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TWI264662B - Method for realizing circuit layout - Google Patents

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TWI264662B
TWI264662B TW94103473A TW94103473A TWI264662B TW I264662 B TWI264662 B TW I264662B TW 94103473 A TW94103473 A TW 94103473A TW 94103473 A TW94103473 A TW 94103473A TW I264662 B TWI264662 B TW I264662B
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TW94103473A
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Inventor
Tsuoe-Hsiang Liao
Original Assignee
United Microelectronics Corp
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Description

1264662 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係提供一種實現電路佈局的方法,尤指一種在每 個電路單元中取消帶狀電源佈局以縮減電路單元高度、增 加積體電路集積度的電路佈局實現方法。 【先前技術】 半導體積體電路是現代化資訊社會最重要的硬體基礎 之一,如何提高積體電路的集積度’讓積體電路的佈局面 積能夠更有效率地被運用,也成為現代半導體工業的研發 重點。 一般來說,功能複雜的積體電路都是由一群具有基本功 能的電路單元(cell)組合出來的。舉例來說,數位積體電路 中常會以各種邏輯閘(像是及閘、或閘、反相器等等)、正 反器(flip-flop)、加法器、計數器(counter)等等電路單元來 組合出積體電路的整體功能。在實現特定功能的積體電路 時,首先就是以基本電路單元來組合架構出積體電路的整 體功能;選擇所需的基本電路單元後,就能規劃半導體積 體電路的佈局設計,進而實際製造出半導體積體電路。如 1264662 熟悉技術者所知,半導體電路是以不同性質的半導體層疊 積而成,在不同的半導體層上進行不同的佈局,就能具體 實現出各種電晶體與電晶體間連線,進而組合出各個電路 單元,乃至於整個積體電路。 為了便利積體電路的設計,半導賤業者會將常用的電路 單元及其對應之佈局設計建立為一電腦的資料庫 (library)。在設計積體電路時’料者先依積體電路之功能 在資料庫中選定其所需的電路單元,再由資料庠中將這些 電路單元所對應的佈局設計加以排列、組合,就能完成積 體電路整體的佈局設計,並以半導體製程具體地製造出所 需的積體電路。 請參考第1圖。第1圖即為習知技術以資料庫中電路單 元之佈局設計來實現積體電路整體佈局的示意圖。在此習 知技術中,資料庫(library)lO中s己錄有複數個電路單元 Ρ(1)、Ρ(2)···Ρ(ηι)至P(M)的佈局設計。在各個電路單元的佈 局設計中,會包括有作用區(active regi〇n)佈局df (像是摻 雜井、擴散區的佈局位置)、多晶矽佈局Pi、第1金屬層佈 局mtl、第2金屬層佈局mt2以友接點/穿礼(contact/via)佈 局ct等等。不同的作用區、多晶矽佈局可形成電晶體的基 1264662 本半導體架構(像是金氧半電晶體中的源極、汲極與閘 極),各個金屬層可連接不同的電晶體,接點/穿孔佈局則 可將不同層的佈局連接起來,像是將金屬層mtl的走線連 接於金屬層mt2的走線;某些接點/穿孔則形成各個電路單 元的訊號輸入端、輸出端,也就是各個電路單元的訊號佈 局。根據這些不同半導體層的佈局設計,就能在各個電路 單元中組合出各種電晶體,進而實現各個電路單元的基本 功能。 值得注意的是,在習知技術中,各個電路單元都會以金 屬層佈局(像是第1金屬層佈局)來形成帶狀(Strip)的電源 佈局。如熟悉技術者所知’各個電路单元中的電晶體需要 連接至適當的直流偏壓電源(power),像是直流供電電壓 Vdd或是地端電壓(譬如電壓Vss)等等;而在習知技術的 電路單元中,就會在各個電路單元中設置橫貫的帶狀電源 佈局pwl、pw2,以使得各個電路單元能經由這些帶狀電源 佈局連接至直流電源。基本上,每個電路單元中的帶狀電 源佈局是橫貫於電路單元的相異兩侧(如第1圖所示),使 得各個電路單元在比鄰排列時,各個電路單元的電源佈局 能銜接在一起,共同揍收直流偏壓電源。 1264662 舉例來t兒,在設計一積體電路12時,若積體電路12中 需要電路軍元p(m)及p(M),設計者就能由資料庫10中將 電路單元P(m)、P(M)的佈局設計找出,並列於積體電路12 的整體佈局中,使電路單元P(m)、P(M)的帶狀電源佈局相 互連接。接下來,使用者可進行一繞線(routing)程序,適當 地將各個電路單元中的訊號輸出入接點/穿孔連接起來,組 馨合出積體電路的整體功能。像在第1圖的示意例中,此繞 線程序可能會在第2金屬層上用一特定的繞線佈局rtO將電 路單元P(m)的某一接點/穿孔與電路單元P(M)的某一接點/ 穿孔連接起來,以使這兩個電路單元中的訊號佈局能彼此 ’相連,並能互相交換訊號,發揮整體功能。完成繞線程序 的繞線佈局後,就能完成積體電路12的整體佈局設計,益 進行半導體製程,實際製造出半導體積體電路。 不過,上述的習知技術也有缺點。其缺點 n ,’γ 尤疋 每個電路單元的佈局設計中均包括有帶狀的電源佈局 pwl、pw2。此種佈局設計的原意是讓使 ° +爲特別設 電源佈局,因為各個電路單元在排列組合時其帶狀兩 局自然會互相銜接,形成積體電路中整體的電源佈=源 而,此種帶狀電源佈局設計也會佔用相當 °。」 — j回積,使久 電路單元的高度(也就是兩個帶狀電源佈局間的距離口 1264662 第i圖所示)無法減低。電路單元的高度無法減低,也就 會使每個電路單元的佈局面積無法縮減,無法有效增加半 導體積體電路的集積度。 【發明内容】 因此,本發明之主要目的,即在於提出一種較佳的電路 佈局實現(設計/製造)方法,在每個電路單元中取消帶狀 的電源佈局,以縮減每個電路單元的高度及面積’並能有 效地增加半導體積體電路的集積度。 在本發明中,係在每個電路單元中以格點之電源接點/ 穿孔來取代習知技術中的帶狀電源佈局。在設計積體電路 的整體佈局時,設計者可選定、排列其所需的電路單元, 再於繞線程序中,順帶地繞線連接各個電路單元中的電源 接點。換句話說,在本發明中,本發明之電路單元不需再 設置帶狀的電源佈局;各個電路單元在鄰接排列後,各個 電路單元的電源接點/穿孔(格點電源佈局)不會直接互相 連接,而是在繞線程序中才繞線而連接各個電路單元的電 源接點/穿孔。 由於本發明之電路單元可排除帶狀之電源佈局,故本發 1264662 明可有效地減少各個電路單元的佈局高度及面積,提高積 體電路的整體集積度。另外,在現代的半導體工業中,繞 線程序已經是一個高度自動化的程序,利用繞線程序來形 成電路單元間的電源佈局並不會增加繞線程序的複雜程 度,還能使電路單元間的佈局更有彈性,不再像習知技術 中僅能偈限於各個電路單元既有的帶狀電源佈局。 針對現有的製程可發現,本發明可使每個電路單元的高 度縮減更多。舉例來說,在習知技術中原本高度為1〇間距 (pitch,在.13微米製程中,一個間距相當於0.28微米)的電 路單元,本發明可將其高度縮減為8間距。既然本發明能 使電路單元的高度(面積)能有所縮減,自然就能提高積 體電路的集積度,充分利用積體電路的佈局面積。 【實施方式】 請參考第2圖;第2圖即以本發明之電路單元來實現(設 計/製造)半導體積體電路之示意圖。在本發明之資料庫20 中,同樣記錄有複數個電路單元C(l)、C(2)...C(n)至C(N) 的佈局設計;各電路單元可作為積體電路的基本構築方 塊。舉例來說,各電路單元可以是數位電路中的各種邏輯 閘、正反器、加法器、計數器等等。在各個電路單元的佈 1264662 局設計中,至少可具有(但不受限於)作用區佈局df (可 以包括換雜井及/或擴散區)、多晶石夕佈局pl、接點/穿孔佈 局ct以及第1金屬層佈局_、第2金屬層佈局mt2等等。 作用區佈局df/多晶石夕佈局pl可在各個電路單元中形成電 晶體的基本架構’接點/穿孔佈局etj連接不同半導體層的 佈局,紋將各個電晶體連接於金屬層;而金屬層佈局 -、⑽上之繞線就能將各個電路單元中的電晶體連接在 -起’以麟各個轉單元縣本舰。料,各電路單 :中的某雜點/穿關軸各個魏單元的訊號輸入 端、輸出端,也就是訊號佈局設計。 本發明的重點之一,古t Η — — y ”之就疋在母個電路單元中改用柊點之 =穿孔作為電源佈局來接收運作的電力 == 術中所使用的帶妝 取代白知技 每個電路單μ 圖所示,在本發明的 的電源佈局pel L佈局來料各個電路單元 佈局pel、Ρ^、Γ使各個電路單元可經由這些電源 像是直^電=別連接ί不㈣直流偏壓電源(ρ叫, 等。這樣:Wd或二地h電壓(譬如電壓VSS)等 向兩側的帶狀+ ^ ^在母個电路早70巾省去橫貫連接對 積。讀電源佈局,以降低每個電路單⑽高度及面 1264662 如第2圖所示意的,在以本發明實現一積體電路22之 佈局設計時,設計者可先依據積體電路22的功能需求而選 出適用的電路單元,再由資料庫20中將這些電路單元的佈 局設計調出來’套用至積體電路22的佈局設計上。由於本 發明之各個電路單元並沒有帶狀的電源佈局,故各個電路 單元(假設是電路單元C⑻及C(N))在相鄰並排後,其電 源佈局pci、Pc2 (也就是格點之電源佈局)並不會互相連 接。接下來,在繞線程序中,一方面可將各個電路單元的 訊號佈局(也就是訊號接點/穿孔)繞線連接起來,另一方 面就可將各個電路單元的格點電源佈局繞線連揍起來。這 樣一來,不但能整合各個電路單元的功能而使積體電路22 發揮應有的功能,還能使各個電路單元間的電源佈局連接 起來。像在第2圖的示意例中,繞線程序會以繞線佈局rtl •來連接電路單元C(n)、C(N)的訊號接點/穿孔,並分別以繞 線佈局prl、pr2來使電路單元c(n)、C(N)的電源佈局pcl、 Pc2能共同連接至各個電源(像是電壓Vdd及Vss)。 換句話說,本發明是將各個電路單元中格點之電源佈局 田作疋矾號接點/穿孔的一種,在繞線程序中統一將各電路 單元中分散的電源佈局繞線連接起來,完成積體電路中的 整體電源佈局。在現代的半導體工業中,繞線程序已經可 1264662 以藉由電子自動化設計工具(EDA tool,Electronic Design Automation)而以高度自動彳b的方式來完成,故本發明並不 會增加繞線程序的複雜程度。事實上,本發明在繞線程序 才形成電路單元間的電源佈局繞線連接不僅能有效縮減每 個電路單元的高度及面積,也能增加電路佈局的設計彈 性,不必像習知技術一般受限於各個電路單元原本的帶狀 _電源佈局。在習知技術中,各個電路單元的帶狀電源佈局 會設置於第1金屬層;而在實際實施本發明之技術時,則 可利用第2金屬層(metal 2)來實現電路單元間的電源佈局 繞線連接以及訊號佈局繞線連接。當然,本發明也可利用 不同的金屬層來分別實現電路單元間的電源佈局繞線連接 與訊號佈局繞線連接。 | 為進一步說明本發明之優點,請繼續參考第3圖;第3 圖比較了本發明電路單元C0與習知技術電路單元P0的電 路举元南度。由於本發明之電路早元改用格點之電源佈 局,而此格點之電源佈局就可内縮於電路單元中,省去了 帶狀電源佈局所佔用的高度與面積。這樣一來,本發明就 可以有效縮減每個電路單元的高度與面積,進而增加半導 體積體電路的集積度。以實際的例子來進行比較,在本發 明中,電路單元的高度(如第3圖所標示)可包括有N型 1264662 /P型金氧半電晶體作用區中第1金屬層之間距(metal 1 pitches in NMOS/PMOS active area) 1·92 微米,加上第 1 金 屬層上走線的間距(spacing of metal 1 to metal 1)0· 12 微 米,其電路單元的總高度就是2·04微米,以一個間距為0·28 微米來計算,本發明電路單元之高度為8個間距(pitch)。 相較之下,在習知技術中,除了上述之基本高度之外,還 要另外加上帶狀電源佈局之高度,也就是在P型金氧半電 晶體處需要佔用0.35微米,在N型金氧半電晶體處需佔用 另外0.35微米,故總高度會增加為2.04+0.35+0.35二2.74微 米,以一個間距為0.28微米來計算,其電路單元的總高度 為10個間距。由此例可知,本發明的確可將電路單元的高 度由習知之10間距縮短為8間距,進而提高半導體積體電 路的集積度。 總結來說,本發明是在每個電路單元中以格點之電源佈 局來取代習知電路單元的帶狀電源佈局,在繞線程序中才 連接各個電路單元的電源佈局。所以,相較於習知技術, 本發明能有效地減少每個電路單元的高度及面積,進而增 加積體電路的集積度,充分利用積體電路的佈局面積。 1264662 以上所述僅為本發明之較佳實施例,凡依本發明申請專利範 圍所做之均等變化與修飾,皆應屬本發明之涵蓋範圍。 【圖式簡單說明】 第1圖為習知技術以電路單元實現積體電路的示意圖。 第2圖為本發明以電路單元實現積體電路的示音圖。 第3圖為習知技術電路單元與本發明電路單元:高度比較 示意圖。 【主要元件符號說明】 10、20 資料庫 12、22 積體電路佈局 P(1)-P(M)、C⑴·C(N)、P〇、c〇 電路翠元 pwl-pw2、pcl_pc2 電源佈局 mtl-mt2 ct pi df rt0,rtl、prl、pr2 金屬層佈局 接點/穿孔佈局 多晶梦佈局 作用區佈局 繞線佈局

Claims (1)

1264662 十、申請專利範圍: 1. 一種於實現電路佈局的方法,其包含有: 建立一資料庫(library),使該資料庫中記錄有複數個電路 單元(cell)的佈局設計,並使每一電路單元之佈局設計 中包含有至少一電源(power)佈局設計,用來使該電路 單元可經由該電源佈局接收運作之電力;以及 在設計每一電路單元中之電源佈局設計時,係使每一電 路單元中之電源佈局不會橫跨連接於該電路單元佈局 設計的相異兩侧。 2. 如申請專利範圍第1項之方法,其中各個電路單元之電 源佈局係使談電路單元可經由該電源佈局接收直流偏 壓電壓。 3. 如申請專利範圍第1項之方法,其另包含有: 在設計一積體電路之佈局時,於該資料庫中選出至少一 個電路單元之佈局設計,並將選出之電路單元的佈局 設計並排於該積體電路之佈局設計中,以及 進行一繞線(routing)佈局設計,以實現一金屬層之繞線佈 局而將該積體電路佈局設計中的各個電源佈局連接 起來。 17 1264662 4. 如申請專利範圍第3項之方法,其中,每一個電路單元 中亦包含有至少一訊號佈局設計,用來使該電路單元可 經由該訊號佈局輸入或輸出訊號,而該方法另包含有: 在進行該繞線佈局設計時,在同一金屬層另外實現其他 的繞線佈局而將不同電路單元間的訊號佈局連接起 來。 5. 如申請專利範圍第3項之方法,其中,每一個電路單元 中亦包含有至少一訊號佈局設計,用來使該電路單元可 經由該訊號佈局輸入或輸出訊號,而該方法另包含有: 在進行該繞線佈局設計時,在另一金屬層另外實現其他 的繞線佈局而將不同電路單元間的訊號佈局連接起 來。 6. —種於實現電路佈局的方法,其包含有: 建立一資料庫(library),使該資料庫中記錄有複數個電路 單元(cell)的佈局設計,並使每一電路單元之佈局設計 中包含有至少一電源(power)佈局設計,用來使該電路 單元可經由該電源佈局接收運作之電力;以及 在設計每一電路單元中之電源佈局設計時,係使每一電 路單元中之電源佈局不會在與其他電路單元並排後與 18 1264662 相鄰電路單元中之電源佈局連接。 7. 如申請專利範圍第6項之方法,其中各個電路單元之電 源佈局係使該電路單元可經由該電源佈局接收直流偏 壓電壓。 8. 如申請專利範圍第6項之方法,其另包含有: 在設計一積體電路之佈局時,於該資料庫中選出至少一 個電路單元之佈局設計,並將選出之電路單元的佈局 設計並排於該積體電路之係局設計中,以及 進行一繞線(routing)佈局設計,以實現一金屬層之繞線佈 局而將該積體電路佈局設計中的各個電源佈局連接 起來。 9·如申請專利範圍第8項之方法,其中,每一個電路單元 中亦包含有至少一訊號佈局設計,用來使該電路單元可 經由該訊號佈局輸入或輸出訊號,而該方法另包含有: 在進行該繞線佈局設計時,在同一金屬層另外實現其他 的繞線佈局而將不同電路單元間的訊號佈局連接起 1264662 10。如申請專利範圍第8項之方法,其中,每一個電路單 元中亦包含有至少一訊號佈局設計,用來使該電路單 元可經由該訊號佈局輸入或輸出訊號,而該方法另包 含有: 在進行該繞線佈局設計時,在另一金屬層另外實現其他的繞 線佈局而將不同電路單元間的訊號佈局連接起來。
十一、圖式:
20
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