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TWI272662B - Substrate treating apparatus and substrate treating method and substrate treating program - Google Patents

Substrate treating apparatus and substrate treating method and substrate treating program Download PDF

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TWI272662B
TWI272662B TW095102301A TW95102301A TWI272662B TW I272662 B TWI272662 B TW I272662B TW 095102301 A TW095102301 A TW 095102301A TW 95102301 A TW95102301 A TW 95102301A TW I272662 B TWI272662 B TW I272662B
Authority
TW
Taiwan
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substrate
stage
substrate processing
pad
coating
Prior art date
Application number
TW095102301A
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English (en)
Chinese (zh)
Other versions
TW200631074A (en
Inventor
Yoshitaka Otsuka
Takashi Nakamitsu
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Publication of TW200631074A publication Critical patent/TW200631074A/zh
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