[go: up one dir, main page]

TW200903530A - Voltage non-linear resistance ceramic composition and voltage non-linear resistance element - Google Patents

Voltage non-linear resistance ceramic composition and voltage non-linear resistance element Download PDF

Info

Publication number
TW200903530A
TW200903530A TW097110510A TW97110510A TW200903530A TW 200903530 A TW200903530 A TW 200903530A TW 097110510 A TW097110510 A TW 097110510A TW 97110510 A TW97110510 A TW 97110510A TW 200903530 A TW200903530 A TW 200903530A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
atom
voltage non
voltage
linear
linear resistor
Prior art date
Application number
TW097110510A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI361441B (zh
Inventor
Naoyoshi Yoshida
Hitoshi Tanaka
Dai Matsuoka
Original Assignee
Tdk Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tdk Corp filed Critical Tdk Corp
Publication of TW200903530A publication Critical patent/TW200903530A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI361441B publication Critical patent/TWI361441B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C7/00Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
    • H01C7/10Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material voltage responsive, i.e. varistors
    • H01C7/105Varistor cores
    • H01C7/108Metal oxide
    • H01C7/112ZnO type
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/62625Wet mixtures
    • C04B35/6263Wet mixtures characterised by their solids loadings, i.e. the percentage of solids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/453Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zinc, tin, or bismuth oxides or solid solutions thereof with other oxides, e.g. zincates, stannates or bismuthates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/63Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B using additives specially adapted for forming the products, e.g.. binder binders
    • C04B35/638Removal thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3201Alkali metal oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3208Calcium oxide or oxide-forming salts thereof, e.g. lime
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3217Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3241Chromium oxides, chromates, or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3244Zirconium oxides, zirconates, hafnium oxides, hafnates, or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3256Molybdenum oxides, molybdates or oxide forming salts thereof, e.g. cadmium molybdate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/327Iron group oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3275Cobalt oxides, cobaltates or cobaltites or oxide forming salts thereof, e.g. bismuth cobaltate, zinc cobaltite
    • C04B2235/3277Co3O4
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/327Iron group oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3279Nickel oxides, nickalates, or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3281Copper oxides, cuprates or oxide-forming salts thereof, e.g. CuO or Cu2O
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3284Zinc oxides, zincates, cadmium oxides, cadmiates, mercury oxides, mercurates or oxide forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3418Silicon oxide, silicic acids or oxide forming salts thereof, e.g. silica sol, fused silica, silica fume, cristobalite, quartz or flint
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/656Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
    • C04B2235/6562Heating rate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/656Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
    • C04B2235/6565Cooling rate

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Description

200903530 九、發明說明: 【發明所屬之技術區域】 本發明係有關用於保護半導體+土 叉丁守篮7L件或電子電路免受 突波(surge )或雜音干擾而使用之雷 κ川乏電壓非直線性電阻體 磁器組成物、及使用該雪愿非吉的α % 尤用忒电澄非直線性電阻體磁器組成物的 ’ 電壓非直線性電阻體元件。 【先前技術】 近年來,半導體元件或LSI等所構成之電子電路朝高 性能化發展’ 1應用於各種用途、環境。另一方面,上述 半導體元件或電子電路在低電壓下驅動的情況很多,一旦 施加過大電壓的話,.很可能會受到破壞。尤其< ,由落雷 等引起之異常突波電壓或雜音、靜電等發生時,其電壓會 施加於半導體元件等,而產生半導體元件等受到破壞的情 況。尤其是’如此之問題對於在各種環境下使用之可攜式 機器而言特別顯著。 為了對應如此之狀況,有很多設置保護用之元件的情 況’其中’上述保護用之元件係與半導體元件等^列連 接。在-般電壓施加於上述半導體元件等的情況下,=保 護用之元件的電阻變大,而電流主要流至上述半導體元件 等’使得此半導體元件正f作動。另—方面,在施加過大 電壓的情況下’此保護用之元件的電阻係減少。結果,電 抓主要流至此保護元件,可以抑制過大電流流至此半導體 ’可以抑制因過大電流流至此半導體元件所造 2030-9537'-pp 5 200903530 成的破壞 如此之保護用之元件的電流一電壓特性必須具有非 線的特性。也就是說,電阻因應電壓而變化,例如,在 ” ,[乂上’其電阻值具有急遽減少的特性。以具有如 此之特!·生的兀件而言’常見的有稽納二極體( 或❹且器(電壓非直線性電阻體元件)。相較於稽納二極體 而吕’變阻器因為在動作上沒有極性,突波耐性高易於 小型化’因此廣泛受到使用。 以變阻器而言,雖然可以使用由各種材料(電壓非直 線性電阻體磁器組成物)構成的材料,然巾,特別是由以 ΖηΟ (氧化鋅)為主成分之燒結體所構成的材料,因為其價 格或非直線性之大小的緣故,因此適合採用(例如,特許 文獻1、特許文獻2)。變阻器之電流—電壓(對數)特性之 一例係如圖10所示。在比崩潰區域大的電壓下,電阻顯 者地減少’而電流變大。在此實施例中,將電流成為— 的電壓(VI mA)稱為變阻器電壓。在此電壓以上,則流著 大電流。變阻器電壓係比半導體元件正常作動之電壓(例 如3V左右)高,且可以適當地設定在與此電壓之差不大的 電壓。 在所製得之電壓非直線性電阻體磁器組成物中,主成 分採用ZnO’並在其中添加pr (鹼土類元素)、c〇、Ai(nib 屬元素)、K(Ia屬元素)、Cr、Ca、Si等,作為產生導電 性或電流一電壓特性之非直線性等的不純物。藉由控制上 述元素之濃度,改善變阻器的壽命(特許文獻1 )、或降低 2030-9537-PF 6 200903530 變阻器的製造變異(特許文獻2)。 所製得之變阻器例如可以在與半導體元件並列連接 之形態下,組入機器(電路)而使用。在此之際,除了變阻 體之電阻以外,例如’其容量特性也對此電路之特性造成 影響。然而,在機器之温度變大而大幅變動的情況下,此 容量特性會大幅變動。因此,將變阻器組入的電路設 變得困難。 α ° 【專利文献1】日本特許第3493384号 【專利文献2】日本特開2002-246207号 【發明内容】 為了解決上述問題點,本發明之目的係提供能解決上 述問題點的發明。 為了解決上述課題,本發明係提供下述之結構。本發 明第一觀點之電壓非直線性電阻體磁器組成物係以氧化鋅 為主成分,其包括:0.05〜5原子%的卜;〇1〜2〇原子%的 Co’ 0·01〜5原子_Ca;以及〇〇〇〇5〜〇〇5原子%的^。 本發明第二觀點之電壓非直線性電阻體磁器組成物係 以虱化鋅為主成分,其包括:0.05〜5原子%的卩r ; 〇」〜 2〇原子%的(:〇; 〇.01〜5原子wCa;以及〇〇〇〇5〜〇.〇5原子 % 的 N i 〇 —另一實施例提供一電壓非直線性電阻體磁器組成物, 以氧化鋅為主成分,其包括:〇. 〇5〜5原子%的卜;〇.丨〜
原子%的Co ’ 〇. 〇1〜5原子%的Ca ;以及Cu及Ni,其中, 2030-9537-PF 7 200903530 與Ni合計共〇_ 0005〜〇· 1原子%。 另貫施例提供一電壓非直線性電阻體磁器組成物, 更包括:0.001〜1原子%的1 0.001〜0·5原子%的六1; 〇. 〇1 〜1原子%的(^;以及〇.〇01〜〇_5原子%的^。 本發明之電壓非直線性電阻體元件係具有上述之電 壓非直線性電阻體磁器組成物。 另一實施例提供一電壓非直線性電阻體元件,其具備 由該電壓非直線性電阻體磁器組成物所構成的燒結體、以 及與該燒結體連接之複數個電極。 另一實施例提供一電壓非直線性電阻體元件,其具有 内部電極與由該電壓非直線性電阻體磁器組成物所構成 之電阻體元件層交互疊積的積層構造,其中,一對外部電 極係形成於該積層構造之侧端部,且夾著該電阻體元件層 而相對之該内部電極係分別與一對外部電極之任一個連 接。 本發明因為作成上述結構,因此可以得到一個在溫度 變動之際容量特性變動小的電壓非直線性電阻體元件。 【實施方式】 以下’説明本發明之實施形態。 圖1係繪示本發明之實施形態之電壓非直線電阻體元 件之構造的剖面圖。 圖2係綠示本發明之實施例之電壓非直線電阻體元件 之容量變化率之Cu濃度依存性(未添加Ni的情況)的圖。 2030-9537-PF 8 200903530 圖3係繪示本發明之實施例之電壓非直線電阻體元件 之容量變化率之Pr濃度依存性(未添加N i的情況)的圖。 圖4係繪示本發明之實施例之電壓非直線電阻體元件 之容量變化率之Co濃度依存性(未添加Ni的情況)的圖。 圖5係繪示本發明之實施例之電壓非直線電阻體元件 之容量變化率之Ca濃度依存性(未添加Ni的情況)的圖。 圖6係繪示本發明之實施例之電壓非直線電阻體元件 之容量變化率之Ni濃度依存性(未添加以的情況)的圖。 圖7係緣示本發明之實施例之電壓非直線電阻體元件 之容量變化率之Pr濃度依存性(未添加Cu的情況)的圖。 圖8係繪示本發明之實施例之電壓非直線電阻體元件 之容量變化率之Co濃度依存性(未添加Cu的情況)的圖。 圖9係繪示本發明之實施例之電壓非直線電阻體元件 之容量變化率之Ca濃度依存性(未添加以的情況)的圖。 圖10係繪示一實施例之電壓非直線電阻體元件之電 流-電壓特性圖。 如圖1所示’電壓非直線性電阻體元件(變阻體)i係 由分成3層而形成之電壓非直線性電阻體元件層2、夾在 其間而形成之内部電極3、與内部電極3連接之外部端子 電極4所構成。雖然不限定大小,但是,以電壓非直線性 電阻體7L件1全體的大小而言,長(〇4〜56111111))<寬(〇.2 〜5.0 mm)χ厚(〇·2〜1. 9mm)左右。此大小係大約與疊積 之電壓非直線性電阻體元件層2全體的大小相等。 電壓非直線性電阻體元件層2係由電壓非直線性電阻 2030-9537-PF 9 200903530 體磁器組成物所構成,其係以Zn〇為 細内容如後所述。 主成刀的燒結體。詳 内部電極3之材質與電壓非直線 开且艰性電阻體兀件 界面特性良好,可以使用與其電性 、 冤性接觸良好的金屬(導電 因此’亦可使用貴金屬’例如HAg、或Ag_pd 口金。在適用Ag—Pd合金的情況下,“含有量以 %以上者較佳。内部電極3之屋洚 之厚度雖然可以適當地決定, 但是,以0. 5〜5以m左右者較佳。 另外’内部電極3間之 距離為5〜50/z m左右。 门( 雖然外部端子電極4之;{5}·暂;了 & 心材質也不特別限定,但是,盥 内部電極3同樣地,使用Pd $ Α ” u戎iig、Ag — Pd合金。雖然兑 厚度也可以適宜地決定,但B 八 疋 以10〜50#m者較佳。 在此電壓非直線性雷卩且@ + 1 电阻體70件1中,1對内部電極3 間之電阻係藉由該施加電壓而 电歷而變動。也就是說,其間之電 流-電壓特性係呈現非線性變動。尤其是,一旦電壓變高 的話,電流會呈現非線性地増大。因此m對外部端子 電極4與外部半導體元件等並列地連接的話,則在半導體
元件施加過大電壓的悟、-57 T 电㈣^况下’彳以使電流主要通過此電壓 非直線性電阻體元件卜而得以保護半導體元件。 以電壓非直線性電阻體元件之基本的構造而言,可以 有電壓非直線性電阻體元杜思 „ t ^ 件層、以及與其連接之複數個電 "在此實鉍例中’電壓非直線性電阻體元件層係可以是 由電壓非直線性電阻體磁器組成物所構成的燒結體。在圖 之'。構中#由形成由燒結體與内部電極交互疊積而成
2030-9537-PF 200903530 的積層構造,形成複數個電極。此内部電極3係分別與 形成於此積層體之端部的外部端子電極4連接。 、 關於以上之結構,因為特開2〇〇2_2462〇7號已有記 載’因此省略其詳細説明。 在本發明之電壓非直線性電阻體元件中,尤其是,藉 由控制電壓非直線性電阻體磁器組成物内所添加之不純 物,改善其特性。而且,電麼非直線性電阻體元件之構造 不限於圖1所不之形態,若是使用相同之電麼非直線性電 阻體元件層的話,可以得到相同效果。 在此實施例中,對於電壓非直線性電阻體磁器組成物 來說’除了保持良好的電流-電壓特性,更要求在温度變 動之際的容量特性變動要小。 了萬足上述要求,以此電壓非直線性電阻體元件層 可乂使用以ZnO為主成分的燒結體(陶瓷體)。在 此燒結體中’添加有Pr、c〇、Ca及、c“iNi。也可以同 時添加CU與Nl。而且,也可以添加K、A卜Ci*、及Si。 實包例中,因為ρΓ之離子半徑大於Zn,故難以 進入U中之ZnQ結晶内’而蓄積於結晶粒界。藉此, 阻礙電子在I。晶粒界之移動’成為電流電壓特性呈現非直 線I·生的原目。也就是說,藉由Pr之添加,可以得到非直 線味藉由其適量添加而適度設定變阻器(varistor)電 壓。Co、Ca、Cr 4 pi 4¾ , , . 也同樣地提升其非直線性,藉由其適量添 加,得以控制變阻器(varist〇r)電壓。 另卜A1 (IIIb屬元素)在ZnO中係具有施體(donor)
2030-9537-PF 11 200903530 的功此’產生導電性。因此,藉由此添加可以在圖⑶中之 歐姆區域流過大電流。但是’ 一旦此添加量多的話,則漏 電流變大。…在Zn0中之導電性係藉由格子間zn而產 生。 另一方面,Cu或Ni係固溶於Zn0中,使漏電流降低。 發明者們除了藉由控制以上之不純物濃度,而保持良 好的電流一電壓特性之外,還發現可以使温度變動之際的 容量特性變動變小的範圍。 為了達成上述範圍’例如,Pr為〇. 05〜5· 〇原子%、 Co為0. 1〜20原子%、Ca為〇. 〇1〜5. 0原子%、及Cu或 Ni為0.0005〜〇·〇5原子%。在此實施例中,在添加Cu的 情況下則未添加Ni ;在添加ni的情況下則未添加Cu。在 此實施例中’所謂的未添加係指濃度未满〇. 〇〇〇1原子%以 下。 另外’在Cu與N i同時添加之情況下,將pr、c〇、Ca 之組成控制在上述的範圍内,且將Cu與N i之合計控制成 0· 0005〜0. 1 原子 %。 在上述之範圍的情況下,可以使以2 5 °C之情況為基準 的85°C下的容量變化率控制在ι〇%以下。另外,在此組成 範圍内,可以將85X:之介電正接(tand)控制在15%以下, 或者’控制在11 %以下。因此,在此組成範圍内,伴隨溫 度變化之容量變化率、及介電損失係顯著地變小。因此, 伴隨該電壓非直線性電阻體元件之温度變化的容量特性 之變動係變小,而使得應用該電壓非直線性電阻體元件的 2030-9537-PF 12 200903530 裝置設計變得容易。 另外,在下列添加情況下,也可以得到同樣的效果, 其中,〖為0.001〜1.0原子%、八1為〇〇〇1〜〇5原子%、 Cr為〇_ 01〜1. 〇原子%、Si為〇. 〇〇1〜〇. 5原子%。 而且,以上述以外之元素而言,例如,也可以添加M〇 或Zr。在此種情況下,例如’ M〇為〇 5原子%以下、化 為0. 1原子%以下的話,也可以得到同樣效果。 因此,使用燒結體作為電壓非直線性電阻體磁器組成 物的情況下,使用此電壓非直線性電阻體元件之裝置的設 汁變知今易,其中,該燒結體乃是在將相對於之添加 物控制於上述組成範圍的情況下而添加。而且,作為主成 分之ZnO在燒結體中之含量(單獨Zn的原子%)係在85%以 上、或94%以上。 接著,説明此電壓非直線性電阻體元件丨之製造方法 的一實施例。 因為此電壓非直線性電阻體元件所用之電壓非直絲 性電阻體磁器組成物為燒結體,所以’實際上可將疊積之 ”固電壓非直線性電阻體元件層2與!對内部電極3進行 一體燒結而形成。因此,例如,藉由使用膠(卯办)之 印刷法或平板(sheet)法而製作生胚薄板,並進行燒成, 可以得到疊積之電Μ非直線性電阻體元件|2、内部電極 3。此後,可以藉由印刷或轉寫外部端子電極4進行燒成 而製造。以下,具體地說明此製造方法。 首先’分別準備電壓非直線性電阻體磁器組成物用 2030-9537-pf 13 200903530 膠、内部電極用膠、外部端子電極用膠。 電壓非直線性電阻體磁器組成物用膠係 ^从疋將電 壓非直線性電阻體磁器組成物用原料與有機煤介物 (organic vehi le)混練而得之有機系塗料或水系塗料 對於電壓非直線性電阻體磁器組成物用原料而1, 應上述電壓非直線性電阻體磁器組成物的組成,配:使= 構>成主成分(ZnO)的原料、與構成各添加物成分㈣料。 也就是說,以原料而言,係混合了作為主成分之粉末、 由作為添加物之 Pr6〇u、c〇3〇4、CaC〇3、⑽、^ 2〇3、=&、
Al2〇3、Cr2G3、Si〇2#添加物元素所組成的氧化物、碳酸鹽、 草酸鹽、氫氧化物、石肖酸鹽等粉末。此時之Zn〇粉末的粒 徑為〇·ι〜—左右’而添加物成分粉末的粒徑為〇 ι〜3 仁m左右。 有機煤介物指的是將接㈣溶解於有機溶劑中的混 合物。使用於有機煤介物中的 叶;「嗯甲的接者劑並不特別限定,亦可 伙乙稀纖維素、聚乙稀醇缩丁繼:莖、s + 邓聆縮丁醃等通常之各種接著劑中適
且地選擇。另外,使用之右地、々丸丨L 便用之有機溶劑也不特别限定,係可以 因應印刷法、或平板法等利用之方法,而從松脂醇 pineol) 了基卡必醇(butyicarbi⑻)、丙嗣、甲苯 等各種有機溶劑中適宜地選擇。 、另卜所明水洛系塗料,係使水溶性接著劑或分散劑 溶解於水的水系游雜 . ^體。水各系塗料並不特 例如也 可從聚乙烯醇、鑪缺本 r , 纖維素、水溶性壓克力樹脂戒乳液 (emulsion)適當地選擇。
2030-9537-PF 200903530 内部電極層用膠係將由上述之pd等各種導電材、或 是於燒成後形成上述導電材的各種氧化物、有機金屬化人 物、樹脂酸鹽(Resinate)等、與上述有機煤介物混練而調 製。另外’外部端子電極用膠也與此内部電極層用膠同様 地調製。 各膠中之有機展色劑之含有量並不特別限制,通常之 含有量例如可以是接著劑介於卜5重量%左右、溶劑介於 10〜50重量%左右。另外,在各膠中,因應需要,也可含 有選自各種分散劑、可塑劑、介電體、絕緣體等的添加物。 在使用印刷法的情況下’於聚乙烯對苯二甲酸醋 (polyethylene-telephthalate, PET)等基板上,以預 定厚度將電壓非直線性電阻體磁器組成物用膠進行複數 次印刷’而形成圖1所示之下側的電壓非直線性電阻體元 件層2。 接著’在其上’以預定圖案’印刷内部電極用膠,而 形成生胚狀態之下側的内部電極3。接著,與前述一樣, 在此内部電極3之上,以預定厚度將電壓非直線性電阻體 磁器組成物用膠進行複數次印刷,而形成圖1所示之中間 的層間電壓非直線性電阻體層2。 接著’於其上,以預定圖案印刷内部電極用膠,形成 上側之内部電極3。内部電極3係以在相對之相異端部表面 路出的方式印刷。 最後’與前述一樣,在上側之内部電極3上,以預定 厚度’將電壓非直線性電阻體磁器組成物用膠進行複數次 2030-9537-pp 15 200903530 印刷’而形成圖1所示之上侧的電壓非直線性電阻體元件 層2。之後,一邊加熱一邊加壓、壓著,並切成預定形狀 而作成生胚晶片。 在使用平板法的情況下,使用電壓非直線性電阻體磁 器組成物用膠而形成生胚平板,之後,疊積預定枚數的生 胚平板,形成圖1所示之下側的電壓非直線性電阻體元件 層2接著於其上,以預定圖案印刷内部電極用膠,形 成生胚狀態的内部電極3。 同様地,在圖1所示之上侧的電壓非直線性電阻體元 件層2之上,形成内部電極3。將内部電極3夹於疊積預定 枚數之生胚平板而形成之中間的電壓非直線性電阻體元 件層2之間(如圖丨所示),且内部電極3彼此相對並以在 相異之端部表面露出的方式重疊。一邊加熱一邊加壓、壓 着’並切成預定形狀而作成生胚晶片。 接著,對此生胚晶片進行脱膠處理及燒成,而製作燒 結體(3個電壓非直線性電阻體元件層2與ι對内部電極3 所疊積之構造)。 脱膠處理係可以在通常之條件下進行,例如’在空氣 環境中,將昇溫速度控制在5〜3〇(rc /小 温度控制在―。。左右、將温度保持時間: 〜24小時左右。 /胚晶片之燒成係可以在通常之條件進行。例如,在 空氣環境中,將昇溫速度控制在5〇〜5/,士 3UU C /小時左右、將 保持温度控制在iOOO—HOOt左右、將、、日 將,皿度保持時間控制 2030-9537-PF 16 200903530 牡U.!d〜8小時左右、將冷卻速度控制在5〇〜5〇(rc/小 時。一旦保持溫度過低的話,則導致無法充分緻密化;一 旦保持溫度過高的話,則會有因為内部電極之異常燒結而 發生電極斷裂的其況。 在所得之燒結體上實施滾輪(barre 1 )研磨或喷砂 (sandblast)研磨,進行端面研磨,並將外部電極用膠 =刷或轉寫且燒成,而形成外部電極4。外部端子電極用 膠之燒成條件可以控制成,在空氣環境中、於600〜90(TC 下、ίο分鐘〜1小時左右。 [實施例] 以下,以電壓非直線性電阻體元件作為實施例,其 中該電壓非直線性電阻體元件係以將前述添加物元素濃 度控制在則述組成範圍内之情況下的ZnQ燒結體作為電壓 非直線性電阻體元件層。同様地,把使用其它驗燒結體 -將前述添加物%素濃度控制在前述之組成範圍外)之 情況下的同元件當作比較例,並顯示調查上述之特性的結 實&例t所製造之電壓非直線性 的大小為1 6mn^n s λ Τ ^ ._x0· 8mm。該製造方法係在前述之平 板法下進行,而雷壓非士 1 曰、θ% 非直線性電阻體元件層等的燒結係在 幵溫速度為300。<:八〗、拄7 % qnn〇r ,, .、保持溫度為1 250°C、降溫速度 馬dUU C /小時的情汧 連接電極採用Ag。仃。内部電極採用Pd’而外部 下針對各式料’測定變阻器電壓、漏電流、容量 2030-9537-pp 17 200903530 變化率、介電正接。 在此實施例中,所謂變阻器電壓,係定義為電流成為 1mA的電壓(vimA)。也就是說’在此電壓非直線性電阻體 元件與半導體元件並列連接的情況下、在施加此電壓以上 之電壓的m ’電流主要流過此電a非直線性電阻體元 件’半導體元件受到保護。 容量變化率乃是以溫度為25。〇之情況為基準之85〇c 下的變化率(AC/C)。容量與介電正接係以Hp社製L(:R計 HP4184A而測定。為了使此電壓非直線性電阻體元件所用 之機器的設計更容易,則容量與介電正接係以小者較佳。 漏電流係施加電壓為3V之情況下的電流(Id)。也就 疋說,此漏電流係指,在半導體元件通常使用之電壓下, 流過此電壓非直線性電阻體元件的電流,以小者較佳。 就評價基準而言,以容量變化率為1〇%以下、 介電正接(tand)為15%以下、在3V下之漏電流為ι〇 nA 的情況稱為合格。其中任一項在範圍外之情況成為不合格。 在實施例1〜34、比較例1〜12中,未添加Ni(濃度 0.000 1%以下),改變1^、(:〇、^(:11的濃度。在各實施 例中,Pr、Co、Ca、Cu的濃度分別在〇. 〇5〜5· 〇原子%、 0.1〜20 原子 %、0.01 〜5.0 原子 %、〇_〇〇〇5〜〇 〇5 原子 0/〇 的範圍内。在比較例1〜12中,上述元素中僅丨種類的組 成控制在上述範圍外。表1係顯示上述之測定結果。 2030-9537-PF 18 200903530 2030—9537lpf 埤 择 CO 私 煞 CO CO 赛 CO ro 第 OS 萚 第 ISO CO 揆 to oo 蔡 DC ISO 05 择 CsD CJI 萚 CO 蔡 to CO rr 眾 桊 to to 4 莽 麥 g 茶 CO tr 朵 CO 4 OO σ> n oo 择 4 茶 s 第 CO -3 ** P^·* o 第 CO 0«· oo -J 05 4 赘 C71 rr <x> <T« CJI rr rr § CO 所 CO to =4 笋 1-1 F j» CO 試料號碼 1 00 ς〇 cn ο oc CO CO CO CJ1 CO to CO o CO CO CO oo CO CJI oo CJI CD CO g oc CO 00 o OO CO CD CO g g CO CO g ς〇 CO CO g CO 私 CO g CO JND OO CO g <〇 •to CO g CD CsD CO OO g CO to CO <〇 oo CO a oo CO CO cn <〇 a ς〇 CD on oo OC g OO CO s g CO g CO 03 S CO 老 CO g -J g CO CJI cc 05 g o cc 05 CO C£> tn bo g 1 77.7980 oo CO g CO CO g CD 05 g cc CO CO oo σ> o g cc g CC g CO to g 92.7000 1 92.7500 I CD to c f§ g <£> to -J ςρ to CO CSD CD CD CO Γ° 00 g ο atm% 1 ga tn g § U1 o g cn o g o CJ1 g o CJI g g cn g g ΟΊ g 〇 cn o § cn § o CJI o o cn o o o cn o a cn o o ΟΊ o o cn o g o CJI o o cn o o o VI o O CJI o a o cn g g 1 5,0000 ςτι g g an g g CJI ο ο cn o g o g § g o g o o o o 二 g IND VI g g g : g o ϋΐ o g o CJI o g t=» o o 1 0.5000 1 o g o g a 0.0100 i 5.0000 1 cn o g o cn g g CJI g c 5.0000 1 5.0000 1 cn c c ςπ ·<= ο ο ε〇 & ο rs.·) g o g o o o g g § o g o h〇 g o h〇 o g c tNO Q o o o Q g g o 〇 ro o o o ro g o g o g o o s o o s o o o o g § g g g g o g ο § o o rs〇 o o o ro o o o ro o o o ΙΌ o g o ro g g ro o o o ro o g ro g o to o o o CSD a § DO o o o to o a c co o § o CO c c CO g g CO ◦ o o to o c o to c c ISO o c o to g g to g g 09 r+ CJl § o CJ1 § o o o o o o -J g cn g g CO o g 1 2.0000 g g o s g o 謹 O o s o o o o 0 g 1 o g g o s a o g g o g g o g s CD s CD O s o o g g o § a ο g g 〇 s o o g g o g g o g g o s g o g g o g o o g g o g o o g o o g § 1 0.2000 Π 1 0.2000 1 1 0.2000 1 0.2000 1 0.2000 1 1 0.2000 I 0.2000 | 0.2000 I 0.2000 1 0,2000 1 ο g c atm% 1 ! 0.0500 ] 1 0.0005 1 0.0500 1 0.0005 1 0.0020 1 0.0020 1 1 0.0020 1 1 0.0020 Ί g g o o g o g o g g 1 0.0020 1 0.0020 o o s o 〇> 0 1 o § o 1 0.0005 1 0.0020 〇 g g 1 0.0020 1 0.0020 1 1 0.0020 ! 1 0.0020 1 o g g 1 0.0500 1 1 0.0005 1 1 0.0500 j 1 0.0005 1 o o s o 1 0.0020 1 0.0020 1 0.0020 1 0.0020 I 1 0.0020 1 1 0.0020 1 ,0.0020 Ί ! 0.0020 1 0.5000 1 1 0.1000 i i 0.0500 Ί i 0.0100 1 1 0.0050 1 1 0.0005 1 0.0001 1 0.0000 1 atm% I ? po 00 00 CO 00 oo 00 00 CO 00 to 00 CO 00 to 00 私 00 1-^ 00 CO 00 CO 00 00 ZD 00 CO 00 00 CO oo 00 N«> 00 cc 00 oo oo 00 CO 00 H-» 00 CN〇 00 -0 CD 00 CO 00 0〇 CO 00 tv〇 00 to 00 o 00 1-» -J CO oo CO oo CO /-N 5 艮 CO 03 OJ hu. cn CO oo i 78.2 | ts3 CO END OO N>a to o H-< -a 00 00 o CO oo OJ cc to to oo Γ 32.2 1 1 29.9 1 Cn〇 -J oo GO 产 05 25 CJI 产 CJI CO 产 cc 1 48.9 1 cn CO CO CO CO to •CO CO oo o Γ 67.0 1 cn 03 Γ 67.1 1 Γ 78.2 ΙΝ0 CO -J oo JN3 CO oo CD ω oo Γ4 o /-N 邑 s CO JO po ->g oo oo σ> μ·· CO oo 二 OO o 叫 a, •-J CD po 00 CJI 00 oo 二 CD CO Γ 17,1 ' ai CO CO CO CO •OO tn po CO 00 CO oo po -J CO •oo CO CO oo po o 00 •oo CsD 00 二 po CO po CO CO s 00 K) 00 Γ 17.3 00 L oo tN〇 oo o oo m p ►-» tn 03 s Q o oo cn o° 's-/ o CO CD CO Ol CO σ> 1^ 25J_I IS5 ·ς〇 OO CD 03 0〇 05 -a OO CO po 1 21.1 ►-* CO oo ς〇 CJI to ·〇, g Ϊ_10.2 」 •CD CJI CO cn Ξ Ξ oo o CO zo CO o •CO 1-· to CO -0 CO CO •CO to CO 03 •CD CO •Ξ to to ― 1 38.7 CO 00 5 CO CO CO oo z 1 21.1 /-*N 3 〇7 (S> oo CJI o° 〇 〇 〇 〇 X 〇 〇 〇 〇 〇 X 0 〇 〇 〇 X X 〇 〇 〇 〇 X 〇 〇 〇 〇 X 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X X X X 〇 〇 〇 〇 X X 1 評價 Ca大 1 1 Ca 小 | 丨Pr大 1 l PrA 1 o o o p > o 1 無Cu 海 200903530 參考表1之結果,尤其是,請注意Cu濃度,關於比較 例5〜12 (其它元素在上述範圍外)以外之試料,研究容 罝變化率與Cu濃度之關係、的結果如gj 2所示。彳以確認, 在Cu濃度為〇_〇005〜〇.〇5原子%之範圍中,容量變化率成 為m以下之低值。同時,在此範圍内,介電正接、漏電 流也分別保持在15%以下、10nA以下(實際上為9nA以下)。 同様地,參考表1之結果,尤其是,請注意Pr濃度, 關於比較例1〜7、11、12 (其它元素在上述範圍外)以外 之忒料,研九谷I變化率與ρΓ濃度之關係的結果如圖3所 示。可以確認,在Pr濃度為〇 〇5〜5 〇原子%之範圍中, 谷罝變化率成4 10%以下之低值。同時,在此範圍内,介 電正接、漏電流也分別保持在15%以下、10nA以下(實際上 為9nA以下)。 同様地,參考表1之、结果,尤其是,請注意Co濃度, 關於比車又例1〜4、8〜12 (其它元素在上述範圍外)以外 ,試料,研究容量變化率與Co濃度之關係的結果如圖4所 厂、。可以確㈣,在Co濃度為〇. 1〜20原子%之範圍中,容 量變化率成為1。%以下之低值。㈣,在此範圍内,介電 接漏電机也分別保持在15 %以下、1 〇 η A以下(實際上為 9nA以下)。 、 同様地’參考表1之結果,尤其是,請注意Ca濃度, 關於比較例1〜10 (其它元素在上述範圍外)以外之試料, 研究容量變化率與Ca濃度之關係的結果如圊5所示。可以 確《忍,在Ca濃度為〇 〇5〜5 〇原子%之範圍中,容量變化
2030-9537-PF 20 200903530 率成為m以下之低值。同時’在此範圍内,介電正接、 漏電流也分別保持在15%以下、腕以下(實際上為9 下)。 根據以上内容可以確認,在未添加Ni而添加a的情 況下’在ρΓ為〇·05〜5 0原子%、c〇為〇 ι〜2〇原子 Ca為0.01〜5.0原子%、及以為〇 〇〇〇5〜〇 〇5原子%的組 成範圍中,容量變化率顯著地變小至1〇%以下。另外,在 此範圍内,介電正接、漏電流也分別成為15%以下' ι〇ηΑ 以下(實際上為9nA以下)的低値。此時,任一變阻器電壓 皆相同。在比較例1〜12中,雖然是相同的變阻器電壓, 但是任一容量變化率、介電正接、漏電流皆變得比實施例 1〜31大0 同様地’在實施例3 5〜6 8、比較例13〜2 4中,未添 加Cu (濃度0. 00〇 1 %以下),改變pr 、Co、Ca、Ni之濃度。 在各實施例中,Pr、Co、Ca、Ni之濃度分別控制在〇. 〇5 〜5.0原子%、0.1〜20原子%、0·01〜5.0原子%、〇 0005 〜0. 05原子%的範圍内。在比較例13〜24中,僅將上述元 素中之1種類的組成控制在上述範圍外。表2係顯示上述 測定結果。 2030-9537-PF 21 200903530 2°3°丨9537 — ?3? Η 棼 0¾ 00 a\ σ> σ> 笋 σ> cn fr 谗 to 私 棼 CD 各 第 σ> CO 第 03 to 4 濟 2 第 CT tn CO 茶 CJl oo C7 n to CO 第 cn σ> 第 ςη ςη 4 荼 QJ1 棊 a 效 CO to 效 IS: 寮 s CJ· g eo cr 效 ts〇 CD 濟 oo 4 齊 -< Oi CJl 薄 莽 έ: 第 CO to ** CO <〇 F » rr rr s s » 5ΐ 莽 CO -J 莽 CO σ> 伊 CO C71 Cr tr s 1 試料號碼 1 OC cc g G OC cc ς〇 CO CJl CO •CO CO c C£> to CO OO CD tn 00 tn CO CO g OC CC CD CO o oo CO CO oo o G CC CO CO CO ς〇 00 o CO CO kU. eo 丨 92.8980 CO r° CO g CO •tO CO oo oo CO JS3 CO CO oo CD g 00 CO CO cn CO c 1 94.7495 00 OC g £ g CO CO CO 若 CO <1 t? c -i CO CJl cc CT g o cc o; CO <〇 cn f: Λ g 〇d to 若 β β g CC CO <0 g cc σ: CO a cc 二 c cc « eo CO o O o cO Ο Ο c〇 cc c cO CO g 92.7995 1 5§ CO r° oo o c atin% S3 ϋΊ 〇 C CJl = c o •tn c c 1 5.0000 an g g •Ol c c cji g g .°1 o c c CJl G c •tn o c c CJl o g CJl g G 1 5.0000 CJl <〇 o o tn g c CJl 。 c o ϋΐ c g <yi c c jyi c G cn O § c 1 5.0000 y\ § s CJl o c o CJl c c U1 g c o G g g c o 二 o c o g g o g c: g o ςί ο § CJl g o 1-· O o o p g o ― c o s o •o o tn g o •ϋΊ g C QJl ο § Ο CJl g § ϋΊ c c 5.0000 1 CJl O c o ϋΐ c c atm% 1 o ts〇 o o ro o g G tso g g 1 2.0000 1 ΓΌ o g i 2.0000 1 ΓΟ G c 1 2.0000 1 1 2.0000 1 1 2.0000 ] 1 2.0000 1 1 2.0000 i 1 2.0000 ! 1 2.0000 i 1 5.0000 1 5.0000 1 0.0500 1 0.0500 1 10.0000 1 7.0000 1 5.0000 Γ 3.0000 i 1 1.0000 ! 1 0. 0500 1 0.0100 1 2.0000 1 2.0000 1 2.0000 I 2.0000 I 2.0000 1 1 2.0000 1 END C G 1 2.0000 1 1 2· 0000 | 1 2.0000 1 2.0000 1 ! 2.0000 1 2.0000 1 2.0000 1 2.0000 1 2.0000 1 2.0000 1 2.0000 1 2.0000 | 2.0000 1 2.0000 | atm% 1 1 5.0000 1 1 5.0000 1 1 0.0100 1 1 0.0100 1 o o 1 5.0000 1 CO a a 1 2.0000 1 1 1.0000 1 1 0.5000 1 1 0.1000 1 1 0.0500 1 1 0.0100 1 o o s 1 0.2000 i | 0.2000 1 0.2000 ! 1 0.2000 1 0.2000 1 0.2000 i 1 0.2000 i O g o 1 0.2000 1 1 0.2000 1 1 0.2000 1 1 0.2000 1 0.2000 1 0.2000 i 1 0.2000 O g o 1 0.2000 1 1 0.2000 1 g o 1 0.2000 1 1 0.2000 1 1 0.2000 | 1 0.2000 1 0.2000 1 0.2000 1 0.2000 | 0.2000 1 i 0.2000 1 0.2000 1 0.2000 | 0.2000 | 0.2000 I atm% 1 O o g o O 0 1 o 5 o 0 1 o o g O o s O o CD s cr> 1 0.0020 1 o <=> s o O g g 1 0.0020 1 1 0.0020 1 O g g o o s o O o g o 1 0.0005 O o s o 1 0.0005 o o g o O o g O g g o g g O o s o O g g 1 0.0020 O o g o O o s O s g O 0 1 C3 〇 S o 1 0.0020 O o S O o o g o 1 0.0020 1 0.0020 1 O g g o a g ! 0.0020 1 0.5000 1 0.1000 1 1 0.0500 I O o o O c s O 0 1 0.0001 1 0.0000 I & 2: 00 oo 00 CO 00 CO -a 00 00 N~> CO 00 tO CO 00 00 tc 00 私 00 »->· 00 OS 00 ca 00 00 CD 00 Cn3 00 00 c^o 00 00 00 tO 00 CO 00 00 IND 00 CO 00 N-* oo oo 00 CO 00 CO 00 CO 00 tmi4 00 o 00 o -J CD 00 K-· 00 CO /"V s 1 VlmA CO 私 CO a> CJl 03 tsD A tn CO -J to o o o 09 私 00 oo o CO cjn CO oo 00 二 CJl 00 •① |ND Ca3 CO CO 私 00 1 78.9 o CO 二 CO oo 产 CD CJl oo Cs3 CO σ> CO 03 CO tN3 产 CJl oo oo 3 CD UJ CD 1 78.3 产 tn oo eo po cc CO 私 1 58· 4 oo (=» ^-1 a- 驾 CD oo •00 -J CD 二 p CD CJl oo 二 •CO cn -4 CO oo oo ? Oi co -一 5° o p zo CD to 1-» 1-- CO OO CO OO 一 00 00 oo 1 16.3 CO o CO ― p o 00 CD s oo eo L- oo CO 00 ·ω OO tSD -J CO 00 CO s CO N-* oo 1 16.8 I 16.5 po CO po po CO 00 CO o-t cn oo s L o o 00 CJl ne Sw/ o CO CO CO CJi •CD CO OO CO 00 CO •GO oo 0¾ 0¾ 05 •03 00 •03 CO oo tn 1»· K> CO CD CO 00 ς〇 <D CO oo to CO λ to iso 09 CO OO 一 CO 1 24.7 CO 00 CD p to* CD <〇 CO CO 1-» o —· »u. <£> -J CO CO CD 00 INO CO 二 to •00 bO 00 CO I 24.6 CO CD o eo CO CO g CO I 22. 1 s r-f* 汉 P 〇7 00 CJl oe 〇 〇 〇 〇 X 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X 〇 〇 〇 〇 X X 〇 〇 〇 o X 〇 〇 〇 〇 X 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X X X X 〇 〇 〇 〇 X X 評價 Ca大 」 1 Ca 小 | 1 Pr 大 I 1 Pr 大 I Co大 o r) 2: 1 無 Ni 1 漆 200903530 例二H 2之結果,尤其是,請注意Ni濃度,關於比較 曰上 其它70素在上述範圍外)以外之試料,研究容 直變化率與Ni濃度之關係 幻,果如圖6所不。可以確認, 在Νι浪度為〇 〇〇〇5〜〇 原子%之範圍中,容量變化率顯 者地變小至 1 以下。 另外,在此範圍内,介電正接、漏 電流也分別成為15%以下 iOnA以下(實際上為9nA以下) 的低値。 同様地參考表2之結果,尤其是,請注意^濃度, 關於,較例13〜19、23、24 (其它元素在上述範圍外)以 外之試料’研究容量變化率與⑴農度之關係的結果如圖7 所示。可以確認,在Pr濃度為Q G5〜5 g原子%之範圍中, 容量變化率顯著地變小至1〇%以下。3外,在此範圍内, 介電正接、漏電流也分別成為15%以下、跑以下(實際上 為9 η A以下)的低値。 同様地,參考表2之^ θ | ^ 可衣炙、、、°果,尤其是,請注意Co濃度, 關於:匕較例13〜16,20〜24(其它元素在上述範圍外)以 外之4料,研九谷量變化率與c〇濃度之關係的結果如圖8 所示。可以確認,在C〇濃度為〇1〜2〇原子%的範圍中,容 量變化率顯著地變小至10%以下。另外,在此範圍内,介 電正接、漏電流也分別成為15%以下、10nA以下(實際上為 9nA以下)的低値。 同様地,參考表2之結果,尤其是,請注意。濃度, 關於比較例1 3〜22 (其它元素在上述範圍外)以外之試 料,研究容量變化率與Ca濃度之關係的結果如圖9所示。
2030-9537-PF 200903530 可以確遏,在Ca濃度為0· 〇5〜5· 〇原子%之範圍中,容量變 化率,4著地變小至1 〇 %以下。另夕卜,在此範圍内,介電正 接、漏電流也分別成為15%以下、1〇ηΑ以下(實際上為9ηΑ 以下)的低値。 根據以上内容可以確認’在未添加Cu而添加Ni的情況 下,在Pr為0. 05〜5. 〇原子%、c〇為〇.丨〜2〇原子%、“為〇· 〇1 〜5.0原子%、及Νι為〇.〇〇〇5〜〇〇5原子%的組成範圍中, 谷直變化率顯著地變小至i 〇%以下。另外,在此範圍内, 介電正接、漏電流也分別成為15%以下、1〇nA以下(實際上 為9nA以下)的低値。此時,任一變阻器電壓皆相同。在比 較例1 3〜24中,雖然是相同的變阻器電壓,但是任一容量 變化率、介電正接、漏電流皆變得比實施例35〜68大。 接著,實施例69〜72、比較例25〜28乃是一起添加Cu 與N1且改變pr、Co、Ca、Cu、N i之濃度之情況的測定結果。 在各實施例中’ Cu與Ni之總量的組成範圍係控制在〇. 〇〇〇5 〜〇 · 1原子%的範圍内,在比較例2 5〜2 8中,則控制在該範 圍外。 2030-9537-PF 24 200903530 2030-9537—PF 25\f ' ,/% 丨比較28 1 rr 1比較26 1 蛑 择 丨實施70 1 畸 σ» CO 1比較25 1 1試料號碼1 1 84.4250 1 1 92.6750 1 1 92.6000 1 1 92.7000 1 1 92.7950 I 1 92.7995 1 1 92.7995 1 1 92.7999 1 1 atm% S3 1 5.0000 Ί 1 5.0000 1 1 5.0000 1 1 5.0000 | i 5.0000 1 1 5.0000 I 1 5.0000 1 1 5.0000 Ί 1 atm% O 1 2.0000 1 1 2.0000 | 1 2.0000 I 1 2.0000 | 1 2.0000 | 1 2.0000 I 1 2.0000 1 1 2.0000 I 1 atm% [0.2000 1 I 0.2000 I 1 0.2000 1 I 0.2000 I L 0.2000 1 1 0.2000 1 1 0.2000 1 1 0.2000 1 1 atm% 1 8.3750 1 I 0.1250 I 0.2000 I I 0.1000 | I 0.0050 I I 0.0005 I 1 0.0005 1 I 0.0002 I I atm% 1 Cu+Ni 1 8.3000 1 | 0.0750 I 0.1000 I I 0.0500 I I 0.0025 I L 〇. 0003 I I 0.0002 1 I 0.0001 I 1 atm% p 1 0.0750 1 I 0.0500 I 0.1000 I 1 0.0500 I I 0.0025 I I 0.0002 I 1 0.0003 1 I 0.0001 I I atm% I oo CsD oo 00 tso oo o oo CO oo CsD oo 知 00 H-» I VlmA CJ1 to CO 58.6 I •CO 00 oo en •CO oo 1 (nA) I 1 Id(3V) I 1 15.3 I CO o 00 CD OO oo 00 -4 I 15.8 I s s o n s CJ1 1 21.5 I 1 21.6 I INO CO CO CO •CD CD o o CO CO to 3 tan δ 085〇C X X X o 〇 〇 o X 評價 200903530 根據此結果可以確認,在Cu與Ni之總量為0. 0005〜 0. 1原子%的組成範圍中,容量變化率顯著地成為1 〇%以 下。另外,在此範圍内,介電正接、漏電流也分別成為j 5% 以下、1 OnA以下(實際上為9nA以下)的低値。此時’任一 變阻器電壓皆相同。在比較例2 5〜2 8中,雖然是相同的變 阻器電壓,但是,纟量變化率、介電正接、漏電流皆變得 比實施例6 9〜7 2大。 在實施例73〜90中’將Pr、c〇、Ca、Cu、及以之濃度 控制在上述範圍内,並添加K、A1 ' Cr、及Si。κ、Cr 及31係分別在0.0〇1〜1〇原子%、〇.〇〇1〜〇.5原子%、〇_〇1 〜1.0原子%、0.001〜0.5原子%的組成範圍内添加。 2030-9537-PF 26 200903530 2030-9537-PF 卜一 /, \ /% 1實施90 1 1實施89 | 1實施88 I 1實施87 | 1實施86 | I實施85 | 1實施84 | 1實施83 1 1實施82 I 1實施81 1 1實施80 I 1實施79 1 1實施78 | 1實施77 | 1實施76 1 1實施75 I 1實施74 | i實施73 I 1號碼1 試料 92.1280 92.6270 91.5580 92.5480 1 92.1280 | 92.6270 91.5680 92. 5670 82. 5280 92.1280 92. 6270 91.5580 I 92.5480 | 92.1280 92.6270 91.5680 I 92.5670 | 92. 5280 atm% N3 1 5.0000 1 1 5.0000 | | 5.0000 1 5. 0000 5. 0000 I 5.0000 I I 5.0000 1 1 5.0000 1 5. 0000 | 5.0000 | I 5.0000 1 1 5.0000 1 5. 0000 I 5.0000 I I 5.0000 1 I 5.0000 1 I 5.0000 | 5. 0000 : atm% Ο 1 2.0000 1 I 2.0000 | | 2.0000 | I 2.0000 I 2. 0000 I 2.0000 I I 2.0000 I 1 2.0000 1 1 2.0000 1 | 2.0000 | 2. 0000 [2.0000 1 I 2.0000 | 2.0000 2.0000 2. 0000 1 2.0000 2.0000 atm% 0. 2000 I 0. 2000 | 0.2000 0. 2000 I 0.2000 1 I 0.2000 I 0. 2000 0.2000 0.2000 I 0. 2000 I I 0.2000 1 1 0.2000 1 I 0.2000 I I 0.2000 I I 0.2000 I I 0.2000 I I 0.2000 | I 0.2000 1 atm% 0? 0. 0000 0. 0000 0.0000 I o.oooo I 0. 0000 1 o.oooo 1 0. 0000 0. 0000 0. 0000 1 o. 0020 I 0.0020 I 1 0.0020 1 I 0.0020 1 I 0.0020 I I 0.0020 1 I 0.0020 I I 0.0020 I 0. 0020 atm% ρ 1 0.0020 1 | 0.0020 1 I 0.0020 1 I 0.0020 1 0. 0020 I 0.0020 1 I 0.0020 1 1 0.0020 1 0. 0020 0.0000 I o.oooo I I o.oooo I I o.oooo I 0.0000 0. 0000 0. 0000 I o.oooo I 1 o.oooo I atm% ζ 0. 0400 I 0.0400 1 I 0.0400 1 I 0.0400 1 I 0.0400 1 I 0.0400 1 I l.oooo I I o.ooio I I 0.0400 1 0. 0400 0. 0400 I 0.0400 1 I 0.0400 1 | 0.0400 1 0. 0400 I 1.0000 I I o.ooio I 0. 0400 atm% π 0.1000 I o.iooo I I o.iooo I I o.iooo I | 0.5000 I I o.ooio I I o.iooo I I o. looo I I o.iooo I I o.iooo I I o.iooo I 1 o.iooo I I o.iooo I I 0.5000 1 I o.ooio I I o.iooo I I o.iooo I I o.iooo I atm% > I—* 0.0300 | 0.0300 1 I l.oooo I I o.oioo I I 0.0300 1 0. 0300 I 0.0300 I 1 0.0300 1 I 0.0300 I | 0.0300 ] I 0.0300 1 1 1.0000 I I o.oioo I I 0.0300 1 | 0.0300 1 I 0.0300 1 I 0.0300 I | 0.0300 1 atm% ο 1 0.5000 1 I o.ooio I I o.iooo I I o.iooo I I o.iooo I 0.1000 0.1000 I o.iooo I 1 o.iooo I I 0.5000 1 I o.ooio I 0.1000 I o.iooo I I o.iooo I I o.iooo I I o.iooo I I o.iooo I I o.iooo I atm% 00 oo ο oo o oo CO oo OJ oo o oo 00 oo o oo CO oo >—· —a CO oo ο oo o oo oo o —J CD CO oo /—\ VloiA 1 zjy to CO un 05 CO tSD CO t—* oo to CO CJ1 CO C71 σ> CJ1 CO to CJ1 私 各 CO oo 1—* oo to CD tn CO un (nA) 1 Id(3V) 1 oo oo CD C£> o oo CD oo 1—» CD 00 cn 00 CD o 00 oo ς〇 CO CO oo 1-^ —3 CO oo oo CO oo oo s ^C/C(85〇C) CO CJ1 CO 05 CO C£> o CO C*D CD CO CO tn CD ς〇 CD oo CO CJl ς〇 03 CO 00 CO CO CO tN〇 CD tn 1—* CO ς〇 S tan δ §85〇C 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 評價 200903530 根據此結果可以確認’ K、A〗、Cr、及Si在此組成範 圍中,容量變化率顯著地變小成10%以下。另外,在此範 圍内,;I電正接、漏電流也分別成為j 5%以下、1 以下(實 際上為9nA以下)的低値。此時,任一變阻器(varist〇r) 電壓皆相等。 因此,可以確認,在全部的實施例中,容量變化率變 小。在其組成脫離本發明之範圍的比較例中,任一容量變 化率皆上昇。另外’可以確認,與容量變化率同様地,在 全部的實施例令,介電正接、漏電流皆變小。 【圖式簡單說明】 [圖1 ]圖1係繪示本發明之實施形態之電壓非直線電 阻體元件之構造的剖面圖。 [圖2 ]圖2係if不本發明之實施例之電壓非直線電阻 體元件之容量變化率之Cu濃度依存性⑻未添加況) 的圖。 [圖3 ]圖3係綠+ 士欲^口 >也 曰不本發明之實施例之電壓非直線電陴 體元件之容量變化率之p r :; #六卜斗,μ . + 千灸Pr /辰度依存性(Ν1未添加的情況) [圖4 ]圖4係系會 體元件之容量變化 的圖。 示本發明之實施例之電壓非直線電阻 率之Co濃度依存性(n i未添加的情況) 圖5 ]圖5係繪示本發明之實施例 一 η〜n η〜屯沈井直踝電 體兀件之容詈轡仆令, 里隻化率之Ca濃度依存性(Ni未添加的情況
2030-9537-PF 28 200903530 的圖。 [圖6 ]圖6係繪示本發明之實施例之電壓非直線電阻 體元件之容量變化率之Ni濃度依存性(Cu未添加的情況) 的圖。 [圖7 ]圖7係繪示本發明之實施例之電壓非直線電阻 體元件之容量變化率之Pr濃度依存性(Cu未添加的情況) 的圖。 [圖8 ]圖8係繪示本發明之實施例之電壓非直線電阻 體元件之容量變化率之Co濃度依存性(Cu未添加的情況) 的圖。 [圖9 ]圖9係繪示本發明之實施例之電壓非直線電f!且 體元件之容量變化率之Ca濃度依存性(Cu未添加的情況) 的圖。 [圖10 ]圖1 〇係繪示一實施例之電壓非直線電阻體元 件的電流-電壓特性圖。 【主要元件符號說明】 1〜電壓非直線性電阻體元件 2〜電壓非直線性電阻體元件層 3〜内部電極 4〜外部端子電極
2030-9537-PF 29

Claims (1)

  1. 200903530 十、申請專利範圍: 1. 一種電壓非直線性電阻體磁器組成物,以氧化辞為 主成分,包括: w 〇_ 05〜5原子%的卩r ; 0· 1〜20原子%的(;〇 ; 0. 01〜5原子%的ca ;以及 0· 0005〜〇. 〇5原子 %的 Cu。 2. —種電壓非直線性電阻體磁器組成物,以氧化辞為 主成分’包括: 0. 05〜5原子^的卩^·; 0_ 1〜20原子%的〇0 ; 0. 01〜5原子%的ca ;以及 0· 0005〜〇. 〇5原子 %的 Ni。 3. —種電壓非直線性電阻體磁器組成物,以氧化鋅為 主成分,包括: 0· 05〜5原子%的pr ; w 〇· 1〜20原子%的c〇 ; 0. 01〜5原子%的Ca ;以及 Cu及 N i, 其中’ Cu與Ni合計共0. 0 0 05〜0. 1原子〇/0。 4·如申請專利範圍第丨至3項中任一項所述之電壓非直 線性電阻體磁器組成物,更包括: 0. 001〜1原子%的K ; 〇_ 001〜0. 5原子%的八1 ; 203〇一9537-PF 30 200903530 0. 01〜1原子%的Cr ;以及 〇_ 001〜0. 5原子%的Si。 5. —種電壓非直線性電阻體元件,具有如申請專利範 圍第1至3項中任一項所述之電壓非直線性電阻體磁器組 成物。 一 6.如申請專利範圍第5項所述之電壓非直線性電阻體 =件,具備由該電壓非直線性電阻體磁器組成物所構成的 坟釔體、以及與該燒結體連接之複數個電極。 7.如申睛專利範圍第5項所述之電壓非直線性電阻體 元件,具有内部t m ^ H電極與由該電壓非直線性電阻體磁器组成 物所構成之電阻舻-扯 风 m M 體7^件層交互疊積的積層構造,其中,一 對外部電極係形成 辨-μ n 攻於該積層構造之侧端部,且夾著該電阻 體凡件層而相對 电1 _ ^ 碌内部電極係分別與一對外部電極之任 2030-9537-PF 31
TW097110510A 2007-03-30 2008-03-25 Voltage non-linear resistance ceramic composition and voltage non-linear resistance element TW200903530A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007092713 2007-03-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200903530A true TW200903530A (en) 2009-01-16
TWI361441B TWI361441B (zh) 2012-04-01

Family

ID=39794937

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW097110510A TW200903530A (en) 2007-03-30 2008-03-25 Voltage non-linear resistance ceramic composition and voltage non-linear resistance element

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7507356B2 (zh)
JP (1) JP5125674B2 (zh)
KR (1) KR101329682B1 (zh)
CN (1) CN101286395B (zh)
TW (1) TW200903530A (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4893371B2 (ja) * 2007-03-02 2012-03-07 Tdk株式会社 バリスタ素子
DE102008024479A1 (de) * 2008-05-21 2009-12-03 Epcos Ag Elektrische Bauelementanordnung
DE102009023847A1 (de) * 2009-02-03 2010-08-12 Epcos Ag Varistorkeramik, Vielschichtbauelement umfassend die Varistorkeramik, Herstellungsverfahren für die Varistorkeramik
CN103896575B (zh) * 2010-04-05 2015-09-30 Tdk株式会社 电压非线性电阻陶瓷组合物以及电子元件
US9242902B2 (en) * 2010-04-05 2016-01-26 Tdk Corporation Nonlinear resistor ceramic composition and electronic component
KR101166049B1 (ko) 2010-12-28 2012-07-19 주식회사 아모텍 ZnO계 바리스터 조성물
JP5944123B2 (ja) * 2011-07-25 2016-07-05 株式会社立山科学デバイステクノロジー 電圧非直線性抵抗素子の製造方法
JP7457886B2 (ja) * 2020-04-01 2024-03-29 パナソニックIpマネジメント株式会社 積層バリスタおよびその製造方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4069061A (en) * 1975-06-30 1978-01-17 Fuji Electric Co., Ltd. Ceramics having nonlinear voltage characteristics
JPS5325897A (en) * 1976-08-20 1978-03-10 Sanken Electric Co Ltd Oxide voltage nonnlinear resistor
JPS5385400A (en) * 1977-01-06 1978-07-27 Tdk Corp Porcelain composite for voltage non-linear resistor
US5153554A (en) * 1990-05-08 1992-10-06 Raychem Corp. Low voltage varistor array
JP2943367B2 (ja) * 1991-03-19 1999-08-30 富士電機株式会社 電圧非直線抵抗体の製造方法
JP3493384B2 (ja) 1992-10-09 2004-02-03 Tdk株式会社 電圧非直線性抵抗素子およびその製造方法
JPH0729709A (ja) * 1993-07-14 1995-01-31 Murata Mfg Co Ltd 電圧非直線抵抗体
JPH07201532A (ja) * 1993-12-27 1995-08-04 Tdk Corp 電圧非直線性抵抗体磁器組成物および電圧非直線性抵抗体磁器
JPH08130103A (ja) * 1994-10-28 1996-05-21 Tdk Corp 電圧非直線性抵抗素子の製造方法および電圧非直線性抵抗素子
JP3631341B2 (ja) * 1996-10-18 2005-03-23 Tdk株式会社 積層型複合機能素子およびその製造方法
US5854586A (en) * 1997-09-17 1998-12-29 Lockheed Martin Energy Research Corporation Rare earth doped zinc oxide varistors
JP2000232005A (ja) * 1999-02-09 2000-08-22 Toshiba Corp 非直線抵抗体
JP2001196206A (ja) * 2000-01-11 2001-07-19 Fuji Electric Co Ltd 電圧非直線抵抗体
JP3822798B2 (ja) 2001-02-16 2006-09-20 太陽誘電株式会社 電圧非直線抵抗体及び磁器組成物
JP3710062B2 (ja) * 2002-10-25 2005-10-26 Tdk株式会社 電圧非直線性抵抗体磁器組成物、電子部品および積層チップバリスタ
JP4235487B2 (ja) 2003-05-14 2009-03-11 太陽誘電株式会社 電圧非直線性抵抗体
JP4690123B2 (ja) * 2005-06-22 2011-06-01 コーア株式会社 酸化亜鉛積層型バリスタの製造方法
JP4915153B2 (ja) * 2005-07-07 2012-04-11 株式会社村田製作所 積層バリスタ
JP4893371B2 (ja) * 2007-03-02 2012-03-07 Tdk株式会社 バリスタ素子
US7683753B2 (en) * 2007-03-30 2010-03-23 Tdk Corporation Voltage non-linear resistance ceramic composition and voltage non-linear resistance element

Also Published As

Publication number Publication date
TWI361441B (zh) 2012-04-01
KR20080089298A (ko) 2008-10-06
JP2008277786A (ja) 2008-11-13
KR101329682B1 (ko) 2013-11-15
US7507356B2 (en) 2009-03-24
CN101286395B (zh) 2012-01-18
CN101286395A (zh) 2008-10-15
JP5125674B2 (ja) 2013-01-23
US20080241585A1 (en) 2008-10-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200903530A (en) Voltage non-linear resistance ceramic composition and voltage non-linear resistance element
TWI351702B (en) Voltage non-linear resistance ceramic composition
CN101601105B (zh) Ntc热敏电阻用陶瓷及使用其的ntc热敏电阻
CN1906717B (zh) 叠片线圈
JP3822798B2 (ja) 電圧非直線抵抗体及び磁器組成物
CN104658727B (zh) 一种贱金属内电极叠层片式ZnO压敏电阻器及其制备方法
TWI375665B (zh)
TW200908043A (en) Multi-layered ceramic electronic component
CN103380467B (zh) 电子元器件的安装结构
TW201606814A (zh) 電壓非線性電阻元件及其製法
JP5782646B2 (ja) 電圧非直線性抵抗体磁器組成物および電子部品
TW200901237A (en) Varistor element
TWI285381B (en) Multilayer ceramic capacitor
CN101759431A (zh) 一种低电位梯度氧化锌压敏电阻材料及其制备方法
KR20180011370A (ko) ZnO계 바리스터 조성물 및 그의 제조방법과 바리스터
CN101717250B (zh) 一种多层片式压敏电阻器瓷料及所得的产品
JP2007099532A (ja) バリスタ用磁器組成物、及び積層バリスタ
CN100384775C (zh) 用以制造铋基氧化锌陶瓷系统的组合物以及降低铋基氧化锌陶瓷系统的烧结温度的方法
CN103896575B (zh) 电压非线性电阻陶瓷组合物以及电子元件
JPH0373121B2 (zh)
TWI342569B (en) Esd protective materials and method for making the same
TWI330870B (en) The compositions of varistor having ultralow capacitance
TW593205B (en) Composition for use in manufacturing bismuth zinc oxide ceramic system, multi-layered bismuth zinc oxide varistor and method for lowering the sintering temperature of the bismuth zinc oxide ceramic system
KR102137936B1 (ko) 산화아연계 바리스터 조성물, 이로부터 제조된 바리스터 및 바리스터 제조 방법
KR100676725B1 (ko) 송변전급 피뢰기용 산화아연 조성물의 제조방법