TW201437116A - 具有氣體導引裝置之光罩盒 - Google Patents

Abstract

本發明係有關於一種具有氣體導引裝置之光罩盒，其裝設有一氣體導引裝置，氣體導引裝置連通光罩盒之至少一進氣孔，並具有對應光罩盒之一第一氣體流動空間之一第一出氣開口及對應光罩盒之一第二氣體流動空間之一第二出氣開口。當進氣孔供應一高潔淨氣體至氣體導引裝置，高潔淨氣體流經氣體導引裝置，並由第一出氣開口及第二出氣開口分別流至第一氣體流動空間及第二氣體流動空間，以使高潔淨氣體均勻分布於第一氣體流動空間及第二氣體流動空間，並提升對光罩之清潔效率及有效保護光罩並避免光罩與空氣接觸，所以減少高潔淨氣體的使用量，進而提升高潔淨氣體之充填效率。

Description

具有氣體導引裝置之光罩盒

    本發明係有關於一種光罩盒，特別是指一種具有氣體導引裝置之光罩盒。

    近代半導體科技發展迅速，其中光學微影技術扮演重要的角色，只要是關於圖形定義，皆需仰賴光學微影技術。光學微影技術在半導體的應用上，是將設計好的線路製作成具有特定形狀可透光之光罩。利用曝光原理，則光源通過光罩投影至矽晶圓可曝光顯示特定圖案。由於任何附著於光罩上的塵埃顆粒(如微粒、粉塵或有機物)都會造成投影成像的品質劣化，用於產生圖形的光罩必須保持絕對潔淨，因此在一般的晶圓製程中，都提供無塵室的環境以避免空氣中的顆粒污染。然而，目前的無塵室也無法達到絕對無塵的狀態。

    現代的半導體製程皆利用抗污染的光罩盒進行光罩的保存與運輸，以使光罩保持潔淨。光罩盒係在半導體製程中用於存放光罩，以利光罩在機台之間的搬運與傳送，並隔絕光罩與大氣的接觸，避免光罩被雜質汙染而產生變化。因此，在先進的半導體廠中，通常會要求光罩盒的潔淨度要符合機械標準介面(Standard Mechanical Interface；SMIF)，也就是說保持潔淨度在Class 1以下。故，為了使光罩盒之潔淨度符合機械標準介面，主要透過於光罩盒中充入高潔淨氣體。

    目前光罩盒之底部具有至少一進氣孔，所以可從進氣孔填充一高潔淨氣體至光罩盒內，而高潔淨氣體自然流動於光罩盒內，大部分高潔淨氣體流動於光罩與光罩盒之底部間的空間，少部分之高潔淨氣體流動至光罩與光罩盒之頂部間的空間，導致高潔淨氣體於光罩盒內分布不均勻，使高潔淨氣體對光罩之清潔效果不佳，如此必須持續填充高潔淨氣體至光罩盒內，直到光罩清潔乾淨為止，進而增加高潔淨氣體之使用量，並導致充氣高潔淨氣體至光罩盒內之效率不佳。

    有鑑於上述問題，本發明提供一種具有氣體導引裝置之光罩盒，其具有一氣體導引裝置，氣體導引裝置導引由光罩盒之進氣孔進入之一高潔淨氣體均勻分布於光罩與光罩盒之頂部間之空間及光罩與光罩盒之底部間之空間，並改善上述問題。

    本發明之目的，在於提供一種具有氣體導引裝置之光罩盒，其具有至少一氣體導引裝置，氣體導引裝置導引由光罩盒之至少一進氣孔進入之一高潔淨氣體均勻分布於光罩之上下空間，有效提升高潔淨氣體清潔光罩之效率，進而減少高潔淨氣體之使用量，並提升高潔淨氣體之充填效率。

    本發明提供一種具有氣體導引裝置之光罩盒，其係包含：一底座，其具有至少一進氣孔；一蓋體，其罩設於該底座，並與該底座間具有一容置空間，該容置空間容置一光罩，該光罩分隔該容置空間為一第一氣體流動空間及一第二氣體流動空間；以及至少一氣體導引裝置，其設置於該底座，該氣體導引裝置具有一第一氣體導引流道、至少一第二氣體導引流道、至少一第三氣體導引流道、一第一出氣開口及一第二出氣開口，該第一氣體導引流道與該進氣孔相連通，該第二氣體導引流道及該第三氣體導引流道與該第一氣體導引流道相連通，該第一出氣開口與該第二氣體導引流道相連通，該第二出氣開口與該第三氣體導引流道相連通，該第一出氣開口對應該第一氣體流動空間，該第二出氣開口對應該第二氣體流動空間；其中該第一出氣開口之開口面積小於該第二出氣開口之開口面積，以使該第一氣體流動空間內之一高潔淨氣體的流量與該第二氣體流動空間內之該高潔淨氣體的流量相同。

1．．．光罩盒

10．．．底座

100a．．．第一側邊

100b．．．第二側邊

101．．．第一表面

102．．．第二表面

104．．．閂孔

11．．．容置空間

111．．．第一氣體流動空間

112．．．第二氣體流動空間

12．．．蓋體

121．．．底面

122．．．鎖扣件

1221．．．鎖扣部

1222．．．轉動臂

1223．．．滾輪

123．．．安裝槽

1231．．．缺口

13．．．定位件

14．．．進氣孔

141．．．充氣閥

15．．．出氣孔

17．．．連接件

18．．．限制件

181．．．座體

182．．．限制擋片

2．．．光罩

21．．．上表面

22．．．下表面

3．．．氣體導引裝置

31．．．導引座體

31a．．．第一本體

311a．．．第一端

312a．．．第二端

313a．．．第一表面

314a．．．第二表面

315a．．．貫孔

316a．．．第一容置槽

31b．．．第二本體

311b．．．第一端

312b．．．第二端

313b．．．第一表面

314b．．．第二表面

316b．．．第二容置槽

317b．．．支撐凸部

32．．．覆蓋體

32a．．．第一覆蓋部

321a．．．第一凹槽

323a．．．支撐柱

32b．．．第二覆蓋部

321b．．．第二凹槽

321c．．．第三凹槽

322a．．．第一出氣開口

322b．．．第二出氣開口

33a．．．第一氣體導引流道

33b．．．第二氣體導引流道

33c．．．第三氣體導引流道

4．．．高潔淨氣體

第一圖為本發明之第一實施例之光罩盒的外觀圖；
第二圖為本發明之第一實施例之光罩盒的組裝圖；
第三圖為本發明之第一實施例之光罩盒的剖面圖；
第四A圖為係本發明之第一實施例之氣體導引裝置的外觀圖；
第四B圖為係本發明之第一實施例之氣體導引裝置的組裝圖；
第四C圖為係本發明之第四A圖的A區域之局部放大圖；
第五圖為本發明之第一實施例之光罩盒的使用狀態圖；
第六A圖為本發明之第二實施例之氣體導引裝置的外觀圖；
第六B圖為本發明之第二實施例之氣體導引裝置的組裝圖；
第七圖為本發明之第二實施例之光罩盒的使用狀態圖；
第八A圖為本發明之第三實施例之光罩盒的仰視圖；
第八B圖為本發明之第八A圖之B區域的局部放大圖；以及
第八C圖為本發明之第三實施例之鎖扣件的示意圖。

    茲為使　貴審查委員對本發明之結構特徵及所達成之功效有更進一步之瞭解與認識，謹佐以各實施例及配合詳細之說明，說明如後：

    習知光罩盒之底座具有至少一進氣孔，所以可透過進氣孔填充一高潔淨氣體至光罩盒內，而高潔淨氣體從光罩盒之底座流入光罩盒內，大部分高潔淨氣體自然流動於光罩盒之底座與容置於光罩盒之一光罩間的空間，少部分之高潔淨氣體流動至光罩與光罩盒之一蓋體間的空間，導致高潔淨氣體於光罩盒內分布不均勻，使高潔淨氣體對光罩之清潔效果不佳，甚至高潔淨氣體無法完全阻隔外界空氣與光罩之接觸，如此必須持續填充高潔淨氣體至光罩盒內，直到光罩清潔乾淨為止，進而增加高潔淨氣體之使用量，而未能有效率對光罩盒進行高潔淨氣體填充。

    有鑒於上述問題，本發明提供一種具有氣體導引裝置之光罩盒，其透過氣體導引裝置導引高潔淨氣體均勻分布於光罩與光罩盒之蓋體間的空間及光罩與光罩盒之底座間的空間，以提升高潔淨氣體清潔光罩之效率，並減少外界之空氣與光罩接觸的機會，如此不但降低高潔淨氣體之使用量，同時也提升高潔淨氣體之充填效率。

    請參閱第一圖、第二圖及第三圖，其係本發明之第一實施例之光罩盒的外觀圖、組裝圖及剖面圖；如圖所示，本實施例提供一種光罩盒1，光罩盒1包含一底座10及一蓋體12，蓋體12罩設於底座10，並與底座10間具有一容置空間11，容置空間11用以容置一光罩2，而底座10具有相對之二第一側邊100a及相對之二第二側邊100b。底座10朝向容置空間11之一第一表面101設有二定位件13，二定位件13相對設置並分別鄰近於底座10之二第一側邊100a。底座10具有二進氣孔14，每一進氣孔14從底座10朝向光罩盒1外部之一第二表面102貫穿至底座10之第一表面101，而本實施例之二進氣孔14鄰近二第二側邊100b之一者(如第三圖中底座10右側的第二側邊100b)，每一進氣孔14內更設有一充氣閥141。當光罩2設置於光罩盒1之底座10時，光罩2從二第二側邊100b之一者移動至另一第二側邊100b(即以第三圖為例，從底座10之左側移動至右側)，並設置於二定位件13，二定位件13頂持光罩2，並防止光罩2於二第一側邊100a之間產生位移。然後蓋體12罩設於底座10，使光罩2位於容置空間11內。接著透過二進氣孔14充入一高潔淨氣體，充氣閥141過濾高潔淨氣體，並讓高潔淨氣體流入容置空間11，高潔淨氣體清潔位於容置空間11內之光罩2及阻隔光罩2與外界之空氣接觸。

    當光罩2設置於容置空間11內時，光罩2將容置空間11畫分成一第一氣體流動空間111及一第二氣體流動空間112，第一氣體流動空間111係指光罩2之一下表面22與底座10間之空間，第二氣體流動空間112係指光罩2之一上表面21與蓋體12間之空間。為了使第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112之高潔淨氣體的流量相同，本實施例之光罩盒1主要設有二氣體導引裝置3，每一氣體導引裝置3設置於底座10，並位於二定位件13之間，且鄰近底座10之二第二側邊100b之一者。每一氣體導引裝置3覆蓋於對應之進氣孔14之上方，以與對應之進氣孔14連通，每一氣體導引裝置3導引由進氣孔14進入之高潔淨氣體經氣體導引裝置3流動至第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112，以使第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112內之氣體流量相同。

    下述詳細說明本實施例之氣體導引裝置3之細部結構。請一併參閱第四A至四C圖，其係本發明之第一實施例之氣體導引裝置的外觀圖、組裝圖及第四A圖之A區遇的局部放大圖；如圖所示，本實施例之氣體導引裝置3包含一導引座體31及一覆蓋體32，導引座體31係呈L字型，並具有一第一本體31a及一第二本體31b。當導引座體31設置於底座10之第一表面101時，第一本體31a設置於底座10之第一表面101，並具有一第一端311a及一第二端312a，第一端311a位於對應之進氣孔14的上方，第二端312a鄰近底座10之第二側邊100b；第二本體31b亦具有一第一端311b及一第二端312b，第二本體31b之第一端311b設置於第一本體31a之第二端312a，而第二本體31b之第二端311b往遠離底座10的方向延伸，第二本體31b垂直於第一本體31a，以形成L字形的導引座體31。

    第一本體31a具有一第一表面313a及相對於第一表面313a之一第二表面314a，第一表面313a遠離底座10之第一表面101，第二表面314a與底座10之第一表面101接觸。第一本體31a之第一端311a具有一貫孔315a，貫孔315a貫穿第一本體31a之第一表面313a及第二表面314a，並對應進氣孔14，即與進氣孔14相連通。第一本體31a之第一表面313a具有一第一容置槽316a，第一容置槽316a之一端與貫孔315a相連通，其另一端往第二本體31b延伸。第二本體31b亦具有一第一表面313b及相對於第一表面313b之一第二表面314b，第一表面313b朝向底座10之內部，並具有一第二容置槽316b。第二容置槽316b係從第二本體31b之第一端311b往第二本體31b之第二端312b延伸，並與第一容置槽316a相連通。本實施例之第一本體31a與第二本體31b可為一體成型，於此不再贅述。

    覆蓋體32覆蓋於導引座體31，所以覆蓋體32與導引座體31一樣呈L字型。覆蓋體32具有一第一覆蓋部32a及一第二覆蓋部32b，第一覆蓋部32a設置於第一本體31a，與第一本體31a的第一表面313a接觸之第一覆蓋部32a的表面具有一第一凹槽321a，本實施例之第一凹槽321a完全覆蓋第一本體31a之貫孔315a及第一容置槽316a，即第一凹槽321a之形狀符合貫孔315a與第一容置槽316a所構成之形狀，然第一凹槽321a與貫孔315a及第一容置槽316a之間形成一第一氣體導引流道33a。

    第二覆蓋部32b完全容置於第二容置槽316b內，與第二本體31b接觸之第二覆蓋部32b的表面具有至少一第二凹槽321b及至少一第三凹槽321c，第二凹槽321b及第三凹槽321c與第一凹槽321a相連通。未與第二本體31b接觸之第二覆蓋部32b的表面具有一第一出氣開口322a及一第二出氣開口322b，第一出氣開口322a對應第一氣體流動空間111，而第二出氣開口322b位於第一出氣開口322a之上方，並對應第二氣體流動空間112(請參閱第三圖)。第一出氣開口322a與第二凹槽321b相連通，第二出氣開口322b與第三凹槽321c相連通。當第二覆蓋部32b容置於第二本體31b之第二容置槽316b內時，第二凹槽321b及第三凹槽321c與第二容置槽316b間分別形成至少一第二氣體導引流道33b及至少一第三氣體導引流道33c，第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c分別與第一氣體導引流道33a相連通，另分別與第一氣體出口322a及第二氣體出口322b相連通。

    再一併參閱第五圖，其係本發明之第一實施例之光罩盒的使用狀態圖；如圖所示，當從光罩盒1之二進氣孔14填充高潔淨氣體4時，高潔淨氣體4從進氣孔14進入並流動至對應之氣體導引裝置3的第一氣體導引流道33a。然，高潔淨氣體4從第一氣體導引流道33a分別流入第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c。最後流入第二氣體導引流道33b之高潔淨氣體4從第一出氣開口322a流至第一氣體流動空間111；同時地，流入第三氣體導引流道33c之高潔淨氣體4從第二出氣開口322b流至第二氣體流動空間112。

    本實施例之第一出氣開口322a之開口面積小於第二出氣開口322b之開口面積，於氣體流速及氣體流動至第一出氣開口322a及第二出氣開口322b之距離相同下，從第一出氣開口322a流入第一氣體流動空間111之高潔淨氣體4的瞬間流量小於從第二出氣開口322b進入第二氣體流動空間112之高潔淨氣體4的瞬間流量。另外，本實施例之第二氣體導引流道33b之長度小於第三氣體導引流道33c之長度，若第一出氣開口322a之開口面積等於第二出氣開口322b之開口面積，於相同的氣體流速及相同時間下，高潔淨氣體4從第一出氣開口322a進入第一氣體流動空間111之流量多於高潔淨氣體4從第二出氣開口322b進入第二氣體流動空間112之流量。

    由上述可知，本實施例之第一出氣開口322a之開口面積小於第二出氣開口322b之開口面積，與第二氣體導引流道33b之長度小於第三氣體導引流道33c之長度等條件搭配下，即將上述兩種情況的結果綜合，使從第一出氣開口322a流至第一氣體流動空間111內之高潔淨氣體4的流量與從第二出氣開口322b流至第二氣體流動空間112內之高潔淨氣體4的流量一致，讓高潔淨氣體4均勻地清潔光罩2之各部位，以提升高潔淨氣體4對光罩2之清潔效率，當縮短對光罩2之清潔時間時，也同時減少高潔淨氣體4之供應時間，進而減少高潔淨氣體4的使用量，即表示透過氣體導引裝置3可有效率地充填高潔淨氣體4至光罩盒1內。

    然，本實施例之第一出氣開口332a及第二出氣開口332b分別為狹長之一矩形孔，使高潔淨氣體4從第一出氣開口332a及第二出氣開口332b流至第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112的氣壓增加，以使高潔淨氣體4噴射於第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112，並使高潔淨氣體4快速地流動至第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112，而且第一出氣開口332a及第二出氣開口322b為狹長的矩形孔，從第一出氣開口332a及第二出氣開口322b流出之高潔淨氣體4可大面積的分布於第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112，進而有效提升充填高潔淨氣體4至光罩盒1的效率。

    同時，光罩盒1之底座10更包含至少一出氣孔15，出氣孔15相對於二進氣孔14，出氣孔15鄰近另一第二側邊100b(以第五圖為例，即位於底座10之左側)。當光罩2設置於底座10時，二進氣孔14與出氣孔15位於光罩2之兩側，使從二進氣孔14進入之高潔淨氣體4通過二氣體導引裝置3導引至第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112，高潔淨氣體4從第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112之一端流動至其另一端，即高潔淨氣體4通過光罩2之一上表面21及一下表面22。當高潔淨氣體4通過光罩2時，高潔淨氣體4與光罩2之殘留物混合，而含有殘留物之高潔淨氣體4流動至出氣孔15，並從出氣孔15排出，以有效保持光罩盒1內維持高潔度。

    然，第一本體31a之第一端311a位於對應之進氣孔14的上方，第一本體31a之貫孔315a對應進氣孔14，貫孔315a之孔徑須大於或等於進氣孔14之孔徑。從進氣孔14流入之高潔淨氣體4可完全流入貫孔315a，而高潔淨氣體4完全流入第一氣體導引流道33a，然高潔淨氣體4沿第一氣體導引流道33a進入第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c，並從與第二氣體導引流道33b之第一出氣開口322a及與第三氣體導引流道33c之第二出氣開口322b分別流入第一氣體流動空間111及第二氣體流動空間112，如此避免高潔淨氣體4之流失，更減少高潔淨氣體4之使用量，並提升高潔淨氣體4填充至光罩盒1內之效率。

    此外，設置於第一本體31a之第一覆蓋部32a的第一凹槽321a對應進氣孔14之側壁係呈圓弧形。當高潔淨氣體4從進氣孔14進入氣體導引裝置3時，高潔淨氣體4呈發散狀並自由流動於第一氣體導引流道33a，即部分之高潔淨氣體4往第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c流動，部分之高潔淨氣體4接觸到呈圓弧形的側壁，高潔淨氣體4將沿著圓弧形之側壁流動，並使高潔淨氣體4改往第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c流動，如此導引高潔淨氣體4之流動，並確使從進氣孔14流入之高潔淨氣體4完全地提供至光罩盒1內，也可減少高潔淨氣體4之使用量，並提升高潔淨氣體4填充至光罩盒1內之效率。

    然本實施例之光罩盒1更包含一連接件17，連接件17之兩端分別連接每一氣體導引裝置3之第一本體31a，使二第一本體31a透過連接件17之連接而形成單一元件，如此可同時裝設二氣體導引裝置3之二第一本體31a於底座10之第一表面101。然連接件17可與二第一本體31a一體成形，如此減少零件數量，有效簡化組裝程序。本實施例之氣體導引裝置3又具有定位光罩2於光罩盒1內並防止光罩2脫離二定位件13的功能，當光罩2設置於底座10之二定位件13時，而每一氣體導引裝置3之第二本體31b的第一表面311b抵接於光罩2之側邊，如此防止光罩2因光罩盒1於運送過程中所產生之震動或晃動而於光罩盒1內產生位移，所以將習知光罩盒1用於抵接光罩2之側邊的限制件更換為本實施例之氣體導引裝置3，而本實施例之氣體導引裝置3可視為具有氣體導引功能之限制件。

    然本實施例之覆蓋體32使用軟性材質，因此第二覆蓋部32b之厚度小於或等於第二本體31b之第二容置槽316b的高度，即設有第一出氣開口322a及第二出氣開口322b之第二覆蓋部32b的表面低於第二本體31b之第一表面311b。當光罩2設置於光罩盒1內時，光罩2之側邊抵接於第二本體31b之第一表面311b，第二本體31b之第一表面311b支撐光罩2，使光罩2未壓縮第二覆蓋部32b與第二本體31b間之第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c，以使高潔淨氣體順暢地流動於第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c。同時，本實施例之第一覆蓋部32a也具有一支撐柱323a，支撐柱323a設置於第一凹槽321a內，並對應進氣孔14內之充氣閥141。當第一覆蓋部32a安裝於第一本體31a時，支撐柱323a抵接於充氣閥141之表面，並未覆蓋進氣孔14，如此維持第一覆蓋部32a與第一本體31a間所形成之第一氣體導引流道33a的空間，使高潔淨氣體也可順暢地流動於第一氣體導引流道33a。

    請參閱第六A至六B圖，其係本發明之第二實施例之氣體導引裝置的外觀圖及組裝圖；如圖所示，本實施例與上述實施例不同在於，上述實施例之光罩盒1係具有二氣體導引裝置3，每一氣體導引裝置3對應一個進氣孔14，而本實施例之光罩盒1僅設置一個氣體導引裝置3，此氣體導引裝置3同時對應二進氣孔14。因本實施例之氣體導引裝置3必須同時對應二進氣孔14，所以導引本體31及覆蓋體32之結構與上述實施例不同。

    本實施例之導引本體31的第一本體31a具有二貫孔315a，二貫孔315a分別對應二進氣孔14。第一本體31a的第一表面313a具有呈T字型之第一容置槽316a，第一容置槽316a與二貫孔315a相連通。然覆蓋體32之第一覆蓋部32a亦具有與第一容置槽316a及二貫孔315a相對應的第一凹槽321a。請一併參閱第七圖，當覆蓋體32設置於導引本體31時，第一覆蓋部32a設置於第一本體31a，第一凹槽321a對應二貫孔315a及第一容置槽316a，並與二貫孔315a及第一容置槽316a間形成第一氣體導引流道33a。第一氣體導引流道33a與第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c相連通。本實施例之氣體導引裝置3與上述實施例之氣體導引裝置3的差異在於結構不同，其功能完全相同，於此不再贅述。

    本實施例之氣體導引裝置3更包含二限制件18，二限制件18包含一座體181及一限制擋片182，限制擋片182設置於座體181上。二限制件18設置於第一本體31a上，即每一限制件18之座體181設置於第一本體31a，二限制件18分別位於導引本體31之第二本體31b的兩側。當光罩2設置於光罩盒1內時，每一限制擋片182抵接於光罩2之側邊，以避免光罩2於光罩盒1內產生位移。然本實施例之二限制擋片182至鄰近之第二側邊100b的距離大於第二覆蓋部32b至鄰近之第二側邊100b的距離，及第二覆蓋部32b較二限制擋片182靠近第二側邊100b，如此使光罩2不會直接抵接於第二覆蓋部32b，以避免第二覆蓋部32b往第二本體31b壓縮，而縮小第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c之空間，使高潔淨氣體順暢地流動於第二氣體導引流道33b及第三氣體導引流道33c。

    同時地，因第二覆蓋部32b之第二凹槽321b及第三凹槽321c之面積較大，即第二覆蓋部32b之中空區域較多，所以可於第二本體31b之第二容置槽316b內設置至少一支撐凸部317b，支撐凸部317b對應第二覆蓋部32b之第二凹槽321b，並支撐第二凹槽321b，以維持第二凹槽321b與第二本體31b間所形成之第二氣體導引流道33b的空間，使高潔淨氣體可順暢地流動於第二氣體導引流道33b內。本實施例與上述實施例一樣於第一覆蓋部31a也有設置支撐柱322a，於此不再贅述。

    請參閱第八A至八C圖，其係本發明之第三實施例之光罩盒的仰視圖、第八A圖之B區域的局部放大圖及鎖扣件的示意圖；如圖所示，本實施例之光罩盒1與上述實施例之光罩盒不同在於，光罩盒1之蓋體12的底面121更設有複數鎖扣件122，而底座10之第二表面102設有複數閂孔104，該些閂孔104對應該些鎖扣件122。當蓋體12設置於底座10時，該些鎖扣件124扣設於底座10之該些閂孔104，使該些鎖扣件124夾持於底座10，以固定蓋體12於底座10。

    每一鎖扣件122具有一鎖扣部1221及一轉動臂1222，轉動臂1222之一端連接鎖扣部1221，轉動臂1222樞接於對應之蓋體12的一安裝槽123內，安裝槽123具有至少一缺口1231，缺口1231對應底座10之閂孔104，並供鎖扣部1221設置。當蓋體12設置於底座10時，鎖扣部1221先往蓋體12之外側移動，並帶動轉動臂1222轉動，然後蓋體12設置於底座10，同時釋放鎖扣部1221，轉動臂1222帶動鎖扣部1221往對應之閂孔104移動而使鎖扣部1221扣設閂孔104內。當蓋體12脫離底座10時，亦先帶動鎖扣部1221往蓋體12之外側移動並脫離閂孔104，使底座10脫離蓋體12，之後釋放鎖扣部1221，轉動臂1222帶動鎖扣部1221回復至原始位置。

    本實施例中，每一鎖扣部1221與閂孔104接觸之表面更具有一滾輪1223，當鎖扣部1221扣設於對應之閂孔104時，滾輪1223隨著鎖扣部1221之移動而滾動，滾輪1223與閂孔104之側壁接觸並滾入對應之閂孔104內。本實施例之每一鎖扣件121之鎖扣部1221透過滾輪1223之設置而減少與對應之閂孔104間之接觸面積，進而減少鎖扣部1221與閂孔104間之摩擦力，並使鎖扣部1221可順暢地進入或退出閂孔104。

    本實施例之閂孔104與滾輪1223接觸之表面更設有至少一導引凸部1041，導引凸部1041與滾輪1223接觸之表面為一斜面，如此更減少滾輪1223與閂孔104間的接觸面積，有效減少滾輪1223與閂孔104間的摩擦力，使鎖扣部1221更順暢地進入或退出閂孔104，並增加該些鎖扣件122之該些鎖扣部1221對底座10之夾持力，使蓋體12穩固地固定於底座10上，有效提升蓋體12與底座10間之氣密性。

    由上述可知，本發明提供一種具有氣體導引裝置之光罩盒，於光罩盒內設置至少一氣體導引裝置，透過氣體導引裝置導引由進氣孔所流入之高潔淨氣體均勻分布於光罩之上下空間，使高潔淨氣體可均勻地對光罩清潔，有效提升高潔淨氣體對光罩之清潔效率，以維持光罩盒於高潔度的狀態，避免光罩與外界之空氣接觸，同時減少高潔淨氣體之使用量，有效提升高潔淨氣體之充填效率。然本發明之氣體導引裝置具有防止光罩於光罩盒內產生位移的功效。然本發明之光罩盒的鎖扣件具有滾輪，以減少鎖扣件與對應之閂孔間之摩擦，使鎖扣件可順暢地進出閂孔。

    故本發明實為一具有新穎性、進步性及可供產業利用者，應符合我國專利法所規定之專利申請要件無疑，爰依法提出發明專利申請，祈　鈞局早日賜准專利，至感為禱。

    惟以上所述者，僅為本發明之各項實施例而已，並非用來限定本發明實施之範圍，舉凡依本發明申請專利範圍所述之形狀、構造、特徵及精神所為之均等變化與修飾，均應包括於本發明之申請專利範圍內。

1．．．光罩盒

10．．．底座

100a．．．第一側邊

100b．．．第二側邊

101．．．第一表面

102．．．第二表面

12．．．蓋體

13．．．定位件

15．．．出氣孔

2．．．光罩

3．．．氣體導引裝置

Claims (12)

1. 一種具有氣體導引裝置之光罩盒，其係包含：
   一底座，其具有至少一進氣孔；
   一蓋體，其罩設於該底座，並與該底座間具有一容置空間，該容置空間容置一光罩，該光罩分隔該容置空間為一第一氣體流動空間及一第二氣體流動空間；以及
   至少一氣體導引裝置，其設置於該底座，該氣體導引裝置具有一第一氣體導引流道、至少一第二氣體導引流道、至少一第三氣體導引流道、一第一出氣開口及一第二出氣開口，該第一氣體導引流道與該進氣孔相連通，該第二氣體導引流道及該第三氣體導引流道與該第一氣體導引流道相連通，該第一出氣開口與該第二氣體導引流道相連通，該第二出氣開口與該第三氣體導引流道相連通，該第一出氣開口對應該第一氣體流動空間，該第二出氣開口對應該第二氣體流動空間；
   其中該第一出氣開口之開口面積小於該第二出氣開口之開口面積，以使該第一氣體流動空間內之一高潔淨氣體的流量與該第二氣體流動空間內之該高潔淨氣體的流量相同。
2. 如申請專利範圍第1項所述之具有氣體導引裝置之光罩盒，其中該氣體導引裝置係包含：
   一導引本體，其設置於該底座，並位於該進氣孔之上方；以及
   一覆蓋體，其設置於該導引本體，並與該導引本體間形成該第一氣體導引流道、該第二氣體導引流及該第三氣體導引流道，該第一出氣開口及該第二出氣開口係設置於該覆蓋體。
3. 如申請專利範圍第2項所述之具有氣體導引裝置之光罩盒，其中該導引本體係包含：
   一第一本體，其設置於該底座，並位於該進氣孔之上方，該第一本體具有至少一貫孔及一第一容置槽，該貫孔對應該進氣孔，該第一容置槽與該貫孔相連通；以及
   一第二本體，其設置該第一本體，該第二本體具有一第二容置槽，該第二容置槽與該第一容置槽相連通。
4. 如申請專利範圍第3項所述之具有氣體導引裝置之光罩盒，其中該覆蓋體係包含：
   一第一覆蓋部，其設置於該第一本體，該第一覆蓋部具有一第一凹槽，該第一凹槽對應第一容置槽及該貫孔，並形成該第一氣體導引流道；以及
   一第二覆蓋部，其容置於該第二容置槽內，該第二覆蓋部具有至少一第二凹槽及至少一第三凹槽，該第二凹槽及該第三凹槽對應該第二容置槽，並分別形成該第二氣體導引流道及該第一氣體導引流道。
5. 如申請專利範圍第4項所述之具有氣體導引裝置之光罩盒，其中該第一覆蓋部係具有至少一支撐柱，該支撐柱位於該第一凹槽內，並抵接於該進氣孔內之一充氣閥的表面。
6. 如申請專利範圍第4項所述之具有氣體導引裝置之光罩盒，其中該第二本體之該第二容置槽內設有至少一支撐凸部，該支撐凸部對應該第二覆蓋部之該第二凹槽，並支撐該第二覆蓋部。
7. 如申請專利範圍第1項所述之具有氣體導引裝置之光罩盒，其中該第一出氣開口與該第二出氣開口分別為一矩形孔。
8. 如申請專利範圍第4項所述之具有氣體導引裝置之光罩盒，更包含：
   至少一限制件，其包含一座體及一限制擋片，該座體設置於該第一本體，該限制擋片設置於該座體，並抵接於該光罩之側邊。
9. 如申請專利範圍第8項所述之具有氣體導引裝置之光罩盒，其中該限制擋片與鄰近之該第二側邊間的距離大於該第二覆蓋部與鄰近之該第二側邊間的距離。
10. 如申請專利範圍第4項所述之具有氣體導引裝置之光罩盒，其中該第二覆蓋部之厚度小於或等於該第二容置槽之高度，該第二容置槽之兩側的表面抵接於該光罩之側邊。
11. 如申請專利範圍第1項所述之具有氣體導引裝置之光罩盒，更包含：
    複數鎖扣件，其分別樞設於該蓋體之複數安裝槽，每一鎖扣件係包含：
    一轉動臂，其一端樞接於對應之該安裝槽；以及
    一鎖扣部，其連接該轉動臂之另一端，該轉動臂隨著該鎖扣部轉動，該鎖扣部扣設於該底座之一閂孔，其中該鎖扣部與該閂孔接觸之表面嵌設有一滾輪。
12. 如申請專利範圍第11項所述之具有氣體導引裝置之光罩盒，其中該閂孔與該滾輪接觸之表面設有至少一導引凸部，該導引凸部與該滾輪接觸之表面為一斜面。