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TWI691565B - 附黏著劑層之偏光薄膜及液晶顯示裝置 - Google Patents

附黏著劑層之偏光薄膜及液晶顯示裝置 Download PDF

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TWI691565B
TWI691565B TW107142743A TW107142743A TWI691565B TW I691565 B TWI691565 B TW I691565B TW 107142743 A TW107142743 A TW 107142743A TW 107142743 A TW107142743 A TW 107142743A TW I691565 B TWI691565 B TW I691565B
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TW
Taiwan
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adhesive layer
polarizing film
polarizer
meth
film
Prior art date
Application number
TW107142743A
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TW201925404A (zh
Inventor
中村恒三
王鵬
麥可 威爾奇
鄭世俊
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
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Publication date
Application filed by 日商日東電工股份有限公司 filed Critical 日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種附黏著劑層之偏光薄膜，該附黏著劑層之偏光薄膜可有助於影像顯示裝置之廣色域化，且可抑制亮度降低並具優異耐久性。 本發明之附黏著劑層之偏光薄膜具備：偏光件與配置於該偏光件之至少單側的黏著劑層；該偏光件與該黏著劑層之距離為25μm以下；該黏著劑層於580nm~610nm之範圍的波長帶區域具有吸收峰，且該黏著劑層包含通式(I)或通式(II)所示化合物X。

Description

附黏著劑層之偏光薄膜及液晶顯示裝置
本發明係有關於一種附黏著劑層之偏光薄膜及液晶顯示裝置。
影像顯示裝置等中，依據其影像形成方式，於液晶單元之兩面配置偏光元件為不可或缺的，且一般係貼附有偏光薄膜。將上述偏光薄膜貼附於液晶單元時，通常係使用黏著劑。又，通常為了降低光的損失，偏光薄膜與液晶單元之接著會使用黏著劑將各個材料密著。在所述情況下，一般會使用在偏光薄膜之單面預先設有黏著劑層而構成的附黏著劑層之偏光薄膜，因其具有在使偏光薄膜固著時毋須經乾燥步驟等優點。
近年來，對影像顯示裝置要求亮度、鮮豔度(即廣色域化)，而有機EL顯示裝置(OLED)備受矚目，從而對液晶顯示裝置亦同樣尋求廣色域化。作為使液晶顯示裝置廣色域化之方法，舉例而言已提出如下方法：透過含有於特定波長之範圍中顯示吸收極大波長的色素之黏著劑層，將偏光薄膜積層於液晶單元上(專利文獻1、2)。然而，在以往之方法中，有因黏著劑層吸收光而發生的亮度降低之問題、含有色素的黏著劑層會隨時間褪色之耐久性問題等。
先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利特開2011-039093號公報 專利文獻2：日本專利特開2014-092611號公報
發明概要 發明欲解決之課題 本發明是為了解決上述以往之課題而成者，其主要目的在於提供一種附黏著劑層之偏光薄膜，該附黏著劑層之偏光薄膜可有助於影像顯示裝置之廣色域化，且可抑制亮度降低並具優異耐久性。 用以解決課題之手段
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜具備：偏光件與配置於該偏光件之至少單側的黏著劑層；該偏光件與該黏著劑層之距離為25μm以下；該黏著劑層於580nm~610nm之範圍的波長帶區域具有吸收峰，且該黏著劑層包含下述通式(I)或通式(II)所示化合物X： [化學式1]
Figure 02_image001
式(I)中，R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或是 R1 與R2 形成由5或6個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R3 、R4 、R5 、R6 、R7 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或是 R2 與R3 形成由5~7個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R1 、R4 、R5 、R6 、R7 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或是 R5 與R6 形成由5或6個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R1 、R2 、R3 、R4 、R7 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或是 R6 與R7 形成由5~7個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或是 R1 與R2 形成由5或6個碳原子所構成之飽和環狀骨架、R5 與R6 形成由5或6個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R3 、R4 、R7 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或者， R2 與R3 形成由5~7個碳原子所構成之飽和環狀骨架、R6 與R7 形成由5~7個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R1 、R4 、R5 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基； 式(II)中，R4 及R8 分別獨立為氫原子或碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基。 在一實施形態中，上述偏光件為聚乙烯醇系偏光件。 在一實施形態中，上述偏光件與上述黏著劑層係直接積層。 在一實施形態中，上述偏光件之透氧度為1[cm3 /(m2 ・24h・atm)]以下。 在一個實施形態中，上述黏著劑層的厚度為25μm以下。 根據本發明之另一面向，提供一種影像顯示裝置。該影像顯示裝置具備上述附黏著劑層之偏光薄膜。
發明效果 根據本發明，可提供一種附黏著劑層之偏光薄膜，該附黏著劑層之偏光薄膜可有助於影像顯示裝置之廣色域化，且可抑制亮度降低並具優異耐久性。
用以實施發明之形態 以下說明本發明之較佳實施形態，惟本發明不受該等實施形態限定。
A.附黏著劑層之偏光薄膜 圖1係本發明之一實施形態之附黏著劑層之偏光薄膜的概略截面圖。本實施形態之附黏著劑層之偏光薄膜100具備：偏光件10；與黏著劑層20，其配置於偏光件10之至少單側。偏光件10與黏著劑層20之距離x為25μm以下。上述黏著劑層於580nm~610nm之範圍的波長帶區域具有吸收峰。所述黏著劑層可藉由使黏著劑層含有預定之色素而製得。
本發明中，係使用後述之特定色素(通式(I)或(II)所示色素)，使上述黏著劑層選擇性吸收特定波長範圍(580nm~610nm)的光，並抑制其在該特定波長範圍以外的波長範圍中進行不需要的吸收，藉此可製得可有助於影像顯示裝置之廣色域化及高亮度化的附黏著劑層之偏光薄膜。只要使用本發明之附黏著劑層之偏光薄膜，即使不使用高成本之技術(有機EL技術、量子點技術)，仍可使影像顯示裝置顯著地廣色域化。且，令偏光件與黏著劑層之距離x在25μm以下，可抑制氧從側面侵入，而可抑制色素褪色(分解)，從而可歷時性穩定地維持廣色域化。本發明的成果之一係可將耐久性低的上述色素使用於光學機能薄膜。另外，氧對主面之侵入會被偏光件(代表上為由聚乙烯醇所構成之偏光件)以及基材或被黏著體抑制。
偏光件與黏著劑層之距離x宜為10μm以下，5μm以下較佳，1μm以下尤佳。若為所述範圍內，本發明之效果便更明顯。
圖2係本發明之一實施形態之附黏著劑層之偏光薄膜的概略截面圖。本實施形態之附黏著劑層之偏光薄膜100’中，偏光件10與黏著劑層20係直接積層(亦即距離x為0)。若為所述構成，本發明之效果則特別明顯。
圖3係本發明之另一實施形態之附黏著劑層之偏光薄膜的概略截面圖。本實施形態之附黏著劑層之偏光薄膜100’’中，偏光件10與黏著劑層20之間有配置其他層30。其他層30可為單層亦可為多層。其他層30之總厚度相當於上述距離x。其他層之總厚度宜為25μm以下，較宜為10μm以下，更宜為5μm以下，尤宜為1μm以下。
在一實施形態中係如圖2及圖3所示，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜中，於偏光件10之與黏著劑層20相反之側配置有保護薄膜40。保護薄膜亦可配置在偏光件的兩側。
在一實施形態中係如圖2及圖3所示，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜中，於黏著劑層20之與偏光件10相反之側配置有基材50。在一實施形態中，作為基材50係使用分離件，用以在附黏著劑層之偏光薄膜供於使用之前的期間保護黏著劑層而配置。在另一實施形態中，基材50可使用玻璃薄膜。具備玻璃薄膜之附黏著劑層之偏光薄膜中，玻璃薄膜可發揮保護材之功能，有用於作為配置於影像顯示裝置之視辨側的偏光薄膜。且，若使用可撓性玻璃薄膜，則可將所述偏光薄膜以捲狀提供，而可期提升影像顯示裝置之製造效率。且，若以上述方式配置玻璃薄膜，則可製得黏著劑層之耐久性特別優異的附黏著劑層之偏光薄膜。又另一實施形態中，基材50亦可為相位差薄膜等之光學薄膜。基材50不限定於上述形態，亦可為例如任意且適當的樹脂薄膜。
A-1.黏著劑層 如上述，上述黏著劑層於580nm~610nm之範圍的波長帶區域具有吸收峰。只要形成所述黏著劑層，即可製得可有助於影像顯示裝置之廣色域化及高亮度化的附黏著劑層之偏光薄膜。此外，吸收光譜可利用分光光度計(股份有限公司日立High-Technologies製，製品名「U-4100」)測定。
上述黏著劑層在波長580nm~610nm中之最大吸收峰的吸光度Amax 、與在波長545nm之吸光度A545 的比(A545 /Amax )宜為0.13以下，更宜為0.12以下，且0.11以下更佳，0.1以下尤佳。依上所述，只要形成在波長545nm中吸光度小的黏著劑層，即可吸收在色彩表現上不需要的光，而可製得可有助於影像顯示裝置之廣色域化的附黏著劑層之偏光薄膜。又，由於不易吸收來自光視效能高的545nm左右之光源的發光，因此可減少亮度降低之情形。
上述黏著劑層之位於波長580nm~610nm之範圍內的吸收峰之半值寬度宜為35nm以下，且30nm以下更佳，25nm以下又更佳，20nm以下尤佳。只要在所述範圍內，即可製得可有助於影像顯示裝置之廣色域化的附黏著劑層之偏光薄膜。
在一實施形態中，上述黏著劑層於530nm~570nm之範圍內不具有吸收峰。更具體而言，上述黏著劑層於530nm~570nm之範圍內不具有吸光度在0.1以上的吸收峰。只要形成所述黏著劑層，即可製得可有助於影像顯示裝置之廣色域化的附黏著劑層之偏光薄膜。
在一實施形態中，上述黏著劑層更於440nm~510nm之範圍的波長帶區域具有吸收峰。即，在本實施形態中，上述黏著劑層於440nm~510nm及580nm~610nm之範圍的波長帶區域具有吸收峰。只要為所述構成，即可良好地防止紅色光與綠色光混色、以及綠色光與藍色光混色。只要將依所述方式構成之附黏著劑層之偏光薄膜應用於影像顯示裝置，即可使影像顯示裝置廣色域化，而可獲得明亮且鮮豔的畫質。如上所述具有2個以上之吸收峰的黏著劑層可藉由使用多種色素來製得。
黏著劑層在吸收峰下之透射率宜為0%~80%，更宜為0%~70%。若為所述範圍內，本發明之上述效果便更明顯。
上述黏著劑層的可見光透射率宜為30%~90%，且較宜為30%~80%。只要在所述範圍內，即可製得可在抑制亮度降低的同時使影像顯示裝置廣色域化的附黏著劑層之偏光薄膜。
黏著劑層的厚度宜為1μm~100μm，2μm~50μm較佳，5μm~35μm更佳。在一實施形態中，黏著劑層的厚度為25μm以下。只要在所述範圍內，即可較佳防止氧從黏著劑層端部侵入。
上述黏著劑層可由含有基底聚合物及色素的黏著劑組成物形成。
(基底聚合物) 基底聚合物種類並無特別限制，例如可舉橡膠系聚合物、(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、胺甲酸酯系聚合物、乙烯基烷基醚系聚合物、聚乙烯醇系聚合物、聚乙烯基吡咯啶酮系聚合物、聚丙烯醯胺系聚合物、纖維素系聚合物等各種聚合物。上述黏著劑組成物係含有基底聚合物作為主成分。主成分係指黏著劑組成物所含之總固體成分中含量比率最多的成分，舉例而言係指黏著劑組成物所含之總固體成分中佔超過50重量%(較佳為70重量%)之成分。
在一實施形態中，基底聚合物可使用(甲基)丙烯酸系聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物因具有優異的光學透明性，可顯示適宜的濡濕性、凝集性及接著性之黏著特性，且耐候性及耐熱性佳，故為適宜。
在一實施形態中，上述(甲基)丙烯酸系聚合物含有以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元。此外，(甲基)丙烯酸酯意指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。(甲基)丙烯酸烷基酯可舉例如具有碳數為1~18(宜為3~9)之直鏈狀或支鏈狀烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯。(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用1種，也可組合多種使用。
(甲基)丙烯酸烷基酯可採用如(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等含有芳香族環之(甲基)丙烯酸烷基酯。該等(甲基)丙烯酸烷基酯由黏著特性、耐久性、調整相位差、調整折射率等觀點來看較佳。
為了改善接著性及耐熱性，亦可於上述(甲基)丙烯酸系聚合物之中，藉由共聚來導入1種以上具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和雙鍵之聚合性官能基的共聚單體。這類的共聚單體之具體例可舉如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯及(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等含羥基之單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸等含羧基之單體；馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基之單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基之單體等。
又，作為改質目的之共聚單體之例亦可舉如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸-N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺、N-丙烯醯基
Figure 107142743-A0304-12-01
啉等琥珀醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺或N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等等。
並且，作為改質單體(共聚單體)亦可使用乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌
Figure 107142743-A0304-12-02
、乙烯基吡
Figure 107142743-A0304-12-02
、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基
Figure 107142743-A0304-12-03
唑、乙烯基
Figure 107142743-A0304-12-01
啉、N-乙烯基羧酸醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己內醯胺等乙烯基系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之丙烯酸系單體；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或2-甲氧基乙基丙烯酸酯等丙烯酸酯系單體等等。更可列舉異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。
此外，上述以外之共聚單體還可舉如含有矽原子之矽烷系單體等。作為矽烷系單體，可列舉例如3-丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷等。
又，作為共聚單體，也可使用三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物等的具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之多官能性單體，或在聚酯、環氧、胺甲酸酯等的骨架上附加2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等之不飽和雙鍵作為與單體成分相同的官能基的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，源自共聚單體的構成單元的含有比率宜為0重量份~20重量份，0.1重量份~15重量份較佳，0.1重量份~10重量份更佳。
在一實施形態中，共聚單體可使用含羥基之單體及/或含羧基之單體。該等共聚單體在黏著劑組成物含有交聯劑時會成為其與交聯劑的反應點。由於含羥基之單體、含羧基之單體等在分子間與交聯劑之反應性佳，故為了提升所獲得之黏著劑層的凝集性及耐熱性，宜使用該等單體。就重工性之觀點而言，含羥基之單體較為理想，而就可兼具耐久性與重工性之觀點而言，則以含羧基之單體較為理想。
使用含羥基之單體作為上述共聚單體時，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，源自含羥基之單體的構成單元的含有比率宜為0.01重量份~15重量份，0.03重量份~10重量份較佳，0.05重量份~7重量份更佳。使用含羧基之單體為上述共聚單體時，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，源自含羧基之單體的構成單元的含有比率宜為0.05重量份~10重量份，0.1重量份~8重量份較佳，0.2重量份~6重量份更佳。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量例如重量平均分子量為50萬~300萬。若考慮耐久性尤其是耐熱性，宜使用重量平均分子量為70萬~270萬(較佳為80萬~250萬)之(甲基)丙烯酸系聚合物。另，重量平均分子量係指以GPC(凝膠滲透層析法；Gel Permeation Chromatography)測定且以聚苯乙烯換算所算出之值。
上述(甲基)丙烯酸系聚合物之製造，可適當選擇溶液聚合、UV聚合等放射線聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知之製造方法。所得(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
在溶液聚合中，聚合溶劑可使用例如乙酸乙酯、甲苯等。溶液聚合例如可在氮等非活性氣體氣流下添加聚合引發劑，並在50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件下進行。
用於自由基聚合之聚合引發劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定，可適當選用。此外，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合引發劑、鏈轉移劑的使用量及反應條件來控制，並可因應其等之種類來適當地調整其使用量。
作為自由基聚合引發劑，可列舉例如2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥公司製，VA-057)等之偶氮系引發劑、過硫酸鉀、過硫酸銨等之過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧化二碳酸酯、二(4-三級丁基環己基)過氧化二碳酸酯、二-二級丁基過氧化二碳酸酯、過氧化新癸酸三級丁酯、過氧化三甲基乙酸三級己酯、過氧化三甲基乙酸三級丁酯、二月桂醯基過氧化物、二-正辛醯基過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物、二苯甲醯基過氧化物、過異丁酸三級丁酯、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷、三級丁基過氧化氫、過氧化氫等的過氧化物系引發劑、過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等過氧化物與還原劑組合而成之氧化還原系引發劑等，但不受限於該等。上述自由基聚合引發劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用。
自由基聚合引發劑之含量宜相對於單體100重量份為0.005重量份~1重量份，較宜為0.02重量份~0.5重量份。
作為鏈轉移劑，可列舉例如月桂基硫醇、環氧丙基硫醇、巰乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用。鏈轉移劑之含量相對於單體100重量份，宜為0.1重量份以下。
又，作為用於進行乳化聚合時的乳化劑，可列舉例如月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二基苯磺酸鈉、聚氧伸乙基烷基醚硫酸銨、聚氧伸乙基烷基苯基醚硫酸鈉等之陰離子系乳化劑，聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基苯基醚、聚氧伸乙基脂肪酸酯、聚氧伸乙基-聚氧伸丙基嵌段聚合物等之非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用亦可將2種以上併用。
並且，以反應性乳化劑來說，導入丙烯基、烯丙基醚基等自由基聚合性官能基之乳化劑，具體而言可舉例如Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上皆為第一工業製藥公司製)、ADEKA REASOAP SE10N(旭電化工公司製)等。由於反應性乳化劑在聚合後會組入聚合物鏈，故耐水性良好而為佳。乳化劑的使用量相對於單體成分總量100重量份為0.3~5重量份，而由聚合穩定性及機械穩定性來看宜為0.5~1重量份。
(色素) 上述黏著劑層包含1種以上色素。
在一實施形態中，上述黏著劑層包含下述通式(I)或通式(II)所示化合物X作為色素。化合物X係於580nm~610nm之範圍的波長帶區域具有吸收峰之化合物。 [化學式2]
Figure 02_image003
式(I)中，R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或是 R1 與R2 形成由5或6個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R3 、R4 、R5 、R6 、R7 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或是 R2 與R3 形成由5~7個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R1 、R4 、R5 、R6 、R7 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或是 R5 與R6 形成由5或6個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R1 、R2 、R3 、R4 、R7 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或是 R6 與R7 形成由5~7個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R1 、R2 、R3 、R4 、R5 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或是 R1 與R2 形成由5或6個碳原子所構成之飽和環狀骨架、R5 與R6 形成由5或6個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R3 、R4 、R7 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基；或者， 令R2 與R3 形成由5~7個碳原子所構成之飽和環狀骨架、R6 與R7 形成由5~7個碳原子所構成之飽和環狀骨架且R1 、R4 、R5 及R8 分別獨立為氫原子、鹵素原子(宜為Cl)、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基。 式(II)中，R4 及R8 分別獨立為氫原子或碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基。
含有R1 與R2 而形成之上述飽和環狀骨架(碳數：5或6)及含有R5 與R6 而形成之上述飽和環狀骨架(碳數：5或6)亦可具有取代基。該取代基可舉如碳數1~4之烷基。又，含有R2 與R3 而形成之上述飽和環狀骨架(碳數：5~7)及含有R6 與R7 而形成之上述飽和環狀骨架(碳數：5~7)亦可具有取代基。該取代基可舉如碳數1~4之烷基。
在一實施形態中，R4 及/或R8 具有苯環或萘環作為取代基。
上述式(I)或(II)所示具體之化合物X可舉如下述通式(I-1)~(I-27)或(II-1)所示化合物。關於(I-1)~(I-23)係列出於脂肪族聚碳酸酯混合化合物X而調製出樹脂組成物後，測定由該樹脂組成物構成之薄膜的吸光度而取得的吸收峰；關於(I-24)~(I-27)及(II-1)則係列出於聚甲基丙烯酸甲酯樹脂混合化合物X而調製出樹脂組成物後，測定由該樹脂組成物構成之薄膜的吸光度而取得之吸收峰。 [化學式3]
Figure 02_image005
[化學式4]
Figure 02_image007
[化學式5]
Figure 02_image009
[化學式6]
Figure 02_image011
[化學式7]
Figure 02_image013
[化學式8]
Figure 02_image015
相對於上述基底聚合物100重量份，上述化合物X的含量宜為0.01重量份~50重量份為佳，0.05重量份~10重量份較佳，0.1重量份~5重量份更佳，0.1重量份~1重量份尤佳。
上述化合物X具有容易受水分、氧等影響而變質(容易褪色)之特徵，通常為難以作為光學構件之添加物使用的化合物，但根據本發明，即使形成含有化合物X之黏著劑層，仍可防止該黏著劑層歷時性劣化。
上述黏著劑層亦可進一步含有於440nm~510nm之範圍的波長帶區域具有吸收峰之化合物。所述化合物可使用如蒽醌系、肟系、萘醌系、醌茜系、氧雜菁系、偶氮系、
Figure 107142743-A0304-12-04
Figure 107142743-A0304-12-05
系或酞青素系化合物(染料)。
相對於上述基底聚合物100重量份，於440nm~510nm之範圍的波長帶區域具有吸收峰之化合物的含量宜為0.01重量份~50重量份，且0.01重量份~25重量份更佳。
(添加劑) 上述黏著劑組成物亦可含有交聯劑。作為交聯劑，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉出如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結之物。多價金屬原子可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中可共價鍵結或配位鍵結之原子可舉如氧原子等，有機化合物則可舉如烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
異氰酸酯系交聯劑可舉例如甲苯二異氰酸酯、氯伸苯基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、經氫化之二苯甲烷二異氰酸酯等異氰酸酯單體，及該等異氰酸酯單體與三羥甲丙烷等進行加成而成的異氰酸酯化合物或三聚異氰酸酯化物、縮二脲型化合物，還有與聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等行加成反應而成的胺甲酸酯預聚物型異氰酸酯等等。尤佳為聚異氰酸酯化合物，且為選自於由六亞甲基異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯所構成群組中之1種或源自於其的聚異氰酸酯化合物。在此，選自於由六亞甲基異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯所構成群組中之1種或源自於其的聚異氰酸酯化合物包括：六亞甲基異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、多元醇改質六亞甲基異氰酸酯、多元醇改質氫化伸二甲苯基二異氰酸酯、三聚物型氫化伸二甲苯基二異氰酸酯及多元醇改質異佛酮二異氰酸酯等。所例示之聚異氰酸酯化合物因其與羥基之反應迅速進行(尤其是使聚合物中所含之酸、鹼基如同觸媒般)，特別有助於加速交聯而較為理想。
過氧化物系交聯劑由作業性及穩定性之觀點，宜使用1分鐘半衰期溫度為80℃~160℃之過氧化物，且使用為90℃~140℃之過氧化物更佳。上述過氧化物系交聯劑可舉如二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧二碳酸二-二級丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧新癸酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧化三甲基乙酸三級己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧化三甲基乙酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二正辛醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、過異丁酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，尤從交聯反應效率佳之觀點來看，以二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等適於使用。此外，過氧化物之半衰期係表示過氧化物之分解速度的指標，意指過氧化物之殘存量變成一半時的時間。有關用以在任意時間達半衰期的分解溫度、及在任意溫度下的半衰期時間等，係記載於製造商目錄等之中，例如記載於日本油脂股份有限公司的「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。
相對於上述基底聚合物100重量份，上述交聯劑之含有比率宜為20重量份以下，且0.01重量份~20重量份更佳，而0.03重量份~10重量份又更佳。另外，若上述交聯劑多於20重量份，則耐濕性會不足，而有形成易於在可靠性試驗等中發生剝落的黏著劑層之虞。
上述黏著劑組成物亦可含有矽烷耦合劑。藉由使用矽烷耦合劑可提高耐久性。矽烷耦合劑可舉例如3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑；3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷耦合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷耦合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷耦合劑等。上述矽烷耦合劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用。
相對於上述基底聚合物100重量份，矽烷耦合劑的含有比率宜為0.001重量份~5重量份，0.01重量份~1重量份較佳，0.02重量份~1重量份更佳，0.05重量份~0.6重量份最佳。只要在所述範圍內，即可形成耐久性優異、並且適度保持對於液晶單元等光學構件之接著力的黏著劑層。
上述黏著劑組成物亦可含有聚醚改質聚矽氧。聚醚改質聚矽氧舉例而言可使用公開於日本專利特開2010-275522號公報之物。
上述黏著劑組成物中亦可含有任意且適當之其他添加劑。例如可因應使用用途適當添加著色劑、顏料等粉體，染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗老化劑、抗氧化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機填充劑、金屬粉、粒狀、箔狀物等。
雖是利用上述黏著劑組成物來形成具有色素之黏著劑層，但在形成黏著劑層時，宜調整交聯劑的添加量，並充分考慮交聯處理溫度及交聯處理時間之影響。交聯處理溫度與交聯處理時間可依據所使用的交聯劑來調整。交聯處理溫度宜為170℃以下。又，交聯處理可在黏著劑層的乾燥步驟時之溫度下實行，也可以在乾燥步驟後另外設置交聯處理步驟來實行。又，關於交聯處理時間，可考慮生產性與作業性進行設定，通常為0.2~20分鐘左右，宜為0.5~10分鐘左右。
形成上述黏著劑層之方法，舉例而言可採用以下方法等來製作：將上述黏著劑組成物塗佈於分離件上，並將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層後，將其轉印至偏光薄膜上之方法；及，將上述黏著劑組成物塗佈於偏光薄膜上，並將聚合溶劑等乾燥去除而於偏光件薄膜上形成黏著劑層之方法。另，於塗佈黏著劑時可適當另外添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。
分離件宜於使用已施行過剝離處理的分離件，例如宜於使用聚矽氧剝離襯材。
上述黏著劑組成物之塗佈方法可採用任意且適當之方法。具體而言，可舉出例如輥塗佈、接觸輥塗佈、凹版塗佈、逆塗佈、輥刷、噴塗佈、浸漬輥塗佈、棒塗佈、刮刀塗佈、氣刀塗佈、簾式塗佈、唇塗佈、利用模塗機等的擠壓式塗佈法等方法。
使黏著劑組成物乾燥之方法可視目的採用適宜且適當的方法。宜使用將塗佈膜進行過熱乾燥之方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更宜為50℃~180℃，尤宜為70℃~170℃。將加熱溫度設定在上述範圍內，可獲得具有優異黏著特性之黏著劑。乾燥時間可採用任意且適當的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分鐘，更宜為5秒~10分鐘，尤宜為10秒~5分鐘。
又，亦可於偏光件薄膜表面形成錨固層(例如厚度0.5~2μm左右)、或施行電暈處理、電漿處理等之各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可對黏著劑層表面施行易接著處理。
A-2.偏光件及保護薄膜 上述偏光件可採用任意且適當的偏光件。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等之二色性物質並進行單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。該等中，使聚乙烯醇系薄膜吸附碘等二色性物質並經單軸延伸之偏光件(亦稱聚乙烯醇系偏光件)的偏光二色比高而尤佳。且，聚乙烯醇系薄膜偏光件由透氧度低之方面來看乃有利。偏光件之透氧度宜為1[cm3 /(m2 ・24h・atm)]以下。偏光件之厚度宜為0.5μm~80μm。此外，透氧度可在23℃、0%RH之條件下依循JISK7126-2來測定。
使聚乙烯醇系薄膜吸附碘並經單軸延伸的偏光件代表上係藉由將聚乙烯醇浸漬於碘的水溶液中來進行染色，並延伸成原長的3~7倍來製成。延伸可在染色後進行，亦可邊染色邊進行延伸，又亦可進行延伸之後再染色。除延伸、染色外，亦可施行例如膨潤、交聯、調整、水洗、乾燥等處理來製作。譬如，在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗，不僅可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢或抗黏結劑，還可使聚乙烯醇系薄膜膨潤，從而防止染色不均等。此外，聚乙烯醇系薄膜可為單層薄膜(經一般薄膜成形之薄膜)，亦可為塗佈形成於樹脂基材上之聚乙烯醇系樹脂層。從單層聚乙烯醇系薄膜製作偏光件之技術乃本業界皆知。從塗佈形成於樹脂基材上之聚乙烯醇系樹脂層作偏光件的技術例如記載於日本特開2009-098653號公報中。
偏光件宜在波長380nm~780nm的任一波長下顯示吸收二色性。偏光件之單體透射率宜為38%~45.5%，較宜為40%~45%。
偏光件的偏光度宜為99.9%以上，較宜為99.95%以上。
上述保護薄膜可採用任意且適當的薄膜。作為所述薄膜之主成分的材料之具體例，可舉出三乙醯纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降莰烯系、聚烯烴系及乙酸酯系等之透明樹脂等。又，亦可舉出丙烯酸系、胺甲酸酯系、丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他亦可舉出例如矽氧烷系聚合物等之玻璃質系聚合物。並且，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料，例如可以使用含有在側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基的熱可塑性樹脂與在側鏈具有取代或非取代之苯基以及腈基的熱可塑性樹脂之樹脂組成物，例如可舉出具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組成物。上述聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。積層偏光件與保護薄膜可採用任意且適當的黏著劑層或接著劑層。黏著劑層代表上係以丙烯酸系黏著劑形成。接著劑層代表上係以聚乙烯醇系接著劑形成。
A-3.其他層 作為配置於偏光件與黏著劑層之間的其他層，可因應用途形成具有任意適當功能之層。該其他層可舉例如上述錨固層、適用於偏光件的保護薄膜、接著劑層、不含色素的另一黏著劑層、相位差層、光散射層、發光層、底塗層、液晶層等。
A-4.基材 如上述，在一實施形態中，作為基材係使用分離件，用以在附黏著劑層之偏光薄膜供於使用之前的期間保護黏著劑層而配置。
分離件之構成材料可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯及聚酯薄膜等塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、發泡片、金屬箔及其等之積層體等之薄片體等。其中，由表面平滑性優異之方面來看，適宜使用塑膠薄膜。
該塑膠薄膜只要為可保護上述黏著劑層之薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯醇薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。在一實施形態中，分離件可使用聚乙烯醇薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、已施行過蒸鍍鋁之薄膜、聚丙烯腈薄膜或乙烯乙烯醇薄膜。該等薄膜由透氧度低之方面來看乃有利。
上述分離件的厚度例如為5~200μm(宜為5~100μm、較佳為10μm~100μm、更佳為25μm~75μm)。上述分離件亦可視需要業經利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系脫模劑、矽粉等進行的脫模及防污處理、及塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對上述分離件之表面進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更提高自上述黏著劑層剝離之剝離性。
如上述，在一實施形態中，基材可使用玻璃薄膜。
上述玻璃薄膜可採用任意且適當之物。上述玻璃薄膜依組成作分類的話，例如可舉鈉鈣玻璃、硼酸玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、石英玻璃等。又，根據鹼成分作分類可舉如無鹼玻璃、低鹼玻璃。上述玻璃的鹼金屬成分(例如，Na2 O、K2 O、Li2 O)的含量宜為15重量%以下，10重量%以下更佳。
上述玻璃薄膜之厚度為100μm以下，宜為80μm以下，較宜為50μm以下，更宜為40μm以下，尤宜為は35μm以下。上述玻璃薄膜之厚度的下限宜為5μm以上。
上述玻璃薄膜在波長550nm下的透光率宜為85%以上。上述玻璃薄膜在波長550nm下的折射率宜為1.4~1.65 。
上述玻璃薄膜的密度宜為2.3g/cm3 ~3.0g/cm3 ，2.3g/cm3 ~2.7g/cm3 更佳。若為在上述範圍內的玻璃薄膜，則可製得附黏著劑層之偏光薄膜。
上述玻璃薄膜的成形方法可採用任意且適當的方法。代表上來說，上述玻璃薄膜可將含有二氧化矽或氧化鋁等主原料、芒硝或氧化銻等消泡劑及碳等還原劑之混合物在1400℃~1600℃之溫度下熔融，成形為薄板狀後進行冷卻而製得。上述玻璃薄膜的成形方法可舉如流孔下引法、熔融法、浮製玻板法等。由該等方法成形成板狀的玻璃薄膜，為了薄板化或提高平滑性，可因應需求用氫氟酸等溶劑進行化學研磨。
上述玻璃薄膜可直接使用市售之玻璃薄膜，或亦可將市售之玻璃薄膜研磨成所期望之厚度後使用。市售之玻璃薄膜可舉例如康寧公司製「7059」、「1737」或「EAGLE2000」、AGC公司製「AN100」、NH Techno Glass公司製「NA-35」、Nippon Electric Glass公司製「OA-10」、SCHOTT公司製「D263」或「AF45」等。
上述基材之透氧度宜為1[cm3 /(m2 ・24h・atm)]以下，且以0.8[cm3 /(m2 ・24h・atm)]以下為佳，0.6[cm3 /(m2 ・24h・atm)]以下更佳，0.5[cm3 /(m2 ・24h・atm)]以下尤佳。只要在所述範圍內，即可製得黏著劑層之耐久性佳的附黏著劑層之偏光薄膜。上述透氧度可透過構成基材之材料、基材之厚度等調整。此外，透氧度可在23℃、0%RH之條件下依循JISK7126-2來測定。
B.液晶面板 在一實施形態中，上述附黏著劑層之偏光薄膜係透過該附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層貼合於液晶單元之至少一面而形成液晶面板。本發明之附黏著劑層之偏光薄膜適宜使用於液晶單元之視辨側。
液晶單元舉例而言可使用TN型或STN型、π型、VA型及IPS型等任意類型，但本發明之液晶面板適宜使用IPS模式之液晶單元。
液晶面板除了上述偏光薄膜之外，亦可具備其他光學層。其他光學層並無特別限定，但可舉例如反射板或半透射板、相位差板(包含λ/2板、λ/4板等波長板)、視角補償薄膜及亮度提升薄膜等。
C.液晶顯示裝置 液晶顯示裝置係使用上述液晶面板，並視需要適當組裝照明系統等構成零件並組入驅動電路等來形成。此外，於形成液晶顯示裝置時，可在適當位置上配置1層或2層以上之諸如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光件等適當零件。又，可形成於照明系統中使用背光件或反射板者等適當之液晶顯示裝置。
實施例 以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。又，各特性之測定方法如以下所述。
[評估] (1)測定(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量 (甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)是利用GPC(凝膠滲透層析法)來測定。針對Mw/Mn亦同樣進行測定。 ・分析裝置：Tosoh(東曹)公司製，HLC-8120GPC ・管柱：Tosoh公司製，G7000HXL+GMHXL+GMHXL ・管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm 計90cm ・管柱溫度：40℃ ．流量：0.8mL/min ・注入量：100μL ・溶析液：四氫呋喃 ・檢測器：示差折射計(RI) ・標準試料：聚苯乙烯
(2)測定透氧度 使用MOCON公司製透氧率測定裝置 OX-TRAN，於23℃、0%RH之條件下依循JISK 7126-2來求得。
(3)褪色評估 將樣本裁切成縱50mm×橫26mm之試驗片後，使用掃描器(Canon公司製之商品名「 PIXUS MX923)」將正面及端部之狀態(初始)讀取成影像。接著，將樣本放置於80℃之恆溫槽15小時施行耐久性試驗後取出，並使其回到室溫(23℃)後再用相同之掃描器將樣本之正面及端部之狀態(15小時)讀取成影像。將上述投入試驗前(初始)與放置15小時後之照片二值化。從試驗片之周邊端部起朝中央依規測定周邊端部有明確掉色之部分的最長處之距離，並將其評估為掉色(褪色進行距離：mm)。
(4)透射率變化 使用附積分球之分光透射率測定器(村上色彩技術研究所之Dot-3c)測定上述(3)之投入耐久性試驗前的透射率及放置24小時後的透射率，而求得透射率之變化率。
[實施例1] ＜製作偏光薄膜＞ 為了製作薄型偏光層，首先將非晶性PET基材上成膜有厚9μm之PVA層的積層體，在延伸溫度130℃下利用空中輔助延伸生成延伸積層體，接著將延伸積層體利用染色生成著色積層體後，在延伸溫度65度下利用硼酸水中延伸將著色積層體與非晶性PET基材一體地進行延伸，以使總延伸倍率成為5.94倍，而生成出包含厚4μm之PVA層的光學薄膜積層體。而可生成包含用以構成高功能偏光層之厚度4μm之PVA層的光學薄膜積層體，該光學薄膜積層體之成膜於非晶性PET基材之PVA層的PVA分子經所述2段延伸而高度定向，且藉染色而吸附的碘以多碘離子錯合物之形式於一方向高度定向。並且，一邊於該光學薄膜積層體之偏光層表面塗佈聚乙烯醇系接著劑，一邊貼合經皂化處理過之厚40μm的丙烯酸樹脂薄膜(透氧度為5[cm3 /(m2. 24h・atm)])後，剝離非晶性PET基材而製出使用有薄型偏光件(透氧度低於0.02[cm3 /(m2. 24h・atm)])之偏光薄膜。
＜(甲基)丙烯酸系聚合物之調製＞ 將含有100重量份之丙烯酸丁酯、0.01重量份之丙烯酸2-羥乙酯以及5重量份之丙烯酸的單體混合物饋入具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中。並且，相對於100重量份之上述單體混合物，將作為聚合引發劑之0.1重量份之2,2’-偶氮雙異丁腈與100重量份之乙酸乙酯一同饋入，並一邊緩慢攪拌一邊將氮氣導入以進行氮取代後，使燒瓶內之液溫保持於55℃附近進行8小時之聚合反應，調製出重量平均分子量(Mw)180萬、Mw/Mn＝4.1之丙烯酸系聚合物的溶液(固體成分濃度30重量%)。
(調製黏著劑組成物) 相對於上述所製造出之丙烯酸系聚合物溶液的固體成分100重量份，摻混過氧化苯甲醯(日本油脂公司製之商品名NYPER BMT)0.3重量份、異氰酸酯系交聯劑(Tosoh公司製之商品名Coronate L)1重量份、下述通式(I-20)所示方酸化合物0.25重量份，而製得黏著劑組成物。 此外，通式(I-20)所示方酸化合物係以以下方法合成。 ＜方酸化合物之合成＞ 依” M. Beller et. al., J. Am. Chem. Soc., 2013, 135(30), 11384-11388)”所記載之方法合成1-苯-1,4,5,6-四氫環戊[b]吡咯。 於乙醇5mL中混合1-苯-1,4,5,6-四氫環戊[b]吡咯300mg與方酸80mg，並於80℃下攪拌2小時。之後，令其冷卻至室溫，並濾取出產物。將濾取出之產物以乙醇洗淨，並於70℃下進行減壓乾燥，而製得197mg之方酸化合物。並以矽膠層析法進行純化，而製得120mg之方酸化合物。 [化學式9]
Figure 02_image017
(製作附黏著劑層之偏光薄膜) 將上述黏著劑組成物直接用灑佈器均勻塗敷於上述薄型偏光薄膜之偏光件(PVA層)之面上，並以155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘後，於上述偏光件表面形成厚度20μm之具有色素之黏著劑層(吸收極大波長：594nm)，而製得附黏著劑層之偏光薄膜。將所製得之附黏著劑層之偏光薄膜供於上述評估(3)及(4)。將結果列於表1。
[實施例2] 除了在偏光件與黏著劑層之間形成厚度25μm的另一黏著劑層外，以與實施例1相同方式製得附黏著劑層之偏光薄膜。 另一黏著劑層係將相對於實施例1中所調製出之丙烯酸系聚合物溶液的固體成分100重量份加入過氧化苯甲醯(日本油脂公司製之商品名NYPER BMT)0.3重量份、及異氰酸酯系交聯劑(Tosoh公司製之商品名Coronate L)1重量份而製得之黏著劑組成物，塗敷至PET基材而形成塗敷層後，將該塗敷層轉印至偏光件而形成。 將所製得之附黏著劑層之偏光薄膜供於上述評估(3)及(4)。將結果列於表1。
[比較例1] 除了將另一黏著劑層的厚度設75μm外，以與實施例2相同方式製得附黏著劑層之偏光薄膜。將所製得之附黏著劑層之偏光薄膜供於上述評估(3)及(4)。將結果列於表1。
[表1]
Figure 02_image019
由實施例及比較例可明顯得知，根據本發明，令偏光件與黏著劑層之距離為25μm以下，可製得一種不僅具備具有特定吸收特性之黏著劑層，耐久性亦佳的附黏著劑層之偏光薄膜。
[參考例1] 使用四氮雜卟啉系色素(山本化成公司製，商品名「PD-320」：於波長595nm具有極大吸收波長)取代通式(I-20)所示方酸化合物，而於偏光件與黏著劑層之間形成厚度69μm的另一黏著劑層，除此之外依與實施例1相同方式製得附黏著劑層之偏光薄膜。此外，使另一黏著劑層之組成與實施例2相同。 將所製得之附黏著劑層之偏光薄膜供於下述評估後，褪色評估結果得6.9mm。 由此結果可知，在使用以往之色素的情況下，即使偏光件至黏著劑層之距離較長，其與使用方酸化合物的情況相比，色素褪色的程度仍較小。 ＜參考例之褪色評估＞ 將樣本裁切成縱50mm×橫26mm之試驗片後，使用掃描器(Canon公司製之商品名「 PIXUS MX923)」將正面及端部之狀態(初始)讀取成影像。接著，將樣本放置於85℃之恆溫槽24小時施行耐久性試驗後取出，並使其回到室溫(23℃)後再用相同之掃描器將樣本之正面及端部之狀態(24小時後)讀取成影像。將上述投入試驗前(初始)與放置24小時後之照片二值化。從試驗片之周邊端部起朝中央依規測定周邊端部有明確掉色之部分的最長處之距離，並將其評估為掉色(褪色進行距離：mm)。
產業上之可利用性 本發明之附黏著劑層之偏光薄膜可適用於液晶顯示裝置等影像顯示裝置。
10‧‧‧偏光件 20‧‧‧黏著劑層 30‧‧‧其他層 40‧‧‧保護薄膜 50‧‧‧基材 100、100’、100’’‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜 x‧‧‧偏光件與黏著劑層之距離
圖1係本發明之一實施形態之附黏著劑層之偏光薄膜的概略截面圖。 圖2係本發明之一實施形態的附黏著劑層之偏光薄膜的概略截面圖。 圖3係本發明之一實施形態的附黏著劑層之偏光薄膜的概略截面圖。
10‧‧‧偏光件
20‧‧‧黏著劑層
100‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜
x‧‧‧偏光件與黏著劑層之距離

Claims (6)

  1. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，具備：偏光件與配置於該偏光件之至少單側的黏著劑層；該偏光件與該黏著劑層之距離為25μm以下；該黏著劑層於580nm~610nm之範圍的波長帶區域具有吸收峰，且該黏著劑層包含下述通式(I)所示化合物X：
    Figure 107142743-A0305-02-0047-2
    Figure 107142743-A0305-02-0047-3
    S-CH3．．．(b)式(I)中，R2與R3形成由5~7個碳原子所構成之飽和環狀骨架，R6與R7形成由5~7個碳原子所構成之飽和環狀骨架，且R1、R4、R5及R8分別獨立為氫原子、鹵素原子、碳數1以上且20以下之取代或非取代之烷基、式(a)所示取代基或式(b)所示取代基。
  2. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述偏光件為聚乙烯醇系偏光件。
  3. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述偏光件與前述黏著劑層係直接積層。
  4. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其 中前述偏光件之透氧度為1[cm3/(m2‧24h‧atm)]以下。
  5. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層之厚度為25μm以下。
  6. 一種影像顯示裝置，具備如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜。
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