TWI285791B - Radiation-sensitive resin composition, interlayer insulating film and microlens - Google Patents

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1285791 (1) 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關輻射敏感性樹脂組成物、層間絕緣膜及 微透鏡及這些之製造方法。 【先行技術】 對於薄膜電晶體（以下稱爲^ T F T」）型液晶顯示 元件或磁頭元件、積體電路元件、固體攝影元件等電子零 件，一般爲了使層狀配置之配線間產生絕緣而設置層間絕 緣膜。形成層間絕緣膜之材料，以製得所需之圖案形狀之 步驟數較少，且具有充分平坦性者較佳，因此可廣泛使用 輻射敏感性樹脂組成物。 上述電子零件中，例如T F T型液晶顯示元件係經由 在上述層間絕緣膜上形成透明電極膜，再於其上形成液晶 配向膜之步驟來製造，因此，在形成透明電極膜之步驟中 處於高溫條件，或處於形成電極之圖案所使用之光阻之剝 離液中，因而對於這些必須具有充分之耐用性。 近年，T F T型液晶顯示元件之趨勢爲大畫面化、高 亮度化、高精細化、高速應答化、薄型化等，這些所用之 形成層間絕緣膜用組成物必須爲高感度，形成之層間絕緣 膜之低介電率、高穿透率等必須優於以往之高性能。 另外，傳真機、電子影印機、固體攝影元件等在晶片 上之彩色濾光片（on chip c〇l〇r filter)之成像光學體系 或光纖連結器之光學系材料使用具有3〜1 00 // m之鏡頭 -5- (2) 1285791 直徑之微透鏡，或這些微透鏡以規則性排列之微透鏡陣 列。 形成微透鏡或微透鏡陣列時，形成與透鏡相當之光阻 圖案後，藉由加熱處理產生熔融流動，該狀態下作爲透鏡 使用的方法，或使熔融流動的透鏡圖案形成光罩，利用乾 蝕刻將透鏡形狀轉印至基底上之方法等爲人所知。形成前 述透鏡圖案時，廣泛使用輻射敏感性樹脂組成物（例如專 利文獻3及專利文獻4)。 形成如上述之微透鏡或微透鏡陣列之元件，爲了除去 配線形成部分之接合墊上之各種絕緣膜，而塗佈平坦化膜 及蝕刻用光阻膜，使用所要之光罩進行曝光、顯影去除接 合墊部分之蝕刻光阻，接著藉由蝕刻去除平坦化膜及各種 絕緣膜，供給使接合墊部分露出之步驟。因此微透鏡或微 透鏡陣列在形成平坦化膜及蝕刻光阻塗膜之步驟及蝕刻步 驟中，必須爲耐溶劑性或耐熱性。 形成這種微透鏡所用之輻射敏感性樹脂組成物必須爲 高感度，且由該組成物所形成之微透鏡具有所要之彎曲率 半徑，必須具有高耐熱性、高穿透性等。 如上述製得之層間絕緣膜或微透鏡在形成這些之顯影 步驟中，顯影時間稍微超過最佳時間時，顯影液會滲透至 圖案與基板之間，容易產生剝離，因此，必須嚴控顯影時 間，有產品良率的問題。 如此由輻射敏感性樹脂組成物形成層間絕緣膜或微透 鏡時，組成物被要求爲高感度，且在形成步驟之顯影步驟 -6 - (3) 1285791 中’顯影時間即使超過所設定之時間時，也不會產生圖案 之剝離’顯示良好之密著性，且所形成之層間絕緣膜被要 求高耐熱性、高耐溶劑性、低介電率、高穿透率，形成微 透鏡時’要求微透鏡具有良好之熔融形狀（所要之彎曲率 半徑）’具有高耐熱性、高耐溶劑性、高穿透性，在以往 '滿足這種要求之輻射敏感性樹脂組成物未爲人知。 〔專利文獻1〕 日本特開200 1 — 3 5 4 822號公報 〔專利文獻2〕 曰本特開200 1 — 3 43 743號公報 〔專利文獻3〕 日本特開平6 — 1 8 702號公報 〔專利文獻4〕 曰本特開平6— 136239號公報 〔發明欲解決的問題〕 本發明係根據上述問題所完成者，本發明之目的係提 供具高輻射線敏感度，在顯影步驟中即使超過最佳顯影時 間也可形成良好的圖案形狀之顯像安全係數，且容易形成 密著性優異之圖案狀薄膜，同時用於形成層間絕緣膜時， 可形成高穿透率、低介電率之層間絕緣膜，另外用於形成 微透鏡時，可具有高穿透率及良好之熔融形狀之微透鏡之 輻射敏感性樹脂組成物。 本發明之另外的目的係提供使用上述輻射敏感性樹脂 組成物形成層間絕緣膜及微透鏡的方法及藉由該方法所形 (4) 1285791 成之層間絕緣膜及微透鏡。 【發明內容】 〔解決問題的方法〕 依據本發明時，本發明之上述目的及優點，第一係藉 由一種輻射敏感性樹脂組成物，其特徵爲含[A](al)不飽 和羧酸及/或不飽和羧酸酐、（a2)含環氧基不飽和化合物及 (a3)(al)及（a2)以外之烯烴系不飽和化合物之共聚合物， 及 [B]選自2 —甲基一2—（2，4 —二羥苯基）一 4一（羥苯 基）一 7 -經基色滿、2 - [雙{(5 -異丙基一 4一經基一 2 — 甲基）苯基}甲基]苯酚、1一[1 一（3 — {1 一（4 —羥苯基）一 1 —甲基乙基}— 4，6 —二趣苯基）—1—甲基乙基]—3 —（1 一（3 — {1 —（4 一經苯基）一 1 一甲基乙基}— 4，ό 一二經苯 基）—1 一甲基乙基）苯及4’ 6—雙{1 一（4 —羥苯基）一 1 — 甲基乙基}— 1，3 — 一經苯中之至少一種，與1，2—萘酿 疊氮磺酸鹵化物之縮合物，其中[Β ]成分的含量比例爲對 於[Α] 100重量份時，含有5〜1〇〇重量份之輻射敏感性樹 脂組成物來達成。 本發明之上述目的及優點，第二係藉由其特徵爲至少 含有下述步驟之微透鏡的形成方法來達成， (1 )基板上形成如申請專利範圍第5項之輻射敏感 性樹脂組成物之塗膜的步驟， (2 )將輻射線照射於該塗膜之至少一部份的步驟， -8 - (5) 1285791 (3 )顯影步驟， (4 )加熱步驟。 本發明之目的及優點，第三係藉由上述方法所形成之 層間絕緣膜或微透鏡來達成。 以下詳述本發明之輻射敏感性樹脂組成物。 共聚物〔A〕 共聚物〔A〕可使化合物（al)、化合物（a2)及化合物 U3)在溶劑中，聚合引發劑之存在下，藉由自由基聚合來 製造。本發明用之共聚物〔A〕係以化合物（a 1 )，（ a 2 )及 U3)所衍生的重複單位之合計爲基準，含有5〜40重量 %，更佳爲10〜30重量％之由化合物（a 1)所衍生的構成單 位。使用此構成單位未滿5重量％之共聚物時，顯影步驟 時，較難溶解於鹼水溶液中，而超過40重量％之共聚物 對鹼水溶液之溶解性有過高的傾向。 至於化合物（a 1)例如有單羧酸、二羧酸、二羧酸酐、 多元羧酸之單〔（甲基）丙烯醯氧基烷基〕酯類、兩終端上 具有羧基及羥基之聚合物之單（甲基）丙烯酸酯類、具有 羧基之多環化合物類及其酸酐等。 這些之具體例，例如單羧酸有丙烯酸、甲基丙烯酸、 巴豆酸等； 二羧酸例如有順丁烯二酸、富馬酸、順式甲基丁烯二 酸、中康酸、伊康酸等； 二羧酸酐例如有上述二羧酸所例示之化合物之酸酐 -9- (6) 1285791

單〔（甲基）丙烯醯氧基烷基〕酯類例如有琥珀酸單 〔2—(甲基）丙嫌醯氧基乙基〕酯、苯二甲酸單〔2 一（甲 基）丙烯醯氧基乙基〕酯等； 兩終端上具有羧基及羥基之聚合物之單（甲基）丙烯 酸醋類例如有單（甲基）丙嫌酸6J -殘基聚己內醋醋等； 具有羧基之多環化合物類及其酸酐例如有5 -羧基雙環 [2·2·1]庚一 2-烯、5，6-二羧基雙環[m]庚一 2 —烯、 5 -羧基一 5 —甲基雙環[2·2.1]庚一2 —烯、5_羧基—5 一 乙基雙環[2.2.1]庚一 2—烯、5 —羧基一 6—甲基雙環[2.2.1] 庚一 2 —烯、5 —羧基一 6 —乙基雙環[2.2.1]庚一 2 —烯、 5’ 6-二羧基雙環[2.2.1]庚一 2-烯酐等。 其中共聚反應性、對鹼性水溶液的溶解性及容易取得 的觀點而言，使用單羧酸類、二羧酸之酸酐，特別是使用 丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸酐。這些可單獨或組合使 用0 本發明用之共聚物〔A〕係以化合物.(ai)，（a2)及（a3) 所衍生之重複單位之合計爲基準，含有1 〇〜7 0重量％， 更理想爲20〜60重量％之由化合物（a2)所衍生的構成單 位。此構成單位未滿1 0重量％時，所得之層間絕緣膜或 微透鏡之耐熱性或表面硬度降低的傾向，而構成單位超過 7 〇重量％時，輻射敏感性樹脂組成物之保存安定性有降低 的傾向。 化合物（a2)例如有丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮 -10- (7) 1285791 水甘油酯、α-乙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丙基丙烯酸 縮水甘油酯、α-正丁基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸- 3, 4一環氧丁酯、甲基丙烯酸一 3，4一環氧丁酯、丙烯酸一 6，7 —環氧庚酯、甲基丙烯酸—6，7-環氧庚酯、ot-乙 基丙烯酸一 6，7—環氧庚酯、鄰-乙烯基苯甲基縮水甘油 醚、間-乙烯基苯甲基縮水甘油醚、對-乙烯基苯甲基縮 水甘油醚等。其中從共聚反應性及製得之層間絕緣膜或微 透鏡之耐熱性、提高表面硬度的觀點而言’使用甲基丙烯 酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸一 6’ 7—環氧庚酯、鄰一乙烯 基苯甲基縮水甘油醚、間-乙烯基苯甲基縮水甘油醚、對 -乙烯基苯甲基縮水甘油醚等較佳。這些可單獨或組合使 用。 本發明用之共聚物〔A〕係以化合物（al)，（a2)及（a3) 所衍生之重複單位之合計爲基準，含有1 〇〜7〇重量％， 更理想爲15〜50重量％之由化合物（a3)所衍生的構成單 位。此構成單位未滿1 0重量％時，輻射敏感性樹脂組成 物之保存安定性有降低的傾向，而超過7 0重量％時，形 成層間絕緣膜或微透鏡之顯影步驟中，有時不易溶解於鹼 水溶液中。 化合物（a3)例如有甲基丙烯酸烷酯類、甲基丙烯酸環 狀烷酯類、具有羥基之甲基丙烯酸烷酯類、丙烯酸環狀烷 酯類、甲基丙烯酸芳酯類、丙烯酸芳酯類、不飽和二羧酸 二酯類、雙環不飽和化合物類、馬來醯亞胺化合物類、不 飽和芳族化合物類、共軛二烯類、其他不飽和化合物類。 -11 - (8) 1285791 這些具體例，甲基丙烯酸烷酯類例如有甲基丙烯酸甲 酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸第 二丁酯、甲基丙烯酸一 2 —乙基己酯、甲基丙烯酸異癸 酯、甲基丙烯酸正十二烷酯、甲基丙烯酸正十三烷酯、甲 基丙烯酸正十四烷酯等； 甲基丙烯酸烷酯類例如有甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸 異丙酯等； 甲基丙烯酸環狀烷酯類例如有甲基丙烯酸環己酯、甲 基丙烯酸2—甲基環己基酯、甲基丙烯酸三環 〔5.2.1.02，6〕癸烷一 8 —基酯、甲基丙烯酸三環 〔5.2·1.02’ 6〕癸烷一 8—基羥乙酯、甲基丙烯酸異佛爾酮 酯等； 具有羥基之甲基丙烯酸烷酯類例如有甲基丙烯酸2 -羥甲酯、甲基丙烯酸2 —羥乙酯、甲基丙烯酸3 —羥丙 酯、甲基丙烯酸4一羥丁酯、單甲基丙烯酸二乙二醇酯、 甲基丙烯酸 2，3 —二羥丙酯、2 -甲基丙烯氧乙基配糖 物、甲基丙烯酸4一羥苯酯等； 丙烯酸環狀烷酯類例如有丙烯酸環己酯、丙烯酸2 -甲基環己基酯、丙烯酸三環〔5.2.1.02’6〕癸烷一 8 -基 酯、丙烯酸三環〔5.2.1.02’6〕癸烷一 8 —基羥乙酯、丙烯 酸異佛爾酮酯等； 甲基丙烯酸芳酯類例如有甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯 酸苯甲酯等； 丙烯酸芳酯類例如有丙烯酸苯酯、丙烯酸苯甲酯等； -12- (9) 1285791 不飽和一羧酸一酯類例如有順丁烯二酸二乙酯、富馬 酸二乙酯，伊康酸二乙酯等； 雙環不飽和化合物類例如有雙環〔2.21〕庚基一 2 一 烯、5 一甲基雙環〔2·2.丨〕庚基〜2 一烯、5 —乙基雙環 〔2.2.1〕庚基一 2-烯、5 一甲氧基雙環〔2.21〕庚基—2 一燦、5 —乙氧基雙環〔2.2.1〕庚基一 2 —烯、5，6-二 甲氧基雙環〔2.2.1〕庚基一 2一烯、5，6一二乙氧基雙環 〔2.2.1〕庚基—2-烯、5 -第三丁氧羰基雙環〔221〕 庚基一 2 —烯、5 —環己氧基羰基雙環〔221〕庚基一 2 一 烯、5 —苯氧基羰基雙環〔2.2.1〕庚基一 2 -烯、5，6-一（第三丁氧基鑛基）雙環〔2.2.1〕庚基一 2-烯、5 -（2, —羥乙基）雙環〔2.2.1〕庚基一 2-烯、5，6 -二羥基雙環 〔2.2.1〕庚基—2 -烯' 5，6 —二（2, 一羥乙基）雙環 〔2.2.1〕庚基一 2 —烯、5—羥基一 5 一甲基雙環〔2.2.1〕 庚基一 2 —烯、5 -羥基一 5 -乙基雙環〔2.2.1〕庚基—2 〜烯、5 —羥甲基—5 —甲基雙環〔22.丨〕庚基—2 一烯 等； 馬來醯亞胺化合物類例如有苯基馬來醯亞胺、環己基 馬來醯亞胺、苯甲基馬來醯亞胺、N -琥珀醯亞胺基- 3 -馬來醯亞胺苯酸酯、N-琥珀醯亞胺基一 4 -馬來醯亞 胺丁酸酯、N-琥珀醯亞胺基一 6 -馬來醯亞胺己酸酯、N 一琥珀醯亞胺基一 3 -馬來醯亞胺丙酸酯、n -（9一吖啶基） 馬來醯亞胺等； 不飽和芳族化合物類例如有苯乙烯、α -甲基苯乙 -13- (10) 1285791 嫌、間—甲基苯乙烯 '對一甲氧基苯乙烯、乙烯基甲苯、 對甲氧基苯乙烯等； 共軛二烯類例如有1，3 - 丁二烯、異戊二烯、2，3 —二甲基一 1，3—丁二烯等； 其他不飽和化合物類例如有丙烯腈、甲基丙烯腈、氯 乙烯、偏氯乙烯、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、醋酸乙烯 酯。 其中在共聚反應性及對驗性水溶液的溶解性的觀點而 言’較佳者爲使用甲基丙烯酸烷·酯類、甲基丙烯酸環狀烷 酯類、雙環不飽和化合物類、不飽和芳族化合物類、共軛 二烯類，其中特別理想爲甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯 酸三環〔5.2.1· 〇2’6〕癸烷一 8 —基酯、對一甲氧基苯乙 烯、丙烯酸2 —甲基環己酯、1，3— 丁二烯、雙環[2·2·1] 庚- 2-烯。這些可單獨或組合使用。 本發明之共聚物〔A〕之較佳具體例，例如有甲基丙 烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸三環[5· 2· 1 . 02’6]癸烷一 8 — 基酯/甲基丙烯酸縮水甘油酯共聚物、甲基丙烯酸/苯乙烯/ 甲基丙烯酸三環[5· 2· 1. 02’6]癸烷一 8—基酯/甲基丙烯 酸縮水甘油酯/對乙烯基苯甲基縮水甘油醚共聚物、甲基 丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸三環[5 · 2 · 1 · 02 ’ 6]癸烷一 8 -基酯/甲基丙烯酸縮水甘油酯/甲基丙烯酸2—羥乙酯共 聚物、甲基丙烯酸/苯乙烯/甲基丙烯酸三環[5. 2.1· 〇2 · 6]癸烷一 8 —基酯/甲基丙烯酸縮水甘油酯/甲基丙烯酸 正十二烷酯共聚物。 -14- (11) 1285791 本發明所用的共聚物〔A〕係以聚苯乙烯換算之重量 平均分子量（以下稱爲「Mw」），通常爲2><1〇3〜ιχι〇5， 理想爲5 X 1 03〜5 X 1 04。M w未達2 X 1 03時，有時顯影安全 係數低，製得之被膜之殘膜率等會降低，或製得之層間絕 緣膜或微透鏡之圖案形狀、耐熱性等較差，而超過1 X 1 05 時，靈敏度會降低，且圖案形狀較差。含有上述共聚物 〔A〕之輻射敏感性樹脂組成物在顯影之際，可在不產生 顯影殘留的狀態下，容易形成所定圖案形狀。 製造共聚物〔A〕所用的溶劑，具體而言例如有醇 類、醚類、乙二醇醚類、乙二醇烷基醚乙酸酯類、二乙二 醇烷基醚類、丙二醇單烷醚類、丙二醇烷醚乙酸酯類、芳 族烴類、酮類、酯類等。 這些之具體例，例如有甲醇、乙醇等之醇類；四氫呋 喃等之醚類；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等之乙二甘醇 醚類；甲基乙二醇乙醚乙酸酯、乙基乙二醇乙醚乙酸酯等 之乙二醇烷醚乙酯類；二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙 醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙基甲 醚等之二乙二醇類；丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二 醇單丙醚、丙二醇單丁醚等之丙二醇單烷醚類；丙二醇甲 醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸醋、丙二 醇丁醚乙酸酯等之丙二醇烷基醚乙酸酯類；丙二醇甲醚丙 酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇丁 醚丙酸酯等之丙二醇烷醚乙酸酯類；甲苯、二甲苯等之芳 香族烴類；甲乙酮、環己酮、4一羥基一 4 一甲基一 2 一戊 -15- (12) 1285791 酮等之酮類；醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丙酯、醋酸丁 酯、2-羥基丙酸乙酯、2—羥基一 2-甲基丙酸甲酯、2-羥基- 2 -甲基丙酸乙酯、羥基醋酸甲酯、羥基醋酸乙 酯、羥基醋酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳 酸丁酯、3 -羥基丙酸甲酯、3 -羥基丙酸乙酯、3 -羥基 丙酸丙酯、3 -羥基丙酸丁酯、3 -羥基一 3 —甲基丁酸甲 酯、甲氧基醋酸甲酯、甲氧基醋酸乙酯、甲氧基醋酸丙 酯、甲氧基醋酸丁酯、乙氧基醋酸甲酯、乙氧基醋酸乙 酯、乙氧基醋酸丙酯、乙氧基醋酸丁酯、丙氧基醋酸甲 酯、丙氧基醋酸乙酯、丙氧基醋酸丙酯、丙氧基醋酸丁 酯、丁氧基醋酸甲酯、丁氧基醋酸乙酯、丁氧基醋酸丙 酯、丁氧基醋酸丁酯、2—甲氧基丙酸甲酯、2—甲氧基丙 酸乙酯、2—甲氧基丙酸丙酯、2—甲氧基丙酸丁酯、2 — 乙氧基丙酸甲酯、2—乙氧基丙酸乙酯、2 -乙氧基丙酸丙 酯、2—乙氧基丙酸丁酯、2- 丁氧基丙酸甲酯、2— 丁氧 基丙酸乙酯、2- 丁氧基丙酸丙酯、2- 丁氧基丙酸丁酯、 3 —甲氧基丙酸甲酯、3 —甲氧基丙酸乙酯、3 —甲氧基丙 酸丙酯、3 —甲氧基丙酸丁酯、3 —乙氧基丙酸甲酯、3 — 乙氧基丙酸乙酯、3—乙氧基丙酸丙酯、3 -乙氧基丙酸丁 酯、3 -丙氧基丙酸甲酯、3 -丙氧基丙酸乙酯、3 —丙氧 基丙酸丙酯、3—丙氧基丙酸丁酯、3- 丁氧基丙酸甲酯、 3 — 丁氧基丙酸乙酯、3 — 丁氧基丙酸丙酯、3 - 丁氧基丙 酸丁酯等之酯類。 其中較理想者爲乙二醇烷醚乙酸酯類、二乙二醇類、 -16- (13) 1285791 @ =醇單烷醚類、丙二醇烷醚乙酸酯類，特別理想爲二乙 〜醇=甲醚、二乙二醇乙基甲醚、丙二醇甲醚、丙二醇甲 駿乙酸酯。

製造共聚物〔A〕所用之聚合引發劑，通常可使用已 爲人知之自由基聚合引發劑，例如有：2，2，-偶氮雙異 丁睛、2，2·—偶氮雙—（2，4 一二甲基戊腈）、2，2·—偶 氮雙〜（4 一甲氧基一 2，4 一二甲基戊腈）等之偶氮化合 物，過氧化苯甲醯、過氧化月桂醯、桌二丁基過氧基二甲 基乙酸醋、1，1，-雙一（第三丁基過氧）環己院等之有機 過氧化物；及過氧化氫。過氧化物作爲自由基聚合引發劑 使用時，過氧化物與還原劑一起使用可作爲還原氧化型引 發劑。 〔B〕成分

本發明使用之〔B〕成分爲選自2 —甲基一 2 —（2，4 一二羥苯基）—4 一 （4 一羥苯基）—7-羥基色滿、2 -[雙{(5 —異丙基一 4 一羥基一 2 -甲基）苯基}甲基]苯 酚、l—U— (3 一 {1一 （4 —羥苯基）一 1 一甲基乙基}— 4，6 —二經苯基）一 1 一甲基乙基]—3— (1 — （3 — {1 — (4 —羥苯基）一 1 一甲基乙基}一 4’ 6—二羥苯基）一 1一 甲基乙基）苯及4，6—雙U— (4 —羥苯基）—1—甲基 乙基} 一 1，3 —二羥苯中之至少一種（以下有時稱爲「特 定苯酚化合物」），與1，2 一萘醌二疊氮磺酸鹵化物之 縮合物。1，2 -萘醌二疊氮磺酸鹵化物例如有1，2 -萘 -17- (14) 1285791 醌二疊氮磺酸氯。 這種〔B〕成分係將特定苯酣化合物及1’ 2-奈11 一 疊氮磺酸鹵化物通常在溶媒之存在下，滴下觸媒後’產生 縮合反應而製得。此時之特定苯酚化合物及1，2 -萘醌 二疊氮磺酸鹵化物之使用量係因使用之特定苯酚化合物的 種類而異。對於特定苯酚化合物丨莫耳時，1，2 -萘醌二 疊氮磺酸鹵化物之使用量係特定苯酚化合物爲2 -甲基-2 — （2，4 —二羥苯基）一 4一（4一羥苯基）—7 -羥基色 滿時，使用1 · 〇〜4.0莫耳，更理想爲1 . 〇〜3 · 〇莫耳， 特定苯酣化合物爲2 - [雙{ (5 —異丙基一 *一經基一 2 一甲基）苯基}甲基]苯酚時，使用1·〇〜3()莫耳，更理想 爲1 .5〜3.0莫耳， 特疋本酣化σ物爲2 - [雙{ (5 -異丙基—4一經基—2 一甲基）本基}甲基]本酚時，使用1〇〜3.〇莫耳，更理想 爲1 . 5〜3 · 0莫耳， 特疋本酹化口物爲1 一 [1 一（3〜（I 一（4一羥苯基 一；！ 一甲基乙基}— 4, 6—二羥苯基）〜i 一甲基乙基]一 一 （1 一 （ 3一 {1 一 （ 4—羥苯基）—1〜甲基乙基卜4， 一二羥苯基）一 1一甲基乙基）苯或4, 6一雙π— (4 羥苯基）—1甲基乙基卜卜3 —二键苯時，使用1〇 2.0莫耳。 此時可使用之溶媒例如有_米百 ^ 知胥酮類、環醚類，這些具i 仿|丨，例如有丙酬、甲基異戍PK r〇 例忉 仄酮甲棊異丁酮等之酮類 噁 4 D惡丨完等之環醚。使用溶 -18- (15) 1285791 時’其使用量係對於特定苯酚化合物及】，2-萘醌二疊 氯磺酸鹵化物之合計量1〇〇重量份時，使用1〇〇〜2，0〇〇 重量份，更理想爲200〜1，000重量份。 上述觸媒可使用鹼性化合物，理想爲三乙胺、四甲基 氯化銨 '四甲基溴化銨、毗啶等。這些觸媒之使用量係對 於1，2 -萘醌二疊氮磺酸鹵化物〗莫耳時，使用1莫耳 以上，更理想爲1 . 0 5〜1.2莫耳。 觸媒滴下溫度及反應溫度爲0〜5 0 °C，理想爲〇〜4 0 °C，更理想爲1 0〜3 5 °C。 反應時間爲〇. 5〜1 〇小時，理想爲1〜5小時，特別 理想爲1〜3小時。 縮合反應後，過濾去除析出物後，將濾液投入大量之 稀酸水溶液，例如0 . 1〜3.0重量％之稀鹽酸水溶液中， 使反應生成物析出，然後過濾析出物，水洗直到濾液成爲 中性爲止，然後乾燥得到〔B〕成分。 這些〔B〕成分可單獨使用或組合2種以上使用。 〔B〕成分之使用比例（含量比例）係對於共聚物 〔A〕成分100重量份時，通常使用5〜100重量份，理 想爲1 〇〜5 0重量份。此比例未滿5重量份時’輻射線之 照射部分與未照射部份 對於顯影液之鹼水溶液之溶解度之差較小’有時圖案 化困難，且製得之層間絕緣膜或微透鏡之耐熱性及耐溶劑 性不足。又此比例超過1 〇 〇重量份時’輻射線照射部分對 於前述鹼水溶液之溶解度不足’有時顯影困難° -19- (16) 1285791 本發明中，可使用〔B〕成分以外之1，2 -萘醌二 疊氮化合物取代〔B〕成分之一部分。 這種〔B〕成分以外之1，2 —萘醌二疊氮化合物例 如有下述苯酚性化合物或醇性化合物與1，2 -萘醌二疊 氮磺酸鹵化物之縮合物。 三羥基二苯甲酮類、四羥基二苯甲酮類、五羥基二苯 甲酮類、六羥基二苯甲酮類、（聚羥苯基）烷類。 這些具體例，例如有2，3，4 一三羥基二苯甲酮、 2，4，6—三羥基二苯甲酮等之三經基二苯甲酮類； 2，2，，4，4，一四羥基二苯甲酮、2，3，4，3，一四 羥基二苯甲酮、2，3，4，4’ 一四羥基二苯甲酮、2，3, 4，2，一四羥基一 4，一甲基二苯甲酮、2，3，4，4，一四羥 基一 3’一甲氧基二苯甲酮等之四羥基二苯甲酮類； 2，3，4，2’，6’ 一五羥基二苯甲酮等之五羥基二苯 甲酮類； 2，4，6，3，，4,5，一六羥基二苯甲酮、3，4，5, 3’，4’5’ 一六羥基二苯甲酮等之六羥基二苯甲酮類； 雙（2，4 一二羥苯基）甲烷、雙（對羥苯基）甲烷、 三（對羥苯基）甲烷、1，1，1 一三（對羥苯基）乙烷、 雙（2，3，4 —三羥苯基）甲烷、2，2 —雙（2，3，4一三 控苯基）丙院、1，1，3 —二（2，5 — 一甲基一 4 —經苯 基）一 3 —苯基丙院、4，4’ 一〔1—〔4一〔1_〔4 —經苯 基〕一 1—甲基乙基〕苯基〕亞乙基〕雙酚、雙（2，5 — 二甲基—4 —羥苯基）一 2—羥苯基甲烷、3，3，3，，3’一 -20- (17) 1285791 四甲基一1，1’一螺二茚一5，ό，7，5，，ό，，7’一己醇、 2，2，4 —三甲基_7，2·，4’ 一三羥基黃烷等之（聚羥苯 基）烷類。 也使用將使上述例示之母核之酯鍵改爲醯胺鍵之I， 2 一 _醌二疊氮磺酸醯胺類，例如有2，3，4 —三羥基二 苯甲酮一 1，2—萘醌二疊氮_4一磺酸醯胺等。 上述1 ’ 2 -萘酷二疊氮磺酸鹵化物理想爲1，2 —萘 醌二疊氮磺酸氯。 藉由縮合合成上述之〔Β〕成分以外之1，2-萘醌 二疊氮化合物時’可藉由與上述〔Β〕成分之縮合相同之 條件進行縮合。 上述之〔Β〕成分以外之1，2-萘醌二疊氮化合物 可單獨使用或組合兩種以上使用。 本發明中，同時使用〔Β〕成分與〔Β〕成分以外之 1，2-萘醌二疊氮化合物時，〔：8〕成分以外之1，2-萘醌二疊氮化合物之使用量係對於〔Β〕成分與〔Β〕成 分以外之1 ’ 2 -萘醌二疊氮化合物之使用量之合計時’ 通常使用7 〇重量％以下，理想爲6 5重量％以下，理想爲 6 0重量％以下。超過此數値，使用〔Β〕成分以外之1 ’ 2 _萘醌二疊氮化合物時，有時無法得到本發明之效果’ 特別是高透明性。 本發明之輻射敏感性樹脂組成物含有上述共聚物[Α] 及[Β]成分之必須成分，但是視需要可含有〔C〕熱敏性酸 產生化合物、〔D〕至少具有一個乙烯性不飽和雙鍵之聚 -21 - (18) 1285791 合性化合物、〔E〕共聚物[A]以外之環氧樹脂、〔F〕界 面活性劑或〔G〕粘著助劑。 上述〔C〕熱敏性酸產生化合物係可提高耐熱性或硬 度。其具體例，例如有硫鎗鹽、苯并噻唑鎗鹽、銨鹽、鍈 鹽等之鏠鹽。 上述硫鐵鹽例如有院基硫鐵鹽、苯甲基硫鐵鹽、•苯 甲基硫鑰鹽、取代苯甲基硫鑰鹽等。 這些之具體例，例如有4 -乙醯苯基二甲基硫鎗六氟 銻酸鹽、4 -乙醯氧苯基二甲基硫鑰六氟銻酸鹽、二甲基 一 4一（苯甲氧基羰氧基）苯基硫鐵六氟銻酸鹽、二甲基一 4 一（苯醯氧基）苯基硫鐵六氟銻酸鹽、二甲基一 3 -氯一 4一 乙醯氧基苯基硫鎗六氟銻酸鹽等烷基硫_鹽； 苯甲基一 4一羥苯基甲基硫鎗六氟銻酸鹽、苯甲基一 4 -羥苯基甲基硫_六氟磷酸鹽、4 -乙醯氧基苯基苯甲基 甲基硫鐵六氟銻酸鹽、苯甲基- 4 一甲氧基苯基甲基硫_ 六氟鍊酸鹽、苯甲基一 2 —甲基一 4一羥苯基甲基硫鑰六氟 銻酸鹽、苯甲基- 3 -氯一 4 一羥苯基甲基硫鐵六氟磷酸 鹽、4-甲氧基苯甲基- 4-羥苯基甲基硫鑰六氟銻酸鹽等 之苯甲基硫鐵鹽； 二苯甲基一 4一羥苯基硫鑰六氟銻酸鹽、二苯甲基一 4 -羥苯基硫鎗六氟磷酸鹽、4-乙醯氧基苯基二苯甲基硫 鏠六氟銻酸鹽、二苯甲基一 4 -甲氧基苯基硫_六氟銻酸 鹽、二苯甲基—3-氯—4一羥苯基硫鐵六氟砷酸鹽、二苯 甲基一 3 一甲基一 4一羥基—5 一第三丁基苯基硫_六氟銻 -22- (19) 1285791 酸鹽、苯甲基一 4 一甲氧基苯甲基一 4 一淫苯基硫鎗六 酸鹽等之二苯甲基硫鑰鹽； 對一氯苯甲基- 4 -羥苯基甲基硫§翁六氟銻酸鹽 -硝基苯甲基- 4 -羥苯基甲基硫鑰六氟銻酸鹽、對 苯甲基- 4 -羥苯基甲基硫鑰六氟磷酸鹽、對-硝基 基一 3 一甲基一 4 一羥苯基甲基硫鐵六氟銻酸鹽、3，5 氯苯甲基- 4 -羥苯基甲基硫鐵六氟銻酸鹽、鄰-氯 基- 3 -氯- 4 -經苯基甲基硫鐵六氣錄酸鹽等之取代 基硫鎗鹽等。 上述苯并噻唑鐵鹽例如有3 -苯甲基苯幷噻唑_ 銻酸鹽、3—苯甲基苯并噻唑鐵六氟磷酸鹽、3—苯甲 并噻唑鐵四氟硼酸鹽、3 -（對-甲氧基苯甲基）苯并 鐵六氟銻酸鹽、3 —苯甲基一 2 —甲基硫代苯幷噻唑_ 銻酸鹽、3-苯甲基- 5 -氯苯并噻唑鏡六氟銻酸鹽等 甲基苯并噻唑_鹽。 上述中’使用硫_鹽及苯并噻唑鐵鹽較佳，特別 爲使用4 一乙醯氧苯基二甲基硫鐵六氟砷酸鹽、苯甲 4-羥基苯基甲基硫鑰六氟銻酸鹽、4-乙醯氧苯基苯 硫_六氟砷酸鹽、二苯甲基- 4 -羥基苯基硫鎗六氟 鹽、4-乙醯氧苯基苯甲基硫鎗六氟銻酸鹽、3 一苯甲 并噻哗_六氟鍊酸鹽。 這些之巾售品例如有San 一 Aid SI — L85、SI — L1 SI—L145、 SI— L150、SI— ί16()(以上均爲三新化 業（股）製造）等。 氟磷 、對 一氯 苯甲 苯甲 苯甲 六氟 基苯 噻唑 六氟 之苯 理想 基— 甲基 銻酸 基苯 10、 學工 -23 - (20) 1285791 〔C〕成分之使用比例係對於共聚物〔a〕} 〇〇重量份 時’理想爲使用2 0重量份以下，更理想爲5重量份以 下。使用量超過20重量份時，在塗膜形成步驟中，有時 會有析出物析出，影響塗膜形成的情形. 上述〔D〕具有至少1個乙稀性不飽和雙鍵之聚合性 化合物（以下有時稱爲「D成分」）例如有單官能（甲基） 丙烯酸酯、二官能（甲基）丙烯酸酯或三官能（甲基）丙烯酸 酯。 上述單官能（甲基）丙烯酸酯，例如有（甲基）丙烯酸2 一羥乙酯、（甲基）丙烯酸卡必醇酯、（甲基）丙烯酸異原菠 烷酯、（甲基）丙烯酸3—甲氧基丁酯、2 -（甲基）丙烯醯氧 基乙基一 2 -羥丙基苯二甲酸酯等。這些市售品，例如有 Aronix M — 101，M — 111，Μ — 114(東亞合成（股）製）、 KAYARAD TC — 110S，TC — 120S(日本化藥（股）製造）、 Visco at 158，2311(大阪有機化學工業（股）製造）等。 上述二官能（甲基）丙烯酸酯例如有：（甲基）丙烯酸乙 二醇酯、二（甲基）丙烯酸1，6—己二醇酯 '二（甲基）丙烯 酸1，9一壬二醇酯、二（甲基）丙烯酸聚丙二醇酯、二（甲 基）丙烯酸四乙二醇酯、二丙烯酸雙苯氧基乙醇芴酯。這 些的市售品例如有：Aronix M— 210，Μ — 240，M — 6200(東亞合成（股）製造）、KAYARAD HDDA，ΗΧ— 220， R - 604(日本化藥（股）製造）、Viscoat 260，312， 3 3 5HP(大阪有機化學工業（股）製造）等。 上述三官能以上之（甲基）丙烯酸酯例如有：三（甲基） -24- (21) 1285791 丙烯酸三羥甲基丙烷酯、三（甲基）丙烯酸季戊四醇酯、磷 酸三（（甲基）丙烯醯氧基乙基）酯、四（甲基）丙烯酸季戊四 醇酯、五（甲基）丙烯酸二季戊四醇醋、六（甲基）丙烯酸二 季戊四醇酯等，其市售品例如有 Aronix Μ — 3 09，Μ -400，Μ— 405，Μ— 4 5 0，Μ— 7100，Μ- 8 0 3 0，Μ — 8 0 60 (東亞合成（股）製）、KAYARAD TMPTA、DPHA、 DPCA— 20、DPCA-30、DPCA — 60、DPCA — 120(日本化 藥（股）製造）、Viscoat 295、3 00、3 60、GPT、3PA、 400(大阪有機化學工業（股）製造）等。 這些中理想爲使用三官能以上之（甲基）丙烯酸酯，其 中特別理想爲三（甲基）丙烯酸三羥甲基丙烷酯、四（甲基） 丙烯酸季戊四醇酯、六（甲基）丙烯酸二季戊四醇酯。 這些之單官能、二官能或三官能以上之（甲基）丙烯酸 酯可單獨使用或組合使用。〔D〕成分之使用比例係對於 共聚物〔A〕1 0 0重量份時，理想爲使用5 0重量份以下， 更理想爲3 0重量份以下。 藉由含有此比例之〔D〕成分，可提高由本發明之輻 射敏感性樹脂組成物所製得之層間絕緣膜或微透鏡之耐熱 性及表面硬度等。使用量超過50重量份時，在基板上形 成輻射敏感性樹脂組成物之塗膜之步驟中，有時會產生塗 膜粗糙的情形。 上述〔E〕共聚物〔A〕成分以外之環氧樹脂〔以下 有時稱爲「E成分」〕只要不影響相溶性，則無特別限 定，理想者例如有雙酚A型環氧樹脂、酚酚醛淸漆型環 -25- (22) 1285791 氧樹脂、甲酚酚醛淸漆型環氧樹脂、環狀脂肪族環氧樹 脂、縮水甘油酯型環氧樹脂、縮水甘油基胺型環氧樹脂、 雜環環氧樹脂、甲基丙烯酸縮水甘油酯之（共）聚合之樹脂 等。其中較佳者爲雙酚A型環氧樹脂、甲酚型酚醛淸漆 環氧樹脂、縮水甘油基酯型環氧樹脂等。 〔E〕成分之使用比例係對於共聚物〔A〕1 0 〇重量 份，理想爲使用3 0重量份以下。含有此比例之〔E〕成 分，可提高由本發明之輻射敏感性樹脂組成物所製得之保 護膜或絕緣膜之耐熱性及表面硬度等。使用量超過3 0重 量份時，在基板上形成輻射敏感性樹脂組成物之塗膜時， 有時會產生塗膜之膜厚不均勻的情形。 共聚物〔A〕也稱爲「環氧樹脂」，但是在具有鹼可 溶性方面，與〔E〕成分不同。 爲了提高塗佈性，在本發明之輻射敏感性樹脂組成物 中可使用〔F〕界面活性劑。例如可使用氟系界面活性 劑、聚矽氧系界面活性劑及非離子界面活性劑。 氟系界面活性劑例如有1，2，2，2 -四氟辛基（1， 1，2，2 —四氟丙基）醚、1，2，2，2 —四氟辛基己醚、八 乙二醇二（1，1，2，2 —四氟丁基）醚、六乙二醇二（1， 1，2，2，3，3 —六氟戊基）醚、八丙二醇二（1，1，2，2 —四氟丁基）醚、六丙二醇二（1，1，2，2，3，3 —六氟戊 基）醚、全氟十二烷基磺酸鈉、1，1，2，2，8，8，9， 9，10，10 —十氟十二院、1，1，2，2，3，3-六氟癸院 等，除此之外有氟烷基苯磺酸鈉類；氟烷氧乙醚類；氟烷 -26- (23) 1285791 基銨碘鑰類、氟烷基聚環氧乙_類、全氟烷基聚環氧乙醇 類；全氟烷基烷氧醇酸類；氟系烷酯類等。這些之市售 品’例如有：BM — 1000，BM—u〇〇(bm CHEMIE 公司）製 造）' Megafac F142D，F172，F173，F183，F178，F191， F471(大日本油墨化學工業（股）製造）' Fui〇rad pc - 170， FC — 171c，FC — 430，FC—431(住友 3M(股）製造）’ Surflon S-112，S— 113，S-131，S— 141，S—145，S -382，SC - 101，SC - 102，SC-103, SC-104，SC -105 · SC — 106(旭玻璃（股）製造），F — TOP EF301，303， 352(新秋田化成（股）製造），SH—28PA，SH—190，SH — 193，SZ-6032，SF— 8428，DC— 57，DC - 190(東麗· Dow corning· Silicone(股）製造）等。 上述聚矽氧系界面活性劑例如有以東麗 Silicone DC -3PA， DC— 7PA， SH— 11PA， SH—21PA， SH— 28PA，SH— 29PA，SH - 30PA，FS - 1265-300(東麗· Dowcorning· Silicone(股）製造）’ TSF — 4440， TSF — 43 00，TSF — 4445，TSF— 4446 ’ TSF — 4460 ’ TSF — 4452 (GE東芝Silicone(股）製造）等之商品名販售者。 上述非離子性系界面活性劑例如可使用聚環氧乙院月 桂醚、聚環氧乙烷硬脂醚 '聚環氧乙丨完 '油醚等之聚環氧乙 烷烷醚類；聚環氧乙烷辛基苯醚、聚環氧乙院壬基苯醚等 之聚環氧乙烷芳醚類；聚環氧乙烷二月桂酯、聚環氧乙烷 二硬脂酯等之聚環氧乙烷二烷酯類等；（甲基）丙烯酸系 共聚物Polyflow No.5 7，95(共榮公司油脂化學工業（股）製 -27- (24) 1285791 造）等。 這些的界面活性劑可單獨使用或組合兩種以上使用。 這些之〔F〕界面活性劑係對於共聚物〔A〕1 0 0重量 份時’理想爲使用5重量份以下，更理想爲2重量份以 下。〔F〕界面活性劑之使用量超過5重量份時，在基板 上形成塗膜時，有時容易生成塗膜之膜粗糙的情形。 本發明之輻射敏感性樹脂組成物中，爲了提高與基體 之粘著性，也可使用〔G〕粘著助劑。此種〔G〕粘著助 劑可使用官能性矽烷偶合劑，例如具有羧基、甲基丙烯醯 基、異氰酸酯基、環氧基等之反應性取代基之矽烷偶合 劑。具體而言，例如有三甲氧基甲矽基苯甲酸、γ-甲基 丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙 烯基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水丙氧基丙基三甲氧基矽烷、β -（3，4-環氧基環己基） 乙基三甲氧基矽烷等。 此種〔G〕粘著助劑係對共聚物〔A〕1 〇〇重量份，理 想爲使用2 0重量份以下，更理想爲1 〇重量份以下。粘著 助劑之使用量超過2 0重量份時，有時在顯影步驟中，容 易產生顯影殘留的情形。 輻射敏感性樹脂組成物 本發明之輻射敏感性樹脂組成物係藉由均勻混合上述 共聚物〔A〕、 〔B〕成分及如上述任意添加之其他成分 來製備。通常，本發明之輻射敏感性樹脂組成物係溶解於 適當的溶劑，以溶液狀態來使用。例如以所定比例混合共 -28- (25) 1285791 聚物〔A〕 、 〔 B〕成分及任意添加之其他成分，可製備 溶液狀態之輻射敏感性樹脂組成物。 製備本發明之輻射敏感性樹脂組成物所用的溶劑係使 用可均勻溶解共聚物〔A〕 、 〔 B〕成分及如上述任意添 加之其他成分之各成分，且不與各成分反應者。 這種溶媒例如有與製造上述共聚物〔A〕使用之溶媒 所例示者相同的溶媒。 這種溶媒中，從各成分之溶解性、與各成分之反應 性、塗膜形成之容易度的觀點，可使用例如乙二醇醚類、 乙二醇烷基醚乙酯類、酯類及二乙二醇類。其中特別理想 爲二乙二醇乙基甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇單甲醚、 丙二醇單甲醚乙酸酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙 酯。 爲了提高前述溶媒及膜厚之面內均勻性，因此可倂用 高沸點溶媒。可倂用之高沸點溶媒例如有N -甲基甲醯 胺、N，N —二甲基甲醯胺、N —甲基醯苯胺、N —甲基 乙醯胺、N，N —二甲基乙醯胺、N —甲基吡咯烷酮、二 甲基亞硕、苯甲基乙醚、二己醚、乙醯基丙酮、異佛爾 酮、己酸、庚酸'1—辛醇、1 一壬醇、苯甲醇、醋酸苯甲 酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、順丁烯二酸二乙酯、7 — 丁內酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、苯基乙二醇乙醚乙酸 酯等。其中較佳者爲N —甲基吡咯烷酮、r 一丁內酯、 N，N —二甲基乙醯胺。 本發明之輻射敏感性樹脂組成物之溶媒倂用高沸點溶 •29- (26) 1285791 媒時’高沸點溶媒之使用量係對於全溶媒時，使用50重 量％以下’理想爲4 0重量％以下，更理想爲3 0重量％以 下°高沸點溶媒之使用量超過此使用量時，有時塗膜之膜 均勻性、感度及殘膜率會降低。 以溶液狀態製備本發明之輻射敏感性樹脂組成物時， 溶液中所佔有之溶媒以外的成分（即共聚物〔A〕、 〔B〕成分及如上述任意添加之其他成分之合計量）之比 例可配合啶或所要之膜厚之數値等任意設定，通常爲5〜 5 〇重量％ ，理想爲1 〇〜4 0重量％ ，更理想爲1 5〜3 5重 量％ 〇 上述製備之組成物溶液係使用孔徑0.2 # m之毫米過 濾器等過濾後，可供使用。 層間絕緣膜、微透鏡之形成 其次說明使用本發明之輻射敏感性樹脂組成物，形成 本發明之種層間絕緣膜、微透鏡的形成方法。本發明之層 間絕緣膜或微透鏡的形成方法係至少含有下述步驟者， (1 )基板上本發明之輻射敏感性樹脂組成物之塗膜 的步驟， (2 )將輻射線照射於該塗膜之至少一部份的步驟， (3 )顯影步驟， (4 )加熱步驟。 (1 )基板上形成本發明之輻射敏感性樹脂組成物之 塗膜的步驟 上述（1)之步驟中，在基板表面上塗佈本發明之組 -30- (27) 1285791 成物溶液，藉由預烘烤去除溶劑，形成輻射敏感性樹脂組 成物之塗膜。 本發明可使用之基板的種類，例如有玻璃基板、矽晶 圓及這些之表面形成各種金屬之基板。 組成物溶液之塗佈方法無特別限定，例如可使用噴塗 法、輥塗法、旋轉塗佈法、棒塗法等各種方法。預烘烤之 條件係因各成分之種類、使用比例而異，但通常爲60〜 1 1 0 °C、3 0 秒〜1 5 鐘。 所形成之塗膜之膜厚在預烘烤之數値，例如形成層間 絕緣膜時爲3〜6，m，形成微透鏡時爲0.5〜3// m。 (2 )將輻射線照射於該塗膜之至少一部份的步驟 上述（2 )之步驟中，對於形成後之塗膜經由具有所 定之光罩，照射輻射線後，使用顯影液去除輻射線之照射 部分’形成圖案化。此時所用的輻射線，例如有紫外線、 遠紫外線、X射線、電子線等。 上述紫外線例如有g射線（波長43 6nm) ' i射線（波長 3 65nm)等。遠紫外線例如有KrF準分子雷射等。X射線例 如有同步加速器輻射線等。荷電粒子線例如有電子線等。 其中較理想爲紫外線，特別理想爲含有g射線及/或i 射線之輻射線者。 形成層間絕緣膜時之曝光量爲50〜1，5 00J/m2，形成 微透鏡時之曝光量爲50〜2，000J/m2。 (3 )顯影步驟 顯影處理所用的顯影液例如可使用氫氧化鈉、氫氧化 •31 - (28) 1285791 鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨、乙胺、正丙胺、二 乙胺、二乙基胺基乙醇、二正丙胺、三乙基胺、甲基二乙 胺、二甲基乙醇胺、三乙醇胺、氫氧化四甲銨、氫氧化四 乙銨、吡咯、六氫化吡啶、1，8 —二氮雜雙環〔5 · 4 · 0〕— 7 —十一烯、1，5-二氮雜雙環〔4. 3· 0〕一 5-壬 烷等鹼類之水溶液。又上述鹼類水溶液中添加適量之甲 醇、乙醇等水溶性有機溶劑或界面活性劑之水溶液，或溶 解本發明之組成物之各種有機溶劑可作爲顯影液使用。顯 影方法可使用攪拌法、浸漬法、搖動浸漬法、噴灑法等之 適當方法。此時之顯影時間係因組成物之組成而異，通常 爲3 0〜1 2 0秒。 以往之輻射敏感性樹脂組成物，當顯影時間超過最適 當顯影時間20〜25秒時，所形成之圖案會產生剝離，因 此必須嚴密控管顯影時間，但是本發明之輻射敏感性樹脂 組成物，即使超過最適當顯影時間3 0秒以上，也可形成 良好圖案’具有提筒良率的優點。 (4 )加熱步驟 如上述實施之（3 )顯影步驟後，對於形成圖案後之 薄膜，理想爲進行例如利用流水淸洗之淸洗處理，更理想 爲全面照射（後曝光）高壓水銀燈等之輻射線，對於各該 薄膜中殘留之1，2 -萘醌二疊氮化合物進行分解處理 後，利用加熱板、烘箱等加熱裝置對此薄膜實施加熱處理 (後烘烤處理），對該薄膜進行硬化處理。上述後曝光步 驟之曝光量理想爲2，000〜5，000J/m2。此硬化處理之燒 •32- (29) 1285791 結溫度，例如1 2 0〜2 5 0 °C。加熱時間係因加熱機器之種 類而異，例如在熱板上進行加熱處理時，加熱時間爲5〜 3〇分鐘，在烘箱進行加熱處理時，加熱時間爲30〜90分 鐘。此時可使用2次以上之加熱步驟之階段烘烤法等。 如此可在基板表面上形成與目的之層間絕緣膜或微透 鏡對應之圖案狀薄膜。

上述形成之層間絕緣膜及微透鏡由下述之實施例得知 爲密著性、耐熱性、耐溶劑性及透明性等優異者。 層間絕緣膜 如上述形成之本發明之層間絕緣膜對基板之密著性良 好，且耐溶劑性及耐熱性優異，具有高穿透率，低介電 率，適用於電子零件之層間絕緣膜。 微透鏡

如上述形成之本發明之微透鏡對基板之密著性良好， 且耐溶劑性及耐熱性優異，具有高穿透率及良好之熔融形 狀，適用於固體攝影元件之微透鏡。 本發明之微透鏡的形狀如圖1 ( a )所示，爲半凸透 鏡形狀。 【實施方式】 〔實施例〕 以下以合成例、實施例更具體說明本發明，本發明不 限於此以下之實施例。 共聚物〔A〕之合成例 -33- (30) 1285791 合成例1 將2，2’一偶氮雙（2，4 —二甲基戊腈）10重量部、 二乙二醇乙基甲醚2 5 0重量份投入具備冷卻管、攪拌器之 燒瓶中。接著再投入苯乙烯5重量份、甲基丙烯酸2 2重 量份、甲基丙烯酸三環〔5.2.1.02’ 6〕癸烷—8 —基酯 28 重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯45重量份及α -甲基苯 乙烯二聚物5重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將 液溫昇至7 〇 °C，保持此溫度4小時，得到含共聚合物[A 一 1 ]的聚合物溶液。 此共聚合物[A - 1]之聚苯乙烯換算之重量平均分子量 (Mw )爲8，000。所得之聚合物溶液的固形份濃度爲 2 9 · 8重量％。 合成例2 將2，2’ 一偶氮雙（2，4 一二甲基戊腈）7重量部、 二乙二醇乙基甲醚200重量份投入具備冷卻管、攪拌器之 燒瓶中。接著再投入甲基丙烯酸1 8重量份、苯乙烯6重 量份、甲基丙烯酸三環〔5·2·1·02’6〕癸烷—8—基酯1〇 重量份、甲基丙烯酸縮水甘油酯3 3重量份、對一乙燒基 苯甲基縮水甘油醚33重量份及α -甲基苯乙烯二聚物3 重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將液溫昇至7〇 t，保持此溫度5小時，得到含共聚合物[A - 2]的聚合物 溶液。 -34- (31) 1285791 此共聚合物[A - 2]之聚苯乙烯換算之重量平均分子量 (Mw )爲1 1，000。所得之聚合物溶液的固形份濃度爲 3 1.5重量％。 合成例3 將2，2’ 一偶氮雙（2，4 一二甲基戊腈）6重量部及 二乙二醇乙基甲醚200重量份投入具備冷卻管、攪拌器之 燒瓶中。接著再投入甲基丙烯酸7重量份、甲基丙烯酸縮 水甘油酯27重量份、甲基丙烯酸三環〔5.2.1.02 · 6〕癸烷 一 8-基酯6重量份、對-乙烯基苯甲基縮水甘油醚30重 量份、甲基丙烯酸2 -羥乙酯30重量份及α -甲基苯乙 烯二聚物3重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。將液 溫昇至7 〇 °C，保持此溫度4 · 5小時，得到含共聚合物[A — 3 ]的聚合物溶液。 此共聚合物[A - 3]之聚苯乙烯換算之重量平均分子量 (Mw )爲13，000。所得之聚合物溶液的固形份濃度爲 3 2.7重量％。 合成例4 將2，2’ 一偶氮雙（2，4 一二甲基戊腈）8.5重量部 及二乙二醇乙基甲醚220重量份投入具備冷卻管、攪拌器 之燒瓶中。接著再投入甲基丙烯酸1 5重量份、甲基丙烯 酸縮水甘油酯35重量份、甲基丙烯酸三環〔5.2.1. 02’ 6〕 癸烷一 8-基酯30重量份、對一乙烯基苯甲基縮水甘油醚 -35- (32) 1285791 10重量份、甲基丙烯酸正十二烷酯10重量份及〇 —甲基 苯乙烯二聚物3重量份，進行氮取代後，開始緩慢攪拌。 將液溫昇至70°C，保持此溫度4.5小時，得到含共聚合物 [A- 4]的聚合物溶液。 此共聚合物[A — 4]之聚苯乙烯換算之重量平均分子量 (Mw )爲8，000。所得之聚合物溶液的固形份濃度爲 3 1 . 5重量％。 [B]成分之合成 合成例5 遮光下，將2—甲基一 2— (2，4 —二羥苯基）—4 一（4 一經苯基）—7 —經基色滿 36.41g(l〇〇mmol) 、1，2 —萘 醌二疊氮—5 —磺酸氯85.49g( 300mmol)及丙酮735ml 投入具備攪拌器、滴液漏斗及溫度計之燒瓶中，使其均勻 溶解。接著液溫保持2 0〜3 0 °C，以3 0分鐘滴下三乙胺 33.37g(330mmol)後，同溫度下反應2小時。 析出物以過濾除去，將濾液注入大量過剩之1重量％ 鹽酸水溶液中，使生成物析出，過濾，水洗直到濾液成爲 中性爲止，然後真空乾燥機中以4 0 °C乾燥一日，得到〔B 一 1〕 （2 —甲基一2-(2，4 —二羥苯基）一 4 一（4 —羥苯基） 一 7-羥基色滿（1.0莫耳）與1，2-萘醌二疊氮—5-磺 酸氯（3.0莫耳）之縮合物）。 合成例6〜8 -36- (33) 1285791 合成例5中之特定苯酸化合物之種類及使用量，及 1，2-萘醌二疊氮一 5-礦酸氣之使用量改爲如表1所示 者外，其餘同合成例5之操作得到〔B - 2〕〜〔B - 4 ] 〇 〔B〕成分以外之1，2 —萘醌二疊氮化合物之合成例 合成例9、1 0 合成例5中之特定苯酚化合物使用表1所示之苯酚化 合物，及使用量如表1所示，1，2-萘酿二疊氮一 5-磺 酸氯之使用量爲表1所示者外，其餘同合成例5之操作得 到〔b - 5〕〜〔b - 6〕。 -37- 1285791

1，2-醞二#氮-5-磺酸氯 I_ (mmol) 300 195 140 160 200 260 〇 85.49 55.57 39.90 45.60 56.99 74.09 1 1 特定苯·化合物或苯·化合物 (mmol) 100 100 100 100 100 1 1〇〇 I CD 36.41 i I_ 40.42 i_ 64.63 37.82 42.42 I 23.00 I 種類 2 —甲基一2— (2, 4 —二羥苯蕋）一4— (4 —羥 苯基）一7-羥基色滿 2 —[雙{ (5 —異丙基一4 —經基—2 —甲基）苯基} 甲基】苯酚 1—[1— (3 — {1 一（4 —經苯基）—1 —甲基乙基} —4，6 — —•經苯基）一1 一甲基乙基】一3 — (1 — (3 —{1— (4 —經苯基）—1 —甲基乙基} —4’6 一二羥苯基）一 1 一甲基乙基）苯 I _ K] T &丁_ 1二涵 7 ' N3 丁國 |T| N3 寸1城1 γ 蓺汽| ci'l .CO 寸 · τ— 游 m K) 稍 H- I T— si 勒稍 Ί N] 二爾 1 1 1 寸. 丁 T— 1 1 1 寸 2,3,4 —三羥基二苯甲酮 醌二疊氮 化合物 9......1 T— 1 CQ [B-2] [B - 3】 [B-4] [b — 5】 I [b — 6】I 合成例5 合成例6 合成例7 合成例8 合成例9 I合成例1〇| -38- (35) 1285791 實施例1 〔輻射敏感性樹脂組成物之製丨庸j 將上述合成例1合成之〔A〕成分之含共聚合物[A — 1 ]的浴液（相當於共聚物〔A〜1〕 1 Q 〇重量份的量 (固形份））及〔B〕成分之上述合成例5合成之〔B — 1〕2 0重量份溶解於乙二醇乙基甲醚，使固形份濃度成爲 3 0重量％後，以孔徑〇 · 2 // m之薄膜過濾膜過濾，製備 輻射敏感性樹脂組成物之溶液（S - 1 )。 實施例2〜9 除了將實施例1中之〔A〕成分及〔B〕成分改爲表 2所示之種類、量外，其餘與實施例1相同製備組成物溶 液（S — 2 )〜（S — 9 ) 〇 實施例5〜9中，〔B〕成分之記載係表示分別倂用 2種之1 ’ 2-蔡酸一》豐氣化合物。 -39 (36) 1285791 表2 共聚物[Α] [Β]成分 種類 量（重量份） 種類 量（重量份） 實施例1 (S-1) [Α-1] 100 [Β-1] 20 實施例2 (S-2) [Α-2] 100 [Β-1] 20 實施例3 (S-3) [Α-3] 100 [Β-1] 20 實施例4 (S —4) [Α - 4] 100 [Β-1] 20 實施例5 (S —5) [Α-4] 100 [Β-1ΗΒ-5] 10+10 實施例6 (S-6) [Α-4] 100 [Β — 1]+[Β — 6] 10+10 實施例7 (S-7) [Α - 4] 100 [Β — 2]+[Β — 6] 10+10 實施例8 (S-8) [Α - 4] 100 [Β — 3]+[Β — 6] 10+10 實施例9 (S —9) [Α — 4] 100 [Β — 4]+[Β —6] 10+10 實施例1 〇〜1 8、比較例1、2 〈層間絕緣膜之性能評價〉 使用上述製備之輻射敏感性樹脂組成物，如下述評價 層間絕緣膜之各種特性。使用比較例1及2之組成物皆爲 間/對一甲酚醛與1，2 -萘醌二疊氮一 5 -磺酸酯之組成物 的市售品（東京應化（股）製）。 〔感度之評價〕 使用旋轉塗佈機將表3所示之組成物塗佈於矽基板上 後，在加熱板上以90°C進行2分鐘預烘烤，形成3.0μιη 之塗膜。對於製得之塗膜經由具有所定圖案之圖案光罩以 -40- (37) 1285791

Canon (股）製PLA — 5〇 1F曝光機（超高壓水 變曝光時間進行曝光後，以表3之濃度之四甲 水溶液’以25 °C、進行90秒鐘之顯影。然後 流水淸洗，使之乾燥，在晶圓上形成圖案。爲 之線空間（1 0 : 1 )之空間圖案完全溶解，而 曝光量。此數値爲感度，如表3所示。此數値 1，000】/m2以下時，表示感度良好。 〔顯影安全係數〕 使用旋轉塗佈機將表3所示之組成物塗佈 後，在加熱板上以90°C進行2分鐘預烘烤， 之塗膜。對於製得之塗膜經由具有3 · 0 μιη之線 1)之圖案之光罩，使用Canon (股）製PLA-機（超高壓水銀燈），以相當於上述〔感度之 定之感度値之曝光量進行曝光，在以表3之濃 氫氧化銨水溶液，以2 5 °C、進行9 0秒鐘之攪 後以超純水進行1分鐘之流水淸洗，使之乾燥 形成圖案。此時爲了使線寬幅成爲3.0 μιη所需 爲最佳顯影時間，如表3所示。測定最佳顯影 繼續顯影時’ 3.0 μιη之線圖案產生剝離爲止的 安全係數如表3所示。此數値爲3 0秒以上時 安全係數佳。 〔耐溶劑性之評價〕 銀燈），改 基氫氧化銨 以超純水以 了使 3.0 μ m 測定必要之 於矽基板上 形成3 · 0 μ m 空間（1 0 : -501F曝光 評價〕所測 度之四甲基 拌顯影。然 ，在晶圓上 之顯影時間 時間後，再 時間，顯影 ，表示顯影 -41 - (38) 1285791 使用旋轉塗佈機將表3所示之組成物塗佈於矽基板上 後，在加熱板上以9(TC進行2分鐘預烘烤，形成3.0μηι 之塗膜。對於製得之塗膜使用Canon (股）製PLA— 501F 曝光機（超高壓水銀燈）進行曝光使累積曝光量成爲 3,000J/m2，在潔淨烘箱內，以220 °C加熱此矽基板1小 時，得到硬化膜。測定製得知硬化膜之膜厚（T 1 )。將 形成此硬化膜之矽基板浸漬於溫度控制在7 (T C之二甲基 亞硕中2 0分鐘後，測定各該硬化膜之膜厚（t 1 )，計 算由浸漬所產生之膜厚變化率{|t 1 一 Τ 1|/Τ 1}χ 100〔 ％〕。結果如表2所示。此數値爲5 %以下時，表 示耐溶劑性良好。 耐溶劑性之評價中，形成之膜不需要形成圖案化，因 此省略輻射線照射步驟及顯影步驟，僅以塗膜形成步驟、 後烘烤步驟及加熱步驟進行評價。 〔耐熱性之評價〕 與上述耐溶劑性之評價相同形成硬化膜，測定製得知 硬化膜之膜厚（T 2)。將此硬化膜基板在潔淨烘箱內以 2 4 0 °C追加烘烤1小時後，測定各該硬化膜之膜厚（ t 2)，計算追加烘烤所產生之膜厚變化率{ | t 2 - T 2丨 / 丁 2丨χ100〔％ 〕。結果如表4所示。此數値爲5%以 下時，表示耐熱性良好。 〔透明性之評價〕 42- (39) 1285791 除了使用玻璃基板「Corning 7059 ( Corning 製造」取代上述耐溶劑性之評價中之矽基板外，其 在玻璃基板上形成硬化膜。使用分光光度計「1 5 0 -double beam (日立製作所製）」以400〜800n m之 波長測定具有此硬化膜之玻璃基板之光線穿透率。 最低穿透率値如表4所示。此數値爲9 5 %以上時 透明性良好。 〔比介電率之評價〕 使用旋轉塗佈機將表3所示之組成物塗佈於硏 SUS304製基板上後，在加熱板上以90°C進行2分 烤’形成3·0μιη之塗膜。對於製得之塗膜使用 (股）製PLA — 501F曝光機（超高壓水銀燈）進 使累積曝光量成爲3，000J/m2，在潔淨烘箱內，以 燒結此基板1小時，得到硬化膜。 對此硬化膜藉由蒸鍍法形成Pt/Pd電極圖案， 電率測定用試片。以頻率10kHz之頻率使用： Huletpakad (股）製 HP 1 645 1 B 電極及 HP42 84A 軸 測定計，藉由CV法測定該基板之比介電率。 介電率之評價中’形成之膜不需要形成圖案化 省略輻射線照射步驟及顯影步驟，僅以塗膜形成步 烘烤步驟及加熱步驟進行評價。 〔密著性之評價〕 公司） 餘同樣 -20型 範圍之 此時之 ，表示 磨後之 鐘預烘 Canon 行曝光 22 0〇C 作成介 廣河· 承LCR ，因此 驟、後 -43- (40) 1285791 與上述透明性之評價相同，在玻璃基板「Corning 7 05 9 ( Corning公司）製造」上形成硬化膜。對於具有此 硬化膜之玻璃基板進行壓力鍋試驗（1 20 t 、濕度1 00 °/。 、4小時）後，依據JIS K5 4 00之棋盤式膠帶法評價密 著性。 棋盤方塊100個中，未剝離之棋盤方塊數如表4所 不 。 表3 組成物種 感度之評價 顯影安定係數 顯影液濃度 (重量％) 感度U /m2) 最佳顯影時 間（秒） 顯影安定係 數（秒） 實施例10 (S-1) 0.4 800 60 35 實施例11 (S-2) 0.5 700 60 30 實施例12 (S-3) 0.5 800 60 30 實施例13 (S-4) 2.38 700 60 35 實施例14 (S —5 ) 2.38 750 70 30 實施例15 (S —6) 2.38 850 60 30 實施例16 (S —7) 2.38 1，200 60 35 實施例17 (S-8) 2.38 1,300 60 30 實施例18 (S-9) 2.38 1?20〇 70 30 比較例1 OFPR-800 2.38 2,200 60 25 比較例2 OFPP-5000 2.38 2,200 60 20 -44- 1285791 寸7¾ 密著性（個） 100 100 100 100 100 100 100 100 100 § o 比介電率 寸 cd in CO 寸 CO CO CO CO CO 寸 CO CO CO 寸 CO CO CO 卜 CO 卜 CO 透明性（％) CD σ> LO ⑦ CO ① LO σ> CD σ> CD ⑦ m σ> σ5 l〇 G) CO 00 CM 00 耐熱性 膜厚變化率 (%) CO CO CN CM CO CO CO CN CO LO T— 寸 硬化後膜厚 (μ m ) 寸 c\i CO CN 寸 C\i m c\i LO c\i CO csi CO cvi 寸 c\i LO c\i o csi σ； τ— 耐溶劑性 膜厚變化率 (%) CO CO CNJ CO CNJ CM CO CNJ CN o CNJ 硬化後膜厚 (U m ) 寸 csi CO csi csi to c\i m CN CO c\i CO c\i 寸 CN rsi o cvi σ> τ— 實施例10 實施例11 實施例12 實施例13 實施例14 實施例15 實施例16 實施例17 實施例18 比較例1 Csi V & •45 (42) 1285791 實施例1 9〜2 7、比較例3、4 〈微透鏡之性能評價〉 使用上述製備之輻射敏感性樹脂組成物，如下述評價 微透鏡之各種特性。耐熱性之評價、透明性之評價及密著 性之評價可參照上述層間絕緣膜之性能評價的結果。 使用比較例3及4之組成物皆爲間/對-甲酚醛與1， 2 -萘醌二疊氮一 5 -磺酸酯之組成物的市售品（東京應化 (股）製）。 〔感度之評價〕 使用旋轉塗佈機將表5所示之組成物塗佈於矽基板上 後，在加熱板上以9(TC進行2分鐘預烘烤，形成3·0μιη 之塗膜。對於製得之塗膜經由具有所定圖案之圖案光罩以 NIKON(股）製NSR 1 7 5 5 i7A縮小投影曝光機（N A = 0 · 5 0， λ = 3 65ηιη)，改變曝光時間進行曝光，使用表3之濃度之四 甲基氫氧化銨水溶液，以251、進行1分鐘之攪拌、顯 影。然後以水淸洗，乾燥，在晶圓上形成圖案。測定 0.8 μιη之線空間圖案（1 : 1 )之空間線寬成爲0.8 μιη所需 要之曝光時間。此數値爲感度，如表5所示。此數値爲 2,5 00J/m2以下時，表示感度良好。 〔顯影安全係數之評價〕 使用旋轉塗佈機將表5所示之組成物塗佈於矽基板上 後，在加熱板上以90 °C進行2分鐘預烘烤，形成3.0 μιη -46- (43) 1285791 之塗膜。對於製得之塗膜經由具有所定圖案之圖案光罩以 NIKON(股）製NSR1755i7A縮小投影曝光機（ΝΑ = 0·50， λ = 3 6 5 nm)，以相當於上述[感度之評價]所測定之感度値的 曝光量進行曝光，在以表4之濃度之四甲基氫氧化銨水溶 液，以25 °C、進行90秒鐘之攪拌顯影。然後以超純水進 行1分鐘之水淸洗，使之乾燥，在晶圓上形成圖案。測定 0.8μηι之線空間圖案（1 : 1 )之空間線寬成爲〇.8μηι所需 要之顯影時間爲最佳顯影時間，如表5所示。測定最佳顯 影時間後，再繼續顯影時，0·8μιη之圖案產生剝離爲止的 時間（顯影安全係數），顯影安全係數如表5所示。此數 値爲3 0秒以上時，表示顯影安全係數佳。 〔耐溶劑性之評價〕

使用旋轉塗佈機將表5所示之組成物塗佈於矽基板上 後，在加熱板上以90 °C進行2分鐘預烘烤，形成3.〇 μιη 之塗膜。對於製得之塗膜使用Canon (股）製PLA - 50 IF 曝光機（超高壓水銀燈）進行曝光使累積曝光量成爲 3,000J/m2，在潔淨烘箱內，以220 °C加熱此矽基板1小 時，得到硬化膜。測定製得知硬化膜之膜厚（T 3 )。將 形成此硬化膜之矽基板浸漬於溫度控制在5 0 t：之異丙醇 中1 〇分鐘後，測定各該硬化膜之膜厚（t 3 )，計算由 浸漬所產生之膜厚變化率{|t 3 - T 3|/T 3丨xlOO

[% ]。結果如表5所示。 耐溶劑性之評價中，形成之膜不需要形成圖案化，因 -47- (44) 1285791 此省略輻射線照射步驟及顯影步驟，僅以塗膜形成步驟、 後烘烤步驟及加熱步驟進行評價° 〔微透鏡之形成〕 使用旋轉塗佈機將表5所示之組成物塗佈於矽基板上 後，在加熱板上以9 0 °C進行2分鐘預烘烤’形成3 . Ο μ m 之塗膜。對於製得之塗膜經由具有4·0μπι點· 2.0μηι空間 圖案之圖案光罩，以NIKON(股）製NSR 1 7 5 5 i7A縮小投影 曝光機（ΝΑ = 0·50，λ = 365ηιη)，以相當於上述「〔感度之 評價〕」所測定之感度値之曝光量進行曝光，使用表4之 感度之評價之顯影液濃度之四甲基氫氧化銨水溶液，以 2 5 °C、進行1分鐘之攪拌、顯影。然後用水淸洗，乾燥， 在晶圓上形成圖案。然後使用Canon (股）製PLA — 501 F 曝光機（超高壓水銀燈）進行曝光使累積曝光量成爲3， 000J/m2。然後再使用加熱板以160°C加熱10分鐘後，再 以23 0°C加熱1〇分鐘，使圖案熔融，形成微透鏡。 形成之微透鏡之底部（接觸基板的面）之尺寸（直 徑）及斷面形狀如表5所示。微透鏡之底部之尺寸超過 4.0//m，且未達5.0/im時，表示良好。此尺寸超過5.〇 // m時，相鄰之透鏡爲彼此接觸的狀態，不佳。斷面形狀 如表1所示之模式圖中，如（a )之半凸透鏡形狀時，表 示良好，又如（b)之略台形狀時或微透鏡圖案與相鄰之 圖案接觸’無法觀察得到單一圖案之斷面形狀時，表示不 佳。 -48- 1285791 s^ 微透鏡 斷丽形狀 (ϋ 03 /^N Γ0 CO /^s 00 05 ω 03 * * 底部之尺寸 (μ m ) CN 寸 CO 七 CO — CO CO 对 CD — in 寸 CD — to 寸 I 5.0 超 I 5.0 超 I 耐溶劑性 膜厚變化 |率（％) τ— CNJ CN T— CNJ T— T~ τ— t— 00 Ο χ— 硬化後膜厚 (pm ) 寸 CN CO CN 寸 CNJ in csi in CN CO csi CO CN 寸 cvi l〇 CN o cvi Ο) τ— 顯影安全係數 顯影安全係 ί數（秒） LO CN 另 另 to CO 另 另 UO CO 另 另 lO CM ο CM 最佳顯影時 間（秒） S g o CD § o 卜 o CD 〇 CD o CD o § S 1^1 感度 (J/m2) 960 I 840 | 950 1 840 | 1 920 | 930 1 1,500 ] | 1,600 I | 1,450 I 2,800 3,000 ]]\L· Μ ^ SI ^ ^ Μ S'? 寸 o l〇 d to d 2.38 2.38 2.38 2.38 2.38 2.38 2.38 | 2.38 | 組成物種 T CO (S —2) (S-3) 1 CO (S-5) (S —6) (S —7) (S —8) σ> I (/) OFPR-800 OFPR-5000 實施例19 實施例20 實施例2 1 實施例22 實施例23 實施例24 實施例25 實施例26 實施例27 CO m 寸 m m %φ -49· (46) 1285791 〔發明之效果〕 本發明之|§射敏感性樹脂組成物具有高輻躬·,線敏感 度，具有在顯影步驟中即使超過最佳顯影時間也可形成良 好的圖案形狀之顯像安全係數，且容易形成密著性優異之 圖案狀薄膜。

由上述組成物所形成之本發明之層間絕緣膜對於基板 之密著性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，具有高穿透率， 爲低介電率之層間絕緣膜，可作爲電子零件之層間絕緣膜 使用。 由上述組成物所形成之本發明之微透鏡對於基板之密 著性良好，耐溶劑性及耐熱性優異，具有高穿透率及良好 之熔融形狀之微透鏡，可作爲固體攝影元件之微透鏡使 用。 【圖面之簡單說明】

〔圖1〕微透鏡之斷面形狀之模式圖。 -50-

Claims (1)

1285791 拾、申請專利範圍 第92 1 28 1 85號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國96年2月16日修正 1 · ~種輻射敏感性樹脂組成物，其特徵爲含有[A ](a 1) 不飽和羧酸及/或不飽和羧酸酐、（a2)含環氧基不飽和化合 物及（a3)(al)及（a2)以外之烯烴系不飽和化合物之共聚合 物，及 [B]選自2 —甲基一 2— (2，4 —二羥苯基）一 4 一（4 一羥 苯基）一 7—羥基色滿、2 - [雙{(5-異丙基—4一羥基一 2 一甲基）苯基}甲基]苯酹、1 一 [1 一（3 - {1 一（4 一羥苯基）— 1一甲基乙基}— 4，6—二羥苯基）一 1 一甲基乙基]一 3 —（1 一（3 — {1 —（4 一經苯基）一 1 一甲基乙基}— 4，6 —二經苯 基）—1 一甲基乙基）苯及4，6—雙{1 一（4 —經苯基）一 1 一 甲基乙基}— 1，3—二羥苯中之至少一種，與1，2 —萘醌 二疊氮磺酸鹵化物之縮合物，其中[B ]成分的含量比例爲 對於[A]100重量份時，含有5〜100重量份。 2·如申請專利範圍第1項之輻射敏感性樹脂組成物， 其中輻射敏感性樹脂組成物爲用於形成層間絕緣膜。 3.如申請專利範圍第1項之輻射敏感性樹脂組成物， 其中該輻射敏感性樹脂組成物爲用於形成微透鏡。