TW200830057A - Mask, exposure apparatus and device manufacturing method - Google Patents

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200830057 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域] 本發明，係關於光罩、使基板曝光之曝光裝置、以及 元件製造方法。 本申請案主張20 06年9月8曰申請之曰本特願2006 一 244269號之優先權，將其内容援用於此。 【先前技術】 於微影製程中使用之曝光裝置，有一種使用如下述專 利文獻所揭示之圓筒狀、或圓柱狀光罩使基板曝光之曝光 裝置。 [專利文獻1 ]曰本特開平7 — 1 53672號公報 [專利文獻2]曰本特開平8 — 21 3305號公報 [專利文獻3]曰本特開2〇〇6一〇9331 8號公報 【發明内容】 不僅僅是使用板狀光罩之情形，在使用圓筒狀或圓柱 狀光罩使基板曝光之情形時，亦須精確的調整光罩與基板 間之位置關係。當無法精確的調整光罩與基板間之位置關 係、或因振動等使光罩與基板間之位置關係變動時，則無 法以光罩之圖案像使基板曝光之可能性提高。χ，例如在 與光罩之移動同步使基板移動、—邊使該基板曝光之情形 時’為使該基板良好的曝光’有時須在光罩及，或基板之 加速結束後，豸置-等待產生之振動收歛、速度 料時間）。在此種情形了，當光罩之移動方向及 /或基板之移動方向頻繁變化時，即會增加相應之加速動 6 200830057 而必須設置更多 作 _ ^ , 丨月❿’即代表將增 加…助於曝先之時間’冑可能降低生產率。為抑 之惡化’最好是能抑制光罩及/或基板之移動方向變化次 數，盡快的使所產生之振動收歛。 人 2明有鑑於上述情事，其目的在於提供—種能抑制 生產率降低、於基板上良好的形成圖案像之光罩又 發明之另…，係提供能抑制生產率降低、以圖案像： 基板良好曝光之曝光裝置、以及使用該曝光裝置之元件 造方法。 t 本發明係採用對應實施形態所示各圖之以下構成。但 各要件後所附括號内之符號僅係該要件之例示 各該要件。 亚非限疋 本發明第1態樣之光罩⑷，係透過投影光學系統（PL) 用以在基板（P)上形成圖案（Mp)像之圓筒狀者，其具備：形 成有該圖案(MP) ’配置在既定軸⑴周圍之圖案形成面 (MF) ’以及具有圖案形成面，能與基板往至少既定一維方 向之移動同步，以既定軸為旋轉軸旋之 · ⑷於該圖案形成面⑽之直徑為0、該基板二= 之最大長度為L、投影光學系統(pL)之投影倍率為沒、圓周 率為π時，滿足(石xD/冗之條件。 根據本發明之第丨態樣，能抑制生產率降低、於基板 上良好的形成圖案之像。 本务月第2悲樣之光罩（Μ )，係透過投影光學系統（ρ[ρ) 用、在基板（Ρ)上形成圖案像，其具備：形成有該圖案 200830057 (MP) ’配置在既定軸⑴周圍之圖案形成面（肝）·以及具有 圖案形成®’能與基板往至少既定_維方向之移動同步， 以既定軸⑴為旋轉軸旋轉之圓筒體；設光罩⑻於圖案形 成面（MF)之直徑為D、基板（p)於—維方向之最大長度為l、 投影光學系統(PL)之投影倍率為点、圓周率為冗時，滿足 (/3 xL)/ π >心xL)/(2x;r )之條件。 根據本發明之第2態樣，能抑制生產率降低、於基板 上良好的形成圖案之像。 本發明第3態樣之曝光裝置（Εχ)，係使用上述態樣之 光罩（Μ)，以光罩上形成之圖案（Μρ)之像使基板（ρ)曝 光其具備·光罩驅動裝置（2)，能使光罩（Μ)以既定軸（j) 為旋轉軸旋轉；基板驅動裝置（4)，能與光罩（約之旋轉同 步使基板（Ρ )至少移動於既定一維方向；以及投影光學系統 ’係將光罩（Μ)之圖案（ΜΡ)之像投影至基板（ρ)上。 根據本發明之第3態樣，能抑制生產率降低、於基板 上良好的形成圖案之像。 本發明第4態樣之曝光裝置（EX)，係以圖案（mp)之像 使基板（P)曝光，其具備能將形成有圖案（Mp)、具有配置於 既定軸（J)周圍之圖案形成面（MF)的圓筒狀光罩（M)側面 (MS)保持為裝拆自如之保持構件（丨）。 根據本發明之第4態樣，能抑制生產率降低、於基板 上良好的形成圖案之像。 本發明第5態樣之曝光裝置（EX)，係以圖案（MP)之像 使基板（P)曝光，其具備··保持構件（1)，係用以保持圓筒 200830057 狀光罩（Μ) ’此光罩形成有圖案（Mp)，具有繞既定軸（j)配 置之圖案形成面（MF);以及光罩驅動裝置⑺，能使保持該 光罩（M)之保持構件（1)於6自由度方向移動。 根據本發明之第5態樣’能抑制生產率降低、於基板 上良好的形成圖案之像。 本發明第6態樣之曝光裝置（Εχ)，係以圖案（Mp)之像 使基板⑻曝光’其具備：光罩驅動裝置⑵，其能使形成 有圖案（MP)、具有繞既定軸配置之圖案形成面（mf)的圓 筒狀光罩（M)，以既定軸（J)為旋轉軸旋轉；以及配衡質量 (46)，用以吸收隨光罩（M)之旋轉所產生之反作用力。 根據本發明之第6態樣，能抑制生產率降低、於基板 上良好的形成圖案之像。 本發明第7態樣之曝光裝置（Εχ)，係以圖案（Mp)之像 使^板（P)曝光，其具備.保持構件（丨），係用以保持圓筒 狀光罩（M)，此光罩形成有圖案（Mp)，具有繞既定軸（j)配 置之圖案形成面（MF);軸構件（20)，其將保持構件（1)支撐 為月b X既，疋軸（J )為疑轉軸旋轉，於一端側配置保持構件 (1);支撐構件（21)，將軸構件（2〇)支撐為能旋轉；以及錘 冓件（22)配置在軸構件（20)之另一端側，在與保持構件 (1)之間配置支撐構件（21)。 根據本發明之第7態樣，能抑制生產率降低、於基板 上良好的形成圖案之像。 本發明帛8態樣，係提供一種使用上述態樣之曝光裝 置（EX)的元件製造方法。 200830057 根據本發明之第8錐样 於其把ή 樣’可使用能抑制生產率降极 於基板上良好㈣^屋早降低、 祀撼…B ^菜像之曝光裝置來製造元件。 根據本表明，能抑制生 良好的眼# tu At 產革降低、以圖案之像使基板 良好的曝先。因此能以高 敬 【實施方式】 “具有所欲性能之元件。 :下…邊參照圖式說本發明之實施形態，但本發明 兔蛛 ,. σ中，係設定一 ΧΥΖ正交座標 系統，一邊参照此ΧΥΖ正交座 厓橾糸統、一邊說明各構件之 位置關係。設水平面内之既定 石Π為X軸方向、水平面内 /、X軸方向正交之方向為γ軸 罕由方向、與X軸方向及Υ軸方 向分別正交之方向（亦即錯直方向）為ζ軸方向。又繞χ 軸、γ軸、及ζ軸旋轉（傾斜）之方向分別設為0χ、ΘΥ、及 0 Ζ方向。 <弟1實施形態> 圖1係顯示第1實施形態之曝光裝置Εχ之概大致構成 的圖。圖1中，曝光裝置ΕΧ，具備：保持具有圖案Μρ之光 罩Μ的光罩保持構件1、可使保持有光罩Μ之光罩保持構件 1移動的光罩驅動裝置2、保持基板ρ的基板保持構件3、 可使保持有基板Ρ之基板保持構件3移動的基板驅動裝置 4、可取得光罩Μ之位置育訊及基板ρ之位置資訊的檢測系 統5、以曝光用光EL照明光罩Μ之圖案ΜΡ的照明系統IL、 將以曝光用光EL·照明之光罩Μ之圖案ΜΡ之像投影至基板Ρ 上的投影光學系統PL、以及控制曝光裝置Εχ全體之動作的 控制裝置6。 10 200830057 光罩[包含形成有待投影至基板p上之元件圖案的標 片本實細形恶中，光罩祕為圓筒狀。圓筒狀光罩M，且 有中心軸J、配置在Φ、、k τ , "" 在中心軸J外圍之外周面MF、以及分別 配置在外周面MF兩側之你丨；丄虫

y 之側面Ms。本實施形態中，圖案MP 係形成在光罩Μ之外周面抓。太眘 η ®财本實施形態中，圖案ΜΡ係沿 光罩Μ之外周面MF之周方向形士 $ 门万成稷數個。於光罩μ之外周 面MF，沿該外周面mi?夕闲+ / 舯之周方向，設定有形成了圖案MP之 圖案形成區域MA。以下之説明φ腺止 兄月中將光罩Μ中形成有圖案 ΜΡ、繞令心車由j配置之夕卜用 、 卜鬥面MF的❼至少一部分適當的稱 為圖案形成面MF。又，本青施形能士 〆> 貝也七心、中，係使用反射型光罩 來作為光罩Μ。 基板ρ’包含例如在如⑪晶圓之半導體晶圓等基材上形 成感光材（纽）之膜、或除感光料另塗㈣錢（頂塗層 膜）等各種膜者。本實施形態中，基板ρ為大致圓板狀。基 板Ρ’係以其表面（曝光面）與χγ平面大致平行之方式保持 於基板保持構件3。保持於基板保持構件3之基板ρ，於χγ 平面内為大致圓形狀。料ρ設有複數個呈矩陣狀之照 射區域咖〜叫此區域係形成圖案肝之像的曝光對象 區域。 本實施形態中，光罩驅動裝置2係例如包含音圈馬達 及線性馬達等能以羅倫兹力驅動之致動器，能使保持有光 罩Μ之光罩保持構件i移動於χ軸、γ軸、z軸、0χ、0γ、 及βζ方向之6自由度方向。 又’本實施形態巾，基板驅動裝置4係例如包含音圈 200830057 馬達及線性馬達等能以羅倫茲力 ^ A ^ D ^ ^ , 初气致動态，能使保持 土板之土板保持構件3移動於W、y_、 ΘΥ、及0Z方向之6自由度方向。 置資ΓΓΗ，檢測系、统5包含:能取得光罩Μ之位 置…進一“取得與圖案Μρ(圖案形成 位置資訊的第1檢測系統5Α，以及能取得基板Ρ之位置資 =二之位置f訊的第2檢測系統 h 5 2 Γ =Α包含編碼器系統51及聚焦調平檢測 糸、、“2。第2““統5B包含雷射干涉 調平檢測系統54及對準系統55。 、 聚*、、、 本實施形態中，包含編碼器系 統如剩如，㈣山===系 Y軸、Z軸、ΘΧ、ΘΥ及口系之X軸、 訊。 及以方向之6自由度方向的位置資 又，本實施形態中，包含雷射干涉 平檢測系統54及對準系統55之第2檢測系、、聚焦調 基板咖射區域s)mY|i、Zf^，能取得 方向之6自由度方向的位置資訊。 Y及ΘΖ 6曝光裝置EX具備機體BD，機體BD包含 室内地面FL上之第1立杈Γτ 6又在無塵 之笛…… 以及設在第1立柱CL1卜 弟2立柱孔2。第li^⑴上 與透過防振裝置1〇支撐於該等第】支柱u個弟1支柱U、 第2立柱CL2,具備設於第} —弟1平台7。 12、與透過防振裝置丨 之複數個第2支柱 切於該等第2支柱以第2平 12 200830057 台8 〇 光罩=:IL’能以曝光用錢照明形成有圖案肝之 面MF。照明系統1L，能在光罩Μ之圖荦 化成面肿上設定既定之照明區域…並能以均—之昭产：

於該照_IA 風積八 出之曝光用光EL之照度予以均—化之光 :、刀$、將來自光學積分器之曝光用光此予 焦:透鏡、中繼透鏡系統、以及設定照明區域u之視= 遮用廉機構)等。從照明系統IL射出之曝光用光乩，例如係 從水銀燈射出之輝線（G線、Η線、ϊ線）及KrF準' 雷射光(波長248nM)等之遠紫外光⑽u)、ArF準分： 射光（波長193nMMF2雷射光（波長mnM)等之真 光（VUV光）等。本實施形態係使用ArF準分子雷射光。。 光罩保持構件1係保持圓筒狀之光罩M，此光罩M =圖案MP、具有配置在中心軸J周圍之圖案形成面好。光 艇動裝置2’能使保持有光罩k光罩保持構件 2、Y轴、2轴、"…及ΘΖ方向之6自由度方向： 先罩保持構件i、與能移動該光罩保持構件i之光罩 置2的至少一部分，係被支撐在第2平台8之上面。光革 保持構件1，能保持光罩M之狀態下、在第2平^ 8 動於6自由度方向。 ° .第2平台8具有使曝光用光EL通過之開口 8Κβ從昭明 糸統IL射出、照明光罩Μ之圖案形成面奸的曝光用光此， 於光罩Μ之圖案形成面MF反射、在通過第2平台8之開口 13 200830057 狀後’射入投影光學系統n。 本實施形態_， 罩Μ之中心軸；與 二構件1係將光罩Μ保持成先 於光罩保持構件j之 致平订。因此’在光罩Μ被保持 置在與X軸大致平行：：圍先：Μ之圖案形成面财係配 有…之光草保持It光罩驅動裝置2,能使保持 方向，且能使伴持有 以中心軸J為旋轉軸旋轉於ΘΧ 由产方Θ 2 罩保持構件1移動於6自 由度方向。光罩保持 夕㈣6自 ^ F t ? LV . 所保持之光罩Μ，能藉由光罩弓 勳衣置2以中心軸j為旋轉 尤卓艇 檢測系統5之第……轉於ΘΧ方向。 聚焦調平檢測系播帕 匕3、，扁碼益糸統51與 肝於圖宰带成面MI/ 系統51能取得光罩M之圖案 a案开/成面MF之周方向⑷方向)的位置資 罩Μ之圖案mp於中心軸j方 、 ,丨、一 1 J方向（χ軸方向）的位置資訊之至 夕-’聚焦調平檢測系統5 2能取得光罩Μ之圖案形成面 MF於與中心軸j垂言 直之方向（Ζ軸方向）的位置資訊。控制 Μ 6’、根據包含編碼器系統51及聚焦調平檢測系統以 第1私测系統5Α的檢測結果驅動光罩驅動裝置2，以控制 光罩保持構件1所保持之光罩Μ之位置。 投影光學系統PL，係將光罩Μ之圖案Μρ之像以既定之 杈影倍率冷投影至基板ρ。投影光學系統pL具有複數個光 學元件，該等光學元件係以鏡筒15加以保持。鏡筒Η具 有大緣15F，投影光學系統pl透過突緣15F被支撐於第i 平台7。又，可在第1平台7與鏡筒15之間設置防振裝置。 本實施形態之投影光學系統PL，係投影倍率例如為1/4、 14 200830057 / 1 /8等之縮小系統。又，本實施形態之投影光學系 統PL係將光罩μ之ϋΐ 之圖案ΜΡ之倒立像投影至基板Ρ上。 又’投影光學系统Ρ丨γ ^ y / 予亍、允ία可以是縮小系統、等倍系統及放 大系、、先之任種。又’投影光學系統Pl以、倒立像七正立 像七①、、寸权蚤形成L 丁 $ u 夕风L 丁毛i、、。又，投影光學系統PL可 以是不含反射光學元件 / 子7U 1干之折射系統、不含折射光學元件之 反射系統、或含反射夹風- 身了九予7L件與折射光學元件的折反射系 統之任"""種。 基板保持構件3係保持具有感光材之膜的圓板狀基板 基板保持構件3具有吸附保持之基板p的吸附機構。本 實^ L巾&基板保持構件3形成有凹部％。吸附基板 P加以保持之吸附機構的至少_部分、及保持基板p背面之 保持面，係配置在該凹部I X，凹部3C以外之基板保持 冓件3之上面3F，係與保持在保持面（吸附機構）之基板ρ 表面大致同高（面一）的平坦面。 基板驅動裝置4，能使保持有基板P之基板保持構件3 移動於X軸、Y軸、Z軸、0χ、"及0Z方向之6自由度 方向。基板保持構件3、與能使該基板保持構件3移動之基 :驅動裝置4之至少一部分，係支撐在第3平台9之上面。 第3平台9係透過防振裝置14支撐在地面几上。基板保 持構件3 ’能在保持基板ρ之狀態下、於第3平台9上移動 於6自由度方向。 本實施形態中，基板保持構件3係將基板p保持成基 板P表面(曝光面)與XY平面大致平行。基板驅動裝 ： 15 200830057 能使保持有基板P之基板保持構件3移動於至少既定之一 时向。被保持於基板保持構件3之基板p，能藉由基板驅 動裝置4移動於至少既定之一維方向。 檢測系統5之第2檢測条& π ^人 4糸、、先5β包含雷射干涉儀系統53 與聚焦調平檢測系統54’雷射干涉儀系統53能取得保持有 基板ρ之基板保持構件3(以及基板㈣χ軸、γ軸及η 方向之位置資訊’聚焦調平檢測系統54能取得被保持於基 板保持構件3之基板Ρ表面於ζ軸、θχ及"方向之面位 置貧訊。控制裝置6’根據包含雷射干涉儀系統53及聚焦 调平檢測系統54之第2檢„統5Β之檢測結果驅動基板 驅動裝置4,以控制基板保持構件3所μ之基板？之位置。 又，、本實施形態中，曝光裝置Εχ具傷用以檢測基板p ^所形成之對準標記AMf之離軸方式的對準系統Η。對準 糸統55之至少—部分係配置在投影光學系統PL之前端附 近。本實施形態之對準系統55,係採用例如揭示於曰本特 開平4- 65603號公報（對應美國專利5,挪，4〇3號），以不 會使基板p上感光材感光之寬頻檢測光照射於對象標記(基 板P上所形成之對準標記AM#)，將以來自該對象標記之 反射先而成像於受光面之對象標記之像、與指標（設於對準 糸統55内之指標板上之指標標記）之像，以⑽等之攝影 兀件加以拍攝，對該等攝影訊號進行影像處理以測量標記 之位置的FIA(Fleid Image AUgnment)方式對準系統。

圖2係顯示本實施形態之曝光裝置EX之示意圖。本實 施形態之曝光裝請，係-邊將光"與基板二I 16 200830057 =動於既定掃描方向、—邊將光罩m 基板p上的掃描型曝光裝置（所μ 圖案肝之像投影至 形態中，係設基板Ρ之掃描方^之牛掃描步進器）。本實施 向、…之掃描方向(同步移動方：:動方向)…方 曝光裝置Π，分別使用光軍驅為ΘΧ方向。 置4,與光罩Μ往$叉方向之移 、置2及基板驅動裝 Ρ移動於Υ轴方向、一邊將光罩二轉上同步，-邊使基板 光學系統PL投影至基板Ρ上。曝光/案奸之像透過投影 射區域S相對投影光學系統p : l使基板Ρ之照 方向，且與該基板…轴方向::動區:：移:… 明系統U之照明區域IA使光罩对Π: ’ -邊相對照 轴j為旋轉轴移動於ΘΧ方向（旋轉）、=成面MF以中心

照明照明區域IA，透過投影光學系統對二曝光用光EL 射曝光用# ίΠ Μ _ 、 對投影區域Αβ照 射“用λ EL’據而以形成在投 使基板Ρ上之照射區域S曝光。 R之圖案ΜΡ之像 如上所述，本實施形態中，投風 Μ FI * up ν予系、、先PL係將光罩 之其 投影至基板?上。將光^之圖㈣ P之舨射區域S時，如圖2之箭頭所示， 空制叙置6係與例如基板p往-Y方向之移動同步，使光罩 =往朝向Z轴之方向(從+ x方向看光罩M時為反： + ΥΓ轉。以下之説明中，將從Y轴朝向Z軸之方向（從 向看光罩Μ時為反時針方向)之旋轉方向適當的稱為 十ΘΧ方向，將其反方向適當地稱為〜方向。 如圖2所示，本實施形態中，照明系統IL具備配置在 17 200830057 光罩Μ與投影光學系統PL之間的反射光學元件丨8。又，本 實施形fe中’照明系統IL具備相對反射光學元件1 8配置 在光源裝置側、將曝光用光EL導向反射光學元件的第1 柱面透鏡17，以及以第丨柱面透鏡17導向反射光學元件 1 8、於該反射光學元件丨8反射之曝光用光El所射入且將 該曝光用光EL導向光罩Μ之圖案形成面MF的第2柱面透 鏡19。 第1柱面透鏡1 7，係用以修正以照明系統I l之視野光 闌等所設定之曝光用光EL之截面形狀。反射光學元件i 8 反射來自第1柱面透鏡17之曝光用光EL，改變曝光用光 EL之光路方向。第2柱面透鏡1 9，係用以修正來自反射光 學元件18之曝光用光EL之截面形狀。 本實施形態中，包含第1柱面透鏡17及第2柱面透鏡 1 9之照明系統I l，係將在光罩M之圖案形成面MF上的照 明區域IA，設定成以X軸方向為長邊方向之狹縫狀（矩形 狀）。又’本實施形態中，照明系統IL係以曝光用光el照 明圓同狀光罩Μ之圖案形成面MF之最下部BT。 如上所述，本實施形態係使用反射型光罩作為光罩Μ。 以照明系統IL照射於圖案形成面抑、於該圖案形成面MF 反射之曝光用光EL，透過投影光學系統pL照射於基板ρ 上。光罩Μ之圖案MP之像透過投影光學系統pL形成在基 板Ρ上。控制裝置6 ’為了將光罩μ之圖案ΜΡ之像投影至 基板Ρ上使該基板Ρ曝光，一邊使用光罩驅動裝置2使光 罩Μ以令心軸j為旋轉軸旋轉、一邊使用照明系統將曝 18 200830057 光用光EL照射於光罩Μ之圖案形成面MF。 接著，說明光罩Μ。圖3係顯示光罩M之 4Λ係光罩Μ之圖案形成面MF之示意圖，立體圖，圖 圖係將伞罢μ 之圖案形成面MF展開於ΧΥ平面上的圖。 、 如圖3所示，光罩Μ為圓筒狀。光罩从形 具有配置在中心軸J周圍之圖案形成面Μρ。圖有圖案MP， 軸J與X軸平行。光罩Μ，能藉由光罩驅動壯:中中、 J表置2之酿：, 以中心軸J為旋轉軸旋轉於0 χ方向。 ·” 圓筒狀之光罩Μ，具備内部空間μκ、| ^ 空間ΜΚ之兩側(+Χ側及—χ側)連接該内部空、:::::: 空間之開口 ΜΚΑ。圓筒狀之光罩Μ，於圖 口系开> 成面MF雨伽 分別具有側面MS。光罩Μ之側面MS，於γζ芈$ + 、1乙平面内大致g

圓環狀、配置成圍繞開口 ΜΚΑ。圖3巾，#M

版V7 a丄 先罩Μ之側面MS 與Y Z平面大致平行。太眚始彡At 部w 丁本實鉍形悲中，由於光罩Μ為具有内 σ工Β之中空構造，因此能謀求光罩Μ之輕量化。 = ΜΡ’沿圖案形成面抓之周方向形成有複數個。於 光罩Μ之圖案形成面肝，沿該 、 /圖案形成面MF之周方向，設 有複數個待形成圖案ΜΡ之圖幸 / 、 口茶形成區域ΜΑ。於複數個圖案 形成區域ΜΑ分別形成有待庐 ，侍叔影至基板Ρ之圖案ΜΡ。 將圖案形成面MF展μ ^ νΛ7 ν 展開於χγ平面上時、形成於該圖案 形成面MF之圖幸μρ之形& μ ^ ^ ^ ^ 屯狀’與透過投影光學系統PL形成 於基板Ρ上之圖案ΜΡ$ ^ 像之形狀相似。本實施形態中，於 圖案形成區域難，舉一例 的圖案ΜΡ。 I，形成有具文字「F」之形狀 19 200830057 又，如圖4B所示，本實施形態中，照明系統IL之照 明區域IA係設定成以X抽方向為長邊方向之狹縫狀。 光罩Μ，係在以石英等之玻璃材料、又（i陶瓷（低膨脹 陶瓷）等形成之圓筒狀基材上，使用由例如鉻（Cr)等構成之 金属膜來形成既定之圖案MP者。 又’本實施形態中，分別於光罩Μ之外周面MF之中心 軸J方向（X軸方向）一側（+ X側）及另一側（—X側）圖案形 成區域ΜΑ之外側，配置有標記形成區域μβ(形成有將以檢 測系統5檢測之標記）。此外、為使圖面易於觀察，圖3及 圖4Α及圖4Β中未圖示標記。 如圖3所示，光罩Μ具備以覆蓋圖案形成面肿之方式 形成為圓筒狀之保護罩1 00、與支撐保護罩丨〇支撐構件（保 護罩框）1G卜支樓構件1()1 κ、係分別在光罩Μ之圖㈣ 成面(外周面)MF之中心轴j方向(X軸方向)—側及另二側 之標記形成區域MB外側的既定區域中，圍標中心軸 案形成面(外周面)MF之周方向形成。被支撐構件’二 之保護罩100、與光罩M之圖案形成面MF係分離。芽 本實施形態中，支撑構件1〇1係圓環狀構件 件101係以例如聚四氟乙稀等具柔軟性^構 成’能良好的連接於為曲面之圖案形成面Μ心二：形 ΗΠ，係分別於光罩Μ之圖案形成面mf之中支揮構件 轴方向)-側及另-側之標記形成區域MB外:：J:向(X 中’連接於光罩Μ之圖案形成面MF。 、既疋區域 本實施形態中’由於保護罩1〇〇係設 一 成復盍圖案形 20 200830057 成面MF 口此此抑制異物附著於圖案形成面肝，以保護圖 案形成面MF。 圖5係基板保持構件3之俯視圖。如圖5所示，於基 板p上作為曝光對象區域之複數個照射區域s(si〜s26)被 設置成矩陣狀，且分別對應各照射區域S1〜S26設有複數 個對準標記AM。又，如目5所示，本實施形態巾，投影光 學系統PL之投影區域AR以係設定成以χ軸方向為長邊方 向的狹缝狀。此外，基板p於χγ平面内大致呈圓形。 基板Ρ之各照射區域S1〜S 2 6之曝光時，控制裝置β , 係如圖5中以例如箭頭Y1所示，一邊使投影光學系統pL 之投影區域AR與基板p相對移動、一邊對投影區域AR照 射曝光用光EL，據以將曝光用光EL照射於基板p上。控制 裝置6，使用基板驅動裝置4控制基板保持構件3之動作， 以使投影區域AR相對基板p沿箭頭γ 1移動。 又’於基板保持構件3上面之既定位置，形成有待以 上述對準糸統5 5檢測之基準標記}? μ。又，在能配置於投影 光學系統PL像面側（光射出面側）之基板保持構件3上面， 相對基準標記FM之既定位置，形成有開口 56Κ。於此開口 5 6Κ下方（一Ζ方向），配置有能接收透過投影光學系統pL 及開口 56K之光的受光裝置56之至少一部分。本實施形態 中，受光裝置56包含例如特開2002 — 1 4005號公報（對應 美國專利申請公開第2 0 0 2 / 〇 〇 413 7 7號說明書）等所揭示之 空間像測量器。 本實施形態中，設光罩Μ於圖案形成面MF之直徑為d、 21 200830057 基板P於基板P掃描方向（本實施形態中為γ軸方向）之最 大長度為L、投影光學系統PL之投影倍率為万、圓周率_ 7Γ時’滿足下列條件 D- ( /5 xL)/ 7Γ …（1) 〇 本實施形態中，係視基板P之最大長度L及投寻彡也斑^ 仅〜九學糸統 PL之投影倍率冷，決定光罩Μ於圖案形成面mf之直彳<T< D 以滿足式（1 )之條件。 此處，如上所述，本實施形態中，基板p於χγ平面内 大致為圓形。本實施形態中，基板ρ於基板ρ之掃描方。 (Υ軸方向）的最大長度L，為基板ρ之直徑。 ° 又，如圖5所示，於基板ρ上，至少沿基板ρ之掃描 方向（Υ軸方向），設有複數個將投影光罩Μ之圖案肿之^ 的^射區域S。光罩Μ之圖案ΜΡ，沿圖案形成面之心 向：至少形成於基板P之掃描方向(γ軸方向)之照射區域s 射區態:二^ ; °彳向設有6個照射區域S5〜Sl〇、 。車方向設有6個照射區域⑴〜㈣ =射區域—沿γ轴方向設有4個照^ ；：數為7此’本實施形態中，照射區域軸方向之最 圖案形成面=二成有圖案MP之圖案形成區㈣，沿 复战面MF之周方向形成有6個。 光罩=槿Γ光罩保持構件1及光罩驅動裝置2。圖6伟 持構件1及光？驅動聚置2附近之職面圏Γ6 22 200830057 嘴元褒置EX具備保持 移動保持有光罩Μ之光、 之光罩保持構件1、與能 罩保持構件1及光罩的光罩崎 平台8上。 之至 >、一部分，係設在第2 杜又’曝光裝置具備··將伴持光 件1支揮為能以中心軸字保持先罩Μ之光罩保持構 軸構件20支標A # ·、、、疋轉軸旋轉的軸構件2〇、與將 致筒狀之構件。、讀的支揮構件2卜支撐構件21係大 的孔罩::=:1具有用以配置軸構件2°之至少-部分 孔-形成為於本實施形態中， 分別於孔16之$尉 保持構件1之一部分， 聰。 （+ X側及—x側）形成有開π職， 一罩保持構件！係配置在輛構件別之一側（+ 又，曝光裝置EX具有配置在轴構件2 。 之錘構件22。錘構件22係連接於 另&(-Χ側） 構件20與錘構件22樣^軸構件2〇之另-端。轴 轉之支撐構件2 係配置在先罩保持構件丨與錘 間。支撐構件21係被支撐在底座構 2>連接於底座構件23上6。_^2 3= 構件 -雜，支撐構…底座二=:件23為 Φ ^ 9 傅1千d係透過防振裝置24 件；之務動、° 8上面。防振裝置24能抑制隨光罩保持構 牛：移動所產生之振動。防振裝置24,包含能以輪 力驅動之致動器、與氣墊等之阻尼機構。 23 200830057 中心軸J周圍之圖案开,，能將形成有圖案MP、具有配置在 保持成能裳拆。光垦/成面MF的圓筒狀光罩M之側面MS MS的吸附機構25β呆持構件1具有能吸附光罩M之側面 MS對先向罩t1’具備配置成與-X側之…之側面 7 ^ 將该光罩Μ之-γ如丨 持面26。吸附機構，之側面MS保持成能裝拆之保 26。光罩保持構侔〗將光罩M之側面MS吸附於保持面 1面2以、銷構件二保:持面26’包含後述之基材27之第 第2周壁構件31之端之;:面、第1周壁構件3〇之端面、及 圖7A及7B係顯示光罩保持 保持構件之® ^7A係光罩 W 千仃的截面圖、圖7B係從+ X側觀 T1之圖。光罩保持構件〗，具傷:基材… 乂成在基材27上、能岁#伞罢μ 形成在基材27上、=?側面_銷構件29, 的第U壁構件3。形 在基材27上、能與光罩Μ之側面 s之内緣區域（開口 ΜΚΑ附近之區域）對向的第 3卜以及形成在基材27上、能吸引氣體的吸引口 構件 光軍保持構件1之基材27具有對應光罩Μ之形狀。如 上所述，本實施形態中，光罩Μ之側面⑽於γζ平面 大致圓環狀。能與光罩Μ之側面MS對向之基材27之第^ 面27A ’係在YZ平面内形成為大致圓環狀，以與光罩μ之 側面MS對應。本實施形態中，基材27之第】面係= 向+ X側。保持面26係配置在基材27之第j面2以側=月 24 200830057 又，本實施形態中’光罩保持構件… 持面26更突出於Η側之突出部28。突出部28盘為較保 在ΥΖ平面内之中央邻八 -、基材27 16係形成為於Χ轴方向貫通Α 霉件20之孔

“ 基材27及突出部28。突“R 夕一部分，能配置在保持於保持面％ ° 部空間MK。 光罩Μ之内 第1周壁構件30形成在基材27之第j面27 第1周壁構件3。對應光罩Μ之側面 二卜： 圓環狀。第1周壁構件3°具有些微的小於:罩： 之側面MS之外徑的外徑。第！周壁構件、罩 保持構件1所伴持氺 /、 此/、光罩 斤保持之先罩M之側面Ms之外 面。弟1周壁構件★山二τ, ; ^ 料30之鳊面平坦、具有既定寬度。 第2周壁構件31形成在基材 區域。第弟1面27A之内緣 你對應先罩Μ之侧面Ms之鬥门 ==致圓環狀。第2周壁構件31具有些微“於被 繞之開°MKA外徑的外徑。第2周壁構 之内、、彖£域對向的端面 有既定寬度。 第2周壁構件31之端面平坦、具 銷構件29在基材27 μ

Qn . 之弟1面27A形成有複數個。第j 周土構件30係配置成圍姑 在第！周壁構…第、;=二二件31，鎖構件29， 面2H樣的配置有^壁構件31間之基材27的第1 罩Μ之側面MS分別對二個。各銷構件29具有能與光 子向之鳊面。銷構件29之端面平坦。 25 200830057 複數個銷構件2 9之端面 同位置。 係於X軸方向分別 設置在大致相 之端t:: 銷構件29之端面與第1周壁構件 == 構件31之端面’係於X轴方向分別設置 辟構乂 。亦即’複數個销構件29之端面、第1周 二構：30之端面及第2周壁構件31之端面，係位於大致 第1用：t(YZ平面上)’成同一面高。銷構件29之端面、 1周壁構件3。之端面及第2周壁構件31之端面，能盘 M之側面MS接触。如圖6所示，鎖構件29之端面、 第1周壁構件30之端面及第2周壁構件3ι之端面分別與 光罩Μ之側面MS接触，據以在光罩k — ，形成由光 罩Μ之側面MS與帛μ壁構件3()與第2周壁構件“與基 材27圍成之空間33。 ”土 吸引口 32係用以吸附保持光罩M。 …與第2周壁構…之基材 刀別形成於複數個既定位置。吸引口 32係在基材Μ之第1 面27A中、分別設置在銷構件29以外複數個既定位置。 能吸附光罩Μ之側面MS的吸附機構25，包含形成於基 材27之第1面27A的吸引口 32、與能透過該吸引口 32吸 引氣體之真空系統的吸引裝£ 34。如圖7A所示，吸引裂置 34係設置在光罩保持構件"卜部，各吸引〇 32透過流路 35與吸引裝置34連接。連接各吸引口 32與吸引裝置^之 流路35之至少一部分係形成在基材27内部。 吸引裝置34 ’能使光罩Μ之側面奶與第i周壁構件 26 200830057 3〇與第2周壁構件31與基材27所圍成之空間33成為 壓。亦即，吸引裝置34透過吸引口 32吸引空間33夕* 、 據以使空間33①壓力低於空間33之外側空間之壓力（例 大氣壓）。本實施形態中，光罩保持構件i具有銷構件2 = 具有所謂之銷夾頭機構。 ’ 控制裝置6驅動吸附機構25之吸引裝置34吸弓丨* 33之氣H，以使空33成為負壓，據而以保持面 =件29之端面、第i周壁構件3〇之端面及第2周 Μ之端面）吸附保持光罩M。 “又’控制裝置6可控制含吸引裝置34之吸附機構託， =解除吸附機構25對光罩M之吸附，使…離開保持面 ^所述，本實施形態中，控㈣置6藉控制設於光 罩保持構件1之吸附機構25， 拄 將先罩M女裝於光罩保 、牛1之保持面26、或將光罩Μ從# 1仅；& m # 持面26取下。 &罩M攸先罩保持構件1之保 此外，本實施形態中， 罩M 及附故構25雖具備真空吸附光 機構。ϋ i ^ f 了具備使用静電力之靜電吸附 保持成可裝拆。 罩保持構件1亦能將光罩Μ 如圖6所示’軸構件2〇之 持構件1之孔（内部空間）丄6 v彳分可配置在光罩保 置在較光罩保持構件！：軸構件20之+ X側端部，配 構件20之外面、盥 、面26更位於+ X側。又，軸 罩保持構件1(突出部28)之孔16内 27 200830057 二:向。光罩保持構件1中、配置在較保持面26更位 軸構件20及光罩保持構件1(突出部⑻之至少 #刀，能配置於保持在保持面 ^ 又，本者m 士 罩M的内部空間· 本貝施开> 悲中，保持在光罩 26的光罩M、盥配置在喋井置M ”、 之保持面 構件U突出部28)及巍/之内部空間MK之光罩保持 、大出邛28)及軸構件2〇係分離。 如圖6所示，曝光裝置Εχ 1與軸構件20之具㈣成在光罩保持構件 傅仵⑼之間的帛！空氣軸承3 20與支撐構件21之間的第 7成在軸構件 38。 的弟2工乳軸承37及第3空氣轴承 如上所述，含突出部2 8 構件20外面相對向μ 先罩保持構件1，具有與軸 構件20中$丨… *。孔16於ΧΥ平面内為圓形。軸 Γ 至少配置在孔16内側之部分，在^; 為圓形。軸構件20中、配 在u平面内亦 些微的小於孔16之内徑 0側之#刀之外徑， 冰品 光罩保持構件1内面鱼軸槿杜9 η 外面之間，形成有既定間隔βU構件20 第卜…，广 間隙)G1㈣成。 二乳軸承36係形成在光軍 件20外面之間。光罩#_放保持構件1内面與軸構 以非接觸方式支斤於轴槿、1係错由帛1 2氣轴承36 式支撐於軸構件20。藉由笫〗* 罩保持構件1内而伽虹讲 弟1二乳轴承36將光 于稱仵1内面與軸構件2()外 大致維持一定。軸盖 1之間隔（弟1間隙）G1 疋軸構件20將光罩保持構件1 Φ拎& 心軸J為旋轉軸旋轉。 #件1支擇為能以中 本““八怨中’藉由第1空氣軸承36將第 大致維持於一定， 36將弟1間隙G1 义 保持構件1相對軸構件2。於 28 200830057 、z軸、θυ及θζ方向之移動。氺罢位4士 相對軸構件^ 先罩保持構件1，能 再件20僅移動於X轴、及0 χ方向。 支撐構件21為大致筒狀之構件。 置軸構件2η 又棕構件21，具有配 成為於X:方:至少一部分的孔(内部空間孔39係形 係配置在=貫通支揮構件21。轴構件2〇之至少-部分 在同狀支撐構件21之孔39内側。 39於支χΓ:二具有與轴構件2°外面相對向之‘ 側之部分=圓形’轴構件2〇中、至少配置在… 配置在孔39由千面内亦為圓形。此外、軸構件20中、 支撐構件21内側之^刀之外控’些微的小於孔39之内徑。 2間隙)G2。面與轴構件2〇外面之間形成有既定間隔(第 外面=承37形成在支挣構件21内面、與構件20 間。軸構件2 〇係蕤ώ M 0 w产 式支撐於支撐構件21。二二？軸承37以非接觸方 内面與軸構件 曰i乳軸承37將支撐構件21 ^ ° 21 車由旋轉。 支撐為此以中心軸J為旋轉 〜Χ側之第2= 2:朝第向^ Χ側之第1側面2U、與^ 為平垣。軸構件20且有^ U及第2側面21B分別 突緣“具有與J構件有:乂突緣41與第2細，第丨 之對向面似，第2突续,+Χ侧之第1側面21Α相歸向 之第2側*_相對向^；；具有與支撑構件21之〜^ ;之對向面42Α。第1侧面21Α、第2 29 200830057 側面21B、對向面4丨 平行。第1側面m與Γ ’係分別與面大致 些微的小於第i突緣 侧面21Β在χ軸方向之距離， 向面轴方;J之對向面4U與第2突緣42之對 „ , 距離。在第1侧面21A盥對向而 ==有既定間隔(第3間隙)以 側、: 向面42A之間則报屮士 彳® Ζ1β與對 ^ 、/成有既定間隔（第4間隙）G4。 第3空氣軸承38’分別形 21Α與第1突…對向面41Α之間、以及支二 =面 第：側…第2突緣42之對向… = 氧軸承38,將支撐構件21之第i側面2u 弟工 :對向…之間隔(第3間隙)G3大致維持—定大緣且: 撑構件21之第2側面21B與第2突緣42之對、 間之間隔（第4間隙）G4大致維持一定。 本實施形態中’係藉由第2空氣軸承37及第 承38分別將第2間隙G2、第3間隙G3及第4間隙G= 維持-定。本實施形態中，藉第2空氣軸㈣及第… 轴承38限制轴構件2Q相對切構件21於χ軸、 Υ及0 Ζ方向之移動。軸構件2〇相對支撐構 能移動於Θ X方向（可旋轉）。 1僅 ，如前所述’本實施形態中’曝光裝置ΕΧ具備能使保拉 有光罩Μ之光罩保持構件i以中心軸】為旋轉軸旋轉於θ、 方向、且能使保持有光罩Μ之光罩保持構件i移動於6 由度方向的光罩驅動裝置2。光罩驅動裝置2，包含使 保持構们能至少移動於旋轉方向（θχ方向）之第i驅動機 30 200830057 62。”牝使軸構件20移動於既定方向之第2驅動機構 弟1驅動機構61具有安裝於光罩保持構件1側之可動 U與女裝於軸構件20侧之固定件61B，使光罩保持 二1至少移動於旋轉方向（“方向）。第】驅動機構以 匕各以羅儉兹力驅動之旋轉馬達。本實施形態中，第】驅 動機構61之可動件6U具有磁石單元、固定件6ΐβ具有線 圈單元。 本實施形態中’可動件61A係安裝在光罩保持構件） 之基材27之第2面27B。基材27之第2面27B係與第i面 27A相反側之面、朝向一又側。又，本實施形態中，轴構件 2〇具有第3突緣43,此第3突緣43具有與基材27之第2 面27B相對向之對向面43A，固定件6ΐβ安裝在第3突緣 之對向面43A。第2面27B及對向面43A分別與γζ平面 大致平行。在第2面27B與對向面43A之間形成有既定間 隔（第5間隙）G5。 固定件61B包含以圍繞中心軸j之方式配置於對向面 43A之複數個線圈（線圈列）。可動件6U， 與線圈排列方向之同方向交互變更之方式、圍繞；= 配置於第2面27B之複數個磁石（磁石列）。 控制裝置6，對固定件61B之複數個線圈供應正弦波狀 之三相交流電。據此，於線圈之排列方向、亦即於繞尹心 軸J之旋轉方向X方向）產生推力。控制裝置6，可根據 線圈列與磁石列之相對位置切換供應三相交流電之線圈， 31 200830057 而能：線圈排列方向連續的變更線圈列與磁石列 :。错可動件61A之磁石列形成之磁場沿線圈 ： =列周期進行正弦波狀之變化，當對線圈： 父流時即會於線圈排列方向產生一定推力 一相 ，裝置6’藉控制包含可動件6u及固定件 驅動機構6卜能使光罩保持構件i繞中心u ^ 向（θ X方向）旋轉。又，控制裝置6 η λ _ 精控制第1驅動播播 I1’可調整可動件61Α與固定件…於X軸方向之^構 t制裝置6 ’可藉由例如調整 ,+ 丁固疋件6ΐβ之線圈供應之蕾 力，來調整軸構件20之第3突 Μ之電 保姓娃从 緣43之對向面43Α與光罩 保持構件1之基材27之第2面27β 罩 間隙）G5。 、車方向之間隔（第5 亦即，控制裝置6能藉控制第！驅 基I—軸構件別(第3突…二 之位置。 精件1相對軸構件20於⑼以 如則所述，本實施形態中，光罩驅 動機構Μ，能使保持光罩祕/置2之弟1驅 J用圍一 之先罩保持構件1於繞中心軸 J周圍之旋轉方向（ΘΧ方向）移動’且移私^ 軸 ^且知動於中心轴J方向 第2驅動機構62，具有安奘於在#此 21)側之τα ^ 有女凌於底座構件23(支撐構件 能使底^ 與安裝於第2平台8側之固定件⑽， 使底座構件23及與該底座構件23 交於既定古△ ^ 聪之支撐構件21移 向。弟2驅動機構62包含以羅倫兹力驅動之音 32 200830057 圈馬達。本實施形態中，第2驅動機構62之可動件62a具 有磁石單元，固定件62B則具有線圈單元。 本實施形態中，可動件62係分別安裝在底座構件Μ 之複數個既定位置。固定件62B係於第2平台8之複數個 既定位置，分別安裝成與可動件62A對應。本實施形態中， 可動件62“系分別安裝在底座構件23之至少6處，固定件 62B則係分別與可動件62A對應安裝於第2平台8之6處。 此外’圖6中’係顯示可動# 62A及與可動件62a對應之 固定件62B各2個，其餘之可動件62八及固定件之圖 示則予以省略。 控制裝置6’可藉控制包含複數個可動件62A及固定件 62B之第2驅動機構62’使底座構件23及與該底座構件 -體之支標構件2卜移動於X軸、γ轴、z轴、θχ、 及0Ζ方向之6自由度方向。 又，如前所述，軸構件2Q_切構件21僅能移動 於ΘΖ方向（旋轉可能）。藉第2空氣轴承37及第3空氣轴 承38,限制車由構件20相對支撑構件21於乂轴、γ轴、Z轴、 ΘΥ及ΘΖ方向之移動。因此’隨著底 件21往X轴、γ轴、2轴……方向之移動，轴構件 20亦移動於X轴、Y轴、2轴、ΘΥ及，2方向。換古之， 轴構件Μ與支擇構件21(底座構件23)於 軸、。 ΘΥ及ΘΖ方向係_起移動。 ? # 第2驅動機構62，能藉由將支撐 向，來將支叉棕構件21移動既定方 按構件21與軸構件2。-起移動於既定方向。 33 200830057 因此，控制裝置6藉由 01 k制弟2驅動機構62移動支撐構件 21 ’能使軸構件2 0盥去拷m从 ”叉按構件21 —起移動0 X方向以外 之方向’亦即移動於x轴、Y軸、z軸、ΘΥ及ΘΖ方向。 又如以上所述，光罩保持構件工相對轴構件別，僅 说移動於X軸及0 X方6 . 万向。稭由第1空氣軸承36限制光罩 持構件1相對軸構件車由、2軸、”及0Z方向 移動因此，&著軸構件2〇往y轴、z轴、a γ及μ °之矛夕動光罩保持構件i亦往γ轴、ζ轴、Θ γ及η 。移動換口之，光罩保持構件工與轴構件μ於υ轴、 ζ軸、ΘΥ及0Ζ方向係—起移動。 承上所述’弟2驅動 ^動機構Μ能藉由使支撐構件21與 =件2卜起移祕方向，來使 及保持構件1與軸構件20-起移動於Y轴、z軸、ΘΥ =向又，控制裝置6’藉由一邊使用第" 61凋整第5間隙G5(例如一 + an 還、准持一疋値）、一邊使用第2 驅動機構62使支撐構件21盥 光罩， /、釉構件20 —起移動，即能使 九罩保持構件1與軸構件2〇 ΘΥ及ΘΖ方向。 起移動於X軸、Υ軸、Ζ軸、

控制裝置6能藉由控制包含第L 弟2驅動機構62之光罩驅 再i及 # i± Μ 、置2，使保持光罩Μ之光罩 保持構件丨移動於χ 料 之6自由声^ 軸Ζ軸、ΘΧ、ΘΥ及ΘΖ方向 ㈢由度方向。控制裝詈β & ^ 調整光軍保持構件1之6自由制光罩·㈣裝置2， 於該光罩保持構件,之光罩:，度:而 疋阳调整圖案MP之6自由 34 200830057 度方向位置。 本實施形態中’光罩驅動裝置2具有以羅儉兹力驅動 之線圈單兀與磁石單元，該等線圈單元與磁石單元係以非 接觸狀態加以驅動寸δ。據此，能抑制移動光罩保持構件丄 之光罩驅動裝置2之振動的產生。 、 又’本實施形態中’曝光裝置Ex具備抑制隨光罩保持 構件1之移動所產生之振動的防振裝置24。隨光罩保持構 件1移動所產生之振動，以防振裝置24加以抑制。本實施 形態中1方振裝£ 24包含具有&以羅倫兹力驅動之致動器 的第2驅動機構62之至少一部分、與氣塾等之阻尼機構： 如以上所述，第2驅動機構62具備能調整底座構件23(支 撐構件21)於6自由度方向之位置的複數個致動器。根據未 圖：之加速度感測器(又试位移感測器)之檢測結果驅動致 動器，能抑制隨光罩保持構件丨移動於既定方向（6自由戶 方向）所產生之振動。例如，控制裝置6以加速度感測器（= 位移感測器）檢測第2平台8之加速度（或位移），根據此产 測結果’控制防振裝置24以抑制隨光罩保持構件ι之移^ 所產生之第2平台8之振動。據此，控制裝置6能抑制機 體BD、投影光學系統PL等之固有振動數之激勵，抑制振動。 又’本實施形態中，肖振裝£ 24&含用以吸收隨著光 罩保持構件"主ΘΧ方向旋轉所產生之慣性力之反作用力 的配衡貝ϊ 46。本實施形態中，配衡質量46包含軸構件 2〇及連接於該軸構件2〇之錘構件22。此錘構件22，係具 有在光罩Μ㈣於光罩保持構件丨日夺，保持重量平衡之: 35 200830057 能者。 包含軸構件20之配衡質 產生之慣性力之反作用力，' 會因隨著光罩Μ之旋轉 罩Μ相反之方向。例：：篁首恆定律旋轉於與該光 因光罩驅動裝置2笛”、光罩Μ之光罩保持構件】 向旋轉時’包含對光，動機構61之驅動而往+ W方 2〇的配衡質量46，即往^構件1為非接觸狀態之軸構件 罩保持構件i及光 方向旋轉。據此’能抑制光 之^轉時被激勵之振動。 例如，為旋轉保持有光 在驅動黛彳M 4 有先罩M之光罩保持構件1旋轉， 在驅動弟1驅動機構61時 光罩保持構件！之旋轉方/衡貝董46即往與光罩u ==除以配衡質量46之質量的量。藉由此配衡 之移動（旋轉）’來移動（旋轉）保持有光罩m之光罩 保持構件卜或抵消為保持有光罩M之光罩保持構 動後（旋轉後）姿勢之駆勤 移 旦κ 努之驅動所產生之反作用力。藉由配衡質 里之作用’能吸收保持有光罩Μ之光罩保持構件工旋轉 所產生之振動’抑制該振動傳至第2平台8。

此外，本實施形態中，因第1驅動機構61之可動件6U 與固定件61B之物理性相互作用(電磁相互作用)而產生驅 動力’ 4可動彳61A與固定件61B協同動作產生驅動力。 本實施形態中，藉由羅倫兹力（電磁力），固定件61B往與 可動件61A相反方向些微移動。本實施形態中，將移動量 相對較多之構件稱為可動件、將移動量相對較少之構件稱 為固定件。 36 200830057 又，本實施形態中，曝光裝置 保持成能移動既定量之保持機構 v、將配衡質量46 量46保持成能移動既定量(可。保持機構47將配衡質 轉既定量以上。又，包含致動器之保持二:配衡質量46旋 衡質量47之位置。 ’、寺機構46，能調整配 =施形態中，保持機構47包含以羅 圈馬達4之致動器。具體而言，保持機構Ο .—動之曰

與固定件47B，可動件47A包含 "可動件47A 早-’固定件47B包含安裝於第 側之磁石 保姓德Μ β ^ X 〇 8側之線圈單元。 保持_47包含所謂之配平馬達(trimm〇t〇r)。 本實施形態中，軸構件2〇呈右彡 錘構件22之間的第4突緣44。；=:弟2突… 2平台8上面相對向之第4突緣：:广係安裝在與第 F在笛9 u。 昂大緣44下面。固定件47B係安 :右叮°上面之既定位置與可動件47A對應。包含 如以上所述，配衡質量46係藉由保持有光罩μ之光罩 =構件i之旋轉所產之反作用力…X方向往與該光 :保持構件"目反方向移動(旋轉）。此處，例如視掃描曝 、'條件’光罩保持構件i有可能僅於+ Θ X方向持續移動， 此情形中，配衡質量46有可能從基準位置（初期位置、中 間位置)往—ΘΧ方向進行大的旋轉，使其位置大幅偏移。 :使I :件4 7 Α及固定件4 7 Β之音圈馬達的保持機構4 7， 軸構件20之配衡質量46移動於"方向(可旋 。亦即’當電力供應至固定件47B之線圈單元時，往Η 方向之驅動力即作用於安裝在第4突緣44之可動件“A。 37 200830057 當配衡質量46之輛構件 時，例如有可能導致安事M 方向位置大幅偏移 機構,虞於邊軸構件20 —部分之第丨驅動 械構61之致動器（音圈 不 别 生影響。 .、、、達）之控制性劣化等，對控制性產 因此，控制裝置6在配槪所曰^ 量以上時，換言之，當配衡X4從基準位置旋轉既定 保持構件υ於⑴向支撐構件21(或光罩 门之相對位置偏移容許値以上時，即 痴動保持機構47之音圈 1 之配^ …達，凋整（修正）包含軸構件20 卜♦ <置，例如使其回到基準位置。 此處，保持機構4 7之立m巨、去 時、第".射η 達之驅動’能在例如基板更換 弟"，射&域之曝光後至其次之第2照射 則間之期間等、以曝光動作φ *九 艽勡作中以外之既定時序實施。 又，本實施形態中，保持機構47在掃描曝光 保持構件1藉第1驅勤 ”“罩 糟弟1驅動機構61之旋轉中），亦係 配衡質量46僅位移既定之驅動 -使 46。換言之，保持機構47在使用第工UT持配衡質量 保持構件i之旋轉中，二二驅動機構61之光罩 疋轉中’亦係在此抑制配衡質量46之既定量 乂上疑轉之範圍内，產生能柔和保持配衡質量心㈣^ 在不設置保持機構47、配衡質量46能於0χ方向 自如之情形’有可能無法良好的進行光罩保持構件i 忑動機構61之致動器㈣χ方向之推力控制。3 因此，本實施形態中，於掃描曝光中（光 错第1驅動機構61之旋轉中），亦係，由伴拉：持構件1 衡曾旦^ 刀係猎由保持機構47在配 、貝篁46能位移既定量之範圍内柔和的加以 38 200830057 上述不良情形之發生。 鄆作呀等7碉涊將包含 轴構件20之配衡質量46之0 X古A , < 方向位置配置於基準位置 的情形。在此種情形時，控㈣置6可使心㈣構47之 致動器，調整配衡質量46之0χ方向位置。 其次，說明更換光罩M之更換系統64。圖8A及祁係 顯不進行光罩Μ之更換之更換系統64的圖。圖8“ 8b中， 曝光裝1EX具備對光罩保持構件i進行料m之更換之更 =統64。如上所述，光罩保持構件1將光罩^持成能 衣卸’控制裝置6能使用更換_64，對 進行光罩Μ之更換。 ^再彳千1 更換系統64,包含：設於光罩保持構件卜能將光罩祕 吸附成對保持面26進行裝卸的吸附機構25，與能在光罩保 持構件1與既定位置（例如能收容光罩Μ之收容裝 搬送光罩Μ的搬送裝置65。 冬貫施形態中，搬送裝置 、岡巧僻汁bb，此臂構件 /、有保持面，此保持面係吸附光罩"、與光罩保持構 1之保持面26對向之—X側側面…目反側之+ χ側側面 S加以保持。搬送裝置65’能以臂構件66 側面MS而移動。 干 < 圖8A係顯示搬送裝置65將光罩M安襄於光罩保持構 之狀態（正裝載之狀態）的圖。如圖8A所示，搬送穿置 5係使用臂構件66在保持光罩Μ之^側側面ms之狀離 下’以從軸構件20之-端（+X幻挿入轴構件2〇及光罩保 39 200830057 持構件1之突出部28之方式，將光Η裝载（搬 持構件卜如圖8B所示，光罩保持構件持罩保 光罩Μ之—X側側面MS加以保持。 吸附 光罩Μ後，搬送裝置65之臂構件66即保持 所保持之光罩Μ退開。 先單保持構件1 又，在將保持於光罩保持構件i 構件1卸議出）之情形時，搬送裝置65之臂^ =持 軸構件2〇之一端（+ χ侧）接近光罩保持構件Μ保持之: :Μ之+ Χ側側面MS，吸附光罩 :罩：臂構件66保持…後，即解除光罩保持構件：： ^之保持。搬送裝置65之臂構件，在保持光罩“ 出=M以從軸構件2Q及光罩保持構件1之突出部Μ拔 之方式在+ X側移動。據此，光罩Μ即被搬送裝置 6 5從光罩保持構件1取下。 、 如前所述，包含搬送裝置65及吸附機構25之更換系 統64 ’能從軸構件20之一端（+χ側）插入 :保持構，1之至少-部分或取出，以進行光罩Μ = 罩保持構件1及將光罩Μ從光罩保持構件i搬出之至少一 方0 接著，説明可取得光罩Μ之位置資訊之第丨檢測系统 5人。圖Μ系用以說明帛w測系統5人之示意圖。第咖 系、先5Α檢測經過光罩Μ之光，根據該檢測結果取得光罩μ ，位置資訊、以及關於圖案ΜΡ之位置資訊。本實施形態中， "栈/則系統5 Α包含編碼器系統51及聚焦調平檢測系統 200830057 扁碼器系統51及聚焦調平檢測系統52之第1檢 ㈣及以：： 圖案ΜΡ)於χ轴、γ軸、2轴、”、 方向之6自由度方向的位置資訊。 編碼器系統51，能取得光罩Μ 案形成面案仙於外周面（圖 中心轴資訊、及光罩财之圖案肝於 方向α軸方向）的位置資訊之至 統51能拾、、則冰罢Μ 夕万、、扁碼益系 統w 1 旋轉量（旋轉角度）。聚焦調平檢測系 6 ’此取侍光罩Μ之圖案形成面抓在； 向（Ζ軸方向）的位置f訊。 轴J垂直方 第1檢測系統5A之編碼器系統51，檢測經過位 払§己EM(於外周面MF之標 、 B 不ύ小珉&域Μβ，相對圖素Mp ::定位置關係形成)之光，根據該檢測結果，取= 之位置，訊。編碼器系統51包含光學式編碼器。 圖10A係將光罩撾之夕卜冃％ ^ 面… "之外周面抓之-部分展開於π平 上的圖，圖和系將K10A之標記形成區 ： 「放大的圖。如_10“10B所示，光軍M 二 二：圖案MP之位置資訊的標記EM、RM，此標記踹、心 '周面MF之標記形成區域MB相對圖荦Mp '、 係形成。 Ta* MP W既定位置關 標記形成區域MB’係分別配置在光罩 中心轴】方向α轴方向)_側(+ χ側)及另—端卜(周㈣之 之圖案形成區域ΜΑ夕卜側。形成有圖案Μρ之圖㈣中 ，係以包圍中心軸J之方式於外周面MF之周^區域 置。標記形成區域MB’則係對應圖案形成區域= : 41 200830057 中心轴J之方式於外周面MF之周方向連續配置。 形成於標記形成區域MB之標記，包含以編碼器系統51 檢測之之位置檢測用標記EM、以及藉由配置在投影光學系 統PL像面側（光射出面側）之受光裝置56加以檢測之對準 標記RM。本實施形態中，檢測系統5亦包含受光裝置。 以編碼器系統51檢測之位置檢測用標記EM，係用以取 得圖案MP於外周面MF之周方向（0 X方向）的位置資訊、以 及圖案MP於中心軸j方向（X軸方向）的位置資訊之至少一 方的標記。控制裝置6使用編碼器系統51檢測經過位置檢 測用標記EM之光，而能取得圖案MP於外周面肝周方向之 位置資訊、及圖案Mp於中心轴j方向之位置資訊之至少一 方。 以叉光裝置56檢測之對準標記RM，係用以取得關於經 過投影光學系統PL之圖案MP之像、與配置在投影光學系 統PL像面側（光射出面側）之基板p上之照射區域s間之位 置關係之資訊的標記。控制裝置6使用受光裝置56檢測經 過對準標記RM之光，而能取得關於圖案Mp之像與照射區 域S間之位置關係之的資訊。 馬时系、、充51檢測之位置檢測用標記em，係於外周 面MF之用古—^

Rm 周方向連續形成。以受光裝置56檢測之對準標記 ^形則係於外周面肺之周方向斷續形成。標記腿、⑽分 成有複數個。標記EM、RM係分別形成為與複數個圖案 乂、、扁碼器系統51檢測之位置檢測用標記EM，包含沿既 42 200830057 示向开^成之複數個線圖案（線與空間圖案）。如® 1〇Β所 不’位置檢測用輕 .用‘5己EM，包含以X軸方向為長邊方向…;八 外周面MF之周古a , ^ 向（θχ方向）以既定間距形成之複數個線 口未、以及以/QY+i, 方 yx方向（於圖10A及10B之展開圖中為γ軸 图牵\長#邊方向、沿X軸方向以既定間距形成之複數個線 圃茶。此姜绩闰电 & 圖案，其功能係作為以編碼器系統51檢測之 “尺（繞射袼子）。 以下之β兄明中，將包含卩χ軸方向為長邊方向、沿外 :面：匕之周方向(“方向)以既定間距形成之複數個線圖 ”的輮δ己群（線群）適當的稱為第1標記ΕΜ1，將包含以Θ X 方向為長邊方向、& X軸方向以既定間距形成之複數個線 圖案的標記群（線群）適當的稱為第2標記EM2。 第1標記EM卜包含以圍繞中心轴；之方式、於外周面 胂之周方向以既定間距配置之複數個線圖案。第2標記 EM2，則包含於χ轴方向以既定間距配置、以圍繞中心軸】 之方式&外周面MF之周方向形成之複數個線圖案。此等第 1 ‘圮EM1及第2標記EM2，分別形成在圖案形成區域ma 兩側之2個標記形成區域。 如圖9所示，編碼器系統51係配置成與第丨標記及 第2仏c EM2分別對應。本實施形態中，編碼器系統5i， 具備：用以檢測+ X側之標記形成區域Μβ之第2標記em2 的第1編碼器51A、用以檢測+ x側之標記形成區域Μβ之 第1標記ΕΜ1的第2編碼器51Β、用以檢測_ χ側之標記形 成區域MB之第1標記EM1的第3編碼器51C、以及用以檢 43 200830057 測一 X側之標記形成區域mb之第2標記EM2的第4編碼器 51D。此等第卜第2、第3、第4編碼器5U，51β，5ι ° 為光學式編碼器。 *第1編碼器51A及第4編碼器51D，係藉由分別檢測第 2標記EM2，而能檢測光罩M於中心軸j方向（χ軸方向）之 位置資訊、進而檢測圖案MP之位置資訊。第2編碼器51b 及第3編碼器51C，藉由分別檢測第1標記em1，而能檢測 光罩Μ於外周面之周方向（0χ方向）之位置資訊。 第1、第2、第3、第4編碼器51Α，51Β，51C，51D之 檢測結果分別輸出至控制裝置6。控制裝置6能根據各編碼 器51Α，51Β，51C，51D之檢測結果取得光罩Μ之圖案肿 之位置資訊。本實施形態中，控制裝置6能根據第1編碼 器51Α及第4編碼器51D之至少一方之檢測結果，取得將 外周面MF展開於χγ平面上之狀態下之圖案Μρ於χ軸方向 的位置資訊。又，控制裝置β能根據第2編碼器5丨Β及第3 編碼器51C之至少一方之檢測結果，取得將外周面MF展開 於XY平面上之狀態下之圖案MP於γ軸方向（亦即外周面财 之周方向）之位置資訊。又，控制裝置6能根據第2編碼器 51B及第3編碼器51C之雙方之檢測結果，取得將外周面 MF展開於XY平面上之狀態下之圖案MP於0 z方向之位置 資訊。 圖11係顯示第2編碼器51B的示意圖。第2編碼器 51B，具備：對形成有第1標記em 1之標記形成區域mb投 射檢測光的投光裝置501，以及能接收投射於光罩M之標記 44 200830057 形成區域MB、經過該光罩Μ之標記形成區域MB之檢測光的 受光裝置^本實施形態中’第2編碼器51B係將從投光 裝置5〇1投射至標記形成區gMB、於該標記形成區域仙反 射之檢測光以受光裝置502加以受光。第2編碼器5ΐβ藉 由，光裝置501將雷射光投射至帛1標記EMK繞射格子）， 並藉由使用此雷射光之干涉現象檢測第i標記腿。 第1標記EM1之各線圖案係以既定間距形成，當光罩M ㈣時，在從投光裝置5Q1投射之檢測光之照射區域，即 交互的配置線部分與非線部分’受光裝置5〇2之受光狀態 產生夂動據此帛2編碼器51B能根據受光裝置5 〇 2之 受光結果，求得光罩Μ之# μ 士 ^ > γ竹尤旱Μ之疑轉方向之位置（旋轉量、旋轉角 度）。 …又，設置複數個投光裝置501之發光元件，將該等發 光兀件射出之榀測光之照射區域，於標記形成區域仙之周 方向以既定間隔(例如各線圖案間距之1/4程度)加以形 成且對應各發光元件（照射區域）設置複數個受光裝置5 〇 2 之又光7L件，帛2編碼器5ΐβ即能根據各受光元件之受光 結果檢測光罩Μ之旋轉方向。 又，第2編碼器51Β能根據每單位時間所檢測之各線 圖案之數量、與已知線圖案之間距，檢測光罩Μ之旋轉速 度0 此外，使用圖π之％ ΗΒ 士 . ^ ^ 之况月中，雖係以弟2編碼器51Β及 該對應該第2編碼器5〗R夕#，μ _ 13之第Μ示記ΕΜ1為例做了説明， 但除第2編碼器51 R # 外之其他編碼器51Α，51C，51D及 45 200830057 對應該等編碼器51A，51C，51D之各標記EMI, EM2亦呈右 同等構成。 ^ 又’本實施形態中，係與基板Ρ往既定一維方向轴 方向）之移動同步，一邊使光罩肘之外周面mf以中心軸了 為紋轉軸旋轉、一邊將複數個圖案MP之像依序形成於基板 \上。此外，本實施形態中，光罩Μ具備為取得與基板p之 私動同步旋轉之外周面MF旋轉時之旋轉開始位置之資訊的 標記EMS。以下之説明中’將為取得與基板ρ之移動同^旋 轉之外周面MF旋轉時之旋轉開始位置之資訊的標記_， 適當的稱為旋轉開始位置標記EMS。 圖1 2係將形成有旋轉開始位置標記EMS之光罩Μ外周 面MF附近展開於χγ平面上的圖。如圖12及圖刚所干： 旋轉開始位置標記EMS係形成在光罩m之標記形成區域 MB。旋轉開始位置標記EMS於光罩祕之外周面邮之 形成於一處。 :圖12及圖9所示’ ^檢測系統5八之編碼器系統 51、有用以檢測旋轉開始位置標記㈣之第5編碼琴⑽。 第5編碼器51S具有與第卜第4編碼器51A〜51D同等之 構成，具備··對形成旋轉開始位置標記EMs之標 域MB投射檢測光的投光穿 ° ^品 ㈠又尤展置，以及能接收投射於光 標記形成區域MB、經過該光罩M之標記形成 光的受光裝置。 仏测 當光罩Μ旋轉，將旋轉開始位置標記配置於 碼器⑽之投光裝置投射檢測光之照射區域時，受光裝= 46 200830057 5編碼器51S即能根據 ρ之移動同步旋轉之光 之受光狀態即產生變動。據此，第 受光裝置之受光結果，檢測與基板 罩Μ之旋轉開始位置。 如前所述，第！檢測系統^能檢測透過旋轉開始位置 標記m之檢測光，取得與基板P之移動同步旋轉之光η 旋轉時之旋轉開始位置相關的資訊。控制裝置6能根據包 含第5編碼器51S之第1檢測系'统5Α之檢測結果，控制光 罩驅動裝£ 2將光罩保持構件i所保持之光罩m之位置， 設定於與基板P之移動同步旋轉時之旋轉開始位置。 /本實施形態中，旋轉開始位置標記_具有在編碼器 糸統51檢測光罩M於旋轉方向之位置馳之基準位置(基準 標記）的功能。 第1檢測系統5Α之聚焦調平檢測系統52，能取得光罩 Μ之圖案形成面MF在與中心軸j垂直之方向(ζ軸方向)的 位置資訊。聚焦調平檢測系統52能取得光罩Μ之圖案形成 面MF中、在以照明系、统R照射之曝光用光£之區域（亦即 妝明區域IA)的位置資訊。如以上所述，本實施形態中，光 罩Μ之圖案形成面MF之最下部βτ被曝光用光照明，聚 焦調平檢測系統52取得該最下部BT之位置資訊。 * 人本貫施形態中’為取得光罩M之位置資訊的聚焦調平 m充52，包含斜入射方式之聚焦調平檢測系統。如圖 9所不’聚焦調平檢測系統52，具有從斜方向將檢測光投 射於光罩M之圖案形成面MF的投光裝置52A，以及能接收 技射於光罩Μ之圖案形成面MF、於該光罩M之圖案形成面 47 200830057 MF反射之檢測光的受光裝置52B。 又，本實施形態中，聚焦調平檢測系統52具有例如特 開平1 1 — 045846號公報所開示之能投射複數條檢測光（光 束）之投光裝置52A，能檢測光分別照射於光罩圖案形 成面MF之複數個既定位置。本實施形態中，聚焦調平檢測 系統52使用投光裝置52A，對光罩M之圖案形成面肝之最 下部BT附近之複數個既定位置分別照射檢測光。 聚焦調平檢測系統52對光罩μ之圖案形成面MF照射 攸投光裝置52Α射出之檢測光，並以受光裝置52β檢測經 由忒圖案形成面MF之檢測光，根據該檢測結果取得圖案形 成面MF之面位置資訊。 聚焦調平檢測系統52之檢測結果（受光裝置52β之受 光結果）輸出至控制裝置6。控制裝置6能根據受光裝置52β 之受光結果，取得光罩Μ之圖案Μρ之位置資訊（形成有圖 案ΜΡ之圖案形成面MF之位置資訊）。本實施形態中，控制 裝置6能根據接收照射至圖案形成面MF之最下部βτ(或其 附近）之檢測光的受光裝置52Β之受光結果，取得將圖案形 成面MF展開於χγ平面上之狀態下圖案Μρ於ζ軸方向之位 置資訊。又，控制裝置6能根據受光裝置52β所接收之分 別照射於既定區域（含圖案形成面MF之最下部ΒΤ (或其附 近））之複數個既定位置之複數條檢測光的受光結果，取得 將圖案形成面MF展開於ΧΥ平面上之狀態下之圖案Μρ於0 X 方向之位置資訊、及於0Υ方向之位置資訊。 如前所述，本實施形態中，控制裝置6能根據編碼器 48 200830057 系統51之檢測結果，取得骑 …侍將圖案形成面MF展開於χγ平面 上之狀下之圖案MPmY軸及Θ 二千面 根據聚焦調平檢測系統52之 置-貝訊’ 肝展開…面上之狀能:1結果’取得將圖案形成面 卞卸上之狀悲下之圖案肿於z軸、 方向的位置資訊。亦即，本每 θ Υ 51及聚焦調平檢測系統52之第取“ ㈣…、Υ軸，、."Υ及：向 度方向的位置資訊。 由 其次’說明基板保持構件 在链m 于稱件3及基板驅動裝置4。圖13 係,、員不基板保持構件3及基板驅動裝 驅動裝置4，呈借笛！ ^ 基板 弟1驅動糸統4H與第2驅動系統4V，第 1驅動糸統4H能葬由脸I” # a 將以空氣軸承對第3平台9上面支撐 為非接觸之底座構件4B於第 移動於x軸、γ軸 向’據以將該底座構㈣上所裝載之基 件3移動於X軸、γ 了傅 1及Θ Z方向，弟2驅動系統4V能相 方向λ 4B將基板保持構件3移動於ζ軸、0 χ及θ γ 第1驅動系統4Η例如包含線性馬達等之致動 以非接觸方式± _ ^ 觸方式支撑於第3平台9之底座構件4β移動 軸、Υ軸及（97 士人 向。第2驅動系統4V，包含設在底座構 Μ旦板保持構件3間之例如音圈馬達等之致動器、與 ’里各致動态之驅動量之未圖示的測量裝置(編碼器等）。 如圖13所示，| 4 土扳保持構件3係透過至少3個致動器支# 在底座構件4Β卜 々 牙 上。各致動器能相對底座構件4Β將基板保 49 200830057 持構件3獨立的驅動於7細士 軔於Z軸方向。控制裝置6藉分 個致動器之驅動量，相斜麻矿 動於7M 件4β絲板料構件3驅 動於Ζ軸、及0Υ方向。 如前所述’包含第i、第2驅動系統4Η、 動裝置4，能將基板保持播株q I 板馬 攸诉符構件3移動於χ軸、γ軸、z

ΘΧ、0Y及ΘΖ方向之白士疮+ A 之1自由度方向。控制裝置6藉控制 基板驅動裝置4，而能押制其士彳杜 犯徑制基板保持構件3所保持之基板p 之表面於X軸、Y轴、Z抽、n v r， ^ 乙釉ΘΧ、ΘΥ及ΘΖ方向之6自由 度方向的位置。 接著，說明能取得基板ρ之位置資訊的第2檢測系統 5Β。圖13中’第2檢測系、统5β，包含··能使用設於基板保 持構件3之測量鏡取得基板保持構件3(進而基板㈠於乂轴 Υ轴及θζ方向之位置資訊㈣雷射干涉儀系統53，以及 能取得基板保持構件3所保持之基板ρ表面之面位置資訊 (於Ζ軸、ΘΧ及ΘΥ方向之位置資訊）的聚焦調平檢測系統 5 4聚焦凋平檢測系統$ 4，包含例如特開平8〜3 7 1 4 g號公 報（對應美國專利第6,327,〇25號）所開示之斜入射方式的 聚…、凋平榀測系統，具有對基板ρ表面從斜方向投射檢測 光的投光裝置54A，以及能接收投射於基板P表面、於該基 板P表面反射之檢測光的受光裝置54B。此外，聚焦調平檢 測系統54亦可採用使用靜電容型感測器方式者。控制裝置 50 1 根據包含雷射干涉儀系統53及聚焦調平檢測系統54之第 2檢測系統5B之檢測結果，驅動基板驅動裝置4以控制基 板保持構件3所保持之基板ρ之位置。 200830057 如前所述，本實施形態中，控制裝置6能根據雷射干 涉儀系統53之檢測結果，取得基板p表面於χ軸、γ軸及 0Ζ方向之位置資訊、並能根據聚焦調平檢測系統52之檢 測結果，取得基板Ρ表面於Ζ軸、0 χ及Θ γ方向之位置資 訊。亦即，本實施形態中，包含雷射干涉儀系統53及聚焦 調平檢測系統54之第2檢測系統5Β，能取得基板？於χ軸、 Υ軸、Ζ軸、0Χ、0Υ及0Ζ方向之6自由度方向之位置資 訊0 接著，針對使用具上述構成之曝光裝置ΕΧ使基板？曝 光之方法，參照圖14之流程圖及圖15、圖16、圖17之示 意圖加以説明。 虽開始曝光程序，將光罩Μ裝載於光軍保持構件卜 將基板Ρ裝載於基板保持構件3時(步驟SA1)，控制裝置6 :既定之測量處理。例如，控制裝置"P開始與保持 有基板P之基板保持構件3相關之測量處理。 本實施形態中，測景步不田士 測動作。㈣裝置用對準系統55之檢 使用基板驅動裝置4將保持有基板p 之基板保持構件3移動於χγ古 保持禮m… 向，如圖15所示，將基板 战、 之土準標記肫配置於對準系統55之檢測區

域。然後，控制褒置6 _邊使 ^ JL 板保持構件3之χ轴方向及田射干涉儀糸統53測量基 用對準李统π k Y軸方向之位置資訊、一邊使 叫^SA2)檢測基板保持構件3上所設之基準標記 據此，控制農置6即能求出關於基板保持構件3上之 51 200830057 基準標記FM在以雷射干涉儀系統53所規

軸方向及Y軸方向的位置資訊。 座軚系内之X 又，控制裝置6一邊使用雷射干涉 有基板P之基板保持構件 測里保持 資訊，-邊如圖16所示，…向及Y轴方向的位置

上之既定数之對準標記ΑΜ(步驟⑽。 、叹於基板P 據此，控制裝置6即能求出關於 4+ X. λα r 〇 T 平 ^&己 AM 在以雷 射干^錢53所規定之座㈣内之^ 的位置資訊。 久1釉方向 控制裝置6根據以步驟SA3所求出之基板p上 標記M之位置資訊，藉運算處理求出基板P上複數個昭射 = S1〜S26分別相對對準系統55之檢測基準位置的位置 負訊（步驟SA4)。在藉由i軍董考不田七& 、 隹猎由運异處理求取基板P上複數個照射 區域S1〜S26各個之位置資訊時，例如可使用特開昭6卜 44429號公報所開示之所謂EGA(加強型全晶圓對準）方式來 加以求出。 據此，控制裝置6即能使用對準系統55進行基板？上 之對準標記AM之檢測，以分別決定基板p上 照射區域S1〜⑽在以雷射干涉儀“ 系内的位置座標（排列座標）。亦即，控制裝置6能得知在 以雷射干涉儀系統53規定之χγ座標系内，基板ρ上之各 照射區域S1〜S26相對對準系統55之檢測基準位置係位於 何處。 控制裝置6 —邊使用編碼器系統51檢測光罩保持構件 52 200830057 1所保持之光罩^位置資訊’並使用雷射干涉儀系統53 測里保持有基板P之基板保持構件3之位置資訊，—邊使 用設於基板保持構件3之受光1置56，檢測設於光罩^之 對準標記R Μ之像（投影像、空間像）（步驟s a 5 )。 亦即，控制裝置6’如圖17所示，在使投影光學系统 PL與基板保持構件3上之開口 56K相對向之狀態下，以曝 先用先EL照明設於光罩Μ之對準標記RM。據此，設於光罩 Μ之對準標記RM之空間像即透過投影光學系統几投影至含 開口咖之基板保持構件3之±面3f，設於基板保持構件 3之又光#置56即此檢測設於光罩M之對準標記之空間 像0 據此，控制裝置6，gp能使用設於基板保持構件3之受 光裝置56(開口 56K)，求出空間像（投影像）在以雷射干涉 儀系、、充53所規疋之座標系内之χ軸方向及γ軸方向的位置。 光罩Μ之圖案Μρ 成，基板保持構件3上 5 6 )間之位置關係亦為 以又光凌置56測量對準標記RM之空間像時之光 罩Μ之位置資訊’係以編碼器系統“加以檢測。編碼器系 統51精由檢測位置檢測用標記ΕΜ(第丨標記腿），來檢測 以基準旋轉開始位置標記娜為基準之對準標記RM 之位置H以及圖案Mp之位置資訊。亦即’控制裝置6 能根據編碼ϋ系統51之檢縣果，得知光“上之各圖案 ΜΡ相對基準標§己（旋轉開始位置標記）燃位於何處。〃 與對準標記RM係以既定位置關係形 之基準標記FM與開口 56Κ(受光裝置 已知。又，檢測系統5之編碼器系統 53 200830057 51之檢測値與雷射干涉儀系統53之檢測値係相對靡因 此，控制裝置6能根據步驟SA5之檢測結果，導出^、命 射干涉儀系統53所規定之座標系内之既定之基準位置盘: 罩Μ之圖案MP之像之投影位置間的關係（步驟)。 控制裝置6，根據於步驟SA4求出之以雷射；沐μ Μ田射干涉儀系統 5 3所規定之座標糸内之既定之基準位置與基板ρ上各照身 區域S1〜S26間之位置關係（照射區域s丨〜S26相對既定芙 準位置之排列資訊）、以及於步驟SA6求出之以雷紛；、止装 田考τ十涉儀 系統5 3所規定之座標系内之既定基準位置與光罩M之图案 MP之像之投影位置間之關係，導出以雷射干涉儀系統53所 規定之座標系内之光罩Μ之圖案MP之像之投影位置、與某 板P上各照射區域S1〜S26間之關係蚤導出寸§ (步驟SA7) 如前所述，本實施形態中，控制裝置6能以受光裝置 56檢測透過光罩Μ之對準標記RM之光，而取得與光罩M之 圖案Μ P之像與基板P上之照射區域§ 1〜$ 2 6間之位置關係 相關之資訊。 控制裝置6為開始進行基板ρ之曝光，一邊使用雷射 干涉儀系統53測量保持有基板ρ之基板保持構件3的位置 資訊（進而基板ρ上之照射區域s之位置資訊），一邊使用 基板驅動裝置4將基板保持構件3所保持之基板ρ移動至 最初之曝光開始位置。本實施形態中，控制裝置6係移動 基板保持構件3所保持之基板ρ，以將複數個照射區域y 〜S26中、第1照射區域S1配置於投影區域AR之一 γ側附 近0 54 200830057 :…置6為開始基板p之曝光，—邊使用編碼 (進量光罩保持構❸所保持之光罩m之位置資訊 之圖案MP之位置資訊），一邊使用光罩驅動裝 ΐ(旋;Γ㈣構件1所保持之光罩M移動至曝光開始位 5編碼。二ft置)。控制裳置6使用第1檢測系統5Α之第 光罩二S ’則透過旋轉開始位置標記EMS之檢測光，將 旋轉ηΓ動（㈣）至與基板P之移動同步旋轉光罩M時之 疑轉開始位置。本實施 持構件i所保持之光Η 龍置6係移動光罩保 ΜΑ中、第1圖荦开1「以將稷數個（6個）圖案形成區域 附近(步驟SA8)。 ^配置於照明區域U之川則 二控制裝置6根據聚焦調平檢測系統5 進仃调整，以使基板p 不 之像面成為既定之位置關= )與投影光學系統凡 二控制裝置6根據聚焦調平檢測系統5 二：以使光…最下部^投影光學系… 光料=既定之位置關係。光罩M之最…係於投影 了PL，配置與基板p表面光學共輕之位置。 控制裝置6控制基板驅動裝置4’開 向之移動，I如：在丨丨出罢土板P在+ Y方 向之移：:轉罩驅動|置2，開始光川--方 當基板P往+ γ方向之聽 方向之旋轉速度（角速度）分別達到1^先罩M往—ΘΧ 之+ Y側端部到達投影區域⑽時、弟1照射區域31 k制凌置6即從照明系 55 200830057 統IL·射出曝光用光e L。控制择班 0 ^ ^ ^ 我置6分別使用光罩驅動裝置 2及基板驅動裝置4，一邊盘本^ ^ 運，、九罩Μ往一方向之移動（旋 轉）同步’使基板ρ移動於+ γ 、 乃向、一邊以曝光用光EL照 明光罩Μ之圖案ΜΡ，將光罩Μ之闻& <圖案ΜΡ之透過投影光學系 統PL投影至基板ρ上。控制奘 τ ^ 制展置6 —邊使光罩Μ以中心軸 J為旋轉軸旋轉、一邊以曝光用伞 ”用九EL照明光罩Μ之圖案ΜΡ。 於掃描曝光時，係在光罩Μ 之部分圖案ΜΡ之像投影於 投影區域AR之狀態下，相餅於旦/ 、 相對技衫光學系統PL，使光罩Μ之 最下部ΒΤ之圖案ΜΡ於大致— 向以速度V移動，並盘此 同步使基板P於+ Y方向以速产A 、 迷度沒·ν(/5為投影倍率）移動。 圖案ΜΡ係沿光罩μ之圖宰形忐 系小成面MF之周方向形成福 數個。控制裝置β，使基板Ρ之0g 义土板^之知射區域S相對投影光 統&之投影區域AR移動於Y軸方向，且—邊與該” 往Υ軸方向之移動同步，相對昭 ^ 月糸統IL之照明區域ΙΑ 使光罩Μ之圖案形成® MF於“方向移動（旋轉）、— 曝光用光EL之照射，以形成於投影區域心圖案卯^ 使基板P上之照射區域S曝光。一邊與基板p 之移動同步，”心軸j為旋轉軸使光罩M旋轉、一：向 曝光用光EL照明光罩Μ之圖案MP，據以將複數個、 圖案ΜΡ之像依序形成於基板ρ上（步驟SAg)。 之 控制裝置6使用檢測系統5之第j檢測系统wγ、 光罩Μ(圖案ΜΡ)之位置資訊，且一邊使用第2檢 μ測 監測基板P(照射區域S)之位置資訊、一邊驅動光罩糸統5β 板Ρ，以光罩Μ之圖案ΜΡ之像使基板ρ曝光。 Μ及基 - 』、即，控制 56 200830057 裝置6根據檢測系統5之檢測結果，控制光罩驅動裝置2 及基板驅動裝置4，控制將光罩Μ之圖案MP之像形成於基 板Ρ上時之光罩Μ及基板ρ之驅動。 具體而言，第1檢測系統係在光罩Μ旋轉中之狀態 下，以編碼器系統51之各編碼器51Α〜51D之各投光裝置 501對光罩μ之標記形成區域MB投射檢測光，以各受光裝 置502檢測經由該光罩M之標記形成區域Μβ的檢測光。又， 第1檢測系統5A係在光罩μ旋轉中之狀態下，以聚焦調平 檢測系統52之投光裝置52Α對光罩Μ之圖案形成區域μα 投射檢測光，以受光裝置52Β檢測經由該光罩Μ之圖案形 成區域ΜΑ的檢測光。亦即，第}檢測系統5Α係在光罩Μ 方疋轉之狀態下檢測經由光罩Μ之檢測光，根據該檢測結果， 取得關於光罩Μ之圖案ΜΡ之6自由度方向的位置資訊。 又，第2檢測系統5Β在基板ρ移動之狀態下，以雷射 干涉儀系統5 3對保持有基板ρ之基板保持構件3之測量鏡 (反射鏡）投射檢測光，檢測經由該測量鏡（反射鏡）之檢測 光又’弟2檢測糸統5 Β在基板Ρ移動之狀態下，以聚焦 調平檢測系統54之投光裝置54Α對基板ρ表面投射檢測 光，以受光裝置54Β檢測經由該基板ρ表面之檢測光。亦 即，第2檢測系統5Β係在基板ρ移動之狀態下，檢測經由 基板Ρ之檢測光，根據該檢測結果，取得關於基板ρ之照 射區域S之6自由度方向的位置資訊。 控制裝置6根據使用第1檢測系統5 a取得之、關於包 含圖案形成面MF之周方向（0χ方向）之光罩M之圖案肿之 57 200830057 6自由度的位置資訊，控制將光罩μ之圖案MP之像形成於 基板P上時關於包含光罩Μ繞中心軸J(0X方向）之6自由 度方向的驅動。 又，控制裝置6根據使用第2檢測系統5B取得之、關 於基板P之照射區域S之6自由度的位置資訊，控制將光 罩Μ之圖案MP形成於基板p上時關於包含基板^之6自由 度方向的驅動。 如前所述，控制裝置6根據使用檢測系統5取得之關 於光罩Μ及基板Ρ之6自由度方向的位置資訊，一邊調整 關於光罩Μ及基板Ρ之6自由度方向之位置（光罩Μ與基板 Ρ之相對位置關係）、一邊對基板ρ上照射透過光罩μ之曝 光用光EL。 + 本實施形態中，於光罩Μ沿圖案形成面MF之周方向形 成有6個圖案MP，因此當光罩M旋轉大致6〇度時，第^照 射區域S1之曝光即結束。 … 當對最初待曝光之第1照射區域S1之掃描曝光結束 時’控制裝置6不進行保持有光罩M之光罩保持構件】及 保持有基板P之基板保持構件3各自的減速，而持續光罩Μ 往-ΘΧ方向之旋轉’並持續基板p往+ γ方向之移動。0 制裝置6對配置於^照射區域以^側之第⑽㈣ 域32之曝光’係與和第1照射區域S1同樣的進行。 检制Α置6不進仃保持有光罩Μ之光罩保持構件1及 保持有基板Ρ之基板保# n & 罩Μ往—Η方向之:轉=二之各1的減速’而持續光 疋轉並持續基板Ρ往+ Υ方向之移動， 58 200830057 以使苐3知射區域s3及第4照射區域S4分別連續的曝光。 如前所述’本實施形態中，控制裝置6係以一次掃描，持 縯實施排列於γ軸方向之1行分照射區域s i〜S4之曝光。 當第4照射區域S4之曝光結束後，控制裝置6即進行 基板保持構件3之減速。控制裝置6判斷1片基板P之曝 光是否結束、也就是說判斷是否已結束基板p上之所有曝 (步驟SA10)。此處，係剛結束第J〜第4照射區域S1〜S4 之曝光’仍有其他待曝光之照射區域。 步驟SA10中，當判斷仍未結束基板p上之所有曝光 時，控制裝置6即一邊使用雷射干涉儀系統53測量保持有 基板P之基板保持構件3之位置資訊（進而基板？上之照射 區域s之位置資訊）、—邊使用基板驅動裝置4將基板保持 構件3所保持之基板p移動至次一曝光開始位置。本實施 形態中，控制裝置6係移動基板保持構件3所保持之基板 P ’以將複數個照射區$ S1〜S26中、帛5照射區域S5配 置於投影區域AR之+ γ側附近。 口口/ - ▼个〜 逻使用編碼 器糸統51測量光罩保持構件丨所保持之光罩m之位置資訊 (進而光罩Μ之圖案MP之位置資訊）ι、、息 、 壯 直貝矹邊使用光罩驅動 衣置2將光罩保持構件1所伴持 罩動至曝光開始 位置U疋轉開始位置）。控制裝 笛“ π 用《1檢測系統5Α之 弟、、扁碼裔51S，檢測透過旋轉開於 氺收， 、疋得閉始位置標記EMS之檢測 先，將光罩Μ移動（旋轉）至與基板})之移動 、 時之旋轉開始位置。本實 ν疋轉光罩Μ 只細形您中，控制裝置6係移動光 59 200830057 罩保持構件i所保持之光罩M，以將複數個（6個）圖案形成 區域μα中、帛i圖案形成區域馱配置於照明區域以之― Y側附近（步驟SA11)。 本實施形態中，控制裝置6係與基板p往曝光開始位 置之移動之至少一部分並行，實施光I M往旋轉開始位置 之移動：X，控制裝置6在光罩"主旋轉開始位置之移動 中，係停止曝光用光EL對光罩μ之照射（暫時停 之曝光）。 低 一 蛟，局進仃弟1〜第4照射區域S1〜S4之曝光， 光罩Μ係往—η方向旋轉，在第4照射區域^之曝光結 束後，往與第1〜第4照射區域S1〜S4之曝光時相同方向： 亦即，持續往-“方向之旋轉’較往反方向、亦即往+ ΘΧ 方向：轉之情形相較’能更快的到達旋轉開始位置。 當光罩Μ及基板Ρ分別往曝光開始位置之移 控㈣置6將保持有光罩Μ之光罩保持構^之^ 保= 牛轉3方')設定為反方向，並將保持有基板Ρ之基板 、 之移動方向設定為反方向（步驟SA12)。 =制裝置6控制基板驅動裝置4，開始基板？往— 二之移動’並控制光罩驅動裝置2，開始光罩 向之移動（旋轉）。 Χ方 田土板Ρ在-γ方向之移動速度、及光罩^往 向之旋轉速度分別達到一定、第5照射區 ： =達投影區域AR時，控制裝置6即從照明 曝光用㈣。控制…，-邊與光"往+θΧ方= 60 200830057 動（旋轉）同步使基板P移動 ητ Λ 勒於一γ方向，一邊以曝光用光 EL恥明光罩μ之圖案μρ，蔣止 、光罩Μ之圖案μρ之像透過投 影光學系統PL投影至基板pji ^又 、 上匕制衣置6 —邊使光罩Μ 以中心軸j為旋轉轴旋轉、一彳軎丨ν處本田^ 邊以曝光用光EL照明光罩Μ 之圖案ΜΡ。一邊與基板ρ往 神万问< f夕動同步，以中心 W為旋轉軸使鮮M旋轉、—邊以曝.光用光EL照明光罩 Μ之圖案MP’據以將複數個光罩M之圖案Mp之像依序形成 於基板P上（步驟SA9)。 在此情形下，控制裝置6亦係根據使用檢測系統5所 取得之關於光罩Μ及基板P…由度方向之位置資訊， 一邊調整光罩Μ及基板Ρ於β白士疮古& 土仪b自由度方向之位置（光罩从盥 基板ρ之相對位置關係）、_邊對基^上照射經過光罩^ 之曝光用光EL。 對第5照射區域S5之掃描曝光結束時，控 進行保持有光罩Μ之料保持構件！及保持有基板p之基 板保持構件3各自之減速，而持續光罩㈠主十“方向之旋 轉’且持續基板Ρ往-Υ方向之移動。控制裝置6對配置於 第5照射區域Sk + Y側之第6照射區域％之曝光，係與 和第5照射區域S5同樣的進行。 控制裝置6不進行保持有光罩M之光罩保持構件工及 保持有基板P之基板保持構件3各自之減速，而持續光罩M 往+ΘΧ方向之旋轉，且持續基板？往_¥方向之移動，以 使第7、第8、第9、第10照射區w7、S8、S9 si〇m 連續的曝光。如前所述，本實施形態中，控制裝置6係以 61 200830057 -次掃描，持續實施排軸方向t !行分照射區域s5 〜S1 0之曝光。 如以上所述，本實施形態中，光罩Μ之圖案MP係沿圖 案形成面MF之周方向’至少形成有照射區域s於基板^ 掃描方向（Y軸方向）的最大数（本實施形態中為6個）。因 此，控制裝置6能藉由使光罩M36〇度旋轉（一旋轉），來實 施排列於γ軸方向之i行份照射區域S5〜siq之曝光。 以下，以同樣方式’控制裝£ 6在每次結束排列於γ 軸方向之1行照射區域S(S11〜S16、S17〜S22、S23〜S26) 之曝光h，即將光罩M之旋轉方向設定為反方向（反轉）， 並將基板P之移動方向設定為反方向，實施行單位之曝光 處理（步驟SA9〜SA12)。 比紝重後以上動作，於步驟SA10中判斷基板P上所有曝光 束夺抆制I置6即進行基板保持構件3所保持之基 的卸載（步驟SA13)。然後，控制裝置6判斷是否有下 一告待曝光之基板P(步驟SA14)。於步驟SAu中，判斷有 y寺+光之基板p時，控制裝置6即重複步驟SA1以後 p . 另一方面，於步驟SA14中判斷已無待曝光之基板 時’控制裝置6即結束曝光程序。 上^以上之説明’本實施形態中U Μ係、形成為滿足 )式之條件，因此能抑制生產率之降低，於基板Ρ上 良好的形成圖案ΜΡ之像。 向Ρ例如當光罩Μ之直徑D非常小、光罩Μ之周方 ° ud)與基板Ρ最大長度L相較非f小情形時，為 62 200830057 t j P上後數個照射區域S曝光，有可能會產生例如使 旋轉複數圈旋轉、或頻繁的改變光罩M之旋轉方向 开;成二當光罩M之周方向長度UxD)小、僅能沿圖案 " 《周方向形成1個圖案MP之情形時，例如，為 / 5 S10曝光，必須使光罩M旋轉6圈。又， 在僅能沿圖案形& 成面MF之周方向形成1個圖案MP之情形 中’例如，為以第5笛 Q17 弟5弟16、弟17之照射區域S5、S16、 之順序曝光，有可能產生為使 在使光罩M旋轉於+0χ方向德=1射£域35曝光而 Λ ^ ^ 、 麦為使第16照射區域si6 曝先而使光罩Μ旋轉於_ 域S17暖I ^ . 接者為使弟17照射區 ^ ’而使光罩Μ旋轉於+ 0χ方向的需要。 及旋轉複數圈、或頻繁的改變光罩之移動方向 …板之移動方向，有可能會產 惡化。為了 一邊盥φ W Μ β # 忧曝九精度 、罩Μ之移動同步移動基板Ρ、一邊以丨 精度使該基板Ρ暖水 ν ^ ^ u ! +先，必須確保較多之光罩及 加速結束後，所產生之麥動Μ# 次基板之 _ 振動收歛、速度達一定之待機瞎Η (静定時間）。此情形下， 、曰 而七 下即代表無助於曝光之時間拎加， 而有可能降低生產率。 ]S加， 又，照射區诗 ς > , 例如當光罩财之直徑D非Λ 元件而變化，但 較基板Ρ之最大長声L非 罩Μ之周方向長度（^) 肝之大小（周方向之大形成於光罩Μ之圖案 好的形成於y軸方向且右娇1 啕了犯無法良 μ具有所欲大+之照射區域 八，以振 63 200830057 動抑制等為㈣，而抑制光罩 欲盡可能一、套U笙、* 早M之靛轉方向頻繁變化、或 情m j M 轉光^—邊使照射區域s曝光之 之圖宰二 方向長度(，小、於光"周方向 圖案MP之大小及配置等 ^ p , ^ ^ ^ j隈制的活，照射區域S於基 板P上之配置亦會受到限 ^ Y ^ , 而有可能產生例如基板Ρ上 於Υ軸方向之照射區域ς她 身…域“皮此之間隔變大、或可形成之照 射&域S數目減少等，於美 良情形。 、土 上形成大量無用區域的不 另一方面，視欲製造 .™ u <70件（照射區域S之大小）變更 光罩Μ之大小（直徑D)，有可纟t mr m^ ^ b產生為維持曝光精度之處理 k付煩雑、隨著必須製造數 m 複數種類大小之光罩Μ而導致製 仏成本之上幵。例如，不改 ^ m & L U早M之方疋轉軸（中心軸J ) 位置而改變光罩Μ之直_ D日丰，Λ认上 ^ u 直仅D時由於投影光學系統PL與光 罩Μ之位置關係，具體而言 光予系統PL之物體面盘 +光用光EL·所照射之光罩Μ # ^ 尤罩Μ之最下部ΒΤ間之位置關係合 受動，因此在每次變更光^ η 灵九罩Μ之大小時，皆會產生必須變 更投影光學系統PL之光學牯栂沾叮处& 只k 子特f的可犯性。又，藉變 Μ之大小（直徑d )、變更杏罢μ 夂更先罩Μ之碇轉軸（中心軸j)位 來維持投影光學系統PL之物俨而ηΕ上 尤U之物體面與曝光用光EL所照射之 光罩Μ之最下部BT間之仿番μ尨+ & 間之位置關係之情形時，光罩Μ之曲率 亦會變化，此種情形 , Ή會產生須修正投影光學系統1 光學特性的可能性。 之 本實施形態中，由於光罩Μ係形成為滿足⑴ 件’因此能抑制上述不良情形之發生，抑制生產率之降低條 64 200830057

:: (好的形成圖案MP之像。亦即，僅需使光罩M 疋—圈(360度旋轉）’即能將排列於基板P之最大長度L 之部分的複數個（6個）照射區域順暢的加以曝光。又，在使 基板P之最大長度L部分以外部分之照射區域(例如 〜弟4照射區域S1〜S4)曝光時，光罩“需徒轉一圈， :::僅需㈣約24。度’即能在抑制振動等發生之同時， 使弟1〜弟4昭射γ # q ·( π , …、射&域S1〜S4順暢的曝光。第4照射區域 Μ之曝光後，如以卜 .. t ^ 述，精由與基板P往曝光開始位置 <移動之至少一部分並轩 欲^ 仃貝施先罩M往旋轉開始位置之 移動，繼能抑制生產率之降低。 :’藉由將光罩㈣成為滿足⑴式之條件，即能加大 之曲率半徑、降低圖案MP之彎曲 Μ形成為滿足⑴式之格杜〜 冑由將光罩 翠Μ之旋轉安定件，能加大光罩Μ之慣性矩、使光 數個又因Γ於圖案ΜΡ係沿光罩Μ之圖案形成面MF形成複 ==抑制光罩Μ之移動方向之變化(切換)次數、 :)= 移動方向變化之基板ρ之移動方向變化 於基板ρ上t门日守’以—次掃描將複數個圖案仙之像形成 向二成= ΓΜΡ係沿光罩M之圖案形成面MF之周方 二= 射區域S'Y轴方向之最大數，因此 -精由先罩Μ之旋轉—圈，實施排列 照射區域S之曝光。 釉方向之1仃为 又’本實施形態中’由於光罩保持構件！係將光罩Μ 65 200830057 面心能裝卸之方式加 生產率降伋 口此把在不導致例如 -之心形下，順暢的更換光罩Μ。 由於光罩保持構件】係配置 支撐為能旋轉之轴構件20之—端先罩保持構件1 構件20之-端將光罩Μ順暢的裝栽於光^此能從該轴 將光罩保持構^所保持之光持構件卜且 暢的加以卸载。 A構件20之一端順 又，本實施形態中’由於係將 持構件丨設於能“自由度方向移動==之光罩保 此能進行料Μ之位置調整，藉精 ^㈣置2,因 之位置關係，以光罩Μ之圖案先ρ罩/與基板Ρ 又，本實施形態中，設有包含配衡；'p良好的曝光。 保持有光罩Μ之光罩保持構件 、46(用以抑制隨 動）之防#梦署9/1 m 夕動（旋轉）所產生之振 防振衣置24。因此、能抑制因振動引 = 反P之位置關係的變動，罩L基 化。 、振動之曝光精度之惡 又’本實施形態中，保持光軍 =在軸構件2。之一端⑴惻^該:罩：… 配置有錘構件22。將軸構件 $ -端(- 構件U係配置在光罩保 4㈣轉之支樓 件U具有平衡配重之功能，能抑制僅鐘=22之間。鐘構 載重。因此，能抑制因偏位負 第構件20-端之 間隙G3、及第4間隙G4等產生變動《弟2間隙:G2、第3 構件21彼此接觸之情形。 &或軸構件20與支撐 口此，施抑制振動之發生，使軸 66 200830057 構件2 0順暢的旋轉。 又，本實施形態中，軸構件 但亦可在軸構件20之另_端〃鐘構件22雖為一體， 拆之保持機構，使錘構件=將錘構件22保持成能裝 具有平衡配重之功能，因 ^更換。由於錘構件22 構件22,視所使用之光備複數個重量不同之錘 錘構件22安裝於軸構件2〇之。)將重里取適當之 之重量，省略錘構件22。 &夕亦可視光罩Μ <第2實施形態> 其次’說明第2 f施形態。以 施形態相同或同等之構成部 ，與上述實 予以簡化或省略。 ^係賦予相符號、並將其説明 上述第1實施形態中伞罢 ^ τ 先罩^^隹係形成為滿足— 條：，當亦可將光Μ形成為設光單Μ於圖案形成面= 徑為基板p於基板p掃描方向(本實施形態中為γ軸方 η冃產么士 又〜先予糸統孔之投影倍率為；s、 0周率為7Γ牯，滿足下式（2)之條件。 (/5xL)/;r)>I^(/5xL)/(2x7r)…⑴ 光罩_成為滿足上述⑴式之條件，而使光 罩Μ大里化日藉由將光罩M形成為滿足⑵式之條 能使抑制生產率降低、以及抑制曝光精度惡化之兩者皆成 光罩Μ形成為滿足⑵式之條件時，例如為使基 隶大長度L之部分之昭身g ϊ 刀之<、、、射&域s曝光，雖有可能需使光罩μ 67 200830057 鉍轉-圈以上(但旋轉二圈以下），但 滿足⑺式之條件，即能分別實現抑制隨由=罩=成為 產生之I自卜主…, 丨巾41思者尤罩Μ大型化所 之不良h形、抑制生率降低 又，藉由滿；？ η… 曝光精度惡化。 欲生產率之门浐λ"~ xL)//(2x；r )之條件，能在維持所 开…J 制隨著光罩M小型化所產生之不良情 y '、P，光罩Μ過於小型化時 生產率、予有可能無法獲得所欲之 大、率半徑變小而使圖案肝之-曲增 ㈣足(2):慣性矩變小而使光罩M之旋轉不安定，但 错由滿足（2)式，即能抑制此種不良現象之產生。 此外’上述各實施形態中，雖係以基板P在χγ平面内 大致為圓形之情形為例作了説明，但基板p亦可以是例如 矩:，(長方形)等、圓形以外之形狀。基板P於Π平面内之 =:吏為圓形以外之形狀，只要根據基板p於基板"帚 =Y轴方向)之最大長度L，將光^形成為滿足⑴ 件，即能抑制生產率降低，於基板上良好的 形成圖案之像。 旧 此外’上述各實施形態中，作為光罩雖係使用反射型 光罩，但亦可使用透過型光罩。此時，照明系統il係對例 如先罩Μ之最上部照射曝光用光此。通過光罩m、並通過 光罩Μ之最下部BT之曝光用光EL射入投影光學系統I 此外，上述各實施形態中，光單Μ雖為圓筒狀，作亦 可以是圓柱狀。此時’光罩保持構件工中’省略較 26突出於+ Χ側之突出部28、及軸構件2〇之一部分。 又，上述各實施形態中’圖案肿雖係沿光罩Μ之圖案 68 200830057 形成面mF之周方向形成複數個，但亦視例如欲製造之元件 (照射區域S)之大小等，不一定須沿 如加 Μ 之周方向形成複 =。例如即使圖案州個’亦可藉由將光罩Μ形成為 滿足（1)式或（2)式之條件，以抑制生率降低，於基板ρ上 良好的形成圖案ΜΡ之像。 又’上述各實施形態中，圖案Μρ亦可沿光罩μ之中心 車由J方向（X軸方向）形成複數個。

又，上述各實施形態中，亦可應用例如國際公開第㈣ / 49504號小冊子所揭示之液浸法。亦即，可採用將投影光 學系統PL與基板ρ間之曝光用光EL之光路空間，換言之， 在將投影光學系統PL前端之光學元件之像面（射出面）侧之 光路空間以液體充滿之狀態，對基板p上照射經由光罩m、 投影光學系統PL及液體之曝光用光EL，將光罩M之圖案 MP之像投影至基板P上的方式。又，應用液浸法情形時， 可採用例如國際公開第99/ 49504號小冊子所揭示之於基 板P上之部分區域，形成覆蓋投影區域AR、較投影區域u 大且小於基板ρ之液體之液浸區域的局部液浸方式，亦可 採用例如整^_6二1 24873號全1^^平1〇— 3〇31“號 公美國專利差_5,825,043號等所揭之在將曝光對& 之m見完盒__浸於I體土^之狀態下進行曝光之全晶圓液 二又，作為獻體，可以是兔（Ιϋ)二過氟聚喊（ρ ρ ^ )—亂糸油專氣糸流體_衫木油等，水以外之物。又， 適用夜星复時，可例如國際公J第2004乙ΓΠ91?只號小冊子 所揭毛之將前1之光學元件数_體射面）側之光路空間 69 200830057 亦以t體充滿。 —---- 適用液浸法之#光裝置中，投與 件（最終光學元件& 如先予系統PJL之光學元 或者，光學元件亦能以氟化⑺勞石央（―乳切）形成。 化鐘、氟化納等氣化合物之單 二化鋇、氟化錄、氟 元件亦可以折射率/ ;4形成。再者，光學 形成。作為折射率U以上之㈣，(^1·6以上）之材料來 2005/ 059617 ^ . ’、 ^如能使用國際公開第 17唬小冊子所揭示之藍寶石一卜 者可使用如國際公開第 、一虱化鍺等、或 化鉀(折射率約"”等 #子所揭不之氣 -部分(至小勺人^再者亦此於終端光學元件表面之 及…解〜與液體之接觸面)或全部形成具有親液性 成洛解防止功能的薄膜。此外 親和性軔古日丁个亦 央興液體LQ之 H 不"要溶解防止膜，但勞石則最好至少要形

成/合解防止膜。作為液體LQ 種机體，例如亦能使 界&體。作為折射率較純水高（例h L5以上）之、夜 體’例如有折射率約U0之異丙醇、折射率約i6i之甘油 (g_Hne)之類具有c 一 H鍵結或〇 一 H鍵結的既定液體、 己烷、庚烷、癸烷等既定液體（有機溶劑）、或折射率約1.⑽ 之十氫奈（Decalir^Decahydronaphthalene)等。又，液體，亦 可係混合上述液體中任意兩種類以上之液體者，亦可係於 純水添加（混合）上述液體之至少一種者。再者，液體，亦可 係於純水添加（混合）H+、C，、K+、cr、so42·、Ρ〇42·等驗基 或酸等者、或亦可係於純水添加（混合）Α1氧化物等微粒子 者。此外，作為液體，最好係光之吸收係數較小，溫度依 200830057 存性較少，並對塗布於投影光學系統及/或基板表面之感 光材（或頂層塗布膜或反射防止膜等）較穩定者。於基板亦能 設置用以從液體保護感光材或基材的頂層塗布膜等。 此外’上述各實施形_1中，曝光用光EL雖使用ArF準 分子雷射iL，但在光罩Μ係使用反射型光罩之情形時，亦 可使用盤一X KEUV)作為曝光用光EL。反射剞来置之圖案 ΜΡ，例如可如整^_7二1 53672根據使用 ΕΒ曝光逢•之ΕΒ描繪產光罩可以下述方法形 成，亦即，於互差一二陶瓷差^^形成包含Μ0 Λ SI !之 夕於该2 g ^上形成包含Cr、W、Ta等對EUV具有 I收il之1收體圖案。 又，作為上述各實施形態之基板p，除了半導體元件製 造用之半導體晶圓以外，亦能適用於顯示器元件用之玻璃 基板、薄膜磁頭mi晶圓、在曝光裝置所使用之光罩 或標線片的原版（合成石英、石夕晶圓）、或膜構件等。基板之 形狀並不僅為圓形，亦可係矩形等其他形狀。 又，作為曝光裝置EX，除了可適用使光罩M與基板p 同步移動來掃描曝光光罩M之圖案的步進掃描方式掃描型 曝光農置（掃描步進機）外，亦能適用在使光罩m *基板p =之狀態下使光罩Μ之圖案一次曝光，並依序使基板p V進移動的步進重複方式投影曝光裝置（步進機）。 又，步進重複方式之曝光，亦能在使第i圖案與基板p 你砰止之狀悲下，使用投影光學系統將第1圖案之縮小 轉印於基板P上後，在使第2圖案與基板P大致靜止之 200830057 狀心下4 吏用才又影光學系統使第2圖案之縮小像與第1圖 案部分重疊而—次曝光於基板p上（接合方式之-次曝光裝 置）。又，作為接合方式之曝光裝置，亦能適用於步進接合 方式之曝光裝置，其係在基p上將至少兩個圖案部分重 疊而轉印，並依序移動基板P。 又，本發明亦能適用於例如日本特開平10一 號 報日本特開平1 0 — 214 7 8 3號公報（對應美國專利第 6’341，〇〇7 號、第 6,4〇〇,44"虎、第 6,549,269 號及第 6,590,634號）、日本特表2〇〇〇_5〇5958號公報（對應美國 專利5,969, 441號）等所揭示，具備複數個基板載台的多載 台型（雙載台型）曝光裝置。 再者，本發明亦能適用於例如特開平u — 號佥 1(對應國篮999Z_23692號小冊子）二 1 64504號金對應美國專利ι6,897,963號所揭示Z 具備保持基^之羞i載台、以及裝載了形成有基^標記之 構件及丄或感測器之測量載台的曝光裝置二 作為曝光裝置EX之種類，並不限於用以將半導體元件 圖案曝光於基板P之半導體元件製造用曝光裝置，而亦能廣 泛適用於液晶顯示元件製造用或顯示器製造用之曝光裝 置、或用以製造薄膜磁頭、攝影元件（CCD)、微型機器、MEMs、 DNA晶片、標線片、或光罩等之曝光裝置等。 又，例如亦此將本發明適用於例如日本特表2 〇 〇 4 _ 51 9850號公報（對應美國專利第6,611，316號）所揭示之曝 光裝置，其係將兩個光罩圖案透過投影光學系統在基板上 72 200830057 a成’错由一二分夕卢g 致同時進行雙重曝：；曝光來對基板上之-個照射區域大 變形例所引’援用與上述各實施形態及 ^ a "、置等相關之所有公開公報及美國專 利之揭不作為本文記載的—部分。 寻 種子=上所述’曝光μεχ，係將包含各構成要素的各 二、以此保持既定機械精度、電氣精度、光學精度 之：；’力口以組裝製造。為確保上述各種精度，於此組裝 之雨後，對各種光學系統進行用以達成光學精度之調整， ，各種機械系統進行心達成機械精度之調整，對各種電 乳系統則進行用達成各種電氣精度之調整。各種子系統组 裝至曝光裝置之步驟，包含各種子系統彼此間之機械連 接、電氣迴路之連接、氣壓迴路之連接等。此各種子系统 組裝至曝光裝置之步驟前，當然有各個子系統之組裝步 驟。各種m组裝至曝光裝置之步職束後，即進行綜 合凋整，以確保曝光裝置全體之各種精度。又，曝光裝置 的製造以在溫度及清潔度等受到管理的無塵室中進行較 佳0 半導體元件等之微型元件係經由進行微元件之功能、 性能設計的步驟201、根據此設計步驟製作光罩（標線片）之 步驟202、製造基板（元件基材）的步驟2〇3、（包含藉由前述 貫施形悲將光罩之圖案曝光於基板、使曝光之基板顯影之 基板處理（曝光處理））之步驟204、元件組裝步驟（包含切割 步驟、接合步驟、封裝步驟）205、檢查步驟206等加以製造。 73 200830057 半導體元件等之微元件，如圖18所示，係經由微元件 之功能、性能設計步驟2 01，根據此設計步驟製作光罩（梗 線片）的步驟202，製造基板（元件基材）的步驟2〇3，包含 根據前述實施形態、以光罩之圖案像使基板曝光並將曝光 後之基板予以顯影的基板處理（曝光處理）步驟2 〇 4，分从 ^ 及Μ午組 裝步驟（包含切割製程、結合製程、封裝製程等之加工势 程）205，檢查步驟206而製造。 【圖式簡單說明】 圖1，係顯示第1實施形之曝光裝置的概大致構成圖。 圖2，係顯示第！實施形態之曝光裝置Εχ的示意圖。 圖3，係顯示第1實施形態之光罩的立體圖。 圖4A，係用以說明第1實施形態之光罩，_ 千.肩不先罩側 面的示意圖。 圖4B ’係用以說明第1實施形態之光罩，顯示將光罩 之圖案形成面展開於χγ平面上的圖。 圖5’係顯示保持第1實施形態之基板之基板保持構件 罩驅動 圖6 ’係顯示第1實施形態之光罩保持構件及光 裝置之附近的側載面圖。 圖7 A，係顯示第1實施形態之光罩保持構件， 罩保持構件之XZ平面平行的截面圖。 ’、光 圖7β ’係顯示第1實施形態之光罩保持構株 側觀察光罩保持構件的圖。 k.x 74 200830057 圖8 A， 換系統的圖 圖8 B， 換系統的圖 係用以說明第1實施形態之更換光罩之光罩更 ’顯示搬送裝置搬送光罩之狀態。 係用以說明第1實施形態之更換光罩之光罩更 ’顯示光罩保持於光罩保持構件之狀態。 圖9係用以說明第1實施形態之能取得光罩之位置資 訊之第1檢測系統的示意圖。 、圖1 〇A ’係用以說明第1實施形態之光罩之標記形成區 域的示〜圖，顯示將光罩之圖案形成面之一部分展開於XY 平面上0 ® 1 0 B ’係用以說明第1實施形態之光罩之標記形成區 域的示思圖’放大顯示圖1 0A之標記形成區域之一部分。 圖U，係顯示第1實施形態之一編碼器系統例的示意 圖。 圖1 2 ’係將第1實施形態之形成有旋轉位置開始標記 之光罩圖案形成面附近展開於XY平面上的圖。 圖1 3 ’係用以說明第1實施形態之能取得基板位置資 訊之第2檢測系統的示意圖。 圖14，係顯示本發明第1實施形態之一曝光方法例的 流糕圖。 圖1 5 ’係用以說明第1實施形態之曝光裝置之一動作 例的示意圖。 圖1 6 ’係用以說明第1實施形態之曝光裝置之一動作 例的示意圖。 圖17 ’係用以說明第1實施形態之曝光裝置之一動作 75 200830057 例的示意圖。 圖1 8，係顯示微元件之一製程例的流程圖。 【元件代表符號】 1光罩保持裝置 2光罩驅動裝置 3基板保持裝置 4基板驅動裝置 5檢測系統 5A，5B第1、第2檢測系統 6控制裝置 20 軸構件 21 支撐構件 22 砝碼構件 23 底座構件 24 防振裝置 25 吸附機構 46 配衡質量 47 保持機構 61 第1驅動機構 61A可動件 61B固定件 62 第2驅動機構 1 0 0保護罩 101支撐構件 76 200830057 EL 曝光用光 EX 曝光裝置 IL 照明系統 J中心軸 Μ光罩 ΜΑ 圖案形成區域 MB 光罩形成區域 MF 圖案形成面 MP 圖案 P基板 PL 投影光學系統 S(S1〜S26) 照射區域 77

Claims (1)

1. 200830057 十、申請專利範圍·· 1 種光罩’係透過投影光學系統用以在基板上形成 圖案像，其具備： 死/成有遠圖案’配置在既定軸周圍之圖案形成面；以 及 夕/、有忒圖案形成面，能與該基板往至少既定一維方向 矛夕動同步，以該既定軸為旋轉軸旋轉之圓筒體； 么°又°亥光罩於該圖案形成面之直徑為D、該基板於該既定 、准方向之最大長度為L、該投影光學系統之投影倍率為 占、圓周率為7Γ時，滿足 D —(石xL ) / 72：之條件。 2 種光罩，係透過投影光學系統用以在基板上形成 圖案像，其具備： 形成有該圖案，配置在既定軸周圍之圖案形成面；以 及 具有該圖案形成面，能與該基板往至少既定一維方向 移動同步，以該既定軸為旋轉軸旋轉之圓筒體； 么°又忒光罩於該圖案形成面之直徑為D、該基板於該既定 維方向之最大長度為L、該投影光學系統之投影倍率為 点、圓周率為7Γ時，滿足 >D-(/SxL)/(2x7r )之條件。 3如申睛專利範圍第1或2項之光罩，其中，該圖案 具有亥圖案形成面之周方向排列之複數圖案。 4·如申請專利範圍第3項之光罩，其中，於該基板上， 78 200830057 至少沿該一維方向設有該圖案像投影之複數個照射區域； 該複數圖案之數目，係該照射區域沿該圖案形成面之 周方向，至少於該一維方向之最大數。 5·如申請專利範圍第1至4項中任一項之光罩，其中， 該基板具有大致圓形； 該長度L，含該基阪之直徑。 6·如申請專利範圍第…項中任一項之光罩，盆進 -步具備形成為圓筒狀以覆蓋該圖案形成面之保護罩，以 及支撐該保護罩之支撐構件。 / 7.如申請專利範圍第6項之光罩，其中，該支撑構件， 係於該圖㈣成面於該既定軸方向之—端側及另—端側之 各既定區域，圍繞該既定轴沿圖案形成面之周方向形成。 8. -種曝光裝置，係使用申請專利範圍第… 任一項之光罩，以兮本罢μ jj/ 呈 該先罩上形成之圖案像使基板曝光，其 :動裝置，能使該光罩以該既定軸為旋轉轴旋轉. 土板驅動裝置’能與該光罩之旋轉同步 移動於該既定一維方向；以及 " 投影光學系統，孫賊1出$ 兄係將先罩之圖案像投影至該基板上。 •如申請專利範圍第8項之曝光盆 將該，罩之側面保持為裝拆自如之保持構件;——v具備 旋轉之動衣置’包含能使保持該光罩之該保持構件 種曝光U，係以®案像使基板曝光，其具備 79 200830057 能將形成有該圖案、且 的圓筒狀u η /、 一置於既定軸周圍之圖案形成面 '门狀先罩側面保持為裝，拆自如之保持構件。 1丹1干具有施吸附續 仃a光罩側面之吸附機構。 •如申請專利範圍第9至 置，其進一牛且供收> 1項中任一項之曝光裝 轉軸旋轉之軸構件;f構件支揉為…既定軸為旋 w亥保持構件係配置於該軸構件之-端側。 13 ·如申請專利範圍第 置，lit 一丰θ 王1ζ項中任一項之曝光裝 構件以該既光軍驅動裝置，能使保持該光罩之保持 構件於6自由度方向移動。-使保持該先罩之保持 備：14·-種曝光裝置，係以圖案之像使基板曝光，其具 案，牛，係用以保持圓筒狀光罩，此光罩形成有圖 :、"°既定轴配置之圖案形成面；以及 产方：罩驅動裝置，能使保持該光罩之保持構件於6自由 度方向移動。 該光ί5驅:申二專：圍第13或14項之曝光裝置 切我置包含可藉由羅倫茲力驅動之致動器。 置，tr申請專利範圍第13至15項中任-項之曝光裝 該以為Γ能將保持有該光罩之該保持構件，支揮為能以 疋轴為旋轉軸旋轉的軸構件； 该光單驅動裝置，包含至少能將該保持構件移動於該 200830057 旋轉方向的赏7 方向的第2 m私機構、以及能將該軸構件移動 弟2驅動機構。 二利在範圍第16項之曝光裝置，其中，該第 轴構件侧之固定件保持構件側之可動件、與安裝在該 置，Γ進如Γ專利範圍第13至17項中任—項之曝光裝 振動的防^置具傷用以抑制隨該保持構件之移動所產生之 振裝==請專利範圍第18項之曝光裝置，其中，該防 力的配衡質量。 件之㈣所產生之反作用 種曝光裝置，择以FI安> αλ 備： “圖案之像使基板曝光，其具 光罩驅動裝置，i銥佶 直，、此使形成有圖案、具有繞既定軸配 置之圖案形成面的圓筒狀光罩，以該既^轴為旋轉轴旋 轉，以及 配衡質量，用以吸收隨該光罩之旋轉所產生之反作用 力。 21·如申請專利範圍第19或20項之曝光裝置，1中， 該配衡質量係藉由隨該光罩之旋轉所產生之反作用力 轉於與該光罩相反之方向。 疋 22·如申請專利範圍第21項之曝光裝置，其進—步| 備將該配衡質量保持成能位移既定量之保持機構。乂 ^ 23·如申請專利範圍第22項之曝光裝置’其中，該保 81 200830057 持機構能抑制該配衡質量旋轉既定量以上。 二24 ·如申請專利範圍第22或23項之曝光裝置，其中， X保持機構包含藉羅倫兹力驅動之致動器。 25如申清專利範圍第24項之曝光裝置，其中，該保 持機構能調整該配衡質量之位置。 26如申清專利範圍第21至託項中任一項之曝光裝 置，其進一步包含： 保持該光罩之保持構件； 將該保持構件支樓為能以該既定抽為旋轉轴旋轉之轴 構件；以及 將《亥轴構件支撐為能旋轉之支揮構件； 該配衡質量包含該軸構件。 •如申請專利範圍第26項之曝光裝置 備配置在軸構件-端側之錘構件； 该保持構件係配置在 隹褒軸構件之另一端側； 忒支撐構件係配置在 4保持構件與該錘構件之間。 28 · 一種曝光裝置，# 備·· 糸以圖案之像使基板曝光，其具 圖案，具有繞既定軸配置心狀光罩，此光罩形成有言 4^ 直之圖案形成面； 牛，其將該保持構件 軸旋轉n側 切為能㈣既定轴為制 μ t 罝°亥保持構件； 支撐構件，將該軸構件 鐘構件，配置在該輪構件：為二轉’·以及 一端側，在與該保持構 82 200830057 t 件之間配置該支撐構件。 29 如申請專利範圍第28項之曝光裝置，其進一步具 備i使保持有該光罩之保持構件移動於6自由度方向之光 罩驅動裝置； 卜该光罩駆動裳置，包含至少能將該保持構件移動於該 走轉方向的第1驅動機構、以及能將該支撐構件與該轴構 件起移動於既定方向的第2驅動機構。 3 〇 ·如申请專利範圍第8至2 9項中任一項之曝光裝 置’其進一步具備以曝光用光照明該光罩之圖案形成面的 照、明系統； 照射於該圖案形成面、於該圖案形成面反射之該曝光 用光，照射於該基板上。 31 ·如申請專利範圍第8至30項中任一項之曝光裝 置，其係一邊使該光罩以該既定軸為旋轉軸旋轉、一邊對 該圖案形成面照射曝光用光。 32 · —種元件製造方法，係使用申請專利範圍第8至 31項中任一項之曝光裝置。 十一、圖式： 如次頁 83