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TW201837507A - 附有光學機能層之光學構件 - Google Patents

附有光學機能層之光學構件 Download PDF

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TW201837507A
TW201837507A TW107107433A TW107107433A TW201837507A TW 201837507 A TW201837507 A TW 201837507A TW 107107433 A TW107107433 A TW 107107433A TW 107107433 A TW107107433 A TW 107107433A TW 201837507 A TW201837507 A TW 201837507A
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吉川貴博
中村恒三
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明之附有光學機能層之光學構件具有：含色素之光學機能層、及位於前述光學機能層之至少單面且透氧度為1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下之第1光學構件。本發明之附有光學機能層之光學構件具有含色素之光學機能層，且該光學機能層之歷時穩定性佳而可維持色素所帶來的廣色域化。

Description

附有光學機能層之光學構件
本發明係涉及附有光學機能層之光學構件。又，本發明之附有光學機能層之光學構件可應用於液晶面板、具有前述液晶面板之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
發明背景 影像顯示裝置等由其影像形成方式來看，於液晶單元之兩側配置偏光元件為不可或缺的，且一般係貼附有偏光薄膜。將前述偏光薄膜貼附於液晶單元時，通常係使用黏著劑。又，通常為了降低光的損失，偏光薄膜與液晶單元之接著會使用黏著劑將各個材料密著。於所述情況時，一般會使用已將黏著劑以黏著劑層之形式預先設置於偏光薄膜之單面的附黏著劑層之偏光薄膜，因其具有於固定偏光薄膜時不須經過乾燥步驟等優點。
又，已提出一種藉由添加染料或顏料於前述黏著劑層中以使其著色，來賦予偏光薄膜任意色相，以製得高對比之液晶顯示體的方法(專利文獻1)。近年來，對影像顯示裝置要求亮度、鮮豔度(即廣色域化)，而有機EL顯示裝置(OLED)備受矚目，從而對液晶顯示裝置亦同樣尋求廣色域化。作為使液晶顯示裝置廣色域化之方法，舉例而言已提出如下方法：透過含有於特定波長(560~610nm)之範圍中顯示吸收極大波長的色素之黏著劑層，將偏光薄膜積層於前述液晶單元之單面或兩面上(專利文獻2、3)。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利實登第3052812號說明書 專利文獻2：日本專利特開2011-039093號公報 專利文獻3：日本專利特開2014-092611號公報
發明概要 發明欲解決之課題 除了如上所述色素可含於黏著劑層外，亦可含於應用於光學構件之薄膜層中。如此一來，使薄膜層或如黏著劑層之樹脂層中含有色素，便可形成含色素之光學機能層。然，因前述光學機能層中含有色素，由作為前述光學機能層之基底之樹脂層的透濕性觀點而言，前述光學機能層中的色素會隨時間劣化致使前述光學機能層漸漸褪色。尤其是光學機能層為含色素之黏著劑層時，由透濕性之觀點而言，該黏著劑層的耐久性不夠充分，即便為起初就被色素染色之黏著劑層亦會漸漸褪色。如此一來，當光學機能層(尤其是黏著劑層)中的色素隨時間劣化時，即難以維持色素所帶來的廣色域化。
本發明之目的在於提供一種含色素之光學機能層，該光學機能層之歷時穩定性佳，可維持色素所帶來的廣色域化。
用以解決課題之手段 本發明人等為解決前述課題而反覆地努力檢討之結果，發現下述附有光學機能層之光學構件，遂而完成本發明。
亦即，本發明係涉及一種附有光學機能層之光學構件，其特徵在於具有含色素之光學機能層、以及位於前述光學機能層之兩面的第1光學構件及第2光學構件，並且， 至少前述第1光學構件之透氧度為1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下。
前述附有光學機能層之光學構件可使用分離件作為前述第1光學構件。又，前述附有光學機能層之光學構件可使用包含聚乙烯醇系偏光件者作為前述第1光學構件。
前述附有光學機能層之光學構件中，前述第2光學構件之透氧度宜為1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下。可使用分離件作為前述第2光學構件。
前述附有光學機能層之光學構件中，前述色素可使用於波長區470~510nm及波長區570~610nm中之至少任一區具有極大吸收波長者。
前述附有光學機能層之光學構件中，前述色素可使用卟啉系色素。
前述附有光學機能層之光學構件宜含有相對於形成前述光學機能層之樹脂層的基底聚合物100重量份為0.01~5重量份的前述色素。
發明效果 本發明之附有光學機能層之光學構件具有含色素之光學機能層。前述光學機能層可利用色素吸收一部分波長的光，藉以調整液晶顯示裝置整體色相，並可利用廣色域化提升鮮豔度。尤其是在470~510nm及波長區570~610nm中之至少任一區具有極大吸收波長的色素，可吸收RGB以外之波長區(波長區470~510nm及/或波長區570~610nm)中的色彩表現上不需要的發光而抑制前述不需要之發光，對廣色域化特別有效。
又，本發明之附有光學機能層之光學構件係於前述含色素之光學機能層之兩面具有光學構件。即便為所述之於光學機能層兩面具有光學構件的附有光學機能層之光學構件的結構，前述光學機能層之色素仍有褪色情形。已知該褪色係因氧透過前述光學構件侵入前述光學機能層，並因熱而活化從而攻擊色素之故。本發明之附有光學機能層之光學構件係於含色素之光學機能層之至少單面積層有透氧度為1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下之光學構件。使用所述低透氧度之光學構件，可防止氧侵入附有光學機能層之光學構件的前述光學機能層，藉此可抑制色素褪色(分解)，從而可提供隨時間經過仍穩定而可維持廣色域化之光學機能層。
用以實施發明之形態 以下，使用圖式詳細說明本發明之附有光學機能層之光學構件之實施形態。惟，本發明不受限於圖式之實施形態。
如圖1所示，本發明之附有光學機能層之光學構件具有：含色素之光學機能層A、位於該光學機能層A之兩面的第1光學構件B1及第2光學構件B2。第1光學構件B1係積層於前述光學機能層A之第1單面，第2光學構件B2係積層於前述光學機能層A之第2單面。前述第1光學構件B1可使用透氧度為1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下者。前述第1光學構件B1例如可使用分離件、聚乙烯醇系偏光件、包含聚乙烯醇系偏光件之積層體等。另一方面，前述第1光學構件B2可使用各種材料，且可使用分離件等。前述第2光學構件B2亦宜使用透氧度為1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下者。本發明之附有光學機能層之光學構件可組合前述第1光學構件B1及第2光學構件B2作使用。
舉例來說，圖2係顯示於光學機能層A之兩面積層有分離件(s)作為第1光學構件B1及積層有分離件(s)作為第2光學構件B2之兩面附分離件之無基材的黏著片。
且舉例而言，圖3係顯示於光學機能層A之第1單面積層有包含聚乙烯醇系偏光件之偏光薄膜(p)作為第1光學構件B1、及於另一第2單面積層有分離件(s)作為第2光學構件B2之附分離件之附有光學機能層之偏光薄膜。
本發明之附有光學機能層之光學構件具有含色素之光學機能層，且於前述光學機能層兩面具有第1光學構件及第2光學構件。以下就各構件予以說明。
＜光學機能層＞ 本發明之光學機能層只要為包含色素之樹脂層即無特別限定。前述樹脂層可舉薄膜層、黏著劑層等。前述光學機能層可由含有基底聚合物及色素之組成物形成。
＜色素＞ 本發明之光學機能層所含有之色素可使用各種色素。色素可舉例如四氮雜卟啉系、卟啉系、花青系、偶氮系、吡咯亞甲基系、方酸菁系、 系、氧雜菁系、方酸系等各種化合物。前述色素從廣色域化觀點來看，宜使用四氮雜卟啉系色素、卟啉系色素、花青系色素、方酸菁系色素、方酸系色素，尤宜使用四氮雜卟啉系色素。前述色素具體而言公開於日本專利特開2011-116818號公報等。前述色素可只使用1種，也可併用2種以上。
前述色素宜為在波長區470~500nm及波長區580~610nm中之至少任一區具有極大吸收波長者。於前述波長區具有極大吸收波長的色素，可吸收色彩表現上不需要的發光，從而抑制該發光，對廣色域化有效。於前述波長區具有極大吸收波長的色素可適用卟啉系色素。在波長區580~610nm表現極大吸收波長的色素可舉例如山本化成公司製四氮雜卟啉系化合物(商品名：PD-320、PD311)、山田化學工業公司製四氮雜卟啉系化合物(商品名：FDG-007)等。另外，色素的極大吸收波長之測定，係以分光光度計(日本分光公司製V-570)來進行。
本發明之光學機能層之色素含量會依色素之吸收波長區、吸光係数及基底聚合物種類作調整，但通常相對於基底聚合物100重量份，宜為0.01~5重量份，且以0.05~3重量份為佳，0.1~1重量份更佳。尤其在使用四氮雜卟啉系色素時，以前述範圍為宜。
＜黏著劑層＞ 本發明之光學機能層可舉含色素之黏著劑層，且前述黏著劑層可由含有黏著性之基底聚合物及色素之黏著劑組成物形成。黏著性之基底聚合物種類並無特別限制，例如可舉橡膠系聚合物、(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、胺甲酸乙酯系聚合物、乙烯基烷基醚系聚合物、聚乙烯醇系聚合物、聚乙烯吡咯啶酮系聚合物、聚丙烯醯胺系聚合物、纖維素系聚合物等各種聚合物。
本發明之黏著劑組成物係以黏著性之基底聚合物為主成分來含有。主成分係指黏著劑組成物所含之總固體成分中含量比率最多的成分，舉例而言係指黏著劑組成物所含之總固體成分中佔超過50重量%之成分，進而指佔超過70重量%之成分。
該等黏著性之基底聚合物中，適宜使用光學透明性佳、可展現適宜濕潤性、凝聚性與接著性之黏著特性，並且耐候性及耐熱性等優異者。可展現所述特徴之物可適宜使用(甲基)丙烯酸系聚合物。以下，針對黏著劑層之形成材料、亦即以將含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元的(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物的丙烯酸系黏著劑予以說明。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物＞ 前述(甲基)丙烯酸系聚合物通常含有以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元。另，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明之(甲基)亦為同意。
構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可以例示直鏈狀或支鏈狀之烷基的碳數1~18者。該等可單獨使用或可組合使用。該等烷基的平均碳數宜為3~9。
又，由黏著特性、耐久性、相位差之調整、折射率之調整等觀點來看，可採用如(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等含有芳香環之(甲基)丙烯酸烷基酯。
為了改善接著性及耐熱性，可於前述(甲基)丙烯酸系聚合物之中，藉由共聚來導入1種以上具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和雙鍵之聚合性官能基的共聚單體。這類的共聚單體之具體例可舉如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯及(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等含羥基單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸等含羧基單體；馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基單體等。
又，作為改質目的之單體例亦可舉如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸-N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺、N-丙烯醯基啉等琥珀醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺或N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等等。
進一步作為改質單體亦可使用乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌、乙烯基吡、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基唑、乙烯基啉、N-乙烯基羧酸醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己內醯胺等乙烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之丙烯酸系單體；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或2-甲氧基乙基丙烯酸酯等丙烯酸酯系單體等等。更可列舉異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。
此外，上述以外之可共聚單體尚可舉如含有矽原子之矽烷系單體等。作為矽烷系單體，可列舉例如3-丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷等。
又，作為共聚單體，也可使用三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物等的具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之多官能性單體，或在聚酯、環氧、胺甲酸乙酯等的骨架上附加2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等之不飽和雙鍵作為與單體成分相同的官能基的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物在總構成單體的重量比率中係以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分，而(甲基)丙烯酸系聚合物中之前述共聚單體之比率並無特別限制，但前述共聚單體之比率在總構成單體的重量比率中宜為0~20%左右、0.1~15%左右、更宜為0.1~10%左右。
且在該等共聚單體當中，由接著性、耐久性等觀點來看，又宜使用含羥基之單體、含羧基之單體。可併用含羥基之單體及含羧基之單體。該等共聚單體在黏著劑組成物含有交聯劑時會成為其與交聯劑的反應點。由於含羥基之單體、含羧基之單體等在分子間與交聯劑之反應性佳，故為了提升所獲得之黏著劑層的凝聚性及耐熱性，宜使用該等單體。就重工性之觀點而言，含羥基之單體較為理想，而就可兼具耐久性與重工性之觀點而言，則以含羧基之單體較為理想。
當含有含羥基之單體作為前述共聚單體時，其比率以0.01~15重量%為宜，以0.03~10重量%為佳，以0.05~7重量%更佳。當含有含羧基之單體作為前述共聚單體時，其比率以0.05~10重量%為宜，以0.1~8重量%為佳，以0.2~6重量%更佳。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物通常是使用重量平均分子量為50萬~300萬之範圍者。若考慮耐久性尤其是耐熱性，宜使用重量平均分子量為70萬~270萬之物。更以80萬~250萬為宜。重量平均分子量若小於50萬，在耐熱性觀點來看不宜。又，重量平均分子量若變得大於300萬，就需要大量的稀釋溶劑以調整成塗佈所需黏度而會拉高成本故並不適宜。另，重量平均分子量係指以GPC(凝膠滲透層析法；Gel Permeation Chromatography)測定且以聚苯乙烯換算所算出之值。
所述(甲基)丙烯酸系聚合物之製造，可適當選擇溶液聚合、UV聚合等放射線聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知之製造方法。又，所得(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
另，在溶液聚合中，聚合溶劑可使用例如乙酸乙酯、甲苯等。作為溶液聚合之具體例，反應可在氮等惰性氣體氣流下添加聚合引發劑，並通常在50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件下進行。
用於自由基聚合之聚合引發劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定，可適當選用。此外，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合引發劑、鏈轉移劑的使用量及反應條件來控制，並可因應其等之種類來適當地調整其使用量。
作為自由基聚合引發劑，可列舉例如2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥公司製，VA-057)等之偶氮系引發劑、過硫酸鉀、過硫酸銨等之過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧化二碳酸酯、二(4-三級丁基環己基)過氧化二碳酸酯、二-二級丁基過氧化二碳酸酯、過氧化新癸酸三級丁酯、過氧化三甲基乙酸三級己酯、過氧化三甲基乙酸三級丁酯、二月桂醯基過氧化物、二-正辛醯基過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物、二苯甲醯基過氧化物、過異丁酸三級丁酯、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷、三級丁基過氧化氫、過氧化氫等的過氧化物系引發劑、過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等過氧化物與還原劑組合而成之氧化還原系引發劑等，但並非受該等所限定。
前述自由基聚合引發劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量相對於100重量份之單體，宜為0.005~1重量份左右，更宜為0.02~0.5重量份左右。
作為鏈轉移劑，可列舉例如月桂基硫醇、環氧丙基硫醇、巰乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量相對於單體成分的總量100重量份，為0.1重量份左右以下。
又，作為用於進行乳化聚合時的乳化劑，可列舉例如月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二基苯磺酸鈉、聚氧伸乙基烷基醚硫酸銨、聚氧伸乙基烷基苯基醚硫酸鈉等之陰離子系乳化劑，聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基苯基醚、聚氧伸乙基脂肪酸酯、聚氧伸乙基-聚氧伸丙基嵌段聚合物等之非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用亦可將2種以上併用。
並且，以反應性乳化劑來說，導入丙烯基、烯丙基醚基等自由基聚合性官能基之乳化劑，具體而言可舉例如Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上皆為第一工業製藥公司製)、ADEKA REASOAP SE10N(旭電化工公司製)等。由於反應性乳化劑在聚合後會組入聚合物鏈，故耐水性良好而為佳。乳化劑的使用量相對於單體成分總量100重量份為0.3~5重量份，而由聚合穩定性及機械穩定性來看宜為0.5~1重量份。
＜交聯劑＞ 並且，本發明中，可於用以形成具有色素之黏著劑層的黏著劑組成物中含有交聯劑。作為交聯劑，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉出如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結之物。多價金屬原子可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中可共價鍵結或配位鍵結之原子可舉如氧原子等，有機化合物則可舉如烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
異氰酸酯系交聯劑之化合物可舉例如甲苯二異氰酸酯、氯苯二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、經氫化之二苯甲烷二異氰酸酯等異氰酸酯單體，及該等異氰酸酯單體與三羥甲丙烷等進行加成而成的異氰酸酯化合物或三聚異氰酸酯化物、縮二脲型化合物，還有與聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等行加成反應而成的胺甲酸乙酯預聚物型異氰酸酯等等。尤佳為聚異氰酸酯化合物，且為選自於由六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯所構成群組中之1種或源自於其的聚異氰酸酯化合物。在此，選自於由六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯所構成群組中之1種或源自於其的聚異氰酸酯化合物包括：六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、多元醇改質六亞甲基二異氰酸酯、多元醇改質氫化伸二甲苯基二異氰酸酯、三聚物型氫化伸二甲苯基二異氰酸酯及多元醇改質異佛酮二異氰酸酯等。所例示之聚異氰酸酯化合物因其與羥基之反應進行迅速(尤其是使聚合物中所含之酸、鹼如同觸媒ㄧ般)，特別有助於快速交聯而較為理想。
過氧化物只要是經加熱或光照射會產生自由基活性種而使黏著劑組成物之基底聚合物進行交聯者即可適當使用，但考慮到作業性及穩定性，宜使用1分鐘半衰期溫度在80℃~160℃之過氧化物，且較宜使用在90℃~140℃之過氧化物。
前述過氧化物可舉如二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧二碳酸二-二級丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧新癸酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧化三甲基乙酸三級己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧化三甲基乙酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二正辛醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、過異丁酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，尤從交聯反應效率優異之觀點來看，以二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等適於使用。
此外，過氧化物之半衰期係表示過氧化物之分解速度的指標，意指過氧化物之殘存量變成一半時的時間。有關用以在任意時間達半衰期的分解溫度、及在任意溫度下的半衰期時間等，係記載於製造商目錄等之中，例如記載於日本油脂股份有限公司的「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。
黏著劑組成物中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物等之基底聚合物100重量份，前述交聯劑之使用量宜為20重量份以下，更宜為0.01~20重量份，又更宜為0.03~10重量份。另，若前述交聯劑多於20重量份，耐濕性將不足，從而容易在可靠性試驗等中發生剝離。
並且，本發明之用以形成具有色素之黏著劑層的黏著劑組成物可含有矽烷耦合劑。藉由使用矽烷耦合劑，可提高耐久性。作為矽烷耦合劑，具體而言可舉例如3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3-4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑；3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷耦合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷耦合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷耦合劑等。
前述矽烷耦合劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物等之基底聚合物100重量份，前述矽烷耦合劑宜為0.001~5重量份，較宜為0.01~1重量份，更宜為0.02~1重量份，進一步更以0.05~0.6重量份為佳。此為可提高耐久性，並適度保持液晶單元等對光學構件之接著力的量。
並且，本發明中形成具有色素之黏著劑層之黏著劑組成物中可摻混聚醚改質聚矽氧。聚醚改質聚矽氧舉例而言可使用公開於日本專利特開2010-275522號公報之物。
本發明中，形成具有色素之黏著劑層之黏著劑組成物中可進一步含有其他公知之添加劑，舉例而言可因應使用用途適當添加著色劑、顏料等粉體，染料、界面活性劑、可塑劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗老化劑、抗氧化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，在可控制的範圍內，也可採用添加還原劑的氧化還原系。
雖是利用前述黏著劑組成物來形成具有色素之黏著劑層，但在形成黏著劑層時，宜調整交聯劑的添加量，並充分考慮交聯處理溫度及交聯處理時間之影響。
交聯處理溫度與交聯處理時間可依據所使用的交聯劑而調整。交聯處理溫度宜為170℃以下。
又，所述交聯處理可以黏著劑層的乾燥步驟時之溫度實行，也可以在乾燥步驟後另外設置交聯處理步驟而實行。
又，關於交聯處理時間，可考慮生產性與作業性進行設定，但通常為0.2~20分鐘左右，宜為0.5~10分鐘左右。
形成具有色素之黏著劑層之方法，舉例而言可採用：將前述黏著劑組成物塗佈於經剝離處理之分離件等，並將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層後，轉印至第1或第2光學構件之方法；或者將前述黏著劑組成物塗佈於第1或第2光學構件，並將聚合溶劑等乾燥去除而於第1或第2光學構件上形成黏著劑層之方法等來製作。另，於塗佈黏著劑時可適度地另外添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。
經剝離處理之分離件宜使用聚矽氧剝離襯材。於所述襯材上塗佈本發明之接著劑組成物並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，使黏著劑乾燥之方法可視目的採用適宜且適切的方法。宜使用將上述塗布膜進行過熱乾燥之方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更宜為50℃~180℃，尤宜為70℃~170℃。將加熱溫度設定為上述範圍，可獲得具有優異黏著特性之黏著劑。
乾燥時間可適當採用適宜的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分鐘，更宜為5秒~10分鐘，尤宜為10秒~5分鐘。
又，可於第1或第2光學構件表面形成錨固層、或施行電暈處理、電漿處理等之各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可對黏著劑層表面施行易接著處理。
前述黏著劑層之形成方法可採用各種方法。具體而言，可舉出例如輥塗佈、接觸輥塗佈、凹版塗佈、逆塗佈、輥刷、噴塗佈、浸漬輥塗佈、棒塗佈、刮刀塗佈、空氣刮刀塗佈、簾式塗佈、唇塗佈、利用模塗機等的擠壓式塗佈法等方法。
黏著劑層的厚度無特別限制，例如為1~100μm左右。宜為2~50μm，較宜為2~40μm，更宜為5~35μm。
當前述黏著劑層露出時，也可利用經剝離處理的片材(分離件)保護黏著劑層直到可供實際應用前。
＜薄膜層＞ 又，本發明之光學機能層可舉含色素之薄膜層，且前述薄膜層可由含有薄膜形成用之基底聚合物及色素之組成物形成。用來形成薄膜層之基底聚合物的材料可舉例與後述用以構成透明保護薄膜之材料相同之材料。尤其前述材料宜使用三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)等。薄膜層可適宜使用接著劑、黏著劑等來應用於第1光學構件、第2光學構件。
形成含色素之薄膜層的方法可採用各種方法。例如於使前述樹脂材料顆粒溶解於溶劑時，可混合色素調製出組成物後，將該組成物進行澆鑄或擠製來製造薄膜層。此時，可以適宜厚度成形薄膜層。調製前述組成物時可適宜摻混添加劑。
前述薄膜層之厚度並無特別限制，與黏著劑層同樣，例如為1~100μm左右。宜為2~50μm，較宜為2~40μm，更宜為5~35μm。
＜光學構件＞ 本發明可使用各種光學構件。光學構件例如可舉分離件、偏光薄膜、相位差薄膜、亮度提升薄膜、玻璃板等。
前述分離件之構成材料可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯及聚酯薄膜等塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、發泡片、金屬箔及其等之積層體等之適當薄片體等，但從表面平滑性優異之觀點來看，適宜使用塑膠薄膜。
該塑膠薄膜只要為可保護前述光學機能層(尤為黏著劑層)之薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯醇薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚戊二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-乙酸乙酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度通常為1~500μm，且宜為5~200μm，又以5~100μm左右為佳。對前述分離件亦可視需要進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系脫模劑、二氧化矽粉等實行脫模及防污處理，及施行塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更提高自前述光學機能層(尤為黏著劑層)剝離之剝離性。
前述偏光薄膜一般會使用於偏光件之單面或兩面具有透明保護薄膜者。
偏光件並無特別限定，可使用各種偏光件。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並進行單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。該等之中以由聚乙烯醇系薄膜與碘等的二色性物質構成之偏光件較適宜。該等偏光件之厚度無特別限制，一般在80μm左右以下。
將聚乙烯醇系薄膜用碘染色並經單軸延伸的偏光件可藉由例如將聚乙烯醇系薄膜浸漬於碘的水溶液中來進行染色，並延伸成原長的3~7倍來製成。亦可視需要浸漬於亦可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，又或可於延伸後以碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
又，偏光件可使用厚度10μm以下的薄型偏光件。從薄型化觀點來說，該厚度在1~7μm為宜。這種薄型偏光件因厚度參差較少，視辨性較佳，且尺寸變化較少故耐久性優異，而且在作為偏光薄膜的厚度上亦能力求薄型化，就此等觀點來看較為理想。
薄型偏光件代表性地可列舉記載於日本專利特開昭51-069644號公報、或日本專利特開2000-338329號公報、WO2010/100917號公報手冊、PCT/JP2010/001460號的說明書、或日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書的薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包含有將聚乙烯醇系樹脂(以下，也稱PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸的步驟與染色的步驟之製法製得。若為該製法，則即使PVA系樹脂層很薄，因其被延伸用樹脂基材支持著，故可在不因延伸造成斷裂等不良狀況下延伸。
作為前述薄型偏光膜，在包含有在積層體之狀態下延伸的步驟與染色的步驟之製法中，就可高倍率地延伸來提高偏光性能之觀點來看，較理想的是利用如WO2010/100917號公報手冊、PCT/JP2010/001460之說明書、或是日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書中所記載之包含有在硼酸水溶液中延伸之步驟的製法所製得者，特別理想的是利用如日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書中所記載之包含有在硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸之步驟的製法所製得者。
作為構成透明保護薄膜的材料，可使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、抗濕性、等向同性等優異之熱可塑性樹脂。作為該種熱可塑性樹脂之具體例，可舉如三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及其等之混合物。此外，在偏光件的單面，透明保護薄膜是藉由接著劑層而貼合，而在另一面，透明保護薄膜可使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸乙酯系、丙烯酸胺甲酸乙酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。透明保護薄膜中亦可含有1種以上任意的適當添加劑。添加劑可舉如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量在50重量%以下時，會有無法充分發揮熱可塑性樹脂原有的高透明性等之虞。
前述透明保護薄膜之不接著偏光件的面上，可設置硬塗層、抗反射層、抗黏著層、擴散層乃至防眩層等機能層(表面層)。
只要偏光薄膜之總厚度為100μm以下，透明保護薄膜之厚度並無特別限制，舉例而言可為10~90μm左右。宜為15~60μm，更宜為20~50μm。
用於前述偏光件與透明保護薄膜的貼合之接著劑只要在光學上是透明的，則可無特別限制地使用水系、溶劑系、熱熔膠系、自由基硬化型、陽離子硬化型之各種形態的接著劑，但水系接著劑或自由基硬化型接著劑較適宜。
前述玻璃板可使用應用於光學構件之各種類者。前述玻璃板包含撓性玻璃板。前述玻璃之厚度宜為15~150μm左右。前述玻璃之構成材料並無特別限定，可舉SiO2 、Al2 O3 、B2 O3 、MgO、CaO、SrO、BaO、Na2 O、Li2 O等。該等材料可單獨使用，亦可併用2種以上，並可含有其他成分。
本發明之第1光學構件係使用前述光學構件中透氧度為1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下者。第1光學構件之透氧度宜為0.8[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下，且以0.6[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下為佳，0.5[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下更佳。又，第2光學構件亦與第1光學構件一樣，透氧度宜為1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下。
前述光學構件之透氧度可依材料、厚度等而定。光學構件之透氧度具體上係依實施例之記載來測定。
作為透氧度可滿足1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下之分離件，於前述中宜為聚乙烯醇薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等。又，該薄膜之厚度只要為可滿足前述透氧度之厚度即無特別限制，由處置性之觀點而言，通常可使用1~500μm者，且較佳為1~200μm者。
又，透氧度可滿足1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下之偏光薄膜例如可舉使用有聚乙烯醇系偏光件者。聚乙烯醇系偏光件之厚度只要為可滿足前述透氧度之厚度即無特別限制而可使用具有前述厚度之物，而由薄型化之觀點通常可使用1~10μm之物。
＜液晶面板＞ 前述本發明之附有光學機能層之光學構件可適用於形成液晶面板時。例如，於使用本發明之附有光學機能層之光學構件的光學機能層為黏著劑層的附黏著劑層之光學構件時，該附黏著劑層之光學構件(例如兩面附分離件之無基材之黏著片)的黏著劑層可適宜用於將偏光薄膜貼合於液晶單元以形成液晶面板時。又，使用偏光薄膜作為光學構件時，可將附黏著劑層之偏光薄膜貼合於液晶單元之至少任一面來形成液晶面板。本發明之附黏著劑層之光學構件的黏著劑層或附黏著劑層之偏光薄膜可適宜用於液晶單元之視辨側。
液晶單元舉例而言可使用TN型或STN型、π型、VA型及IPS型等任意類型，但本發明之液晶面板適宜使用IPS型式之液晶單元。
液晶面板之形成，除了前述偏光薄膜之外，亦可適用其他光學層。所述光學層並無特別限定，但舉例而言可於液晶單元之視辨側及/或背面側使用1層或2層以上之諸如反射板、半透射板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜及亮度提升薄膜等會被使用於液晶面板之形成的光學層。
＜液晶顯示裝置＞ 液晶顯示裝置係使用上述液晶面板，並視需要適當組裝照明系統等構成零件並組入驅動電路等來形成。此外，於形成液晶顯示裝置時，可在適當位置上配置1層或2層以上之諸如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光件等適當零件。又，可形成諸如於照明系統中使用背光件或反射板者等適當之液晶顯示裝置。 實施例
以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。至於，各例中之份及%皆為重量基準。以下，未特別規定之室溫放置條件全部為23℃且65%RH。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量的測定＞ (甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)是利用GPC(凝膠滲透層析法)來測定。針對Mw/Mn亦同樣進行測定。 ・分析裝置：Tosoh(東曹)公司製，HLC-8120GPC ・管柱：Tosoh公司製、G7000HXL +GMHXL +GMHXL ・管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm 計90cm ・管柱溫度：40℃ ．流量：0.8mL/min ・注入量：100μL ・溶析液：四氫呋喃 ・檢測器：示差折射計(RI) ・標準試料：聚苯乙烯
＜透氧度之測定＞ 使用MOCON公司製透氧率測定裝置 OX-TRAN，於23℃、0%RH之條件下依循JIS K 7126-2來求得。
＜光學構件＞ PVA：使用聚乙烯醇薄膜(Kuraray公司製之商品名PE4500)。透氧度小於0.02[cm3 /(m2. 24h・atm)]。 PET：使用聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(三菱樹脂公司製之商品名MRF38CK)。透氧度為0.29[cm3 /(m2. 24h・atm)]。 PMMA：使用聚甲基丙烯酸甲酯薄膜。透氧度為5[cm3 /(m2. 24h・atm)]。 COP：使用環狀烯烴薄膜(日本ZEON公司製之商品名ZEONOR ZF16)。透氧度為652[cm3 /(m2. 24h・atm)]。 玻璃：使用厚度1000μm之玻璃板(松浪玻璃工業公司製 鈉玻璃)。透氧度小於0.02[cm3 /(m2. 24h・atm)](低於測定極限)。
此外，上述PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯薄膜)係將旭化成CHEMICAL(股)公司製之商品名DELPET投入單軸擠製機進行熔融混合並通過T型模而形成薄膜。將製得之擠製薄膜以延伸溫度240℃沿長度方向及寬度方向分別同時進行雙軸延伸2倍(面倍率4.0)而製得厚度40μm之薄膜。延伸速度於長度方向及寬度方向皆為10%/秒。經上述方式而製得上述PMMA。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物之調製＞ 將含有100份之丙烯酸丁酯、0.01份之丙烯酸2-羥乙酯以及5份之丙烯酸的單體混合物饋入具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中。並且，相對於100份之前述單體混合物，將作為聚合引發劑之0.1份之2,2’-偶氮雙異丁腈與100份之乙酸乙酯一同饋入，並一邊緩慢攪拌一邊將氮氣導入以進行氮置換後，使燒瓶內之液溫保持於55℃附近進行8小時之聚合反應，調製出重量平均分子量(Mw)180萬、Mw/Mn＝4.1之丙烯酸系聚合物的溶液(固體成分濃度30重量%)。
實施例1 (調製黏著劑組成物) 相對於上述製出之丙烯酸系聚合物溶液的固體成分100份，摻混下述物質而製得黏著劑組成物： 0.3份之苯甲醯基過氧化物(日本油脂公司製之商品名NYPER BMT)、 0.6份之異氰酸酯系交聯劑(Tosoh公司製之商品名Coronate L)、及 0.1份之四氮雜卟啉系色素(山本化成公司製之商品名PD-320：於波長595nm具有極大吸收波長)。
(附黏著劑層之光學構件之製作) 將前述黏著劑組成物用灑佈器均勻塗敷於經聚矽氧系剝離劑處理過之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜之剝離基材(三菱樹脂公司製 MRF38CK)的表面，並以155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，而於前述基材表面形成厚20μm之黏著劑層。於所製得之黏著劑層的另一面亦貼合前述剝離基材而製得兩面具有剝離基材之黏著劑片。
接著，從前述黏著劑片的單面剝離前述剝離基材後，於露出之黏著劑層面貼合前述玻璃作為第2光學構件。從另一單面亦剝離前述剝離基材後，於露出之黏著劑層面貼合前述PVA作為第1光學構件，並將製得之物作為樣本。
(褪色之評估) 對該樣本測定透射率(初始)後，於85℃之恆溫槽放置24小時後返回至室溫(23℃)後再測定透射率(24小時後)。 從前述透射率求出透射率之變化率=透射率(24小時後)/透射率(初始)×100(%)。 透射率之變化率越小可謂褪色越少。
＜透射率之測定＞ 透射率之測定係使用附積分球之分光透射率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)而測定。透射率之測定係於樣本在23℃之狀態下進行。
實施例2~3、比較例1~2 除了將實施例1中將樣本調製時所用第1、第2光學構件變更成如表1所示外，依與實施例1相同方式而製出附黏著劑層之光學構件。
[表1]
實施例之透射率之變化率小而無確認到褪色。 另一方面，比較例之透射率之變化率大而確認到褪色。
A‧‧‧光學機能層
B1‧‧‧第1光學構件
B2‧‧‧第2光學構件
(s)‧‧‧分離件
(p)‧‧‧偏光薄膜
圖1係示意顯示本發明附有光學機能層之光學構件之概略的截面圖。 圖2係示意顯示本發明附有光學機能層之光學構件之一實施形態的截面圖。 圖3係示意顯示本發明附有光學機能層之光學構件之一實施形態的截面圖。

Claims (8)

  1. 一種附有光學機能層之光學構件，其特徵在於具有含色素之光學機能層、以及位於前述光學機能層之兩面的第1光學構件及第2光學構件，並且， 至少前述第1光學構件之透氧度為1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下。
  2. 如請求項1之附有光學機能層之光學構件，其中前述第1光學構件係分離件。
  3. 如請求項1之附有光學機能層之光學構件，其中前述第1光學構件包含聚乙烯醇系偏光件。
  4. 如請求項1至3中任一項之附有光學機能層之光學構件，其中前述第2光學構件之透氧度為1[cm3 /(m2. 24h・atm)]以下。
  5. 如請求項3之附有光學機能層之光學構件，其中前述第2光學構件係分離件。
  6. 如請求項1至5中任一項之附有光學機能層之光學構件，其中前述色素於波長區470~510nm及波長區570~610nm中之至少任一區具有極大吸收波長。
  7. 如請求項1至6中任一項之附有光學機能層之光學構件，其中前述色素係四氮雜卟啉系色素。
  8. 如請求項1至7中任一項之附有光學機能層之光學構件，其含有相對於形成前述光學機能層之樹脂層的基底聚合物100重量份為0.01~5重量份的前述色素。
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