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TW201009946A - Heat treatment equipment - Google Patents

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TW201009946A
TW201009946A TW098111297A TW98111297A TW201009946A TW 201009946 A TW201009946 A TW 201009946A TW 098111297 A TW098111297 A TW 098111297A TW 98111297 A TW98111297 A TW 98111297A TW 201009946 A TW201009946 A TW 201009946A
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TW
Taiwan
Prior art keywords
heat treatment
exhaust
treatment chamber
inlet
outlet
Prior art date
Application number
TW098111297A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI531002B (zh
Inventor
Toshiro Kanda
Original Assignee
Espec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Espec Corp filed Critical Espec Corp
Publication of TW201009946A publication Critical patent/TW201009946A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI531002B publication Critical patent/TWI531002B/zh

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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B17/00Furnaces of a kind not covered by any of groups F27B1/00 - F27B15/00
    • F27B17/0016Chamber type furnaces
    • F27B17/0025Chamber type furnaces specially adapted for treating semiconductor wafers
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D1/00Casings; Linings; Walls; Roofs
    • F27D1/18Door frames; Doors, lids or removable covers
    • F27D1/1858Doors
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
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    • F27D17/00Arrangements for using waste heat; Arrangements for using, or disposing of, waste gases
    • F27D17/30Arrangements for extraction or collection of waste gases; Hoods therefor
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D19/00Arrangements of controlling devices
    • F27D2019/0028Regulation
    • F27D2019/0031Regulation through control of the flow of the exhaust gases

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Description

201009946 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用以加熱處理被加熱物之熱處理裝 置。 . 【先前技術】 自先前以來,下述專利文獻1所揭示之熱處理裝置係用 於製作液晶顯示器(LCD,Liquid Crystal Display)、電漿顯 示器(PDP,Plasma Display)、有機 EL(Electroluminescence, • 電致發光)顯示器等之平板顯示器(FPD,Flat Panel Display) 之製作。熱處理裝置係將預先對玻璃板等之基板(被加熱 物)塗佈特定之溶液並加以加熱乾燥而成者收容於加熱室 内,繼而使其曝露於導入至加熱室内之特定溫度之熱風中 而進行熱處理(煅燒)者。 [專利文獻1]日本專利第2971771號說明書 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] Φ 先前技術之熱處理裝置存在用以取出或放入被加熱物之 開口或缝隙等,不會呈完全密閉狀態,且於上述開口或縫 _ 隙之附近容易變為相對較低溫度。因此,伴隨著熱處理、 塗佈於基板上之特定溶液等經氣化而產生之生成氣體將於 m 開口或缝隙之附近冷卻而固化,變為所謂昇華物。昇華物 呈粒子狀或焦油狀,故而存在不僅污染熱處理裝置内部而 使被加熱物之品質下降,而且於被加熱物之取出或放入時 會漏出至熱處理裝置之外部之問題。 139516.doc 201009946 通常,熱處理裝置係設置於潔淨度相對較高之無塵室等 之中。因此,如先前技術之熱處理裝置般昇華物自熱處理 裝置漏出時,存在甚至導致無塵室之潔淨度亦降低之問 題。 鑒於上述問題,於上述專利文獻1中所揭示之熱處理裝 置中,為了防止熱處理裝置内之空氣或生成氣體漏出至外 部’而設為自熱處理裝置之内側向外側排氣,以降低熱處 理裝置内之靜Μ之構成。當設為該構成時,對於昇華物會 自熱處理裝置排出至外部之問題具有一定效果。然而,於 先前技術之熱處理裝置中,熱處理裝置内之靜壓因場所而 不同,因此當設於靜壓未充分降低之位置之開口打開以將 被加熱物取出或放入時,存在可能包含有生成氣體或昇華 物之空氣會自該開口洩漏之問題。 又,當假設存在如上所述靜壓未充分降低之場所,對篇 了抽吸而排出熱處理裝置内之空氣等而設置之排氣機構言《 定較高之排氣能力時,雖可防止由於為了進行被加熱物之 取出或放人而打開開口而導致生成氣體等發线漏,但售 產生熱處理室内之靜㈣度變低之部分的問題。因此,當 設為該構成時’若設於靜壓過度低之部分之開口打開,: 存在外部氣體將藉由該開口而流人至 處理裝置内之溫度分布變得不均勻之問題。 ¥致,、、、 ^ *本發明之目的在於提供一種熱處理裝置,其係不 易,隨著出人α之打開或關閉’而伴隨著熱處理產生之生 成乳體或昇華物等茂漏,或者產生熱處理室内之溫度分布 139516.doc 201009946 不均。 [解決問題之技術手段]
為了解決上述問題而提供之本發明之熱處理裝置之特徵 在於包含:熱處理室’其係可收容被加熱物;複數個出入 其係可對該熱處理室取出放入被加熱物;及排氣機 構八係可變更用以自上述熱處理室之内側向外側抽吸而 排出氣體之排氣能力;於上述出入σ中之任-者變為打開 狀I時’ 上述排氣機構之排氣能力,以便與變為該打 二之出入口相鄰之位置上之上述熱處理室内之靜壓較 使上述出入口成》打開狀態之前低壓(請纟項1)。 本發明之熱處理裝置t,於與設有複數個之出入口之中 變為打開狀態者相鄰之位置,調節排氣機構之排氣能力, 乂便與良為打開狀態之出入口相鄰之位置上的熱處理室内 靜堅較使出人口成為打開狀態之前低I,故而即使進行 被加熱物之取出放入,亦可防止生成氣體或昇華物等洩 漏0 又,上述本發明之熱處理裝置理想的是,於出入口尹之 任一者變為打開狀態時,調節上述排氣機構之排氣能力, 以便與該出入口相鄰之位置上之上述熱處理室内之㈣成 為該熱處理室外側之氣壓以下(請求項2)。 形成該構成之情形時,可更進—步確實地防止生成氣體 或昇華物等因出入口打開而經由出入口洩漏。 上述本發明之熱處理裝置理想的是,含有用以自熱處理 室内向外側排除氣體之排氣口 ’根據變為打開狀態之出入 139516.doc 201009946 口與上述排氣口之距離’來調節排氣機構之排氣能力(請 求項3) » 藉由該構成,可將與設有複數個之出 狀態者相鄰之位置上之熱處理室内之靜麼調節== -步確實地於被加熱物之取出放人時防止生成氣體等泡漏 之壓力。 上述本發明之熱處理裝置理想的是,含有用以自熱處理 室内向外側排出氣體之排氣口,在靠近上述排氣口之區域 A、以及對上述排氣口較上述區域人更遠離之區域b排列設 置有複數個出入口 ’设於該區域A、B之上述出入口係以 特定之順序而打開或關閉者,以配置於上述區域B之出入 口變為打開狀態之時序作為基準,於特定期間之上述排氣 機構之排乳能力高於以配置於上述區域A之出入口變為打 開狀態之時序作為基準,於特定期間内之上述排氣機構之 排氣能力(請求項4)。 本發明之熱處理裝置中,於靠近排氣口之區域A以及遠 離排氣口之區域B分別部古山、 刀另j *又有出入口,因此使排氣機構以相 同之排氣能力動作眛,^
寻存在區域B附近之靜壓高於區域A 附近之靜壓之傾向0妙 …、而,本發明之熱處理裝置係以配置 ;品域之出入口變為打開狀態之時序作為基帛,於特定 』1内之排氣機構之排氣能力高於以配置於區域A之出入 口變為打開狀態之時序作為基準,於特定期間内之排氣機 構之排孔犯力之方式動作。因此即使設於區域B之出入 變為打開狀態之情形時,亦可使出入口附近之靜壓降低 139516.doc 201009946 至與設於區域A之出入口變為打開狀態時同等程度。因 此’藉由本發明之熱處理装置,即使經由設於區域a、b 中之任纟内之出入口而取出放入被力口熱物,亦可防止生 成氣體或昇華物等洩漏。 •又’於本發明之熱處理裝置中,以配置於區域B之出入 • η變為打開狀態之時序作為基準,於特定期間内排氣機構 之排氣能力增高,因此可防止配置於區域Α内之出入口變 為打開狀態時區域Α附近之靜壓過度降低。因此,於本發 明之熱處理裝置中,可防止於使出入口成為打開狀態時, 外部氣體流入熱處ί里室内而產生熱處理室内之溫度分布不 均。 此處,通常而言,經加熱而變為高溫之氣體存在流向上 方側之傾向。因此,於上述本發明之熱處理裝置中,當形 成區域Β對於區域Α而位於上方之構成時’係假設熱處理 室内變為咼溫之氣體處於容易自區域B侧漏出之傾向。然 • 而,如上所述,本發明之熱處理裝置係以配置於區域B之 出入口變為打開狀態之時序作為基準,於特定期間内,排 氣機構之排氣能力設定得高於以配置於區域A之出入口變 為打開狀態之時序作為基準,於特定期間内之排氣能力。 因此,本發明之熱處理裝置即使形成區域3對於區域八而 位於上方’且排氣口設於熱處理室下方侧之位置之構成, 亦可確實地防止生成氣體等之洩漏(請求項5)。 上述本發明之熱處理裝置更理想的是,排氣機構之排氣 能力之調節係在複數個出入口中之任一者變為打開狀態之 139516.doc 201009946 前完成(請求項6)。 藉由該構成,在久φ λ . 〇α , 啦谷出入口變為打開狀態之前,使與該出 相鄰之位置之靜壓降低,可確實地防止生成氣體或昇 華物等經由出入口而茂漏。 f述本發明之熱處理褒置理想的是,於對構成熱處理室 且設有出入口之壁面鄰接之位置設置有排氣口,藉由排氣 機構,可經由上述排氣σ而使上述熱處理室内之氣體排出 至熱處理室之外部(請求項7)。 藉由該構成,可更進一步確實地防止生成氣體等經由出 入口而茂漏。 上述本發明之熱處理裝置理想的是,於出入口與熱處理 至之間°又有較熱處理室之内側以及外侧之氣壓更低壓之 低壓區域(請求項8)。 藉由該構成,可更進一步確實地防止於為了被加熱物之 取出放入而打開出入口時,氣體自熱處理室之内側向外侧 洩漏。因此,藉由上述構成,可更進一步確實地防止包含 生成氣體之氣體汽漏至熱處理室之外部。 又,根據上述構成,亦可防止外部氣體因出入口打開而 經由該出入口流入熱處理室内。因此,藉由上述構成可 更進一步確實地防止因低溫之空氣等自熱處理室之外側流 入内側而熱處理室内之溫度分布紊亂。 此處’於上述熱處理裝置中’當設有複數個之出入口均 為關閉狀態時’會使排氣機構處於停止狀態,或者即便使 其以必要最小限度之排氣能力排氣’生成氣體或昇華物等 139516.doc 201009946 亦不會自出入口浅漏。X,若如上所述調節排氣機構 作狀態,則可將因排氣機構之動作而消耗之能量 要最小限度。
基於上述觀點,上述本發明之熱處理裝置理想的是,於 所有出入Π均為_狀態時,調節排氣機構之動作狀態,、 以便排氣機構變為排氣流量為特定最小流量之狀態、:揮 各出入口打開時可調節之排氣能力中之最小排氣能力:狀 癌、或者停止狀態令之任一狀態(請求項9)。 上述本發明之熱處理裝置理想的是,排氣機構包含鼓風 機及變流n(invener),可藉由變流器控制來調節排氣能力 (請求項10)。 本發明之熱處理裝置中,排氣機構包含鼓錢,藉此可 向熱處理室之外❹吸存在於熱處理室内之空氣等而進行 排氣。X,排氣機構包含變流器,藉此控制變流器,並可 適當採用可調節排氣能力者。 [發明之效果] 根據本發明,可提供—種不易伴隨著出人口之打開或關 閉’而伴隨著熱處理產生之生成氣體或昇華物等產生洩漏 之熱處理裝置。 【實施方式】 繼而,一面參照圖式,一面對本發明之一實施形態之熱 處理裝置1進行詳細說明。再者,於以下說明中,關於上 下或別後之位置關係’凡未作特別聲明,均係以本實施形 態之熱處理裝置的通常之使用狀態作為基準來進行說明。 139516.doc 201009946 亦即,於以下說明中,上下係指高度方向之位置關係。 又,於以下說明中,所謂「近前」以及「前面」,係指將 被加熱物即基板w(板狀體)取出或放入至熱處理裝置或支 架(rack)上時所使用之移載裝置側之位置,即熱處理裝置 或支架之正面侧。又’將「近前」以及「前面」之相反侧 (熱處理裝置或支架之背面侧)之位置稱為「裏面」或「後 面」。又’於以下說明中,「左右」之位置關係係以自正面 側觀察熱處理裝置或支架之姿勢作為基準。 如圖1所示,熱處理裝置1係藉由熱處理裝置本體1〇而構 成主要部分。又,如圖2所示,熱處理裝置丨包含用以自熱 處理裝置本體10排氣之排氣裝(排氣機構”如圖2或圖 3所示,熱處理裝置本體1〇設為如下構成:包含由具有隔 熱挫之壁面所圍成之空間,且於該空間之内部設有調溫部 (溫度調節部)12、熱處理室13。 調皿邛1 2於内部包含加熱器丨6及鼓風機丨7 ^調溫部12經 由過濾器14而與熱處理室13相_,並與熱處理室13連通。 調溫部12藉由使加熱器16與鼓風機17作動,而將加熱後之 空乳經由過濾器14送入至熱處理室13,從而可將熱處理室 13之室内溫度加熱至特定溫度為止。 處理室13係可配置被加熱物即基板w之空間。熱處理 室13於正面13b(壁面)側、即圖2中之左侧、圖3中之下侧, 具有用以將基板w取出或放人之出人口18。出人_位於 =迷調溫部12對向之位置,且設於自調溫部12吹出之空 氣々_<·之下游側之位置。 139516.doc 201009946 出入口 18如圖1或圖2所示,相對於熱處理室13而朝上下 方向以相等間隔設有複數個(本實施形態中為四個)。更詳 細而言’假定一個虛擬平面p,該虛擬平面p於熱處理室13 之内部空間,如圖2中以兩點鏈線所示,相對於熱處理室 13之底面13a大致平行地通過熱處理室13之高度之大致一 半之位置。並且,以該虛擬平面p為分界,於上下假定有 區域XI、X2(分別相當於區域a、B)時,在位於底面13 a側 之區域XI内,於上下排列而存在兩個出入口 18(以下亦分 別稱為出入口 18a、18b)。又’在相對於區域X1而位於上 方之區域X2内,亦於上下排列而存在兩個出入口 18(以下 亦分別稱為出入口 1 8c、18d)。 於上述出入口 18a〜18d上’以能夠各自單獨作動之方式而 安裝有擋閘(shutter)Sn(n=l〜4之自然數;)。出入口 i8a~18d 呈如下狀態.藉由打開播閘§n,而可使用先前公知之包含 機械手(robot hand)等之移載裝置(未圖示)將基板賈自熱處 理室13取出或放入至熱處理室13。 於熱處理室13之大致中央部,設有用以配置基板w之支 架30。支架3 0設為於上下方向上以每隔特定間隔而排列之 方式配置有多個搁板40之構成。於支架3〇之底部,安裝有 昇降裝置(未圖示)之昇降轴36’藉由昇降軸36之伸縮,支 架30於熱處理室13内上下移動,從而可調節各出入口丨8與 各擱板40之位置關係。 於熱處理室13之底面13a設有排氣口 21。排氣口21設於 熱處理室13之正面13b側,即與出入口丨8側相鄰之位置。 139516.doc -11· 201009946 °排氣裝置 於排氣口 21上經由配管22而連接有排氣裝置i i 11包含先前公知之鼓風機或泵與變流器等,可向熱處理室 13之外側抽吸存在於熱處理室13内之空氣等而進行排氣。 於配管22之中途設有閥23。
本實施形態之熱處理裝置1係採用所謂流水作業 system)者,即,使用機械手等之移載裝置(未圖示),更換 配置在設於熱處理室13内之支架30之擱板40上且煅燒結束 後之基板W、與位於熱處理室13之外部之未煅燒狀態之基 板W ’藉此來連續地實施基板w之煅燒。以下,—昭 圖式,一面對本實施形態之熱處理裝置丨之動作進行詳細 說明。 熱處理裝置1在基板W之煅燒(熱處理)前,藉由未圖示之 控制裝置使加熱器16或鼓風機17作動而將熱風送入至熱處 理室13,以將熱處理室13内之溫度調節為特定之熱處理溫 度。當熱處理室13内之環境溫度達到特定之熱處理溫度 (本實施形態中為230。(:〜250。〔:)時,熱處理裝置!變為可煅 燒基板W之狀態。 ❹ 當如上所述熱處理室13之環境溫度達到熱處理溫度時, 如圖4所示,熱處理裝置丨之控制裝置(未圖示)為了基板| 之取出或放入,而自位於下方者開始依次打開或關閉“ 口 18a〜l8d之擋閘_=1〜4之自然數)。又,控制機構在_ · 閉最上方之擋閘S4之後,以與上述同樣之方式自最下方之 擋閘S1開始依次打開或關閉各擋閘Sn。又,控制裝置於至 各擔間%進行作動之時序之前,使支架30上下移動,以使 139516.doc -12- 201009946 應取出或放入基板W之搁板40到達相當於出入口 18a〜18d 之中變為打開狀態之出入口的位置。 熱處理裝置1可經由出入口 18a〜18d之中藉由擋閘Sn之作 動而變為打開狀態之出入口取出或放入基板1。出入口 18a 18d於為了基板w之取出或放入而分配之時間經過 時,擋閘Sn再次進行作動而變為關閉狀態。其後,下一個 撞閉Sn進打作動,而變為能夠以與上述同樣之方式於整個 特定時間内取出或放入基板贾之狀態。 此處如上所述,於本實施形態之熱處理裝置丨中,各 出入口 18a〜18d係自位於下方者開始依次打開或關閉。因 此,以各出入口 18a〜18d之中存在於區域幻之出入口18&、 ⑽變為打開狀態之時序作為基準而狀之期間a、與以存 在於區域X2之出入〇18c、18d變為打開狀態之時序作為基 準而設;t之期間b係隨著時間之經過而交替到來。於熱處 理裝置1中’係於上述期間a與期間b,切換排氣裝置^之 輸出。 具體而言,於本實施形態中,如圖4所示,於各出入口 中之個變為打開狀態之時序、與於該時序之緊 接著j面其他出人α i 8d變為關閉狀態之時序之間, 設有短暫的待機時間t。又,於本實施形態巾,熱處理裝 置1啟動後,將自相斟於θ曰, 對於取早出入口 18a打開之時序僅提前 上述待機時間t之時鬼扭 s& 序起、至區域XI之出入口 18b變為關閉 狀態為止之期間設宗氐 足為/月間a。同樣地,將自相對於設於 區域X1之出入口 1 g & 8a變為打開狀態之時序僅提前上述待機 139516.doc -13- 201009946 時間t之時序、即設於區域X2之出入口 18d已變為關閉狀態 之時序起、至區域XI之出入口 l8b變為關閉狀態為止之期 間亦設定為期間a。又,相對於設於區域又2之出入口丨8c變 為打開狀態之時序僅提前上述待機時間t之時序、即設於 區域XI之出入口 18b已變為關閉狀態之時序起、至區域幻 之出入口 18d變為關閉狀態為止之期間設定為期間卜。
如圖4所示,熱處理裝置丨於期間a内將排氣裝置n之輸 出設定為…而進行作動。藉此,如圖5所示,於熱處理室 13内之區域乂丨内,靠近出入口 18a、18b之位置之靜壓與熱 處理室13之外部氣壓Po相等或者為外部氣壓p〇以下。'因 此,即使為了基板W之取出或放入而使出入口 i8a、工扑變 為打開狀態,含有生成氣體等之空氣亦不會自熱處理室i3 之内侧向外側汽漏。又,於期間3内,設有出入口…、 18d之區域X2之靜壓高於外部氣壓p〇,出人口心、⑻處 於關閉狀態。因此’於出入口 18c、18d内,不會產生含有 生成氣體等之空氣之洩漏或外部氣體之流入。 万面,熱處理裝置1在期間
力 • 脾併虱哀置i i之 出設定為大於上述pl〇2而進行作動。藉此,如圖5 不僅於熱處理室13内之區咖,而且於區域X2内 靠近出入口 18c、 拉 8d之位置之靜壓亦與熱處理室13之外 ::P。相等或者為外部氣壓p〇以下。因此,即使在則 内為了基板W之取出或放人而使出人〇18。、咖變為打 狀態’含有生成氣體等之空氣亦不會自熱處理室13之内 °卜側以於期間b内’於區域XI内與出入口 18a 139516.doc -14- 201009946 18b相鄰之部分之靜壓低於熱處理室13之外部氣壓Po,出 入口 18a、18b呈關閉狀態。因此,於期間5内,外部氣體 不會自出入口 18a、18b流入至熱處理室13之内側,從而不 會產生熱處理室13内之溫度分布變得不均勻、或者在無法 • 預期之場所產生或附著昇華物等之不良狀況。 • 上述實施形態中,係以使設有變為打開狀態之出入口18 之區域XI、X2之靜壓與外部氣壓Po相等或者為外部氣壓 • Po以下之方式來調節排氣裝置11之輸出,但本發明並不限 定於此。具體而言,當除了區域XI、X2内之靜壓之調節 以外’亦實施有防止生成氣體洩漏之方法,即使區域χι、 X2内之靜壓為稍高於外部氣壓Po之氣壓P1,亦可防止含 有生成氣體等之空氣自熱處理室13洩漏之情形時,亦可以 使設有變為打開狀態之出入口 18之區域XI、幻之靜麼與 氣壓P1相等或者為氣壓?丨以下之方式,來調節排氣裝置u 之輸出。 φ 又’上述熱處理裝置1藉由根據變為打開狀態之出入口 18與排氣口 21之距離而調節排氣裝置^之排氣能力,來防 止含有生成氣體之空氣自熱處理室13洩漏、或者外部氣體 •經由出入口 1 8而流入至熱處理室丨3,除此以外,亦可採用 ,如圖6所不之構成’來作為防止生成氣體之洩漏或外部氣 體之流入之方法。具體而言,於圖6所示之示例中,於出 入口 18與熱處理室13之間,形成有靜壓低於熱處理室门之 内側以及外側之氣壓之低壓區域5〇。更詳細而言,於圖6 所示之示例中’在相對於出入口丨8於上方及下方相鄰之位 139516.doc 201009946 置上設有管狀之低壓區域5〇。在構成低壓區域5〇之壁面、 即與經由出入口〗8而出入之基板w對向之面51 ' 52^,設 有狹縫狀之開口 53、55。因此’當設為如圖6所示之構^ 時,即使為了基板w之取出或放入而打開出入口 18,欲自 熱處理室13向外側洩漏之氣體亦會經由開口 53、乃加以回 收,而不會茂漏至外部。又,自出入口 18向熱處理室⑶則 流動之氣體,亦係於到達至熱處理室13以前吸入至開口 5一3、55 ’而不會滲入至熱處理室13。因此,若除了如上述 實施形態中所說明之排氣機構"之排氣能力之調節以外,· 亦採用如圖6所示之構成,則可更進—步確實地防止含有 生成氣體之氣體自熱處理室13茂漏至外部、或者外部氣體 自外部流入至熱處理室13内而使熱處理室13内之溫度分布 發生紊亂等之不良狀況。 上述實施形態中,係根據自排氣口 21算起之距離而將熱 處理室13内之區域劃分為區域χι、χ2之兩個區域,並且 以設於各區域X1、乂2之出入口 18變為打開狀態之時序作 為基準而設定期間a、b,分別於各期間a、b内調節排氣裝 @ 置U之輸出,但本發明並不限定於此。具體而言,亦可將 熱處理室13内之區域進一步劃分為多個區域χη(η=3以上之 自然數),且對排氣裝置丨丨之輸出進行調節,以使設於多 _ 個區域Χη中之-個區域(區域Α)的出入口18打開時之排I . 裝置11之排氣能力,低於位於較該區域Χη(區域Α)更遠離 排氣口 21之位置的其他區域Χη(區域Β)之出入口 18打開時 之排氣裝置11之排氣能力。當設為該構成時,根據出入口 139516.doc -16- 201009946 18與排氣口 21之距離,排氣裝置丨丨之輸出將分更多階段來 進行切換’從而可對各區域χη之靜壓進行調節,以達到用 以防止含有生成氣體等之空氣自熱處理室13洩漏之最佳狀 態。 如上所述,於熱處理裝置1中,係於熱處理裝置本體1〇 之正面13b s又有出入口 18,且在相對於該出入口 a而相鄰 之位置設有排氣口 21之構成,因此可將欲經由出入口 18而 茂漏至外部之生成氣體等抽吸至排氣口 21侧,從而可確實 地防止生成氣體等之洩漏。再者,排氣口 21理想的是,如 上所述設於與正面13b相鄰之位置,但亦可設於例如熱處 理室13之底面13a之中央部、較其更稍偏靠正面13b側之位 置、調溫部I2内、或偏靠調溫部12側之位置、熱處理室13 之周壁等之適當位置。又,當將排氣口 21設於遠離正面 13b之位置時’亦可設為於靠近正面i3b之位置設置排氣取 入口’且藉由管等而將該排氣取入口與排氣口 21加以連接 之構成。 如上述實施形態中所揭示,於熱處理裝置1中,各出入 口 18以及區域XI、Χ2係於上下方向上排列,且於熱處理 室13之底面13a侧設有排氣口 21,因此存在上方侧之區域 X2内之靜壓高於下方侧之區域X1之傾向。於熱處理室13 内’空氣或生成氣體經加熱而變為高溫,故而處於流向上 方側之傾向,因此當區域X2之靜壓高於外部氣壓p〇時,有 可能防止出入口 18c、18d變為打開狀態時生成氣體產生浪 漏,或者熱能隨著高溫之空氣而洩漏。然而,於本實施形 139516.doc -17· 201009946 態之熱處理裝置1中’係設為位於上方側之區域A之出入口 18打開時,與區域B之出入口 18打開時相比,提高排氣裝 置11之排氣能力。因此,如上所述,可確實地防止含有生 成氣體之空氣自出入口18或區域χι、χ2洩漏。 再者,於上述實施形態中,例示有於左右方向(寬度方 向)上展開之各出入口 18在上下方向(高度方向)上排列之構 成,但本發明並不限定於此,亦可為例如將各出入口 18形 成為在上下方向(高度方向)上展開,且分別在左右方向(寬 度方向)上排列之構成。關於在寬度方向上排列而配置有 各出入口 18之情形時,亦可與上述實施形態中所說明者相 同,設為在各出入口 18排列之方向之一端侧設有排氣口Μ 之構成,並且設為根據自排氣口21算起之距離而假定區域 XI、Χ2,當區域Χ2之出入口 18打開時,與區域幻之出入 口 18打開時相比,提高排氣裝£11之排氣能力。藉由該構 成,於設有開口區域在高度方向上展開之各出入口Η時, 亦可防止含有生成氣體之空氣茂漏至熱處理室! 3之外側。 上述實施形態中’當各出入口18依次打開或關閉時,於 自先呈打開狀態之出入口 18變為閉止狀態開始、至下一個 出入口㈣為打開狀態為止期間,設置特定之待機時間 卜並且,使成為用以切換排氣襄置u之排氣能力之基準 之期間a、b,相對於區域χι、χ2内出入〇i8a、…變為打 開狀態之時序,提前僅待機時間…時長。因&,於熱處 理裝置1中’可將區域X1、父2内最早打開之出入口…、 18c變為打開狀態為止之期間用於區域幻、χ2之靜壓調 139516.doc -18· 201009946 節。再者,於上述實施形態中,於出入口 j8a〜丨8d中之任 一者變為打開狀態時,待機時間t皆為均等,但本發明並 不限定於此,而亦可設為例如根據需要而適當加以變更, 或者不設置待機時間t之構成。 又,上述實施形態中,係將待機時間t用於進行靜壓調 節,但本發明並不限定於此,而亦可設為在區域 之靜壓達到特定值之前各出入口 18a〜18d不會變為打開狀
態之構成。藉由該構成,可更進一步確實地防止含有生成 氣體等之空氣經由出入口 18而洩漏。 上述實施形態中,係舉出在與排氣裝置丨丨連接之配管22 上設有閥23之示例,但本發明並不限定於此,而亦可不設 置閥23。又,上述排氣裝置^亦可為能夠以任一方法來調 節排氣能力者,可適當採用能夠藉由控制變流器來調節排 氣能力者。 於上述熱處理裝置1中,當設有複數個之出入口 18均為 關閉狀態時,即便使排氣裝置u為停止狀態,生成氣鱧或 昇華物等亦不會自各出入口 18洩漏。又,當各出入口 18均 為關閉狀態時,即使將排氣裝置丨丨之排氣能力調節為進行 冷卻換氣等所必需之最小限度之排氣能力,生成氣體或昇 華物等亦不會自各出入口 18洩漏。同樣地,當各出入口 18 均為關閉狀態時,亦可對排氣裝置丨丨之排氣能力進行調 節,以達到使各出入口 18為打開狀態時之排氣裝置丨丨之排 氣能力中之最小排氣能力(上述實施形態中,區域χι之出 入口 18變為打開狀態時之輸出?1)、或者與其同等程度之 139516.doc -19- 201009946 排氣能力。若如上所述來調節排氣裝置u之輸出,則可將 因排氣機構之動作而消耗 【圖式簡單說明】 量抑制在必要最小限度。 圖圖1係表示本發明之-實施形態之熱處理裝置的立體 圖2係圖1之a — a剖面圖; 圖3係圖1之B- B刮面圖; 圖4係表示圖1所示之熱處理裝置之動作之時序圖 圖5係表示熱處理室内之位置與靜壓 _ 關係之圖表;及 圖ό係表示圖丨所示之熱處理裝置 ^ ^ Λ 茭心例之出入口附近 之構造的放大剖面圖。 【主要元件符號說明】 1 熱處理裝置 11 排氣裝置(排氣機構) 13 熱處理室 13a 底面 13b 正面(壁面) 21 排氣口 a,b 期間 χ1 區域(區域A) χ2 區域(區域Β) Χη 區域(區域A、Β) 139536.doc -20·

Claims (1)

  1. 201009946 七、申請專利範圍: l —種熱處理裝置,其特徵在於包含: 熱處理室,其係可收容被加熱物; 、复數個出入口’其係可對該熱處理室取出放入被加熱 物,·及 排氣機構,其係可變更用以自上述熱處理室之内側向 外側抽吸而排出氣體之排氣能力; :上述出入口中之任一者變為打開狀態時,調節上述 排乳機構之排氣能力,以使得與變為該打開狀態之出入 口相鄰之位置上之上述熱處理室内之靜壓比使上述出入 口成為打開狀態之前更低壓。 2,如凊求項1之熱處理裝置,其中 田出入口中之任一者變為打開狀態時,調節上述排氣 機構之排氣能力,以使得與變為該打開狀態之出入口相 鄰之位置上之上述熱處理室内之靜壓成為該熱處理室外 側之氣壓以下。 3 ·如請求項1之熱處理裝置,其中 具有用以自熱處理室内向外侧排出氣體之排氣口; 根據變為打開狀態之出入口與上述排氣口之距離,來 調節排氣機構之排氣能力。 4.如請求項1之熱處理裝置,其中 具有用以自熱處理室内向外側排出氣體之排氣口; 在靠近上述排氣口之區域A、以及相對於上述排氣口 比上述區域A更运離之區域b排列而設置有複數個出入 139516.doc 201009946 口’且設置於該區域A、B之上述出入口係以特定順序而 打開或關閉; 以配置於上述區域B之出入口變為打開狀態之時序作 為基準而於特定期間之上述排氣機構之排氣能力高於以 配置於上述區域A之出入口變為打開狀態之時序作為基 準而於特定期間之上述排氣機構之排氣能力。 5·如請求項4之熱處理裝置,其中 區域B相對於區域A係位於上方;
    排氣口係設於熱處理室下方側之位置。 6. 如請求項1至4中任一項之熱處理裝置,其中 排氣機構之排氣能力之調節係於複數個出入口中之任 一者變為打開狀態之前完成。 7. 如清求項1至4中任一項之熱處理裴置,其中 於對構成熱處理室且設有出入口之壁面相鄰接之位置 設有排氣口;
    藉由排氣機構,彳經由上述排氣口而將上述熱處理 内之氣體排出至熱處理室之外部。 8·如請求項1至4中任一項之熱處理裝置其中 於出入口與熱處理室之間,設有較熱處理室之内侧 及外側之氣壓更低壓之低壓區域。 9.如請求項1至4中任一項之熱處理裝置,其中 當所有出人口為關閉狀態時,調節排氣機構之動作‘ 態,以使得排氣機構變為使排氣流量成為特定最小心 之狀態、發揮各出入口打開時 " 町』凋即之排氣能力中之| 139516.doc • 2 - 201009946 小排氣能力之狀態、或者停止狀態中之任一種狀態。 10.如請求項1至4中任一項之熱處理裝置,其中 排氣機構包含鼓風機及變流器,可藉由變流器控制來 調節排氣能力。
    139516.doc
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102629526B1 (ko) * 2015-09-30 2024-01-25 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
CN106154601B (zh) * 2016-07-04 2019-04-30 武汉华星光电技术有限公司 烘烤装置及其排气方法
CN107799395A (zh) * 2017-09-26 2018-03-13 武汉华星光电技术有限公司 退火装置及退火方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2971771B2 (ja) * 1995-01-23 1999-11-08 タバイエスペック株式会社 昇華物除去機能付熱処理装置
GB9902099D0 (en) * 1999-01-29 1999-03-24 Boc Group Plc Vacuum pump systems
JP2003007594A (ja) * 2001-06-21 2003-01-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板熱処理装置
JP2003172583A (ja) * 2001-12-04 2003-06-20 Shoei Seisakusho:Kk プラズマディスプレイパネルの熱処理装置
JP2004033885A (ja) * 2002-07-02 2004-02-05 Mentec:Kk 集塵機
JP2005049058A (ja) * 2003-07-31 2005-02-24 Koyo Thermo System Kk 熱処理装置
JP4915981B2 (ja) 2005-07-14 2012-04-11 エスペック株式会社 熱処理装置
JP5015541B2 (ja) * 2006-10-07 2012-08-29 昭和鉄工株式会社 熱処理装置

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