TWI295381B - A method of manufacturing a microlens substrate, a substrate with concave portions, a microlens substrate, a transmission screen, and a rear projection - Google Patents

Description

1295381 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種製造一微透鏡基板之方法、一種具有 凹部之基板、一種微透鏡基板、一種透過型螢幕及一種背 投投射器。 【先前技術】 近年來，對於一背投投射器作為一用於一家庭影院、一 較大螢幕電視或其類似物之監視器的適當顯示器之需要日 % 益增強。在一用於背投投射器之透過型螢幕中，雙凸透鏡 係通常使用者。然而，具備該等雙凸透鏡之習知背投投射 " 器具有一問題：雖然其橫向視角較大，但是其垂直視角較 - 小（意即，存在視角偏差）。 為解決該問題，提出使用具備複數個微透鏡以取代一雙 凸透鏡之光>更射元件（微透鏡基板）的透過型螢幕（例如，參 見JP-A-2000-321675)。為改良將投射之影像的對比度，將 一黑色遮罩（光屏蔽層或黑色矩陣）提供於該光漫射元件（諸 •如微透鏡基板）中。然而，與未將一黑色遮罩（光屏蔽層或 黑色矩陣）提供於該光漫射元件（微透鏡基板）中的情形相 比’光透過率（意即，發射光之量相對於進入該光漫射元 件之光之量的比率）傾向於極度下降。此外，在未將一黑 色遮罩（光屏蔽層或黑色矩陣）提供於該光漫射元件中的情 形中，可能提南光透過率。然而，在該情形中，將獲得之 影像之對比度傾向於極度下降。 【發明内容】 105974.doc 1295381 本發明之一目的在於提供可獲得一具有極佳對比度之影 像並具有極佳光使用效率及極佳視角特性的透過型螢幕及 月投投射器。 此外，本發明之另一目的在於提供一種可適當地施加至 上文所述之透過型螢幕及背投投射器之製造的微透鏡基 板0 此外，本發明之又一目的在於提供一種有效地製造上文 所述之微透鏡基板的方法。

為達成上述目的，在本發明之一態樣中，本發明係針對 一種製造一具備複數個凸透鏡之微透鏡基板的方法。該方 法包括以下步驟： 製備一由一具有光透明度之組成材料形成之基板，複數 個凹部形成於該基板之_主表面上的—可龍域中； 將-具有流動性之樹脂材料供應於該等複數個凹部已形 成於其上的該基板之一主表面上； 凝固該樹脂材料使得該已凝固樹脂材料之一絕對折射率 大於具有該等複數個凹部的該基板之組成材料的絕對折射 率’精此獲得—具有複數個凸透鏡之基底基板； 將一用於形成一光屏蔽層 士主 層之材枓供應於該基底基板之一 主表面上，該主表面與面朝呈 H4 ，、有该專禝數個凹部之基板的 该基底基板之另一主表面相對； 藉由使用於形成該光屏蔽居 _ S之材科經由該具有該等旛童f 個凹部之基板曝光來使該光 ' 主表面上；及 4屏_形成於該基底基板之_ I05974.doc 1295381 將省基底基板自該具有該等複數個凹部之基板釋放。 此使得可能提供-種製造一微透鏡基板之方法，該微透 鏡基板可適當地用於製造可獲得一具有極佳對比度之影像 並具有極仏光使用效率及極佳視角特性的透過型螢幕及背 投投射器。 在根據本發明之製造一微透鏡基板的方法中，較佳地， 在將該已凝固樹脂材料之該絕對折射率定義為⑴並將該具 有逵等複數個凹部之基板之組成材料的該絕對折射率定義 _ 為n2的情形巾，n!及n2滿足關係：〇.〇isw〇8。 • 此使得可能進一步改良所獲得之影像之對比度、使用本 、 發明之方法製造的微透鏡基板所施加至之透過型螢幕及/ 或为投投射器的光使用效率及視角特性。 在根據本發明之製造一微透鏡基板的方法中，較佳地， 該已凝固樹脂材料之該絕對折射率…在h9之範圍 内。 此使付可能進一步改良使用本發明之方法製造之微透鏡 基板所施加至的透過型螢幕及/或背投投射器之視角特 性。 在根據本發明之製造一微透鏡基板的方法中，較佳地， 該具有該等複數個凹部之基板之組成材料的該絕對折射率 Π2在1.2至1.8之範圍内。 此使得可能進一步改良所獲得之影像之對比度及使用本 發明之方法製造的微透鏡基板所施加至之透過型螢幕及/ 或背投投射器的光使用效率。 105974.doc 1295381 在根據本發明之製造一微透鏡基板的方法中，較佳地， 该具有該等複數個凹部之基板由一玻璃材料作為一主要材 料而形成。 此使得可能有效地進行使用於形成一光屏蔽層之材料曝 光的處理。 在根據本發明之製造一微透鏡基板的方法中，較佳地， 該樹脂材料凝固步驟包括以下步驟： 製備一具有一平面部分之部件；及 凝固該樹脂材料同時以該部件之該平面部分按壓該樹脂 材料。 因此，可能更均勻地產生組成該微透鏡基板之每一微透 鏡之焦距。 在根據本發明之製造一微透鏡基板的方法中，較佳地， 各具有與該已凝固樹脂材料大體相同之絕對折射率的複數 個間隔物分散於該樹脂材料中，且在該樹脂材料凝固步驟 中以該部件之該平面部分按壓該樹脂材料同時將該等複數 個間隔物提供於該具有該等複數個凹部的基板上之可用區 域中。 因此，可能更均勻地產生組成該微透鏡基板之每一微透 鏡之焦距。 在根據本發明之製造一微透鏡基板的方法中，較佳地， 該方法進一步包括以下步驟·· 在樹脂材料凝固步驟前將複數個間隔物提供於該具有該 等複數個凹部之基板之該可用區域中 q匕a τ δ亥寻稷數個間隔物 105974.doc 1295381 令之每-者具有與該已凝固樹脂材料大體相同之絕對折射 率，其中在該樹脂材料凝固步驟中於該等間隔物置放於已 供應樹脂㈣中的狀態下以該部件之該平面部分按壓該樹 脂材料。 因此’可能更均勻地產生組成該微透鏡基板之每一微透 鏡之焦距。

在根據本發明之製造—微透鏡基板的方法中，較佳地， 在樹脂材料供應步驟前，使具有複數個凹部之已製備基板 之該等複數個凹部已形成於其上的一主表面經受一脫模處 此使得可能平滑地進行自該具有料複數個凹部之基板 的基底基板釋放步驟’同時防止諸如裂痕之殘缺產生於所 形成之微透鏡中之任一微透鏡中。 在根據本發明之製造一微透鏡基板的方法中，較佳地， 其中使該具有該等複數個凹部之已製備基板之可用區域經 受該脫模處理’且使該具有該等複數個凹部之已製備基板 之除該可用區域以外的一不可用區域之至少—部分不經受 該脫模處理。 、工又 此使得可能（例如）有效地將按壓該光屏蔽層形成於其上 之該樹脂材料之表面側的部件自主基板之表面移除，^時 防止具有凹部之基板自該主基板掉落。 在根據本發明之製造一微透鏡基板的方法中，較佳地， 使該具有料複數個凹部之已製備基板之該可料域經受 该脫模處理，且使該具有該等複數個凹部之已製備基板之 105974.doc I29^XM37527號專利申請案 中文說明書替換頁(96年2月）竹1 除該可用區域以外的-不可用區域之至少__部分不經受該 脫模處理。 此使得可能平滑地進行自該具有料複㈣凹部之基板 之基底基板釋放步驟，同時防止諸如裂痕之殘缺產生於所 形成之微透鏡中之任一微透鏡中。 在根據本發明之製造一微透鏡基板的方法中，較佳地， 在該基底基板釋放步驟中藉由切斷該具有該等複數個凹部 .之基板之名不可用區域及/或該基底基板對應於該具有該 等複數個凹部之基板之該不可用區域的一部分而將該基底 基板自該具有該等複數個凹部之基板釋放。 此使得可能有效地防止歸因於光干涉引起之波紋產生。 在根據本發明之製造一微透鏡基板的方法中，較佳地， 複數個凸透鏡組成微透鏡，且當自該基底基板之一主表面 上方觀察時每一微透鏡具有一大體橢圓形狀。 此使得可能進一步改良視角特性。 > 在本發明之另一態樣中，本發明係針對一微透鏡基板。 該微透鏡基板係使用根據上文所述之發明之製造具備複數 個凸透鏡的微透鏡基板之方法而製造。 因此，舉例而言，可能使用所獲得之微透鏡基板作為一 透過型螢幕及/或一背投投射器之組件（微透鏡基板）。 在本發明之又一態樣中，本發明係針對一透過型螢幕。 本發明之透過型螢幕包括： 一具有複數個同心稜鏡形成於其一主表面上之菲涅耳透 鏡，該菲涅耳透鏡之一主表面組成其一發射表面；及 105974-960214.doc -10-

129^3¾37527號專利申請案 中文說明書替換頁(96年2月） 上文所述之本♦明之微透鏡基板，該透鏡基板配置於該 非涅耳透鏡之該發射表面之侧上使得該等複數個微透鏡形 成於其上之其一主表面面朝該菲涅耳透鏡。 此使得可能提供可獲得一具有極佳對比度之影像並具有 極佳光使用效率及極佳視角特性的透過型螢幕。 在本發明之再一實施例中，本發明係針對一背投投射 器。本發明之背投投射器包括上文所述之本發明之透過型 螢幕。 此使得可能提供可獲得一具有極佳對比度之影像並具有 極佳光使用效率及極佳視角特性的透過型螢幕。 【實施方式】 現將參看隨附圖式詳細描述根據本發明之製造一微透鏡 基板之方法、一微透鏡基板、一透過型螢幕及一背投投射 器的較佳實施例。 在此方面，在本發明中，一”基板”指示一包括具有一相 Φ 對較大壁厚且大體上無可撓性之物、薄片狀物、薄膜狀物 及其類似物的概念。此外，雖然未特定地限制本發明之微 透鏡基板之應用，但在本實施例中，將給出該微透鏡基板 主要用作一包括於一透過型螢幕及/或一背投投射器中之 組件1ί凸透鏡基板）之情形的描述。 首先’在根據本發明之一製造微透鏡基板之方法的描述 之前’將描述本發明之一微透鏡基板（凸透鏡基板）的構 型。 圖1為示意性展示根據本發明之一較佳實施例中之微透 105974-960214.doc -11- 1295381 鏡基板1的縱向橫戴面圖。圖2為圖1中展示之微透鏡基板l 的平面圖。現，在使用圖1之下述解釋中，為便於解釋， 圖1中之左側及右側分別被稱作”光入射側，，（或光入射表面） 及π光發射側π(或光發射表面）。在此方面，在以下描述 中，一 ’’光入射側’’及一”光發射側”分別指示用於獲得一影 像光之光之一”光入射側"及一"光發射側”，且若未另外指 定則其並不分別指示外部光或類似光之一"光入射側"及一 ’’光發射側’’。

微透鏡基板（凸it鏡基板Η為—包括於稍後描述之透過 型螢幕10中之部件。如圖1中所示，微透鏡基板α括：-在其i表© (光人射表面）處以—預定模式具備複數個微 透鏡(凸_1之主基板2; 一在其另—主表面處之由具有 光屏蔽效應之材料形成的黑色矩陣(光屏蔽層)3。此外，微 透鏡基板1具備在其光人射表面（意即，每-微透鏡21之光 :射側)處之-著色部分(外部光吸收部分)22;及一藉由進 行入射光漫反射而具有一脾 ^將入射光漫射至微透鏡基板}之 功能的光漫射部分4。 主基板2通常由透明之材料 、， ^ ^ +成。亚未特定限制主基板2 之組成材料，但主基板2由 攸 ,, >馬主材料之樹脂材料袓 成。該樹脂材料為一具有一 十、、， 預疋折射率之透明材料。 對於用於主基板2之具體έ 士、 〒乙嫌、體組成材料，可提及（例如）諸如 4人乙烯、水丙烯、乙烯_丙 取铷VA、U廿 、來物、乙烯-乙酸乙烯酯丘 “勿⑽A)及其類似物之聚稀 ，、 烴、聚氣乙烯、聚二氣亞Μ “烯‘、變性聚烯 乳亞乙烯、聚苯乙稀、聚醯胺(諸如 105974,doc -12- 1295381 耐綸6、耐綸46、耐綸66、耐綸61 〇、耐綸6 12、耐綸11、 耐綸12、耐綸6-12、耐綸6-66)、聚醯亞胺、聚醯胺-醯亞 胺、聚碳酸酯（PC)、聚-(4-甲基戊烯-1)、離聚物、丙烯酸 樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物（ABs樹脂）、丙烯腈-苯乙烯共聚物（AS樹脂）、丁二烯-苯乙烯共聚物、聚甲

駿、聚乙烯醇（PVA)、乙烯-乙烯醇共聚物（ev〇H)、諸如 聚對苯二甲酸乙二酯（PET)、聚對笨二甲酸丁二酯（pbt)及 聚環己烷對苯二酸酯（PCT)之聚酯、聚醚、聚醚酮（pek)、 聚醚酮（PEEK)、聚醚醯亞胺、聚縮醛（pom)、聚苯醚、 變性聚苯醚、聚砜、聚醚颯、聚苯硫醚、聚芳酯化合物、 諸如聚芳酯之液晶聚合物、諸如聚四氟乙烯（PTfe)、聚偏 二氟乙烯及其類似物之氟樹脂、諸如基於苯乙烯之彈性 體、基於聚烯烴之彈性體、基於聚氣乙烯之彈性體、基於 聚醯胺曱酸酯之彈性體、基於聚酯之彈性體、基於聚醯胺 之彈性體、基於聚丁二烯之彈性體、基於反聚（異戊二烯） 之彈性體、基於氟碳橡膠之彈性體、基於氣化聚乙烯之彈 性體及其類似物的各種熱塑性彈性體、環氧樹脂、紛系樹 脂、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂、不飽和聚酯、基於碎之樹 脂、基於胺基甲酸酯之樹脂及其類似物；及具有此等材料 中之至少一者作為一主要成份之共聚物、摻合體及聚合物 兩種或兩種 一聚合物合 之兩個或兩 合金及其類似物。此外，在本發明中，可利用 以上此荨材料的混合物（例如，一摻合樹脂、 金、一由使用兩種或兩種以上上文提及之材料 個以上層組成的層壓板）。 105974.doc -13 - 1295381

微透鏡基板1具備在其光人射表面之側上各具有一作為 一凸透鏡之凸表面的複數個微透鏡21，允許該光自該光入 射表面進人微透鏡基板丨。在本實施财，每_微透鏡η 具有-大體橢圓形狀(一平面形狀或一大體包狀），其中當 自微透鏡基板1之光人射表面上方觀察時其—縱向寬度大 於-橫向寬度。在每-微透鏡21具有該形狀之情形中:可 能特定地改良具備微透鏡基板丨之透過型螢幕1〇的視角特 性同時有效地防止諸如波紋之缺點產生。特定言之，在此 I"月幵y中，可此改良具備微透鏡基板丨之透過型螢幕1 〇之水 平及垂直方向兩者上的視角特性。 在當自微透鏡基板1之光入射表面上方觀察時每一微透 鏡21在其短軸（或次軸）方向上之長度（或間距）定義為 Libm)且每一微透鏡21在其長軸（或主軸）方向上之長度（或 間距）定義為ί2(μπι)的情形中，較佳地乙1/;^之比率在〇 ι〇 至0.99之範圍内（意即，較佳地Li及L2滿足關係： O-lOSLi/LdO.99)。更佳地其在0·50至〇95之範圍内，且進 一步更佳地其在0.60至0.80之範圍内。藉由將乙丨/^之比率 約束在上述範圍内，上文所述之效應可變得明顯。 S自微透鏡基板1之光入射表面上方觀察時，較佳地每 一微透鏡21在次軸方向上之長度^在1〇 μπι至500 μιη之範 圍内。更佳地其在30 μηι至300 μηι之範圍内，且進一步更 佳地其在5 0 μηι至1 〇〇 μπι之範圍内。在每一微透鏡2 1在次 軸方向上之長度約束於上述範圍内的情形中，可能獲得投 射於透過型螢幕1 〇上之影像的足夠解析度且進一步提高微 105974.doc 14 1295381 透鏡基板1 (包括透過型螢幕1 〇)之生產力同時有效地防止諸 如波紋之缺點產生。

此外’當自微透鏡基板1之光入射表面上方觀察時，較 佳地每一微透鏡21在主軸方向上之長度！^在15 ^❾至？” ’之範圍内。更佳地其在45 μηι至450 μηι之範圍内，且進 一步更佳地其在70 μιη至150 μιη之範圍内。在每一微透鏡 2 1在主軸方向上之長度約束於上述範圍内的情形中，可能 獲得投射於透過型螢幕1 〇上之影像的足夠解析度且進一步 提高微透鏡基板1(包括透過型螢幕1〇)之生產力同時有效地 防止諸如波紋之缺點產生。 此外，較佳地每一微透鏡2 1在其次軸方向上之曲率半徑 (下文中簡單地稱作”微透鏡2 1之曲率半徑”）在5 μηι至1 5 〇 μηι之範圍内。更佳地其在15 μιη至150 μΓη之範圍内，且進 步更佳地其在25 μηι至50 μιη之範圍内。藉由將微透鏡21 之曲率半徑約束在上述範圍内，可能改良具備微透鏡基板 1之透過型螢幕1 0的視角特性。特定言之，在此情形中， 可此改良具備微透鏡基板1之透過型螢幕1 0之水平及垂直 方向兩者上的視角特性。 此外’較佳地每一微透鏡21之高度在5 μιη至250 μηι之範 圍内更佳地其在15 μηι至150 μηι之範圍内，且進一步更 仏地其在25 ^^㈤至10〇 μηι之範圍内。在每一微透鏡21之高 度、力束在上述範圍内的情形中，可能特定地改良光使用效 率及視角特性。 此外’在每一微透鏡21之高度定義為Η(μιη)且微透鏡21 105974.doc 1295381 在其紐軸（或次軸）方向上之長度定義為Ι^(μπι)的情形 中Η及k滿足關係·· 〇.9〇<Li/H£1 ·9。更佳地^及滿足 關知· l.OSIVH^LS，且進一步更佳地^^^滿足關係： ~L! /US 1 · 6。在L!滿足該關係的情形中，可能特定地 改良視角特性同時有效地防止歸因於光干涉引起之波紋產 生。 此外，複數個微透鏡21以一犬牙織紋（h〇undst〇〇th check)方式配置於主基板2上。藉由以此方式配置該等複數 個微透鏡21，可能有效地防止諸如波紋之缺點產生。另一 方面，例如，在該等微透鏡2丨以一正方格子方式或其類似 方式配置於主基板2上的情形中，難以充分地防止諸如波 紋之缺點產生。此外，在該等微透鏡2丨以一隨機方式配置 於主基板2上的情形中，難以充分地改良該等微透鏡以在 其中該等微透鏡21形成之可用區域中之共用，且難以充分 地改良進入微透鏡基板1之光透過率（光使用效率）。另外， 所獲得之影像變暗。 雖然當自微透鏡基板1之一主表面上方觀察時微透鏡2 i 以一犬牙織紋方式配置於主基板2上（如上所述），但是較佳 地由複數個微透鏡2 1組成之第一行25相對於相鄰於該第一 行25之第二行26移動一半間距。此使得可能特定地改良視 角特性同時有效地防止歸因於光干涉引起之波紋產生。 如上所述，藉由嚴格地指定該等微透鏡21之形狀、該等 微透鏡21之配置模式、该等微透鏡2 1之共用及其類似者， 可能特定地改良視角特性同時有效地防止歸因於光干涉引 105974.doc -16- 129条3&]i37527 號專利申請案「―——— ____________________— 一1 中文說明書替換頁(％年2月）热在少η%/:， 起之波紋產生。 / 此外，每一微透鏡21形成為一向其光入射側突出之凸透 鏡，且經設計以使得其焦點f定位於提供在黑色矩陣（光屏 蔽層）3上之每一開口（未光屏蔽部分）31附近。換言之，自 一大體正交於微透鏡基板丨之方向進入微透鏡基板丨的平行 光La(來自一稍後描述之菲涅耳（Fresnel)透鏡5的平行光La) 由微透鏡基板1之每一微透鏡21聚集，且聚焦於提供在黑 色矩陣（光屏蔽層）3上之每一開口 3 1附近中之焦點f上。以 隊 此方式，因為輕擊通過每一微透鏡21之光聚焦於黑色矩陣 3之每一開口 31附近，所以可能特定地提高微透鏡基板 光使用效率。此外，因為輕擊通過每一微透鏡21之光聚焦 於母一開口 3 1附近，所以可能特定地減小每一開口 3 1之面 積0

此外，較佳地，當自該微透鏡基板1之光入射表面上方 觀察時（意即，圖2中所示之方向），其中該等微透鏡2丨形成 之可用區域中由所有微透鏡21佔據之區域（投射區域）相對 於整個可用區域的比率在90%至100%之範圍内或更多。更 佳地該比率在96%至100%之範圍内，進一步更佳地該比率 在97%至100%之範圍内。在該可用區域中由所有該等微透 鏡（凸透鏡）21佔據之區域相對於整個可用區域之比率約束 於上述範圍内的情形中，可能減少穿過除其中該等微透鏡 21存在之區域以外之區域的直射光，且此使得可能進—步 提高具備該微透鏡基板1之透過型螢幕10的光使用效率。 在此方面，在當自該微透鏡基板1之光入射表面上方觀察 105974-960214.doc •17· 1295381 日寸-微透鏡21在自該一微透鏡21之中心至包括該一微透鏡 2之四個相鄰微透鏡2未形成於其上的未形成區域之中心的 方向上之長度定義為L3(pm)，且該一微透鏡21之中心與該 未形成區域之中心之間的長度定義為L4(^m)的情形中，其 中該等微透鏡21形成之可用區域中由所有微透鏡21佔據之 區域（投射區域）相對於整個可用區域的比率可由線段長度 與線段長度L^m)之比率估計（意即= L3/L4x 1〇〇(%))(見圖 2)。 此外，如上所述，著色部分22提供於微透鏡基板i之光 入射表面上（意即，每一微透鏡21之光入射側上）。自該微 透叙機基板1之光入射表面進入其之光可有效地穿過該著 色部分22，且該著色部分22具有防止外部光反射至該微透 鏡基板1之光發射側的功能。藉由提供該著色部分22，可 能獍得具有極佳對比度之投射影像。 特定言之，在本發明中，著色部分22為藉由將一著色液 體（特定言之，一具有組合物之一特殊特徵之著色液體）供 應於主基板2上而形成者（稍後將描述）。為詳細解釋此特殊 特徵，著色部分22為藉由將一著色液體（稍後將描述）供應 於主基板2上而形成者以使得該著色液體中之著色劑滲入 主基板2(微透鏡21)之内部。在著色部分22係以此方式形成 之情形中’與著色部分22層壓於主基板2之周邊表面上的 情形相比可能提高著色部分22之黏著度。結果，例如，可 能更確定地防止歸因於著色部分22與主基板2之間的界面 附近之折射率的改變引起之對該微透鏡基板之光學特性的 I05974.doc -18- 1295381 有害影響產生。 此外，因為著色細係藉由將著色液體供應於主基板 形成’所以可能降低個別部分之厚度的變化(特定言 之:不對應於主基板2之表面形狀的厚度之變化）。此使得 可犯防止諸如顏色不均勻之缺點形成在投射影像中。此 外，雖然著色部分22自一含有著色劑之材料組成，但是其 要、’且件與主基板2(微透鏡基板”之主要組件大體相同。 因二’折射率或其類似者之快速改變很難在著色部分22與 其它未著色部分之間的邊界附近產生。結果，容易總體地 設計微透鏡基板1之光學特性，且可能使微透鏡基W之光 學特性穩定並提高其可靠性。 /並未特定地限制著色層22之色密度。較佳地，由基於光 叩透射率之γ值（D65/2。視角）指示之著色部分U的色密度 在20%至85%之範圍内。更佳地其在35%至7〇%之範圍内。 在著色部分22中之著色劑之濃度約束於上述範圍内的情形 中’可能特定地改良藉由穿過微透鏡基板1之光形成之影 像的對比度。$ -方面，在著色部分22之色密度小於上文 給出之下限的情形中，入射光之光透過率將降低且所獲得 之影像不可具有充分亮度。結果，可能該影像之對比度變 斗于不足°此外’在著色部分22之色密度高於上文給出之上 限的情形中’難以充分地防止外部光（意即，自光入射側 之相對側進入微透鏡基板1之外部光）反射，且因為當在一 明免房間中一光源完全關閉時黑色指示之前側亮度（黑色 亮度）的增加量變得較大，所以存在不可充分地獲得改良 105974.doc 19 1295381 該投射影像之對比度之效應的可能性。

並未特定地限制著色部分22之顏色。較佳地，著色部分 22之顏色為一消色差之顏色，特定地為作為使用一其中其 顏色係基於藍色與紅色、褐色或黃色在其中混合之著色劑 而表現的黑色。此外，較佳地，具有用於控制一光源之光 之三原色（RGB)的平衡之特殊波長的光選擇性地吸收於著 色邛分22中或穿過著色部分22。此使得可能防止外部光反 射。自穿過微透鏡基板1之光形成之影像的色調可受到精 確地表示’且色度座標加寬（使得色調表示之寬度充分加 I )，且因此更深之黑色可受到表示。結果，特定言之， 可能改良該影像之對比度。

此外，黑色矩陣3係提供於主基板2(微透鏡基板1}之光 發射表面上。在此情形中，黑、色矩陣3由具有一光屏蔽效 應之材料組成且以一層壓方式形成。藉由提供該黑色矩陣 3 ’可旎吸收外部光（其並非較佳地來自一投射影像）於黑色 矩陣3中且因此可能改良投射於一螢幕上之具有極佳對 比度的影像。特定言之，藉由提供如上所述之著色部分U 及黑色矩陣3 ’可能提高藉由微透鏡基板1投射之影像的對 比度。該黑色矩陣3具備複數個開口31於穿過每一微透鏡 21之光的光路上。因此，藉由每一微透鏡21聚集之光可有 效地牙過黑色矩陣3之開口 3 i。結果，可能提高微透鏡基 板1之光使用效率。 此外’較佳地黑色矩陣3之平均厚度在〇·3 _至8陶之 範圍内。更佳地其在"陶至7 _之範_，且進一步更 105974.doc -20· 1295381 佳地在1，4 μηι至6 μ〇1之範圍内。在黑色矩陣3之平均厚度 約束於上述範圍内之情形中，可能更有效地實現黑色矩陣 3之功能（意即，改良將要投射之影像的對比度的功能）同時 更確定地防止諸如黑色矩陣3之分離及裂痕的無意識缺 點。舉例而言，可能改良投射至具備微透鏡基板丨之透過 型螢幕10之一螢幕的影像之對比度。 當自微透鏡基板1之一主表面上方觀察時，黑色矩陣3中 之每一開口 3 1通常具有一對應於每一透鏡2丨之形狀的形狀 | (大體類似形狀），且比每一微透鏡21小。換言之，在本實 施例中’當自微透鏡基板1之一主表面上方觀察時，每一 開口 31具有一大體橢圓形狀（或一平面形狀或一大體包 狀），其中垂直長度大於橫向寬度（意即，其在長軸方向上 之長度大於其在短軸方向上之長度）。因為每一開口 31具 有該形狀，所以可能改良一將要投射之影像之對比度，且 特定地改良視角特性同時有效地防止諸如波紋之缺點產 生。 ¥自主基板2之^主表面上方觀察時’較佳地每一開口 31在短轴方向上之長度在5 μηι至25 0 μηι之範圍内。更佳地 其在7 μηι至150 μηι之範圍内，且進一步更佳地其在 至100 μιπ之範圍内。在每一開口 31在短軸方向上之長度約 束於上述範圍内的情形中，可能特定地改良所獲得之將投 射之影像的對比度同時改良具備微透鏡基板1之透過型登 幕1 0及/或背投投射器3 00的光使用效率。另一方面，在每 一開口 3 1在短軸方向上之長度小於上文給出之下限的情形 105974.doc • 21 - 1295381 中’存在難以提高光使用效率的可能性。此外，在每一開 口 31在短軸方向上之長度大於上文給出之上限的情形中， 存在難以充分地改良所獲得之將投射之影像的對比度的可 能性。 卜’ §自主基板2之一主表面上方觀察時，較佳地每 開口 3 1在長軸方向上之長度在1〇 ^㈤至5〇〇 之範圍 内。更佳地其在12 4„1至200 μΐη之範圍内，且進一步更佳 地其在15 0〇1至152 μηΐ2範圍内。在每一開口 31在長軸方 向上之長度約束於上述範圍内的情形中，可能特定地改良 所獲得之將投射之影像的對比度同時改良具備微透鏡基板 |之一透過型螢幕丨0及/或一背投投射器3〇〇的光使用效 率。另-方面’在每一開口 31在長軸方向上之長度小於上 文給出之下限的情形中，存在難以充分地提高光使用效率 的可能性。此外，在每一開口31在長轴方向上之長度大於 上文給出之上限的情形中，存在難以充分地改良所獲得之 將投射之影像的對比度的可能性。 此^在當自微透鏡基板丨之—主表面上方觀察時每一 微透叙2 1在短軸方向上（豆 r , 、 U、杈向方向上）之長度定義為 庚 每—開口31在短抽方向上（其橫向方向上）之長 又定義為L丨丨（μηι)的情形中，較 u π ^土地^及Ll滿足關係： 〇.2_<L|/L|，<〇8，且進牛1及v滿足關係： η⑽邮。ΓΛ—及以足關係·· 特定地改良所獲得之將投射之ϋ關係的情形中，可能 射心像的對比度同時改良具備 I05974.doc -22- 1295381 微透鏡基板1之一透過型螢幕10及/或一背投投射器300的 光使用效率。 此外在田自微透鏡基板1之一主表面上方觀察時每一 微透鏡21在長軸方向上（其縱向方向上）之長度定義為 ί2(μΠ1)，且每一開口 31在長軸方向上（其縱向方向上）之長 度定義為ιν(μιη)的情形中，較佳地^及^，滿足關係： m2/L2u 。更佳地l2及L2，滿足關係： 0^L2/L2U ’且進一步更佳地L2及，滿足關係： 0·3一I^/L2 $0.6。在L2及L2’滿足上述關係的情形中，可能 特定地改良所獲得之將投射之影像的對比度同時改良具備 微透鏡基板1之一透過型螢幕10及/或一背投投射器3〇〇的 光使用效率。 此外，一光 >哭射部分4係提供於微透鏡基板丨之光發射表 面上。光 >更射部分4具有一藉由使得入射光漫反射而使入 射光 >更射至微透鏡基板丨的功能。藉由提供該光漫射部分 4 ’可能改良視角特性。此外，光漫射部分4形成於比主基 板2之光發射表面更遠之黑色矩陣3上（微透鏡基板丨在其光 發射表面上之最外面部分）。在微透鏡基板i具有該構型之 f月幵y中可此有政地將進入光漫射部分4之入射光引導至 微透鏡基板1之光發射側（其光入射側之相反方向），且此使 得可能特定地改良透過型螢幕1〇之視角特性（意即，可能 特定地擴大將㈣至透過型#幕！ 〇之—螢$之影像可適當 地觀察的視角）。在本實施例中，光漫射部分4經建構使得 光度射介質分散為一具有極佳光透過率之大體透明材料 105974.doc -23- 1295381 (例如，基於丙稀酸之樹脂、聚碳酸酯樹脂或其類似物）。 對於光漫射介質，可提及（例如）珠狀矽石、玻璃及樹脂。 並未特定地限制該光漫射介質之平均粒徑。然而，較佳地 忒光度射介質之平均粒徑在丨μίη至5〇 μηΐ2範圍内且更佳 地其在2 μιη至1 〇 pm之範圍内。 此外，並未特定地限制光漫射部分4之厚度。然而，較 佳地光漫射部分4之厚度在0.05 mm至5 mm之範圍内。更

佳地其在0·7 mm至4 mm之範圍内，且進一步更佳地其在 1·〇 mm至3 mm之範圍内。在光漫射部分4之厚度約束於上 述範圍内的情形中，可能特定地改良視角特性同時充分地 提高光使用效率。另-方面，在光漫射部分4之厚度小於 上文給出之下限的情形中，存在藉由提供光漫射部分4之 效應不可充分達成的可能性。此外，在光漫射部分4之厚 度大於上文給出之上限的情形中，光（意即，光子）與光漫 射介質碰撞之概率（頻率）趨向於快速提高，且因此，光學 抑制較容易發生。另外，進入光漫射部分4之光（光子）返回 至光漫射部分4之光入射側的概率再趨向於升高。結果， 存在難以充分地提咼光使用效率的可能性。 因為本發明之微透鏡基板1係使用稍後將描述之製造一 微透鏡基板的方法製造，所以微透鏡基板i具有極佳光使 用效率。在此方面，較佳地微透鏡基板丨之光使用效率（音 即，自微透鏡基板以光發射表㈣出之發射《的量_ 於自其光入射表面進入微透鏡基板1的光之量的比率）為 60%或更大。更佳地其為70%或更大，且進一步更佳地其 I05974.doc -24*

129^&ll37527號專利申請案 中文說明書替換頁(96年2月） 在80。/〇至95%之範圍内。 然後，現將描述具備如上所述之微透鏡基板丨之透過型 螢幕10。 圖3為示意性展示一具備根據本發明之一較佳實施例中 之圖1中所示的微透鏡基板1之透過型螢幕1〇的縱向橫截面 圖。現在，在使用圖3之以下解釋中，為便於解釋，圖3中 之左側及右側分別稱作’’光入射側（或光入射表面），，及，，光 發射側（或光發射表面）ff。在此方面，在以下描述中，一 光入射側π及一’f光發射侧”分別指示用於獲得一影像光之 光的一 ”光入射侧”及一 ”光發射側"，且若未另外指定則其 不分別指示外部光或類似光之一"光入射側”及一”光發射 侧”。如圖3中所示，透過型螢幕10具備一菲涅耳透鏡$及 上述之微透鏡基板1。菲涅耳透鏡5配置於微透鏡基板1之 光入射表面之側上（意即，用於一影像之光之入射側上）， 且透過型螢幕10經建構以使得已由菲涅耳透鏡5透射之光 進入微透鏡基板1。 菲涅耳透鏡5具備以一大體同心方式形成於菲涅耳透鏡5 之一光發射表面上的複數個稜鏡。菲涅耳透鏡5偏轉來自 一投射透鏡（圖式中未展示）之用於一投射影像之光，並將 平行於微透鏡基板1之主表面之垂直方向的平行光La輸出 至微透鏡基板1之光入射表面的側。 在如上所述建構之透過型螢幕1〇中，來自投射透鏡之光由 菲涅耳透鏡5偏轉而成為平行光La。接著，平行光。自複數 個微透鏡2 1形成於其上之光入射表面進入微透鏡基板 -25- 105974-960214.doc

A 1295381 1 ’以藉由微透鏡基板1之微透鏡2 1中之每一者聚集，且所 聚集之光接著受到聚焦並穿過黑色矩陣（光屏蔽層）3之開口 3 1 此日守’進入微透鏡基板1之光以足夠透射率穿過微透 叙基板1，且穿過開口 3 1之光接著漫射，藉此透過型螢幕 Μ之一觀測者（觀察者）觀測到（看到）一平面影像。 接著，現將給出本發明之可適合用於製造如上所述之微 透鏡基板的一具備複數個凹部（用於形成微透鏡）之基板及 其製造方法的描述。

圖4為示意性展示本發明之具備複數個凹部6丨之基板6的 縱向k載面圖。圖5為示意性展示製造圖4中所示之具備複 數個凹部6 1之基板6的方法的縱向橫截面圖。在此方面， 雖然用於形成微透鏡2 1之複數個凹部在製造用於製造微透 鏡基板1之基板6的製造中事實上形成於基底基板7之一主 表面上，且複數個微透鏡21(凸透鏡）在製造微透鏡基板中 事貫上形成於主基板2的一表面上，但為了使解釋可理 解’在圖4及圖5中展示具有凹部之基板6的一部分以強 調。 首先將描述可用於製造一微透鏡基板1之具備複數個凹 部6 1之基板6的構型。 較佳地具有凹部（用於形成微透鏡21)之基板6由一具有 光透明度之材料（意即，一大體透明材料）形成。對於具有 用於形成彳政透4兄2 1之凹部的基板6之組成材料，可提及（例 如）诸如各種金屬材料、各種玻璃材料及各種樹脂材料之 任一材料。對於玻璃材料，可提及例如鹼石灰玻璃、結晶 105974.doc -26- 1295381

玻璃、石英玻璃、鉛玻璃、鉀玻璃、硼矽玻璃、無鹼玻璃 及其類似物。此外，對於樹脂材料，可提及（例如）包括諸 如聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙稀酉旨 共聚物（EVA)及其類似物之聚稀烴、環聚烯烴、變性聚稀 烴、聚氯乙烯、聚二氯亞乙烯、聚苯乙烯、聚醯胺（諸如 耐綸6、耐綸46、耐綸66、耐綸6 10、耐綸6 12、耐綸11、 耐綸1 2、耐論6 -1 2、对綸6 - 6 6 )、聚酸亞胺、聚醯胺-酿亞 胺、聚碳酸酯（PC)、聚-(4-甲基戊烯-i)、離聚物、丙烯酸 樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物（ABS樹脂）、丙稀腈_ 苯乙烯共聚物（AS樹脂）、丁二烯-苯乙烯共聚物、聚甲 醛、聚乙烯醇（PVA)、乙烯-乙烯醇共聚物（Ev〇H)、諸如 聚對苯二曱酸乙二酯（PET)、聚對苯二曱酸丁二酯（pBT)及 聚壞己烧對苯二酸S旨（P C T)之聚g旨、聚鱗、聚峻顚j (p e κ)、 聚醚醚酮（PEEK)、聚醚醯亞胺、聚縮醛（pom)、聚苯醚、 變性聚苯醚、聚颯、聚醚砜、聚苯硫醚、聚芳酯化合物、 諸如聚芳酯之液晶聚合物、諸如聚四氟乙烯（PTFe)、聚偏 二氟乙烯及其類似物之氟樹脂、諸如基於苯乙稀之彈性 體、基於聚烯烴之彈性體、基於聚氣乙烯之彈性體、基於 聚醯胺甲酸酯之彈性體、基於聚酯之彈性體、基於聚酸胺 之彈性體、基於聚丁二烯之彈性體、基於反聚（異戊二稀） 之彈性體、基於氟碳橡膠之彈性體、基於氣化聚乙稀之彈 性體及其類似物的各種熱塑性彈性體、環氧樹脂、紛系樹 脂、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂、不飽和聚酯、基於石夕之樹 脂、基於胺基甲酸酯之樹脂及其類似物；及具有此等材料 105974.doc • 27 - 1295381 中之至少一者作為一主要成份之共聚物、摻合體及聚合物 合金及其類似物。此外，在本發明中，可利用兩種或兩種 以上此等材料的混合物。在此等材料中玻璃材料較佳地作 為用於具有凹部之基板6的組成材料。玻璃材料通常具有 其形狀之極佳穩定性。為此原因，可能特定地改良每一凹 461之形狀的穩定性（可靠性），且詳言之，可能改良將使 用具有凹部之基板6形成的每一微透鏡21之尺寸的精確 陘。此外，亦可能提高微透鏡機基板1作為一透鏡基板的 光學特性的可靠性。以此方式，因為一玻璃材料通常具有 其形狀之極佳穩定性，所以可能改良主基板2在稍後將描 述之製造一微透鏡基板1的方法中的可掌握性。此外，一 玻璃材料通常具有光之極佳透明度及極佳透過性。為此原 因，在具有凹部之基板6由一玻璃材料形成的情形中，在 稍後將描述之製造一微透鏡基板丨的方法中可能容易地且 確定地形成具備各具有一最優大小之開口 3丨的黑色矩陣 (光屏蔽層）3〇 組成主基板2之樹脂材料（凝固狀態下之樹脂材料）通常 具有一大於彼等各種氣體中之每一者（意即，微透鏡基板ι 所使用之大氣）的絕對折射率。較佳地樹脂材料之具體絕 對折射率在丨.35Μ·9之範圍.内，且更佳地其在⑽至⑺ 之範圍内。在該樹脂材料之絕對折射率具有一在上述範圍 内之預定值的^形巾’可能進一步改良具備微透鏡基板^ 之透過型螢幕的視角特性同時保持透過型螢幕ig之光使 用效率。 105974.doc 28- 1295381 具有凹部之基板6的組成材料之絕對折射率通常大於各 種氣體（例如，空氣、各種惰性氣體及其類似物）之絕對折 射率’且小於組成上述之主基板2的樹脂材料（凝固樹脂材 料）之絕對折射率。此使得在製造一微透鏡基板1的方法（稱 後將描述）中可能以具有合適發光強度分佈的光照射光聚 合物32，且因此，可能容易地且確定地形成具備各具有一 合適大小之開口 3丨的黑色矩陣。結果，可能改良一藉由透 過型螢幕1 〇使用微透鏡基板1獲得之影像的對比度，並改 良透過型螢幕10及/或背投投射器300的光使用效率及視角 特性。 並未特定地限制具有凹部之基板6的組成材料之絕對折 射率，，、要其小於組成主基板2之樹脂材料（凝固樹脂材料） 的絕對折射率。然而，較佳地具有凹部之基板6的組成材 料之絶對折射率在h2至h8之範圍内，且更佳地其在I·” 至1·65之範圍内。在具有凹部之基板6的組成材料之絕對 折射率約束於上述範圍内的情形中，可能進一步顯著地達 成如上所述之效應。 此外，在組成主基板2的樹脂材料（凝固樹脂材料）之絕 對折射率定義為ηι且具有凹部之基板6的級成材料之絕對 折射率定義為n2的情形巾，較佳地…及h滿足關係： 0.0UW0.8。更佳地〜及〜滿足關係：〇 〇1却〜復4， 進乂更仏地ηι及n2滿足關係：〇·〇ΐ$ηι/η25〇·25。在ηι 及〜滿足該㈣的情形中，純造一微透鏡基板i的方法 (稍後將描述)中可能以具有最優發光強度分佈的光照射光 105974.doc -29- 1295381 聚合物32，且因此，可能容易地且確定地形成具備各具有 一最優大小之開口 3 1的黑色矩陣。結果，可能改良一藉由 透過型螢幕1 〇使用微透鏡基板1獲得之影像的對比度，並 進一步改良透過型螢幕10及/或背投投射器300的光使用效 率及視角特性。 具有用於形成微透鏡21之凹部的基板6具有一其中凹部 6 1對應於組成微透鏡基板1之微透鏡21的形狀，且具備用

於形成微透鏡基板2 1之以對應於微透鏡基板1之微透鏡2 i 的配置模式之方式配置的複數個凹部6丨。每一凹部6丨通常 具有與每一微透鏡21大體相同之大小（除每一微透鏡21為 一凸部而每一凹部61為一凹部以外相同，且其中一者具有 相對於另一者之鏡像關係），且凹部6丨具有與微透鏡2丨相 同之配置模式。 對其洋細地解釋，在本實施例中，每一凹部6 1 (用於形 成微透鏡21之凹部61)具有一大體橢圓形狀（或一平面狀或 大體匕狀），其中當自具有用於形成微透鏡2丨之凹部的 基板6之-主表面上方觀察時其垂直長度大於橫向寬度(意 即，其在一長軸方向上之長度大於其在一短軸方向上之長 度)。因為每一凹部61具有該形狀，所以可能適當地利： U透叙基板1之製^ ’其可特定地改良視角特性同時有效 地防止諸如波紋之缺點產生。 此外，在當 —士— /、有凹部之基板6的外部周邊表面上方觀 祭4母一凹部61在苴短為^ — ，、紐軸（或次軸）方向上之長度（或間距） 疋義為L|(_且每_凹部61在其長軸（或主轴）方向上之長 105974.doc •30· 1295381 度（或間距）定義為Ι^(μπι)的情形中，較佳地li/L2之比率在 0.10至〇·99之範圍内（意即，較佳地^及匕2滿足關係： 0.10SL丨/Leo.99)。更佳地其在〇.50至〇95之範圍内，且進 一步更佳地其在0.60至0·80之範圍内。藉由將^/^之比率 約束在上述範圍内，上文所述之效應可變得明顯。

此外，當自具有凹部之基板6的外部周邊表面上方觀察 時，較佳地每一凹部61在次軸方向上之長度^在1〇 |^111至 500 μηι之範圍内。更佳地其在30 (^至3〇〇 μιη之範圍内， 且進一步更佳地其在50 μπι至1〇〇 μπΐ2範圍内。在每一凹 部6 1在次軸方向上之長度約束於上述範圍内的情形中，可 能獲得投射於透過型螢幕10上之影像的足夠解析度且進一 步提高微透鏡基板1(及具有凹部之基板6)之生產力同時有 效地防止諸如波紋之缺點產生。 此外’當自具有凹部之基板6的外部周邊表面上方觀察 時’較佳地每一凹部61在主軸方向上之長度l2在15 μηι至 750 μιη之範圍内。更佳地其在45 0111至45〇 μιη之範圍内， 且進一步更佳地其在75 μηι至150 μηι之範圍内。在每一凹 部61在主軸方向上之長度約束於上述範圍内的情形中，可 能獲得投射於透過型螢幕1 〇上之影像的足夠解析度且進一 步提高微透鏡基板1(及具有凹部之基板6)之生產力同時有 效地防止諸如波紋之缺點產生。 此外’較佳地每一凹部61在其次軸方向上之曲率半徑 (下文中簡單地稱作”凹部61之曲率半徑”）在5 μηι至150 μιη 之範圍内。更佳地其在15 μπι至150 μηι之範圍内，且進一 105974.doc 31 1295381 步更佳地其在25 μτη至50 μηι之範圍内。藉由將凹部61之曲 率半徑約束在上述範圍内，可能改良具備微透鏡基板1之 透過型螢幕1 0的視角特性。特定言之，在此情形中，可能 改良具備微透鏡基板1之透過型螢幕10之水平及垂直方向 兩者上的視角特性。

此外，較佳地每一凹部61之深度在7 μιη至375 μιη之範圍 内。更佳地其在22 μιη至225 μηι之範圍内，且進一步更佳 地其在3 7 μιη至75 μηι之範圍内。在每一凹部6 1之深度約束 在上述範圍内的情形中，可能改良具備微透鏡基板丨之透 過型螢幕1 0的光使用效率及視角特性。 此外，在每一凹部61之深度定義為D(|Llm)且每一凹部61 在一紐軸方向上之長度定義為ί|(μηι)的情形中，較佳地D 及1滿足關係nL|/㈣。更佳地〇及匕丨滿足關係： 0.1 &/DU.4，且進一步更佳地D及L丨滿足關係·· OWIVDSl.G。在时^滿足如上所述之該關係、的情形中， 可能特定地改良將製造之微透鏡基板1之視角特性同時有 效地防止歸因於光干涉引起之波紋產生。 此外’稷數個凹部61以-犬牙織紋方式配置於具有凹邻 之基板6的外部周邊表面上。藉由以此方式 數 個凹部6 1，可能有对土士狀μ + 寺後數 此有效地防止啫如波紋之缺點產生。另一方 面，舉例而言，在該篝阳邮6】 在及寻凹。卩61以一正方格子方 方式配置於具有凹部之其a t 乂/、六員似 有凹。卩之基板6的外部周邊表面上的 '，難以充分地防止諸如波紋之缺點產生。此外，蝴 凹部61以-隨機方式配置於具有凹部之基板6的外部周邊 105974.doc -32 - 1295381 表面上的情形中，難以充分地改良該等凹部61在其中該等 凹部61形成之可用區域中的共用，且難以充分地改良進入 微透鏡基板及/或具有凹部之基板的光透過率（意即，光使 用效率）。另外，所獲得之影像變暗。 此外1然當自如上所述之具有凹部之基板㈣一主表 面上方觀察時凹部61以—犬牙織紋方式配置於具有凹部之 基板6上，但是較佳地當自具有凹部之基板6的一主表面上 方觀察時，凹部61之-第_行相對於相鄰於凹部61之該第 -行的凹部61之1二行在其短軸方向上移動每—凹部Μ 的-半間距。此使得可能特定地改良視角特性同時有效地 防止歸因於光干涉引起之波紋產生。 在此方面，在上述解釋中，已描述每一凹部“具有與微 透鏡基板1所具備之每一微透鏡21大體相同的形狀（大小）， 且該等凹部61具有與該等微透鏡21大體相同之配置模式。 然而，舉例而言，在微透鏡基板丨之主基板2的組成材料趨 向於容易收縮的情形中（意即，在組成主基板2之樹脂材料 藉由凝固或類似方式收縮的情形中），鑒於收縮百分比或 其類似者’相對於微透鏡基板1所具備之每一微透鏡2 ^的 形狀（及大小）、共用或其類似者與具有凹部（用於形成微透 鏡基板2 1)之基板6所具備的凹部6 1可互不相同。 此外，在本實施例中，一已經受一脫模處理之已脫模處 理部分62提供於具有凹部之基板6的凹部61所形成之範圍 (可用區域）之表面附近’同時一從未經受一脫模處理之未 脫模處理部分6 3提供於凹部未形成之範圍（不可用區域） 105974.doc -33 - I29538l 中。以此方式’藉由提供已脫模處理部分62及未脫模處理 °分63兩者’例如，可能自主基板2之表面有效地移除一 斗件（平板9)，該部件（平板9)用於按壓一光屏蔽層（黑色矩 陣3)形成於其上之樹脂材料23的表面，同時防止在製造一 '支透鏡基板1之方法（稍後將詳細描述）中形成主基板2之後 (思、即，凝固樹脂材料23之後）具有凹部之基板6自主基板2 掉洛。此外，在本實施例中，未脫模處理部分63由一黏附 I 元件64形成。因此’當自主基板2之表面移除用於按壓一 _ 光屏1層（黑色矩陣3)形成於其上的樹脂材料23之表面的部 件（平板9)時，可能有效地防止形成主基板2之後（意即，凝 固樹脂材料23之後）具有凹部之基板ό自主基板2掉落。 然後，現將參看圖5描述根據本發明之製造具有凹部之 基板6的方法。在此方面，雖然用於形成微透鏡^之複數 凹邛6 1事κ上幵》成於一基底基板7中，但為了使解釋可 理解在圖5中展示基底基板7之一部分以強調。 首先，在製造具有凹部之基板6中製備一基底基板7。 • 較佳地具有一大體管柱形狀或大體圓筒形狀之基底材料 可用於基底基板7。此外，亦較佳地具有一藉由清洗或類 似方式α冷之表面的基底材料可用於基板7。 雖然鹼石灰玻璃、結晶玻璃、石英玻璃、鉛玻璃、鉀玻 璃、硼矽玻璃、無鹼玻璃及其類似物可提及用作基底基板 7之-組成材料’但其中驗石灰玻璃及結晶玻璃（例如，新 型^瓷（ne〇Ceram)或其類似物）為較佳的。藉由使用鹼石灰 玻璃、結晶玻璃或無鹼玻璃，可能改良其形狀之穩定性及 j05974.doc -34- 1295381 2所述之光之透過率，且其易於處理用於基底基板7之 …另外，因為鹼石灰破璃或結晶玻璃相對廉價，所以 自具有凹部之基板6之制；生+ 士 ^ 孜之l w成本的硯點來看，其為有利 的0 如圖5八中所不’—遮罩（層）8形成於所製備之基底 土板7之表面上(遮罩形成處理)。接著’ 一背表面保護薄膜 ㈣成於基底基板7之背表面上（意即，與遮罩崎形成於 :上之表面相對的表面側)。不必說，遮罩8與背表面保護 薄膜8 9可同時形成。 亚未特定地限制遮罩8之組成材料，可提及（例如）諸如 鉻、金、鎳、鈦、鉑及其類似物之金屬、含有自此等金屬 選擇之兩種或兩種以上金屬的金屬合金、此等金屬之氧化 物（金屬氧化物）、矽、樹脂及其類似物。 此外，遮罩8可為_〇)有一大體均句，组合物或具 有由複數個層組成之層壓結構者。 如上所述，並未特定地限制遮罩8之結構，且較佳地遮 罩δ具有-由鉻作為—主要材料形成之層及由氧化絡作為 -主要材料形成之層建構的層壓結構。具有該結構之遮罩 8相對於具有各種結構之各種腐蝕材料具有極佳穩定性（意 即，可能在一蝕刻處理（稍後將描述）中更確定地保護基底 基板7)，且可能藉由稍後將描述之雷射束或其類似物的輻 射而容易地並確定地形成各具有一所要形狀之開口（初始 孔81)。此外，在遮罩8具有如上所述之該結構的情形中， 舉例而言，一含有氟化氫銨（NH4HF2)之溶液可適合用作蝕 105974.doc -35- 1295381 刻處理（稍後描述）中之㈣劑。因為含有氟化氫敍之溶液 無毒’所以可能更確定地防止其在工作中或環境中對人體 之影響。料’ t羊言之’具有該結構之遮罩8使得可能有 效地降低遮罩8之内應力，且該遮罩8具有與基底基板7之 極佳黏著力（意即’詳言之’在㈣處理中遮罩8與基底基 板7的黏著力）。為此等原因’藉由使用具有上述結構之遮 罩8 ’可能容易地並確定地形成各具有—所要形狀之 61 〇 八並未特定地限制形成遮罩8之方法。在遮罩8由諸如鉻及 金之金屬材料（包括金屬合金）或諸如氧化鉻之金屬氧化物 的任一者組成的情形中，舉例而言，遮罩8可藉由一蒸鍍 方法、一濺鍍方法或其類似方法適當地形成。另—方面， 在遮罩8由矽形成之情形中，舉例而言，遮罩8可藉由一濺 去 化予軋體沉積（CVD)方法或其類似方法適當地 形成。 雖然遮罩8之厚度亦視組成遮罩8之材料而變化，但較佳 地遮罩8之厚度在0·01 μπι至2.0 nm之範圍内，且更佳地其 在〇·〇3 μιη至0.2 μηι之範圍内。若遮罩8之厚度小於上文給 貝】了存在使在初始孔形成處理（或稍後將描述 、’、开y成處理）中形成之初始孔（開口）8丨之形狀視遮罩8 或其類似物的組成材料變形的可能性。另外，存在對基底 之掩蔽σ卩分之充分保護不可在餘刻步驟（稍後描述）中 …、气I虫刻處理期間獲得的可能性。另一方面，若遮罩8 予又 ；1文給出之上限，則除初始孔形成處理（稍後 I05974.doc -36- 1295381 描述）中穿過遮罩8的初始孔8 1之形成的困難以外，將存在 遮罩8歸因於視遮罩8之組成材料或其類似物之其内應力而 視遮罩8或其類似物之組成材料趨向於容易地移除的情 形。

为表面保護薄膜89在隨後處理中將提供以保護基底基板 7之背表面。藉由背表面保護薄膜89可適當地防止基底基 板7之背表面的腐蝕、劣化或類似破壞。因為背表面保護 /專膜89具有（例如）與遮罩8相同之構型，所以其可以與遮罩 8之形成類似的方式與遮罩8之形成同時提供。 <A2>然後，如圖5B中所示，將在蝕刻處理（稍後描述）中 作為遮罩開口利用之複數個初始孔81以一隨機方式形成於 遮罩…初始孔形成處理並未特定地限制形成初始孔81 之方法’但較佳地初始孔8丨藉由物理方法或雷射束之輕射 形成。此使得可能容易地並準確地形成 …有-所要形狀的初始孔81。結果，可能更確= :―凹部61之形狀、配置模式或其類似者。此外，藉由 雷射之輻射形成初始孔8 1，可能μ ^^ &曰 凹部之基板6。詳.之，”：：以“生產力製造具有 較大基板上。㈣凹部可容易地形成於—相對 &外’在初始孔8 蕤 並去牡― 係精由田射束之輻射形成的情形中 、’捋疋地限制所使用雷 兩以 ，， 來之種類，但可提及έ了贪 田射、半導體雷射、Υ 兩 、，貝 ^ 田射、耄微微秒雷射、诎士 射、YV〇4雷射、气名干u /田耵、破璃 八；+ 缉射、氬雷射、二氧化碳雷鼾 刀子雷射或其類似者。此外 田射、 r 了利用堵如SHG(二次批 I05974.doc -37- 1295381 產生）、THG(二次諧波產生）、FHG(四次諧波產生）或其類 似者的雷射波形。

如圖5B中所示，當初始孔81形成於遮罩8中時，初始凹 部71亦可藉由移除除初始孔81以外之基底基板7之表面的 部分而形成於基底基板7中。此使得當具有遮罩8之基底基 板7經受蝕刻處理（稍後描述）時可能增加基底基板7與蝕刻 劑的接觸面積，藉此腐蝕可適當地開始。此外，藉由調整 每一初始凹部71之深度，亦可能調整凹部6丨之深度（意 即，透鏡（微透鏡21)之最大厚度）。雖然並未特定地限制每 一初始凹部71之深度，但較佳地其為5.0 μιη或更小，且更 佳地其在約0.01 μΓη至〇5 μηΐ2範圍内。在初始孔81之形成 係藉由雷射束之輻射執行的情形中，可能確定地減少與初 始孔8 1 —起形成之複數個初始凹部71中的每一者之深度的 變化。此使得可能減少組成具有凹部之基板6的每一凹部 61之深度的變化，且因此可能減少最終獲得之微透鏡基板 1中之每一微透鏡21之大小及形狀的變化。結果，詳言 之，可能減少每一微透鏡21之透鏡的直徑、焦距及厚度的 變化。 並未特定地限制本處理中所形成之每一初始孔81的形狀 及大小。每一初始孔8丨之形狀為一大體圓形形狀。在每一 初始孔8丨為一大體圓形形狀的情形中，較佳地每一初始孔 8 1之直徑在〇. 8 μιη至20 μηι之範圍内。更佳地其在1〇 μπι =1〇 pm之範圍内，且進一步更佳地其在ΐ5 ^爪至斗之 fe圍内在每一初始孔8 1之直徑約束於上述範圍内的情形 105974.doc -38 · !295381 士 °匕在餘刻處理（稍後將描述）中確定地形成各具有 一：之形狀的凹部61。另一方面，在每-初始孔81為 4如一大體橢圓形狀之平面形狀的情形中，可能以其在 短軸方向+ p 门上之長度（意即，其寬度）替代其直徑。即，在於 本處理中戶斤# + ^ 、， 烙成之母一初始孔81為大體橢圓形狀的情形 之夏未特定地限制每一初始孔8 1之寬度（在短軸方向上 之長度），但每一初始孔81之寬度在〇·8 μιη至20 μιη之範圍 更佳地其在丨· 〇 μηι至1〇 之範圍内，且進一步更佳 地其在1.5 4111至4 μηι之範圍内。在每一初始孔81之寬度約 束於上述範圍内的情形中，可能在-蝕刻處理(稍後將描 D中崔疋地形成各具有如上所述之形狀的凹部6 1。 此外，在於本處理中所形成之每一初始孔8丨為一大體橢 圓幵y狀的6形中，並未特定地限制每一初始孔8 1之長度 (在長軸方向上之長度），但每一初始孔81之寬度在〇.9^2 至30 μιη之範圍内。更佳地其在15 4111至15 μιη之範圍内， 且進一步更佳地其在2·0 μιη至6 μιη之範圍内。在每一初始 孔8 1之寬度約束於上述範圍内的情形中，可能在一蝕刻處 理（稍後將描述）中更確定地形成各具有如上所述之形狀= 凹部6 1。 此外，除藉由雷射束之輻射，可藉由（例如）當遮罩8形 成於基底基板7上時預先將外來物件以一預定模式配、 置於 基底基板7上並接著藉由設計將遮罩§形成於具有外來物件 之基底基板7上以形成遮罩8中之殘缺以使得將該等殘缺利 用為初始孔81來使初始孔81形成於已形成之遮罩8中 105974-doc -39- 1295381 、 著如圖5 c中所示，藉由使基底基板7經受使用 初如孔8 1形成於其中之遮罩8的蝕刻處理（蝕刻處理），大量 凹^ 6 1以一隨機方式形成於基底基板7中。並未特定地限 制1虫刻方法’且對於㈣方法，可提及（例如）濕式|虫刻處 理、乾式蝕刻處理及其類似處理。在以下解釋中，將描述 使用濕式蝕刻處理之情形作為一實例。 士圖5C中所示’藉由使由初始孔81形成於其中之遮罩8 覆蓋之基底基板7經受濕式蝕刻處理，基底基板7自其中無 遮罩8存在之部分腐餘，藉此大量凹和形成於基底基板7 中。如上文所提及，因為形成於遮罩8中之初始孔81以一 大牙織紋方式配置，所以將形成之凹部61亦以犬牙織紋方 式配置於基底基板7之表面上。 此外，在本實施例t，當初始孔81在步驟<A2>處形成 於^罩8中時’初始凹部71形成於基底基板7之表面上。此 使得Μ刻處理期間基底基板7與㈣劑之接觸面積增 加’猎此可使得腐㈣當地開始。此外，凹部叫藉由利 用濕式蝕刻處理適當地形成。在將含有(例如)氟化氫銨之 敍刻劑利用作—㈣劑時，基底基板可更加有選擇性地腐 餘’且此使得可能適當地形成凹部6 1。 在遮罩8主要由鉻組成(意即，遮罩8由含有鉻之材料作 :其主要材料形成)之情形巾’氟化氫銨溶液可特定地適 :用作-基於氫氟酸之蝕刻劑。因為含有氟化氫銨之溶液 無毒’所以可能更確定地防止其在卫作中或環境中對/人體 之影響。此外’在氟化氫銨溶液用作—蝕刻劑的情形中， 105974.doc -40- 1295381 此使得可能加快|虫 舉例而ϋ，過氧化氫可含於蝕刻劑中 刻速度。 此外’濕式蝕刻處理可使用與乾式蝕刻 單之設備進行，且14 Α ^ 文間 且其允卉一次處理更多數量基板7。此使 得可能提高具有I4 、 有凹°卩之基板6的生產力，且其可能以更低 成本提供具有凹部之基板6。

<A4>2後，將遮罩8如圖5D中所示移除（遮罩移除處 理）°此k ’背表面保護薄膜89亦與遮罩8-起移除。在遮 罩8由-由鉻作為一主要材料形成之層及由氧化鉻作為一 主要材料形成之層建構的層I结構組成（如以上所述）的情 形：，舉例而[遮罩8之移除可藉由一使用硝酸銨鈽與 過氯酸之混合物之|虫刻處理進行。 <A5>然後，如圖5E中所示，將一分離薄片13所附著至 之黏附元件64施加至基底基板7中未形成凹部以不可用 區域（相對於複數個凹部61所形成之可用區域不可用的區 域）。黏附元件64主要由黏著劑形成，且其兩個主表面^ 有與（黏結體）黏附體緊密接觸之功能。作為黏著劑，可提 及（例如）基於丙烯酸之黏著劑、基於聚_之黏著劑、基於 胺基甲酸酿之黏著劑、基於橡膠之黏著劑及其類似物：、 分離薄片13之與黏附元件64相對之表面由具有脫模能力 之材料（脫模劑）形成，其可能以所需之相冑較小力自黏 附元件64釋放分離薄片13。對於脫模劑’可提及（例如）諸 如烷基聚矽氡烷之基於聚矽氧之樹脂、諸如聚四氟乙烯之 基於氟之樹脂、各種蠟、醇酸樹脂、聚酯樹脂、丙烯樹 105974.doc -41 - 1295381 月曰、纖維素樹脂、諸如六甲基二石夕氮烧（[(CHASi]2NH)及 其類似物之矽烷化劑產生的矽烷化材料。 <A6>接著，使凹部61提供於其上之基底基板7的表面經 受一脫模處理（見圖5F)。因此，獲得具有凹部之基板6(更 具収σ之，分離薄片1 3所附著至之具有凹部的基板6)。藉 由使具有凹部之基板6經受該脫模處理，在製造一微透鏡 基板1的方法（稍後將詳細描述）中，可能容易地自微透鏡基 板1移除具有凹部之基板6同時充分地防止諸如裂痕之殘缺 在微透鏡基板丨之微透鏡21中產生。詳言之，在本實施例 中，使基底基板7經受脫模處理，同時將分離薄片13所附 著至之黏附元件64施加至其中未形成凹部61的不可用區 域。為此原因，從未經受一脫模處理之未脫模處理部分63 提供於不可用區域中。因此，舉例而言，可能自主基板2 之表面有效地移除一用於按壓一光屏蔽層（黑色矩陣3)形成 於其上之樹脂材料23之表面的部件（平板9)，同時防止在製 造一微透鏡基板1之方法（稍後將詳細描述）中形成主基板2 之後（意即，凝固樹脂材料23之後）具有凹部之基板6自主基 板2掉落。 對於脫模處理，由一具有脫模能力之材料形成之薄膜的 形成，可提及（例如）諸如烷基聚矽氧烷之基於聚矽氧之樹 脂、諸如聚四氟乙烯之基於氟之樹脂、藉由諸如六甲基二 石夕氮烷（[(CI^hSihNH)之矽烷化劑之矽烷化材料的表面處 理、藉由基於氟之氣體的表面處理或其類似物。 作為上文中之處理的結果，如圖5F及圖4中所示，許得 105974.doc •42- 1295381 其中大量凹部6U乂一犬牙織紋方式形成於基底基板7中的 具有凹部之基板6。 亚未特定地限制將複數個凹部61以一犬牙織紋方式形成 於基底基板7之表面上的方法。在凹部“藉由上文提及之 方法（思即，藉由由雷射束之輻射將初始孔8丨形成於遮罩8 中且接者使基底基板7經受使用遮罩8之蝕刻處理而將凹部 61形成於基底基板7中的方法）形成的情形中，可能獲得以 下效應。

即’藉由由f射束之輕射在遮罩8中形成初始孔81，斑 f由習知光微影方法在遮罩8中形成開Π的情形相比可能 合易地亚廉價地在遮罩8中以—預定模式形成開口（初始孔 川。此使得可能提高具有凹部之基板6的生產力，藉此可 能以—更低成本提供具有凹部之基板6。 此外根據如上所述之方法，可能容易地進行對一較大 基板之處理。同樣，柄嫉 y ^ 根據该方法，在製造該較大基板之情 形中，無需以習知方法釉姓、—

钻、、?旻數個基板，藉此可能消除出 見^、，，口之接縫。此使得 A 製造具有用於形成微透較低成本之簡單方法 即，微透鏡基板υ。 部的高品質較大基板6(意 此外’在藉由雷射走 I之幸田射形成初始孔81的情形中 月b谷易地亚確定地控 、 小、1配置及I# j將形成之母一初始孔81的形狀及大 配置及其類似者。 然後’現將描述使 的方法。 一有凹邛之基板6製造微透鏡基板1 105974.doc -43 - !295381 圖6為示意性展示製造圖1中所示之微透鏡基板1之方法 的實例的縱向橫截面圖。圖7為用於解釋當使光聚合物 曝光日寸之光之折射及照射至該光聚合物的光之發光強度分 佈的圖式。現在，在使用圖ό之以下解釋中，為便於解 釋圖6中之下側及上側分別稱作”光入射側”及，，光發射側，，。 —<Β 1 >如圖6 a中所示，在分離薄片丨3已移除之狀態下， 將一具有流動性之樹脂材料23(例如，一軟化狀態下之樹 月曰材料23、一未聚合（未固化）樹脂材料23)供應至凹部6丨形 成於其上之具有用於形成微透鏡21之凹部的基板6的表 面，且接著藉由一平板9將樹脂材料23按壓。詳言之，在 本實施例中，將樹脂材料23藉由平板9按壓（或推按）同時將 間隔物20提供於具有凹部之基板6與平板9之間。因此，可 能更確定地控制所形成之微透鏡基板丨之厚度，且此使得 可能更確定地控制最終獲得之微透鏡基板1中個別微透鏡 21的焦點。另外，可能更有效地防止諸如顏色不均勻之缺 點產生。 母一間隔物20由一具有幾乎與樹脂材料23(凝固狀態下 之樹脂材料23)相#之折射率的材料形成。#由使用由該 材料形成之間隔物20，即使在間隔物2〇配置於具有凹部之 基板6之任一凹部61形成於其之每一者中的部分中的情形 中，仍可能防止間隔物20具有對所獲得之微透鏡基板丨之 光學特性的有害影響。此使得可能將一相對較大數目之間 隔物20提供於具有凹部的基板6之一主表面上的整個可用 區域上方。結果，可能有效地免除歸因於具有凹部之基板 J05974.doc -44 - 1295381 6及/或平板9之撓曲或類似者產生的影響，且此使得可能 更確定地控制所獲得之微透鏡基板1之厚度。 雖然如上所述間隔物20由具有幾乎與樹脂材料23(凝固 狀態下之樹脂材料23)相等之折射率的材料形成，但更具 體言之，較佳地間隔物20之組成材料的絕對折射率與凝固 狀態下之樹脂材料2 3的絕對折射率之間之差的絕對值為 0.20或更小，且更佳地其為〇.1〇或更小。進一步更佳地其 為0.20或更小，且最佳地間隔物2〇由與凝固狀態下之樹脂 材料2 3相同的材料形成。 並未特定地限制每一間隔物2〇之形狀。較佳地間隔物2〇 之形狀為一大體球形或一大體圓柱形。在每一間隔物加具 有該形狀的情形中，較佳地間隔物2〇之直徑在1〇 ^㈤至〕^ μιτι之範圍内，且更佳地其在3〇 之範圍内。進 一步更佳地其在30 μιη至17〇 μπι之範圍内。 在此方面，在使用如上所述之間隔物20之情形中，當凝 固樹脂材料23時可將間隔物2〇提供於具有凹部之基板6與 平板9之間。因此，並未特定地限制供應間隔物之時 、 此外舉例而吕，間隔物2 0預先分散於其中之樹脂材 料23可用作將供應至凹部61形成於其上之具有凹部的基板 6之表面上的樹脂，或當將間隔物20提供於具有凹部之基 勺表面上時可將樹脂材料2 3供應於其上。或者，可在 將树脂材料23供應至具有凹部之基板6的表面上後將間隔 物2 0供應於其上。 此外’如上所述可使用於按壓樹脂材料23之平板9之表 l〇5974.d〇c -45 - 1295381 面經受脫模處理。此使得可能有效地將平板9自主基板 表面移除，同時防止在以下步驟中具有凹部之基板 基板2掉落。 9 $ 人必然後’使樹脂材料23凝固（在此方面，包括硬化（聚 合）），且接著將平板9移除（見圖6B)。以此方式，獲得: :复數個微透鏡詳言之’滿足諸如形狀、配置及其類似 上所述之條件的微透鏡21)之主基板2，該等複數個 、Λ透兄21由填充於複數個凹部61(其中之每-者用作 兄）中之樹I材料23組成。在樹脂材料23之凝固係芦 硬化（聚合）進行的情形中，並未特定地限制其方法，^根 據樹脂之種類適當地選擇。舉例而言，可提及諸如紫外線 之光之照射、加熱、電子束照射或其類似者。 <B3>然後，將描述將一黑色矩陣（光屏蔽層p形成於如 所述製造之主基板2之光發射表面上的處理。 在本發明中，光屏蔽層之形成係使用其中將用於形成一 先屏蔽層之材料供應於基底基板2之主表面上並接著將用 於形士該光屏蔽層之材料曝光的處理來進行。用於形成該 光屏蚊層之材料可為任何一種’只要其 之組件。在以下解釋中，將描述-正類型光聚 形成光屏蔽層之材料。 用作 "先女圖6C中所不’將一具有光屏蔽（阻斷）效應之正 類型光聚合物32供應於主基板2之光發射表面上。料將 正頬型光聚合物32供應於主基板2之光發射表面上的方 法’可利用（例如）諸如一浸潰塗覆法、一到刀塗覆法、一 105974.doc -46- 1295381 方疋塗法、一刷塗法、_ 舜 % & 頁主法、一靜電塗覆、一電鍍塗 復、一滾塗機或其類似者 .^ ^ 〇 有之各種颁型的塗覆方法。正類型 + 八有先屏敝（阻斷）效應之樹脂組成’或 可為其中具有光屏蔽（阻 斷）效應之材料分散至或溶解至一 /、有較低光屏蔽（阻斷）钕 呵）政應之树月曰材料中的一者。若需 要，則諸如一預烘焙處理 处里之熱處理（例如）可在供應正類型 光來合物3 2後進行

<Β4>然後，如圖6D中所示，用於曝光之光Lb以垂直於 主基板2之光入射表面的方向經由具有凹部之基板6照射至 主基板2。用於曝光之照射光Lb藉由進人每—微透鏡？！而 折射並聚集。II由聚集該等照射光Lb，使其中具有較大發 光強度（光通量）之聚集光所照射之部分處的正類型光聚合 物32曝光，且使對應於除聚集光^所照射之部分外之部分 的正類型光聚合物32未曝光或稍微地曝光（意即，曝光程 度較小）。以此方式，僅使在具有較大發光強度（光通量）之 聚集光Lb所照射之部分處的正類型光聚合物32曝光。 接著進行顯影。在此情形中，因為光聚合物32為一正類 型光聚合物，所以將具有較大發光強度（光通量）之聚集光 Lb所A?、射之部分處的已曝光光聚合物32藉由顯影溶融並移 除。結果，如圖6E中所示，提供其中開口 31形成於對應於 微透鏡22之光軸L的部分上的黑色矩陣3。該顯影方法可視 正類型光聚合物3 2或其類似物之組成而任意地選擇。舉例 而言，本實施例中之正類型光聚合物32之顯影可使用諸如 氫氧化钟或其類似物之溶液之驗水（alkaline aqueous)溶液 I05974.doc -47- 1295381 而進行。 者至主基板2時，進行用 ’具有凹部之基板6之組 現在，當將具有凹部之基板6附 於曝光之光Lb的照射。如上所述 成材料的絕對折射率大於各種氣體（例如，空氣、各種惰 性氣體及其類似物）之絕對折射率 且小於組成主基板2之

樹脂材料（凝固樹脂材料）的絕對折射率。因此，如上所述 當使用於€光之光Lb進人主基板2同時具有凹部之基板6附 著至其上時，與使用於曝光之光Lbm基板2同時具有 凹部之基板6未附著至其上的情形相比，用於曝光之光。 之折射程度變得更小。因此，在使用於曝光之光Lb進入主 基板2同時具有凹部之基板6未附著至其的情形，與使用於 曝光之光Lb進入主基板2同時具有凹部之基板6附著至盆的 情形相比，可能擴大光之折射程度。為此原因，#於開口 (未光屏蔽部分）31之選擇性形成及一影像之對比度的改 良，似乎較佳地使用於曝光之光。進入主基板2同時使具 有凹部之基板6附著至其 '然而，本發明者發現在此情形 中存在任-以下問題。藉由微透鏡21聚集之光在光照 射部分處不具有平均發光強度（光通量），但具有預定發光 強度分佈（見圖7B)。為此原因，在發光強度（光通量）相對 較低（思即，發光強度（光通量）低於用於曝光所需之發光強 度Z。)的部分處不可能使用於形成一光屏蔽層之材料曝 光’儘管該部分由光照射。換言之，在主基板2之光發射 表面側處之光點的大小（意即，折射光之光點直徑）變得大 於將形成之每一開口 (未光屏蔽部分)31之大小。結果，當 I05974.doc •48- 1295381 使平行光La進入最終獲得之微透鏡基板丨時，吸收於黑色 矩陣3中之光（折射光）的比率變得較高，且因此，此使得具 備微透鏡基板1之透過型螢幕1〇的光使用效率變得更低。 因此，在本發明中，在當將具有凹部之基板6(其由一具 有大於各種氣體（例如，空氣、各種惰性氣體及其類似物） 之、吧對折射率且小於組成主基板2之樹脂材料（凝固樹脂材 料）的絕對折射率之預定絕對折射率的材料形成）附著至主 基板2時，進行使用於形成一光屏蔽層之材料曝光的處 理。因此，如圖7A中所示，與在將具有凹部之基板6自主 基板2移除的6形相比，可能以具有充足發光強度（光通量） 之光照射光屏蔽層的一更寬範圍。結果，彳能特定地提高 具備最終獲得之微透鏡基板丨（自其將具有凹部之基板6移 除的微透鏡基板1)之透過型螢幕1〇的光使用效率。此外， 藉由當將具有凹部之基板6附著至主基板2時進行使用於形 成光屏敝層之材料曝光的處理，與當將具有凹部之基板6 自主基板2移除時進行曝光處理的情形相&，可能降低折 射光所照射之範圍處的發光強度（光通量）的變化（意即，最 大值與最小值之間的差）。為此原因，可能使用用於曝光 之光L b的能量有效地用於曝光用於形成一光屏蔽層之材 料’且此使得可能有效地使用該光之能量。此外，因為將 =為開W未光屏蔽部分）31之部分可以具有發光強度（光通 里）之#乂小、交化（意即，最大值與最小值之間的較小差）的光 二射所以可能有效地防止該部分由具有比所需發光強度 (光通里）更大之光照射。此使得可能有效地防止諸如主基 105974.doc -49- 1295381 板2之組成材料之劣化的問題產生。 如上所述，在本發明中，藉由在將具有凹部之基板6附 著至主基板2時進行使用於形成一光屏蔽層之材料曝光的 處理，且接著將具有凹部之基板6自主基板2移除，可能大 體上使在主基板2之光發射表面側處之折射光的點之大小 與每一開口 3 1之大小（未光屏蔽部分之大小）相等。結果， 可能特定地改良微透鏡基板丨之光使用效率同時充分地提 高一影像之對比度。此外，在本發明中，因為具有凹部之 • 基板6在隨後步驟中自主基板2移除，所以可能擴大最終獲 得之微透鏡基板2中之光的折射率，且結果，可能改良具 備微透鏡基板1之透過型螢幕1〇的視角特性。此外，如上 . 所述，藉由當將具有凹部之基板6附著至主基板2時進行使 用於形成一光屏蔽層之材料曝光的處理，（例如）即使在主 基板2之厚度相對較薄的情形中，仍可能改良主基板2之形 狀的穩定性同時形成黑色矩陣3。此使得可能確定地在一 所要部分處形成具備各具有一所要形狀之開口 3丨的黑色矩 陣3。結果，可能改良最終獲得之微透鏡基板丨之光學特 性。 ' 此外，舉例而言，因為藉由以由複數個微透鏡21聚集之 _ 用於曝光的光Lb照射光聚合物32來形成黑色矩陣3，所以 -與使用一光微影技術的情形相比可能以更簡單之處理形成 黑色矩陣3。 在此方面，若需要，則可在使正類型光聚合物32曝光後 進行諸如後烘焙處理之熱處理。 I05974.doc •50- 1295381 此外，在步驟<B3>及<B4>中$ ^ ,, 上解釋中’即使已描 述使用作為形成一光屏蔽層材 ..p ^ 何寸十的正頬型光聚合物形成 的先屏敝層（黑色矩陣3)，仍 用|示九聚合物以外之材料 …二形成一光屏蔽層之材料。舉例而t，可利用諸如 :鹽破感材料之反轉處理材料作為用於形成一光屏蔽層的 材料。在使用銀鹽敏感材料 n夂轉處理材料）的情形中，使 二在如上所述之曝光處理後使該光屏蔽層經受僅使曝光部 刀脫鹽一次之處理的方法可能 、&、 」犯自弟一曝光部分形成具有光 k過性之未光屏蔽部分且自除該第一曝光部分以外的部分 :成-光屏蔽部分(光屏蔽範圍)，且接著使整個光屏蔽層 曝光以使其顯影。 此外，可重複進行如上所述之供應用於形成一光屏蔽層 之材料並曝光的U處理。此使得可能形成更厚之光屏 蚊層（黑色矩陣）’且可能進_步改良—影像之對比度。 、此外’在步驟<砂及<叫中之以上解釋中，即使已描 ^將用於形成-光屏蔽層之材料直接供應於主基板2之光 射表面上，用於形成一光屏蔽層之材料仍可不直接地供 仁於主基板2的光發射表面上。舉例而言，在曝光處理後 進行ί、應不可達成充足光屏蔽能力之感光材料並顯影的 -糸列處理，可將如上所述之使用用於形成一光屏蔽層之 材料的處理進行至主基板2之光發射表面。此使得可能形 成更厚之光屏蔽層（黑色矩陣3 )，且可能進一步改良一影像 之對比度。 45>然後，將一光漫射部分4形成於主基板2之黑色矩 1〇5974.do< 1295381 陣3提供於其上的表面側（見圖6f)。 可能藉由（例如）預先將一以板形狀形成之光漫射板黏結 至主基板2之光發射表面或在將用於形成一光漫射部分4之 材料供應於主基板2之光發射表面上後凝固用於形成一光 >更射部分4的具有流動性之材料來形成光漫射部分4。

對於將用於形成一光漫射部分4之材料供應於主基板2之 光發射表面上的方法，可提及（例如）諸如一刮刀塗覆法、 一旋塗法、一刷塗法、一喷塗法、一靜電塗覆、一電鍍塗 覆、一滾塗機及一將主基板2浸入（浸泡入）用於形成一光漫 射部分4之材料中的浸潰方法之各種類型的塗覆方法及其 類似者。 <B6>然後，以以下方式將主基板2自具有凹部之基板6 釋放。 首先，將主基板2之與具有凹部之基板6的未脫模處理部 分63緊密接觸的部分（其對應於主基板2之可用區域）藉由將 其切斷而移除（見圖6G)，並將主基板2自具有凹部之基板6 釋放(見圖6H)。以此方式，在本實施例中，藉由_次切斷 主基板2之與具有凹部之基板6的未脫模處理部分6 3緊密接 觸的部分而將其移除，肖具有凹部之基板6緊密接觸之部 分僅為已經受脫模處理的已脫模處理部分62。因此，可能 谷易地將具有凹部之基板6自主基板2移除，且可能更有效 地防止諸如裂痕之殘缺產生於所形成之微透鏡21中。/ 此外，藉由將具有凹部之基板6自主基板2移&，可能有 效地折射人射光La’且此使得可能敎地改良具備微^鏡 105974.doc -52· 1295381

基板1之透過型螢幕10的視角特性。此外，當製造主美板 2(意即，微透鏡基板1)時可能重複地使用所移除之具有凹 部的基板6，且此成為降低用於主基板2之製造成本且提高 將製造之主基板2(微透鏡基板1)的品質之穩定性的優點。 此外，藉由在將具有凹部之基板6自主基板2移除（例如， 若需要則藉由一有機溶劑或其類似物釋放或熔融黏附元件 64)後自具有凹部之基板6移除因此自主基板2切斷的片， 可能重複地將具有凹部之基板6用作一模子以使得其形狀 及大小大體上*改變。、结果，可能進一步增力σ具有凹部之 基板6的使用計數’且此成為降低用於主基板2(意即，微 透鏡基板1)之製造成本且提高將製造之主基板2(意即，微 透鏡基板1)的品質之穩定性的進一步優點。 " 在此方面，在上文解 丨尺^…〜7叮工丞販2之盥 〆、凹部的基板6之未脫模處理部分63緊密接觸的部分^ ^將其切斷而自主基板2移除，仍可將未脫模處理部分/3 精由將其切斷而自具有凹部之基板6移除，或仍可將 板2之一預定部分及具有凹部《基板㈣―相 土 其切斷而移除。即使在此 ’心刀曰將 之效應。 冑在此“形中’仍可能獲得如上所述 <Β7>接著’藉由將—著色液體供 基板6釋放之主基板2上， ^自具有凹部之 ❿烕一耆色部分22，藉脐Λ ρ 微透鏡基板1(見圖61)。 寸— ^未特定地限制著色㈣，且在本實施例中 為含有一著色劑及节醇 者色液體 J卞酉予的一種液體。本發明發現藉由使用 I05974.doc 1295381 ^色液體可能容易地且確定地進行對主基板之著色。詳 g之’根據該等處理’可能容易地且確定地使由諸如一基 於丙稀酸之樹脂之材料(其以習知著色方法難以著色)形成 的主基板2經受-著色處理。可認為此係由於以下原因。 卩藉由使用含有苄醇之著色液體，在該著色液體中之 节醇很深地穿過主基板2並在其中漫射，藉此使組成主基 板2之分子的鍵結（該等分子之間的鍵結）鬆開，且將著色劑 將穿過之間隔緊固。著色液體中之节醇及著色劑被替代， 藉此該著色劑固持於該等間隔（其可比作著色劑之位子（著 色位㈣〇Hng⑽）））中，且因此’使主基板2之表面著 色。 此外，藉由使用如上所述之著色液體，可能容易地且綠 疋二形成具有—均勾厚度之著色部分22。詳言之，即使將 被著色之主基板（咅T 4 ^ "P 件）為一其中諸如微透鏡之微細 。構提ί、於其表面上者（不均勾週期在其表面之二維方向 上較小者）或其中將被著色之範圍為一較大區域者，仍可 能形成具有一均勾厚度(意即，不存在著色不均勾)之著色 部分22。 & 對於將者色液體供應於主基板2之光入射表面上的方 法，可提及（例如）諸如一刮刀塗覆法、一旋塗法、一刷汾 法、一贺塗法、一靜電塗覆、—電鑛塗覆、印刷、-滾涂 機及1主基板2浸入（浸泡入）著色液體中的浸漬方法之2 種類型的塗覆方法$ -g- . _ 、+、 法及其類似者。此等方法中浸潰方法（詳 口之’又/貝染色）為合適的。此使得可能容易地且確定地 I05974.doc •54- 1295381 形成著色部分22(詳言之，具有一均勻厚度之著色部分 22)。此外，詳言之，在藉由浸潰染色將著色液體供應於 主基板2上的情形中，可能容易地且確定地使甚至由諸如 一基於丙浠酸之樹脂之材料（其以習知著色方法難以著色） 形成的主基板2著色。認為此係因為可用作浸潰染色之染 料對基於丙烯酸之樹脂或其類似物具有之酯基（酯鍵結）具 有較而親和性。 較佳地當將著色液體及/或主基板2在60 °C至1〇〇。(：之範 圍内加熱時進行著色液體供應步驟。此使得可能有效地形 成著色部分22同時有效地防止對著色部分22形成於其上之 主基板2的有害影響（例如，主基板2之組成材料之劣化）產 生〇 此外，可當外界壓力提高（施加壓力）時進行著色液體供 ^步驟。此使得可能使著色液體加速穿過主基板2之内 部’且結果’可能以一較短時間有效地形成著色部分22。 在此方面，若需要（例如，在將形成之著色部分22之厚 度相對較大的情形中），則可番遴 々u 、 ^ T ^ 複（忍即，多次）進行供應著 色液體之步驟。此外^ φ 此外右而要，則可在供應著色液體後使 ^基板2經受諸如加熱、冷卻及其類似者之熱處理、光之 :射、大氣之加壓或減壓或其類似者。此使得可能加速著 色部分22之固定（穩定性）。 八後’㈣細描述本步驟中使用之著色液體。 “並未特定地限制著色液體中节醇之百分比含量。較佳 卞％之百分比含量在〇〇1重量％至1〇,〇重量％之範圍内。 105974.doc -55- 1295381 佳地其在0·05重量％至8·〇重詈。/ 々 里里/〇之耗圍内，且進一步更佳 地其在0.1重量％至5·〇重量〇 里里/〇之靶圍内。在苄醇之百分比含 量約束於上述範圍内的愔_ 固Μ形中，可能容易地且確定地形成 適當著色部分22，同時更古^ 更有效地防止對著色部分22形成於 其上之主基板2的有害影變"私丄> # , 。心4 (啫如主基板2之組成材料之劣 化）產生。 含於著色液體中之著色劑可為諸如各種染料及各種顏料 中之任-I，但較佳地該著色劑為一染料。更佳地其為一 分散染料及/或一陽離子染#，且進一步更佳地其為一分 散此使得可能有效地形成著色部分22，同時充分地防止 對者色部分22形成於其上之主基板2的有害影響(例如，主 2板2之組成材料之劣化）產生。詳言之，可能容易地且確 定地使甚至由諸如一基於丙烯酸之樹脂之材料（其以習知 著色方法難以著色）形成的主基板2著色。認為此係因為使 該材料著色較容易，而使該材料著色較容易係因為如上所 述之著色劑使用基於丙烯酸之樹脂或其類似物所具有的酯 官能（酯鍵結）作為著色位。 如上所述’雖然用於本實施例中之著色液體至少含有著 色劑及苄醇，但較佳地該著色液體進一步含有自基於二苯 甲顧I之化合物及基於苯幷三唑之化合物選擇之至少一種化 合物及苄醇。此使得可能更有效地形成著色部分22，同時 充分地防止對著色部分22形成於其上之主基板2的有害影 響（例如，主基板2之組成材料之劣化）產生。認為此係由於 以下原因。 I05974.doc -56- 1295381

即，藉由使用含有苄醇及自基於二苯甲酮之化合物及基 於本幷二唾之化合物選擇之至少一種化合物的著色液體 (下文中，苄醇、基於二苯甲酮之化合物及基於苯幷三唑 之化合物共同稱作”添加劑”），該著色液體中之添加劑穿過 主基板2並在其中漫射，藉此使組成主基板2之分子之鍵結 (該等分子之間的鍵結）鬆開，且將著色劑將穿過之間隔緊 固。該等添加劑及該著色劑被替代，藉此該著色劑固持於 該等間隔（其可比作著色劑之位子（著色位））中，且因此， 使主基板2之表面著色。認為此係因為，藉由將自基於二 苯甲酮之化合物及基於苯幷三唑之化合物選擇的至少一種 化合物與苄醇一起使用，其以一互補方式相互作用，且使 藉由著色液體之著色變得較佳。 對於基於二苯甲酮之化合物，可利用具有二苯甲綱基乾 之化合物、其互變異構體或此等感應體（例如，加成反應 產物、置換反應產物、還原反應產物、氧化反應產物及其 類似物）。 對於該等化合物’可提及(例如)二苯甲酮、2,4_二羥基 二苯：酮、2,基_4_甲氧基二苯甲，、2,2、二經基_4，:_ 二甲氧f二苯甲酮、2,2，，4,4,_四羥基二苯甲酮、2-羥基-4-:基一,甲啊、4_苯甲氧基_2_經基二苯甲鯛、二苯甲酉同苯 本甲^苯甲㈣化物（《，《’二氯二苯甲院） 及^似物。此等化合物中具有二苯Μ基乾之化合物為 =的’且更佳地該化合物為2,2,_m4,_二甲氧基二 本甲酮及2’2’，4,4’_四經基二苯甲财 个τ r之任一者。藉由使 105974.doc -57- 1295381 用該基於二苯甲_之化合物，如上所述之效應可顯著地表 現。 此外，對於基於苯幷三唑之化合物，可利用具有苯幷三 唑基乾之化合物、其互變異構體或此等感應體（例如，加 成反應產物、置換反應產物、還原反應產物、氧化反應產 物及其類似物）。 對於該等化合物，可提及（例如）苯幷三唑、2_(2_羥基巧_ 甲基笨）-2H-苯幷三唑、2-(2-羥基-4-辛基苯基）_2Η_笨幷三 唑及其類似物。此等化合物中具有苯幷三唑基乾之化合物 為較佳的，且更佳地該化合物為2_(2_二羥基巧_甲基苯）_ 2H-苯幷三唑及2-(2-羥基_4_辛基苯基）_2H-苯幷三唑中之任 一者。藉由使用該基於苯幷三唑之化合物，如上所述之效 應可顯著地表現。 在基於二苯甲酮之化合物及/或基於苯幷三唑之化合物 含於著色液體中的情形中，並未特定地限制基於二苯甲_ 之化合物及基於苯幷三唑之化合物在該著色液體中之百分 比4 3里。較佳地基於二笨甲酮之化合物及基於苯幷三唑 之化合物在該著色液體中之百分比總含量在〇 〇〇丨重量％至 10·0重量％之範圍Μ。更佳地其在0 005重量％至5〇重量％ 之範圍内，且進一步更佳地其在001重量％至30重量％之 fe圍内。在基於二苯曱酮之化合物及基於苯幷三唑之化人 物之百分比總含量約束於上述範圍内的情形中，可能容易 地且確定地形成適當著色部分22，同時更有效地防止對著 色部分22形成於其上之主基板2的有害影響（諸如主基板2 105974.doc •58- 1295381 之組成材料之劣化）產生。 此外，在基於二苯甲酮之化合物及/或基於苯幷三唑之 化合物含於著色液體中且將基於二苯甲酮之化合物在該著 色液體中的百分比含量定義為x(以重量計％)並將基於=幷 三唑之化合物在該著色液體中之百分比總含量定義為γ (以 重量計％)的情形中，較佳地χ及γ滿足關係： ο.οοκχ/γ^ιοοοο 。更佳地χ及γ滿足關係： 0.05SX/YU000，且進一步更佳地χ及γ滿足關係： (^•25SX/YU〇0。在X及γ滿足如上所述之關係的情形中， 藉由將基於二苯甲酮之化合物及/或基於苯幷三唑之化合 物與节醇一起使用之協同效應將更顯著地發揮。另外，可 能容易地且確定地以一較高速度形成適當著色部分”，同 時更有效地防止對著色部分22形成於其上之主基板2的有 害影響（諸如主基板2之組成材料之劣化）產生。 此外，較佳地該著色液體進一步含有苄醇及一界面活性 劑。此使得可能即使在苄醇存在之條件下仍穩定地且均勻 地分散著色劑。即使該著色液體將供應於其上之主基板2 由諸如基於丙烯酸之樹脂的材料（其以一習知方法難以著 色）形成，仍可能容易地且確定地使主基板2著色。對於一 界面活性劑，可提及非離子界面活性劑、陰離子界面活性 劑、陽離子界面活性劑、兩性界面活性劑及其類似物。對 於非離子界面活性劑，可提及（例如）基於醚之界面活性 劑、基於酯之界面活性劑、基於醚酯之界面活性劑、基於 氮之界面活性劑及其類似物。更具體言之，可提及聚乙烯 105974.doc -59- 1295381 奸、規r丞纖难京、以二醇、丙婦酸酉旨、異 其類似物。此外，對於陰離子界面活性劑，可提及（例如） 各種松香、各《酸鹽、各種醋硫酸鹽、各 種s旨磷酸鹽及其類似物。更具體 孤 j致及松香、聚合 松香)、=…馬來松香、反丁稀二酸松香(f—c 叫、馬來松香戍_、馬來松香甘油輯、三 如’諸如銘鹽之金屬鹽)、二硬酿酸鹽(例如， 鋇鹽之金屬鹽）、硬脂酸越“丨 、爲 、 諸如舞鹽、錯鹽、鋅錯 -孟屬J、亞麻酸鹽（例如，諸如録鹽、猛鹽、㈣、 =之金屬鹽）、辛酸鹽（例如，諸如銘鹽1鹽、^之 金屬鹽）、油酸鹽（例如，諸如鈣鹽、鈷越 ^ 酸鹽（例如，諸如辞鹽之金屬越；；至屬鹽）、棕櫚 趟、钍踐酸鹽（例如，諸如鈣 如/…鉛鹽、辞鹽之金屬鹽）、樹脂鹽酸(例 士 ，啫如鈣鹽、鈷鹽、錳鹽、鋅鹽全 鹽(例如，諸如納鹽之金屬” U、《丙烯酸 ,. ♦甲基丙烯酸鹽（例如，諸 如鈉鹽之金屬鹽）、聚馬來酸鹽 m _、 文息1例如，堵如鈉鹽之金屬 ^ 丙細酸鹽-馬來酸鹽丘今必7 f A丨 ^ , ，、水物（例如，諸如鈉鹽之金屬 :、纖維素、十二烧基苯續酸鹽(例如，諸如納鹽之金屬 :)1基績酸鹽、聚苯乙稀確酸鹽(例 屬鹽）、烷基二笨基醚二碏酸_(你u ^ 納里之土 ，、现（例如，诸如鈉鹽之金屬鹽） 汉再類似物。此外，對於陪鲐工田 對於％ _子界面活性劑、可提及（例 如第一銨鹽、第二録鹽、第三銨鹽、季銨鹽之各種 、Γ。更具體言之’可提及(例如)單燒基胺鹽、二院基胺 豈二烧基胺鹽、四烧基胺鹽、笨甲烧銨鹽、烧基。比口定鏽 105974.doc -60 - 1295381 鹽、咪唑鏽鹽及其類似物。此外，對於兩性界面活性劑， 可提及（例如）諸如叛基甜菜驗、績基甜菜驗之各種甜菜 驗、各種胺基羧酸、各種酯磷酸鹽及其類似物。 下文中，將給出對使用如上所述之透過型螢幕之背投投 射器的描述。 圖8為示意性展示本發明之透過型螢幕1〇所施加至之背 才又投射裔3 0 0的橫截面圖。如圖8中所示，背投投射器3 〇 〇 具有一其中一投射光學單元310、一導光鏡320及一透過型 螢幕10配置於一外殼340中的結構。 因為月投投射益3 0 0使用如上所述之具有極佳視角特性 及光使用效率之透過型螢幕1 〇，所以可能獲得具有極佳對 比度之影像。另外，詳言之，因為本實施例中背投投射器 300具有如上所述之結構，所以可能獲得極佳視角特性及 光使用效率。 此外，詳言之，因為各具有一大體橢圓形狀之微透鏡21 以一犬牙織紋方式配置於上述之微透鏡基板丨上，所以背 投投射器300很難產生諸如波紋之問題。 如上所述，請注意，雖然根據本發明之製造一微透鏡基 板1之方法、微透鏡基板丨、透過型螢幕1〇及背投投射器 3 00已參考隨附圖式中之較佳實施例描述，但本發明並不 限於此等實施例。舉例而言，組成微透鏡基板}、透過型 螢幕1 〇及为投投射為300之每一元件（組件）可由一能夠執行 相同或類似功能者替代。 此外，在如上所述之實施例中，雖然已描述將各具有幾 105974.doc -61 - 1295381 乎與樹脂材料2 3 (意即，凝固後之樹脂材料2 3)相等之折射 率的間隔物20用作間隔物，但具有幾乎與樹脂材料23(意 即’凝固後之樹脂材料23)相等之折射率的每一間隔物2〇 在間隔物20僅配置於其中無具有凹部之基板6之凹部61形 成的範圍（不可用透鏡區域）中的情況下並不需要。此外， 如上所述之間隔物2 〇在製造微透鏡基板1中並非總是必須 利用的。

此外，在如上所述之實施例中，雖然已描述將樹脂材料 23供應於具有凹部之基板6的表面上，但微透鏡基板1可製 造以使得（例如）將樹脂材料23供應於平板9之表面上並接著 藉由具有凹部之基板6按壓樹脂材料23。 此外，在如上所述之實施例中，雖然已描述在製造具有 凹部之基板6之方法中的初始孔形成步驟處除初始孔“以 外亦形成初始凹部71於基板7中，但無需形成該等初始凹 部71。藉由適當地調整初始孔81之形成條件（例如，一雷 射之此I強度、雷射束之直徑、輕射時間或其類似者卜 可能形成各具有一預定形狀之初始凹部71，或可能選擇性 地僅形成初始孔8 1使得初始凹部7 1並未形成。 此外’在如上所述之實施例中，雖然已描述使未經受脫 模處理之未脫模處理部分63升嫩具有凹部之基板6的幾 :玉個不可用區域上，但舉例而纟，未脫模處理部分63可 :供於-部分不可用區域上。即使在此情形中，仍可能獲 付如上所述之效應。此外，#由將未脫模處理部分Μ以此 方式提供於-部分不可用區域上，可能更容易地將具有凹 105974.doc -62- _工29聲^^137527號專利申請案「- ------------------------- 中文說明書替換頁(96年2月）寿/ ^ w *' 5 ^ - 部之基板6自主基板2移除厂ϊ此i lf有利於重複使用具有 凹部之基板6。 此外，在如上所述之實施例中，雖然已描述微透鏡基板 1具備層狀光漫射部分4，但光漫射部分4之形狀並不限於 此。舉例而言，光漫射部分4可以一凸起方式提供於對應 於黑色矩陣3之開口 31之位置的部分處。即使在此情形 中’仍可能獲得如上所述之效應。此外，藉由使該光漫射 φ 部分4形成於對應於黑色矩陣3之開口 31之位置的部分處， 因為可能更有效地防止外部光在除黑色矩陣3之開口 3 i以 外的部分反射，所以可能特定地改良一所獲得之影像的對 比度。此外，微透鏡基板丨無需具備如上所述之光漫射部 分4 〇 此外，在如上所述之實施例中，雖然已描述透過型螢幕 10具備微透鏡基板1及菲涅耳透鏡5，但本發明之透過型螢 幕10並不必要地需要具備菲涅耳透鏡5。舉例而言，透過 Φ 型螢幕10可實際上僅由本發明之微透鏡基板1建構，或可 僅由具有凹部之基板6建構。 此外，在如上所述之實施例中，雖然已描述微透鏡基板 1為一組成透過型螢幕1〇或背投投射器3〇〇之部件，但微透 鏡基板1並不限於上述之將施加者，且其可施加至用於任 一用途者。舉例而言，本發明之微透鏡基板丨可施加至一 光漫射板、一黑色矩陣螢幕、一投射顯示器（前投式）之螢 幕（一前投式螢幕）、一投射顯示器（前投式）中之液晶光閥 之組成部件及其類似物。 105974-960214.doc -63- 1295381 實例 <微透鏡基板及透過型螢幕之製造> (實例1) 以以下方式製造具備用於形成微透鏡之複數個凹部的具 有凹部之基板。 首先’製備具有1.2 m(橫向）x〇.7 m(縱向）之矩形形狀及 •8 mm厚度的鹼石灰玻璃基板（鹼石灰玻璃基板之絕對折 射率 n2 : 1.5〇)。

將鹼石灰玻璃基板浸泡入含有4重量％之氟化氫銨及8重 里之過氧化氫的清洗液體中以進行6 μιη蝕刻處理，藉此 清洗其表面。接著，進行以純水之清洗及以氮氣…〗）之乾 燥（用於去除純水）。 然後，藉由一喷鍍方法將一鉻/氧化鉻層壓結構（意即， 由氧化鉻形成之層層壓於以鉻形成的層之外圓周上的層壓 結構）形成於鹼石灰玻璃基板之一主表面上。即，各由該 層壓結構（由鉻形成之層及由氧化鉻形成之層建構）製成之 一遮罩及一背表面保護薄膜形成於鹼石灰玻璃基板之兩個 表面上。在此情形中，鉻層之厚度為〇.〇3 ，而氧化鉻 層之厚度為0.01 μπι。 ° 然後，將雷射加工進行至該遮罩以在該遮罩之中心部分 處的113 cmx65 cm之範圍内形成大量初始孔。在此方面: 在能量強度為1 mW、#束直徑為3 _且輻射時間為 60Χ10·9秒之條件下使用YAG雷射進行雷射加工。射束^徑 (點直徑）一掃描速度為〇 · 1 秒。 105974.doc -64 - 1295381 以此方式，使各具有一預定長度之初始孔以犬牙織紋方 式形成於上文提及之遮罩的大體整個範圍上方。每一初始 孔之平均見度為2 μπι ’且其平均長度為2 μηι。此外，此 時，各具有一約50 Α之深度之凹部及一損壞層（或影響層） 形成於驗石灰玻璃基板之表面上。 然後，使该驗石灰玻璃基板經受一濕式钱刻處理，藉此 於違驗石灰玻璃基板之主表面上形成大量凹部（用於形成 4政透鏡之凹部）。當自該鹼石灰玻璃基板之主表面上方觀 察時，每一凹部之形狀為一大體橢圓形狀（平面形狀）。因 此形成之大量凹部具有彼此大體相同之形狀。每一所形成 之凹部在短軸方向上的長度（直徑）、每一所形成之凹部在 長軸方向上的長度、每一所形成之凹部之曲率半徑及深度 分別為54 0111、72 0111、38 4111及3 7 0111。此外，該等凹部在 該等凹部形成於其中之可用區域中的共用為1〇〇%。 在此方面，使含有4重量％之氟化氫銨及8重量％之過氧 化氫的水溶液用於濕式蝕刻處理中作為一蝕刻劑，且基板 之浸泡時間為125分鐘。 然後，藉由使用硝酸高鈽銨與過氣酸之混合物進行一蝕 刻處理來將該遮罩及該背表面保護薄膜移除。 然後，進行以純水之清洗及以氮氣（NO之乾燥（用於去除 純水）。 接著’將一分離薄片附著至之黏附元件施加至凹部未形 成之範圍。 接考使基底基板之凹部已形成於盆f & /从々、/、上之表面側（黏附 105974.doc -65 - 1295381 疋件已施加至其)經受藉由六甲基二矽氮烷之氣相表面處 理（矽烷化處理）以形成一已脫模處理部分。 此方式’獲#對應於如圖2中所示之微透鏡基板的具 有凹部之基板（分離薄片已施加至其上之具有凹部之基 才）/、中用於形成微透鏡之大量凹部以一犬牙織纹方弋 配置於該驗石灰玻璃基板之主表面上。在此方面，黏附1 件之厚度為500 μΐΏ。此外，t自該鹼石灰玻璃基板之主表 面上方規祭時’凹部形成於其中之可用區域中由所獲得的 具有凹部之基板中之所有凹部佔據的區域相對於整個可用 區域之比率為97%。 一然後’將該分離薄片自對應於該具有凹部之基板的黏附 凡件移除，並將一未聚合（未固化）之基於丙烯酸之樹脂 (ΡΜΜΑ樹脂（甲基丙稀酸樹脂））施力口至具有凹部之基板的 省等凹部已形成於其上之表面側。此時，由基於丙烯酸之 树月曰（ΡΜΜΑ樹脂（甲基丙稀酸樹脂））之硬化材料形成的大 te球狀間隔物（各具有50 μιη之直徑）配置於具有用於形成 微透鏡之凹部之基板的大體整個表面上方。此外，該等間 隔物以3片/cm2之比率配置。 然後，使用一由鹼石灰玻璃形成之平板之主表面按壓 (推按）該基於丙烯酸的樹脂。此時，進行此處理以使得空 軋不侵入具有凹部之基板與該基於丙烯酸之樹脂之間。此 外，將其表面經受藉由六甲基二石夕氮烧之氣相表面處理 (脫模處理）的該平板用作平板。 接者，藉由在1201下加熱該具有凹部之基板，使該基 105974.doc -66 - 1295381 於丙烯酸之樹脂固化以獲得一主基板。所獲得之主基板 (意即，已固化之基於丙烯酸之樹脂）之折射率h為1 5 ^。 所獲得之主基板（除微透鏡形成於其中之部分）之厚度為 pm。每一所形成之微透鏡在其短軸方向上之長度（直^徑）、 每一所形成之微透鏡在其長軸方向上之長度、每—所形成 之微透鏡之曲率半徑及深度分別為54 μιη、72 pm、37 5 μπι及36.5 μΐΏ。此外，該等微透鏡在該等凹部形成於其中 之可用區域中的共用為100%。 然後’將該平板自該主基板移除。 然後，藉由一滾塗機將一光屏蔽材料（碳黑）所添加之正 類型光聚合物（PC405G:由遍公司製造）供應於肖主基板之 光發射表面（與微透鏡形成於其上之其表面相對的表面） 上。該光聚合物中之光屏蔽材料之百分比含量為 % 〇 =後，使該主基板經受一9〇〇χ3〇分鐘之預烘焙處理。 然後’使6G m;/em2之紫外線作為平行光照射穿過與具 有凹。P之基板的凹部形成於其上之表面相對的表面。結 果’使所照射之紫外線藉由每一微透鏡聚集，並選擇性地 斤κ木之|外線照射之部分處的光聚合物曝光。 接者使用含有0.5重量％ K〇H之水溶液使該主基板經受 顯影處理4 〇秒。 #妾著，逸彳-、 水） 丁以純水之清洗及以氮氣（NO之乾燥（去除純 7 。此外，使該主基板經受2〇〇°Cx30分鐘之後烘焙處 理。因此，开> 士、曰^_ /成具有为別對應於該等微透鏡之複數個開口 105974.doc -67- 1295381 的黑色矩陣。每一開口具有一大體橢圓形狀，且每一開口 在其短轴方向上之長度（直徑）為30 μηι，且每一開口在其 長軸方向上之長度為35 μϊη。此外，所形成之黑色矩陣之 厚度為5.0 μΓη。 然後，使一光漫射部分形成於該主基板之黑色矩陣已形 成於其上的表面側。藉由將具有一其中漫射介質（具有8 μη平均粒徑之矽石粒子）在丙烯酸樹脂中漫射之結構的漫 射板藉由熱封而黏結至該主基板來進行光漫射部分之形 成。在此方面，該光漫射部分之厚度為2.0 mni。 然後，藉由將與具有凹部之基板之未脫模處理部分緊密 接觸的部分切斷而使其自該主基板移除，並將具有凹部之 基板自该主基板移除。 接著藉由浸潰染色將一著色液體供應至該主基板。進行 此處理以使得微透鏡形成於其上之整個表面與該著色液體 接觸，但黑色矩陣已形成於其上之表面不與該著色液體接 觸。此外’當將該著色液體供應於該主基板上時將該主基 板及該著色液體之溫度調整至9(rc。此外，在著色液體供 應處理中加壓大氣壓力使其為120 kPa。將含有2重量份之 分散染料（藍色）（由Futaba Sangy〇製造）、〇1重量份之分散 木料（紅色）（由Futaba Sangyo製造）、〇·〇5重量份之分散染 料（黃色）（由Futaba Sangyo製造）、10重量份之苄醇、2重量 知之界面活性劑及丨〇〇〇重量份之純水的混合物用作著色液 體。 在如上所述之條件下使該主基板與該著色液體接觸2 〇分 I05974.doc -68 - 、29臂糾137527號專利申請案甲文說明書替換頁(96年2月）

鐘後，將該主基板自儲存該著色液體之槽移出，且接著清 洗並乾燥該主基板。 ^ 藉由進行以純水之清洗及以氮氣（N2)之乾燥（去除純 水）’獲得著色部分已形成於其上之微透鏡基板。因此形 成之著色部分之色密度為7〇%。 ,藉由組裝如上所述製造之微透鏡基板與一藉由擠壓模塑 製造之菲涅耳透鏡，獲得圖3中所示之透過型螢幕。 φ (實例2至實例8) 以與上文所述之實例丨類似之方式製造一微透鏡基板及 透過型螢幕，除藉由改變遮罩之結構、雷射束輕射之條 件（思即，將形成之每一初始孔之形狀及每一初始凹部之 深度）、浸入蝕刻劑内之浸泡時間及用於形成主基板之樹 脂材料中之任一者而使每一凹部之形狀及具有凹部之基板 的凹部的配置模式改變以外，藉此將形成於微透鏡基板上 之每一微透鏡之形狀、該等微透鏡之配置模式、該主基板 〇 之折射率及其類似者將如表1中所示而改變。 (比較實例1) 以與上文所述之實例8類似之方式製造一微透鏡基板及 一透過型榮幕’除用於形成黑色矩陣之正類型光聚合物之 供應及其#光在W具有凹部之基板自线板移㉟之後進行 以外。 (比較實例2) 以與上文所述之實例8類似之方式製造一微透鏡基板及 一透過型螢幕，除黑色矩陣未形成於主基板之主表面上以 105974-960214.doc -69- I295381 外。 (比較實例3) 以與上文所述之實例1類似之方式製造—微透鏡基板及 —透過型螢幕，除將一由具有絕對折射率為丨90之玻璃材 料形成者用作具有凹部之基板以外。 在實例1至實例8及比較實例1至比較實例3中之每一者中 的遮罩之構型、藉由雷射束之輻射形成之每—初始孔之形 狀及製造具有凹部之基板時每一初始凹部的深度、每 部之形狀及該等凹部在具有凹部之基板中之配置模式、具 有凹部之基板之組成材料的折射率、每一所製造之微透鏡 之形狀、所製造之微透鏡的配置模式及主基板之組成材料 的折射率及其類似者在表丨中總體上展示。

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6 ο d 0.005 ㈣ d ο ο ο 〇 1 i #—ί 9 折射 率n2 i〇 12 — 12 1 1 2 折射 率呵 5 受 r r—< § 衿 〇« 竺 CO 00 00 L2:/L2 % σ 3 n 〇 s § d SR d ο 〇 o I 穿 ο Ll/Ll Ά ο d ο σ σ 5! ο iq O i Ώ ο 黑色矩陣 □ Si l1^l2 1 辑 σ σί ο »«·*· c?s o »**Ή ον ο 纪 σ 8 ο δ? ο — 1 S ο L23 (®軸) C Mjil); $ a Ω 2 R Q t 長度 LlJ (短軸) (ujri) R R R 3 η R Q I R 厚度 (μπι) 呀 Ό wn 寸 1 VI 微透鏡 形狀 5ί U ^/½ ο ο σ\ 〇· 汉 c5 o* 裨 ο !Ρ σ — r-t η ο hJ % ο F； σ F； σ 叫 58 ο S #^-1 ο o o ί8 ο 1¾度 Η : (μιτι) 泠 η 58 菡 v\ 00 S s ' « « © 長度Lg :長軸) 一) 5 湃 s ; ? R 長度L] (短軸) (μιη) a § 8 R ? ? s 网 配置 模式 d rf Η U g; 6 e Μ 内 初始 凹部 深度 (Δ) ! 1 R R R R R ; R R « 初始孔 長度 (長軸) ((.UTi) CN is Of r* ?3 <Ν CN CN (N Οί 長度 (短軸) (μπι) ΓΊ CM ΓΊ ΓΊ CM CN CN rs bJ bi bi u t/i 遮罩； 表®側./ 基板側 CiiCiO GCjO | CjCiO CxCjO aci〇 AdCr CiCiO Im/Ct AaCr AnCr An/Ct 音例1 眘例2 眘例3丨 資例4 資例5 丨眘例6 寶例7 寶例8 比較 音例1 比較 音例2 比較 眘例3 I 6W ¥®_2g 梁®anl-Kws ®ais-K6s¾¾ 105974.doc -71 - 1295381 <光使用效率估計> 相對於上文所述之實例i至實例8及比較實例1至比較實 例3中之母一者的透過型螢幕進行光使用效率之估計。 當A( = 300)(cd/m2)之白光進入透過型螢幕時藉由計算透 過型螢幕之光發射表面側處所量測的光之亮度B(cd/m2)之 比率（B/A)來進行光使用效率之估計。據信值β/Α愈大，光 使用效率愈佳。 <背投投射器之製造>

如圖8中所示之背投投射器係使用在實例丨至實例8及比 較實例1至比較實例3中之每一者中製造的透過型螢幕而製

造（組裝）。 X <對比度之估計> 相對於上文所述之實例丨至實例8及比較實例丨至比較實 例3中之每一者之背投投射器進行對比度之估計。 將當具有413勒克司（lux)照明度之整個白光進入一暗區 之背投投射器中的透過型螢幕時白色指示之前側亮度（白 色売度)LW(Cd/m2)與當在明亮區將一光源完全關閉時里色 指示之前側亮度增加量（黑色亮度增加量）LB(ed/m2)的比率 LW/LB作為對比度⑽丁）計算。在此方面，黑色亮度增加 量稱作相對於在-暗區中之黑色指示之亮度的增加量。此 卜一在外^光之照明度為約185勒克司（1UX)的條件下進行 明冗區之夏測’同時在外部光之照明度為約勒克司 (lux)的條件下進行暗區之量測。 <視角之量測> 105974.doc •72- 1295381 § 一樣本影像在實例1至實例8及比較實例丨至比較實例3 中之每一者之背投投射器中的透過型螢幕上顯示時進行水 平及垂直兩個方向上之視角量測。在量測由測角光度計 (g〇ni〇 ph0t0meter)以一度之間隔進行的條件下進行視角之 量涓ij。 〈繞射光、波紋及顏色不均勻之估計> 樣本〜像在上文所述之實例丨至實例8及比較實例工至 比車乂貝例2中之每一者中之背投投射器的透過型螢幕上顯 I基於以下四級標準估計所顯示之樣本影像中之繞射 光、波紋及顏色不均勻的產生情況。 A ·發現無繞射光、波紋及顏色不均勻。 B :發現極少繞射光、波紋及顏色不均勻。 C ·梢微發現繞射光、波紋及顏色不均勻中之至少一 者。 ° ”、、員著發現繞射光、波紋及顏色不均勻中之至少一 者。 視角畺’則之此等結果在表2中總體上展示。 表2

----- 光使用效率 B/A ----- 明亮區對 比度 半視角(°)值 — 顏色不均勻 及其類似者 垂直方 向 水平方 向 實例1 ^_0.85 720 22 23 A ------ 實例2 __0,82 650 23 24 A 實例3 __0.85 640 22 23 /Λ A 實例4 1----—L -Mi__ 660 21 22 A 105974.doc -73 - 1295381

實例6 實例7 實例8 比較實例 比較實例2 比較實例3 表2清楚地看到，根據本發明之實例ι至實例8中之每 一者中的背投投射器具有極佳光制效率、極佳對比度及 極佳視角特性。此外，不具有繞射光、波紋及顏色不均勾 之極佳影像可顯示於根據本發明之實例】至實㈣中之每— 者中的背投投射器中之每一者上。換+ 換δ之，一極佳影像可 穩定地顯示於根據本發明之實例i至實例8中之 月才又才又射器中之每一者上。另一 、 万面不可自上文所述之 比較貫例1至比較實例3中之每一者 者中的㈢投投射器獲得充 分成效。 【圖式簡單說明】 圖1為示意性展示根據本發明 平乂彳土 K她例中之微锈 鏡基板的縱向橫截面圖。 圖2為圖1中展示之微透鏡基板的平面圖。 圖3為示意性展示—具備根據本發明之—較佳實施例中 :圖1中所示的微透鏡基板之透過型榮幕的縱向橫截面 圖。 圖4為示意性展示本發明之呈借遴 向橫戴面圖。 ^數個凹部之基板的縱 圖…為示意性展示製造圖4中所示之具備複數個 105974.doc -74- :129^¾糾37527號專利申請案令“ A少… 中文說明書替換頁(96年2月） L — _—一 凹部之基板的方法之縱向橫截面圖。 圖6A〜圖61為示意性展示製造圖1中所示之微透鏡基板之 方法的一實例之縱向橫截面圖。 圖7A及圖7B為用於解釋當使光聚合物曝光時之光之折 射及照射至該光聚合物的光之發光強度分佈的圖式。 圖8為示意性展示本發明之透過型螢幕所施加至的一背 投投射器之構型的圖式。

【主要元件符號說明】 1 微透鏡基板 2 主基板 3 黑色矩陣/光屏蔽層 4 光漫射部分 5 菲涅耳透鏡 6 基板 7 基底基板 8 遮罩 9 平板 10 透過型鸯幕 13 分離薄片 20 間隔物 21 微透鏡 22 著色部分 23 樹脂材料 25 行 105974-960214.doc 75. 1295381

26 31 32 61 62 63 64 71 81 89 30

31 320 340 L

L1、L2、L3、L

La

Lb Z〇 行 開口 光聚合物 凹部

已脫模處理部分 未脫模處理部分 黏附元件 初始凹部 初始孑L 背表面保護薄膜 背投投射器 投射光學單元 導光鏡 外殼 光軸 長度 平行光 光 發光強度 105974.doc -76-

Claims (1)

1. 丨物_ .义ϋ·.ι替換頁 I29m\ 朦 號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(96年2月丨 十、申請專利範圍： 該方 一種製造具備複數個凸透鏡之微透鏡基板的方法 法包含以下步驟·· 製備由具有光透明度之組成材料形成之基板，複數個 凹部形成於該基板之一主表面上的可用區域中； 將具有流動性之樹脂材料供應於該基板之該等複數個 凹部已形成於其上的該一主表面上； 凝固該樹脂材料以使得該已凝固樹脂材料之絕對折射 率大於該具有該等複數個凹部之基板之該組成材料的絕 對折射率，藉此獲得具有該等複數個凸透鏡之基底基 板； 將用於形成光屏蔽層之材料供應於該基底基板之一主 表面上，該一主表面與面朝該具有該等複數個凹部之基 板的該基底基板之另一主表面相對； 藉由使該用於形成該光屏蔽層之材料經由該具有該等 複數個凹部之基板曝光而使該光屏蔽層形成於該基底基 板的該一主表面上；及 將該基底基板自該具有該等複數個凹部之基板釋放。 2. 如請求項1之方法，其中在將該已凝固樹脂材料之該絕 對折射率定義為⑴並將該具有該等複數個凹部之基板之 該組成材料的該料折射率定義為η2的情形中，nih2 滿足關係：〇.〇Κηι/η2<〇.8。 3. 如請求項2之方法’丨巾該已凝固樹脂材料之該絕對折 射率〜在1.35至1.9之範圍内。 105974-960214.doc

   1295381 4. 如請求項2之古1 Γ〜I——…—…——一，· 、万法，其中該具有該等複數個凹部之美柄 之^組成材料的該絕對折射率n2在1.2至U之範圍内^ 5. 如明求項1之方法，其中該具有該等複數個 由：璃材料作為主要材料形成。 土板 6·如請求们之方法，#中該樹脂材料凝固步驟包括 步驟： ^ 製備具有平面部分之部件；及 广固該樹脂材料同時以該部件之該平面部分按壓該樹 月曰材料。 7.如請求項6之方法，其中各具有與該已凝固樹脂材料大 體相同之絕對折射率的複數個間隔物分散於該樹脂材料 中，且在該樹脂材料凝固步驟中以該部件之該平面部分 按壓該樹脂材肖同時將該等複數個間隔物提供於該具^ 該等複數個凹部之基板上的該可用區域中。 ^ 8·如請求項6之方法，其進一步包含以下步驟： 在該樹脂材料凝固步驟前將複數個間隔物提供於該具 有該等複數個凹部之基板之該可用區域中，該等複數個 間隔物中之每一者具有與該已凝固樹脂材料大體相同之 絕對折射率’其中在該樹脂材料凝固步驟中於該等間隔 物置放於該已供應樹脂材料中的狀態下以該部件之該平 面部分按壓該樹脂材料。 9.如請求項1之方法，纟中在該樹脂材料供應步驟前，使 該具有該等複數個凹部之已製備基板之該等複數個凹部 已形成於其上的該一主表面經受脫模處理。 105974-960214.doc

   1295381 r- ; 10·如請求項9之方本 ^ ^ 員之方法，其中使該具有該等複數個凹部之已 製備基板之該可用區域經受該脫模處理，且使該具有該 專複數個凹^之已製備基板之除該可用區域以外的不可 用區域之至少一部分不經受該脫模處理。 如明求項10之方法，其中在該基底基板釋放步驟中，藉 由切畊"亥具有該等複數個凹部之基板之該不可用區域及/ 或該基底基板對應於該具有該等複數個凹部之基板之該 不可用區域的一部分，而將該基底基板自該具有該等複 9 數個凹部之基板释放。 12·如睛求項丨之方法，其中該等複數個凸透鏡組成微透 鏡，且當自該基底基板之該一主表面上方觀察時該等微 透鏡中之每一者具有大體橢圓形狀。 13 ·如請求項1之方法，其進一步包含以下步驟： 在該光屏蔽層形成步驟後將由含有光漫射介質之材料 形成之光漫射部分形成於該基底基板的該光屏蔽層上。 φ 14· 一種使用請求項1之方法製造之微透鏡基板。 15· —種透過型螢幕，其包含： 具有複數個同心棱鏡形成於其一主表面上之菲涅耳透 鏡（Fresnel lens)，該菲涅耳透鏡之該一主表面組成其發 射表面；及 請求項14之微透鏡基板，該微透鏡基板配置於該菲淫 耳透鏡之該發射表面的侧上。 16· —種包含請求項15之透過型螢幕之背投投射器。 105974-960214.doc 1295381 七、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：第（1)圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 1 微透鏡基板 2 主基板 3 黑色矩陣/光屏蔽層 4 光漫射部分 21 微透鏡 22 著色部分 31 開口 L 光軸 La 平行光 % 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： (無）

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