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TW200819874A - Optical film, manufacturing method of optical film, retardation film, polarizing plate and liquid crystal panel - Google Patents

Optical film, manufacturing method of optical film, retardation film, polarizing plate and liquid crystal panel Download PDF

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TW200819874A
TW200819874A TW096137853A TW96137853A TW200819874A TW 200819874 A TW200819874 A TW 200819874A TW 096137853 A TW096137853 A TW 096137853A TW 96137853 A TW96137853 A TW 96137853A TW 200819874 A TW200819874 A TW 200819874A
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TW
Taiwan
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optical film
optical
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Application number
TW096137853A
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English (en)
Inventor
Koichi Sumi
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Jsr Corp
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Description

200819874 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明關於由環狀嫌烴系樹脂所構成的光學薄膜,其 製造方法,使用該光學薄膜的相位差薄膜,偏光板,及液 晶面板。 【先前技術】 環狀烯烴系樹脂由於透明性、耐熱性、耐濕性等優異 ,而適用於光學薄膜用途。通常,由環狀烯烴系樹脂所構 成的薄膜,係藉由溶液流延法(溶液澆鑄法)或熔融擠出法 等來成形,但從生產性的方面來看,特佳爲使用熔融擠出 法。 光學薄膜係在成形後藉由進行拉伸處理,而用作爲相 位差薄膜等之具備光學特性的薄膜。作爲相位差薄膜所要 求的特性,除了透明性、特定相位差等,還可舉出光軸變 動少。若有光軸變動,則結果爲在使用於液晶顯示裝置時 ,會具有發生顯示不均等的缺點。因此,檢討各式各樣的 拉伸方法,進行用於得到光軸變動少的薄膜之檢討。 然而,光軸的變動亦起因於拉伸前的坯料薄膜,作爲 拉伸後的光軸變動少的坯料薄膜成形用熔融擠出法,尙未 得到充分性能的展現方法。 [專利文獻1]特開2005 -3 45 8 1 7號公報 【發明內容】 -4- 200819874 發明所欲解決的問題 本發明之課題爲提供藉由拉伸處理可得到光軸均一的 薄膜之光學薄膜,及製造該光學薄膜的方法。 解決問題的手段 本發明關於光學薄膜,其特徵爲由環狀烯烴系樹脂所 構成的薄膜,在薄膜的寬度方向全體內測定光軸時,光軸 對於薄膜長度方向而言在±5°以內的範圍係薄膜全寬的 80%以上。 其次,本發明關於如申請專利範圍第1項之光學薄膜 之製造方法,其特徵爲在將環狀烯烴系樹脂熔融,從模頭 擠出,壓貼於冷卻輥而薄膜化時,下式所表示的下降比率 (draw down ratio)h 係 6.5 以上。 下降比率(drawdownratio)h =從模頭出口擠出時之膜 厚/所得到的薄膜之膜厚 於本發明的光學薄膜的製造方法中,從模頭所擠出的 樹脂在最初所壓貼的第一冷卻輥之表面溫度較佳係在樹脂 的玻璃轉移溫度(Tg)±5t以內之範圍。 又,於本發明的光學薄膜之製造方法中,第一冷卻輥 的圓周速度v 1與鄰接於第一冷卻輥而配置的第二冷卻輥 或冷卻帶的圓周速度 v2之速度比 vs(v2/vl)更佳係在 1.01〜1.06的範圍。 再者,於本發明的光學薄膜之製造方法中,第一冷卻 輥的表面較佳爲陶瓷。 -5- 200819874 其次,本發明關於由進一步拉伸上述光學薄膜而成之 相位差薄膜。 接著,本發明關於偏光板,其特徵爲在偏光片的至少 一面上層合本發明的光學薄膜及/或本發明的相位差薄膜 所成。 其次,本發明關於液晶面板,其特徵爲在液晶顯示元 件的至少一面上層合本發明的偏光板所成。 發明的效果 依照本發明,可提供能藉由拉伸處理得到光軸均一的 薄膜之光學薄膜,及製造該光學薄膜的方法。由拉伸該光 學薄膜而得之相位差薄膜,係相位差或光軸不會變動而安 定者,使用其的大畫面之液晶顯示器等係在全面內可達成 沒有畸變或不均的高性能。 【實施方式】 實施發明的最佳形態 <<光學薄膜及其製造方法>> <環狀烯烴系樹脂> 作爲本發明的光學薄膜所用的環狀烯烴系樹脂,可舉 出具有從下述通式(1)所表示的化合物(以下亦稱爲「特定 單體」)而來的構造單位之樹脂。 200819874
(S式(1)中,R1〜R4係氫原子、鹵素原子、碳數1〜3〇的烴 基、或其它1價的有機基,各可爲相同或不同。又, R1〜R4中任意2個亦可互相結合而形成單環或多環構造。 m係0或正的整數,p係〇或正的整數)。 作爲該環狀烯烴系樹脂,可舉出如下的(共)聚合物。 (1) 上述通式(1)所表示的特定單體之開環聚合物。 (2) 上述通式(1)所表示的特定單體與共聚合性單體的 開環共聚物。 (3) 上述(1)或(2)的開環(共)聚合物之加氫(共)聚合物 〇 (4) 上述(1)或(2)的開環(共)聚合物經弗瑞德-克萊福特 (Friedel-Crafts)反應而環化後的加氫(共)聚合物。 (5) 上述通式(1)所表示的特定單體與含不飽和雙鍵的 化合物之飽和共聚物。 (6) 上述通式(1)所表示的特定單體、乙烯系環狀烴系 單體及環戊二嫌系單體所選出的1種以上之單體的加成型 (共)聚合物及其加氫(共)聚合物。 (7) 上述通式(1)所表示的特定單體與丙嫌酸酯的交替 共聚物。 200819874 於此等(共)聚合物之中,從透明性、耐光性、成形性 等之點來看,特佳爲使用上述(3)的開環(共)聚合物的加氫 (共)聚合物。該聚合物的構造係具有下述通式(2)所表示的 構造單位。 【化2】
(2) (通式(2)中,R1〜R4、p、m的定義係與上述通式(1)相同)。 <特定單體> 作爲上述特定單體的具體例子,可舉出如下的化合物 ,但本發明不受此等具體例子所限定。 雙環[2.2.1]庚-2-烯, 三環[4·3.0·12,5]-8-癸烯, 三環[4·4·0·12,5]-3-十一烯, 四環[4·4·0·12,5·17’1()]-3-十二烯, 五環[6.5·1·13,6.02,7·09,13]-4-十五烯, 5-甲基雙環[2.2.1]庚·2_烯, 200819874 5-乙基雙環[2·2·1]庚-2-烯, 5-甲氧羰基雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5-甲基-5-甲氧羰基雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5-氰基雙環[2.2.1]庚-2-烯, 8-甲氧羰基四環[4·4·0.12’5·17’1()〕-3-十二烯, 8-乙氧羰基四環[4·4.0·12,5.17’1()]-3-十二烯, 8-正丙氧羰基四環[4.4.0.12’5.17’1()]-3-十二烯, 8-異丙氧羰基四環[4.4.0.12’5.17’1()]-3-十二烯, 8-正 丁氧羰基四環[4.4.0.12’5.17’1()]-3-十二烯, 8-甲基-8-甲氧羰基四環[4.4.0.12’5.17’1()]-3-十二烯, 8-甲基-8-乙氧羰基四環[4·4.0.12’5·Γ’1()]-3-十二烯, 8-甲基-8-正丙氧羰基四環[4.4.0.12’5.17’1()]-3-十二烯, 8-甲基-8-異丙氧羰基四環[4.4.0.1 2’5.17’1G]-3-十二烯, 8-甲基-8-正丁氧羰基四環[4·4·0·12’5·Γ’1()]-3-十二烯, 5-亞乙基雙環[2·2·1]庚-2-烯, 8-亞乙基四環[4.4.0.I2,5·〗7,1 G]-3-十二烯, 5-苯基雙環[2.2.1]庚-2-烯, 8-苯基四環[4·4·0·12,5.Γ,1()]-3-十二烯, 5-氟雙環[2·2·1]庚-2-烯, 5-氟甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5-三氟甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5-五氟乙基雙環[2.2.1]庚-2·烯, 5.5- 二氟雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5.6- 二氟雙環[2.2.1]庚-2-烯, -9- 200819874 5.5- 雙(三氟甲基)雙環[2·2·1]庚-2-烯, 5.6- 雙(三氟甲基)雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5-甲基-5-三氟甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5.5.6- 三氟雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5.5.6- 三(氟甲基)雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5.5.6.6- 四氟雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5.5.6.6- 四(三氟甲基)雙環[2.2,1]庚-2-烯, 5.5- 二氟-6,6-雙(三氟甲基)雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5.6- 二氟-5,6-雙(三氟甲基)雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5.5.6- 三氟-5-三氟甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5-氟-5·五氟乙基-6,6-雙(三氟甲基)雙環[2 ·2·1]庚-2-烯, 5.6- 二氟-5-七氟-異丙基-6-三氟甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5-氯-5,6,6-三氟雙環[2.2.1]庚-2_烯, 5.6- 二氯-5,6-雙(三氟甲基)雙環[2 ·2·1]庚-2-烯, 5,5,6-三氟-6-三氟甲氧基雙環[2.2.1]庚-2-烯, 5.5.6- 三氟-6-七氟丙氧基雙環[2·2·1]庚-2-烯, 8-氟四環[4·4·0·12’5·Γ,1()]-3-十二烯, 8-氟甲基四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十二烯, 8-二氟甲基四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十二烯, 8-三氟甲基四環[4·4·0·12,5·17,1()]-3-十二烯, 8-五氟乙基四環[4.4.0.12’5.17’1()]-3-十二烯, 8.8- 二氟四環[4.4·0·12,5·17,1()]-3-十二烯, 8.9- 二氟四環[4·4·0·12,5·17,1()]-3-十二烯, 8,8-雙(三氟甲基)四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十二烯, -10- 200819874 8.9- 雙(三氟甲基)四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十二烯, 8·甲基-8-三氟甲基四環[4.4.0.12,5·17,1()]-3-十二烯, 8.8.9- 三氟四環[4·4·0·12,5·17,1()]-3-十二烯, 8.8.9- 三(三氟甲基)四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十二烯, 8.8.9.9- 四氟四環[4·4_0·12,5_17,1()]-3-十二烯, 8.8.9.9- 四(三氟甲基)四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十二烯, 8.8- 二氟-9,9-雙(三氟甲基)四環[4.4.0_12,5.17,1()]-3-十二烯 8.9- 二氟-8,9-雙(三氟甲基)四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十二烯 8.8.9- 三氟-9-三氟甲基四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十二烯, 8.8.9- 三氟-9-三氟甲氧基四環[4.LO.l2,5·:!7,1 G]-3-十二烯, 8.8.9- 三氟-9-五氟丙氧基四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十二烯, 8-氟-8-五氟乙基-9,9-雙(三氟甲基)四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3 _十二烯, 8.9- 二氟-8-七氟異丙基-9-三氟甲基四環[4.4.0.12,5.17’1()]-3-十二烯, 8-氯- 8,9,9-三氟四環[4.4.0_12,5·17,1()]-3-十二烯, 8.9- 二氯-859-雙(三氟甲基)四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十二烯 8-(2,2,2-三氟乙氧羰基)四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十二烯, 8-甲基-8-(2,2,2-三氟乙氧羰基)四環[4.4.0.12,5.17,1()]-3-十 二烯等。 -11 - 200819874 此等可單獨1種或倂用2種以上。 於特定單體之中,較佳者爲上述通式(1)中R1及R3係 氫原子或碳數1〜10,更佳爲1〜4,特佳爲1〜2的烴基,R2 及R4係氫原子或一價的有機基,R2及R4中至少一個表示 氫原子及烴基以外之具有極性的極性基,m係〇〜3的整數 ’ P係0〜3的整數,更佳爲m + p = 0〜4,尤佳爲0〜2,特佳 爲m=l,p = 0。m=l、p = 〇的特定單體,從所得到的環狀烯 烴系樹脂之玻璃轉移溫度高且機械強度亦優異之點來看, 係較宜。 作爲上述特定單體的極性基,可舉出羧基、羥基、烷 氧羰基、芳氧羰基、胺基、醯胺基、氰基等,此等極性基 亦可經由亞甲基等的連結基所結合。又,亦可舉出以羰基 、醚基、矽烷基醚基、硫醚基、亞胺基等具有極性的2價 有機基成爲連結基而結合的烴基等當作極性基。於此等之 中,較佳爲羧基、羥基、烷氧羰基或芳氧羰基,特佳爲烷 氧羰基或芳氧擬基。 再者,R2及R4中至少一個爲式-(CH2)nCOOR所表示 的極性基之單體,從所得到的環狀烯烴系樹脂成爲具有高 的玻璃轉移溫度及低的吸濕性、與各種材料的優異密接性 者之點來看,係較宜。於與上述特定的極性基有關的式中 ,R係碳原子數1〜1 2、更佳1〜4、特佳1〜2的烴基,較佳 爲烷基。又,η通常爲0〜5,η的値愈小,則所得到的環狀 烯烴系樹脂之玻璃轉移溫度愈高,故係較宜,再者η爲〇 的特定單體,從其合成容易之點來看,係較宜。 -12- 200819874 又,於上述通式(1)中,R1或R3較佳爲烷基,尤其碳 數1〜4的烷基,更佳爲1〜2的烷基,特佳爲甲基,特別地 ,該烷基結合於與上述式-(CH2)nCOOR所表示的特定極性 基所結合的碳原子同一碳原子,從可降低所得到的環狀烯 烴系樹脂的吸濕性之點來看,係較宜。 <共聚合性單體> 作爲共聚合性單體的具體例子,可舉出環丁烯、環戊 烯、環庚烯、環辛烯、二環戊二烯等的環烯烴。 環烯烴的碳數較佳爲4〜20,更佳爲5〜12。此等可單 獨1種或倂用2種以上。 特定單體/共聚合性單體的較佳使用範圍,以重量比 計爲 100/0〜50/50,更佳爲 100/0〜60/40。 <開環聚合觸媒> 於本發明中,用於得到(1)特定單體的開環聚合物及 (2)特定單體與共聚合性單體的開環共聚物之開環聚合反應 ,係在複分解觸媒的存在下進行。 該複分解觸媒係(a)從W、Mo及Re的化合物所選出 的至少1種、與(b)德明克的週期表ία族元素(例如Li、 Na、K等)、IIA族元素(例如Mg、Ca等)、IIB族元素(例 如Zn、Cd、Hg等)、IIIA族元素(例如b、A1等)、IVA族 元素(例如Si、Sn、Pb等)、或IVB族元素(例如Ti、Zr等 )的化合物’從具有至少1個該元素-碳鍵結或該元素-氫鍵 -13- 200819874 結者所選出的至少1種之組合所構成觸媒。又,於此情況 下,爲了提高觸媒的活性,亦可添加後述的(c)添加劑。 作爲(a)成分的適當W、Mo或Re的化合物之代表例 ,可舉出WC16、MoC16、ReOCl3等特開平1-132626號公 報第8頁左下欄第6行〜第8頁右上欄第1 7行中所記載的 化合物。 作爲(b)成分的具體例子,可舉出 n-C4H9Li、 (C2H5)3A1 ' (C2H5)2A1C1 ' (C2H5)i sAlCh 5 ' (C2H5)A1C12 、甲基鋁氧烷、LiH等特開平1-132626號公報第8頁右上 欄第1 8行〜第8頁右下欄第3行中所記載的化合物。 作爲添加劑的(c)成分之代表例,醇類、醛類、酮類、 胺類等係可適用,但更可以使用特開平1 - 1 32626號公報 第8頁右下欄第16行〜第9頁左上欄第17行所示的化合 物。 複分解觸媒的使用量,以上述(a)成分與特定單體的莫 耳比計,「(a)成分:特定單體」通常在1 : 5 00〜1 : 50,〇〇〇的範圍,較佳在1: 1,000〜1: 10,000的範圍。 (a)成分與(b)成分的比例,以金屬原子比計,(a) : (b) 係在1: 1〜1: 50的範圍,較佳在1: 2〜1: 30的範圍。 Ο)成分與(c)成分的比例,以莫耳比計,(c) : (a)係在 0.005: 1〜15: 1的範圍,較佳在0.05: 1〜7: 1的範圍。 <聚合反應用溶劑> 作爲開環聚合反應中所用的溶劑(構成分子量調節劑 -14- 200819874 溶液的溶劑、特定單體及/或複分解觸媒的溶劑)’例如可 舉出戊烷、己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷等的烷類、環 己烷、環庚烷、環辛烷、萘烷、原冰片烷等的環烷類、苯 、甲苯、二甲苯、乙苯、異丙苯等的芳香族烴、氯丁烷、 溴己烷、二氯甲烷、二氯乙烷、六亞甲基二溴化物、氯苯 、氯仿、四氯乙烯等的鹵化烷、鹵化芳基等的化合物、醋 酸乙酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁酯、丙酸甲酯、二甲氧基 乙烷等的飽和羧酸酯類、二丁基醚、四氫呋喃、二甲氧基 乙烷等的醚類等,此等可單獨地或混合使用。於此等之中 ,較佳爲芳香族烴。 就溶劑的使用量而言,「溶劑:特定單體(重量比)」 通常成爲1: 1〜10: 1之量,較佳成爲1: 1〜5: 1之量。 <分子量調節劑> 所得到的開環(共)聚合物之分子量的調節,亦可藉由 聚合溫度、觸媒的種類、溶劑的種類來進行,但於本發明 中,藉由使分子量調節劑共存於反應系中而調節。 此處,作爲合適的分子量調節劑,例如可舉出乙烯、 丙儲、1-丁靖、1-戊嫌、1-己嫌、1-庚嫌、辛嫌、丨·壬 烯、1-癸烯等的α-烯烴類及苯乙烯,於此等之中,特佳爲 1-丁烯、1-己烯。 此等分子量調節劑可單獨或混合2種以上使用。 分子量調節劑的使用量,對於1莫耳的供開環聚合反 應之特疋單體而言,係0.005〜0.6莫耳,較佳係〜〇 5 -15- 200819874 莫耳。 (2)爲了得到開環共聚物,於開環聚合步驟中,可以使 特定單體與共聚合性單體進行開環共聚合’再者,亦可於 聚丁二嫌、聚異戊二嫌等的共轭二儲化合物、苯乙嫌-丁 二嫌共聚物、乙非共飯二烯共聚物、原冰片燃等的在 主鏈具有2個以上的碳-碳間雙鍵的不飽和烴系聚合物等 之存在下,使特定單體進行開環聚合。 如以上所得之開環(共)聚合物,可照原樣地使用,但 是於其中再加氫而得之(3)加氫(共)聚合物係適用作爲耐衝 撃性大的樹脂之原料。 <加氫觸媒> 加氫反應係藉由通常的方法,即在開環聚合物的溶液 中加入加氫觸媒,使常壓〜3 00氣壓、較佳3〜200氣壓的 氫氣在0〜200°C,較佳在20〜180°C,與其作用而進行。 作爲加氫觸媒,可以使用通常的烯烴性化合物之加氫 反應中所用者。作爲該加氫觸媒,可舉出多相觸媒及勻相 觸媒。 作爲多相觸媒,可舉出使鈀、鉛、鎳、铑、釕等的貴 金屬觸媒物質擔持於碳、矽石、氧化鋁、二氧化鈦等的載 體之固體觸媒。又,作爲勻相觸媒,可舉出環烷酸鎳/三 乙基鋁、乙醯基丙酮酸鎳/三乙基鋁、辛酸鈷/正丁鋰、二 氯化二茂鈦/二丁基鋰單氯化物、醋酸铑、氯三(三苯膦)铑 、二氯三(三苯膦)釕、氯氫羰基三(三苯膦)釕、二氯羰基 -16- 200819874 三(三苯膦)釕等。觸媒的形態可爲粉末或粒狀。 就此等加氫觸媒而言,係以開環(共)聚合物:加氫觸 媒(重量比)成爲1 : lxl(T6〜1 : 2的比例來使用。 如此地,藉由加氫而得之加氫(共)聚合物,係成爲具 有優異的熱安定性者,即使經由成形加工時或作爲製品使 用時的加熱,其特性也不會劣化。此處,加氫率通常爲 50%以上,較佳爲 70%以上,更佳爲 90%以上,特佳爲 9 9 %以上。 又,力□氫(共)聚合物的加氫率,在5 00MHz、]H-NMR 所測定之値爲50%以上,較佳爲90%以上,更佳爲98%以 上,最佳爲99%以上。加氫率愈高,則對熱或光的安定性 愈優異,使用作爲本發明的波長板時,可得到長期的安定 特性。 再者,作爲環狀烯烴系樹脂所使用的加氫(共)聚合物 ,較佳爲該加氫(共)聚合物中所含有的凝膠含量係5重量 %以下,特佳係1重量%以下。 又,作爲環狀烯烴系樹脂,亦可使用(4)上述(1)或(2) 的開環(共)聚合物經弗瑞德-克萊福特反應而環化後,加氫 的(共)聚合物。 <弗瑞德-克萊福特反應的環化> Ο)或(2)的開環(共)聚合物經弗瑞德-克來福特反應的 環化方法,係沒有特別的限定,可以採用特開昭50-1 5 43 99號公報中所記載的使用酸性化合物的眾所周知之方 -17- 200819874 法。作爲酸性化合物,具體地可以使用 A1C13、BF3、 FeCl3、Al2〇3、HC1、CH2C1C00H、矽藻土、活性白土等 的路易士酸、布朗斯特酸。 經環化的開環(共)聚合物可與(1)或(2)的開環(共)聚合 物同樣地加氫。 再者,作爲環狀烯烴系樹脂,亦可以使用(5)上述特定 單體與含不飽和雙鍵的化合物之飽和共聚物。 <含不飽和雙鍵的化合物> 作爲含不飽和雙鍵的化合物,例如可舉出乙儲、丙烯 、丁烯等,較佳爲碳數2〜12、更佳爲碳數2〜8的烯烴系 化合物。 特定單體/含不飽和雙鍵的化合物之較佳使用範圍, 以重量比計係90/10〜40/60,更佳係85/15〜50/50。 於本發明中,爲了得到(5)特定單體與含不飽和雙鍵的 化合物之飽和共聚物,可使用通常的加成聚合法。 <加成聚合觸媒> 作爲用於合成上述(5)飽和共聚物的觸媒,使用從鈦化 合物、鉻化合物及釩化合物所選出的至少一種與當作助觸 媒的有機鋁化合物。 此處,作爲鈦化合物,可舉出四氯化鈦、三氯化鈦等 ’而且作爲鉻化合物,可舉出雙(環戊二烯基)鉻氯化物、 雙(環戊二烯基)鉻氯化物等。 -18- 200819874 再者’作爲釩化合物,可使用通式 VO(OR)aXb 或 V(OR)cXd [但是,R係烴基,X係鹵素原子,0$a^3,〇$b^3, 2S(a + b)g3,0gcS4,〇 S d S 4,3 S (c +d) g 4 ]所表示的釩 化合物,或此等的電子供予加成物。 作爲上述電子供予體,可舉出醇、酚類、酮、醛、羧 酸、有機酸或無機酸的酯、醚、醯胺、酸酐、烷氧基矽烷 等之含氧電子供予體,氨、胺、腈、異氰酸酯等之含氮電 子供予體等。 再者’作爲當作助觸媒的有機鋁化合物,可以使用從 具有至少1個鋁-碳鍵結或鋁-氫鍵結者所選出的至少一種 〇 於上述中,例如在使用釩化合物時,就釩化合物與有 機鋁化合物的比率而言,鋁原子對釩原子的比(A1/V)係2 以上,較佳係2〜50,特佳係在3〜20範圍。 加成聚合時所使用的聚合反應用溶劑,亦可使用與開 環聚合反應時所用的溶劑同樣者。又,所得到的(5)飽和共 聚物之分子量的調節,通常係使用氫來進行。 再者,作爲環狀烯烴系樹脂,亦可使用(6)上述特定單 體與從乙烯系環狀烴系單體或環戊二烯系單體所選出的1 種以上之單體的加成型共聚物及其加氫共聚物。 -19- 200819874 <乙烯系環狀烴系單體> 作爲乙烯系環狀烴系單體,例如可舉出4-乙烯基環戊 烯、2-甲基_4_異丙烯基環戊烯等的乙烯基環戊烯系單體、 4-乙烯基環戊烷、4-異丙烯基環戊烷等的乙烯基環戊烷系 單體等的乙烯基化5員環烴系單體、4_乙烯基環己烯、4_ 異丙細基環己嫌、1-甲基-4-異丙嫌基環己儲、2 -甲基- 4· 乙烯基環己烯、2_甲基-4-異丙烯基環己烯等的乙烯基環己 烯系單體、4-乙烯基環己烷、2_甲基-4-異丙烯基環己烷等 的乙烯基環己烷系單體、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、2-甲基 苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、1-乙烯基萘、2_ 乙烯基萘、4 -苯基苯乙烯、對甲氧基苯乙烯等的苯乙烯系 單體、d-萜烯、1_萜烯、二萜烯、d-檸檬烯、1-檸檬烯、 二戊烯等的萜烯系單體、4_乙烯基環庚烯、4_異丙烯基環 庚烯等的乙烯基環庚烯系單體、4-乙烯基環庚烷、4-異丙 烯基環庚烷等的乙烯基環庚烷系單體等。較佳爲苯乙烯、 α-甲基苯乙烯。此等可單獨1種或倂用2種以上。 <環戊二烯系單體> 作爲本發明的(6)加成型共聚物之單體所使用的環戊二 烯系單體,例如可舉出環戊二烯、1-甲基環戊二烯、2-曱 基環戊二烯、2-乙基環戊二烯、5-甲基環戊二烯、5,5-甲 基環戊二烯等。較佳爲環戊二烯。此等可單獨丨種或倂用 2種以上。 上述特定單體、從乙烯系環狀烴系單體及環戊二烯系 -20- 200819874 單體所選出的1種以上的單體之加成型(共)聚合物’係可 藉由與上述(5)特定單體和含不飽和雙鍵的化合物之飽和共 聚物同樣的加成聚合法來獲得。 又,上述加成型(共)聚合物的加氫(共)聚合物’係可 藉由與上述(3)開環(共)聚合物的加氫(共)聚合物同樣的加 氫法來獲得。 再者,作爲環狀烯烴系樹脂,亦可以使用(7)上述特定 單體與丙烯酸酯的交替共聚物。 <丙烯酸酯> 作爲(7)上述特定單體與丙烯酸酯之交替共聚物的製造 時所用的丙烯酸酯,例如可舉出丙烯酸甲酯、丙备酸2-乙 基己酯、丙烯酸環己酯等的碳原子數1〜20之直鏈狀、支 鏈狀或環狀的丙烯酸院酯、丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸2-四氫糠酯等的碳原子數2〜20之含雜環基的丙烯酸酯、丙 烯酸苄酯等的碳原子數6〜20之含芳香族環基的丙烯酸酯 、丙烯酸異冰片酯、丙烯酸二環戊酯等的碳數7〜3〇的具 有多環構造的丙烯酸酯。 於本發明中,爲了得到(7)上述特定單體與丙烯酸酯的 交替共聚物’於路易士酸的存在下,以上述特定單體與丙 烯酸酯的合計爲100莫耳時,通常以上述特定單體爲 30〜70莫耳、丙烯酸酯爲70〜30莫耳的比例,較佳以上述 特定單體爲40〜60莫耳、丙烯酸酯爲60〜40莫耳的比例, 特佳以上述特定單體爲45〜55莫耳、丙烯酸酯爲55〜4 5莫 -21 - 200819874 耳的比例,進行自由基聚合。 用於得到(7)上述特定單體與丙烯酸酯的交替共聚物而 使用的路易士酸之量,對於1 〇 〇莫耳的丙嫌酸酯而言,係 成爲0.001〜1莫耳的量。又,可以使用眾所周知的能產生 自由基的有機過氧化物或偶氮雙系的自由基聚合引發劑, 聚合反應溫度通常爲-20。(:〜80°c,較佳爲5°c〜6(TC。又, 於聚合反應用溶劑中,可以使用與開環聚合反應所用的溶 劑同樣者。 再者,本發明所言的「交替共聚物」係意味從上述特 定單體而來的構造單位係不鄰接,即具有從上述特定單體 而來的構造單位之鄰居必定是從丙烯酸酯而來的構造單位 之構造的共聚物,不否定從丙烯酸酯而來的構造單位彼此 鄰接存在的構造。 本發明所用的環狀儲煙系樹脂之較佳分子量,以固有 黏度[η]ίηΐι計係 〇·2〜5dl/g,更佳係 0.3〜3dl/g,特佳係 0.4〜1.5dl/g,溶解在四氫呋喃中藉由凝膠凝膠滲透層析術 (GPC)所測定的聚苯乙烯換算之數量平均分子量(Μη),合 適的爲 8,000〜100,000,更佳爲 10,000〜80,000,特佳爲 1 2,000〜50,000,重量平均分子量(1^^¥)爲 20,000〜300,000 ,更佳爲3 0,000~250,000,特佳爲40,000〜200,000的範圍 〇 藉由使固有黏度[η] inh、數量平均分子量及重量平均 分子量在上述範圍內,則環狀烯烴系樹脂的耐熱性、耐水 性、耐藥品性、機械的特性以及作爲本發明的光學薄膜之 -22- 200819874 成形加工性係變成良好。 本發明所用的環狀烯烴系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)通 常爲110°c以上,較佳爲110〜35(TC,更佳爲120〜2 50°c, 特佳爲120〜200°C。於Tg低於1 10°C時,由於在高溫條件 下的使用、或塗佈、印刷等的二次加工會變形,故係不宜 。另一方面,Tg若超過3 50 °C,則成形加工變困難,而且 由於成形加工時的熱,使樹脂劣化的可能性變高。 於以上的環狀烯烴系樹脂中,在不損害本發明的效果 之範圍內,亦可摻合例如特開平9-22 1 577號公報、特開 平1 0-287732號公報中所記載的特定烴系樹脂、或眾所周 知的熱塑性樹脂、熱塑性彈性體、橡膠質量合體、有機微 粒子、無機微粒子等。 又,於本發明所用的環狀烯烴系樹脂中,在不損害本 發明的效果之範圍內,可以添加用於改良耐熱降解性或耐 光性的眾所周知之抗氧化劑或紫外線吸收劑等添加劑。例 如,對於1 00重量份的環狀烯烴系樹脂而言,添加 0 · 0 1〜1 〇重量份的從酚系化合物、硫醇系化合物、硫系化 合物、二硫系化合物、磷系化合物所組成族群所選出的至 少1種化合物,可提高耐熱降解性。再者,本發明的環狀 烯烴系樹脂,於藉由熔融擠出以形成薄膜等時,爲了防止 由於熔融擠出時的熱經歴而使該樹脂進行熱降解,亦可添 加抗氧化劑。作爲該抗氧化劑,於對熔融擠出所得到的薄 膜進行拉伸加工時,爲了不降低相位差的表現性或盡量減 小所降低的程度,較佳爲使用受阻酚系化合物,其具有熔 -23- 200819874 點爲在熔融擠出的環狀烯烴系樹脂之玻璃轉移溫度(1^)的_ 30°C〜Tg+130°C的溫度範圍,較佳爲Tg-25°C〜Tg+13(TC的 溫度範圍。 <光學薄膜的製造方法> 作爲本發明的光學薄膜之製造方法,可使用將環狀烯 烴系樹脂熔融,從模頭擠出,壓貼於冷卻輥而薄膜化之熔 融擠出法。 作爲將環狀燒烴系樹脂溶融的方法,較佳爲藉由擠壓 機來熔融樹脂的方法,以齒輪泵來定量供應該熔融樹脂, 藉由金屬過濾器等來過濾,以去除雜質後,邊在模頭賦予 薄膜形狀邊擠出之方法係較宜的。 作將從模頭所擠出的薄膜作冷卻及薄片化的方法,可 舉出夾輥方式、靜電施加方式、空氣刀方式、壓延方式、 單面帶方式、雙面帶方式、3支輥方式等。爲了製造光學 畸變少的薄片,較佳爲使用單面帶式,尤其稱爲套筒式的 薄片製造裝置、靜電施加方式等。例如,於模頭的吐出口 下方配置第一冷卻輥,配置與該第一冷卻輥鄰接的第二冷 卻輥,視需要配置輿該第二冷卻輥鄰接的第三冷卻輥,配 置有與該第三(或第二)冷卻輥並行的剝離輥薄膜製造裝置 ,或配置冷卻輥與冷卻帶,配置有與該冷卻輥並行的剝離 輥之薄膜製造裝置。再者,上述冷卻帶係藉由以接觸其內 面而設置的2支保持輥,在張力作用的狀態被保持。從吐 出口所吐出的樹脂係通過上述第一冷卻輥與第二冷卻輥之 -24- 200819874 間、或冷卻輥與冷卻帶之間而被夾壓,轉印到(第一)冷卻 輥而被冷卻後,藉由剝離輥來剝離而薄膜化。又,於所吐 出的薄膜之兩端位置,在模頭的吐出口下方之冷卻輥,使 用相對配置的帶電電極,將薄膜貼附於冷卻輥側,使用不 會產生光學畸變而使薄膜的表面性成爲良好之方法,或使 用壓輥,利用薄膜寬度方向中兩端部的耳高部分,將樹脂 貼附於冷卻輥的方法等,亦可進行轉印狀態的改良。 作爲擠壓機,可以使用單軸、二軸、行星式、捏合機 等中任一種,但較佳爲單軸擠壓機。又,作爲擠壓機的螺 桿形狀,可舉出排氣型、半螺旋型、前端帶刮板型、全螺 旋型等壓縮比大者、小者、壓縮部的長度長之緩壓縮、長 度短之急壓縮型等,但若氧混入,則由於擠壓機內部的剪 切發熱’在樹脂中變成容易發生凝膠。由於該凝膠成爲薄 膜中稱爲魚眼的點狀缺陷或焦斑的原因,故較佳爲可抑制 氧的溶解、可抑制剪切發熱的螺旋形狀·壓縮類型者,較 佳的壓縮比爲1 ·5〜4·5,特佳爲1 .8〜3.6。樹脂之計量所使 用的齒輪泵’可以使用內部潤滑式、外部潤滑式中任一者 ,其中較佳爲外部潤滑方式。 關於異物之過濾所使用的過濾器,可舉出葉盤型、燭 式過濾器型、葉型、篩網等。其中,以縮小樹脂的滯留時 間分佈爲目的’最佳爲葉盤型,意味過濾器的篩孔之公稱 篩孔爲20μηι以下,較佳爲ι〇μηι以下,更佳爲5μιη以下 ,最佳爲3μπι以下。公稱篩孔若比2〇μπι大,則除了眼睛 所見到的異物’凝膠等的去除亦困難,作爲用於製作光學 -25- 200819874 薄膜的過濾器係不宜。 作爲模頭’必須使模頭內部的樹脂流動成爲均一,爲 了保持薄膜厚度的均一性,模頭出口附近的模頭內部之壓 力分佈在寬度方向中必須恒定。作爲滿足如此的條件者, 可以使用多歧管模頭、魚尾形模頭、衣架式模頭等,於此 等之中,較佳爲衣架式模頭。又,爲了模頭的流量調整, 較佳爲彎曲唇型。又,特佳爲附有熱栓方式的自動控制來 進行厚薄調整的機能之模頭。安裝有用於流量調整的扼流 桿,或安裝有用於厚度調整的唇塊,由於在安裝部分會發 生高低差,於安裝部分的間隙等會咬入空氣等,成爲焦斑 的發生原因,成爲口模條紋的原因,故係不宜。模頭的吐 出口較佳係被碳化鎢等的超硬塗料等所被覆。又,作爲模 頭的材質,可舉出SCM系的鋼鐵、SUS等的不鏽鋼材等 ,惟不受此等所限定。另外,可以使用表面施有銘、鎳、 鈦等的鍍敷者,藉由PVD(物理蒸氣沈積)法等而形成有 TiN、TiAIN、TiC、CrN、DLC(鑽石狀碳)等的被膜者,噴 塗有其它陶瓷者,表面經氮化處理者等。如此的模頭,由 於表面硬度高,與樹脂的摩擦小,故於所得到的透明樹脂 薄膜中,可防止燒焦垃圾等的混入,同時可防止口模條紋 的發生,從這些點來看係較宜。 冷卻輥較佳爲在內部具有加熱手段及冷卻手段者,作 爲冷卻輥,較佳爲表面係陶瓷、鉻、無電解鎳等者,特佳 於從模頭所吐出的樹脂最初所接觸的第一冷卻輥表面係陶 瓷。作爲表面是陶瓷的冷卻輥,可舉出在金屬輥上施有陶 -26- 200819874 瓷的噴塗者。作爲陶瓷的材質,可舉出氧化鋁、碳化鎢、 氮化鈦、TiCN等,但是從表面硬度和強度的觀點來看, 較佳爲氧化鋁。其表面粗度以最大粗度Rs表示爲1.0 μηι 以下,特佳爲0.5 μιη以下。作爲陶瓷的表面塗覆方法,可 舉出噴塗、濺鍍、PVD、CVD等的方法。可大面積均勻塗 覆的噴塗法係較佳的塗覆方法。 又,表面爲鉻或無電解鎳的冷卻輥,較佳係使用金屬 輥上施有鍍鉻、無電解鍍鎳等者。 作爲使用於單面帶式裝置或套筒式牽引裝置的冷卻帶 ,較佳爲使用無接頭的循環帶。作爲構成冷卻帶的材料, 可以使用不鏽鋼、鎳等的金屬。又,用於保持冷卻帶的保 持輥,其表面較佳爲經聚砂氧橡膠或其它具有耐熱性的彈 性體等所被覆。冷卻帶的厚度較佳爲0.1〜0.4mm,若小於 0 · 1 mm,則彎曲大的帶子會容易損傷,故係不宜。另一方 面’右比〇 . 4 m m速厚’則加工時不能追隨薄膜作變形,故 係不宜。 藉由上述的裝置,例如依照以下地製造薄膜。 通常’於將環狀烯烴系樹脂投入擠壓機之前,爲了預 先去除該樹脂中所含有的水分、氣體(氧等)、殘留溶劑等 ,而在該樹脂的Tg以下之適當溫度進行樹脂的乾燥 乾燥所用的乾燥機,較佳爲使用惰性氣體循環式乾燥 機、真空乾燥機。又,爲了抑制料斗內的吸濕或氧的吸收 ,使用氮氣或氬氣等的惰性氣體來密封料斗,或可保持減 壓狀態的真空料斗,亦爲較佳的方法。 -27- 200819874 擠壓機料筒,爲了防止熔融擠出中樹脂被氧化而產生 凝膠等,較佳爲以氮氣或氬氣等的惰性氣體來密封。 擠壓機所熔融的環狀烯烴系樹脂,係從模頭吐出口以 垂直方向朝向下方擠出成薄片狀。模頭出口的溫度分佈, 爲了減少樹脂的熔融黏度差,較佳爲被控制在± 1 °c以下。 然後,所擠出的樹脂係被第一冷卻輥與第二冷卻輥或 冷卻帶所夾壓、冷卻。而且,轉印在冷卻輥表面的樹脂, 係藉由剝離用輥而從第一輥的表面剝離,於通過第二冷卻 輥的上部後,被第三冷卻輥所冷卻。 於本發明中,下式所表示的下降比率(draw down ratio)h爲6.5以上,較佳爲7.0以上,更佳爲7.0〜16.0。 由於下降比率(draw down ratio)h爲6.5以上,所得到的 光學薄膜對於薄膜長度方向而言,具有±5°以內的光軸之 範圍係成爲寬廣者。 下降比率(draw down ratio)h =從模頭出口濟出時之膜 厚/所得到的薄膜之膜厚 再者,所謂從模頭出口擠出時的膜厚,即相當於模頭 出口的唇開口。 樹脂的加工溫度,即擠壓機和模頭的設定溫度,從可 將流動性均一的熔融狀態之樹脂從模頭吐出,可抑制樹脂 的劣化之觀點來看,較佳爲樹脂的 Tg+100°C以上、 Tg + 2 0 0 °C以下。又,樹脂從模頭吐出口吐出到接觸冷卻輥 爲止的距離,由於愈短愈能抑制所得到的薄膜之膜厚不均 ,而係較宜。該距離較佳爲100mm以下,更佳爲80mm以 -28- 200819874 下。 此處,第一冷卻輥的表面溫度較佳爲樹脂的Tg±5°C, 更佳爲Tg-5〜Tg + 2°C。第一冷卻輥的表面若爲上述溫度, 則可得到薄膜的光軸在長度方向中排列的效果。 第一冷卻輥的圓周速度vl與第二冷卻輥或冷卻帶的 圓周速度v2的速度比vs(v2/vl),較佳爲1.01〜1.06,特佳 爲1.03〜1.05。vs的値若在上述範圍內,則所得到的光學 薄膜的光軸容易與薄膜長度方向成一致。又,上述圓周速 度vl較佳爲5〜30m/min,更佳爲7〜20m/min。 再者,作爲薄膜剝離時的條件,以剝離溫度當作 Tt(°C),以剝離應力當作TF(MPa)時,較佳爲各自在丁§-30°CSTtSTg + 5〇C、〇.〇lMPa$TF$5MPa 的範圍。 本發明的光學薄膜,於薄膜的寬度方向全體內測定光 軸時,光軸對於薄膜長度方向而言在±5°以內的範圍係薄 膜全寬的80%以上,較佳90%以上。藉由使光學薄膜的光 軸在長度方向中成一致,則在將該光學薄膜拉伸處理以得 到相位差薄膜時,可得到無光軸變動的相位差薄膜。 本發明的光學用薄膜之加熱所致的尺寸收縮率,於 l〇〇°C進行 5 00小時的加熱時,通常爲5%以下,較佳爲 3%以下,更佳爲1%以下,特佳爲0.5%以下。 本發明的光學薄膜的全光線透過率較佳爲90%以上, 特佳爲95%以上。 又,本發明的光學薄膜於寬度lm以上的寬幅薄膜中 係具有特別顯著的效果。 -29- 200819874 <<相位差薄膜>> 本發明的相位差薄膜係藉由將本發明的光學薄膜進一 步拉伸而得。作爲該情況下的拉伸加工方法,具體地可舉 出眾所周知的一軸拉伸法或二軸拉伸法。即,可以使用拉 幅法的橫一軸拉伸法、輥間壓縮拉伸法、利用圓周不同的 二組輥的縱一軸拉伸法等、或橫一軸與縱一軸所組合成的 二軸拉伸法、吹脹法的拉伸法等。 於一軸拉伸法時,拉伸速度通常爲1〜5,000%/分鐘, 較佳爲50〜1,000%/分鐘,更佳爲1〇〇〜1,〇〇〇% /分鐘,特佳 爲1 00〜500%/分鐘。 於二軸拉伸法時,有同時在2個方向進行拉伸的情況 ,或於一軸拉伸後,在與最初的拉伸方向不同的方向作拉 伸處理的情況。此時,用於控制拉伸後的薄膜之折射率橢 圓體的形狀之2條拉伸軸的相交角度,由於係依照所欲的 特性來決定,故沒有特別的限定,通常爲在120〜60度的 範圍。又,拉伸速度在各拉伸方向中可爲相同或不同,通 常爲 1〜5,000%/分鐘,較佳爲 50〜1,000%/分鐘,更佳爲 100〜1,000%/分鐘,特佳爲1〇〇〜500%/分鐘。 拉伸加工溫度係沒有特別的限定,但以本發明的樹脂 之玻璃轉移溫度Tg爲基準,通常爲Tg±30°c,較佳爲Tg± 15°C,更佳爲Tg-5°C〜Tg+15°C的範圍。藉由在上述範圍內 ,則可能抑制相位差不均的發生’而且折射率橢圓體的控 制變容易,故係較宜。 拉伸倍率由於係依照所欲的特性來決定,故沒有特別 •30- 200819874 的限定,通常爲1·01〜10倍,較佳爲1〇3〜5倍,更佳爲 1.03〜3倍。拉伸倍率若爲10倍以上,則相位差的控制會 變困難。 拉伸後的薄膜可照原樣地冷卻,在Tg-2(TC〜Tg的溫 度氣氛下至少1 0秒以上,較佳3 0秒〜6 0分鐘’更佳1分 鐘〜6 0分鐘保持以熱定型,係較宜。藉此,可得到透過光 的相位差之經時變化少的安定相位差薄膜。 本發明的相位差薄膜之根據AS TM D 1 003所測定的厚 度在3mm時的霧.度値係1%以下,較佳係〇·8%以下。又’ 薄膜的平均粗度Ra較佳係0.2 μπι以下,更佳係0.15 μπι以 下,特佳係0.1 μηι以下。 又,本發明的相位差薄膜之加熱所致的尺寸收縮率, 於l〇〇°C進行5 00小時的加熱時,通常爲10%以下,較佳 爲5%以下,更佳爲3%以下,特佳爲1%以下。 本發明的光學薄膜係藉由拉伸而將分子配向,給予透 過光相位差,該相位差係可藉由拉伸倍率、拉伸溫度或薄 膜的厚度等來控制。例如,於拉伸前的薄膜之厚度相同時 ,由於拉伸倍率愈大的薄膜,透過光的相位差之絕對値有 愈大的傾向,故藉由改變拉伸倍率,可得到將所欲的相位 差給予透過光的相位差薄膜。另一方面,於拉伸倍率相同 時,由於拉伸前的薄膜之厚度愈厚,透過光的相位差之絕 對値有愈大的傾向,故藉由改變拉伸前的薄膜之厚度,可 得到將所欲的相位差給予透過光的相位差薄膜。又,於上 述拉伸加工溫度範圍中,由於拉伸溫度愈低,透過光的相 -31 - 200819874 位差之絕對値有愈大的傾向,故藉由改變拉伸溫度,可得 到將所欲的相位差給予透過光的相位差薄膜。 如上述之拉伸所得的相位差薄膜之厚度,通常爲 ΙΟΟμηι以下,較佳爲 100〜20μηι,更佳爲 80〜20μιη。藉由 將厚度減薄,則可大大地響應使用相位差薄膜的領域之製 品所要求的小型化、薄膜化。 此處,爲了控制相位差薄膜的厚度,可藉由控制拉伸 前的光學薄膜之厚度,或控制拉伸倍率來完成。例如,藉 由將拉伸前的光學薄膜減薄,或使拉伸倍率成爲比較大, 可更減少相位差薄膜的厚度。 <<偏光板>> 本發明的偏光板係可藉由在由PVA系薄膜等所構成 的偏光片之至少一面上,使用由以PVA樹脂當作主體的 水溶液所構成的水系黏著劑、含極性基的黏著劑,貼合本 發明的光學薄膜及/或相位差薄膜,按照需要將其加熱或 曝光、壓貼,以使偏光片與光學薄膜黏著(層合)而製造。 <<液晶面板〉> 本發明的液晶面板係可藉由在由2片玻璃基板間夾持 液晶而成的液晶顯示元件之至少一面上,貼合本發明的偏 光板,使液晶顯示元件與偏光板黏著(層合)而製造。 〔實施例〕 -32- 200819874 以下說明本發明的具體實施例,惟本發明不受此等實 施例所限定。再者’以下中的「份」、「%」只要沒有特 別預先指明,則意味「重量份」、「重量%」。 又,於以下的實施例中,各種評價係藉由下述方法來 測定。 [玻璃轉移溫度(Tg)] 使用精工儀器公司製的差示掃描熱量計(DSC),在氮 氣氛下以升溫速度爲20°C/分的條件,測定玻璃轉移溫度 [全光線透過率、霧度] 使用村上色彩技術硏究所製的霧度計^ HM-150型」 ,測定全光線透過率及霧度。 [透過光的面內相位差(R0)及光軸] 使用王子計測機器(股)製的「KOBRA-21ADH」,在 波長5 5 0nm測定光垂直入射薄膜時的面內相位差(R0),及 以薄膜的長度方向中朝向下游當作〇度,測定光軸。±90 度方向係光軸變成朝向薄膜的寬度方向(TD方向)。 [偏光板的透過率及偏光度] 使用大塚電子(股)製的「RETS」,測定偏光板的透過 率及偏光度。測定波長係5 5 0iim。 -33- 200819874 [薄膜厚度分佈] 使用薄膜厚度分佈測定裝置(MOCON),在薄膜長度方 向中測定。 實施例1 作爲樹脂,使用環狀烯烴系樹脂(JSR株式會社製:商 品名「ARTON D45 3 1」,玻璃轉移溫度1 30°C ),在氮氣循 環式乾燥機(曰水加工株式會社製:型號NS-200)中輸送, 於氮氣氛下,以l〇〇°C的乾燥溫度進行180分鐘的除濕乾 燥。然後,導引至擠壓機(GM工程公司製:GM-90),在 260°C熔融,使用齒輪泵以定量送液,用5μηι葉盤過濾器 ,去除異物,藉由設定在25 0°C的鋁鑄製加熱器,從已加 熱到260°C的開口寬度〇.85mm的T模頭(寬度1 600mm)擠 出樹脂。T模頭出口與第一冷卻輥的薄膜壓貼點之間的距 離爲65mm,使所擠出的樹脂壓貼於第一冷卻輥。第一冷 卻輥爲250mm φ,該輥表面係經45 μπι厚的氧化鋁之皮膜 所噴塗加工者,其表面粗度爲0.1s。第一冷卻輥的表面溫 度係被加熱到1 3 5 °C而使用,以表面溫度計來確認該溫度 〇 以薄膜表面溫度1 3 1 °C來牽引第一冷卻輥上所壓貼的 薄膜,經牽引的薄膜係照原樣地壓貼在表面溫度1 2 8。(:的 第二冷卻輥,再依序壓貼於表面溫度1 23 °C的第三冷卻輥 、表面溫度1 1 5 t的第四冷卻輥後,在薄膜表面溫度爲 l〇9°C的狀態下,以6kgf的張力來剝離,得到寬度 -34- 200819874 1 5 3 4mm的薄膜。以切條機來切掉所得到的薄膜之兩端, 成爲寬度1 400mm的薄膜。再者,冷卻輥皆爲25 0mm φ, 第一及第二冷卻輕之輥表面係使用4 5 μ m厚的氧化銘皮膜 噴塗加工。又,此時各冷卻輥的圓周速度依順序爲 7.60m/min、7.80m/min、7.76m/min、7.73m/min。所得到 的光學薄膜(以下亦稱爲「薄膜1」)之膜厚爲100 μιη,下 降比率(draw down ratio)h 爲 8·5。 另外,確認所得到的薄膜1之光軸,在流動方向(薄 膜的長度方向)成爲〇度時,係-5〜7度,光軸在長度方向 ±5°的範圍對於薄膜全寬而言係85%。又,測定該的薄膜 的霧度價,結果霧度値爲0.2 %。 實施例2 於上述實施例1中,使用環狀烯烴系樹脂(JSR株式會 社製:商品名「ARTON D45 3 2」,玻璃轉移溫度146°C), 於將薄膜轉印在輥上時,使用直徑ΙΟΟιηπιφ 的壓輥,將 薄膜兩端壓貼於輥而設置。壓輥的表面溫度爲1 2 2 °C。其 它製造條件係藉由與實施例’1同樣的方法,得到寬度 1 545mm的薄膜。以切條機來切掉所得到的薄膜之兩端, 成爲寬度1 3 50mm的薄膜(以下亦稱爲「薄膜2」)。 確認薄膜2的光軸,結果碰觸壓輥處係80〜90度,就 兩端的壓輥之內側的光軸而言,其絕對値爲3度以下。光 軸在長度方向±5°的範圍對於薄膜全寬而言係80%。再者 ,薄膜2的霧度値爲0.3 %。 -35- 200819874 比較例1 使用與上述實施例1同樣的材料,使用同樣的裝置。 樹脂之擠出時所使用的T模頭之出口的間隔爲〇 . 4 5 mm。 其它條件係藉由與實施例1同樣的方法,得到寬度 1 5 5 0mm的薄膜。以切條機來切掉所得到的薄膜之兩端, 成爲寬度1420mm的薄膜(以下亦稱爲「薄膜3」)。薄膜3 的光軸在寬度方向之分佈係75〜90度,光軸在長度方向土 5 °的範圍對於薄膜全寬而言係2 °/。。又,薄膜3的霧度値 爲 0.3%。 比較例2 使用與上述實施例同樣的材料,藉由同樣的裝置,將 第一冷卻輥的溫度設定在125度,將第二冷卻輥的表面溫 度設定在120C ’將第二冷卻輥的表面溫度設定在117°C, 將第四冷卻輥的表面溫度設定在1 1 2 °C,其它條件係藉由 與實施例1同樣的方法,得到寬度1 540mm的薄膜。以切 條機來切掉所得到的薄膜之兩端,成爲寬度1 4 1 0 m m的薄 膜(以下亦稱爲「薄膜4」)。所得到的薄膜4之光軸在全 寬內係±75〜90度。 又,於薄膜的剝離時,由於在第一剝離輥之上發生滑 動,而使薄膜損傷,薄膜4的霧度値爲0.8%。 比較例3 使用與上述實施例1同樣的溫度條件之輥’第一冷卻 • 36- 200819874 輥的圓周速度爲 7.60m/min,第二冷卻輥的圓周速度爲 7.57m/min,第三冷卻輥的圓周速度爲7.52m/min,第四冷 卻輥的圓周速度爲7.4 8m/min,得到寬度1 540mm的薄膜 。以切條機來切掉所得到的薄膜之兩端,成爲寬度 1410mm的薄膜(以下亦稱爲「薄膜5」)。 薄膜5的光軸在全寬內係±7 5〜90度。霧度値爲0.3% 調製例1 於由94.8份的丙烯酸丁酯、5份的丙烯酸、0.2份的 甲基丙烯酸2-羥乙酯所構成的重量平均分子量(Mw)120萬 、重量平均分子量與數量平均分子量(Μη)的比(Mw/Mn) 3.9 的丙烯酸系聚合物之醋酸乙酯溶液中,添加甲苯以稀釋成 爲上述丙烯酸系聚合物的13%之甲苯溶液,添加2.0份的 異氰酸酯交聯劑[Coronet L(日本聚胺甲酸酯公司製)]及攪 拌而成爲溶液,將此溶液塗佈在脫模薄膜上’以不發泡的 方式藉由60°C x5分鐘、100°C x5分鐘的2階段使乾燥後, 再將輕剝離型的脫模薄膜層合暫固定於黏著劑面,製作乾 燥後黏著劑厚度(平均値)爲25 μιη的無支撐薄膜。 實施例3 使用實施例1中所得到的薄膜1 ’在1 3 0 °C使用輥夾 式的縱一軸拉伸機作1.2倍拉伸,得到寬度1180mm、厚 度90μιη的相位差薄膜1。 -37- 200819874 就相位差薄膜1的相位差而言,薄膜面內的相位差 (R0)爲6 0nm,光軸在全寬內係-1〜+1。。又,該相位差薄膜 1的全光線透過率爲9 3 %,霧度爲0.2 %。 實施例4 除了於實施例3中,使用薄膜2來代替薄膜1,及使 拉伸溫度成爲1 5 5 °C以外,與實施例3同樣地作,得到寬 度1 1 50mm、厚度90 μιη的相位差薄膜2。就相位差薄膜2 的相位差而言,薄膜面內的相位差(R0)爲63nm。又,該 相位差薄膜2的全光線透過率爲93%,霧度爲0.2%。 比較例3 除了使用薄膜3以外,與實施例3同樣地作,得到寬 度1 200mm、厚度90μηι的相位差薄膜3。就相位差薄膜3 的相位差而言,薄膜面內的相位差(R0)爲63nm,光軸在 全寬的93%內,爲-1〜+1°,但光軸超過±1。的範圍發生7% 。又,該相位差薄膜3的全光線透過率爲93%,霧度爲 1 . 5 %,薄膜表面發生霧濁。 比較例4 除了使用薄膜4以外,與實施例3同樣地作,得到寬 度1 1 90mm、厚度90 μιη的相位差薄膜4。就相位差薄膜4 的相位差而言,薄膜面內的相位差(R0)爲64mm,光軸在 全寬的9 5 %內,爲-1〜+ 1。,但光軸超過± 1。的範圍發生5 % -38- 200819874 。又,該相位差薄膜4的全光線透過率爲93%,霧度爲 1 .7%,薄膜表面發生霧濁。 實施例5 將厚度50μηι的聚乙烯基醇薄膜邊浸漬在由5克碘、 250克碘化鉀、10克硼酸、1〇〇〇克水所構成的40 °C浴中 ,邊以約5分鐘作一軸拉伸到4倍爲止,得到偏光膜。於 該偏光膜的表面,使用調整例1所得到的水系黏著劑,將 實施例1所製作的薄膜1與實施例3所製作的拉伸薄膜1 分別各一面地黏著在偏光膜,得到偏光板(1 )。測定偏光板 (1)的透過率及偏光度,結果分別爲4 3 %、9 9.9 9 %。又, 使該偏光板(1)以二片成爲正交尼科耳狀態,從一方以亮度 1 0 00 Ocd的背光照射時,再從另一方觀察,確認完全沒有 起因於漏光的帶筋狀不均。 比較例5 除了使用薄膜3代替薄膜1,及使用拉伸薄膜3代替 拉伸薄膜1以外,與實施例5同樣地作,得到偏光板(2)。 測定該偏光板的透過率及偏光度,結果分別爲42%、 99.89%。又,使該偏光板(2)以二片成爲正交尼科耳狀態 ,從一方以亮度lOOOOcd的背光照射,再從另一方觀察時 ,確認有起因於光擴散的漏光。 產業上的利用可能性 -39- 200819874 本發明的光學薄膜及偏光板係可用於例 、數位資訊終端、袖珍傳呼器、導航器、車 、液晶監視器、調光面板、〇 A機器用顯示; 顯示器等的各種液晶顯示元件或電激發光顯 面板等。又,亦適用作爲CD、CD-R、MD、 的光碟的記録·再生裝置中所使用的波長板 如攜帶型電話 用液晶顯示器 $、AV機器用 示元件或觸控 MO、DVD 等 -40-

Claims (1)

  1. 200819874 十、申請專利範圍 1. 一種光學薄膜,其特徵爲由環狀烯烴系樹脂所構成 的薄膜’在薄膜的寬度方向全體內測定光軸時,光軸對於 薄膜長度方向而言在±5。以內的範圍係薄膜全寬的80%以 上之光學薄膜。 2·—種如申請專利範圍第1項之光學薄膜之製造方法 ,其特徵爲在將環狀烯烴系樹脂熔融,從模頭擠出,壓貼 於冷卻輥而薄膜化時,下述式所表示的下降比率(draw down ratio)h 係 6·5 以上, 下降比率(draw down ratio)h =從模頭出口擠出時之膜 厚/所得到的薄膜之膜厚。 3 .如申請專利範圍第2項之光學薄膜之製造方法,其 中從模頭所擠出的樹脂在最初所壓貼的第一冷卻輥之表面 溫度係在樹脂的玻璃轉移溫度(Tg)±5°C以內之範圍。 4·如申請專利範圍第2至3項之光學薄膜之製造方法 ,其中第一冷卻輥的圓周速度vl與鄰接於第一冷卻輥而 配置的第二冷卻輥或冷卻帶的圓周速度 v2之速度比 vs(v2/vl)係在1.01〜1.06的範圍。 5 .如申請專利範圍第2至4項之光學薄膜之製造方法 ,其中第一冷卻輥的表面係陶瓷。 6 · —種相位差薄膜,其係由將如申請專利範圍第1項 之光學薄膜進一步拉伸所成。 7.—種偏光板,其特徵爲由在偏光片的至少一面上層 合如申請專利範圍第1項之光學薄膜及或如申請專利範圍 -41 - 200819874 第6項之相位差薄膜所成。 8 . —種液晶面板,其特徵爲由在液晶顯示元件的至少 一面上層合如申請專利範圍第7項之偏光板所成。 -42- 200819874 七、指定代表圖 (一) 、本案指定代表圖為:無 (二) 、本代表圖之元件代表符號簡單說明: 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式:
TW096137853A 2006-10-25 2007-10-09 Optical film, manufacturing method of optical film, retardation film, polarizing plate and liquid crystal panel TW200819874A (en)

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