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TW201816425A - 光學薄膜、相位差薄膜及偏光板 - Google Patents

光學薄膜、相位差薄膜及偏光板 Download PDF

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TW201816425A
TW201816425A TW106133464A TW106133464A TW201816425A TW 201816425 A TW201816425 A TW 201816425A TW 106133464 A TW106133464 A TW 106133464A TW 106133464 A TW106133464 A TW 106133464A TW 201816425 A TW201816425 A TW 201816425A
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polyester resin
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本多榮一
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佐竹雄一郎
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日商三菱瓦斯化學股份有限公司
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Abstract

本發明之目的係提供光彈性係數小(光學特性優良)、耐熱性及透明性優良之相位差薄膜等光學薄膜、及含有該薄膜而得之偏光板。係由包含下列通式(1)表示之單元(A)之聚酯樹脂構成的光學薄膜。 [化1]

Description

光學薄膜、相位差薄膜及偏光板
本發明係關於光學薄膜、相位差薄膜及偏光板。
相位差薄膜主要是液晶顯示器、有機電致發光(以下有時也稱為「有機EL」。)顯示器之組成構件，例如用來作為視角擴大薄膜或圓偏光板之組成構件。就對於相位差薄膜要求之特性而言，可列舉透明性、適當之相位差展現性、相位差之波長分散性等光學特性，除此之外，還可列舉為了安定地展現這些光學特性的低光彈性係數及耐熱性。
液晶顯示器係以液晶單元、偏光板及相位差薄膜等構成。反射型及透射型液晶顯示器係例如相位差薄膜係與偏光板組合並製成圓偏光板來利用。圓偏光板係將射入之無偏光的光，藉由偏光板僅取出直線偏光的部分，並以相位差薄膜轉換成圓偏光並射出。
有機EL顯示器為了改善在室外等外部光線下的可視性，而使用圓偏光板。有機EL之顯示裝置係於電極使用了反射率高的金屬材料，有時會發生外部光線於電極之界面反射，而畫面之對比降低或映入等問題。藉由使用圓偏光板來抑制外部光線的反射，防止如此之不良現象的產生。
就相位差薄膜而言，例如有人使用：由芳香族聚碳酸酯樹脂構成之薄膜、或由包含脂環族二羧酸成分及脂環族二醇成分之聚酯樹脂構成的薄膜(專利文獻1及2等)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2007-197651號公報 [專利文獻2]日本特開2007-224281號公報
[發明所欲解決之課題] 然而，以往之由芳香族聚碳酸酯樹脂構成之光學薄膜雖然具有耐熱性及機械強度，但有著光彈性係數大等問題。例如，作為相位差薄膜，與偏光板貼合而使用於液晶顯示裝置、或有機EL顯示裝置時，會產生下述問題：偏光板或薄膜本身的熱收縮、熱膨張或吸水膨張等導致對於相位差薄膜施加應力，其結果產生相位差斑且無法保持畫質之均勻性等。
此外，一般由含有芳香環之聚酯樹脂構成的光學薄膜係光彈性係數大，光學特性差。結晶性高時，有時也有成形時白化會進行，透明性受損之情事。另一方面，由全脂肪族聚酯樹脂構成之光學薄膜有耐熱性差等問題。因為此等理由，以往之由聚酯樹脂構成的光學薄膜就耐熱性、透明性及光學特性之觀點仍無法說足以令人滿意。
本發明係以上述習知技術具有之問題點為鑑而產生者，目的係提供光彈性係數小(光學特性優良)、耐熱性及透明性優良之相位差薄膜等光學薄膜、及包含該薄膜而獲得之偏光板。 [解決課題之手段]
本案發明者們為了解決上述進行一系列深入研究之結果，發現由含有特定之脂環族結構作為構成單元之聚酯樹脂構成的光學薄膜可解決上述課題，而完成了本發明。
亦即，本發明如同下述。
[1] 一種光學薄膜，由含有下列通式(1)表示之單元(A)之聚酯樹脂構成。
【化1】
該通式(1)中，R1 為氫原子、CH3 或C2 H5 ，R2 及R3 各自獨立地為氫原子或CH3 ，n為0或1。
[2] 如[1]之光學薄膜，其中，該通式(1)中之n為1。
[3] 如[1]或[2]之光學薄膜，其中，該通式(1)中之R1 、R2 、及R3 為氫原子。
[4] 如[1]~[3]中任一項之光學薄膜，其中，該聚酯樹脂符合下列(1)及(2)且該光學薄膜符合下列(3)： (1)該聚酯樹脂之玻璃轉移溫度為90℃以上； (2)該聚酯樹脂之降溫時之結晶熱為5J/g以下； (3)該光學薄膜之光彈性係數之絕對值為40×10-12 Pa-1 以下。
[5] 一種相位差薄膜，係含有如[1]~[4]中任一項之光學薄膜而成。
[6] 一種圓偏光板或橢圓偏光板，係含有如[1]~[5]中任一項之光學薄膜而成。 [發明之效果]
根據本發明，可提供光彈性係數小，耐熱性及透明性優良之相位差薄膜等光學薄膜，及含有該薄膜而得之偏光板。
以下，針對用以實施本發明之形態(以下，簡稱為「本實施形態」。)進行詳細地說明。以下之本實施形態係為了說明本發明之示例，並沒有將本發明限定為以下內容之含意。本發明可在其要旨之範圍內適當地變形並實施。
[聚酯樹脂] 本實施形態之光學薄膜係由包含下列通式(1)表示之單元(A)(以下也稱為「單元(A)」、「構成單元(A)」。)之聚酯樹脂構成。此外，該樹脂因應需求含有二醇單元(B)(以下也稱為「單元(B)」、「構成單元(B)」。)、及二羧酸或其酯形成性衍生物單元(C)(以下也稱為「單元(C)」、「構成單元(C)」。)。
【化2】
在上述通式(1)中，R1 係氫原子、CH3 或C2 H5 ，R2 及R3 各自獨立為氫原子或CH3 ，n為0或1。
由於如上述之組成，故本實施形態之光學薄膜係透明性、耐熱性及光學特性優良。其中，在本實施形態中，「耐熱性優良」係指藉由後述實施例所記載之方法測得之玻璃轉移溫度(Tg)足夠高之情事，「光學特性優良」係指藉由後述實施例記載之方法測得之光彈性係數之絕對值足夠低之情事。
通式(1)中，R1 宜為氫原子或CH3 ，R2 及R3 宜為氫原子。本實施形態中，考慮耐熱性之觀點，通式(1)中之R1 、R2 、及R3 係氫原子更佳。
上述通式(1)中，考慮更改善耐熱性之觀點，n宜為1。
本實施形態中，若考慮透明性、耐熱性及光學特性之平衡，構成單元(A)相對於聚酯樹脂所具有之全部構成單元之含量宜為10~95mol%。若上述含量為10mol%以上，會有可獲得充分良好之耐熱性及光學特性之傾向。此外，若上述含量為95mol%以下，因為可在確保良好之耐熱性及光學特性之狀態下使成形性改善故較為理想。考慮與上述同樣之觀點，單元(A)之含量宜為15~95mol%，更宜為20~95mol%。
本發明之光學薄膜之理想之態樣之一，係由均聚合聚酯樹脂構成，該均聚合聚酯樹脂係由構成單元(A)構成。
本發明之光學薄膜，由包含構成單元(A)、構成單元(B)及構成單元(C)之共聚合聚酯樹脂構成亦為理想之態樣之一。
就構成單元(B)而言，只要是來自二醇之單元便沒有特別之限定，就其具體例而言，可舉例如來自乙二醇、三亞甲基二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、二乙二醇、丙二醇、新戊二醇、1,3-環己烷二甲醇、1,4-環己烷二甲醇、1,2-十氫化萘二甲醇、1,3-十氫化萘二甲醇、1,4-十氫化萘二甲醇、1,5-十氫化萘二甲醇、1,6-十氫化萘二甲醇、2,7-十氫化萘二甲醇、四氫化萘二甲醇、降莰烷二甲醇、三環癸烷二甲醇、五環十五烷二甲醇、十氫-1,4:5,8-二甲橋萘二甲醇、降莰烷二醇、環己烷二醇、2,2'-雙(4-羥基環己基)丙烷、金剛烷二醇、十氫-1,4:5,8-二甲橋萘二醇、9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]茀、9,9-雙[4-(2-羥基丙氧基)苯基]茀、9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)-3-甲基苯基]茀、9,9-雙[4-(2-羥基丙氧基)-3-甲基苯基]茀、9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)-3,5-二甲基苯基]茀、9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)-3-苯基苯基]茀、9,9-雙[4-(2-羥基丙氧基)-3-苯基苯基]茀、9,9-雙[6-(2-羥基乙氧基)-2-萘基]茀、9,9-雙[6-(2-羥基丙氧基)-2-萘基]茀、9,9-雙(2-羥基乙基)茀、苯二甲醇、3,9-雙(1,1-二甲基-2-羥基乙基)-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷、1,4:3,6-二脫水-D-山梨醇、2,2,4,4-四甲基-1,3-環丁二醇等二醇之單元。
考慮可獲得良好之光學特性，構成單元(B)宜為來自脂肪族二醇或具有茀結構之二醇的單元。此外，關於來自具有上述茀結構之二醇的單元，更宜為具有茀結構且具有咔哚(cardo)結構。就如此之來自脂肪族二醇之單元而言，更宜為來自1,4-環己烷二甲醇、乙二醇、3,9-雙(1,1-二甲基-2-羥基乙基)-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷、1,4:3,6-二脫水-D-山梨醇、十氫-1,4:5,8-二甲橋萘二甲醇之單元。此外，就來自具有茀結構之二醇的單元而言，更宜為來自9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]茀、9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)-3-甲基苯基]茀、9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)-3-苯基苯基]茀之單元。此外，它們的光學異構體，為順式體、反式體、亦或是此等之混合物皆可，沒有特別之限定。
上述單元可單獨含有1種，也可含有2種以上之組合。
就構成單元(C)而言，只要是來自二羧酸或其酯形成性衍生物之單元即可，沒有特別之限定，就其具體例而言，可列舉來自對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、1,3-萘二羧酸、1,4-萘二羧酸、1,5-萘二羧酸、2,6-萘二羧酸、2,7-萘二羧酸、2-甲基對苯二甲酸、聯苯二羧酸、四氫化萘二羧酸等芳香族二羧酸及/或其衍生物的構成單元；來自琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、癸烷二羧酸、十二烷二羧酸、環己烷二羧酸、十氫化萘二羧酸、降莰烷二羧酸、三環癸烷二羧酸、五環十五烷二羧酸、3,9-雙(1,1-二甲基-2-羧基乙基)-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷、5-羧基-5-乙基-2-(1,1-二甲基-2-羧基乙基)-1,3-二烷、1,4:5,8-二甲橋十氫化萘二羧酸、金剛烷二羧酸、二聚酸等脂肪族二羧酸及/或其衍生物之單元；來自9,9-雙(羧基甲基)茀、9,9-雙(1-羧基乙基)茀、9,9-雙(2-羧基乙基)茀、9,9-雙(1-羧基丙基)茀、9,9-雙(2-羧基丙基)茀、9,9-雙(2-羧基-1-甲基乙基)茀、9,9-雙(2-羧基-1-甲基丙基)茀、9,9-雙(2-羧基丁基)茀、9,9-雙(2-羧基-1-甲基丁基)茀、9,9-雙(5-羧基戊基)茀等具有茀結構之二羧酸及/或其衍生物的單元。
就構成單元(C)而言，考慮可獲得良好之光學特性，宜為來自脂肪族二羧酸或其酯形成性衍生物之單元，或是來自具有茀結構之二羧酸或其酯形成性衍生物之單元。此外，關於上述來自具有茀結構之二羧酸或其酯形成性衍生物之單元，更宜為具有茀結構且具有咔哚結構。就來自脂肪族二羧酸或其酯形成性衍生物之單元而言，考慮透明性、耐熱性及光學特性之物性平衡的觀點，更宜為來自1,4-環己烷二羧酸二甲酯之單元。此外，就來自具有茀結構之二羧酸或其酯形成性衍生物的單元而言，考慮透明性、耐熱性及光學特性之物性平衡之觀點，更宜為來自9,9-雙(甲氧基羰基甲基)茀、9,9-雙(2-甲氧基羰基乙基)茀、9,9-雙(甲氧基羰基丙基)茀之單元。此外，它們的光學異構體，為順式體、反式體、亦或是此等的混合物皆可，沒有特別之限定。
上述單元可單獨含有1種，也可為含有2種以上之組合。
本實施形態中，聚酯樹脂除了含有單元(A)~(C)之外，還可含有羥基及羧酸或其酯形成性衍生物單元(A1)等其他單元。就單元(A1)而言，沒有特別之限定，可舉例如來自乙醇酸、乳酸、羥基丁酸、2-羥基異丁酸、羥基苯甲酸、6-羥基己酸、4-羥基環己烷羧酸等含氧酸及/或其衍生物的單元等。
本實施形態中，考慮確保充分之耐熱性的觀點，聚酯樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)只要有本發明之效果，則無特別之限定，宜為90℃以上，更宜為95℃以上，進一步宜為100℃以上。此外，上限値沒有特別之限定，例如為240℃。上述Tg可藉由後述之實施例中記載之方法進行測定。此外，上述Tg可藉由例如適當地調整聚酯樹脂之原料單體的共聚合比例等來調整至上述範圍。
在本實施形態中，考慮確保充分之透明性的觀點，聚酯樹脂之降溫時之結晶熱，只要有本發明之效果，則無特別之限定，宜為5J/g以下，更宜為1J/g以下，進一步宜為0.3J/g以下。此外，下限値沒有特別之限定，例如為0J/g。上述降溫時結晶熱可藉由後述之實施例記載之方法進行測定。此外，上述降溫時之結晶熱可藉由例如適當地調整聚酯樹脂之原料單體之共聚合比率等調整至上述範圍。
本實施形態中，考慮確保充分之光學特性的觀點，由聚酯樹脂構成之光學薄膜之光彈性係數之絕對值，只要有本發明之效果，則無特別之限定，宜為40×10-12 Pa-1 以下，更宜為35×10-12 Pa-1 以下，進一步宜為30×10-12 Pa-1 以下。其中，下限値沒有特別之限定，例如為0.01×10-12 Pa-1 。上述光彈性係數之絕對值可藉由後述之實施例記載之方法進行測定。此外，上述光彈性係數之絕對值，可藉由例如適當地調整聚酯樹脂之原料單體之共聚合比率等來調整至上述範圍。
進一步地，使用本實施形態之聚酯樹脂時，適宜實施添加抗氧化劑、脫模劑、紫外線吸收劑、流動性改質劑、成核劑、強化劑、染料、抗靜電劑或抗菌劑等公知之添加劑。
[聚酯樹脂之製造方法] 聚酯樹脂，可藉由將單元(A)予以均聚合，或將對應於單元(A)~(C)之各單體予以共聚合來獲得。以下針對對應於單元(A)之單體的製造方法進行說明。該單體例如下列通式(2)所示。
【化3】
上述通式(2)中，R1 係氫原子、CH3 或C2 H5 ，R2 及R3 各自獨立為氫原子或CH3 ，X為氫原子或碳數4以下之也可以有羥基的烴基。 式(2)中，R1 宜為氫原子或CH3 。R2 及R3 宜為氫原子。就上述烴基而言，雖然不限定為下列者，可舉例如甲基、乙基、丙基、丁基、乙烯基、2-羥基乙基、4-羥基丁基等。
本實施形態中，通式(2)表示之化合物，可將二環戊二烯或環戊二烯及具有官能基之烯烴作為原料，例如可藉由下述式(I)所示之路徑進行合成。
【化4】
式(I)中，R1 係氫原子、CH3 或C2 H5 ，R2 及R3 各自獨立為氫原子或CH3 ，X係氫原子或碳數4以下之也可以有羥基的烴基。
[式(I)中之通式(4)表示之碳數13~21之單烯烴的製造] 上述通式(4)表示之碳數13~21之單烯烴，可藉由例如進行具有官能基之烯烴與二環戊二烯之狄耳士-阿德爾反應(Diels-Alder reaction)等來製造。
就上述狄耳士-阿德爾反應中使用之具有官能基之烯烴的具體例而言，雖然沒有限定為以下者，可列舉甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸乙烯酯、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯、甲基丙烯酸-4-羥基丁酯、丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸乙烯酯、丙烯酸-2-羥基乙酯、丙烯酸-4-羥基丁酯、巴豆酸、巴豆酸甲酯、巴豆酸乙酯、3-甲基巴豆酸、3-甲基巴豆酸甲酯、3-甲基巴豆酸乙酯等，就理想之烯烴而言，可列舉甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯、丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸-2-羥基乙酯，就更理想之烯烴而言可列舉甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯。
另外，就上述狄耳士-阿德爾反應中使用之具有官能基之烯烴的例子而言，可列舉丙烯腈、甲基丙烯腈、丙烯醛、甲基丙烯醛。將此等烯烴作為原料時，可藉由例如經下述式(II)、式(III)所示之路徑等來製造通式(4')表示之單烯烴。
【化5】
式(II)中，R1 為氫原子或CH3 。
【化6】
式(III)中，R1 為氫原子或CH3 。
上述狄耳士-阿德爾反應中使用之二環戊二烯宜為高純度者，宜減低丁二烯、異戊二烯等之含量。二環戊二烯之純度宜為90%以上，更宜為95%以上。此外，二環戊二烯因為有在加熱條件下解聚成為環戊二烯(所謂的單環戊二烯)之傾向，故也可使用環戊二烯來代替二環戊二烯。此外，通式(4)表示之碳數13~21之單烯烴，據認為實質上係經由下述通式(7)表示之碳數8~16之單烯烴(第1階段狄耳士-阿德爾反應產物)生成，據認為生成之通式(7)之單烯烴係作為新的親二烯化合物(Dienophile)，供至與存在於反應系統內之環戊二烯(Diene)進行狄耳士-阿德爾反應(第2階段狄耳士-阿德爾反應)，生成通式(4)表示之碳數13~21之單烯烴。
考慮以上之觀點，例如在上述式(I)所示之反應路徑，藉由適當地控制第1階段狄耳士-阿德爾反應之反應條件，可選擇性地獲得式(4)表示之碳數13~21之單烯烴或式(7)表示之碳數8~16之單烯烴。
【化7】
式(7)中，R1 表示氫原子、CH3 或C2 H5 ，R2 及R3 各自獨立表示氫原子或CH3 ，X表示氫原子或碳數4以下之也可以有羥基的烴基。
考慮有效率地進行上述2階段之狄耳士-阿德爾反應，亦即選擇性地獲得式(4)表示之碳數13~21之單烯烴的觀點，在反應系統內存在有環戊二烯係為重要，故就反應溫度而言宜為100℃以上，更宜為120℃以上，進一步宜為130℃以上。另一方面，為了選擇性地獲得式(7)表示之碳數8~16之單烯烴，反應溫度宜未達180℃。其中，不管在任一情況，為了抑制高沸物質之副生成，宜於250℃以下之溫度進行反應。
藉由將如上述獲得之式(4)表示之碳數13~21之單烯烴供至後述氫甲醯化反應及還原反應，可獲得對應於式(1)中n=1之情況的單體(亦即，式(2)表示之化合物)。此外，藉由將如上述獲得之式(7)表示之碳數8~16之單烯烴供至同樣的氫甲醯化反應及還原反應，可獲得對應於式(1)中n=0之情況的單體(亦即，式(8)表示之化合物)。 此外，反應溶劑也可使用烴類或醇類、酯類等，宜為碳數6以上脂肪族烴類、環己烷、甲苯、二甲苯、乙苯、均三甲苯、丙醇、丁醇等。此外，因應需求可添加AlCl3 等公知之觸媒。
【化8】
上述式(8)中，R1 係氫原子、CH3 或C2 H5 ，R2 及R3 各自獨立為氫原子或CH3 ，X係氫原子或碳數4以下之也可以有羥基的烴基。
就上述狄耳士-阿德爾反應之反應方式而言，可採用利用槽型反應器等之批次式、將基質或基質溶液供給至反應條件下之槽型反應器的半批次式、於反應條件下使基質類流通於管型反應器之連續流通式等之各種反應方式。
上述狄耳士-阿德爾反應獲得之反應產物可直接用來作為後續之氫甲醯化反應的原料，也可藉由蒸餾、萃取、晶析等之方法純化後，供至後續步驟。
[式(I)中之(3)表示之碳數14~22之二官能性化合物的製造] 上述式(I)中之通式(3)表示之碳數14~22之二官能性化合物，可藉由例如使通式(4)表示之碳數13~21單烯烴與一氧化碳及氫氣在銠化合物、有機磷化合物之存在下進行氫甲醯化反應等來製造。
上述氫甲醯化反應使用之銠化合物，只要是與有機磷化合物形成錯合物，並在一氧化碳與氫之存在下展現氫甲醯化活性的化合物即可，其前驅物之形態沒有特別之限定。例如，可將乙醯丙酮二羰基銠(以下記載為Rh(acac)(CO)2 )、Rh2 O3 、Rh4 (CO)12 、Rh6 (CO)16 、Rh(NO3 )3 等觸媒前驅物質與有機磷化合物一起導入至反應混合物中，使反應容器內形成具有觸媒活性之銠金屬氫化羰基磷錯合物，也可預先製備銠金屬氫化羰基磷錯合物並將其導入至反應器內。就理想之具體例而言，可列舉使Rh(acac)(CO)2 在溶劑之存在下與有機磷化合物反應後，與剩餘之有機磷化合物一起導入至反應器，製成具有觸媒活性之銠-有機磷錯合物的方法。
根據本案發明者之研究，已知如通式(4)表示之具有分子量較大之內部烯烴的2階段狄耳士-阿德爾反應產物，藉由極少量之銠觸媒便可使其氫甲醯化。本氫甲醯化反應中銠化合物之使用量，相對於為氫甲醯化反應之基質的通式(4)表示之碳數13~21之單烯烴1莫耳，宜為0.1~60微莫耳，更宜為0.1~30微莫耳，進一步宜為0.2~20微莫耳，尤其宜為0.5~10微莫耳。銠化合物之使用量相對於碳數13~21之單烯烴1莫耳，少於60微莫耳時，在實際運用上，可評價為也可不設置銠錯合物之回收循環設備的水平。如上述，根據本實施形態，可減少關於回收循環設備之經濟上的負擔，可減低銠觸媒所花費之成本。
在本實施形態之氫甲醯化反應中，就和銠化合物形成氫甲醯化反應之觸媒的有機磷化合物而言，沒有特別之限定，可舉例如通式P(-Ra )(-Rb )(-Rc )表示之膦或P(-ORa )(-ORb )(-ORc )表示之亞磷酸酯(phosphite)。就Ra 、Rb 、Rc 之具體例而言，雖然不限定為以下者，可列舉以碳數1~4之烷基或烷氧基取代而得之芳基，或以碳數1~4之烷基或烷氧基取代而得之脂環族烷基等，適宜使用三苯基膦、亞磷酸三苯酯。有機磷化合物之使用量相對於銠化合物中之銠原子宜為300倍莫耳~10000倍莫耳，更宜為500倍莫耳~10000倍莫耳，進一步宜為700倍莫耳~5000倍莫耳，尤其宜為900倍莫耳~2000倍莫耳。有機磷化合物之使用量為銠原子之300倍莫耳以上時，有可充分確保為觸媒活性物質之銠金屬氫化羰基磷錯合物之安定性的傾向，就結果而言有確保良好之反應性的傾向。此外，有機磷化合物之使用量為銠原子之10000倍莫耳以下時，考慮能充分減低有機磷化合物所花費之成本的觀點較為理想。
上述氫甲醯化反應也可不使用溶劑來進行，藉由使用對於反應不活潑之溶劑可更適宜實施本發明。就氫甲醯化反應中可使用之溶劑而言，只要是可溶解通式(4)表示之碳數13~21之單烯烴、二環戊二烯或環戊二烯、上述銠化合物、及上述有機磷化合物者便沒有特別之限定。就具體例而言，雖然不限定為以下者，可列舉脂肪族烴、脂環族烴、芳香族烴等烴類；脂肪族酯、脂環族酯、芳香族酯等酯類；脂肪族醇、脂環族醇等醇類；芳香族鹵化物等溶劑。此等中適宜使用烴類，其中更適宜使用脂環族烴、芳香族烴。
就進行上述氫甲醯化反應時的溫度而言，宜為40℃~160℃，更宜為80℃~140℃。反應溫度為40℃以上時有可獲得充分之反應速度的傾向，有更進一步抑制為原料之單烯烴的殘留之傾向。此外，藉由使反應溫度為160℃以下，有可抑制來自原料單烯烴或反應產物之副產物之生成，並有效地防止反應結果降低的傾向。
進行本實施形態之氫甲醯化反應時，宜為在藉由一氧化碳(以下有時也記載為「CO」)及氫氣(以下有時也記載為「H2 」)氣體之加壓下進行反應。此時，也可將CO及H2 氣體各自獨立導入至反應系統內，或也能以預先製備之混合氣體之形式導入至反應系統內。導入至反應系統內之CO及H2 氣體的莫耳比(=CO/H2 )宜為0.2~5，更宜為0.5~2，進一步宜為0.8~1.2。CO及H2 氣體之莫耳比調整為上述範圍時，會有氫甲醯化反應之反應活性或為目的之醛的選擇率變得良好之傾向。因為導入至反應系統內之CO及H2 氣體會伴隨著反應的進行減少，故若利用預先製備之CO與H2 的混合氣體有時可簡單方便地控制反應。
就上述氫甲醯化反應之反應壓力而言，宜為1~12MPa，更宜為1.2~9MPa，進一步宜為1.5~5MPa。若使反應壓力為1MPa以上，有獲得充分之反應速度的傾向，且有可充分抑制為原料之單烯烴之殘留的傾向。此外，藉由使反應壓力為12MPa以下，因為不需要耐壓性能優良之昂貴的設備，就經濟方面有利。特別是以批次式或半批次式進行反應時，有必要在反應結束後排出CO及H2 氣體降壓，因為越低壓則CO及H2 氣體之損失越少，故就經濟方面有利。
就進行上述氫甲醯化反應時之反應方式而言，適宜為批次式反應或半批次式反應。就半批次式反應而言，可藉由將銠化合物、有機磷化合物、上述溶劑加至反應器，並進行以CO/H2 氣體所為之加壓或加熱等，使其達到上述反應條件後，將為原料之單烯烴或其溶液供給至反應器來進行反應。
上述氫甲醯化反應獲得之反應產物可直接作為後續之還原反應的原料使用，也可藉由例如蒸餾或萃取、晶析等純化後，供至後續步驟。
[式(2)表示之碳數14~22之化合物的製造] 上述式(I)中之通式(2)表示之碳數14~22的化合物，可藉由將通式(3)表示之碳數14~22的化合物，在具有氫化能力之觸媒及氫的存在下予以還原來進行製造。
上述還原反應，就具有氫化能力之觸媒而言，宜使用包含選自於由銅、鉻、鐵、鋅、鋁、鎳、鈷、及鈀構成之群組中之至少一種元素的觸媒。就更理想之觸媒而言，可列舉Cu-Cr觸媒、Cu-Zn觸媒、Cu-Zn-Al觸媒等，除此之外，還可列舉Raney-Ni觸媒、Raney-Co觸媒等，更宜為Cu-Cr觸媒、Raney-Co觸媒。
上述氫化觸媒之使用量，相對於為基質之通式(3)表示之碳數14~22之化合物，為1~100質量%，宜為2~50質量%，更宜為5~30質量%。使觸媒使用量成為此等之範圍，可適當地實施氫化反應。觸媒使用量為1質量%以上時，反應會充分地進行，就結果而言，有可充分地確保目標物之產率的傾向。此外，觸媒使用量為100質量%以下時，有供至反應之觸媒量與改善反應速度之效果的平衡良好的傾向。
上述還原反應之反應溫度宜為60~200℃，更宜為80℃~150℃。藉由使反應溫度為200℃以下，有抑制副反應或分解反應的發生，並能以高產率獲得目標物之傾向。此外，藉由使反應溫度為60℃以上，有可在適當的時間內結束反應，可避免生產性下降或目標物產率下降之傾向。
上述還原反應之反應壓力就氫分壓而言，宜為0.5~10MPa，更宜為1~5MPa。藉由使氫分壓為10MPa以下，有抑制副反應或分解反應的發生且能以高產率獲得目標物之傾向。此外，藉由使氫分壓為0.5MPa以上，有可在適當的時間結束反應，可避免生產性降低或目標物之產率降低的傾向。此外，可以使對於還原反應中不活潑的氣體(例如氮氣或氬氣)共存。
在上述還原反應中可使用溶劑。就還原反應中使用之溶劑而言，可列舉脂肪族烴類、脂環族烴類、芳香族烴類、醇類等，其中宜為脂環族烴類、芳香族烴類、醇類。就其具體例而言可列舉環己烷、甲苯、二甲苯、甲醇、乙醇、1-丙醇等。
就上述還原反應之反應方式而言，可採用利用槽型反應器等之批次式、將基質或基質溶液供給至反應條件下之槽型反應器的半批次式、於反應條件下使基質或基質溶液流通於填充了成型觸媒之管型反應器之連續流通式等之各種反應方式。
以上述還原反應獲得之反應產物可藉由例如蒸餾或萃取、晶析等進行純化。
就將本實施形態之通式(2)表示之化合物或式(8)表示之化合物作為對應於單元(A)之單體，並使其和對應於單元(B)~(C)之單體共聚合的方法而言，沒有特別之限定，可適用以往公知之聚酯的製造方法。可舉例如酯交換法、直接酯化法等之熔融聚合法、或溶液聚合法等。
在製造本實施形態之聚酯樹脂時，可使用通常之製造聚酯樹脂時使用的酯交換觸媒、酯化觸媒、聚縮合觸媒等。就此等之觸媒而言沒有特別之限定，可舉例如鋅、鉛、鈰、鎘、錳、鈷、鋰、鈉、鉀、鈣、鎳、鎂、釩、鋁、鈦、銻、鍺、錫等金屬的化合物(例如脂肪酸鹽、碳酸鹽、磷酸鹽、氫氧化物、氯化物、氧化物、醇化物)或金屬鎂等。此等可單獨使用或組合二種以上使用。就觸媒而言，宜為上述中之錳、鈷、鋅、鈦、鈣、銻、鍺、錫之化合物，更宜為錳、鈦、銻、鍺、錫之化合物。此等觸媒之使用量沒有特別之限定，就金屬成分而言的量相對於聚酯樹脂之原料，宜為1~1000ppm，更宜為3~750ppm，進一步宜為5~500ppm。
上述聚合反應之反應溫度取決於觸媒之種類、其使用量等，但通常選自從150℃至300℃的範圍，若考慮反應速度及樹脂之著色，宜為180℃~280℃。反應槽內之壓力宜從大氣環境下最後調整為1kPa以下，更宜為最後成為0.5kPa以下。
進行上述聚合反應時，根據期望也可添加磷化合物。就磷化合物而言，雖然沒限定為以下者，可舉例如磷酸、亞磷酸、磷酸酯、亞磷酸酯等。就磷酸酯而言，雖然沒限定為以下者，可舉例如磷酸甲酯、磷酸乙酯、磷酸丁酯、磷酸苯酯、磷酸二甲酯、磷酸二乙酯、磷酸二丁酯、磷酸二苯酯、磷酸三甲酯、磷酸三乙酯、磷酸三丁酯、磷酸三苯酯等。就亞磷酸酯而言，雖然沒限定為以下者，可舉例如亞磷酸甲酯、亞磷酸乙酯、亞磷酸丁酯、亞磷酸苯酯、亞磷酸二甲酯、亞磷酸二乙酯、亞磷酸二丁酯、亞磷酸二苯酯、亞磷酸三甲酯、亞磷酸三乙酯、亞磷酸三丁酯、亞磷酸三苯酯等。此等可單獨使用或組合二種以上使用。本實施形態之共聚合聚酯樹脂中的磷原子的濃度宜為1~500ppm，更宜為5~400ppm，進一步宜為10~200ppm。
此外，在製造本實施形態之聚酯樹脂時，可使用抗醚化劑、熱安定劑、光安定劑等之各種安定劑、聚合調整劑等。
本實施形態之聚酯樹脂中，在不損害本實施形態之目的之範圍，可添加抗氧化劑、光安定劑、紫外線吸收劑、塑化劑、增量劑、消光劑、乾燥調整劑、抗靜電劑、抗沉降劑、界面活性劑、流動改良劑、乾燥油、蠟類、填料、著色劑、補強劑、表面平滑劑、塗平劑、硬化反應促進劑、增黏劑等各種添加劑、成形輔助劑。
本實施形態之聚酯樹脂中，在不損害本實施形態所期望之效果的範圍，可製成併用了本實施形態之聚酯樹脂以外的樹脂而得之樹脂組成物。就如此之樹脂而言，沒有特別之限制，可舉例如選自於由本實施形態之聚酯樹脂以外之聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、聚醯胺樹脂、聚苯乙烯樹脂、環烯烴樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚合樹脂、氯乙烯樹脂、聚苯醚樹脂、聚碸樹脂、聚縮醛樹脂及甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚合樹脂構成之群組中之至少1種之樹脂。此等可使用各種公知者，可添加單獨1種或併用2種以上之樹脂組成物。
[光學薄膜及其製造方法] 就本發明之光學薄膜的製造方法而言，宜為厚度之均勻性優良，不產生凝膠、魚眼(fish eye)、刮痕等之方法及異物之含量少的方法，可舉例如公知之溶液澆鑄法、熔融擠製法、壓平(calendaring)法、熱壓製成形等。就薄膜之延伸方法而言也可使用公知之方法，可使用縱單軸、橫單軸、多段延伸、同時雙軸延伸等。 本發明之光學薄膜係透明性優良，霧度值宜為3%以下，全光線透射率宜為85%以上。延伸加工之延伸倍率可為任意之條件，宜為1.1~5倍，更宜為1.2~3倍。延伸溫度相對於玻璃轉移溫度(Tg)宜為Tg-30℃~Tg+50℃之範圍，更宜為Tg-20℃~Tg+30℃。光學薄膜之厚度沒有特別之限定，通常為1~250μm之範圍，宜為5~200μm，更宜為10~150μm，進一步宜為15~100μm之範圍。
[相位差薄膜] 使用本發明之光學薄膜作為相位差薄膜時，藉由以單軸延伸、雙軸延伸加工等來控制X軸、Y軸、Z軸方向之折射率，可改善視角。此外，也可使用多片來獲得期望之光學性質。例如藉由製作二分之一波長板與四分之一的波長板，並以適當之角度貼合，可形成寬頻帶四分之一波長薄膜。同樣地，藉由將二分之一波長板彼此以適當的角度貼合，也可形成寬頻帶二分之一的波長板。
[偏光板] 本發明之光學薄膜介隔黏著層、黏接層來貼合偏光板或偏光薄膜，可製成視角擴大薄膜、圓偏光板或橢圓偏光板。視角擴大薄膜可使用於液晶顯示裝置，圓偏光板係可作為抗反射薄膜，適合使用於有機或無機電致發光顯示裝置或元件、觸控面板、電漿顯示器、CRT、液晶顯示裝置等。此外，也可跟和本發明之光學薄膜不同之其他相位差薄膜，例如由高分子液晶構成之光學補償薄膜、使盤型液晶(discotic liquid crystal)配向硬化而成之視角擴大薄膜等，一起使用於液晶顯示裝置中。
[疊層體(疊層薄膜)] 本發明之光學薄膜也可因應用途，於該薄膜之至少一側之表面疊層會展示選自於由硬質被覆性、自我修復性、防眩性、抗反射性、低反射性、及抗靜電性構成之群組中之1種以上的功能的層(也稱為「表面層」)。就該疊層體(疊層薄膜)而言，可舉例如硬質被覆薄膜、抗反射(AR)薄膜、光擴散片、棱鏡透鏡片、透明導電性薄膜、紅外線吸收薄膜、電磁波吸收薄膜等。
[表面層] 上述表面層之厚度根據其功能而不相同，宜為10nm~30μm之範圍，更宜為50nm~20μm。若更薄則無法獲得令人滿意之效果，若更厚則有對於光學性能等造成不好影響的可能性。
硬質被覆性係指藉由提高表面之硬度，使其難以產生傷痕之功能。就該功能而言，藉由根據JIS K5600-5-4(1999)所記載之刮痕硬度(鉛筆法)進行評價，宜為HB以上，更宜為2H以上。此外，在使用＃0000之鋼絲絨，以200g/cm2 、來回10次之條件來進行的耐擦傷性試驗(鋼絲絨耐擦傷性試驗)中，宜為傷痕未達10個，更宜為未達5個。
自我修復性係指藉由利用彈性回復來修復傷痕，而難以對其造成傷痕的功能。就該功能而言，係以施加了500g之負荷之黃銅刷擦過表面時，宜為在3分鐘以內，更宜為在1分鐘以內，傷痕便回復者。
防眩性係指藉由利用在表面之光散射來抑制外部光線的映入，而改善可視性之功能。就該功能而言，藉由JIS K7136(2000)所記載之評價，霧度宜為2~50%，更宜為2~40%，尤其宜為2~30%。
抗反射性、低反射性係指藉由利用光的干擾效果來減低於表面之反射率，而改善可視性之功能。就該功能而言，藉由反射率光譜測定，宜為2%以下，尤其宜為1%以下。
抗靜電性係指藉由使因為從表面剝離或擦過表面所產生之靜電洩漏來排除靜電的功能。就該功能之指標而言，JIS K6911(2006)所記載之表面電阻率宜為1011 Ω/□以下，更宜為109 Ω/□以下。抗靜電性之賦予係在含有公知之抗靜電劑而得之層，除此之外，也可為由含有聚噻吩(polythiophene)、聚吡咯(polypyrrole)、聚苯胺(polyaniline)等導電性高分子之層構成者。
[其他用途] 關於本發明之光學薄膜之使用用途，只要是能發揮其特性之領域便沒有特別之限制，適合使用在相位差薄膜或偏光板，除此之外，還適合使用在例如視角擴大薄膜、液晶顯示裝置、有機或無機之電致發光顯示裝置或元件、電漿顯示器、CRT、液晶投影機、光學錄製播放裝置之光學讀頭光學系統、觸控面板、抗反射薄膜等光學裝置中。 [實施例]
以下，列舉實施例來更詳細地說明本發明，本發明並不因為此等實施例而限定於該範圍。
(1)共聚合組成 聚酯樹脂之共聚合組成，係測定1 H-NMR及13 C-NMR，並從來自各構成單元之峰部面積比算出。測定裝置係使用核磁共振裝置(Bruker BioSpin K.K.製，商品名：AVANCE III 500/Ascend 500)，以500MHz進行測定。溶劑使用氘代氯仿。
(2)玻璃轉移溫度(Tg) 聚酯樹脂之玻璃轉移溫度係使用差示掃描量熱計(島津製作所(股)製，商品名：DSC-60/TA-60WS)進行測定。將聚酯樹脂5~10mg放入鋁製非密封容器，在氮氣(50mL/分鐘)氣流中，以升溫速度20℃/分鐘升溫至280℃後，急速冷卻製成測定用樣本。該樣本以同樣條件再次進行升溫，將DSC曲線在恰變化轉移前後之基準線之差的1/2時的溫度(中間點玻璃轉移溫度)作為玻璃轉移溫度。
(3)降溫時之結晶熱(ΔHc) 測定上述Tg後於280℃保持1分鐘後，從以5℃/分鐘之速度降溫時展現之發熱峰部的面積算出聚酯樹脂之降溫時之結晶熱。
[光學薄膜之評價法] (1)光彈性係數(ε) 從厚度約100μm之光學薄膜切出1cm×5cm的試驗片作為測定用樣本。使用橢圓偏光計(日本分光(股)製，商品名：M220)，從波長632.8nm之對應於負荷變化的雙折射測定來算出光彈性係數。
(2)相位差之波長分散特性 從厚度約100μm之光學薄膜切出5cm×5cm之試驗片，以比樹脂之玻璃轉移溫度更高15℃之溫度下，延伸倍率1.5倍的條件進行單軸延伸，製成測定用樣本。使用橢圓偏光計(日本分光(股)製，商品名：M220)，測定於400~800nm之波長區域的相位差，算出在波長450nm及波長550nm之相位差比，及在波長550nm及波長650nm之相位差比，評價相位差之波長分散特性。
＜單體合成例＞ 於500mL不鏽鋼製反應器中加入丙烯酸甲酯173g(2.01mol)、二環戊二烯167g(1.26mol)以195℃進行2小時反應。藉由上述反應，取得含有下列式(4a)表示之單烯烴96g的反應液，將其蒸餾純化後，取一部份供給至以下的反應。
使用300mL不鏽鋼製反應器，使用CO/H2 混合氣體(CO/H2 莫耳比=1)來進行經蒸餾純化而得之式(4a)表示之單烯烴的氫甲醯化反應。於反應器加入式(4a)表示之單烯烴70g、甲苯140g、亞磷酸三苯酯0.50g、另外製備之Rh(acac)(CO)2 之甲苯溶液550μL(濃度0.003mol/L)。在各別進行3次利用氮氣及CO/H2 混合氣體所為之取代後，以CO/H2 混合氣體將系統內部加壓，以100℃、2MPa進行5小時反應。反應結束後，進行反應液之氣相層析分析，確認有含有式(3a)表示之化合物76g、式(4a)表示之單烯烴1.4g的反應液(轉化率98%、選擇率97%)，且將其蒸餾純化後，取一部分供給至以下反應。
於300mL不鏽鋼製反應器添加經蒸餾純化而得之式(3a)表示之化合物54g、海綿鈷觸媒(NIKKO RICA CORPORATION.製：R-400)7mL、甲苯109g，以氫氣將系統內部加壓，於3MPa、100℃進行9小時反應。反應後，以孔徑0.2μm之膜過濾器從獲得之漿液過濾觸媒。之後，使用蒸發器餾去溶劑，以氣相層析儀及GC-MS進行分析，確認含有分子量250之式(2a)表示之主產物51g(主產物產率93%)。將其進一步地進行蒸餾純化，取得主產物(D-NHEs)。
【化9】
＜產物之鑑定＞ 實施於單體合成例取得之成分的NMR分析。將NMR譜圖表示於圖1~3。從以下所示之GC-MS分析，及圖1~3之NMR分析的結果，確認於單體合成例獲得之主產物係上述式(2a)表示之化合物。
＜分析方法＞ 1)氣相層析儀測定条件 ･分析裝置：島津製作所(股)公司製 毛細管氣相層析儀GC-2010 Plus ･分析管柱：GL Sciences Inc.製、InertCap1(30m、0.32mmI.D.、膜厚0.25μm) ･烘箱溫度：60℃(0.5分鐘)-15℃/分鐘-280℃(4分鐘) ･檢測器：FID、溫度280℃
2)GC-MS測定條件 ･分析裝置：島津製作所(股)公司製、GCMS-QP2010 Plus ･離子化電壓：70eV ･分析管柱：Agilent Technologies製、DB-1(30m、0.32mmI.D.、膜厚1.00μm) ･烘箱溫度：60℃(0.5分鐘)-15℃/分鐘-280℃(4分鐘)
3)NMR測定條件 ･裝置：日本電子(股)公司製，JNM-ECA500(500MHz) ･測定模式：1 H-NMR、13 C-NMR、COSY-NMR ･溶劑：CDCl3 (氘代氯仿) ･內部標準物質：四甲基矽烷
[聚酯樹脂之合成] ＜實施例1~8＞ 將表1記載之量的原料單體及四丁氧化鈦(IV)加入於具備攪拌機、加熱裝置、氮氣導入管、及冷阱之小型聚酯製造裝置，於氮氣環境下升溫至240~250℃，進行攪拌。於該溫度保持5小時以上後，緩慢地進行升溫及減壓，最後保持在260~270℃、0.1kPa以下。於成為適當之熔融黏度的時間點將氮氣吹入至裝置內使其成為常壓，回收生成之聚酯樹脂。 聚酯樹脂之評價結果表示於表1。
＜比較例1＞ 將表1記載之量的原料單體及辛酸錫(II)加入於具備攪拌機、加熱裝置、氮氣導入管、部分冷凝器、全冷凝器及冷阱之聚酯製造裝置，於氮氣環境下，升溫至240~250℃並進行攪拌。於該溫度保持5小時以上後，緩慢地進行升溫及減壓，最終保持在260~270℃、0.1kPa以下。在成為適當之熔融黏度的時間點將氮氣吹入至裝置內成為常壓，回收生成之聚酯樹脂。 將聚酯樹脂之評價結果表示於表1。
＜比較例2及3＞ 比較例2及比較例3係購入下列之市售商品進行評價。 ・比較例2：Eastar(註冊商標) 5011(Eastman Chemical公司製)
・比較例3：Iupilon(註冊商標) S-2000(三菱工程塑料(股)製)
[光學薄膜之製作] ＜實施例1~8＞ 以溶液澆鑄法製作厚度約100μm之光學薄膜。具體而言，使樹脂溶解於二氯甲烷成為5wt%濃度，將樹脂溶液流入已確認為水平之模具，緩緩地使二氯甲烷揮發，於模具上製作薄膜。獲得之光學薄膜在從模具剝離後，以乾燥機於比玻璃轉移溫度更低20℃的溫度充分地實施乾燥。 光學薄膜之評價結果表示於表1。
＜比較例1~3＞ 以熱壓製成形製作厚度150~250μm的光學薄膜。具體而言，將3g樹脂盛放於模具，藉由設定為比樹脂之玻璃轉移溫度更高120~140℃之溫度的壓製成形機，於50~100kgf/cm2 之壓力進行2分鐘之壓製。經過指定之時間後，迅速地將模具移動至流通有冷却水之冷却用壓製成形機，於100kgf/cm2 之壓力下進行2分鐘之壓製。經過預定之時間後，從冷却用壓製成形機取出模具，獲得光學薄膜。 此外，獲得之光學薄膜以乾燥機在比玻璃轉移溫度更低20℃之溫度實施10小時退火處理。
針對製膜時之白化現象之進行、或從模具的脫模不良，導致無法以溶液澆鑄法來製作光學薄膜者，係藉由熱壓製成形來製作薄膜。
【表1】
其中，表中簡稱的含意如同下述。 D-NHEs：十氫-1,4:5,8-二甲橋萘-2-甲氧基羰基-6(7)-甲醇 DMCD：1,4-環己烷二羧酸二甲酯(順式體/反式體=7/3) FDPM：9,9-雙(2-甲氧基羰基乙基)茀(「也稱為「茀二丙酸二甲酯」) DMT：對苯二甲酸二甲酯 CHDM：1,4-環己烷二甲醇(順式體/反式體=3/7) EG：乙二醇 BPEF：9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)茀(也稱為「雙苯氧基乙醇茀」) BPA-PC：由雙酚A構成之聚碳酸酯樹脂
本申請案係基於2016年9月28日提申之日本專利申請案(日本特願2016-190300號)，其內容係引用於此作為參考。 [產業上利用性]
本發明之光學薄膜係透明性、耐熱性及光學特性優良，可特別適合用於要求此等物性的用途上。
關於本發明之光學薄膜之使用用途，只要是能發揮其特性之領域便沒有特別之限制，適合使用在相位差薄膜或偏光板，除此之外，還適合使用在例如視角擴大薄膜、液晶顯示裝置、有機或無機之電致發光顯示裝置或元件、電漿顯示器、CRT、液晶投影機、光學錄製播放裝置之光學讀頭光學系統、觸控面板、抗反射薄膜等光學裝置中。 亦即，本發明之工業上的意義大。
[圖1] 展示單體合成例所獲得之主反應產物之1 H-NMR測定的結果。 [圖2] 展示單體合成例所獲得之主反應產物之13 C-NMR測定的結果。 [圖3] 展示單體合成例所獲得之主反應產物之COSY-NMR測定的結果。

Claims (6)

  1. 一種光學薄膜，由含有下列通式(1)表示之單元(A)之聚酯樹脂構成； [化1]該通式(1)中，R1 為氫原子、CH3 或C2 H5 ，R2 及R3 各自獨立地為氫原子或CH3 ，n為0或1。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中，該通式(1)中之n為1。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中，該通式(1)中之R1 、R2 、及R3 為氫原子。
  4. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中，該聚酯樹脂符合下列(1)及(2)且該光學薄膜符合下列(3)： (1)該聚酯樹脂之玻璃轉移溫度為90℃以上； (2)該聚酯樹脂之降溫時之結晶熱為5J/g以下； (3)該光學薄膜之光彈性係數之絕對值為40×10-12 Pa-1 以下。
  5. 一種相位差薄膜，係含有如申請專利範圍第1項之光學薄膜而成。
  6. 一種圓偏光板或橢圓偏光板，係含有如申請專利範圍第1項之光學薄膜而成。
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