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TW201831134A - 地板處理設備之操作方法 - Google Patents

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TW201831134A
TW201831134A TW107100082A TW107100082A TW201831134A TW 201831134 A TW201831134 A TW 201831134A TW 107100082 A TW107100082 A TW 107100082A TW 107100082 A TW107100082 A TW 107100082A TW 201831134 A TW201831134 A TW 201831134A
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floor treatment
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TW107100082A
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赫爾穆特 肖霍夫
約亨 耶特斯
德克 施米特
薩賓 施韋普
哈羅德 溫多夫
麥克 百隆
皮亞 哈恩
艾瑞絲 薩貝克
漢斯 彼得 亞諾德
拉斐爾 利斯
麥克 布雷德
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德商佛維爾克控股公司
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Abstract

本發明係有關於一種操作地板處理設備(1)之方法，其中，地板處理設備(1)在待處理之面(2)上運動，且根據面(2)之面參數(3)以對該面(2)實施處理，其中，改變用於根據面參數(3)以對該面(2)進行處理之地板處理設備(1)之設備參數(7)，其中，將面參數(3)與保存在資料庫(5)中之參考面參數(6)進行對比，其中，選出與最接近面參數(3)之參考面參數(6)對應的設備參數(7)。為了藉由地板處理設備(1)達到最佳處理效果，本發明提出：數個地板處理設備(1)對資料庫(5)進行訪問，且將設備參數(7)及/或面參數(3)及/或面參數(3)之變化及/或參考面參數(6)保存在資料庫(5)中，以及/或者，選出上述參數，以便進行共同利用。

Description

地板處理設備之操作方法
本發明係有關於一種操作地板處理設備之方法，其中，地板處理設備在待處理之面上運動，且根據該面之面參數以對該面實施處理，其中，改變用於根據面參數以對該面進行處理之地板處理設備之設備參數，其中，將面參數與保存在資料庫中之參考面參數進行對比，且其中，選出與最接近面參數之參考面參數對應的設備參數。
此外，本發明亦有關於一種由至少兩個地板處理設備與至少一個供該等地板處理設備訪問之共用的伺服器所構成之系統，其中，該等地板處理設備適於在待處理之面上運動，且根據該面之面參數對該面進行處理，且其中，該等地板處理設備適於對用於根據面參數以對該面進行處理之地板處理設備之設備參數進行設定。
上述類型之地板處理設備在先前技術中為吾人所知。此等地板處理設備例如可建構為手持式或可自動移行式。此等設備可執行清潔任務、拋光任務、割草任務或諸如此類。
公開案EP 1 691 657 B1例如揭露一種可自行移動式地板清潔設備，適於對表面、例如瓷磚地板進行濕式清潔。公開案EP 1 437 958 B1還揭露一種可自動移行式抽吸/清掃設備。
在實踐中，通常應將地板處理活動與例如硬地板及/或地毯地板之類的地板類型相匹配。特別是例如應確保僅將液體施加在適宜的面上。因此，在先前技術中還已知，為此類地板處理設備配設具有用於偵測待處理之面之地板類型的偵測裝置。此偵測裝置例如可為創建表面之像片的攝影機。對此等像片進行分析，以便確定地板類型。
基於上述先前技術，本發明之目的在於改良地板處理設備之操作方法，從而藉由該地板處理設備達到最佳的處理效果。
為達成上述目的，本發明提出：數個地板處理設備對資料庫進行訪問，且將設備參數及/或面參數及/或面參數之變化及/或參考面參數保存在資料庫中，以及/或者，選出上述參數，以便進行共同利用。
根據本發明之方法，數個地板處理設備相互分享設備參數、面參數、參考面參數及/或面參數之變化，具體方式在於諸地板處理設備將上述參數保存在同一資料庫中。諸地板處理設備中皆可訪問資料庫。未自行偵測到資料的地板處理設備亦可使用該等資料。如此便能在數個地板處理設備之參與下創建具有設備參數、面參數、參考面參數及面參數之變化的綜合資料庫。資料庫之廣泛的資料收集改進了面處理之效果，因為，例如可基於之前針對相同的面或類似的面所測得的大量面參數，以提高所提出的設備參數之精度。因而，按照本發明之方法工作的地板處理設備必須不僅以自身所測得之參數充填該資料庫，還可訪問來自其他地板處理設備之設備參數、參考面參數、面參數及其變化。在此情況下，保存在資料 庫中之參數可被用於與之相匹配的地板處理策略，特別是亦可供未來的處理使用調取。可透過地板處理設備單獨在偵測模式中偵測面參數。在此過程中，待處理之面被碾過，並且，所測得之面參數被傳輸至資料庫。此外，地板處理設備之使用者亦可手動地訪問資料庫，以及儲存及/或檢驗或校正設備參數、面參數、參考面參數及/或面參數之變化。在對於面進行處理前，相關的地板處理設備之計算裝置例如可根據調節器以計算出用於為面進行處理之最佳設備參數，並將諸設備參數提供給地板處理設備。在進行計算時，計算裝置將待處理之面之當前的面參數與不同面之保存在資料庫中的參考面參數進行對比，其中，在二者一致或至少在固定公差內相似的情況下，選出對應於最匹配的參考面參數之設備參數，以便在地板處理設備上進行設定。
地板處理設備例如可指清潔機器人、拋光機器人、割草機器人或諸如此類。除了處理機器人之外，亦可採用由使用者手持的地板處理設備，該等地板處理設備係透過可共同進入的資料庫而相互連接。
本發明提出：地板處理設備在對於面進行處理之前及之後，對其面參數進行偵測，其中，自諸多偵測結果測定面參數之變化。透過在對於面進行處理之前及之後偵測面參數，便能測定所實現的處理效果，且視情況通知地板處理設備之使用者。可為使用者顯示所測得之面參數變化，例如，經處理的面之污染度。此點例如可透過在地板處理設備之環境地圖上示出污染度來實施，其中，顯示出相應的標記，例如，污染度之按百分比計算的變化，或諸如此類。例如，可使用有顏色的信號燈系統，用紅色、黃色及綠色對 污染度之不同分級進行標記。作為將面參數之變化通知給使用者的替代或補充方案，亦可將面參數之變化保存在資料庫中，從而，既為相關的地板處理設備本身，又為同樣可訪問該資料庫之其他地板處理設備，提供其資訊。
本發明提出：根據面參數之變化，計算參考面參數及/或需設定之設備參數，且儲存在資料庫中。透過此設計方案提供一種方法，用來使得地板處理設備能夠以自學習之方式工作，具體方式在於：由面參數之變化重新製訂或改變參考面參數及/或設備參數，該參數隨後又被提供給用於執行未來的地板處理任務之其中一個地板處理設備中。若例如設備參數之以前的某個設定在採用某一起始面參數的情況下會產生最佳的清潔效果，則特別有利地將該設備參數儲存在資料庫中，且視情況將其他清潔效果較差的設備參數刪除，從而使得相同的地板處理設備或其他的地板處理設備在之後的類似處理任務中，直接獲得可能產生最佳處理效果的設備參數。可藉由本發明提出之事先、事後對比，根據本發明之儘可能好的處理效果，對地板處理設備及其清潔策略或設備參數之變化進行調整，以便對具有類似面參數之同類型的面進行處理。因此，儲存在資料庫中的參考面參數係對應於之前使得面參數發生理想的最佳變化的、例如使得面參數「污染」自「程度非常高」變為「清潔」之設備參數。
此外，本發明提出：地板處理設備對地板處理設備之內部伺服器之資料庫進行訪問，及/或對相對於諸地板處理設備而言的外部伺服器之資料庫進行訪問。資料庫因而可保存在伺服器上，該伺服器為地板處理設備之內部伺服器及/或網路中相對於所有地 板處理設備而言佈置在外部的伺服器。此種外部伺服器例如可為家庭網絡之局域伺服器或連接全球計算機網路、例如互聯網之雲伺服器。
本發明提出：將地板處理設備之計算裝置所選出的設備參數發送給地板處理設備之使用者，以及/或者，在地板處理設備上自動設定其設備參數。因此，本發明可包括，在地板處理設備上自動設定地板處理設備之計算裝置所選出的設備參數，以便實施地板處理，例如，藉由地板處理設備之控制裝置來設定，或者作為替代方案，將設備參數例如在顯示器上顯示給地板處理設備之使用者，以便使用者將控制命令手動傳輸至地板處理設備。可在地板處理設備本身之顯示器上或與地板處理設備之計算裝置存在通訊連接的外部移動設備上、例如使用者之行動電話上進行顯示。使用者可在顯示過後對所提出之設備參數進行操縱，以便特別有利地將控制命令直接轉發至地板處理設備。
本發明提出：面參數為地板類型、污染度、濕度及/或地板處理設備在其面上之位置。地板類型例如可包括硬地板或地毯地板中之區別，其中，在硬地板中還可細分為瓷磚、層壓板、嵌木地板、軟木地板及諸如此類，或者細分為短絨或長絨地毯地板。污染度可包括面污染之不同分級，例如分為清潔、輕度、中度和重度或諸如此類。此外，面參數亦可包括地板處理設備在地板處理設備之環境地圖中之位置資料。此外，還需對其他的面參數進行區分，例如，面之濕度、面之顏色、面之粗糙度、面上物體之存在、面之不平度、斜率、傾斜度等。此外，面參數亦可包括關於該面之為進行處理而封閉的區域的資訊，例如，可能受到某個處理方式之 損傷的具有地板覆蓋物的區域，及/或可能對地板處理設備造成損傷之區域。
本發明提出：藉由地板處理設備之偵測裝置，對於面參數進行偵測。該偵測裝置特別是可具有影像感測器、濁度感測器及/或強度感測器。亦可將該等偵測裝置組合在一起。特別有利地採用包括攝影機、濁度感測器、測量滾筒及/或反射感測器的偵測裝置。在採用攝影機之情形中，偵測裝置具有用來在污染狀態下記錄面之影像的影像感測器。隨後，將能夠描述污染此一面參數之污染面與資料庫之參考面參數進行對比，為該等參考面參數保存有針對該面之此種地板類型及污染的最佳設備參數，並且，可在地板處理設備上設定該等設備參數，以便對該面進行後續處理。此外，攝影機亦可在實施對於面之清潔後的清潔狀態中記錄另一影像，其中，確定了污染度之變化。將污染此一面參數之變化重新保存在資料庫中，並與之前所用之設備參數相關聯，使得，在資料庫中儲存有關於何種設備參數設定會產生何種清潔效果之資訊。在偵測裝置包括例如濁度感測器之情形中，例如根據地板處理設備之清潔液之濁度來確定待處理之面的污染度。將其濁度與習知的參考面參數進行對比，從而測定出用於最佳清潔之設備參數。同樣可既在採用乾式清潔又在採用濕式清潔的情況下，將地板處理設備之清潔滾筒之表面之有所變化的色值，與參考面參數進行對比，其中，例如可透過對應的灰度來確定該面之當前的污染度。此外，地板處理設備之強度感測器可進行強度測量。特別是，可在對於面進行處理之前及之後，對反射度進行測量，其測量結果能夠對於面之污染度做出推斷。可在對於面進行處理期間，或緊接在其處理過程後，實施上述 偵測。
最後，根據本發明之方法，可改變作為設備參數之處理類型、處理頻率、處理強度、清潔劑使用、密封元件位置、轉速、移動速度、對待處理之面的壓緊重量及/或設備配件使用。處理類型例如可指清潔類型，例如，濕式或乾式。處理強度進行設置，使其一次或多次碾過其面之分區。清潔劑使用可包括施加至面的清潔劑之類型及/或量。處理強度還可包括清潔元件之轉速、地板處理設備之移動速度、面之乾燥過程、側刷或側面清潔裝置之活動。此外，亦可設定密封元件之位置，例如，密封唇及/或刷毛元件之位置。設備參數例如還可設置設備配件之使用，例如，附加滾筒、刷子、抽吸單元及其他附件之使用。
除前述地板處理設備之操作方法，本發明還提出一種由至少兩個地板處理設備與至少一個供該等地板處理設備訪問之共用的伺服器所構成之系統，其中，該等地板處理設備適於在待處理之面上運動，且根據該面之面參數對該面進行處理，其中，該等地板處理設備適於對用於根據面參數以對該面進行處理之地板處理設備之設備參數進行設定，其中，伺服器具有共同對應於該等地板處理設備的資料庫，在該資料庫中保存有設備參數，及/或面參數及/或面參數之變化及/或參考面參數。
此外，此系統例如可被設計成使得伺服器為地板處理設備之內部伺服器及/或相對於該等地板處理設備而言建構在外部的伺服器。
因此，總體而言，本發明提出之系統適於實施前文所提出之方法。前文就其方法而言所描述之特徵同樣相應地適用於本 發明之系統。
該等地板處理設備例如可為自行移動式設備或手持式設備。此外，地板處理設備適於實施濕式及/或乾式清潔、拋光、割草過程或諸如此類。地板處理設備透過藉由無線電、例如藉由藍牙或WLAN之通訊連接而與其共用的伺服器存在連接。作為替代方案，該等地板處理設備與該伺服器亦可藉由電纜連接而相連。伺服器特別是可被整合至其中一個地板處理設備，其他的地板處理設備便能自外部訪問該伺服器。但此外，共用的伺服器亦可為(就該系統之所有地板處理設備而言的)外部伺服器，該外部伺服器對應於獨立電腦，該電腦則連接至如互聯網之全球網路，或者連接至家庭局域網或諸如此類。
1‧‧‧地板處理設備
2‧‧‧(待處理)面
3‧‧‧面參數
4‧‧‧計算裝置
5‧‧‧資料庫
6‧‧‧參考面參數
7‧‧‧設備參數
8‧‧‧偵測裝置
9‧‧‧伺服器
10‧‧‧測距裝置
圖1為由兩個地板處理設備及一伺服器所構成之系統之示意圖。
下面結合實施例對本發明進行詳細說明。圖1示出具有面2的房間之一部分，該面在此為由木質地板條所構成之地板。兩個地板處理設備1在面2上移動。諸地板處理設備在此例如為吸塵機器人及擦拭機器人。每個地板處理設備1中皆具有測距裝置10，以便測量相對於物體及房間分界的距離，由此製訂環境之地圖。地板處理設備1可基於該地圖而在其環境內導航，並確定其位置。測距裝置10在此例如為具有光源的三角測量裝置，其係將光束對準環境內之物體及/或房間分界，並接收反射的光信號。由此便 能計算出相對於相應的物體或相應的房間分界之距離。其光源所發出之光束能以360°之角度範圍環繞地板處理設備1旋轉，從而實現全方位測距。
圖式中繪示在前方之地板處理設備1例示性地具有佈置在地板處理設備1之底側的偵測裝置8。偵測裝置8用於偵測出面2之面參數3，相應的地板處理設備1在該面上移行。偵測裝置8所測得之面參數3在此例如為面2之地板類型及面2之污染度。偵測裝置8係藉由影像感測器及強度感測器而工作，其中，影像感測器在地板處理設備1之下方記錄待清潔之面2之影像，且其中，強度感測器在地板處理設備1之下方將光束對準著面2，並接收了面2所反射的光信號。根據所發出或所接收的光之強度差，及/或根據面2在其位置上之反射度，便能推測出污染。
將影像感測器及強度感測器所記錄之影像或測量值轉發至地板處理設備1之計算裝置4。
地板處理設備1之計算裝置4與伺服器9存在通訊連接，該伺服器在此為與互聯網連接的雲伺服器。為了與伺服器9連接，地板處理設備1具有WLAN模組，用以使地板處理設備1能夠登入家庭網路，且自該處出發透過路由器而與互聯網或伺服器9相連接。在伺服器9上儲存有資料庫5，該資料庫包括參考面參數6及有關於對應於參考面參數6的設備參數7的資訊。在特別有利的情形中，資料庫5可例如為具有列(row)及行(column)的表格(未繪示)，其中，列例如涉及了關於不同的地板類型之參考面參數6，行例如涉及了關於不同的污染度之參考面參數6。在此情況下，在該表格內儲存有適於地板類型與污染度之某種組合而需要在地板處 理設備1上進行設定的設備參數7。在選擇地板類型「木質地板條」及污染度「中度」的情況下，例如可根據相應的列與相應的行之交叉區域，讀出用於地板處理設備1之最佳的需設定的設備參數7。
根據所示實施例，地板處理設備1之計算裝置4將所測得之面參數3地板類型及污染度發送至伺服器9，在該處將該等面參數與儲存在資料庫5中之相應的參考面參數6進行對比。若二者取得一致或測定到最接近相應面參數3的參考面參數6，則伺服器9會將對應的設備參數7發送至地板處理設備1之計算裝置4。計算裝置4接收該等設備參數7，且在此針對面2之清潔而設定處理類型「濕式清潔」以及使用織物清潔滾筒(來替代刷子)。有鑒於此，地板處理設備1之控制裝置如此地對移動進行控制，使得，地板處理設備1於相關的房間內，在面2之相應的分區或整個面2上移動。清潔滾筒在施加液體的情況下在面2上滾動。
正如例示性地繪示在附圖最前方之地板處理設備1那般，第二個地板處理設備1同樣對伺服器9之資料庫5進行訪問，且將面參數3傳輸至資料庫5。此外，還有其他的地板處理設備1可與伺服器9存在通訊連接，且對資料庫5進行訪問。以前文就第一個地板處理設備1而言所述之方式與伺服器9進行通訊，以及將面參數3傳輸至資料庫5，或者自資料庫5接收設備參數7。
在對於面2實施處理、即清潔之後，地板處理設備1重新將已清潔之面2之當前所測得的面參數3傳輸至伺服器9之資料庫5。當前所測得的面參數3為清潔之前所測得的面參數3，在此即為地板類型及污染度。資料庫5儲存該等面參數3以及用於清潔之設備參數7，且視所實現的清潔效果而為面2之未來的清潔工 作(視情況)製訂有所變化的設備參數7。在此過程中，即，例如在根據面參數3之變化值看出基於所設定之設備參數7的清潔程度過小或過大的情況下，設備參數7視情況可能與之前所使用的設備參數7有所變化。因此，產生一自學習系統，其中，可根據所實現的清潔效果來調整儲存在資料庫5中之參考面參數6及對應的設備參數7。與伺服器9存在通訊連接並且對資料庫5進行訪問的所有的地板處理設備1，皆從系統之此一自學習功能中獲益。
若地板處理設備1在處理之前及之後皆對於面2之面參數3進行偵測，例如，在處理之前及之後偵測污染度，則若非地板處理設備1之計算裝置4可計算出面參數3之變化，便是將面參數3傳輸至伺服器9之資料庫5，從而在該處計算出面參數3之變化。若地板處理設備1之計算裝置4自行測定面參數3之變化，則該計算裝置視情況同樣可製訂或改變設備參數7，且隨後將其傳輸至伺服器之資料庫5。作為替代方案，面參數3及/或參考面參數6及/或設備參數7之製訂或變化，亦可被伺服器9之資料庫5保留。

Claims (10)

  1. 一種操作地板處理設備之方法，其中，該地板處理設備(1)在待處理之面(2)上運動，且根據該面(2)之面參數(3)以對該面(2)實施處理，其中，改變用於根據該面參數(3)以對該面(2)進行處理之地板處理設備(1)之設備參數(7)，其中，將該面參數(3)與保存在資料庫(5)中之參考面參數(6)進行對比，其中，選出與最接近該面參數(3)之參考面參數(6)對應的設備參數(7)，其特徵在於：數個地板處理設備(1)對該資料庫(5)進行訪問，且將設備參數(7)及/或面參數(3)及/或面參數(3)之變化及/或參考面參數(6)保存在該資料庫(5)中，以及/或者，選出上述參數，以便進行共同利用。
  2. 如請求項1之方法，其中，該地板處理設備(1)在對該面(2)進行處理之前及之後，對該面參數(3)進行偵測，而其中，自諸多偵測結果測定該面參數(3)之變化。
  3. 如請求項2之方法，其中，根據該面參數(3)之變化，計算參考面參數(6)及/或需設定之設備參數(7)，且儲存在該資料庫(5)中。
  4. 如請求項1至3中任一項之方法，其中，該地板處理設備(1)對地板處理設備(1)之內部伺服器(9)之資料庫(5)進行訪問，及/或對相對於諸地板處理設備(1)而言的外部伺服器(9)之資料庫(5)進行訪問。
  5. 如請求項1之方法，其中，將該地板處理設備(1)之計算裝置(4)所選出的設備參數(7)發送給該地板處理設備(1)之使用者，以及/或者，在該地板處理設備(1)上自動設定該設備參數。
  6. 如請求項1之方法，其中，該面參數(3)為地板類型、污染度、濕度及/或該地板處理設備(1)在該面(2)上之位置。
  7. 如請求項1之方法，其中，藉由該地板處理設備(1)之偵測裝置(8)，特別是，藉由影像感測器、濁度感測器及/或強度感測器，對該面參數(3)進行偵測。
  8. 如請求項1之方法，其中，改變作為設備參數(7)之處理類型、處理頻率、處理強度、清潔劑使用、密封元件位置、轉速、移動速度、對待處理之面(2)的壓緊重量及/或設備配件使用。
  9. 一種由至少兩個地板處理設備與至少一個供該等地板處理設備訪問之共用的伺服器所構成之系統，其中，該等地板處理設備(1)適於在待處理之面(2)上運動，且根據該面(2)之面參數(3)對該面(2)進行處理，且其中，該等地板處理設備(1)適於對用於根據該面參數(3)以對該面(2)進行處理之地板處理設備(1)之設備參數(7)進行設定，其特徵在於：該伺服器(9)具有共同對應於該等地板處理設備(1)的資料庫(5)，在該資料庫中保存有設備參數(7)及/或面參數(3)及/或參考面參數(6)及/或面參數(3)之變化。
  10. 如請求項9之系統，其中，該伺服器(9)為地板處理設備(1)之內部伺服器(9)及/或相對於該等地板處理設備(1)而言的外部伺服器(9)。
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