上述基材單獨之霧度值相等或相差在丨％以内。 再者，由本發明得到之塗膜亦適於高折射率硬塗層之形 成。依妝本發明，在形成一具有硬化後之膜厚〇 · 2〜2 #爪 之塗膜時，有可能使折射率達到L 55〜2· 3〇之範圍内，並 且有可能抑制依照JIS_K73 6卜1所規定之霧度值，以使該 霧度值與上述基材單獨之霧度值相等或相差在丨〇%以内， 而亦可形成高折射率硬塗層。 本發明有關之塗膜可適當被利用以形成反射防止膜。反 射防止膜在原理上至少具備高折射率層及低折射率層之同 時，進一步具備一層或二層以上之中折射率層亦可，而係 由上述之高折射率層、中折射率層、以及低折射率層以折 射率之高低可交替地且使低折射率層可位於最靠近觀賞面 側之位置之方式積層而成者。但，即使在使用反射防止膜 來被覆之面（例如影像顯示裝置之顯示面等）僅設置一層之 透光層之情況，在被覆面本身之折射率與透光層之折射率 之均衡恰到好處之場合亦可得到反射防止效果，因此亦有 可能製成單層構造之反射防止膜。 再者，關於反射防止膜，通常在基材薄膜、影像顯示媒

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體等之支持體之表面上，首先設置 止膜觥+古八 — 儿又罝硬塗層，藉此對反射防 止Μ賦予充分之硬度，而在該硬塗 射率層、中折射率;|、低折射率層：上’置如上…折 再者，有時設置一種同時具有充分 可發揮硬塗層之功能及中〜高折射率 可，而將上述之高折射率硬塗層、θ高折射 υ:射率層、以及低折射率層以折射率之高低可交 ^ ^而$南率硬塗層可位於最靠近與顯示媒體接觸之 接，面側之位置且使低折射率層可位於最靠近觀賞面側之 位置之方式予以積層即可設定反射防止膜。 、此外，有時在反射防止膜設置一種帶電防止功能之賦予 為目的之由ΙΤΟ或ΑΤΟ等所構成之透明導電層，或在低折射 率層之表面設置由氟系界面活性劑或氟系聚矽氧塗覆劑等 所構成之防污層。 如上述之各種層均為具有透光性之透光層，而反射防止 膜係具有下述構造，即由單一气具有透光性之透光層所構 成之單層構造，或由二層以上之各具透光性之在折射率上 互相不同之透光層經過積層所得之多層構造。本發明有關 之塗膜可用以形成被含在此項單層型反射防止膜或多層型 反射防止膜内之一層或二層以上之透光層。 從而’將本發明有關之上述塗料組成物塗覆於待該組成 物加被覆之面上而使之硬化即可得到一種反射防止膜，

C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 五、發明說明（32) 其特徵為，具有下•德1 層所構成之單層構J構；由即二單-之具有透光性之透光 射率上互相或由一層以上之各具透光性之在折 上述透光層；： = = :層所得之多層構造， 活性降低或消失之Α二:為，由被覆有一使光觸媒 機化人& 1/ -¾ t ，、，、枝化5物及—含陰離子性極性基之有 钺化σ物及/或有機金屬化 内之一次粒徑之金红石刑#儿初之具有〇.01〜〇.1 靶圍 分散劑在硬化之黏合匕陰離子性極性基之 上述之硬化展r 士 * 句合而成之硬化層者。 同時可設定其“X為H關之塗膜)具有優異之透明性之 折射㈣，而亦可用作言=’該，化層主要可用作中 按，將多層型反射防卜^ 、η層或尚折射率硬塗層。又 折射率層，折射率之$折=率最高之層予以稱為高 他之具有中間性折率^ ^稱為低折射率層，而將其 將上述之硬化予以稱為中折射率層。 射率硬塗層之表^ 1射率硬塗層之場合，使該高折 層起作用之硬Γ凹凸形狀’而製成一種以防眩 形狀之賦予方法^ =折射率硬塗層表面之細微凹凸 於基材上，對此：行1:::率=層4Γ組成物塗覆 予該形狀。更塗層用塗料組成物塗覆於基材上，藉此賦 若設定填料（在使充當高折射率硬塗声 ί;;;:微凹凸形狀之目的下所添：者) 點5劑之折射率之差值ΛΓϋ(Π^η< t C:\2D-CODE\91-O4\911〇〇455

Ptd 第35頁 1225511 五、發明說明（33) 填料之平均粒徑d通常為i ，以1 // m較佳，則可有效抑制由防眩層之凹凸形狀及顯示裝置 之透光所產生之眩光現象，而得到視認性更佳之顯示（裝 置）。 尤其在使用一種按氧化鈦1〇份（重量）基準之在分子中具 有陰離子性極性基之上述黏合劑成分4〜2 0份（重量）及分 散劑2〜4份（重量）之比率含有上述各成分之塗料組成物 時’可藉此形成高折射率層及/或中折射率層，其膜厚為 〇·〇5 〜0.2//m，折射率為155 〜2.30，且 JIS-K7361-1 所 規定之霧度值為與上述基材單獨之霧度值相等或相差在1〇/〇 以内者。 再者’在使用一種按氧化鈦丨〇〜2 〇份（重量）基準之在分 子中具有陰離子性極性基之上述黏合劑成分4〜4 0份（重 里）及分散劑2〜1〇份（重量）之比率含有上述各成分之塗料 組成物時’可藉此形成高折射率硬塗層，其膜厚為〇. 2〜 20 //m，折射率為丨· 55〜2· 30，— 所規定之霧 度值為與上述基材單獨之霧度值相等或相差在丨〇%以内 者。 將本發明有關之塗料組成物塗覆於依照需要預先形成有 一層或二層以上之任一透光層之支持體上，予以乾燥後， 利用電離放射線之照射使之硬化時，可藉此形成一種由被 覆有一使光觸媒活性降低或消失之無機化合物及一含陰離 子性極性基之有機化合物及/或有機金屬化合物之具有 〇· 01〜〇· 1 //m範圍内之一次粒徑之金紅石型氧化鈦與具有

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1225511 五、發明說明（35) 〜 ------ 光器以透明電極層5、7可彼此面對之方式隔著一定之間隙 2相對’在周圍被密封材8黏合，在罩部封閉有液晶l， 在月面側之玻璃基板6之外表面上形成有取向膜9 ’在顯示 面側之玻璃基板}之外表面上貼有偏光薄膜1〇，而在後 配置有背後照明單元1 1。 圖2為以示意式展示被貼在顯示面 上之偏光薄膜!。之斷面之圖。顯示面 二m =烯醇（P爾所製之偏光元件】面偏;^ =係在 型反射防止膜1 7者，此偏光薄膜亡=成有硬塗層1 6及多層 面側之玻璃基板1上。 彳、精由黏著劑層1 5貼在顯示 硬塗層16可由二（異戊四醇）丄 能丙烯酸系單體經過溶 ^烯酸酯（DpHA)等之多官 之。 J稀釋後错凹版塗法等之方法形成 硬塗層1 6為 或為防眩性硬塗層 機填料分散於 1 6之表面形成 其充當一具有 、又边明之硬塗層亦可，戍為 亦可。即，利用壓紋加工或利 = 該硬塗層16之内部之方法等，以使該= 形成細微凹凸 樹脂之折射率 均粒徑d通常j 則可有效抑制 ::::凸：狀#，可藉此成為-種硬塗Ϊ : =戒耵之功忐之防眩層起作用者。 再者，若設定填料(在使 用者 形狀之目的下所添加者 = 之差值心為0.心 1 q _ 較佳，

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由防眩層之凹凸形狀及顯示裝置之透光所產生之眩光現 象’而得到視認性更佳之顯示（裝置）。 將上述之硬化層用作高折射率硬塗層之場合，使該高折 射率硬塗層之表面形成細微凹凸形狀，而製成一種以防眩 層起作用之硬塗層亦可。高折射率硬塗層表面之細微凹凸 形狀之賦予方法為，將南折射率硬塗層用塗料組成物塗覆 於基材上，對此施行壓紋加工，或將分散有無機或有機 料之高折射率硬塗層用塗料組成物塗覆於基材上，藉此賦 予該形狀。 曰

又按，亦可以將硬塗層1 6設定為未具細微凹凸形狀之透 ^硬塗層，而在其上使用本發明有關之塗料組成物來形成 具有可电揮防眩功此之細微凹凸形狀之高 率層成 折射率層。在此場合可用與具有防眩功能之高斤：：率^ :相f之方法來形成，例如使用一種分散有無機或有機粒 之兩或中折射率層用塗料組成物，或對高或中折射率層 之表面施行壓紋加工。 v夕層型反射防止膜1 7之部分具有一種從背後眧明侧往觀 賞側由中折射率層18、高折射率層19、低折射率層2〇依次 積層而成之三層構造。多層型反射防止膜1?之構造為由高

折射率層19與低折射率層20依次積層而成之二層構造亦 可。又按，在硬塗層1 6之表面形成凹凸形狀之場合，形成 於其上之多層型反射防止膜17亦形成如圖所示之凹凸形 狀〇 低折射率層2 0可設定為例如由含有無機物（如氧化矽、

C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 第40頁 1225511

塗料組成物塗覆於顯示面上 使具有透光性之基材薄膜 以上之各具透光性之在折射 透光層中之至少一層為由本 藉此得到反射防止薄膜。基 可用作反射防止薄膜之材料 量接近透明。 之單面上或雙面上積層有二層 率上互相不同之透光層且此等 發明有關之塗膜所形成時，可 材薄膜及透光層均有必要具有 之程度之透光度，而最好能儘

^ 3—為以不思式展示一種含有本發明有關之塗膜之反射 =土缚版一例（102)之斷面之圖。反射防止薄膜1〇2係如下 述付到者：即在具有透光性之基材薄膜2丨之單面上塗覆本 Ϊ Γ有關之塗料組成物以形成高折射率22後，在該高折射 ^ U上設置低折射率層23。在此例中，為互相在折射率上 不同之透光層，雖然僅設置高折射率層及低折射率層之二 層，但亦可以設置三層以上之透光層。在此場合，不僅高 ，射率& ’中折射率層亦可以由塗覆本發明有關之塗料^ 成物之方法來形成。

如亡所述，本發明有關之塗料組成物有可能達成高折 率之虱化鈦超微粒之充分分散，又由於其分散安定性亦 異，有可能將分散劑之使用量抑制為少量之程度，將該 料組成物塗覆於被塗面後照射電離放射線 / ^ 得到充當光學構件(如反射防止膜等)所需要之高折：率： 南透明性之同時，可得到充分之塗膜強度及對鄰接 再者，在本發明中 使氧化鈦先經過利用無機化合物所

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行之表面處理以減低或失去 此難於發生由黏合劑成分之3 以使用’因 低，亦難於笋生反射防μ 名貝化所引起之塗膜強度之降 :雞生反射防止性能降低之原因之 再者’本發明有關之塗料組 可容易形成均勻之大面積舊胺 二兩v 〇之垩覆適性， 霧度之透明膜在低成本下之大量生^於已调節折射率之低 再者，本發明有關之塗 料組成物之下所形成者。此： 5】有關之上述塗 用以充當光學構件構成用：m率’因此可適當利 其是反射防止膜之中〜高折身:/以上之透光層，尤 者，在黏合劑成分具有氫鍵形:】或向折射率硬塗層。再 蒸積層具有特優之密合性。v '"之場合，對鄰接層尤其 從而，依照本發明，提供一 強度，對鄰接層之密合性y膜具有優異之透明性，膜 層之積層而成之高品質之反射=勻性等各性能之透光 示裝置、CRT等之裝置之顯示面胰，適於使用於液晶顯 有可能藉濕式塗法製造此種高品所。再者，依照本發明， 尤其上述之塗料組成物，G,射防止膜。 來調節之折射率之範圍予以推斷氧化鈦摻配量之改變 折射率層、或高折射率硬塗層=矿則適於中折射率層、高 此外’依照本發明’為塗、 種具有電離放射線硬化性之 4 5劑成分使用一 j 才雍右Λτ 成分，因此可形成對鄰接層具有幕田乳鍵形成基之黏合劑 、 優異之密合性之硬化層。

五、發明說明（40) ΐίΐίϊίm =二氧化欽丨賤鑛膜等之依照乾式塗法戶斤 加之，本發： = 之密合性，因此很有用。 性，即使在且右# 变料組成物具有非常優異之塗覆適 上亦可在見到干涉广透明面之硬塗層 再者，在具有i二之 均勾之反射防止膜， 生塗覆不均勻之膜。纟面之消光硬塗層上亦可形成不發 在下文中，由貫施例實際證明本發 (實施例1 ) (1)塗料組成物之配製 ⑹為金鈦，準備一種金紅石型氧化鈦(ττ〇51 ，、產業么司所製造），其氧化鈦含量為〜 ，經過使用Al2Q3及硬脂酸之表面處理，一 。〜 〇·〇3，，比表面積為50〜60m2/g，吸油量為24:/ ί 1 0 0 g而在表面上具有抗水性者。為電離放射線硬化性黏 合劑成分準備異戊四醇三丙烯酸酯（pET3 〇，”曰本化藥，，公 司所製造）。為具有陰離子性極性基之分散劑，準備一種A 對顏料具有親和性之嵌段共聚物（” Disperbyk_163”，Big Chemi e Japan Corpn公司所製造）。為光引發劑，準備j〜 羥-環己-苯基酮（"lrgacure184n，"Ciba Speciality Chemicals Κ· K"公司所製造）。為有機溶劑，準備曱基異 丁基酮。 將金紅石型氧化鈦、異戊四醇三丙烯酸酯、分散劑 (•’Disperbyk -163π)、以及曱基異丁基酮裝入一”美乃滋”

ill C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 第43頁

1225511 五、發明說明（41) 瓶（蛋黃醬用之空瓶），在使用此混合物之約4倍量之氧化 锆珠粒（0 0 · 3mm )為媒體之下，藉一油漆搖動機予以攪拌 10小時，在攪拌後，對此添加光引發劑（π Irgacurel84n ) ，而得到一具有下述組成之塗料組成物。 (塗料組成物之組成） •金紅石型氧化鈦（經過使用A12 〇3及硬脂酸之表面處理 之表面處理品，一次粒徑為〇.〇1〜〇.〇3//m)(TT051(C)，” 石原產業’’公司所製造）：1 〇份（重量） •異戊四醇三丙烯酸酯（PET30，π日本化藥”公司所製 造）：4份（重量） •含陰離子性極性基之分散劑（n D i s p e r b y k - 1 6 3π，π B i g Chemie Japan Corpn公司所製造）：2份（重量） •光引發劑（"Irgacure 184π，丨1Ciba Speciality Chemicals Κ· Κπ公司所製造）：〇· 2份（重量） •甲基異丁基酮.·37·3份（重量） (2 )塗膜之製備 在厚度80 之三乙醯纖維素膜片（ρΤ —Τ8〇υζ，”富士相 紙軟片π公司所製造）上形成一厚度3 # m之異戊四醇三丙烯 酸S旨硬化膜後’對此用# 2桿塗器塗覆剛製成之塗料組成 物’而在60 °C溫度下加熱乾燥1分鐘後，藉5〇〇mj之肝照 射，使之硬化，而形成一具有硬化後之膜厚〇 · 1/z m之透明 膜。 再者’為了準備霧度之測定，用# 2桿塗器將剛製成之塗 料組成物塗覆於厚度50 //m之未經過表面處理之pET基材

1225511 五、發明說明（42) (n LUMIRROR Τ60π，π東麗π公司所製造）上，而在60 °c溫度 下加熱乾燥1分鐘後，藉500mJ之UV照射，使之硬化，而形 成一具有硬化後之膜厚〇. 1 # m之透明膜。 再者，將塗料組成物在室溫下任意放置3 〇日而觀察沈澱 之產生狀況’然後使用此一任放後之塗料組成物，與上述 同樣在厚度50 //m之未經過表面處理之pet基材（"LUMIRROR T60"，”東麗”公司所製造）上形成透明膜。 關於由剛製成及室溫任放後之各組成物各別形成之具有 硬化後之膜厚〇 · 1 V m之透明膜，測定霧度及折射率。霧度 係使用一濁度計NDH2 0 0 0 (’，日本電色工業，，公司所製造）來 測，者。再者，硬化後之塗膜之折射率係使用一種分光橢 率计（UVSEL ’ ’’ j〇bin γνοη”公司所製造）來測定氦雷射光 之波長6 3 3nm之折射率者。 再者，關於此項透明膜，使用# 〇 〇 〇 〇號之鋼絲絨（棉）在 2 0 0 g 1 k g負荷下磨擦膜表面2 〇次，而以此時之霧度變 來評定膜強度。 將，項试驗之結果示於第i表（第丨5圖）中。使用實施例工 所配衣之塗料組成物之結果是，得到霧度及折射率均良好 i :ΐ。再者’實施例1之塗料組成物在室溫任放後亦 ϊ I ί /、t分散性，乃與剛製成者一樣得到霧度及折射率 均良好之透明膜。 1 %千 (比較例1 ) 二例，1，中’代替經過疏水性處理之金紅石型氧化鈦 石原產業"公司所製造），而使用同量之另一

第45頁 C:\2D-C0DE\91-04\91100455.ptd 1225511 五、發明說明（43) 種金紅石型氧化鈦（ΤΤ051(Α)，π石原產業，1公司所製造）， 其氧化鈦含量為76〜83%，經過僅使用Α12〇3之表面處理， 一次粒徑為0.01〜〇·〇3//πι，比表面積為75〜85m2/g，吸 油量為40〜47g/l〇〇g，而其表面具有親水性者，除此而 外，均與實施例1 一樣實施而得到一塗料組成物。對所得 到之塗料組成物，與實施例1 一樣施行試驗。 其试驗結果示於第1表中。使用剛製成之比較例1之塗料 組成物以形成塗膜，但所得之塗膜具有高霧度及低折射 率。再者’在室溫下任意放置後產生大量之沈澱物。又 按，室溫任放後之塗膜形成試驗係被停止者。

(比較例2) 在實施例1中，代替異戊四醇三丙烯酸酯而使用同量之 未具羥基之異戊四醇四丙烯酸酯（PET-40，，，日本化藥，，公 司所製造），除此而外，均與實施例1 一樣實施而得到一塗 料組成物。對所得到之塗料組成物，與實施例1 一樣施行 試驗。

作為比較例2 - 1其試驗結果示於第1表中。所得之塗料組 成物表現其分散性不良，在製成時已發生凝膠化，而無法 形成均勻之薄膜。即，停止霧度及折射率之測定以及室溫 任放後之觀察。 m 於是’將實施例1所用之含陰離子性極性基之分散劑 (’Disperbyk-163 ’nBig Chemie Japan Corp"公司所製 造）增量至6份（重量）以配製另一塗料組成物，而與實施例 1 一樣進行試驗。將此一塗料組成物之試驗結果以比較例

C:\2D-CODE\91Ό4\91100455.ptd 第46頁 1225511 五、發明說明（44) ' 2-2示於第1表中。在此場合，達成金紅石型氧化鈦之均勾 分散，而經過室溫下之任意放置時，並未觀察到黏度之變 化或沈澱物之出現。各別使用剛製成之塗料組成物，室溫 下任放後之塗料組成物，以形成塗膜之結果為，所得之塗 膜均具有良好之霧度。然而，比較例2_2之折射率低於實 施例1，再者，比較例2-2之塗膜強度非常低。 (比較例3 ) "在貫施例1中，代替所用之金紅石型氧化鈦（TT〇51 (c)

石原產業’’公司所製造），其經過使用HA及硬脂酸之表 面處理並具有一次粒徑0.01〜0.03//m者，使用同量之另 一種金紅石型氧化鈦（TT051(N)，"石原產業,，公司所製 造），其雖然具有一次粒徑0.01〜0 03 /zm，但未經過使月 A丄2 〇3及硬月曰it之表面處理者，除此而外，均與實施例1 一 ，貫施而得到一塗料組成物。對所得到之塗料組成物，參 實施例1 一樣施行試驗。 t所得之塗料組成物表現其分散性不良，在製成時已發生 旋膠化，而無法形成均勻之薄膜。即，停止霧度及折射率 之測定以及室溫任放後之觀察。 (對蒸積膜之密合性）

在厚度80 //m之三乙醯纖維素膜片（FT —T8〇uz，”富士相紙 軟片”公司所製造）上形成一厚度3 # m之異戊四醇三丙烯酸 酯硬化膜後，對此用#2桿塗器塗覆實施例}及比較例2 — 2所 $得之塗料組成物，而在60 t溫度下加熱乾燥i分鐘後， 藉5 0 0mJ之UV照射，使之硬化，而形成一具有硬化後之膜

丄厶厶丄丄 五、發明說明（45) 厚0 · 1 // m之透明膜。其次， 成一具有膜厚84· 7 /z m之氧化下之條件下，藉PVD法形 <PVD法條件〉 /洛和、艇。 :=積用之標的物：一氧化石夕(純度99. 幸則出：電流值0· 4A，電壓48 0V •真空室内之真空度：〇. 1 3Pa •氬氣流量：3 8. 8 s c c m •氧氣流量：5 s c c m •蒸積速度：8. 47nm/分鐘 關於所得到之蒸積膜，施行 — 凡帶棋盤方格剝離試驗）。发後&迭之岔合性試驗（赛珞 中。在比較例2-2之塗料組成示於第2表(第 之氧化石夕蒸積膜乃發生全面剝斤形成之硬化上所被覆 令缺4八*以私 膝上所被覆之氧化矽蒗積膜 王然未發生剝離，即展示其對 …、檟Μ (實施例2) 土馭之良好岔合性。 在本實施例製備一具有如第4 薄膜F1。反射防止薄膜F1且有3所不之、、·σ構之反射防止 率層26、高折射率= 由透明硬塗層25、中折射 膜24上積層而成之結構，其中之；射率層28依次在基材薄 係使，本發明有關之塗料組成物所形成者。斤射羊層 (1)南折射率層用塗覆液之配製 為金紅石型氧化鈦，準備一福 # - ^ „0. 03 , m ^ AI2n〇n3 ^ ^ ^ ^ ^ t氧化鈦100份。為電離放

1225511 五、發明說明（46) 射線硬化性黏合劑成分準備異戊四醇三丙稀酸酯（PET30 ’ π曰本化藥”公司所製造）2 0份。為分散劑，準備一種擁 有環氧乙烧鏈且具有陰離子性極性基之分散劑（” A j I s P E R PA 11 1π ，”味之素”公司所製造）2 0份。 使此等材料混合於曱基異丁基酮中，以使固形物濃度達 到1 5wt%，對此添加氧化锆球粒以充作分散媒體，而利^ 一油漆搖動機予以攪拌7小時以上。 對所得之分散液添加一充當光引發劑之1—經-環己—苯基 酮Irgacure 184，'）3份後，添加曱基異丁基酮以將固形" 物濃度稀釋至3wt%，而得到折射率h 9〇之高折射率層用塗 覆液。 . (2 )中折射,率層用塗覆液之配製 一對經過一油漆搖動機攪拌後所得到之上述分散液，添加 二充當光引發劑之卜羥-環己-苯基酮（"Irgacure 184")3

^對&此混合液1〇0份添加二（異戊四醇）五丙烯酸酯（DPPA 刀 < 添加曱基兴丁基酮以將固形物濃度稀釋至3 w t % ’而得到折射率！·76之中折射率層用塗覆液。 (3 )塗覆、硬化 Α+ 二（異。戊四醇）六丙烯酸醋所構成之具有折 射¥ 1 · 5 2及乾燥後之厚产q PPT, ^ ^ 卞伋 度3 以上之透明硬塗層塗覆於 P E T (聚對酞酸乙二酯）基好 〜西 、 」&材上。在所得到之透明硬塗層上 ’塗覆上述中折射率声用、夺面 曰用太覆液（折射率1 · 7 6 )以形成一且 有折射率1 · 76及乾燥後之屋庐 山a w t & ^ L丄一 7子度6 0 n m之中折射率層，麸德脾 上述咼折射率層用塗霜汸Γ …、更將 (折射率1 · 9 0 )塗覆於該中折射率 ί·:

第49頁 C:\2D-C0DE\91-04\91100455.ptd 丄zz:):)丄丄 五、發明說明（47) 層上，而施行UV硬化。石 射率層、以及高折射率層在A ::到：具有由硬塗層、中折 層結構之反射防止薄膜^折二j之早面上依次積層而成之 對此折射率調整薄ί調整薄膜(即中間製品）。 氟亞乙烯共聚物所構成之呈有折：士 ’塗覆一 t含矽偏二 低折射率層’而得到一反射防止薄膜。 予度 » 實施例2所得到之反射防止薄膜，依照下述方法施 灯ί率金。筆硬度、雄、合性、以及塗斑之評價。將反射 防止薄薄之層結構及評價結果各別示於第3表（第丨7圖）及 第4表（第18圖）中。 實施例2所得之反射防止薄膜對45〇〜65〇nm可視光之反 射率為0· 4〜0· 7%。再者，此一反射防止薄膜具有3H之鉛 筆硬度。 _ 再者，若在透明硬塗層上塗覆中折射率層用塗覆液時產 生斑’則對其上被覆以咼折射率層後，對此被覆以低折射 率層，如此疊層時，每逄疊層一次，下層之斑則變得更明 顯，或各層各自產生斑等，變得無法在其外觀下製成產 品，但，在本實施例之情況，由於變更溶劑而提高對透明 硬塗層上之均勻薄膜塗覆性能，可抑制斑之發生。 〈評價方法〉 (a )反射率 由於考慮背面反射之影響，將黑色PVC帶貼在試樣之背 面上，而使用一分光光度計以測定38〇nm〜780nm之反射

C·· \2D-C0DE\91 -04\91100455 .ptd 第50頁 1225511 五、發明說明（48) 率。在一點測定之場合展示尤其使人感覺最眩光之波長 5 5 0 n m之數值〇 (b )硬度 依照J I S 5 4 0 0測定錯筆硬度。即以被施加1 k g負荷之鉛 筆按5支程度各別在試樣上施行筆記，而將斜筆5支中之4 支不產生傷痕者予以評定為具有與最硬之鉛筆相同之硬 度。 (c )密合性 依照JIS 54 0 0施行赛珞凡帶棋盤方格剝離試驗。即，對 塗膜表面使用切刀予以施加縱向丨丨條X橫向丨丨條之正交傷 痕’以按1 mm寬度設置100個棋盤格狀之方格。對直上使,， Nichiban"所製之赛珞凡帶強力密合後，5次連續地，一口 氣剝離，而數一數其膜面上所殘留之方格之數目。 (d )塗斑 5mm之高度予以照 ’可看到斑，即不 對試樣使用3輝線螢光燈從其上方3 ^ 射，以觀察是否有塗斑（由於係干涉月莫 同之干涉色）。 (實施例3) 在本實施例製備一具有如 薄膜F2。反射防止薄膜F2具 率層2 7、以及低折射率層2 8 之結構，其中之高折射率層 物所形成者。 第5圖所示之結構之反射防止 有一由透明硬塗層2 5、高折射 依次在基材薄膜2 4上積層而成 係使用本發明有關之塗料組成

(1 )高折射率層用塗覆液之配製

1225511 五、發明說明（49) 為金紅石型氧化鈦，準備一種被覆有Zr02及硬脂酸之具 有一次粒徑約〇 · 〇 3 // m之金紅石型氧化鈦1 〇 〇份。為電離放 射線硬化性黏合劑成分準備異戊四醇三丙烯酸酯（pET3 〇， 1曰本化藥”公司所製造）4 〇份。為分散劑，準備一種擁有 環氧乙烧鏈且具有陰離子性極性基之分散劑2 〇份。 使此等材料混合於甲基異丁基酮中，以使固形物濃度達 到1 5wt%，對此添加氧化鍅球粒以充作分散媒體，而利用 一油漆搖動機予以攪拌7小時以上。 對所得之分散液添加一充當光引發劑之丨_羥—環己—苯基 mC] I rgacure 1 8 4M ) 3 ， r； » 一 ( w 丄、 ^ λ 土

丄ο* ”切，以及一（異戊四醇）五丙烯酸 (DPPA)40份後，添加甲其s 丁 Α π ^ J那a夂自日 添加甲基異丁基酮以將固形物濃度稀釋至 2 W t %，而得到折射率1 古4乙h 《 ψ ^ 耵羊1 ·7 6之间折射率層用塗覆液。 C 2 )塗覆、硬化 將一由異戊四醇三 乾燥後之厚度3 以 維素）基材上。然後， 覆液（折射率1 · 7 6 )以 度90nm之高折射率層 由硬塗層及高折射率 結構之反射防止薄膜 此折射率調整薄膜之 亞乙烯共聚物所構成 9 0 n m之低折射率層， (3 )評價 円邱毆酯所構成〜穴π …

上之透明硬塗層塗覆於TAC(三乙酿 在八上，塗覆上述高折射率層用々 形成一具有折射率丨· 7 6及乾燥後之 ，而施行UV硬化。如此，得到一具 層依次在基材之單面上積層而成^ :折射率調整薄膜（即中間製品）。 局折射率層上，塗覆一由含矽偏二 =折射率U2及乾燥後之厚； 而侍到一反射防止薄膜。

1225511 五、發明說明（50) 關於實施例3所得到之反射防止薄膜，與實 =試驗。將層結構及試驗結果各別示於第3表、 貝施例】所得之反射防止薄膜在使人容易感覺最眩& 550nm波長之反射率為〇. 4%。再者， 有2H之錯筆硬度。 ㈣&-反射防止薄膜具 (實施例4) 2實施例製備:具有如第6圖所示之結構之反射防止 ，、。反射防止薄具有—由含填料3G之消光硬塗層 ’局折射率層27、以及低折射率層28依次在基材薄膜24 ^ Ϊ:而成之結構，其中之高折射率層係使用本發明有關 之塗料組成物所形成者。 (1)南折射率層用塗覆液之配製 在實施例2中，在配製一具有折射率176之中折射 用塗覆液之際，為溶劑改用一由甲其 曰 命9 丁_ π分蜊叹用由甲基異丁基酮（ΜΙΒΚ)95份 ；；I乳乙醇5份所構成之混合溶劑以代替ΜΙΒΚ單獨之溶 外，皆與實施例2 一樣施行配製而得到折射率 1 · 7 6之咼折射率層用塗覆液。 (2 )塗覆、硬化 涂：：二有其下，組成及折射率h52之消光硬塗層用塗覆液 土倀' 土材上，以不留存表面黏性之程度施行uv硬 2 =成—具有折射率I 52及乾燥後之厚度3 _之擁有 細裱凹凸之防眩性消光硬塗層。 〈消光硬塗層用塗覆液> •異戊四醇三丙烯酸酯·· 2份 第53頁 C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 1225511 五、發明說明（51) •苯乙稀糊（異戊四醇三丙烯酸S旨/珠粒=6 / 4，粒徑3 5 // m ) : 0 . 5 份 •纖維素乙酸酯聚丙烯酸酯（CAP)(固形分10wt%之乙酸乙 酯溶液）：2. 3份 •溶劑（甲苯/環己烷= 7/3) : 4. 4份 •引發劑（nIrgacure651n):〇.〇6 份 在所得到之消光硬塗層之細微凹凸表面上，塗覆上述高 折射率層用塗覆液（折射率1· 76)後，施行UV硬化，而形2 一具有折射率丨· 76及乾燥後之厚度6〇nm之高折射率層^如

此，得到一具有由防眩性硬塗層及高折射率層依次在基材 之單面上積層而成之層結構之反射防止薄膜用折射率^整 薄膜（即中間製品）。在此折射率調整薄膜之高折射率層 上，塗覆一由含矽偏二氟亞乙烯共聚物所構成之具^ 率1 · 42及乾燥後之厚度9〇nm之低折射率層，而一 防止薄膜。 、』一夂射 (3 )評價 關於實施例4所得到之反射防止薄膜，與實施一 行試驗。將層結構及試驗結果各別示於第3表、7 ' 實施例4所得之反射防止薄膜在使人容易感覺最眩表中

55〇nm波長之反射率為〇.6%。再者，此一反射防= 有2 Η之鉛筆硬度。 ’專膜具 再者，在本實施例中，由於變更溶劑，提高 微凹凸表面之消光硬塗層之塗覆適性，而得以I =細 之下塗覆高折射率層用塗覆液。 生斑

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(實施例5 ) 在本實施例製備一具有如第7圖所示之結構之反射防止 ·-薄膜F4。反射防止薄膜F4具有一由透明導電層31，含填料-3〇之異方導電性消光硬塗層29，高折射率層27、以及低 射率層28依次在基材薄膜24上積層而成之結構，其中之高 折射率層係使用本發明有關之塗料組成物所形成^。 阿 (1)塗覆、硬化 在實施例4中，在TAC基材上設置透明導電層，而對消光 硬塗層用塗覆液添加金·鎳樹脂珠粒（” B R I G Η T G⑽4 6一 ΕΗ ，日本化學工業’’公司所製造）〇 · 〇 〇 5份以充作導電性 材料，此外均與實施例4 一樣實施。

即，將一含有ΑΤΟ之透明導電油墨（"sumICE FINE ASP-B J一1Π ，住友大阪水泥，，）塗覆於TAC基材上，以不留存表面 黏性之程度施行UV硬化，而形成一具有乾燥後之厚度2 “讯 之透明導電層。在所得到之透明導電層上，塗覆一添加 導電材料之消光硬塗層用塗覆液後，施行uv硬化，而形 一具有折射率1· 52及乾燥後之厚度3〜4 Am之擁有細緻凹 凸之防眩性異方導電性消光硬塗層。 其次，在所得到之消光硬塗層上，塗覆高折射率層用 覆液（折射率1· 76)後，施行UV硬化，而形成一具有^射率 1·76及乾燥後之厚度6〇11111之高折射率層。其後，在高折 率層上形成一由含矽偏二氟亞乙烯共聚物所構成之具有斤 射率1. 42及乾燥後之厚度9〇11111之低折射率層，藉ϋν予以— 全硬化而得到一反射防止薄膜。 70

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五、發明說明（53) (2 )評價 關於實施例5所得到之反射防止萍 一 行試驗。將層結構及試驗結夂'^異，與貫施例2 —樣施 實施例5所得之反射防止薄膜在^使1不〜於第3表、第4表中。 550nm波長之反射率為〇·6%。、再者 夺易感覺最眩光之 有2 Η之鉛筆硬度。 ，此一反射防止薄膜具 (實施例6) 在本實施例製備-具有如第 薄膜F5。反射防止薄膜F5具 ^丁之…構之反射防止 32、高折射率層27、以及；折：率

上積層而成之結構，其中之古斩射 、人 土材溥膜2' 十口〆 问折射率透明硬塗屛另古仏4 率層係使用本發明有關之塗料組成物所形 θ及回折身 (1)高折射率層用塗覆液之配製 y 為金紅石型氧化鈦，準備一種被覆有Zr〇2及硬脂酸之且 =:次粒徑約〇· 03，之金紅石型氧化鈦100份。為電離^ 射線硬化性黏合劑成分準備異戊四醇三丙烯酸酯（PET30， W本化藥”公司所製造）40份。為分散劑，準備一種擁有 環氧乙烧鏈且具有陰離子性極性基之分散劑2 〇份。

使此等材料混合於曱基異丁基酮中，以使固形物濃度達 到1 5wt%，對此添加氧化鍅球粒以充作分散媒體，而利""用 一油漆搖動機予以授拌7小時以上。 對所得之分散液添加一充當光引發劑之卜羥—環己—笨基 酮Irgacure 184π )3份，以及二（異戊四醇）五丙稀酸醋 (D P P A ) 4 0份後，添加曱基異丁基酮以將固形物濃度稀釋至

C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd ' % 56 頁 ' "------ 1111 __ 五、發明說明（54) (2)高折而匕射率84之高折射率層用塗覆液。 料抒、κ透 塗層用塗覆液之配製 -充丨;:動：授/後所得到之上述分散液，添加 ^^^^^ru〇〇yrr；ir'(：：rgacure 18Γ,)3 )20份及異戊四於一岛γ ί —(異戊四醇）五丙烯酸酯（DpPA 到折射垄1 7n子一一丙烯文酯55份充分混合於其中，而得 一涂t、夜由π t咼折射率透明硬塗層用塗覆液。又按，此 度與基材薄膜之霧产之#佶J ^ 劑罝斤付之霧 ⑻塗覆、硬^度之差值僅為G.G1而已。 將具有折射率1 7 0 > μ、+、古4匕^ + 塗覆於TAC基材上.，以不留,〜折射率透明硬塗層肖塗覆液 化，而來占一曰 不邊存表面黏性之程度施行UV硬 射率透明ί ^有折射率1 ·7 0及乾燥後之厚度5㈣之高折 。如此得到-在基材之單面上設有高折:; 製品）。繼土之曰，脸反射防止薄膜用折射率調整薄膜（即中間 ^ ^ ^ :折射率i84之高折射率層用塗覆液塗覆 ;冋斤射率透明硬塗層上，施行ϋν硬化，而一 ::1有8由乾燥後之厚度60nm之高折射率層。如此:、得=

:面上積層而成之層結構之反射防止薄J 开膜(：中由間八製品)。在此折射率調整⑹ 形成一由含矽偏二氟亞乙烯共聚物所構成之且曰t 42及乾燥後之厚度9〇nm之低折射率層，藉υν^ 化而、 到一反射防止薄膜。 更化而仵 第57頁 C:\2D-mDE\91^04\91100455.ptd 1^25511 五、發明說明（55) (4 )評價 一：：實施例6所得到之反射防止薄膜，與實施例 二试驗。將層結構及試驗結果各別示於第3表、第4 貫施例6所得之反射防止薄膜 '"中 之反射率為0.2%。再者，此—反射防止薄膜且 有2 Η之錯筆硬度。 寸狀〆、 (實施例7) 在本實施例製備一且右^隹0 — 镇膜FR。β 有弟圖所不之結構之反射防止 '、 反射防止薄膜F6具有一由含填料30之高折射系$ 光硬塗；s q q，，、，Β μ & A t ^ n折射率 >为 而成imr率層28依次在基材薄膜24上積層 局折射率消光硬塗層係使用本發明有 關之塗枓組成物所形成者。 (1)面折射率消光硬塗層用塗覆液之配製 施例6 一樣配製一具有折射率17。之消光硬塗層用 叔Γ+ΐ使用所得到之塗覆液之下，得到一具有下述 石= 66之高折射率消光硬塗層用塗覆液。金紅 ί π i 〃超试粒之分散性很安定，即使在添加消光材 :/Λ粒:或黏合劑後亦‘然，關於對基材薄膜之霧度差 德，斜i $消光材之高折射率消光硬塗層用塗覆液塗覆 以制雠八、"面上層壓以一未處理PET，而在藉訂硬化後予 .二以形成未具凹凸形狀之狀態，而在此狀態下施行 測^疋’得到之霧度差值為0 01。 〈高折射率消光硬塗層用塗覆液> .折射率1.70之透明硬塗層用塗覆液（固形分5〇豺％):4份

1225511 五、發明說明（56) •壓克力糊（異戊四醇三丙烯酸酯/珠粒=6/4，粒徑3. 5 “ m ) : 0 · 5 份 •纖維素乙酸酯聚丙烯酸酯（CAP)(固形分1〇wt%之乙酸乙 酯溶液）：2 · 3份 •溶劑（曱苯）：2. 4份 •引發劑（π lrgacure65r ) : 〇· 〇6 份 (2 )塗覆、硬化

將折射率1 · 6 6之上述向折射率消光硬塗層用塗覆液塗覆 於TAC基材上’以不留存表面黏性之程度施行評硬化，而形 成擁有、、、田彳政凹凸表面且具有折射率1 · 6 6及乾燥後之厚度 3古// m之高折射率消光硬塗層。如此，得到一具有由防眩ς 门斤f率硬塗層在基材之單面上積層而成之層結構之反射 Ϊ 膜2折射率調整薄膜（即中間製品）。在此折射率調 、之呵折射率消光硬塗層上，塗覆一由含矽偏二氟亞 之低二:Ϊ所構成之具有折射率1 · 42及乾燥後之厚度90nm ^4斤射率層，藉uv完全硬化而得到一反射防止薄膜。

行1 ^ ^例7所得到之反射防止薄膜，與實施例2 一相 二=。將層結構及試驗結果各別示於 55。_波長：在使人容易感覺最眩光之 有2H之鉛筆硬度革為°·8%。再者’此-反射防止薄膜 (實施例8) 在本貫施例製備-具有如第1 〇圖所示之結構之反射^

五、發明說明（57) 光硬ΐ二射：ΐ :月，具有—由含填料30之高折射率消 及，其中之高折射率消光硬塗層 ⑴塗覆、硬化了本®明有關之塗料組成物所形成者。 折射率U6及乾燥後之厚度 == f層。然後在其上塗覆實施例3所得到之折二气更 化，而开^ Π 表面黏性之程度施行uv硬 折射率層。在所得到之高折 ：=度1，之高 敗亞乙稀共聚物所構成之具有折射率i 石夕偏二 膜。 兀王史化而侍到一反射防止薄 (2)評價 關於實施例8所得到之反射防止薄膜，盥本 行試驗。將層結構及試驗結果各別示於第3广二：樣施 實施例8所得之反射防止薄膜在使 g 表中。 55 0⑽波長之反射率為〇,。再者，此―：二=之 有2H之鉛筆硬度。 反射防止缚膜具 (實施例9) 在本實施例製備一具有如第丨丨圖所示 薄膜F8。…止薄_具有-由含填料=

RH C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 第60頁 1225511 五、發明說明（58) 光硬塗層33，高折射率層27，低折射率層28，以及防 34依次在基材薄膜24上積層而成之結構，丨中之高折射‘ Ϊ Ϊ Ϊ Ϊ層及高折射率層係使用本發明有關之塗料組成物 (1)塗覆、硬化 直到在TAC基材上形成折#率J. 6 6之高折 ^及折射率u4之高折射率層為止，與上述實施2一1 。凝 將Λ當折射率h45之低折射率層用塗覆液之 /令膠-嘁膠Sl〇2墨水塗覆於折射率1. 84之高折射率声上， 在8〇 °C溫度下乾燥1分鐘後’在4〇。(：溫度下施行孰^個星 Ϊ二ί完全硬化。將氟系防污材料塗覆於所得到之低折 ； ，以形成防污層，而得到反射防止薄。_ (2 )評價 守联 一關於實施例9所得到之反射防止薄膜，與實施例 打試驗。將層結構及試驗結果各別示於第3表中。 二施例得之反射防止薄膜在使人容易感覺最眩光之 古反射率為h2%。再者，此一反射防止薄膜且 有3 Η之鉛筆硬度。 守联八 (實施例1 0 ) 在本實施例製備—具有如第12圖所示 薄膜F9。反射防止巷捋Ρ0目士丄* 僻心汉对防止 ▲ 止溥膜F9具有一由透明硬塗層25，中折 ^層26、局折射率層27，以及低折射率層⑶依次在 Ϊΐί上Ϊ層而成之結構’其中之中折射率層係使用本笋明 有關之塗料組成物所形成者。 X月 ΚΙ 第61頁 C:\2D-C0DE\91-04\91100455.ptd !225511 五、發明說明（59) ' (1)塗覆、硬化 . 將由二（異戊四醇）六丙烯酸酯（DPHA)所構成之具有折射 ‘ 率1 · 5 2及乾燥後之厚度7 // m以上之消光硬塗層塗覆於p e τ · 基材上，然後對其上表面塗覆以實施例3所得到之高折射 率層用塗覆液（折射率1· 76)，藉UV完全硬化，而形5成一具 有折射率1 · 76及乾燥後之厚度70nm之中折射率層。在所 到之中折射率層上，藉濺鍍法形成一具有折射率19〇及7 度80nm之氧化鈦（TiOx)膜以充當高折射率層，然後在豆2 同樣藉濺鍍法形成一具有折射率L 47及厚度9〇nm之^ (T 1 〇χ )膜以充當低折射率層。然後，對其上塗覆以 污材料以形成防污層，而得到一反射防止薄膜。 糸方_ (2 )評價 ' 關=實施例1〇所得到之反射防止薄膜，與實施例2一 也仃试驗。將層結構及試驗結果各別示於第3表、 7 =。實施例1〇所得之反射防止薄膜在450nm〜65〇 ^ :之反射率為0.3^。再者，此一 見有 3H之鉛筆硬度。 辟联具有 (實施例1 1 )

在本實施例製備一具有如第丨3圖所示 ，〇。反射防止薄卿具有一 =射^ 導電性透明硬塗層25，中折射率層 古 =31，異； 折射率㈣、以及防污層34依次；基材 之結構，其中之中折射率層传使 、 積層而天 物所形Μ。 +曰#使用本發明有關之塗料組$

1225511 五、發明說明（60) (1) 塗覆、硬化 配製一種對二（異戊四醇）六内烯酸酯（DPHA)添加金. 樹脂珠粒（"BRIGHT GNR4.6-EH”，”日本化學工業"八司所桌 = 0 05份(充作導電性材料)而成之折射率I 5: 硬塗層用塗覆液。 处月 其次，將與實施例5相同之含有AT〇之透明導 ("SUMICE FINE ASP-BJ —Γ，”住友大阪水泥"所製造^塗费 於PET基材上，以不留存表面點性之程度施行υν硬化後 形成=具有乾燥後之厚度2 // m之透明導電層。在所得 透明導電層上，塗覆上述添加有導電材料之透明硬塗 塗覆液後，施行uv硬化，而形成一具有折射率1,52及^ 後之厚度7 "in以上之異方導電性透明硬塗層，然後在並^ ，覆實施例3所得之高折射率層用塗覆液（折射率176)〃， 藉uv完全硬化，而形成一具有折射率丨· 76及乾燥後之厚产 7 0nm之中折射率層。在所得之中折射率層上，藉濺鍍法ς 成一具有折射率丨· 90及厚度8〇nm之氧化鈦（Ti〇x)膜以充二 高折射率層，然後在其上同樣藉濺鍍法形成一具有折射| 1.47及厚度9〇11111之氧化鈇（Ti〇x)膜以充當低折射率層。然 後，對其上塗覆以氟系防污材料以形成防污層，而得二 反射防止薄膜。 (2) 評價 關於實施例1 1所得到之反射防止薄膜，與實施例2 _樣 施行試驗。將層結構及試驗結果各別示於第3表、第4表 中。實施例1 1所得之反射防止薄膜乃與實施例丨〇所得者—

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1225511 五、發明說明（61) 樣，在450nm〜650nm可視領域之反射率為〇·3〜1.2%。再 者，其鉛筆硬度亦為3Η。 (實施例1 2 ) 在本實施例製備一具有如第1 4圖所示之結構之反射防止 薄膜FI 1。反射防止薄膜FI 1具有一由透明導電層31，含填 料30之高折射率消光硬塗層33，以及低折射率層28依次在 基材薄膜2 4上積層而成之結構’其中之高折射率消光硬塗 層係使用本發明有關之塗料組成物所形成者。 (1) 透明導電層用塗覆液之配製 使稀釋溶劑以外之下述成分混合而予以充分攪拌後，再 與稀釋溶劑混合而配製成一透明導電層用塗覆液（固形分 約 1 0 w t % ) 〇 〈透明導電層用塗覆液〉 • ΑΤΟ:29· 4 份 # •含0Η基黏合劑1 (胺曱酸酯系丙烯酸酯）：1 4 · 2份 •含0Η基黏合劑2(異戊四醇三丙烯酸酯（ΡΕΤΑ)/己二醇二 丙烯酸 _(HDDA) = 7/3) :27. 8 份 •溶劑（2 -甲氧乙醇）：5 5. 0份 •引發劑（π I r g a c u r e 1 8 4π ) : 3 份 •稀釋溶劑（環己酮/曱苯= 3/7 ) : 584份 (2) 異方導電性高折射率消光硬塗層用塗覆液之配製 與實施例6 —樣配製一具有折射率1 · 7 〇之透明硬塗層用 塗覆液，而在使用所得到之塗覆液之下，得到—具有下述 組成及折射率1 · 6 6之異方導電性高折射率消光硬塗層用爹

C:\2D-CQDE\91-04\9U00455.ptd 第64頁 1225511 五、發明說明（62) 覆液。為導電性微粒，使用一種具有平均粒徑5 /z m之金· 鎳樹脂珠粒（n BRIGHT GNR4. 6-EH"，"日本化學工業，，公司 所製造）。金紅石型氧化鈦超微粒之分散性很安定，即使 在添加消光材（壓克力珠粒）或黏合劑後亦然，對基材薄膜 之霧度差值為0 . 0 1。 <：異方導電性高折射率消光硬塗層用塗覆液〉 •折射率1. 70之透明硬塗層用塗覆液（固形分50wt%) :4份 •壓克力糊（異戊四醇三丙烯酸酯/珠粒=6 / 4，粒徑3. 5 // m ):. 5 份 •纖維素乙酸酯聚丙烯酸酯（CAP)(固形分1 〇wt%之乙酸乙 酯溶液）：2. 3份 •引發劑（π I r g a c u r e 6 5 1π ) : 0 . 0 6 份 •導電性微粒（"BRIGHT GNR4. 6-ΕΗΠ ，n日本化學工業”公 司所製造）：0· 0 045份（全黏合劑成分之0· lwt%) •溶劑（曱苯）：2 · 4份 (3 )塗覆、硬化 將上述透明導電層用塗覆液（固形分約10%)塗覆於TAC基 材上’以不留存表面黏性之程度施^亍U V硬化，而形成一且 有乾燥後之厚度1. 2 // m之透明導電層。然後在此導電層 上，塗覆上述之折射率1 · 6 6之上述異方導電性高折射率消 光硬塗層用塗覆液，予以乾燥，以不留存表面黏性之程度 施行UV硬化，而形成一擁有細微凹凸表面且具有折射率 1.66及硬化後之厚度3/zm以及表面電阻2x l〇7Q/□之異 方導電性高折射率消光硬塗層。在所得到之異方導電性' τ

C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 第65頁 1225511 五、發明說明（63) "— 折射率消光塗層上，塗覆一由含矽偏二氟亞乙烯共聚物所 構成之具有折射率1· 42及乾燥後之厚度9 Onm之低折射率 層’藉UV完全硬化而得到一反射防止薄膜。又按，在使用 PET基材之場合亦得以同樣達成反射防止薄膜之製備。 (4)評價 關於實施例1 2所得到之反射防止薄膜，與實施例2 一樣 施行試驗。將層結構及試驗結果各別示於第3表、第4表 中。實施例1 2所得之反射防止薄膜在使人容易感覺最眩光 之55〇nm波長之反射率為〇·8%。再者，此一反射防止 具有2Η之鉛筆硬度。 、

(比較例4 ) 為金紅石型氧化鈦，準備一被覆有Α込％及硬脂酸之具^ 一次粒徑約〇· 〇3 //m之金紅石型氧化鈦10〇份。為電離放身 線硬化性黏合劑成分，準備異戊四醇三丙烯酸酯（ρΕτ3〇 η日本化藥”公司所製造）20份。但，未使用分散劑。 使此等成分混合於曱基異丁基酮中，以使固形分濃度文 到15wt%，對此添加氧化锆球粒以充作分散媒體，而利夂用 一油漆搖動機予以攪拌7小時以上。

對所得之分散液，添加一充當光引發劑之卜羥_環己—^ 基嗣（Irgacure 184)3份後，添加甲基異丁基明，以將固1 形分濃度稀釋至3wt%，而得到折射率19〇之高折射率声月 塗覆液。 曰 所得之塗覆液被使用於塗覆工作之处 之涂瞪i 4泠萝、产1 邗之結果為，得到白濁狀 土膜再者，S主後液被任意放置數小時後，產生沈降

1225511 五、發明說明（64) 物。 (比較例5) 為金紅石氧化鈦，準備一種被覆有A丨2〇3但未被覆有陰離 子性化合物而具有一次粒徑約0. 0 3 μ m之金紅石型氧化^太 10 〇份。為電離放射線硬化性黏合劑成分，準備異戊四醇 三丙烯酸酯（ΡΕΤ30，u日本化藥"公司所製造）2〇;。為= 放d ’準備一種擁有環氧乙烧鏈之同時具有陰離子性''極性 基之分散劑20份（nPHOSMER-M，，）。

6使此等成分混合於曱基異丁基酮中，而將固形分濃度設 定為15wt%，對此添加氧化鍅球粒以充作分散媒體，而又利 用一油漆搖動機予以攪拌7小時以上。 對所得之分散液，添加一充當光引發劑之丨—羥—環己一苯 基酮（Irgacure 184)3份後，添加曱基異丁基酮，以將固 死^分濃度稀釋至3 w t %，而得到一塗覆液。 所得之垩復液被使用於塗覆工作之結果為，得到白濁狀 ^莫。再者，t亥塗覆液被任意放置數小時後，產生沈降 物0 (比較例6) =市面上所出售之二氧化錯（Zr02)分散液（固形分15wt%

"心制劑：曱苯25· 5/乙醯丙酮42 /其他17· 5，M住友大阪水泥 所製造），添加一充當電離放射線硬化性黏合劑成分之異 戊四醇三丙稀酸醋（PET30，，，曰本化藥，，公司所製造）3份’ 折射率L 76 =高折射率層用塗覆液配製成後，在使用 Μ同折射率層用垔覆液之下製備具有與實施例3及實施例

1225511 五、發明說明（65) 1 0相同之層結構之各反射防止薄膜。 反射防止薄膜具有與實施例3相同之層結構者其鉛筆硬 度為F，且對透明硬塗層未具密合性。 反射防止薄膜具有與實施例1 0相同之層結構者其鉛筆硬 度為Η，且對透明硬塗層未具密合性。 此外，由於溶劑系複雜，在乾燥時容易產生斑。再者， 在使用一適於塗覆之酮系溶劑以將固形分1 5 %之上述二氧 化锆（Zr02)分散液稀釋至固形分3%之情況，可能由於該溶 劑與分散劑之相適性不佳，造成分散性惡化之問題。 元件編號之說明 101 液晶顯示裝置 102 反射防止薄膜 1 顯示面側之玻璃基板 2 像素部 3 黑體層 4 彩色濾光器 5、7 透明電極層 6 背面側之玻璃基板 8 密封材 9 取向膜 10 偏光薄膜 11 背後照明單元 12 偏光元件 1 3、1 4保護薄膜

C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 第68頁 11- 1225511 五、發明說明 (66) 15 黏 著 劑 層 16 硬 塗 層 17 多 層 型 反 射 防 止 膜 18 中 折 射 率 層 19 向 折 射 率 層 20 低 折 射 率 層 21 基 材 薄 膜 22 折 射 率 層 23 低 折 射 率 層 24 基 材 薄 膜 25 透 明 硬 塗 層 26 中 折 射 率 層 27 折 射 率 層 28 低 折 射 率 層 29 消 光 硬 塗 層 30 填 料 31 透 明 導 電 層 32 高 折 射 率 透 明 硬 塗 層 33 折 射 率 消 光 硬 塗 層 34 防 污 層

C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptd 第69頁 1225511 圖式簡單說明 圖1為在顯示面上被覆有包含本發明有關之塗膜之多層 型反射防止膜之液晶顯示裝置之一例，即以示意方式展示 其斷面之圖。 圖2為設有包含本發明有關之塗膜之多層型反射防止膜 之取向板之一例，即以示意方式展示其斷面之圖。 圖3為包含本發明有關之塗膜之反射防止薄膜之一例， 即以示意方式展示其斷面之圖。 圖4為以示意方式展示實施例2中所製成之反射防止薄膜 之斷面之圖。 圖5為以示意方式展示實施例3中所製成之反射防止薄膜 之斷面之圖。 圖6為以示意方式展示實施例4中所製成之反射防止薄膜 之斷面之圖。 圖7為以示意方式展示實施例5中所製成之反射防止薄膜 之斷面之圖。 圖8為以示意方式展示實施例6中所製成之反射防止薄膜 之斷面之圖。 圖9為以示意方式展示實施例7中所製成之反射防止薄膜 之斷面之圖。 圖1 0為以示意方式展示實施例8中所製成之反射防止薄 膜之斷面之圖。 圖1 1為以示意方式展示實施例9中所製成之反射防止薄 膜之斷面之圖。 圖1 2為以示意方式展示實施例1 0中所製成之反射防止薄

C:\2D-CODE\9I-04\91100455.ptd 第70頁 1225511 圖式簡單說明 膜之斷面之圖。 圖1 3為以示意方式展示實施例1 1中所製成之反射防止薄 膜之斷面之圖。 圖1 4為以示意方式展示實施例1 2中所製成之反射防止薄 膜之斷面之圖。 圖1 5為將實施例之結果集中在一起之表。 圖1 6為將實施例之結果集中在一起之表。 圖1 7為將實施例之結果集中在一起之表。 圖1 8為將實施例之結果集中在一起之表。

C:\2D-CODE\91-04\91100455.ptcl 第71頁

Claims (1)

1. I厶厶l1 I厶厶l1 a 修正 案號 91100455 六、申請專利範圍 1 · 一種塗料組成物，其特 ^ 被覆有選自氧化鋁，氧化矽(二，該組成物係至少由（1 ) 摻雜有銻之氧化錫（AT〇) ^化鋅，氧化錯，氧化錫， 有辞之氧化銅⑽），接㈣= ===_，摻雜 =氧化錫⑽)所構成之—群之無機化合， 酉夂及/或矽烷偶合劑及/或鈦酸醋偶合劑之具有"i有〜= # m乾圍内之一次粒徑之金紅石型氧化鈦， · 有經基之電離放射線硬化性之黏合劑成分， (3)具有由陰離子性極性基所構成之侧鏈或含陰離子性極 性基之侧鏈結合於具有環氧乙烷鏈骨架之主鏈而得到之分 子構造，且具有數目平均分子量2,〇〇〇至2〇,〇〇〇之化合物7 的分散劑，以及 U)有機溶劑 所構成者； 相對於上述氧化鈦10份（重量）含有上述黏合劑成分4〜 2〇份（重量）及上述分散劑2〜4份（重量）之比率，相對於所 含之固形分〇·5〜5〇份（重量），以50〜99.5份（重量）之比 率摻配有上述有機溶劑。 2 ·如申請專利範圍第1項之塗料組成物，其中，在分子 中具有羥基之上述黏合劑成分為選自異戊四醇多官能丙烯 酸酯、二（異戊四醇）多官能丙烯酸酯、異戊四醇多官能曱 基丙烯酸酯、以及二（異戊四醇）多官能甲基丙烯酸酯所構 成一群之一種或二種以上成分者。 3.如申請專利範圍第1項之塗料組成物，其中，上述有

   )-1.ptc I 1 第72頁 C: \總檔\91 \91100455\91100455(替換 1225511 —-——案號· 911004Ϊ55 六、申請專利範圍

   機溶劑為酮系溶劑者。 4.如申請專利範圍第丨項之塗料組成物，立中，又含有 環己-苯基嗣及/或2-甲基-1[4_(甲硫）苯基]_2一嗎琳 丙烧—1 -酮作為光引發劑。 5.如申請專利範圍第丨項之塗料組成物，其中，該塗料 組成物係被使用以形成反射防止膜者。 X 土 6·如申請專利範圍第丨項之塗料組成物，其中，該涂料 =係被使用以形成反射防止膜之中折射率層或高土折射 7·如申請專利範圍第1.項之塗料組成物，其中，該涂料 組成物係被使用以形成反射防止膜之高折射率硬塗層者。 8 ·種塗膜，其特徵為，該塗膜係由申請專利範圍第工 至7項中任一項之塗料組成物塗覆於被塗物表面上之後經 過硬化所得之塗膜，在硬化後之膜厚為〇 〇5〜〇·2 時， 折射率則為1.55〜2.30，且依照Jis —K736 1 —}所規定之霧 度值則與上述基材單獨之霧度值相等或上述基材單獨之霧 度值相差在1 %以内者。 9 ·種塗膜’其特徵為，該塗膜係由申請專利範圍第1 至7項中任一項之塗料組成物塗覆於被塗物表面上之後經 過硬化所得之塗膜，在硬化後之膜厚為〇· 2〜2〇 時，折 射率則為1.55〜2·3〇，且依照jIS_K736 1 - 1所規定之霧度 值則與上述基材單獨之霧度值相等或上述基材單獨之霧度 值相差在1 0 %以内者。 10. —種塗膜’其特徵為，該塗膜係由一被覆有選自氧

   C:\ 總檔\91\91100455\91100455(替換）_l.ptc

   第73頁 1225511 修正 曰 ^M^J110045B 六、申請專利範圍 化紹’氧化石夕，童 ^ 化錫（ΑΤΟ)，換雜有化鍅，氧化錫，摻雜有銻之氧 则，摻雜有…雜有辞之氧化： 侧所構成之一君 人0，及摻雜有氣之氧化錫 子之無枚化合物血右應获酿 &劑及/或鈦酸醋偶合劑之具有ui〜〇二"^/或石夕烧偶 次粒徑之金紅石型氧化鈦，以及 ：乾圍内之一 鏈或含陰離子性極性基之側鏈：合：；；；!基所構 鏈骨架之主鏈而得到之分子構造， =曰、氧乙烷 混合而成之』膜5物的分散劑在硬化之黏合劑中均勻 者。 I次上34基材早獨之霧度值相|在1%以内 11. -種塗膜，其特徵為]亥塗膜 化紹，氧化石夕，氧化辞，氧化錯被覆有選自乳 化錫刪，摻雜有錫之氧化銦(1 ，捧雜J :錄：氧 所= 化辞(ΑΖ0) ’以及摻雜有氣之氧化錫 (FT0)所構成之-群之無機化合物與有機㈣及/或石夕 合劑及/或鈦酸酯偶合劑之具有〇· 〇1〜〇.丨"範圍内之一 次粒徑之金紅石型氧化鈦，以及，由陰離子性極性基所構 成之侧鏈或含陰離子性極性基之側鏈結合於且 鏈骨架之主鏈而得到之分子構造，且具有數目 2, 0 0 0至20, 0 0 0之化合物的分散劑在硬化之黏合劑中均勻 C:\ 總檔\91\91100455\91100455(替換）-1.ptc 第74頁 1225511

   六、申請專利範圍 混合而成之塗膜， 在硬化後之膜厚為〇.2〜2〇_時 2.30，且依照JIS —K73 6 1 —丨所規定之 丰則為1·55〜 J^_ill00455 單獨之霧度值相等或上述基材單彳又則與上述基材 内者。 飞上这基材早獨之霧度值相差在1〇%以 I2·如申請專利範圍第10或11項之塗膜，苴由 、、 合劑為選自異戊四醇多官能丙烯酸酯、二2 ϋ黏^ 能丙稀酸醋、異戊四醇多官能甲基丙烯酸醋以及:)(ν m ί::)之多硬官化能丄基丙稀酸醋所構成一群之-種或二種二 上成分之硬化物者。 A ! 1 3. —種反射防止膜，其特徵4，該反 述構造，即由具有透光性之單一透朵禺晰M 膜八有τ 、A . ^ a 心70丨王·^早還先層所構成之單層構 上之各具透光性之在折射率上互相不同之 透光層經過積層所得之多層構造， "上述透？層中至少一透光層為，由被覆有選自氧化鋁， 氧化石夕’氧化鋅’氧化鍅，氧化錫，換雜有錄之氧化錫 (ΑΤΟ)，摻雜有錫之氧化銦（IT〇)，摻雜有鋅之氧化銦 (ιζο)，摻雜有鋁之氧化辞（ΑΖ〇)，以及掺雜有氟之氧化錫 (FTO)所構成之一群之無機化合物與有機羧酸及/或矽烷偶 合劑及/或鈦酸酯偶合劑之具有〇 · 〇丨〜〇. j m範圍内之一 次粒徑之金紅石型氧化鈦，以及，由陰離子性極性基所構 成之側鏈或含陰離子性極性基之側鏈結合於具有環氧乙烧 鍵骨架之主鏈而得到之分子構造，且具有數目平均分子量 2，0 0 0至2 0，〇 〇 〇之化合物的分散劑在硬化之黏合劑中均勻

   \\八326\總檔\91\91100455\91100455(替換)-l.ptc 第 75 頁 1225511 曰 Μ 91100455_年月 六、申請專利範圍 混合而成之硬化層者。 其中，上述 〇 其中，上述 其中，上述 二（異戊四醇） 1 4 ·如申請專利範圍第1 3項之反射防止膜 黏合劑為具有羥基之黏合劑成分之硬化物者 1 5·如申請專利範圍第丨4項之反射防止膜 黏合劑為殘留有羥基之硬化物者。 1 6 ·如申請專利範圍第1 5項之反射防止膜 黏合劑為由選自異戊四醇多官能丙烯酸酯、一、 多官能丙烯酸酯、異戊四醇多官能甲基丙烯酸酯、二 (異戊四醇）多官能甲基丙烯酸s旨所構成—群之一種或二& 以上成分之硬化物者。 1 7.如申請專利範圍第1 3項之反射防止膜，其中，上述 Ϊ 2 f ί由含有下述成分為必要成分之塗料組成物塗覆於 待硬化層施覆之面上而經過硬化所得之塗膜者： (1) 被覆有選自氧化銘，氧化石夕，氧化鋅，氧化㉘，氧化 錫，掺雜有銻之氧化錫（ΑΤ0) ’掺雜有錫之氧化銦（ΙΤ0), 摻雜有鋅之氧化銦（ΙΖ0)，摻雜有鋁之氧化鋅（ΑΖ0)，以及 摻雜有氟之氧化錫（FTO)所構成之一群之無機化合物與有 機羧酸及/或矽烷偶合劑及/或鈦酸酯偶合劑之具有〇 . 〇1〜 0. 1 # m範圍内之一次粒徑之金紅石型氧化鈦， (2) 分子中具有經基之電離放射線硬化性之黏合劑成分， (3) 具有由陰離子性極性基所構成之側鏈或含陰離子性極 性基之侧鏈結合於具有環氧乙烷鏈骨架之主鏈而得到之分 子構造，且具有數目平均分子量2, 〇〇〇至2〇, 〇〇〇之化合物 的分散劑，以及

   (：:\總檔\91\911〇〇455\91100455(替換）-1. ptc 第76頁 1225511 1225511 修正 曰 --塞號 91] 004% 六、申請專利範圍 (4)有機溶劑。 項1 透V:申請專利範圍第13項之反射防止膜，其中，A 具備高折射率層及低折射率層之同時， 〆備一層或二層以上之中折射率層亦可， 進一 斤射率層、中折射率層、以及低 側位置之方式積層而成，料曰了位於“近觀賞面 化率層及中折射率層中之至少-層為由該項硬 項硬彳^®申μ專利範圍第18項之反射防止膜，其中，a j i nt層所形成之高折射率層及/或中折射率声Lf K73 61-1所規定之霧度值為與上述 相^上述基材單獨之霧度值相差二^ 古狀糾如/睛專利範圍第1 8項之反射防止膜，其中，卜、 ^ 、率層及/或上述中折射率層含有一由殘留 a 石物所構成之黏合劑之同時，與該硬化声所 1 \之 射率層或中折射率層㈣，而含有經==之高折 折身:率層、或低折射率層係藉乾式塗法所形成者”、層、中 2」.如申請專利範圍第2。項之反射防止 SI之咖率層或中折射率層，形成有含氧化欽為二 22.如申請專利範圍第2〇項之反射防止 有經基之低折射率層，形成有含氧切之蒸氣、:積:者含 C: \總檔\91 \91100455\91100455(替換）_i .pt( 第77頁 1225511 月 曰 六 SS_Jll〇0455 申請專利範圍 2 ^ ·如申請專利範圍第丨8項之 項透光層，進一牛目你成必段 膜其中，為該 側鄰接之上过古二玄、k日，而與該硬塗層之觀賞面 層所形成者“折射率層或上述中折射率層係由該項硬化 2 4.如申凊專利範圍第1 3項之反射 、 =透光層至少具備具有可作為高至中折射車，#、中，為該 率之高折射率硬塗層及低折射率層作：之折射 折射率層及/或一芦或-屏以///；门蚪，進一步具備高 <1 低拼鉍座昆干叉土層回折射率層、中折射率層、以芬 泠屆、、曰乃以折射率之高低可交互替換，使高折鼾玄 低折射I冑ϊ 媒體接觸之接觸面侧位置並且估 低t射士層可位於最靠近觀賞面側位置之方式積使 25述如^\折主射率硬塗層為由該項硬化層所形成者。S ’ .。申請專利範圍第24項之反射防止膜，盆 項硬化層所形成之高折射率 、防、中由该 凸表面者。 千更土層马具有防眩性之細微凹 26. 如申請專利範圍第“項之反射防止膜， 項硬化層所形成之高折射率硬厚〇由该 =值為與上述基材單獨之霧度值相等或上述基 ς之= 度值相差在10%以内者。 獨之霧 27. 如申請專利範圍第24項之反射防止膜，盆 =折射率硬塗層含有—由殘留有羥基之硬化物所構連 &劑之同日寺’與該高折射率硬塗層鄰接之含有經基之：J

   1225511 _案號91】0(UM 六、申請專利範圍 曰 修正 Γί:所率層’低折射率層、或透明導電層係藉乾 之低折射率層可位於觀賞面該反射防止膜 基材薄膜之至少一面上；：：=?方式在具有透光性之 2 9 · —種影像顯示裝置，置 _ ,, w 專利範圍第1 3至2 7項中任一 V之^\ ’ /九置係利用申請 膜之低折射率層可位於觀賞面側位置之 覆以該反射防止臈而成者。 Λ對颂不面破 間：口一在=防= 1衣。σ在具有透先性之基材薄膜之至少一面 折射率層之同時，進一步具備一二二，同 層亦可， s 4 一層以上之中折射率 上述高折射率層及中折射率層乃以 替換之方式被積層，上述高折射率層父互 少-層為’由被覆有選自氧化紹，氧化矽革;中= 錯，氧化錫，換雜有録之氧化錫（AT0) 軋化鋅’友乳化 銦（ITO)，摻雜有鋅之氧化细（IZ0)，摻右雜有錫之乳化 (AZO) ’以及摻雜有氟之氧化錫(FTQ)所構氧化鋅 化合物與有機羧酸及/或矽烷偶合劑 之一群之無機 具有。.〇卜。.一範圍内之一次酸醋偶合劑之 以及’由陰離子性極性基所構成之側鏈或：：::匕鈦， 基之側鏈結合於具有環氧乙烷鏈骨架主二二’生極性 土鍵而传到之分子 C:\ 總檔\91\91100455\91100455(替換）-i.pt c 第79頁 1225511 曰 911QQ4RR 六、申請專利範圍 構造，且具有數目平均分子量2,〇〇〇至2〇,〇〇〇 分二劑在硬化之黏合劑中均勻混合 。的 二·：申請專利範圍㈣項之中間製品，其V，L 硬化層所形成之高折射率層及/或中折射率層為呈有二； 性之細微凹凸表面者。 τ午層為具有防眩 32.如申請專利範圍第3〇項之中間製品，#中 硬化層所形成之高折射率層及/或：〉 05-0. 2 55 3〇 , ^ =規定之霧度值為與上述基材單獨之霧 <1 材單獨之霧度值相差在1%以内者。 相“上迷基 3 3 · —種反射防止薄膜用之中間品， : = 透光性之基材薄膜之至少-面A ίΠ:為：至：折射率層作用之折射率之高折射率硬ί 之中折射率具備高折射率層及/或一層或二層以上 ^述高折射率硬塗層、高折射率層、以及中折射以 斤射率之高低可交互替換且使高折射率硬塗層可位於^ 近與顯不媒體接觸之接觸面侧位置之方式被積層， 上述高折射率硬塗層、高折射率層、以及中折射率層中 =至少一層為，由被覆有選自氧化鋁，氧化矽，氧化^， ，化鍅，氧化錫，摻雜有銻之氧化錫（ΑΤ0)，摻雜有錫之 氧化銦（ΙΤΟ)，摻雜有鋅之氧化銦（ΙΖ0)，摻雜有鋁之氧化 l(AZO) ’以及摻雜有氟之氧化錫（FT〇)所構成之一群之無 機化合物與有機羧酸及/或矽烷偶合劑及/或鈦酸酯偶合劑

   1225511 月 修正 曰 i 號 911004% 六、申請專利範圍 ί具有〇.01Γ0.1 _範圍内之一次粒徑之金紅石型氧化 枉二及二•陰離子性極性基所構成之側鏈或含陰離子性 極性基之側鏈結合於呈右声备r h 4 & 4 π雕卞r生 分子構造，且具有數目鍵骨架之主鍵而得到之 物的分散劑在硬：；;上 ^ ^ 衽。劑中均句混合而成之硬化層者。 硬化層所形成之高折射率硬淨二間其巾，由该項 表面者。 斤耵半硬塗層為具有防眩性之細微凹凸 35如申請專利範圍第33項之中間製品，其中 折射率層及/或中折射率声為由 、阿 防眩性之細微凹凸表面者層為由该項硬化層所形成且具有 36.如申請專利範圍第33項之中間製品，纟中， 更化層所形成之高折射率硬塗声為 、 ^^^1.55^2.30，ΚηΙΛ /, 2〇^ 5 為與上述基材單獨之霧度值相等或上^ 相差在1 0%以内者。 土刊平询之務度值 至36項中任-項之中間製品， /、甲 上述硬化層為由含有下诚4、八4 , Λ 成物塗覆於待硬化層施覆之面上二S二要成分之塗料組 者·· 復 < 囬上而經過硬化所得之塗膜 (」）被覆有選自氧化鋁，氧化矽，氧化鋅，氧化鈐 錫，摻雜有銻之氧化錫（ΑΤΟ)，摻雜右揣 、口乳 摻雜有鋅之氧化銦画，摻雜有銦阔， 摻雜有氟之氧化錫（FT0)所構成之—群 遞Ζ〇)，以及 ^ 群之無機化合物與有 C:' 第81頁 1225511 魏 91100455 月 修止 六、申請專利範圍 機魏酸及/或石夕烧偶合劑及/或鈦酸酯偶合劑之具有〇 . Q 1〜 0 · 1 // m範圍内之一次粒徑之金紅石型氧化鈦， (2 )分子中具有羥基之電離放射線硬化性之黏合劑成分， (3)具有由陰離子性極性基所構成之側鏈或含陰離子性極 性基之側鏈結合於具有環氧乙烷鏈骨架之主鏈而得到之分 子構造’且具有數目平均分子量2, 〇〇〇至2〇,〇〇〇之化合物 的分散劑，以及 (4 )有機溶劑。 #

   C: \ 總檔\91\91100455\91100455(替換）-l.pt 第82頁