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JP2014191351A - 気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器 - Google Patents

気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器 Download PDF

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JP2014191351A JP2014054953A JP2014054953A JP2014191351A JP 2014191351 A JP2014191351 A JP 2014191351A JP 2014054953 A JP2014054953 A JP 2014054953A JP 2014054953 A JP2014054953 A JP 2014054953A JP 2014191351 A JP2014191351 A JP 2014191351A
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Abstract

【課題】気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器の提供。
【解決手段】この気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器は、気体ガイド装置が取付けられ、該気体ガイド装置はフォトマスク収納容器の少なくとも一つの入気孔に連通し、並びにフォトマスク収納容器の第1気体流動空間に対応する第1出気開口及びフォトマスク収納容器の第2気体流動空間に対応する第2出気開口を具える。入気孔よりクリーンな気体が気体ガイド装置に供給される時、クリーンな気体は気体ガイド装置を流れ、並びに第1出気開口及び第2出気開口よりそれぞれ第1気体流動空間及び第2気体流動空間へと流れ、これによりクリーンな気体が均一に第1気体流動空間と第2気体流動空間に分布し、並びにフォトマスクの清浄度をアップし、有効にフォトマスクの空気との接触を防止し、ゆえに高清浄度気体の使用量を減らし、これにより高清浄度気体の充填効率をアップする。
【選択図】図2

Description

本発明は一種のフォトマスク収納容器に係り、特に一種の、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器に関する。
近代の半導体テクノロジーの発展は迅速で、そのうち光学リソグラフィー技術は重要な役割を果たし、パターン定義に関しては、いずれも光学リソグラフィー技術に頼る必要がある。光学リソグラフィー技術は半導体の応用上、設計された線路を特定形状を有する可透光のフォトマスクとして製作する。露光原理を利用し、すなわち光線にフォトマスクを通過させてシリコンウエハーに投影して特定パターンを露光表示させることができる。フォトマスク上に付着する塵埃顆粒(たとえば微粒子、粉塵或いは有機物)はいずれも投影成像の品質を劣化させ得るため、パターンを発生させるのに用いるフォトマスクは、絶対的な清浄度を保持しなければならない。このため、一般のウエハー工程においては、いずれもクリーンルームの環境で空気中の顆粒汚染を防止している。しかし、現在のクリーンルームも、全体的な無塵の状態を達成することはできない。
現代の半導体工程は、いずれも抗汚染のフォトマスク収納容器を利用してフォトマスクの保存と搬送を行ない、フォトマスクをクリーンに保っている。フォトマスク収納容器は半導体工程中に、フォトマスクを収容するのに用いられ、マスクの機械の間の搬送と伝送に用いられ、並びにフォトマスクを大気との接触より隔離し、フォトマスクが不純物により汚染されて変化を発生するのを防止する。これにより、先進の半導体工場では、通常、フォトマスク収納容器の清浄度はStandard Mechanical Interface(SMIF)に符合する必要があり、すなわち、清浄度はClass 1以下に保持されなければならない。ゆえに、フォトマスク収納容器の清浄度をSMIFに符合させるため、主には、フォトマスク収納容器中に高清浄度気体を充填する。
現在、フォトマスク収納容器の底部には、少なくとも一つの入気孔があり、ゆえに、入気孔より高清浄度気体がフォトマスク収納容器内に充填され、高清浄度気体は自然にフォトマスク収納容器内を流動し、大部分の高清浄度気体は、フォトマスクとフォトマスク収納容器の底部の間の空間を流動し、小部分の高清浄度気体がフォトマスクとフォトマスク収納容器の上部の間の空間へと流動し、このため、高清浄度気体のフォトマスク収納容器内の分布が不均一となり、このために高清浄度気体のフォトマスクに対する清浄効果が不良となり、こうして、フォトマスクがきれいになるまで続けて高清浄度気体をフォトマスク収納容器内に充填しなければならなくなり、このために、高清浄度気体の使用量が増し、並びに高清浄度気体のフォトマスク収納容器内への充気の効率が悪くなる。
上述の問題を鑑み、本発明は一種の、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器を提供し、それは、気体ガイド装置を具え、気体ガイド装置がフォトマスク収納容器の入気孔より高清浄度気体をガイドして高清浄度気体を均一にフォトマスクとフォトマスク収納容器上部の間の空間及びフォトマスク及びフォトマスク収納容器底部の間の空間に分布させ、並びに上述の問題を改善する。
本発明の目的は、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器を提供し、それは少なくとも一つの気体ガイド装置を具え、気体ガイド装置はフォトマスク収納容器の少なくとも一つの入気孔より進入した高清浄度気体をガイドして均一にフォトマスクの上下空間に分布させ、有効に、高清浄度気体のフォトマスククリーニングの効率を高め、これにより高清浄度気体の使用量を減らし、並びに高清浄度気体の充填効率を高めるものとする。
本発明は一種の、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器を提供する。それは、 少なくとも一つの入気孔を具えたベースと、
カバーであって、該ベースをカバーし、並びに該ベースとの間に収容空間を有し、該収容空間にフォトマスクを収容し、該フォトマスクは該収容空間を第1気体流動空間と第2気体流動空間に分ける、上記カバーと、
少なくとも一つの気体ガイド装置であって、該ベースに設置され、該気体ガイド装置は第1気体ガイド流路、少なくとも一つの第2気体ガイド流路、少なくとも一つの第3気体ガイド流路、第1出気開口、第2出気開口を具え、該第1気体ガイド流路と該入気孔は連通し、該第2気体ガイド流路と該第3気体ガイド流路は該第1気体ガイド流路と連通し、該第1出気開口と該第2気体ガイド流路は連通し、該第2出気開口と該第3気体ガイド流路は連通し、該第1出気開口は該第1気体流動空間に対応し、該第2出気開口は該第2気体流動空間に対応し、該第1出気開口の開口面積は、該第2出気開口の開口面積より小さく、これにより、該第1気体流動空間内の高清浄度気体の流量と該第2気体流動空間内の該高清浄度気体の流量が同じとされる、上記少なくとも一つの気体ガイド装置と、
を包含する。
周知のフォトマスク収納容器のベースは、少なくとも一つの入気孔を具え、ゆえに、入気孔より高清浄度気体がフォトマスク収納容器内に充填され、高清浄度気体は、フォトマスク収納容器のベースよりフォトマスク収納容器内に流入し、大部分の高清浄度気体は自然にフォトマスク収納容器のベースと、フォトマスク収納容器に収容されたフォトマスクの間の空間を流動し、少部分の高清浄度気体が、フォトマスクとフォトマスク収納容器のカバーの間の空間を流動し、このために高清浄度気体のフォトマスク収納容器内の分布が不均一となり、このため高清浄度気体のフォトマスクに対するクリーン効果が不良となり、甚だしくは高清浄度気体が完全には外界空気とフォトマスクとの接触を隔離できず、このために、持続して高清浄度気体をフォトマスク収納容器内に、フォトマスクが清浄とされるまで続けて充填しなければならなくなり、このため高清浄度気体の使用量が増し、効率的にフォトマスク収納容器に対して高清浄度気体の充填が行えなかった。
上述の問題を鑑み、本発明は一種の、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器を提供し、それは、気体ガイド装置により、高清浄度気体をガイドしてフォトマスクとフォトマスク収納容器のカバーの間の空間、及びフォトマスクとフォトマスク収納容器のベースの間の空間に均一に分布させ、これにより、高清浄度気体のフォトマスクのクリーニングの効率を高め、並びに外界の空気とフォトマスクの接触のチャンスを減らし、こうして、高清浄度気体の使用量を減らすのみならず、高清浄度気体の充填効率をアップする。
本発明の第1実施例のフォトマスク収納容器の外観図である。 本発明の第1実施例のフォトマスク収納容器の組立図である。 本発明の第1実施例のフォトマスク収納容器の断面図である。 本発明の第1実施例の気体ガイド装置の外観図である。 本発明の第1実施例の気体ガイド装置の組立図である。 本発明の図4AのA区域の局部拡大図である。 本発明の第1実施例のフォトマスク収納容器の使用状態図である。 本発明の第2実施例の気体ガイド装置の外観図である。 本発明の第2実施例の気体ガイド装置の組立図である。 本発明の第2実施例のフォトマスク収納容器の使用状態図である。 本発明の第3実施例のフォトマスク収納容器の底面図である。 本発明の図8AのB区域の局部拡大図である。 本発明の第3実施例のロック手段の表示図である。
本発明の技術内容、構造特徴、達成する目的を詳細に説明するため、以下に実施例を挙げ並びに図面を組み合わせて説明する。
図1、図2及び図3を参照されたい。それは本発明の第1実施例のフォトマスク収納容器の外観図、組立図及び断面図である。図示されるように、本実施例は一種のフォトマスク収納容器1を提供し、フォトマスク収納容器1は、ベース10とカバー12を包含する。カバー12はベース10をカバーするように設けられ、並びにベース10との間に収容空間11を有する。収容空間11は、フォトマスク2を収容するのに用いられる。ベース10は対向する二つの第1側辺100a及び対向する二つの第2側辺100bを具えている。ベース10の収容空間11に向いた第1表面101には二つの位置決め手段13が設けられ、二つの位置決め手段13は対向するよう設置され、並びにそれぞれベース10の二つの第1側辺100aに近接する。ベース10は二つの入気孔14を具え、各入気孔14は、ベース10の、フォトマスク収納容器1外部を向いた第2表面102よりベース10の第1表面101に貫通する。本実施例の二つの入気孔14は二つの第2側辺100bの一方(たとえば図3中のベース10の右側の第2側辺100b)に近接する。各入気孔14内に、さらに、充気バルブ141が設けられる。フォトマスク2がフォトマスク収納容器1のベース10に設置される時、フォトマスク2は二つの第2側辺100bの一方よりもう一方の第2側辺100bに移動させられ(すなわち、図3の例では、ベース10の左側から右側に移動させられる)、並びに二つの位置決め手段13に設置され、二つの位置決め手段13がフォトマスク2を支持し、並びにフォトマスク2が二つの第1側辺100aの間で移動するのを防止する。その後、カバー12でベース10が覆われ、フォトマスク2が収容空間11内に位置させられる。続いて、二つの入気孔14より高清浄度気体が充填され、充気バルブ141が高清浄度気体を濾過し、並びに高清浄度気体を収容空間11に流入させ、高清浄度気体は収容空間11内に位置するフォトマスク2をクリーニングすると共に、フォトマスク2と外界の空気との接触を阻止する。
フォトマスク2が収容空間11内に設置される時、フォトマスク2は収容空間11を第1気体流動空間111及び第2気体流動空間112に区画する。第1気体流動空間111は、フォトマスク2の下表面22とベース10間の空間を指し、第2気体流動空間112はフォトマスク2の上表面21とカバー12の間の空間を指す。第1気体流動空間111と第2気体流動空間112の高清浄度気体の流量を同じとするため、本実施例のフォトマスク収納容器1は、二つの気体ガイド装置3を設け、各気体ガイド装置3はベース10に設置され、並びに二つの位置決め手段13の間に配置され、且つベース10の二つの第2側辺100bの一方に近接する。各気体ガイド装置3は対応する入気孔14の上方を被覆し、対応する入気孔14と連通し、各気体ガイド装置3は、入気孔14より進入する高清浄度気体を第1気体流動空間111と第2気体流動空間112へと流動させ、これにより第1気体流動空間111と第2気体流動空間112内の気体流量を同じとする。
以下に本実施例の気体ガイド装置3の細部構造について詳細に説明する。図4Aから図4Cを参照されたい。それは本発明の第1実施例の気体ガイド装置の外観図、組立図及び図4AのA部分の局部拡大図である。図示されるように、本実施例の気体ガイド装置3はガイド座体31及び被覆体32を包含する。ガイド座体31はL字形を呈し、並びに第1本体31aと第2本体31bを具えている。ガイド座体31がベース10の第1表面101に設置される時、第1本体31aはベース10の第1表面101に設置され、並びに第1端311aと第2端312aを具えている。第1端311aは対応する入気孔14の上方に位置し、第2端312aはベース10の第2側辺100bに近接する。第2本体31bもまた第1端311bと第2端312bを具え、第2本体31bの第1端311bは第1本体31aの第2端312aに設置され、第2本体31bの第2端312bはベース10から離れる方向に延伸され、第2本体31bは第1本体31aに垂直であり、こうしてL字形のガイド座体31を形成する。
第1本体31aは第1表面313aと第1表面313aに背向する第2表面314aを具えている。第1表面313aはベース10の第1表面101より離れ、第2表面314aはベース10の第1表面101と接触する。第1本体31aの第1端311aは貫通孔315aを具え、貫通孔315aは第1本体31aの第1表面313a及び第2表面314aを貫通し、並びに入気孔14に対応し、すなわち、入気孔14と連通する。第1本体31aの第1表面313aは第1収容溝316aを具え、第1収容溝316aの一端は貫通孔315aと連通し、その他端は、第2本体31bに向けて延伸される。第2本体31bもまた第1表面313bと該第1表面313bに背向する第2表面314bを具え、第1表面313bはベース10の内部に向き、並びに第2収容溝316bを具えている。第2収容溝316bは第2本体31bの第1端311bより第2本体31bの第2端312bに向けて延伸され、並びに第1収容溝316aと連通する。本実施例の第1本体31aと第2本体31bは一体成形してもよく、これについては詳しく説明しない。
被覆体32はガイド座体31を被覆し、ゆえに、被覆体32とガイド座体31は同様にL字形を呈する。被覆体32は第1被覆部32aと第2被覆部32bを具え、第1被覆部32aは第1本体31aに設置され、第1本体31aの第1表面313aと接触する第1被覆部32aの表面に第1凹溝321aを具えている。本実施例の第1凹溝321aは完全に第1本体31aの貫通孔315a及び第1収容溝316aを被覆し、すなわち、第1凹溝321aの形状は、貫通孔315aと第1収容溝316aが構成する形状に符合し、第1凹溝321aと貫通孔315a及び第1収容溝316aの間に第1気体ガイド流路33aを形成する。
第2被覆部32bは完全に第2収容溝316b内に収容され、第2本体31bと接触する第2被覆部32bの表面に少なくとも一つの第2凹溝321b及び少なくとも一つの第3凹溝321cを具える。第2凹溝321b及び第3凹溝321cは第1凹溝321aと連通する。第2本体31bと未接触の第2被覆部32bの表面に、第1出気開口322aと第2出気開口322bを具え、第1出気開口322aは第1気体流動空間111に対応し、第2出気開口322bは第1出気開口322aの上方に位置し、並びに第2気体流動空間112に対応する(図3を参照されたい)。第1出気開口322aと第2凹溝321bは連通し、第2出気開口322bと第3凹溝321cは連通する。第2被覆部32bが第2本体31bの第2収容溝316b内に収容される時、第2凹溝321b及び第3凹溝321cは第2収容溝316bとの間に、それぞれ少なくとも一つの第2気体ガイド流路33bと少なくとも一つの第3気体ガイド流路33cを形成する。第2気体ガイド流路33bと第3気体ガイド流路33cはそれぞれ第1気体ガイド流路33aと連通し、また、それぞれ第1気体出口322aと第2気体出口322bと連通する。
さらに、図5を参照されたい。それは本発明の第1実施例のフォトマスク収納容器の使用状態図である。図示されるように、フォトマスク収納容器1の二つの入気孔14に高清浄度気体4が充填される時、高清浄度気体4は入気孔14より対応する気体ガイド装置3の第1気体ガイド流路33aへと流動する。高清浄度気体4は第1気体ガイド流路33aよりそれぞれ第2気体ガイド流路33b及び第3気体ガイド流路33cに流入する。最後に第2気体ガイド流路33bに流入した高清浄度気体4は、第1出気開口322aより第1気体流動流路33aへと流れる。同様に、第3気体ガイド流路33cに流入した高清浄度気体4は、第2出気開口322bより第2気体流動空間112へと流れる。
本実施例の第1出気開口322aの開口面積は第2出気開口322bの開口面積より小さく、気体流速及び気体の第1出気開口322a及び第2出気開口322bへの流動の距離が同じで、第1出気開口322aより第1気体流動空間111に流入する高清浄度気体4の瞬間流量は、第2出気開口322bより第2気体流動空間112に進入する高清浄度気体4の瞬間流量より小さい。このほか、本実施例の第2気体ガイド流路33bの長さは第3気体ガイド流路33cの長さより短く、もし、第1出気開口322aの開口面積が第2出気開口322bの開口面積と同じとされれば、同じ気体流速及び同じ時間の下で、高清浄度気体4が第1出気開口322aより第1気体流動空間111に進入する流量は、第2出気開口322bより第2気体流動空間112に進入する流量より多くなる。
以上からわかるように、本実施例の第1出気開口322aの開口面積は第2出気開口322bの開口面積より小さく、第2気体ガイド流路33bの長さは第3気体ガイド流路33cの長さと等しい等の条件の組合せの下で、上述の二種類の状況の結果を総合すると、第1出気開口322aより第1気体流動空間111内に流入する高清浄度気体4の流量と、第2出気開口322bより第2気体流動空間112内に流入する高清浄度気体4の流量は一致させられ、これにより、高清浄度気体4が均一にフォトマスク2の各部品をクリーニングし、高清浄度気体4のフォトマスク2に対するクリーニング効果をアップでき、フォトマスク2に対するクリーニング時間を短くする時、高清浄度気体4の供給時間も減らせ、これにより、高清浄度気体4の使用量を減らして、すなわち、気体ガイド装置3により効率的に高清浄度気体4をフォトマスク収納容器1内に充填できることが示される。本実施例の第1出気開口332a及び第2出気開口332bはそれぞれ細長い矩形孔とされ、高清浄度気体4の第1出気開口332a及び第2出気開口332bより第1気体流動空間111及び第2気体流動空間112へと流れる気圧を増加させ、これにより、高清浄度気体4を第1気体流動空間111及び第2気体流動空間112に噴射させ、並びに高清浄度気体4を急速に第1気体流動空間111及び第2気体流動空間112へと流動させ、且つ第1出気開口332a及び第2出気開口332bは細長い矩形孔とされ、第1出気開口332a及び第2出気開口332bより流出する高清浄度気体4は第1気体流動空間111及び第2気体流動空間112において大面積の分布が可能で、これにより有効に高清浄度気体4のフォトマスク収納容器1の充填の効率を高められる。
同時に、フォトマスク収納容器1のベース10はさらに、少なくとも一つの出気孔15を包含し、該出気孔15は二つの入気孔14に対向し、出気孔15はもう一つの第2側辺100bに近接する(図5の例では、すなわち、ベース10の左側に位置する)。フォトマスク2がベース10に設置される時、二つの入気孔14と出気孔15はフォトマスク2の両側に位置し、二つの入気孔14より進入する高清浄度気体4を、二つの気体ガイド装置3のガイドにより第1気体流動空間111及び第2気体流動空間112に至らせ、高清浄度気体4を第1気体流動空間111及び第2気体流動空間112の一端より他端に流動させ、すなわち、高清浄度気体4にフォトマスク2の上表面21及び下表面22を通過させる。高清浄度気体4がフォトマスク2を通過する時、高清浄度気体4とフォトマスク2の残留物が混合され、残留物を含んだ高清浄度気体4が出気孔15へと流動し、並びに出気孔15より排出され、こうして有効に、フォトマスク収納容器1内を高い清浄度に保持する。
第1本体31aの第1端311aはそれに対応する入気孔14の上方に位置し、第1本体31aの貫通孔315aは入気孔14に対応し、貫通孔315aの孔径は入気孔14の孔径と同じかそれより大きくなければならない。入気孔14より流入した高清浄度気体4は、完全に貫通孔315aに流入でき、高清浄度気体4は完全に第1気体ガイド流路33aに流入し、高清浄度気体4は第1気体ガイド流路33aに沿って第2気体ガイド流路33b及び第3気体ガイド流路33cに進入し、並びに第2気体ガイド流路33bの第1出気開口322a及び第3気体ガイド流路33cの第2出気開口322bよりそれぞれ第1気体流動空間111及び第2気体流動空間112に流入し、こうして高清浄度気体4の流失が防止され、さらに高清浄度気体4の使用量を減少し、並びに高清浄度気体4のフォトマスク収納容器1内への充填の効率をアップする。
このほか、第1本体31aに設置された第1被覆部32aの第1凹溝321aの、入気孔14に対応する側壁は円弧形を呈する。高清浄度気体4が入気孔14より気体ガイド装置3に進入する時、高清浄度気体4は発散状を呈し並びに自由に第1気体ガイド流路33aを流動する。すなわち一部の高清浄度気体4は第2気体ガイド流路33b及び第3気体ガイド流路33cに向けて流動し、一部の高清浄度気体4は円弧形の側壁に接触し、高清浄度気体4は円弧形の側壁に沿って流動し、並びに高清浄度気体4は第2気体ガイド流路33b及び第3気体ガイド流路33cに向けて流動する。こうして高清浄度気体4の流動を案内し、並びに入気孔14に流入する高清浄度気体4が完全にフォトマスク収納容器1内に提供されるようにし、高清浄度気体4の使用量を減らし、並びに高清浄度気体4のフォトマスク収納容器1内への充填の効率をアップする。
本実施例のフォトマスク収納容器1はさらに連接手段17を包含する。連接手段17の両端は、それぞれ各一つの気体ガイド装置3の第1本体31aに接続され、これにより二つの第1本体31aが連接手段17により連接されて、単一装置を形成し、こうして二つの気体ガイド装置3の二つの第1本体31aがベース10の第1表面101に取付けられる。連接手段17は二つの第1本体31aと一体成形されてもよく、こうして部品数量を減らして、組立プロセスを効果的に簡易化できる。本実施例の気体ガイド装置3はまた、フォトマスク2をフォトマスク収納容器1内に位置決めし並びにフォトマスク2の二つの位置決め手段13からの離脱を防止する機能を有し、フォトマスク2がベース10の二つの位置決め手段13に設置される時、各気体ガイド装置3の第2本体31bの第1表面313bはフォトマスク2の側辺に当接し、こうしてフォトマスク2がフォトマスク収納容器1が運送過程中に発生する振動或いはぐらつきにより、フォトマスク収納容器1内で移動を発生するのを防止する。ゆえに、周知のフォトマスク収納容器1をフォトマスク2の側辺に当接するために用いられた制限手段は、本実施例の気体ガイド装置3に交換され、本実施例の気体ガイド装置3は気体ガイド機能を有する制限手段であると見なすことができる。
本実施例の被覆体32は軟性材料を使用し、これにより第2被覆部32bの厚さは第2本体31bの第2収容溝316bの厚さと等しいかそれより小さく、すなわち、第1出気開口322aと第2出気開口322bの第2被覆部32bの表面は第2本体31bの第1表面313bより低くなる。フォトマスク2がフォトマスク収納容器1内に設置される時、フォトマスク2の側辺は第2本体31bの第1表面313bに当接し、第2本体31bの第1表面313bはフォトマスク2を支持し、フォトマスク2に第2被覆部32bと第2本体31b間の第2気体ガイド流路33b及び第3気体ガイド流路33cを圧縮させず、これにより高清浄度気体に順調に第2気体ガイド流路33b及び第3気体ガイド流路33cを流動させる。同時に、本実施例の第1被覆部32aは支持柱323aを具え、支持柱323aは第1凹溝321a内に設置され、並びに入気孔14内の充気バルブ141に対応する。第1被覆部32aが第1本体31aに取付けられる時、支持柱323aは充気バルブ141の表面に当接し、並びに入気孔14を被覆せず、こうして第1被覆部32aと第1本体31a間に形成される第1気体ガイド流路33aの空間を維持し、高清浄度気体に順調に第1気体ガイド流路33aを流動させる。
図6Aから図6Bを参照されたい。それは本発明の第2実施例の気体ガイド装置の外観図及び組立図である。図示されるように、本実施例の、上述の実施例と異なるところは、上述の実施例のフォトマスク収納容器1は二つの気体ガイド装置3を具えて、各気体ガイド装置3が一つの入気孔14に対応していたが、本実施例のフォトマスク収納容器1は一つだけ気体ガイド装置3が設置され、この気体ガイド装置3が二つの入気孔14に対応することにある。本実施例の気体ガイド装置3は同時に二つの入気孔14に対応する必要があるため、ガイド座体31及び被覆体32の構造は上述の実施例とは異なる。
本実施例のガイド座体31の第1本体31aは、二つの貫通孔315aを具え、二つの貫通孔315aはそれぞれ二つの入気孔14に対応する。第1本体31aの第1表面313aはT字形を呈する第1収容溝316aを具え、第1収容溝316aは二つの貫通孔315aと連通する。被覆体32の第1被覆部32aは第1収容溝316a及び二つの貫通孔315aに対応する第1凹溝321aを具えている。図7も参照されたい。被覆体32がガイド座体31に設置される時、第1被覆部32aは第1本体31aに設置され、第1凹溝321aは二つの貫通孔315a及び第1収容溝316aに対応し、並びに二つの貫通孔315a及び第1収容溝316aとの間に、第1気体ガイド流路33aを形成する。第1気体ガイド流路33aは第2気体ガイド流路33b及び第3気体ガイド流路33cと連通する。本実施例の気体ガイド装置3の上述の実施例の気体ガイド装置3との差異は構造の違いにあり、その機能は完全に同じであるため、ここでは重複して説明しない。
本実施例の気体ガイド装置3はさらに二つの制限手段18を包含し、二つの制限手段18は座体181及び制限ストッパ片182を包含し、制限ストッパ片182は座体181上に設置される。二つの制限手段18は第1本体31a上に設置され、すなわち、各制限手段18の座体181は、第1本体31aに設置され、二つの制限手段18はそれぞれガイド座体31の第2本体31bの両端に位置する。フォトマスク2がフォトマスク収納容器1内に設置される時、各制限ストッパ片182はフォトマスク2の側辺に当接し、これによりフォトマスク2がフォトマスク収納容器1内で移動するのを防止する。本実施例の二つの制限ストッパ片182から近隣の第2側辺100bまでの距離は、第2被覆部32bから近隣の第2側辺100bまでの距離より大きく、及び、第2被覆部32bは二つの制限ストッパ片182よりも第2側辺100bに接近し、こうして、フォトマスク2は直接第2被覆部32bに当接せず、第2被覆部32bが第2本体31bに向けて圧縮されるのが防止され、これにより、第2気体ガイド流路33b及び第3気体ガイド流路33cの空間が縮小するのが防止され、高清浄度気体4が順調に第2気体ガイド流路33bと第3気体ガイド流路33cを流動する。
同様に、第2被覆部32bの第2凹溝321b及び第3凹溝321cの面積は比較的大きく、すなわち、第2被覆部32bの中空区域が比較的多く、ゆえに、第2本体31bの第2収容溝316b内に少なくとも一つの支持凸部317bが設置され、支持凸部317bは第2被覆部32bの第2凹溝321bに対応し、並びに第2凹溝321bを支持し、これにより第2凹溝321bと第2本体31bの間に形成される第2気体ガイド流路33bの空間を維持し、高清浄度気体に順調に、第2気体ガイド流路33b内を流動させる。本実施例は上述の実施例と同様に、第1被覆部31aに支持柱322aが設置され、これについては重複した説明を行わない。
図8Aから図8Cを参照されたい。それは本発明の第3実施例のフォトマスク収納容器の底面図、図8AのB区域の局部拡大図及びロック手段の表示図である。図示されるように、本実施例のフォトマスク収納容器1の上述の実施例のフォトマスク収納容器との違いは、フォトマスク収納容器1のカバー12の底面121にさらに複数のロック手段122が設けられ、ベース10の第2表面102に複数のラッチ孔104が設けられ、これらラッチ孔104はこれらロック手段122に対応することにある。カバー12がベース10に設置される時、これらロック手段122はベース10のこれらラッチ孔104に係合し、これによりこれらロック手段122がベース10に挟持され、これによりカバー12がベース10に固定される。
各ロック手段122はロック部1221及び回転アーム1222を具え、回転アーム1222の一端はロック部1221に接続され、回転アーム1222は対応するカバー12の取付け溝123内に枢接され、取付け溝123は少なくとも一つの切欠き1231を具え、切欠き1231はベース10のラッチ孔104に対応し、並びにロック部1221の設置に供される。カバー12がベース10に設置される時、ロック部1221はまずカバー12の外側に向けて移動し、並びに回転アーム1222を駆動し、回転アーム1222はロック部1221を駆動して対応するラッチ孔104に向けて移動させ、ロック部1221をラッチ孔104内に係合させる。カバー12をベース10より離脱させる時は、まず、ロック部1221を駆動してカバー12の外側に向けて移動させ並びにラッチ孔104より離脱させ、ベース10をカバー12より離脱させ、その後、ロック部1221を釈放すると、回転アーム1222がロック部1221を駆動してもとの位置に戻す。
本実施例中、各ロック部1221のラッチ孔104と接触する表面に、さらにロール1223が設けられ、ロック部1221が対応するラッチ孔104に係合する時、ロール1223がロック部1221の移動に伴い回転し、ロール1223とラッチ孔104の側壁が接触し、並びに対応するラッチ孔104内に入る。本実施例の各ロック手段122のロック部1221は、ロール1223の設置により、対応するラッチ孔104との間の接触面積が減らされ、これにより、ロック部1221とラッチ孔104間の摩擦力が減らされ、並びにロック部1221が順調にラッチ孔104を出入りできるものとされる。
本実施例のラッチ孔104のロール1223との接触の表面にさらに少なくとも一つのガイド凸部1041が設けられ、ガイド凸部1041のロール1223の接触の表面は斜面とされ、こうしてロール1223とラッチ孔104間の接触面積がさらに減らされ、有効にロール1223とラッチ孔104間の摩擦力が減らされ、ロック部1221がさらに順調にラッチ孔104を出入りできるものとされ、並びにこれらロック手段122のこれらロック部1221のベース10に対する挟持力を増加し、カバー12をしっかりとベース10上に固定し、有効にカバー12とベース10間の気密性を高める。
以上からわかるように、本発明は一種の、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器を提供し、フォトマスク収納容器内に少なくとも一つの気体ガイド装置が設置され、気体ガイド装置のガイドにより入気孔より流入した高清浄度気体がフォトマスクの上下空間に均一に分布し、高清浄度気体が均一にフォトマスクに対してクリーニングを行えるものとされ、有効に高清浄度気体のフォトマスクに対するクリーニング効率をアップし、フォトマスク収納容器の高清浄度の状態を維持し、フォトマスクと外界の空気の接触を防止し、同時に高清浄度気体の使用量を減らし、高清浄度気体の充填効率を効果的にアップする。また、本発明の気体ガイド装置はフォトマスクのフォトマスク収納容器内での移動発生を防止する効果を有する。また、本発明のフォトマスク収納容器のロック手段はロールを有し、ロック手段と対応するラッチ孔間の摩擦を減らし、ロック手段に順調にラッチ孔を出入りさせることができる。
ゆえに、本発明は新規性、進歩性及び産業上の利用価値を有し、特許法に規定する特許出願の要件を有し、ここに特許出願をいたす次第です。
ただし、以上述べたことは、本発明の実施例にすぎず、本発明の実施の範囲を限定するものではなく、本発明の特許請求の範囲に基づきなし得る同等の変化と修飾は、いずれも本発明の権利のカバーする範囲内に属するものとする。
1 フォトマスク収納容器
10 ベース
100a 第1側辺
100b 第2側辺
101 第1表面
102 第2表面
104 ラッチ孔
11 収容空間
111 第1気体流動空間
112 第2気体流動空間
12 カバー
121 底面
122 ロック手段
1221 ロック部
1222 回転アーム
1223 ロール
123 取付け溝
1231 切欠き
13 位置決め手段
14 入気孔
141 充気バルブ
15 出気孔
17 連接手段
18 制限手段
181 座体
182 制限ストッパ片
2 フォトマスク
21 上表面
22 下表面
3 気体ガイド装置
31 ガイド座体
31a 第1本体
311a 第1端
312a 第2端
313a 第1表面
314a 第2表面
315a 貫通孔
316a 第1収容溝
31b 第2本体
311b 第1端
312b 第2端
313b 第1表面
314b 第2表面
315b 貫通孔
316b 第2収容溝
317b 支持凸部
32 被覆体
32a 第1被覆部
321a 第1凹溝
323a 支持柱
32b 第2被覆部
321b 第2凹溝
321c 第3凹溝
322a 第1出気開口
322b 第2出気開口
33a 第1気体ガイド流路
33b 第2気体ガイド流路
33c 第3気体ガイド流路
4 高清浄度気体

Claims (10)

  1. 気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器において、
    ベースであって、少なくとも一つの入気孔を具えた、上記ベースと、
    カバーであって、該ベースを被覆し、並びに該ベースとの間に収容空間を具え、該収容空間にフォトマスクを収容し、該フォトマスクが該収容空間を第1気体流動空間と第2気体流動空間に区画する、上記カバーと、
    少なくとも一つの気体ガイド装置であって、該ベースに設置され、該気体ガイド装置は、第1気体ガイド流路、少なくとも一つの第2気体ガイド流路、少なくとも一つの第3気体ガイド流路、第1出気開口及び第2出気開口を具え、該第1気体ガイド流路は該入気孔と連通し、該第2気体ガイド流路及び該第3気体ガイド流路は該第1気体ガイド流路と連通し、該第1出気開口と該第2気体ガイド流路は連通し、該第2出気開口と該第3気体ガイド流路は連通し、該第1出気開口は該第1気体流動空間に対応し、該第2出気開口は該第2気体流動空間に対応する、上記少なくとも一つの気体ガイド装置と、
    を包含し、該第1出気開口の開口面積は、該第2出気開口の開口面積より小さく、これにより該第1気体流動空間内の高清浄度気体の流量が該第2気体流動空間内の該高清浄度気体の流量と同じとされることを特徴とする、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器。
  2. 請求項1記載の気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器において、該気体ガイド装置は、
    ガイド本体であって、該ベースに設置され、並びに該入気孔の上方に位置する、上記ガイド本体と、
    被覆体であって、該ガイド本体に設置され、並びに該ガイド本体との間に、該第1気体ガイド流路、該第2気体ガイド流路及び該第3気体ガイド流路を形成し、該第1出気開口と該第2出気開口は該被覆体に設置される、上記被覆体と、
    を包含することを特徴とする、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器。
  3. 請求項2記載の気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器において、該ガイド本体は、
    第1本体であって、該ベースに設置され、並びに該入気孔の上方に位置し、該第1本体は少なくとも一つの貫通孔及び第1収容溝を具え、該貫通孔は該入気孔に対応し、該第1収容みぞは該貫通孔と連通する、上記第1本体と、
    第2本体であって、該第1本体に設置され、該第2本体は第2収容溝を具え、該第2収容溝は該第1収容溝と連通する、上記第2本体と、
    を包含することを特徴とする、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器。
  4. 請求項3記載の気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器において、該被覆体は、
    第1被覆部であって、該第1本体に設置され、該第1被覆部は第1凹溝を具え、該第1凹溝は該第1収容溝及び該貫通孔に対応し、並びに該第1気体ガイド流路を形成する、上記第1被覆部と、
    第2被覆部であって、該第2収容溝内に収容され、該第2被覆部は少なくとも一つの第2凹溝及び少なくとも一つの第3凹溝を具え、該第2凹溝及び該第3凹溝は該第2収容溝に対応し、並びにそれぞれ該第2気体ガイド流路と該第1気体ガイド流路を形成する、上記第2被覆部と、
    支持柱であって、該第1凹溝内に位置し、並びに該入気孔内の充気バルブの表面に当接する、上記支持柱と、
    支持凸部であって、該第2本体の該第2収容溝内に位置し、該第2被覆部の該第2凹溝に対応し、並びに該第2被覆部を支持する、上記支持凸部と、
    を包含することを特徴とする、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器。
  5. 請求項1記載の気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器において、該第1出気開口と該第2出気開口はそれぞれ矩形孔とされることを特徴とする、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器。
  6. 請求項4記載の気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器において、さらに、
    少なくとも一つの制限手段であって、それは座体及び制限ストッパ片を包含し、該座体は該第1本体に設置され、該制限ストッパ片は該座体に設置され、並びに該フォトマスクの側辺に当接する、上記少なくとも一つの制限手段を包含したことを特徴とする、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器。
  7. 請求項6記載の気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器において、該制限ストッパ片と該制限ストッパ片のベースに近隣する側辺との間の距離は、該第2被覆部と該側辺との間の距離より大きいことを特徴とする、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器。
  8. 請求項4記載の気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器において、該第2被覆部の厚さは該第2収容溝の高さと等しいかそれより小さく、該第2収容溝の両側の表面は該フォトマスクの側辺に当接することを特徴とする、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器。
  9. 請求項1記載の気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器において、さらに、複数のロック手段を包含し、該複数のロック手段は、それぞれ該カバーの複数の取付け溝に枢設され、各該ロック手段は、
    回転アームであって、その一端が対応する該取付け溝に枢接される、上記回転アームと、
    ロック部であって、該回転アームの他端に接続され、該回転アームが該ロック部に伴い回転し、該ロック部は該ベースのラッチ孔に係合し、そのうち、該ロック部の該ラッチ孔に接触する表面にロールが嵌設された上記ロック部と、
    を包含することを特徴とする、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器。
  10. 請求項9記載の気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器において、該ラッチ孔の該ロールと接触する表面に、少なくとも一つのガイド凸部が設けられ、該ガイド凸部の該ロールと接触する表面は斜面とされることを特徴とする、気体ガイド装置を具えたフォトマスク収納容器。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018120200A (ja) * 2017-01-26 2018-08-02 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 レチクルポッド
JP2020528160A (ja) * 2017-07-21 2020-09-17 インテグリス・インコーポレーテッド レチクルを保持及び輸送するための、透明窓アセンブリを有する容器
KR20220012768A (ko) * 2020-07-23 2022-02-04 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 가이딩 부품이 있는 레티클 포드
JP2025514054A (ja) * 2022-04-19 2025-05-02 インテグリス・インコーポレーテッド ばね力ラッチを備えた回転コネクタを有するレチクル容器

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6418421B2 (ja) * 2015-01-26 2018-11-07 株式会社ニコン マスクケース、保管装置、搬送装置、露光装置、及びデバイス製造方法
CN108107672B (zh) 2016-11-25 2021-03-02 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种掩模版版盒
TWI698608B (zh) * 2018-01-11 2020-07-11 家登精密工業股份有限公司 快拆式氣閥及應用其之基板容器
TWI685711B (zh) * 2018-08-27 2020-02-21 家登精密工業股份有限公司 光罩盒及其作動方法
TWI735874B (zh) * 2019-05-09 2021-08-11 呂保儀 充氣系統
JP2025538868A (ja) * 2022-11-10 2025-12-02 インテグリス・インコーポレーテッド 指向性パージ流を有するレチクル容器
CN118818922B (zh) * 2024-09-18 2024-11-22 上海芯东来半导体科技有限公司 基于康达效应的掩模台的导流装置以及光刻机

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007329439A (ja) * 2006-05-12 2007-12-20 Miraial Kk レチクルケース
JP2008066635A (ja) * 2006-09-11 2008-03-21 Canon Inc 容器内をパージガスによりパージする装置
JP2009227305A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 E-Sun Precision Industrial Co Ltd マスク移載容器の遮蔽式入出気構造
JP2011507309A (ja) * 2007-12-18 2011-03-03 エンテグリス・インコーポレーテッド 基板の汚染を抑制するための方法および装置

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06340304A (ja) * 1993-06-01 1994-12-13 Tokyo Electron Ltd 筐体の収納棚及び筐体の搬送方法並びに洗浄装置
US5879458A (en) * 1996-09-13 1999-03-09 Semifab Incorporated Molecular contamination control system
JP4164891B2 (ja) * 1998-03-03 2008-10-15 神鋼電機株式会社 ウェーハ収納容器
US6276552B1 (en) * 1999-07-06 2001-08-21 Steve Vervisch Sealed container latch system
US6899145B2 (en) * 2003-03-20 2005-05-31 Asm America, Inc. Front opening unified pod
KR20050091222A (ko) * 2004-03-11 2005-09-15 주식회사 하이닉스반도체 포토 마스크 보관 상자
TWI262164B (en) * 2004-12-15 2006-09-21 Gudeng Prec Ind Co Ltd Airtight semiconductor transferring container
US7400383B2 (en) * 2005-04-04 2008-07-15 Entegris, Inc. Environmental control in a reticle SMIF pod
CN100542904C (zh) * 2006-12-29 2009-09-23 财团法人工业技术研究院 洁净容器扣合结构
CN201134421Y (zh) * 2007-08-10 2008-10-15 廖莉雯 光掩模充气柜结构
TW200927593A (en) * 2007-12-31 2009-07-01 E Sun Prec Ind Co Ltd Shield-type air inlet/outlet structure for transport container
TWI515159B (zh) * 2009-12-10 2016-01-01 安堤格里斯公司 用於微環境之可供滌洗氣穿透之多孔壁
TWM389928U (en) * 2010-05-28 2010-10-01 Fortrend Eng (Hsin Chu) Corporation Reticle storage

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007329439A (ja) * 2006-05-12 2007-12-20 Miraial Kk レチクルケース
JP2008066635A (ja) * 2006-09-11 2008-03-21 Canon Inc 容器内をパージガスによりパージする装置
JP2011507309A (ja) * 2007-12-18 2011-03-03 エンテグリス・インコーポレーテッド 基板の汚染を抑制するための方法および装置
JP2009227305A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 E-Sun Precision Industrial Co Ltd マスク移載容器の遮蔽式入出気構造

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018120200A (ja) * 2017-01-26 2018-08-02 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 レチクルポッド
JP2018120201A (ja) * 2017-01-26 2018-08-02 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 レチクルポッド
KR102061946B1 (ko) 2017-01-26 2020-01-02 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 레티클 포드
JP2020528160A (ja) * 2017-07-21 2020-09-17 インテグリス・インコーポレーテッド レチクルを保持及び輸送するための、透明窓アセンブリを有する容器
KR20220012768A (ko) * 2020-07-23 2022-02-04 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 가이딩 부품이 있는 레티클 포드
KR102520678B1 (ko) 2020-07-23 2023-04-12 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 가이딩 부품이 있는 레티클 포드
JP2025514054A (ja) * 2022-04-19 2025-05-02 インテグリス・インコーポレーテッド ばね力ラッチを備えた回転コネクタを有するレチクル容器

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