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TW201907198A - 光學機構 - Google Patents

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TW201907198A
TW201907198A TW107122807A TW107122807A TW201907198A TW 201907198 A TW201907198 A TW 201907198A TW 107122807 A TW107122807 A TW 107122807A TW 107122807 A TW107122807 A TW 107122807A TW 201907198 A TW201907198 A TW 201907198A
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Taiwan
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optical mechanism
housing
lens
coil
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TW107122807A
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TWI751351B (zh
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翁智偉
黃紹光
宋欣忠
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台灣東電化股份有限公司
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Publication date
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Abstract

一種光學機構,包括一殼體、一承載件、一鏡片、一驅動組件以及連接前述殼體之一底座。前述承載件活動地設置於前述殼體內,前述鏡片設置於前述承載件內,其中前述鏡片具有一第一表面,前述第一表面顯露於前述承載件之一第一側,且朝向前述殼體之一第一內側壁。前述驅動組件設置於前述殼體內,用以驅使前述承載件以及前述鏡片相對於前述殼體運動。

Description

光學機構
本發明係有關於一種光學機構。更具體地來說,本發明有關於一種具有光學鏡片的光學機構。
隨著科技的發展,現今許多電子裝置(例如智慧型手機或數位相機)皆具有照相或錄影的功能。這些電子裝置的使用越來越普遍,並朝著便利和輕薄化的設計方向進行發展,以提供使用者更多的選擇。
在一些電子裝置中,為了使鏡頭之焦距可調整,因此配置了相對應的線圈及磁鐵來移動鏡頭。然而,在電子裝置微型化的需求下,線圈及磁鐵可以擺設的空間往往相當有限,從而造成機構設計上的困難。因此,如何克服前述機構設計上的問題點始成一重要之挑戰。
為了解決上述習知之問題點,本發明一實施例提供一種光學機構,包括一殼體、一承載件、一鏡片、一驅動組件以及連接前述殼體之一底座。前述承載件活動地設置於前述殼體內,前述鏡片設置於前述承載件內,其中前述鏡片具有一第一表面,前述第一表面顯露於前述承載件之一第一側,且朝向前述殼體之一第一內側壁。前述驅動組件設置於前述殼體內,用以驅使前述承載件以及前述鏡片相對於前述殼體運動。
於一實施例中,前述鏡片更具有一第二表面,顯露於前述鏡片單元之一第二側,且朝向前述殼體之一第二內側壁,其中前述第二側相反於前述第一側。
於一實施例中,前述驅動組件具有一線圈以及一磁性單元,前述磁性單元固定於前述殼體上,且前述線圈固定於前述承載件之一第三側,其中前述第三側相鄰於前述第一、第二側。
於一實施例中,前述第一表面凸出於前述第一側。
於一實施例中,前述第一表面為一平面。
於一實施例中,前述第一表面對齊前述承載件。
於一實施例中,前述光學機構更包括一抗反射層,形成於前述第一內側壁。
於一實施例中,前述光學機構更包括一油墨層,塗佈於前述第一表面。
於一實施例中,前述驅動組件具有一線圈以及一磁性單元,前述磁性單元固定於前述殼體上,前述線圈固定於前述承載件上並遮蔽前述第一表面的至少一部分。
於一實施例中,當前述承載件相對於前述殼體移動至一極限位置時,前述鏡片接觸前述殼體或前述底座,以限制前述承載件於前述極限位置。
本發明一實施例更提供一種光學機構,包括一殼體、一承載件、一鏡片、一驅動組件以及連接前述殼體之一底座。前述承載件活動地設置於前述殼體內,前述鏡片設置於前述承載件內,其中前述鏡片具有一第一表面、一第二表面、一第三表面以及一第四表面,其中前述第一、第 三表面相互平行,且前述第二第四表面相互平行。前述驅動組件設置於前述殼體內,用以驅使前述承載件以及前述鏡片相對於前述殼體運動。
於一實施例中,前述第一、第二表面分別顯露於前述承載件之一第一側以及一第二側,且分別朝向前述殼體之一第一內側壁以及一第二內側壁,其中前述第二側相反於前述第一側。
於一實施例中,前述光學機構更包括一抗反射層,形成於前述第一內側壁上。
於一實施例中,前述光學機構更包括一油墨層,塗佈於前述第一表面上。
於一實施例中,前述第三表面顯露於前述承載件之一第三側,且前述第三側相鄰於前述第一、第二側。
於一實施例中,前述第四表面顯露於前述承載件之一第四側,其中前述第四側相反於前述第三側。
於一實施例中,前述第三、第四表面垂直於前述第一、第二表面。
於一實施例中,前述第三表面的面積小於前述第一表面的面積。
於一實施例中,前述驅動組件具有一線圈以及一磁性單元,前述磁性單元固定於前述殼體上,前述線圈固定於前述承載件上並遮蔽前述第一表面的至少一部分。
於一實施例中,前述光學機構更包括一位置感測元件,設置於前述承載件之前述第一側,用以感測前述承載件相對於前述殼體的位置變化。
本發明的有益效果在於,藉由使鏡片顯露於承載件的側邊,或者使鏡片的邊緣形成一平面結構,可大幅縮減承載件在水平方向上的尺寸,從而能有助於達到光學機構的微型化。
10‧‧‧殼體
11‧‧‧第一內側壁
12‧‧‧第二內側壁
20‧‧‧承載件
21‧‧‧第一側
22‧‧‧第二側
23‧‧‧第三側
24‧‧‧第四側
30‧‧‧底座
31‧‧‧導電端子
C‧‧‧線圈
F‧‧‧框架
H‧‧‧位置感測元件
L‧‧‧鏡片單元
L1~L5‧‧‧鏡片
L41‧‧‧第一表面
L42‧‧‧第二表面
L43‧‧‧第三表面
L44‧‧‧第四表面
M‧‧‧磁性單元
M1、M2‧‧‧磁鐵
P‧‧‧電路板
R‧‧‧保持件
S1‧‧‧上簧片
S2‧‧‧下簧片
O‧‧‧光軸
第1圖表示本發明一實施例之光學機構的爆炸圖。
第2圖表示第1圖中之光學機構組合後的示意圖。
第3圖表示沿第2圖中A1-A1線段之剖視圖。
第4圖表示沿第2圖中A2-A2線段之剖視圖。
第5~8圖表示第1圖中的承載件20、鏡片單元L以及線圈C組裝後於不同視角的示意圖。
第9、10圖表示本發明另一實施例之承載件20、鏡片單元L以及線圈C組裝後於不同視角的立體圖。
第11圖表示本發明另一實施例之承載件20、鏡片L4以及線圈C組裝後的剖視圖。
第12圖表示本發明另一實施例之承載件20以及鏡片L4組裝後的剖視圖。
第13~15圖表示本發明另一實施例之承載件20以及鏡片單元L組裝後於不同視角的示意圖。
以下說明本發明實施例之光學機構。然而,可輕易了解本發明實施例提供許多合適的發明概念而可實施於廣泛的各種特定背景。所揭 示的特定實施例僅僅用於說明以特定方法使用本發明,並非用以侷限本發明的範圍。
除非另外定義,在此使用的全部用語(包括技術及科學用語)具有與此篇揭露所屬之一般技藝者所通常理解的相同涵義。能理解的是這些用語,例如在通常使用的字典中定義的用語,應被解讀成具有一與相關技術及本揭露的背景或上下文一致的意思,而不應以一理想化或過度正式的方式解讀,除非在此特別定義。
請先一併參閱第1~4圖,其中第1圖表示本發明一實施例之光學機構的爆炸圖,第2圖表示第1圖中之光學機構組合後的示意圖,第3圖表示沿第2圖中A1-A1線段之剖視圖,第4圖則表示沿第2圖中A2-A2線段之剖視圖。
如第1~3圖所示,本實施例之光學機構主要包括一殼體10、一框架F、一上簧片S1、一中空之承載件20、一鏡片單元L、至少一線圈C、至少一磁性單元M、兩個下簧片S2、一底座30以及一電路板P,其中承載件20具有一四邊形結構,可用以承載前述鏡片單元L,電路板P則固定於底座30或殼體10上。
應了解的是,前述光學機構可設置於一攜帶式電子裝置(例如行動電話或平板電腦)內部,並可透過底座30上的導電端子31電性連接到外部之電路單元(未圖示),藉以調整承載件20和鏡片單元L在其光軸O方向上的位置,從而能使穿過鏡片單元L之光線於一感光元件(未圖示)上呈現出清晰的影像,以達到自動對焦(autofocus)且/或變焦(zoom)之目的。舉例而言,前述光學機構例如可為一音圈馬達(Voice Coil Motor,VCM)。
需特別說明的是,前述鏡片單元L可包含一或數個光學鏡片,其中部分鏡片係凸出並顯露於承載件20的第一側21或/及第二側22;此 外,兩個橢圓形的線圈C則是設置在承載件20的第三側23以及第四側24,對應於固定在殼體10上的磁性單元M,其中前述磁性單元M包含有兩個磁極方向相反的磁鐵M1、M2。
從第3、4圖可以看出,框架F係固定於殼體10的內側表面,且殼體10和底座30可相互結合並構成一外框模組,其中前述框架F、承載件20、鏡片單元L、線圈C、上簧片S1、下簧片S2以及磁性單元M皆容置於外框模組內。
需特別說明的是,前述承載件20可分別透過上簧片S1和下簧片S2而活動地連接框架F和底座30,從而可使承載件20和鏡片單元L一起懸吊於殼體10內,並且能相對於殼體10和底座30沿光軸O方向上下移動。此外,在承載件20的底側另設有一保持件R(retainer),用以限制鏡片單元L於承載件20內部,並防止其自承載件20底側脫落。
在本實施例中,線圈C和磁性單元M可構成一驅動組件,其中線圈C可透過導線(未圖示)電性連接到底座30上的導電端子31,且前述導電端子31可電性連接到外部之電路單元。如此一來,可藉由外部之電路單元通入電流到線圈C,使得線圈C和磁性單元M之間產生磁力,以驅使承載件20、鏡片單元L以及線圈C一起相對於殼體10和底座30沿光軸O方向移動,藉以達到自動對焦(autofocus)且/或變焦(zoom)之功能。
請繼續參閱第1~4圖,本實施例之鏡片單元L共包含有5個鏡片L1~L5(如第3、4圖所示),其中鏡片L1~L5可透過膠水固定於承載件20的內側表面。此外,從第4圖中可以看出,位於鏡片單元L下半部的鏡片L4、L5係凸出並顯露於承載件20的第一側21以及第二側22,其中鏡片L4具有一第一表面L41以及一第二表面L42,第一表面L41凸出並顯露於承載件20的第一側21,第二表面L42則凸出並顯露於承載件20的第二側22,藉此可有 效縮減承載件20在Y軸方向上的尺寸,以利於達成光學機構的微型化。然而,於另一實施例中,亦可僅使鏡片L4的第一表面L41凸出並顯露於承載件20的第一側21,而使承載件20的第二側22覆蓋鏡片L4的第二表面L42,如此同樣可縮減承載件20於Y軸方向上的尺寸。
此外,從第4圖中也可以看出,前述第一表面L41以及第二表面L42係位於鏡片L4的相反側,且其分別朝向殼體10的第一內側壁11以及第二內側壁12。舉例而言,可在鏡片L4的第一表面L41及第二表面L42上塗佈抗反射層或油墨層,或者在第一內側壁11或/及第二內側壁12的表面塗佈抗反射層或油墨層,以避免光線反射回到鏡片L4內部而產生干擾訊號。
另一方面,由於鏡片L4、L5皆凸出並顯露於承載件20的第一側21以及第二側22,因此當承載件20和鏡片單元L受外力作用而相對於殼體10移動至一極限位置時,可透過鏡片L4、L5直接接觸殼體10或底座30,以限制承載件20和鏡片單元L於該極限位置,而不需要在承載件20上另外設置限位結構。
接著請一併參閱第5~8圖,第5~8圖表示第1圖中的承載件20、鏡片單元L以及線圈C組裝後於不同視角下的示意圖。從第5~8圖中可以清楚地看出,位在鏡片單元L下半部的鏡片L4、L5係凸出並顯露於承載件20的第一側21以及第二側22,此外兩個線圈C則是分別設置在承載件20的第三側23以及第四側24,其中第三側23以及第四側24係相鄰於前述第一側21以及第二側22。
需特別說明的是,在承載件20的第一側21或/及第二側22可形成有凹槽,其中至少一位置感測元件H係設置於前述凹槽內,藉以得知承載件20和鏡片單元L相對於殼體10的位置變化。舉例而言,前述位置感 測元件H例如為一磁鐵,此外在電路板P上則可設有對應之霍爾感測器(Hall Sensor),其中霍爾感測器可偵測前述磁鐵的磁場變化,從而可得知承載件20和鏡片單元L相對於殼體10的位置變化。尤其,本實施例中透過在承載件20的同一側設置兩個以上磁極方向相互平行的磁鐵,並使其正對於電路板P上的磁性感測元件,藉此可大幅增加局部磁場的變化程度,從而能提升位置感測精度;或者,於另一實施例中,前述位置感測元件H也可以是霍爾感測器(Hall Sensor)、巨磁阻效應感測器(Giant Magnetoresistance Effect Sensor,GMR Sensor)或穿隧磁阻效應感測器(Tunneling Magnetoresistance Effect Sensor,TMR Sensor),而在電路板P上則可設有與前述位置感測元件H相對應之磁鐵,其中藉由位置感測元件H偵測電路板P上之磁鐵的磁場變化,同樣可得知承載件20和鏡片單元L相對於殼體10的位置變化。
再請一併參閱第9、10圖,其中第9、10圖表示本發明另一實施例之承載件20、鏡片單元L以及線圈C組裝後於不同視角的立體圖。如第9、10圖所示,本實施例中的鏡片L4、L5邊緣形成有至少一平面,對齊於承載件20之第一側21或第二側22;舉例而言,鏡片L4的第一表面L41或第二表面L42可為一平面,顯露並對齊於承載件20之第一側21或第二側22,如此一來可進一步地縮減光學機構在Y軸方向的尺寸,以利於光學機構的微型化。
再請參閱第11圖,其中第11圖表示本發明另一實施例之承載件20、鏡片L4以及線圈C組裝後的剖視圖。如第11圖所示,本實施例中之鏡片L4除了第一表面L41及第二表面L42為平面外,鏡片L4的第三表面L43及第四表面L44也可以是平面,但僅第一、第二表面L41、L42會顯露於承載件20的第一、第二側21、22,並且分別朝向殼體10之第一內側壁11 以及第二內側壁12,反觀第三、第四表面L43、L44則不會顯露於承載件20的第三、第四側23、24,其中第三、第四表面L43、L44垂直於第一、第二表面L41、L42,且第三、第四表面L43、L44的面積小於第一、第二表面L41、L42的面積。
需特別說明的是,在本實施例中係將兩個線圈C分別設置於承載件20的第一側21和第二側22,且其位置係對應於固定在殼體10上的磁性單元M,其中可利用線圈C遮蔽第一、第二表面L41、L42的至少一部分,以避免光線經由鏡片L4的側邊逸出。此外,在承載件20的第一側21或/及第二側22也可設置如第5~8圖中所示的位置感測元件H,用以感測承載件20和鏡片單元L相對於殼體10的位置變化。
於一實施例中,可在鏡片L4的第一、第二表面L41、L42或者線圈C的表面上塗佈抗反射層或油墨層,或者也可在殼體10的第一內側壁11或/及第二內側壁12上塗佈抗反射層或油墨層,以防止光線反射回到鏡片L4內部而產生干擾訊號。然而,也可將線圈C設置在承載件20的第三側23或/及第四側24,並透過線圈C和磁性單元M之間所產生磁力驅使承載件20和鏡片單元L一起相對於殼體10移動。
再請參閱第12圖,其中第12圖表示本發明另一實施例之承載件20以及鏡片L4組裝後的剖視圖。如第12圖所示,本實施例中之鏡片L4的第一、第二、第三、第四表面L41、L42、L43、L44分別顯露並對齊於承載件20的第一、第二、第三、第四側21、22、23、24,藉此可同時縮減光學機構在X軸方向以及Y軸方向上的尺寸。
再請參閱第13~15圖,其中第13~15圖表示本發明另一實施例之承載件20以及鏡片單元L組裝後於不同視角的示意圖。如第13~15圖所示,本實施例中之鏡片L4、L5係顯露於承載件20的第一、第二、第三側21、 22、23,而承載件20的第四側24則覆蓋鏡片L4、L5。從第15圖中可以看出,位在鏡片單元L下半部的鏡片L4、L5係凸出於承載件20的第一、第二、第三側21、22、23,然而也可以使鏡片L4、L5的邊緣和承載件20的第一、第二、第三側21、22、23對齊,藉以大幅縮減光學機構在X、Y軸方向上的尺寸。
綜上所述,本發明藉由使鏡片顯露於承載件的側邊,或者使鏡片的邊緣形成一平面結構,可大幅縮減承載件在水平方向上的尺寸,從而能有助於達到光學機構的微型化。
雖然本發明的實施例及其優點已揭露如上,但應該瞭解的是,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作更動、替代與潤飾。此外,本發明之保護範圍並未侷限於說明書內所述特定實施例中的製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟,任何所屬技術領域中具有通常知識者可從本發明揭示內容中理解現行或未來所發展出的製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟,只要可以在此處所述實施例中實施大抵相同功能或獲得大抵相同結果皆可根據本發明使用。因此,本發明之保護範圍包括上述製程、機器、製造、物質組成、裝置、方法及步驟。另外,每一申請專利範圍構成個別的實施例,且本發明之保護範圍也包括各個申請專利範圍及實施例的組合。
雖然本發明以前述數個較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可做些許之更動與潤飾。因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。此外,每個申請專利範圍建構成一獨立的實施例,且各種申請專利範圍及實施例之組合皆介於本發明之範圍內。

Claims (20)

  1. 一種光學機構,包括:一殼體;一承載件,活動地設置於該殼體內;一鏡片,設置於該承載件內,其中該鏡片具有一第一表面,該第一表面顯露於該承載件之一第一側,且朝向該殼體之一第一內側壁;一驅動組件,設置於該殼體內,用以驅使該承載件以及該鏡片相對於該殼體運動;以及一底座,連接該殼體。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學機構,其中該鏡片更具有一第二表面,顯露於該鏡片單元之一第二側,且朝向該殼體之一第二內側壁,其中該第二側相反於該第一側。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之光學機構,其中該驅動組件具有一線圈以及一磁性單元,該磁性單元固定於該殼體上,且該線圈固定於該承載件之一第三側,其中該第三側相鄰於該第一、第二側。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之光學機構,其中該第一表面凸出於該第一側。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光學機構,其中該第一表面為一平面。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之光學機構,其中該第一表面對齊該承載件。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之光學機構,其中該光學機構更包括一抗反射層,形成於該第一內側壁。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之光學機構,其中該光學機構更包括一油墨層,塗佈於該第一表面。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之光學機構,其中該驅動組件具有一線圈以及一磁性單元,該磁性單元固定於該殼體上,該線圈固定於該承載件上並遮蔽該第一表面的至少一部分。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之光學機構,其中當該承載件相對於該殼體移動至一極限位置時,該鏡片接觸該殼體或該底座,以限制該承載件於該極限位置。
  11. 一種光學機構,包括:一殼體;一承載件,活動地設置於該殼體內;一鏡片,設置於該承載件內,其中該鏡片具有一第一表面、一第二表面、一第三表面以及一第四表面,其中該第一、第三表面相互平行,且該第二第四表面相互平行;一驅動組件,設置於該殼體內,用以驅使該承載件以及該鏡片相對於該殼體運動;以及一底座,連接該殼體。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之光學機構,其中該第一、第二表面分別顯露於該承載件之一第一側以及一第二側,且分別朝向該殼體之一第一內側壁以及一第二內側壁,其中該第二側相反於該第一側。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之光學機構,其中該光學機構更包括一抗反射層,形成於該第一內側壁上。
  14. 如申請專利範圍第12項所述之光學機構,其中該光學機構更包括一油墨層,塗佈於該第一表面上。
  15. 如申請專利範圍第12項所述之光學機構,其中該第三表面顯露於該承載件之一第三側,且該第三側相鄰於該第一、第二側。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之光學機構,其中該第四表面顯露於該承載件之一第四側,且該第四側相反於該第三側。
  17. 如申請專利範圍第11項所述之光學機構,其中該第三、第四表面垂直於該第一、第二表面。
  18. 如申請專利範圍第11項所述之光學機構,其中該第三表面的面積小於該第一表面的面積。
  19. 如申請專利範圍第11項所述之光學機構,其中該驅動組件具有一線圈以及一磁性單元,該磁性單元固定於該殼體上,該線圈固定於該承載件上並遮蔽該第一表面的至少一部分。
  20. 如申請專利範圍第11項所述之光學機構,其中該光學機構更包括一位置感測元件,設置於該承載件之該第一側,用以感測該承載件相對於該殼體的位置變化。
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