TW200810838A - Apparatus for treating substrates - Google Patents

Description

200810838 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域j 技術領域 本發明係有關於一種沿著與基板之運送方向交又<方 向供給處理液至前述基板上面以進行處理的基板處壯 置。 【先前技術3 背景技術

例如，在液晶顯示裝置之製造製程中，具有將電路。 10案形成於玻璃製基板之製程。當將電路圖案形成於義才 時’係藉由將抗#劑塗布於業已成膜之基板，再進行曝 並在曝光後利用顯像液進行顯像處理，再以钱刻液進^ 刻處理，而於基板表面精密地形成電路圖案。 當基板業已形成電路圖案時，便利用剝離液除去霉占著 15殘留於前述基板表面之抗姓劑膜或抗餘劑殘潰等有機物 當業已利用剝離液除去有機物時，便利用洗淨液洗淨處理 前述基板之板面，再交接至下一個製程。 當利用顯像液、蚀刻液、制離液及洗淨液等處理液處 理基板時，係一面以運送裝置朝預定方向運送前述基板， -面朝與基板之運送方向交又的方向直線狀的供給二述處 理液，以處理前述基板之上面。專散獻丨顯示有將處理液 供給至所運送之基板的噴嘴體。 專利文獻1所示之噴嘴體的下面形成有多數吐出口，且 该等吐出口係沿著長度方向形成並隔有預定間隔者。又， 5 200810838 韵述噴嘴體包含有：儲存所供給之處理液的存液室；及一 端與前述吐出口連通，而另一端與前述存液室連通，並使 諸存於存液室之處理液流通至吐出口並吐出之處理液吐出 流路0

2〇 此外，具有前述結構之噴嘴體係以長度方向沿著與前 述基板之運送方向交叉的方向配置，並配置於所運送之前 述基板之上方。藉此，當從前述吐出口流出處理液時，可 沿著與運送方向交又之方向將前述處理液直線狀的供給至 朝預疋方向運送之基板上面。 前述噴嘴體之存液室連接有供給管，而可從前述供給 管供給處理液至存液室。處理液係一面儲存於前述存液 至，一面通過處理液吐出流路並從形成於噴嘴體下面之吐 出口吐出。 Μ而，依據前述結構，當從供給管供給處理液至存液 至％，處理液會有捲入空氣的情況。當處理液捲入空氣時， 則述空氣會變成氣泡，並與供給至基板之處理液—起從吐 出口流出。 與處理液-起流出之氣泡會殘留於基板而不破裂，在 該情況下，會成為處理液無法附著於基板殘留有氣泡之部 分的狀態，或附著量較其他部分少之狀態，因此以處理液 進仃之基板處理會有產生不均_的情況。 一已有贿案係在將處理液供給至基板時除去 ==;氣泡。專利文獻2顯示有-種不讓氣泡進 供、、、口至基板之處理液的處理裝置。 6 200810838 專利文獻2所示之處理裝置具有處理液吐出噴嘴。前述 處理液吐出喷嘴之框體上面連接有送液管與排液管，且下 面形成有吐出孔。而該處理裝置係從前述送液管供給處理 液至形成於前述框體之儲液處，再從前述吐出口朝基板之 5上面供給供給至儲液處之處理液。 產生於前述儲液處的氣泡會因浮力而附著於儲液處的 頂部面°又’頂部面形成朝前述排液f高度傾斜的傾斜面。 因此，產生於前述儲液處的氣泡會與處理液一起流至前述 送液管’故可防止從前述吐出孔供給至前述基板之處理液 10 含有氣泡。 【專利文獻1】特開2003-170086號公報 【專利文獻1】特開平11_156278號公報 Γ發明内容；j 發明揭示 15 發明欲解決之課題 在專利文獻2所揭示之結構中，係如前所述使含於處理 液之氣泡黏著於形成在框體之儲液處上面，並使前述氣泡 與處理液一起從前述排液管排出。 因此，框體必須連接有排液管，並且必須透過前述排 20液I使氣’包與處理液一同從前述儲液處排出，故具有導致 結構複雜化，且需要花費許多的時間與費用於處理所排出 之處理液的問題。 本發明係提供一種可使捲入處理液之氣泡與處理液分 離並確實地排出的基板處理裝置。 200810838 解決課題_之手段 U _ — 本發明係一種基板處理裝置，係利用由處理液供給裝 • 置所供給之處理液處理所運送之基板上面者，而前述處理 液供給裝置包含有：主貯液部，係連接有用以供給前述處 ^ 5理液之供液管者；第1流出部，係設於前述主貯液部下端， 並使從前述供液管供給且貯存於前述主貯液部之前述處理 • 液流出者；辅助貯液部，係用以貯存從前述第1流出部流出 • 之前述處理液者；第2流出部，係設於前述辅助貯液部，並 將從W述第1流出部流至前述辅助貯液部之前述處理液供 10，至前述基板上面者；及第！放出部，係設於前述輔助貯液 部，且與大氣連通，並將與來自前述第丨流出部之前述處理 液一起流出的氣泡放出至大氣者。 發明效果 據本务明，即使處理液捲入氣泡，含於處理液之氣 /包曰在則述處理液從主貯液部之第1流出部流至輔助貯液 • *且，留於輔助貯液部時，因浮力而上昇，並從與大氣連 =之第1放出部放出，因此可防止從設於前述輔助貯液部之 第2流出部供给至基板之處理液含有氣泡。 【資施方式】 20實施發明之最佳型態 2下一面參照圖式一面說明本發明之實施型態。 #第1圖至第4圖係顯示本發明第1實施型態。第1圖係沿 著t里衣置之寬度方向的縱向截面圖。該處理裝置具有室 月J述至1之結構包含有：上面具有開口之本體部2;及可 8 200810838 開關前述本體部2之上面開口的蓋體部3。蓋體部3之寬度方 向的~側由鉸鏈4連結於前述本體部2,並可旋動，而其寬 度方向之另一側設有未圖示之把手。 前述室1之本體部2於底部之寬度方向的兩端部設有支 5撐構件11。一對支撐構件11上安裝有可裝卸之運送裝置 12，且該運送裝置12業已單位化。前述運送裝置12具有一 對放置於前述支撐構件11之上面的基部構件13。/對基部 構件13係由多數，例如，3根連結構件14(第1圖中只顯示1 根)所連結。 1〇 各基部構件13沿著長度方向設有支撐板15。在與一對 支撐板15對應之位置上，隔著預定間隔設有軸承16。相對 應之一對軸承16支撐有運送軸17的兩端部，並使其可自由 方疋轉。即’ 一對基部構件13於與室1之寬度方向正交的長度 方向上，隔著預定間隔設有多數運送軸17。 又’雖然未圖示，但室1之長度方向的一側壁形成有輸 入口，而另一側形成有送出口，而可從前述輸入口將用於 液阳顯不裝置之玻璃製的基板w供給至室丨内。 各運达轴17上隔著預定間隔設有多數運送滾子18。前 j連結構件14之兩端部設有引導滾子18，其係用以引導從 、'述輪人口供入且由前述運送滚子18如後述般運送之基板 見度方向的兩端部者。引導滾子19可防止由運送滾子 18所運送之基板w蛇行。 則述運送軸17細驅動機構21之驅動而旋轉。前述驅 動機構21具有驅動源22，且於前述驅動源η之輪出轴^嵌 9 200810838 合有驅動齒輪24。又，别述驅動齒輪μ與後合於安裝軸25 之從動齒輪26互相咬合。说述安裝轴25與前述運送軸17之 • 端部設有互相咬合之齒輪（圖未示）。 藉此，當前述驅動源22運作時，便會驅動前述運送轴 17方疋轉，因此可以没於别述運送軸17之運送滾子18支撑且 運送供入前述室1内之基板W。 前述室1内設有作為處理液L之供給裝置的處理液供給 _ $置3卜其係沿著與基板W之運送方向正交之寬度方向直

線狀的供給顯像液、钱刻液、剝離液或洗淨液等處理液L 至由设於4述運送軸17之運送滾子18以水平狀態運送之基 板W上面。 刖述處理液供給裝置31具冑如第2圖至第4圖所示之主 貯液部32。前述主载部32係沿著前述基㈣之寬度方 15向，即，至1之寬度方向形成細長且截面呈矩形之箱型狀。 引述主貝丁液部32之寬度尺寸設定成較前述基板界之寬度尺

_ 寸長，且其上面隔著預定間隔連接有多數用以供給處理液L ^述主貯液部32内之供液管33的-端。各供液管33之另 端係透過未圖示之流量控制閥連接於同樣未圖示之處理 、 液L的供給源。 2〇 二 月ij述主貞了液部32内部設有大致水平之平板狀承接構件 34，且該承接構件34位於與各供液管^相對之部分之高度 向的中間邠刀。别述承接構件34可承接從前述供液管μ 供給至主貯液部32的處理液[。藉此，從供液管挪給至主 貝宁液部32之處理液!^會平穩地流入主貯液部力内，故可減少 200810838 捲入處理液1^_之氣泡。 前述主貯液部32之底部壁32&的長度方向上隔著預定 間隔鑽有多數用以形成第m出部之流出孔36。藉此，從前 述供液官33供給至前述主貯液部32之處理紅可從前述流 5出孔36流出。 又，從供液管33供給之處理液L的供給量與從流出孔36 流出之流出量係被設定的，以使從供液管33供給之處理液L φ 充滿前述主貯液部32。 1〇 從前述流出孔36流出之處理液L係貯存於輔助貯液部 邛。如第4圖所示，前述辅助貯液部38係截面形狀呈漏斗 狀，且包含有··形成一對沿著前述主貯液部32之寬度方向 ^斜之傾斜面39a、3_v字型底部壁41;直立設於前述底 P 土41之其中一傾斜面39a側的上端，且與前述主貯液部％ 15之側面平行並隔著間隔相對的側部壁42，·及設於前述側部 15壁42上端，並可關閉輔助貯液部38之上面開口的上部壁43。 • 前述底部壁41之另一傾斜面39b的上端部與朝前述主 、丁液。卩32之下面開啟之流出孔％相對。前述傾斜面39b之下 端’即’底部壁41之最下端開口形成有作為第2流出部之狹 ' 縫44，且該狹縫44橫跨於長度方向之大致全長。 2〇 供給至前述主貯液部32並從前述流出孔36流至前述傾 斜面3 9 b之上端部的處理液L係沿著傾斜面3 9 b流動，並貯存 於漏斗狀的底部壁41，再從形成於前述底部壁41之狹缝44 直線狀的流出。藉此，可橫跨與朝預定方向所運送之基板 W之運送方向交叉的寬度方向全長供給處理液乙。 200810838 又，前述流出孔36與狹縫44之面積係被設定的，且從 供液管33供給至主貯液部32之處理液L的供給量亦係被控 制的，以使一定量的處理液L貯存於前述輔助貯液部38之底 部壁41。即，從主貯液部32流至辅助貯液部38之處理液乙 5並非直接從狹縫44朝基板W上面流出，而是儲存於輔助貯 液部38預定時間之後，再從前述狹縫44流出。 從主貯液部32之流出孔36流出之處理液L係沿著輔助 貯液部39b之傾斜面流動。因此，若從前述流出孔％流出之 處理液L捲入氣泡的話，前述氣泡會在處理液。沿著傾斜面 10 39b流動時，因浮力上昇而與處理液Ε分離。 再者，流動於傾斜面39b之處理液L係貯存於辅助貯液 部38之底部壁41之後，再從狹縫44流出。因此，即使氣泡 殘留於所貯存的處理液L中，含於處理液[之氣泡仍會在處 理液L從狹縫44流出之前上昇，而與處理液L分離。 15 此外，由於處理液L貯存於輔助貯液部38，因此可使處 理液L沿著基板w之寬度方向從細長的狹缝44朝基板w均 一地流出。藉此，可均一地處理基板w的上面全體。 前述輔助貯液部38之上部壁43連接有作為第丨放出部 之第1排氣管45，其係用以放出與處理液!^分離且於前述輔 20助財液部38内上昇之氣泡者。藉此，與處理液L分離之氣泡 會通過前述第1排氣管45而放出至大氣。 又’如第1圖所示，第1排氣管45設於輔助貯液部38之 長度方向的兩端部。 根據具有前述結構之處理裝置，可於室丨内朝預定方向 12 200810838 運送供給至室1内之基板w，並可在運送途中，從處理液供 給裝置31沿著與基板w之運送方向交叉之寬度方向供給處 理液L至基板w上面。藉此，基板w係在經由處理液^處理 後送出室1。 5 前述處理液供給裝置31具有主貯液部32。由供液管33 供給至前述主貯液部32之處理液1並非直接從供液管33落 至主貯液部32内，而是由與供液管33相對設置之承接構件 34承接後再落下。藉此，處理液L會平穩地流入主貯液部32 内’因此亦可減少流入時捲入處理液L之氣泡的量。

10 貯存於前述主貯液部32之處理液L係如第4圖之箭號A 所示，從形成於主貯液部32之下面的流出孔36流出，並沿 著形成於辅助貯液部38之底部壁41的傾斜面39b流動，再貯 存於輔助貯液部38之漏斗狀的底部壁41，接著從設於前述 傾斜面39b之下端的狹縫44流出，再供給至運送於室丨内之 15 基板W上面。 當k别述主貯液部32之流出孔36流出之處理液l含有 氣泡時，前述氣泡會在處理液L從流出孔3 6流出並沿著傾斜 面39b流動時上昇，而與處理液L分離，此時，未從處理液L 除去之氣泡係在流動於傾斜面3 9 b之處理液L從狹縫4 4流出 20之前，即，處理液1^貯存於輔助貯液部38之底部壁41上時依 浮力上昇，而與處理液L分離。 此外，由於與處理液L分離之氣泡係從第丨排氣管45放 出至大氣，因此從前述輔助貯液部38之狹縫44供給至基板 W之處理液L不會含有氣泡。故，可利用處理液£均一地處 13 200810838 理基板W之上面全體。 即，根據具有前述結構之處理液供給裝置31，由於供 給至主貯液部32之處理液L係先貯存於輔助貯液部38再供 給至基板w，因此處理液L所含有的氣泡係在處理液1從主 貯液部32流至輔助貯液部38時及貯存於輔助貯液部38時依 浮力上昇，而與處理液分離，再通過第丨排氣管45放出至大 氣。 因此，氣泡不會如習知般與處理液L一起排出，而可與 處理液L分離並放出至大氣，故可以簡單的結構確實地從處 10 理液L除去氣泡。 第5圖係顯示本發明第2實施型態之處理液供給裝置 31A。在本實施型態之處理液供給裝置31八中，主貯液部32 之側壁部32b的下端部形成有作為第〖流出部之流出孔 36A其係使供給至主貯液部32之處理液流至辅助貯液部％ 15 者。 如箭號A所示，從前述流出孔36A流出的處理液1係流 入形成於前述主貯液部32之侧壁部32b外側的辅助貯液部 38，並暫時地貯存於該處，再從形成於輔助貯液部％之底 部壁41的狹縫44流出，且供給至朝預定方向運送的基板w 20 上面。 前述輔助貯液部38之上部壁43連接有作為第丨放出部 之第1排氣管45 ’而前述主貯液部32之側壁部上部連接有構 成第2放出部之第2排氣管51的-端。前述第2排氣管之中 間部設有開關閥52,且該第2排氣管51彎曲成L字狀，以使 14 200810838 • 另一端部之前端面5 la高於貯存於主貯液部32之處理液L的 〜 上面。 • 若先開啟前述開關閥52並使含於供給至前述主貯液部 32之處理液的氣泡與處理液分離的話，前述氣泡會從前述 5 第2排氣管51排至外部，而不會儲存於主貯液部32内的上 — 部。 • 根據具有前述結構之處理液供給裝置31A，使供給至主 貯液部32之處理液L流至辅助貯液部38的流出孔36A係形 ® 成於前述主貯液部32之侧壁部32b。 10 因此，前述流出孔36A係朝向與供給處理液l至主貯液 部32之供液管33之直線方向正交的方向，故從前述流出孔 36A流至輔助貯液部38之處理液L不易受從前述供液管％ 供給至主貯液部32之處理液L的壓力影響。 這樣一來，從主貯液部32通過前述流出孔36八流至輔助 15貯液部38之處理液L的流量不易改變，因此可穩定從輔助貯 φ 液部38之狹縫44供給至基板W之處理液L的流出量，故可利 用處理液L穩定地進行基板界的處理。 ， 第6圖係顯示本發明第3實施型態之處理液供給裝置 - 31B。本實施型態係第2實施型態之變形例，且形成輔助貯 20液部38之底部壁41的一對傾斜面39a、39b中，位於主貯^ 部32侧之其中一傾斜面现較另一傾斜面突出於下方7液 藉此，從狹縫44流出之處理液L係由其中一傾斜面 引導而平穩地供給至基板w上面。即，可防止因供給至義 板W上面之處理液L不穩定而捲入空氣，並在含有氣泡的二 15 200810838 態下供給至基板w上面的情況發生，故可確實且均一地進 行基板w的處理。 又，在第5圖與第6圖所示之第2、第3實施型態中，係 以同一符號標示與第1實施型態相同的部分，並省略其說 5 明。 在前述各實施型態中，係將流出孔形成於主貯液部， 並將狹缝形成於輔助貯液部，以作為第1、第2流出部，但 無論各流出部是流出孔還是狹缝皆不造成影響。 為了從輔助貯液部放出氣泡至大氣中，係將第1排氣管 10 連接於前述輔助貯液部，但亦可不連接第1排氣管，而只形 成排氣孔。 I：圖式簡單說明1 第1圖係顯示本發明第1實施型態之圖，且該圖係沿著 處理裝置之寬度方向的縱向截面圖。 15 第2圖係設於前述處理裝置内之處理液供給裝置的正 視圖。 第3圖係前述處理液供給裝置的截面圖。 第4圖係前述處理液供給裝置之放大縱向截面圖。 第5圖係顯示本發明第2實施型態之圖，且該圖係沿著 20 處理裝置之寬度方向的縱向截面圖。 第6圖係係顯示本發明第3實施型態之圖，且該圖係沿 著處理裝置之寬度方向的縱向截面圖。 16 200810838

【主要元件符號說明】 1…室 32b...側壁部 2…本體部 33...供液管 3…蓋體部 34…承接構件 4…鉸鏈 36,36A...流出孔 11…支撐構件 38…輔助貯液部 12…運送裝置 39a39b·.·傾斜面 13…基部構件 41...底部壁 14…連結構件 42...側部壁 15…支撐板 43...上部壁 16...轴承 44· _ ·狹縫 17…運送軸 45…第1排氣管 18…運送滾子 51…第2#氣管 19…引導滾子 51a··.前端面 21…驅動機構 52...開關閥 22· · ·驅動源 A…箭號 23...輸出軸 W…鉍 24…驅動齒輪 L· · ·處里液 25.. .安裝軸 26…從動齒輪 31，31八，3敗..處理液供給裝置 32.. .主貯液部 32a...底部壁 17

Claims (1)

1. 200810838 十、申請專利範圍： 1. 一種基板處理裝置，係利用由處理液供給裝置所供給之 處理液處理所運送之基板上面者， 而前述處理液供給裝置包含有： 5 主貯液部，係連接有用以供給前述處理液之供液管 者； 第1流出部，係設於前述主貯液部下端，並使從前 述供液管供給且貯存於前述主貯液部之前述處理液流 出者； 10 輔助貯液部，係用以貯存從前述第1流出部流出之 前述處理液者； 第2流出部，係設於前述輔助貯液部，並將從前述 第1流出部流至前述輔助貯液部之前述處理液供給至前 述基板上面者；及 15 第1放出部，係設於前述輔助貯液部，且與大氣連 通，並將與來自前述第1流出部之前述處理液一起流出 的氣泡放出至大氣者。 2. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述第1 流出部形成於前述貯液部之底部壁。 20 3·如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述第1 流出部形成於前述貯液部之侧部壁。 4.如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述貯液 部形成有第2放出部，其係將與來自前述供液管之前述 處理液一起供給至前述主貯液部的氣泡放出至大氣者。 18 200810838 5.如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中從前述主 貯液部之第1流出部流至前述輔助貯液部的前述處理液 在暫時地貯存於前述輔助貯液部之後，再從辅助貯液部 之第2流出部流出。 5 6.如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述主貯 液部設有用以承接從前述供液部所供給之前述處理液 的承接構件。 7. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述第2 流出部係沿著與前述基板之運送方向交叉之方向形成 10 的狹缝。 8. 如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述輔助 貯液部形成有用以承接從前述第1流出部流出之前述處 理液的傾斜面，且前述傾斜面之下端設有前述第2流出 部。 19