TW200815499A - Thermoplastic polyimide, Laminate polyimide film using it and metal foil laminated polyimide film - Google Patents
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 72
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 72
- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims abstract description 71
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims description 193
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 title claims description 27
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims abstract description 54
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims abstract description 52
- 125000004427 diamine group Chemical group 0.000 claims abstract description 36
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical group NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 8
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 64
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 31
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 15
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 14
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 12
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 150000008064 anhydrides Chemical group 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000006160 pyromellitic dianhydride group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 31
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 6
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 129
- 239000010408 film Substances 0.000 description 43
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 39
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 21
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 21
- 101150033824 PAA1 gene Proteins 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 15
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 14
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 11
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 8
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001646 UPILEX Polymers 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 5-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 QQGYZOYWNCKGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 101100167427 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) paa-7 gene Proteins 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 carboxylic acid dianhydride Chemical class 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 4
- 150000004985 diamines Chemical group 0.000 description 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 4
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OBCSAIDCZQSFQH-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1N OBCSAIDCZQSFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075142 2,5-diaminotoluene Drugs 0.000 description 2
- HGUYBLVGLMAUFF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxybenzene-1,4-diamine Chemical compound COC1=CC(N)=CC=C1N HGUYBLVGLMAUFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFBALUPVVFCEPA-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical group C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 LFBALUPVVFCEPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-methylphenyl)-3-methylaniline Chemical group CC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 240000004282 Grewia occidentalis Species 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 2
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001142 dicarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001938 differential scanning calorimetry curve Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004060 quinone imines Chemical class 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRVRGVPWCUEOGV-UHFFFAOYSA-N 2-aminothiophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1S VRVRGVPWCUEOGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dichlorobenzidine Chemical compound C1=C(Cl)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(Cl)=C1 HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical group C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGWQCROGAHMWSU-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=CC(N)=C1 FGWQCROGAHMWSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVXYMCJCMDTSQA-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=CC(N)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC(N)=C1 DVXYMCJCMDTSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTNIESIXVLSODP-UHFFFAOYSA-N 3-[2-[2-[2-(3-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C(=CC=CC=2)C(C=2C(=CC=CC=2)OC=2C=C(N)C=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 VTNIESIXVLSODP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBPVOEHZEWAJKQ-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 LBPVOEHZEWAJKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQZOFDAHZVLQJO-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(OC=3C=CC(OC=4C=C(N)C=CC=4)=CC=3)=CC=2)=C1 NQZOFDAHZVLQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLROJJGKUKLCAE-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2-methylphenol Chemical compound CC1=C(N)C=CC=C1O FLROJJGKUKLCAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYYKXFEKMGYLZ-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical group C=1C=C2C(=O)OC(=O)C2=CC=1C1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O FYYYKXFEKMGYLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJOAIOIVLVUPST-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-methoxyphenyl)-3-methoxyaniline Chemical group COC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1OC YJOAIOIVLVUPST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C=C1 BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDFYRFKAYFZVNH-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 LDFYRFKAYFZVNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenyl]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical group FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJMQNPAEXWNWMD-UHFFFAOYSA-N 4-[9-(4-aminophenyl)-10h-anthracen-9-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1(C=2C=CC(N)=CC=2)C2=CC=CC=C2CC2=CC=CC=C21 WJMQNPAEXWNWMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVPYMOPAEUQRRP-UHFFFAOYSA-N 4-amino-N'-(4-aminophenyl)benzenecarboximidamide Chemical group NC1=CC=C(C(NC2=CC=C(C=C2)N)=N)C=C1 KVPYMOPAEUQRRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHWPTLPROWODBQ-UHFFFAOYSA-N 4-n-methoxybenzene-1,4-diamine Chemical group CONC1=CC=C(N)C=C1 IHWPTLPROWODBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000006873 Coates reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRSMWKLPSNHDHA-UHFFFAOYSA-N Naphthalic anhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=CC3=C1 GRSMWKLPSNHDHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 108010039918 Polylysine Proteins 0.000 description 1
- 206010036790 Productive cough Diseases 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- DMFGNRRURHSENX-UHFFFAOYSA-N beryllium copper Chemical compound [Be].[Cu] DMFGNRRURHSENX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFZULDYEOVSIKM-UHFFFAOYSA-N chembl321317 Chemical group C1=CC(C(=N)NO)=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)C(=N)NO)O1 SFZULDYEOVSIKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N ethyl methyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OC JBTWLSYIZRCDFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- LVWZTYCIRDMTEY-UHFFFAOYSA-N metamizole Chemical compound O=C1C(N(CS(O)(=O)=O)C)=C(C)N(C)N1C1=CC=CC=C1 LVWZTYCIRDMTEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- NSBIQPJIWUJBBX-UHFFFAOYSA-N n-methoxyaniline Chemical compound CONC1=CC=CC=C1 NSBIQPJIWUJBBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000656 polylysine Polymers 0.000 description 1
- 108010026466 polyproline Proteins 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 210000003802 sputum Anatomy 0.000 description 1
- 208000024794 sputum Diseases 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N tetradecanoic acid Chemical class CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010455 vermiculite Substances 0.000 description 1
- 229910052902 vermiculite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019354 vermiculite Nutrition 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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200815499 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於熱可塑性聚醯亞胺、使用該熱可塑性聚 醯亞胺之積層聚醯亞胺薄膜及其製法,以及使用該熱可塑 性聚醯亞胺之金屬箔積層聚醯亞胺薄膜。 【先前技術】 聚醯亞胺薄膜由於耐熱性及機械特性優良,可使用於 以電子機器爲首之廣泛產業領域。其中,聚醯亞胺薄膜與 金屬箔加熱壓合所得到之金屬箔積層聚醯亞胺薄膜較佳用 作撓曲性基板用材料。作爲聚醯亞胺薄膜與金屬箔加熱壓 合時之接著劑,一般可使用環氧系接著劑等熱硬化性樹脂 或熱可塑性聚醯亞胺。使用熱可塑性聚醯亞胺作爲接著劑 之金屬箔積層聚醯亞胺薄膜,由於耐熱性及彎曲性優良, 可被利用作爲高機能性金屬箔積層聚醯亞胺薄膜。 關於金屬箔積層聚醯亞胺薄膜,曾提出將從聯苯四羧 酸成分及芳香族二胺成分所得之聚醯亞胺薄膜與金屬箔加 熱壓合者(例如參照專利文獻1 )。又,提出藉由將做爲基體 之聚醯亞胺與熱可塑性聚醯亞胺進行多層押出,得到具有 熱熔著性之聚醯亞胺薄膜之方法(例如參照專利文獻 2 - 3)。然而,其中所示之熱可塑性聚醯亞胺,玻璃轉移溫 度高’當與金屬箔加熱壓合時,必須在高溫下長時間加熱 壓合。 爲解決此種問題,提出使用具有特定構造之聚醯亞胺 層之多層聚醯亞胺(例如參照專利文獻4)。爲了提高爲基體 200815499 之聚醯亞胺之斷裂伸長率,在360 °C以上之高溫進行熱處 理爲有效。然而,其中所示之具有特定構造之熱可塑性聚 醯亞胺易因高溫而劣化,若在高溫下熱處理,則與金屬箔 之接著力降低。因此,熱處理溫度限制在3 5 (TC以下。基 於此,先前公知之多層聚醯亞胺薄膜難以兼具高斷裂伸長 率及高接著力。 另一方面,爲基體之聚醯亞胺與熱熔著性聚醯亞胺進 行多層押出之方法,可得到在兩表面具有熱熔著性聚醯亞 胺之翹曲小之積層聚醯亞胺薄膜。然而,若只要得到在單 面具有熱熔著性聚醯亞胺之積層聚醯亞胺薄膜,有「翹曲 變大」之課題。關於將在單面具有熱熔著性聚醯亞胺層之 積層聚醯亞胺薄膜之翹曲降低之方法,曾提出將非熱熔著 性聚醯亞胺層積層在熱熔著性聚醯亞胺層之相反面而成之 積層聚醯亞胺薄膜。例如,提出使用比接著層之玻璃轉移 溫度高,具有60°C以上之玻璃轉移溫度之聚醯亞胺系樹 脂,作爲非接著性樹脂層使用(例如參照專利文獻5)。又, 提出使用在醯亞胺化促進劑共存下,藉由轉化聚醯胺酸而 得之聚醯亞胺樹脂作爲非接著性樹脂層之可撓性積層板 (例如參照專利文獻6)。 專利文獻1:美國專利第4411952號說明書 專利文獻2 :歐洲專利申請案公開第43〗63 6號說明書 專利文獻3 :美國專利第5262227號說明書 專利文獻4 :美國專利第5 7 4 1 5 9 8號說明書 專利文獻5:日本特開2000-96010號公報(第3至7頁) 200815499 專利文獻6:日本特開2005-186274號公報(第4至13頁) 【發明內容】 發明所欲解決之課顆 鑒於上述課題’本發明提供不易因熱而劣化,可藉由 短時間之加熱壓合而與金屬箔接著之熱可塑性聚醯亞胺, 並使用該熱可塑性聚醯亞胺,提供具有高斷裂伸長率而與 金屬范之接著力優良之積層聚酿亞胺薄膜。 解決課願所用之手段 本發明提供一種熱可塑性聚醯亞胺,其係具有四羧酸 二酐殘基及二胺殘基的熱可塑性聚醯亞胺,其包括:佔全 部四羧酸二酐殘基中8 0莫耳%以上的聯苯四羧酸二酐殘 基,佔全部二胺殘基中6 5莫耳%以上8 5莫耳%以下的4,4,-二胺基二苯基醚殘基,以及佔全部二胺殘基中1 5莫耳%以 上35旲耳%以下的對苯二胺殘基。 發明之效罢 若依照本發明,可得到不易因熱而劣化,玻璃轉移溫 度低且可藉由短時間之加熱壓合而與金屬箔接著之熱可塑 性聚醯亞胺。使用本發明之熱可塑性聚醯亞胺之積層聚醯 亞胺薄膜,由於可於3 6 0 °C以上之高溫進行熱處理,所以 具有高斷裂伸長率。 【實施方式】 本發明之熱可塑性聚醯亞胺,其係具有四羧酸二酐殘 基及二胺殘基的熱可塑性聚醯亞胺,其特徵爲包括:佔全 部四羧酸二酐殘基中80莫耳%以上的聯苯四羧酸二酐殘 200815499 基,佔全部二胺殘基中65莫耳%以上85莫耳%以 二胺基二苯基醚殘基,以及佔全部二胺殘基中1 上3 5莫耳%以下的對苯二胺殘基。以該特定比率 酸二酐殘基及二胺殘基之熱可塑性聚醯亞胺,由 玻璃轉移溫度低,於2 5 0〜2 6 0 °C之範圍,因此與 由短時間加熱壓合所產生之接著性提高。又,可 於3 60 °C以上處理亦不劣化之熱可塑性聚醯亞胺 使用本發明之熱可塑性聚醯亞胺之積層聚醯亞胺 使於3 60 °C以上之高溫進行熱處理,亦可藉由短 續加熱壓合而與金屬箔積層。 本發明之熱可塑性聚醯亞胺,在全部四羧酸 中聯苯四羧酸二酐殘基佔8 0莫耳%以上甚爲重要 四羧酸二酐殘基未達8 0莫耳%,則玻璃轉移溫度 得無法藉由短時間之連續加熱壓合與金屬箔積層 於若在高溫進行熱處理則劣化,即使與金屬箔加 亦得不到高接著力,因此無法兼具高膜特性及高 其中以90莫耳%以上爲較佳,以100莫耳%爲更 四羧酸二酐殘基爲 3,3’,4,4’_聯苯四羧酸二j 2,3,3’,4’-聯苯四羧酸二酐殘基、2,2’,3,3’-聯苯四 殘基。從可將熱可塑性聚醯亞胺之玻璃轉移溫度 整至較佳範圍而言,以使用3,3’,4,4’-聯苯四羧酸 爲較佳。 若未達20莫耳%,亦可具有苯均四酸二酐、 二苯基酮四羧酸二酐、2,3’,3,4’-二苯基酮四羧 下的4,4,-5莫耳%以 含有四殘 於特異地 金屬箔藉 得到即使 。因此, 薄膜,即 時間之連 二酐殘基 。若聯苯 變高,變 。又,由 熱壓合, 接著性。 佳。聯苯 酐殘基、 羧酸二酐 容易地調 二酐殘基 3,3,,4,4,-酸二酐、 200815499 2,2,,3,3,-二苯基酮四羧酸二酐、3,3,,454,-二苯基醚四竣酸 二酐、2,3,,3,4-二苯基醚四羧酸二酐、2,2,,3,3’_二苯基釀 四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基颯四羧酸二酐、2,3’,3,一 苯基颯四羧酸二酐、2,2,,3,3,-二苯基颯四羧酸二軒、 4,4,-(六氟亞異丙基)二苯二甲酸二酐等其他四竣酸二酌"之 殘基。 本發明之熱可塑性聚醯亞胺中,在全部二胺殘基中 4,4,-二胺基二苯基醚殘基佔65莫耳%以上85莫耳%以下’ 以及對苯二胺殘基佔15莫耳%以上35莫耳°/。以下甚爲重 要。若4,4,-二胺基二苯基醚殘基大於85莫耳% ’對苯二胺 殘基小於1 5莫耳%,則由於玻璃轉移溫度變高,無法藉由 短時間之加熱壓合與金屬箔接著。又,若4,4’-二胺基二苯 基醚殘基小於6 5莫耳%,對苯二胺殘基大於3 5莫耳%,由 於玻璃轉移溫度變高,無法藉由短時間之加熱壓合與金屬 箔接著。亦即,藉由使二胺殘基在上述範圍內,可特異性 地得到玻璃轉移溫度爲2 5 0 °C以上2 6 0 °C以下之熱可塑性 聚釀亞I女。4,4’- 一胺基一苯基酸殘基及對苯二胺殘基之合 §十里’雖爲全部一胺殘基中之80吴耳%以上,然而從更能 防止因熱造成之劣化之觀點而言,以i 〇 〇莫耳%爲更佳。 若未達20莫耳%,亦可含有其他二胺殘基。其他二胺 殘基可爲間苯二胺、2,5 -二胺基甲苯、2,4 -二胺基甲苯、2 甲氧基-1,4-苯二胺、3,4’-二胺基-N-苯甲醯苯胺 (benzanilide)、 3,3’-二胺基->1-苯甲醯苯胺、4,4,_二胺基_>^ 苯甲醯苯胺、2’-甲基-4,4’-二胺基-N-苯甲醯苯胺、2,_甲氧 200815499 基- 4,4’-二胺基-N-苯甲醯苯胺、聯苯胺、2,2,-二甲基-4,4,-二胺基聯苯、3,3’-二甲基-4,4、二胺基聯苯、2,2,-二甲氧 基-4,4’·二胺基聯苯、3,3’-二甲氧基_4,4’_二胺基聯苯、 2,2’-二(三氟甲基)-4,4’-二胺基聯苯、3,3,_二(三氟甲 基)-4,4’-二胺基聯苯、3,3’-二胺基二苯基醚、3,4、二胺基 二苯基醚、4,4’-二胺基二苯基礪、3,3’-二胺基二苯基颯、 3,4,-二胺基二苯基颯、4,4’-二胺基二苯基甲烷、3,3,_二胺 基二苯基甲烷、3,4’-二胺基二苯基甲烷、4,4,-二胺基二苯 ' 基酮、3,3、二胺基二苯基酮、3,4’-二胺基二苯基酮、4,4,- 二胺基二苯基硫醚、雙(4 -胺基苯基)丙院、2,2 -雙(3_胺 基苯基)丙烷、4,4’-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、2,2_雙[4_(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙 烷、2,2_雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]甲烷、2,2-雙[4-(3-胺基 苯氧基)苯基]甲烷、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]醚、雙[4_(3_ 胺基苯氧基)苯基]醚、1,4_雙(4_胺基苯氧基)苯、1,3_雙(4-胺基苯氧基)苯、1,4-雙(3-胺基苯氧基)苯、1,3_雙(3_胺基 w 苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]礪、雙[4-(3-胺基苯 氧基)苯基]碾I、2,2-雙[(4-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷、2,2_ 雙[(3-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷、2,2-雙(4-胺基苯基)六 氟丙烷、2,2-雙(3-胺基苯基)六氟丙烷、9,9-雙(4-胺基苯基) 蕗等殘基。 上述具有四羧酸二酐殘基及二胺殘基之本發明熱可塑 性聚醯亞胺,玻璃轉移溫度爲2 5 0 °C以上260 °C以下,且不 易因熱而劣化。藉由使用本發明之熱可塑性聚醯亞胺,即 -10- 200815499 使將積層聚醯亞胺薄膜以 3 6 0 °C以上之高溫處理,亦可維 持接著性。又,熱熔著性優良,可在低溫·短時間下,進 行與金屬箔之加熱壓合,適合於連續性加熱壓合。其中以 2 52 °C以上2 5 8 °C以下爲更佳。其中,玻璃轉移溫度係使用 差示掃描熱量計(DSC)進行測定。本發明中,使熱可塑性聚 醯亞胺升溫至3 5 0 °C,並冷卻至l〇〇°C後,以20°C/分鐘之 升溫速度升溫至4 5 0 °C時,從D S C曲線之反曲點,可求得 玻璃轉移溫度。 本發明之熱可塑性聚醯亞胺中,就全部四羧酸二酐殘 基與全部二胺殘基之莫耳比而言,相對於全部二胺殘基 1〇〇,全部四羧酸二酐殘基以100.1以上爲較佳,而以100.2 以上爲更佳,另一方面上限以105以下爲較佳,而以102 以下爲更佳。藉由使全部四羧酸二酐殘基之莫耳比成爲 1 〇〇 · 1以上,末端之殘基成爲四羧酸二酐殘基。若爲此種情 況’則玻璃轉移溫度變低,可得到接著力大之熱可塑性聚 醯亞胺。又,藉由使全部四羧酸二酐殘基成爲105以下, 可得到高分子量,且具有高拉伸彈性率及斷裂伸長率。 或者’以進一步具有單胺殘基亦爲較佳。末端以單胺 封阻之熱可塑性聚醯亞胺,玻璃轉移溫度變低,可得到接 著力大之熱可塑性聚醯亞胺。就全部單胺殘基與全部二胺 殘基之莫耳比而言,相對於全部二胺殘基1 〇 0,全部單胺 殘基以0.2以上爲較佳,以0.4以上爲更佳,另一方面,上 限以1 0以下爲較佳,以4以下爲更佳。又,就全部四羧酸 二酐殘基與全部二胺殘基之莫耳比而言,相對於全部二胺 -11- 200815499 殘基100,全部四羧酸二酐殘基以100.1以上爲較佳,以 100.2以上爲更佳,另一方面,上限以1〇5以下爲較佳,而 以102以下爲更佳。藉由使全部四羧酸二酐殘基之莫耳比 成爲10 0.1以上,全部單胺殘基成爲0.2以上,由於末端可 用單胺封阻,可得到接著力大之熱可塑性聚醯亞胺。藉由 使全部四羧酸二酐殘基成爲1 0 5以下,單胺成爲1 0以下, 可得到高分子量,且具有高拉伸彈性率及斷裂伸長率之熱 可塑性聚醯亞胺。因此,可得到具高拉伸彈性率、兼備斷 裂伸長率及接著力之熱可塑性聚醯亞胺。單胺之具體例, 如苯胺、甲苯胺、二甲基苯胺、甲氧苯胺、胺基酚、胺基 甲酚、胺基硫酚等。單胺可使用於熱可塑性聚醯亞胺之末 端封阻。 或者,亦以進一步具有二羧酸酐殘基爲較佳。末端以 二羧酸酐封阻之熱可塑性聚醯亞胺,玻璃轉移溫度亦變 低’可得到接著力大之熱可塑性聚醯亞胺。就全部二羧酸 殘基與全部二胺殘基之莫耳比而言,相對於全部二胺殘基 100 ’全部二羧酸殘基以0.2以上爲較佳,而以0.4以上爲 更佳’另一方面上限以10以下爲較佳,而以4以下爲更佳。 又’就全部四羧酸二酐殘基與全部二胺殘基之莫耳比而 言’相對於全部二胺殘基1 00,全部四羧酸二酐殘基以95 以上爲較佳,而以98以上爲更佳,另一方面上限以99.9 以下爲較佳,而以99.8以下爲更佳。藉由使全部四羧酸二 酐殘基成爲95以上,全部二羧酸酐殘基成爲1 〇以下,則 可得到高分子量,且具有高拉伸彈性率及斷裂伸長率之熱 -12- 200815499 可塑性聚醯亞胺。藉由使全部四羧酸二酐殘基成爲99· 9以 下,全部二羧酸酐殘基成爲0.2以上,由於可將末端用二 羧酸酐封閉,可得到接著力大之熱可塑性聚醯亞胺。因此, 可得到具高拉伸彈性率、兼備斷裂伸長率及接著力之熱可 塑性聚醯亞胺。二羧酸酐之具體例,如苯二甲酸酐、馬來 酸酐、1,8-萘二甲酸酐等。二羧酸酐可使用於熱可塑性聚 醯亞胺之末端封阻。 本發明之熱可塑性聚醯亞胺,可藉由例如將四羧酸二 酐及一胺’及視需要之單胺或二竣酸酐於有機溶劑中反應 所得到之聚醯亞胺前驅體清漆予以醯亞胺化而得到。爲聚 醯亞胺前驅體之聚醯胺酸之聚合方法,可爲例如將二胺與 四羧酸二酐以設定之莫耳比,在設定之溶劑中,於〇〜8(rc 之溫度範圍反應0.1〜72小時之方法。 關於有機溶劑,較佳使用例如N -甲基-2 -吡咯啶酮、 N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二甲基甲醯胺等醯胺系溶劑,γ_ 丁內酯等內酯系溶劑,乙二醇甲基醚等醚系溶劑,乳酸乙 酯等酯系溶劑爲較佳。又,除此之外,可使用甲苯、二甲 苯等烴系溶劑。 又,在聚醯亞胺前驅體清漆中可含有塡充劑、剝離性 調整劑、脫水劑、觸媒等添加劑。塡充劑可爲矽石、礬土、 氧化欽、石央粉、碳酸鎂、碳酸銘、硫酸鋇、雲母、滑石 等。剝離性調整劑可爲亞磷酸三苯酯、磷酸三苯酯等。關 於脫水劑,可列舉如乙酸酐之類的有機酸酐。關於觸媒, 可使用如三乙胺、吡U定、β -甲基吡Β定、異喹Β林、2 -甲基咪 200815499 唑之類的有機第三級胺。 從所得之聚醯亞胺前驅體清漆可製作單層之熱可塑性 聚醯亞胺薄膜。例如’將聚醯亞胺前驅體清漆押出至回轉 鼓或連續輸送帶等支撐體上,得到片狀物。藉由熱風乾燥 等從所得片狀物除去溶劑,形成自撐性膜而從支撐體上剝 離。只要在挾持所剝離之自撐性薄膜之兩側下,於玻璃轉 移溫度以上進行熱處理即可。 繼而,針對本發明之積層聚醯亞胺薄膜加以說明。本 發明之積層聚醯亞胺薄膜,係在高耐熱性聚醯亞胺層之至 少單面具有含有上述熱可塑性聚醯亞胺之熱熔著性聚醯亞 胺層。熱熔著性聚醯亞胺層可只在高耐熱性聚醯亞胺層之 單面,亦可在兩面。 在本發明中,所謂高耐熱性聚醯亞胺意指玻璃轉移溫 度在3 5 0 °C以上之聚醯亞胺。可較佳地使用具有下列殘基 之聚醯亞胺:以均苯四酸二酐及/或3,3’,4,4,-聯苯四羧酸 二酐殘基作爲四羧酸二酐殘基,且以選自對苯二胺殘基、 2,5-二胺基甲苯殘基、2·甲氧基-1,4-苯二胺殘基、4,4’-二 胺基苯甲醯苯胺殘基、2’-甲基-4,4’-二胺基苯甲醯苯胺殘 基、2’-甲氧基-4,4’-二胺基苯甲醯苯胺殘基、聯苯胺殘基、 2,2’-二甲基-4,4’-二胺基聯苯殘基、3,3’-二甲基_4,4’_二胺 基聯苯殘基、2,2’-二甲氧基_4,4’-二胺基聯苯殘基、3,3’-二甲氧基_4,4,-二胺基聯苯殘基、2,2’-二(三氟甲基)-4,4,-一胺基聯苯殘基、3,3’-二(二氟甲基)-4,4’- 一胺基聯苯殘基 及4,4’-二胺基二苯基醚殘基中之至少一種殘基作爲二胺 -14- 200815499 殘基之聚醯亞胺。又,關於高耐熱性聚醯亞胺薄膜,亦可 使用「Kapton」(註冊商標)(東麗杜邦股份有限公司製)、 「Upirex」(註冊商標)(宇部興產業股份有限公司製)或 「Apical」(註冊商標)(Kaneka公司製)等聚醯亞胺薄膜。 在本發明中,熱熔著性聚醯亞胺意指藉由25 0°C以上 5 00 °C以下之加熱具有熔著性之聚醯亞胺。由於具有熱熔著 性,可在2 5 0 °C以上5 0 0 °C以下之溫度與金屬箔加熱壓合。 在本發明之積層聚醯亞胺薄膜中,以在熱熔著性聚醯亞胺 層含有上述本發明之熱可塑性聚醯亞胺80重量%以上爲較 佳。在無損於本發明之目的之範圍內,亦可含有其他聚醯 亞胺、其他樹脂或塡充劑等添加劑。其他樹脂可爲丙烯酸 系樹脂、丁二烯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、 聚醯胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、環氧樹脂、酚系樹 脂等。塡充劑等添加劑,可使用舉出作爲聚醯亞胺前驅體 清漆之含有成分者。 在本發明之積層聚醯亞胺薄膜中,高耐熱性聚醯亞胺 層之厚度,從積層聚醯亞胺薄膜操作性之觀點而言,以2μιη 以上爲較佳,以5μιη以上爲更佳,以7μιη以上爲特佳。又, 以5 Ομιη以下爲較佳,以20 μηι以下爲更佳。熱熔著性聚醯 亞胺層之厚度,以0.2 μιη以上爲較佳,以0.5 μηι以上爲更 佳,以1 μηι以上爲特佳。又,以50μιη以下爲較佳,以1 2μπι 以下爲更佳,以ΙΟμηι以下爲特佳,以7μηι以下爲最佳。 使用本發明之熱可塑性聚醯亞胺得到之熱可塑性聚醯 亞胺薄膜或積層聚醯亞胺薄膜,以具有拉伸彈性率3GP a -15- 200815499 以上12GPa以下,斷裂伸長率40%之特性爲較佳。從操作 性之觀點而言,拉伸彈性率以4 G P a以上1 1 G P a以下爲較 佳,以5GPa以上l〇GPa以下爲更佳。具有此種拉伸彈性 率之聚醯亞胺薄膜,可藉由例如將本發明之熱熔著性聚醯 亞胺層及高耐熱性聚醯亞胺層積層而得到。又,斷裂伸長 率以5 0 %以上爲較佳。例如藉由將本發明之熱可塑性聚醯 亞胺層及高耐熱性聚醯亞胺層積層,可得到斷裂伸長率 50%以上之聚醯亞胺薄膜。 f ' 拉伸彈性率及斷裂伸長率,可依照ASTM-D 8 82規定之 方法使用拉伸試驗機進行測定。亦即,使用 Tensilon,將 寬lOmmx長100mm之短片,以拉伸速度2 0 0mm/分鐘拉伸, 並從拉伸應力-應變曲線(溫度23 °C,溼度65 %RH)算出。拉 伸彈性率係使用拉伸應力-應變曲線開始之直線部分,依照 下式計算。
Em=Aa/Ae
Em :拉伸彈性率 、, Ασ :直線上2點間原有之平均斷面積產生之應力差 Αε :相同2點間之應變之差 又,斷裂伸長率可藉由以下公式計算。
1= {(L-L〇)/L}xlOO 1 :斷裂伸長率 L :破斷時之標線間距離 L〇 :原有之標線間距離 只在高耐熱性聚醯亞胺層之單面具有熱熔著性聚醯亞 -16- 200815499 胺層之情況,以具有包含3層以上於3(TC〜200°C之熱線 性膨脹係數ac爲-5X10-6 (Ι/t)以上15X1(T6(1/°C)以下之 高耐熱性聚醯亞胺層(C)之聚醯亞胺層;其一側的最表層 (A)係包含本發明之熱可塑性聚醯亞胺之熱熔著性聚醯亞 胺層,另一側的最表層(B)係於3 0°C〜200 °C之熱線性膨脹 係數αΒ爲大於15X1(T6(1/°C)且在4〇xi(T6(W°C)以下之非 熱熔著性聚醯亞胺層者爲較佳。藉由將非熱熔著性聚醯亞 胺層設在與熱熔著性聚醯亞胺層相反側之最表層’可將保 護薄膜及加熱輥與未熱熔著的金屬箔加熱壓合。再者’在 本發明中,所謂非熱熔著性聚醯亞胺係指在250 °C以上 5 〇〇 °C以下加熱時不具熱熔著性的聚醯亞胺。 本發明中之聚醯亞胺層之熱線性膨脹係數’意指使用 熱機械性分析裝置,測定賦予4.9mN之荷重時各溫度下之 樣本長度而求得者。將長度15 mm之聚醯亞胺薄膜捲成圓 筒狀,首先,升溫至220 °C並退火(annealing),降溫至30°C 以下後,以5°C/分鐘從3 0°C升溫至200°C,求取30°C至 20 〇°C之平均熱線性膨脹係數。其計算式如以下所示。 熱線性膨脹係數 a = (l/L3G)x[(L2〇()-L3〇)/(200-3 0)] 其中,L3Q及L2G〇分別爲30°C及200°C時之樣本長度。 又,層(A)於3 0°C〜2 00°C之熱線性膨脹係數aA與層(B) 於3 0°C〜20 0°C之熱線性膨脹係數aB之差,以5xlO_6(l/°C ) 以下爲較佳。藉由使層(A)與層(B)於30°C〜200°C之熱線性 膨脹係數之差成爲5xl0_6(l/°C )以下,由於可使溫度變化所 造成之兩表面層之收縮成爲相同程度,可縮小翹曲。其中 -17- 200815499 以3xl(T6(l/°C)以下爲更佳,以2xl(T6(l/°C)以下爲特佳。 在本發明之積層醯亞胺薄膜中,熱熔著性聚醯亞胺層 (A)於30°C〜200°C之熱線性膨脹係數αΑ以4〇xl〇_6(l/°C) 以下爲較佳。以 3 8 X 1 0·6(1 /°C )以下爲更佳。又,以 3〇xl(T6(l/°C )以上爲較佳。藉由使層(A)之線性膨脹係數成 爲4〇xlO_6(l/°C)以下,則層(A)與層(B)之熱線性膨脹係數 之差更容易成爲5xl(T6(l/°C)以下。 層(A)爲含有上述本發明之熱可塑性聚醯亞胺之層,其 中層(A)以含有本發明之熱可塑性聚醯亞胺 80重量%以上 爲較佳。在無損於本發明目的之範圍內,亦可含有其他聚 醯亞胺、其他樹脂或剝離性調整劑、脫水劑、觸媒、塡充 劑等添加劑。關於其他樹脂,可列舉如丙烯酸系樹脂、丁 二烯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系 樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、環氧樹脂、酚系樹脂等。關 於剝離性調整劑、脫水劑、觸媒、塡充劑,可列舉與先前 所例示之可含於聚醯亞胺前驅體中之添加劑相同者。 由於層(B)爲非熱熔著性,當將積層聚醯亞胺薄膜與金 屬箔加熱壓合時,可防止與加熱輥或保護膜之熱熔著。由 於線性膨脹係數大之聚醯亞胺大致上較軟且呈現熱熔著 性,非熱熔著性聚醯亞胺層(B)於30 °C〜200 °C之線性膨脹 係數αΒ通常爲4〇xl(T6(l/°C)以下,而以38xl(T6(l/°C)以下 爲較佳。又,大於15xl(T6(l/°C)以上,而以3〇xl〇_6(l/°C) 以上爲較佳。 層(B)以均苯四酸二酐殘基在全部四羧酸二酐殘基中 -18- 200815499 佔8 0莫耳%以上,4,4 5 -二胺基二苯基醚殘基在全部二胺殘 基中佔40莫耳%以上100莫耳%以下,且對苯二胺殘基在 全部二胺殘基中佔0莫耳%以上60莫耳%以下之聚醯亞胺 爲較佳。藉由含有該組成之聚醯亞胺,可使於3 0 °C〜2 0 0 °C 之熱線性膨脹係數ab成爲4 0 X 1 〇·6(1 /它)以下,層(B)之熱 線性膨脹係數αΒ與層(A)之熱線性膨脹係數cxa之差成爲 5 X 1 0 _6 (1 / °C )以下。因此,可容易地得到翹曲小之積層聚醯 亞胺薄膜。 上述組成之聚醯亞胺,以在層(B)中含有8 0重量%以上 爲較佳。在無損於本發明目的之範圍內,亦可含有其他聚 醯亞胺、其他樹脂或剝離性調整劑、脫水劑、觸媒、塡充 劑等添加劑。關於其他樹脂、剝離性調整劑、脫水劑、觸 媒、塡充劑等添加劑,可列舉與先前在層(A)所例示者相同 之添加劑。 本發明中,積層聚醯亞胺薄膜之翹曲,意指將積層聚 醯亞胺薄膜切成lOOmmxlOOmm,於25°C,40〜60%RH之 條件下靜置在平坦金屬板上24小時,四角浮起之高度之合 計値。翹曲以l〇mm以下爲較佳,而以4mm以下爲更佳。 高耐熱性聚醯亞胺層(C),於30°C〜200°C之熱線性膨 脹係數〇^爲-5<1〇-6(1/°(:)以上15\1〇-6(1/°(:)以下。藉由設 置具有此範圍之熱線性膨脹係數之層(C),易將積層聚醯亞 胺薄膜整體之熱線性膨脹係數調整爲)以上 25xl(T6(l/°C )以下。藉此,由於與金屬箔(尤其銅箔)之熱線 性膨脹係數之差變小,所得金屬箔積層聚醯亞胺薄膜之翹 -19- 200815499 曲變得更小。爲了得到此種聚醯亞胺層(c),較佳使用含有 在全部四羧酸二酐殘基中佔5 0莫耳%以上之均苯四酸二酐 與3,3’,4,4’-聯苯四羧酸二酐殘基中之至少一者,以及含有 在全部二胺殘基中佔5 0莫耳%以上之選自對苯二胺、2,5 -二胺基甲苯、2-甲氧基-1,4-苯二胺、4,4,-二胺基苯甲醯苯 胺、2、甲基-4,4’-二胺基苯甲醯苯胺、2、甲氧基- 4,4,-二胺 基苯甲醯苯胺、聯苯胺(benzidine)、2,2,-二甲基·4,4,_二胺 基聯苯、3,3,-二甲基-4,4,-二胺基聯苯、2,2,-二甲氧基 -4,4’-二胺基聯苯、3,3’-二甲氧基-4,4,-二胺基聯苯、2,2、 二(三氟甲基)-4,4,-二胺基聯苯、3,3,-二(三氟甲基)-4,4、 二胺基聯苯中之至少一種之聚醯亞胺。 上述組成之聚醯亞胺,以在層(C)中佔8 0重量%以上爲 較佳。在無損於本發明目的之範圍內,亦可含有其他聚驢 亞胺、其他樹脂或剝離性調整劑、脫水劑、觸媒、塡充劑 等添加劑。其他樹脂、剝離性調整劑、脫水劑、觸媒、塡 充劑等添加劑,可列舉與先前在層(Α)中所例示者相同。 上述層(Α)、層(Β)及層(C)中所使用之聚驢亞胺,可與 上述熱可塑性聚醯亞胺同樣地得到。又,與上述熱可塑性 聚醯亞胺同樣地,可製作單層之聚醯亞胺薄膜。 在本發明之積層聚醯亞胺薄膜中具有非熱熔著性聚醯 亞胺層(Β)時,層(Β)之厚度以0·2μηι以上爲較佳,而以 〇·5μηι以上爲更佳,以Ιμιη以上爲特佳;又以Ι2μηι以下 爲較佳,以ΙΟμιη以下爲更佳,以7μιη以下爲特佳。爲將 積層聚醯亞胺薄膜之翹曲更爲降低,層(Α)與層(Β)之厚度 -20 - 200815499 比以2/1〜1/2爲較佳。 繼而,對於本發明之積層聚醯亞胺薄膜之製法加以說 明。 例如,藉由將形成熱熔著性聚醯亞胺層之聚醯亞胺前 驅體清漆(varnish)塗布於「Kapton」(註冊商標)(東麗杜邦 股份公司製)、「Upirex」(註冊商標)(宇部興業股份公司 製)、「Apical」(註冊商標)(Kaneka公司製)等玻璃轉移溫度 在3 5 0 °C以上之高耐熱性聚醯亞胺薄膜上,可得到積層聚 醯亞胺薄膜。具體而言,可爲利用棒塗布機、輥塗布機、 逗點型塗布機(comma coate 〇、模頭塗布機、凹輪塗布機、 刀塗布機等,將聚醯亞胺前驅體清漆塗布於高耐熱性聚醯 亞胺薄膜上,藉由熱風乾燥等除去溶劑,在熱可塑性聚醯 亞胺之玻璃轉移溫度以上進行熱處理之方法。藉由此方 法,可在高耐熱性聚醯亞胺薄膜之單面或雙面形成熱熔著 性聚醯亞胺層。 又,藉由在高耐熱性聚醯亞胺薄膜之一面形成熱熔著 性聚醯亞胺層,在另一面塗布形成非熱熔著性聚醯亞胺層 之聚醯亞胺前驅體清漆,可得到積層聚醯亞胺薄膜。在兩 表面形成聚醯亞胺層時,可在兩表面同時形成,亦可依順 序進行積層。 又,藉由將形成熱熔著性聚醯亞胺層之聚醯亞胺前驅 體清漆,與形成高耐熱性聚醯亞胺層之聚醯亞胺前驅體清 漆共押出(co-extrution),亦可得到積層聚醯亞胺薄膜。爲 在聚醯亞胺層間不造成剝離,以使用藉由共押出得到積層 -21 - 200815499 聚醯亞胺之方法爲較佳。關於此種積層聚醯亞胺薄膜之製 造方法,可列舉如包含:(1 )至少將高耐熱性聚醯亞胺前驅體 溶液與熱可塑性聚醯亞胺前驅體溶液共押出之步驟,及(2) 在360 °C以上之高溫進行熱處理之步驟之積層聚醯亞胺薄 膜之製法。在設置非熱可塑性聚醯亞胺層之情形,在(1)之 步驟中可將非熱可塑性聚醯亞胺前驅體溶液共押出。具體 而言,使用2台或3台押出機,將從不同管路輸出之聚醯 亞胺前驅體清漆,使用多歧管(multi-manifold)或送料器 (feed block)等,以多層方式積層在連續式輸送帶(endless belt)或鼓等支撐體上押出,得到片狀物。藉由熱風乾燥除 去溶劑得到自撐性薄膜後,從支撐體剝離,在挾持自撐性 薄膜兩側下,於3 60 °C以上之溫度進行熱處理.。此時,爲 增大高耐熱性聚醯亞胺層之斷裂伸長率,以於3 6 0 °C以上 進行熱處理爲較佳,而以於3 8 0 °C以上進行爲更佳。 在高耐熱性聚醯亞胺層之兩面形成熱熔著性聚醯亞胺 層時,以成爲熱熔著性聚醯亞胺層/高耐熱性聚醯亞胺層/ 熱熔著性聚醯亞胺層之方式共押出。又,在高耐熱性聚醯 亞胺層之一面形成熱熔著性聚醯亞胺層,又在另一面形成 非熱熔著性聚醯亞胺層時,以成爲熱熔著性聚醯亞胺層/高 耐熱性聚醯亞胺層/非熱熔著性聚醯亞胺層之方式共押出。 繼而,對於本發明之金屬箔積層聚醯亞胺薄膜加以說 明。本發明之金屬箔積層聚醯亞胺薄膜係在上述本發明之 積層聚醯亞胺薄膜之單面或雙面具有金屬箔。 關於金屬箔,可列舉鋁箔、不銹鋼箔、銅箔等。在可 -22- 200815499 撓性基板中,以利用銅箔爲較佳,雖可依照目的而利用電 解銅箔或壓延銅箔,然而在本發明中可利用任何一種。爲 提高與熱可塑性聚醯亞胺層之密著性,銅箔以將接著面側 進行粗化處理爲較佳。另一方面,爲能對應精細間距及提 高透明性,亦可不將銅箔進行粗化處理。在本發明中可利 用任何一種。銅箔亦可視需要進行防銹處理。防銹處理一 般係藉由在銅箔表面形成鎳、鋅、鉻化合物等薄膜層而進 行。又,爲使與熱可塑性聚醯亞胺層之密著性提高,銅箔 表面亦可用矽烷偶合劑處理。金屬箔之厚度,以使用1 μπ1 以上50μηι以下者爲較佳。 金屬箔積層聚醯亞胺薄膜,可藉由將積層聚醯亞胺薄 膜與金屬箔加熱壓合而得到。加熱壓合可使用熱壓機、加 熱輥貼合機(roll laminator),然而從生產性之觀點而言, 以加熱輥貼合機爲較佳。 就加熱輥貼合機而言,較佳使用下述條件:輥溫度3 〇 〇 〜500 °C,輥夾合壓力爲線壓0.5〜200N/mm,輸送速度 〜5 0m/分鐘。積層時爲防止金屬箔氧化,以在氮氣環境下 或真空中進行積層爲較佳。又,亦可用聚醯亞胺薄膜等_ 熱性薄膜、不銹鋼箔、鋁箔等做爲保護薄膜,夾雜&力口 _ 輥與金屬箔之間。所得之金屬箔積層聚醯亞胺薄0莫、# s 箔及聚醯亞胺薄膜之接著力若爲lON/cm以上,在實用上即 可充分耐用,可有效地使用做爲可撓性基板用材料。φ 以12N/cm以上爲更佳,以13N/cm以上爲特佳。 又,只在耐熱性聚醯亞胺層之單面具有金屬fg日#,g -23- 200815499 在未加熱壓合金屬箔之一面具有非耐熱性聚醯亞胺層’則 由於與加熱輥或居間之耐熱性薄膜或金屬箔不密合’容易 剝離。又,可得到翹曲小之金屬箔積層聚醯亞胺薄膜。 金屬箔積層聚醯亞胺薄膜及將金屬箔積層聚醯亞胺薄 膜之金屬箔全面蝕刻而成之積層聚醯亞胺薄膜之翹曲’可 用與積層聚醯亞胺薄膜同樣方式測定。任何一種之翹曲均 以10mm以下爲較佳,而以4mm以下爲更佳。 實施例 ( 以下舉出實施例說明本發明,然而本發明並不限定於 此等實施例。玻璃轉移溫度、接著力、拉伸彈性率及斷裂 伸長率之評價方法如下述。 (1) 玻璃轉移溫度 將聚醯亞胺薄膜約5mg裝入鋁製標準容器中,藉由 D S C法測定玻璃轉移溫度。測定裝置係使用示差掃描熱量 計DSC-50(島津製作所股份公司製),升溫至35(rc後,冷 卻至100°C,以20°C/分鐘之升溫速度升溫至45(rc,從得 I 到之DSC曲線之反曲點,求取玻璃轉移溫度。 (2) 接著力 將金屬箔積層聚醯亞胺薄膜之金屬箔用氯化鐵溶液触 刻,形成2mm寬之圖案。將該2mm寬之金屬層用「Tensil〇n」 UTM-4-100 (TOYO BOLDWIN股份公司製),以拉伸速度 50mm/分鐘,剝離角度90°進行剝離,測定接著力。 (3) 拉伸彈性率、斷裂伸長率 依照ASTM-D 8 8 2規定之方法,使用拉伸試驗機於下列 -24- 200815499 條件進行測定。
測定裝置:Orientech 公司製「Tensilon AMF/RTA - 1 00」 試料大小:寬l〇mmx長100mm 拉伸速度:200mm /分鐘 測定環境:溫度23°C,溼度65%RH 拉伸彈性率係使用拉伸應力-應變曲線開始之直線部 分,依照下式計算。
Em=Ao/As
Em :拉伸彈性率 △σ :直線上2點間原有之平均剖面積所產生之應力差 △ε :相同2點間之應變之差 斷裂伸長率可藉由以下公式計算。 1= {(L-L〇)/L}xlOO 1 :斷裂伸長率 L :斷裂時之標線間距離 L〇 :原有之標線間距離 (4)熱線性膨脹係數 將聚醯亞胺薄膜切成30mmxl5mm,沿長度方向捲成[JJ 筒狀,製作樣本。將該樣本使用熱機械性分析裝置 88-6100(精工儀器股份公司製),測定賦予4.9!111^荷重時於 各溫度之樣本長度而求得。首先,升溫至220。(:並退火, 降溫至3 0 °C以下後,從3 0 °C至2 0 0 °C爲止,以5 °C /分鐘之 速度升溫’求取從3 0 °C至2 0 0 r爲止之平均熱線性膨脹係 數。計算式如以下所示。 -25 - 200815499 熱線性膨脹係數 cx = (l/L3G) x[(L2〇<)-L3 G)/(2 00-3 0)] 其中,L3〇及L2〇〇分別爲30°C及200°C時之樣本長度。 (5)翹曲 將積層聚醯亞胺薄膜切成l〇〇mm XI 00mm後,於25 °C, 40〜60%RH之條件下放置24小時後,在平坦金屬板上靜 置,測定四角翹曲之高度,以其合計値作爲積層聚醯亞胺 薄膜之翹曲(翹曲1)。又,將在單面加熱壓合金屬箔所得之 金屬箔積層聚醯亞胺薄膜,同樣地切成l〇〇mm xl 00mm,於 ' 25°C,40〜60%RH之條件下放置24小時後,靜置在平坦 金屬板上,測定四角翹曲之高度,以其合計値做爲金屬箔 積層聚醯亞胺薄膜之翹曲(翹曲2)。又,將金屬箔積層聚醯 亞胺薄膜之銅箔於氯化鐵溶液中全面蝕刻,同樣地切成 lOOmmxlOOmm,並於25°C,40〜60 % RH之條件下放置24 小時後,在平坦金屬板上靜置,測定四角翹曲之高度,以 其合計値作爲銅蝕刻後之翹曲(翹曲3 )。再者,當將積層聚 醯亞胺薄膜之層(A)側及金屬箔積層聚醯亞胺薄膜之銅箔 " 側成爲內側而翹曲時,測定値記爲^ 向相反側翹曲時, 測定値記爲「-」。 以下之製造例中所示之四羧酸二酐、二胺、單胺、二 羧酸酐、溶劑之簡稱如以下所示。表1顯示所製造之聚醯 胺酸之組成。 sBPDA : 3,3’,4,4,-聯苯四羧酸二酐 aBPDA: 2,3,3’,4,-耳節苯四殘酸二酐 PMDA :均苯四酸二酐(pyromellitic acid) -26- 200815499 BTDA: 3,3’,4,4,-二苯基酮四殘酸二酐 ODPA : 3,3’,4,4’-氧二苯二甲酸二酐 DAE : 4,4’-二胺基二苯基醚 PDA :對苯二胺 TPE-R : 1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯 BAPS:雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]颯 m-TB: 2,2’-二甲基-4,4’-二胺基聯苯
SiDA : 1,1,3,3-四甲基-1,3-雙(3-胺基甲基)二矽氧烷 PA :苯二甲酸酐 AN :苯胺 NMP : N-甲基-2-吡咯啶酮 製造例1 在具備溫度計、乾燥氮氣導入口、藉由溫水及冷水進 行加熱冷卻之裝置、及攪拌裝置之反應釜中,添加PDA 2.70kg、DAE 15.02kg、NMP 120kg 並於 30 °C 攪拌使其完全 溶解。繼而,於 30 °C 添力口 sBPDA 29.72kg、NMP 69.75kg。 於6 0 °C反應 4小時,得到 2 0重量%之聚醯胺酸清漆1 (PAA 1 )。將其醯亞胺化所成之熱可塑性聚醯亞胺之玻璃轉 移溫度爲 25 3 °C ,於 30°C〜20(TC之熱線性膨脹係數爲 3 4 X 1 0 ·6 (1 / 〇c ) 〇 製造例2 在具備溫度計、乾燥氮氣導入口、藉由溫水及冷水進 行加熱冷卻之裝置、及攪拌裝置之反應釜中,添加pda 2.70kg、DAE l5.〇2kg、NMP 120kg 並於 30 °C 攪拌使其等完 -27- 200815499 全溶解。繼而,於 30°C 添加 sBPDA29.13kg、NMP60kg。 於60°C反應4小時後,冷卻至30°C,添力口 PA 0.30kg、NMP 8.60kg,再於60 〇C反應2小時,得到20重量%之聚醯胺酸 清漆2(PAA2)。將其醯亞胺化之熱可塑性聚醯亞胺之玻璃 轉移溫度爲2 5 3 °C,於3 0 °C〜2 0 0 °C之熱線性膨脹係數爲 3 4 X 1 (Γ6 (1 /。。)。 製造例3 在具備溫度計、乾燥氮氣導入口、藉由溫水及冷水進 行加熱冷卻之裝置及攪拌裝置之反應釜中,添加 pda 2.70kg、DAE 15.02kg、NMP 120kg 並於 30 °C 攪拌使該等完 全溶解。繼而,於 30 °C 添力口 sBPDA 29.72kg、NMP 60kg。 於60°C反應4小時後,冷卻至30°C,添力D AN 0.19kg、NMP 10,50kg,再於60°C反應2小時,得到20重量%之聚醯胺 酸清漆3 (PAA3)。其醯亞胺化所得之熱可塑性聚醯亞胺之 玻璃轉移溫度爲2 5 3 °C,於30°C〜200°C之熱線性膨脹係數 爲 34x1(T6(1/°C )。 製造例4〜2 6 與實施例1同樣地,添加表1〜2記載之二胺及四羧酸 二酐,得到聚醯胺酸清漆4〜26(PAA4〜PAA26)。其醯亞胺 化所得之聚醯亞胺之玻璃轉移溫度,及於3 0 °C〜2 0 0 °C之 熱線性膨脹係數如表1〜2所示。 -28- 200815499 熱線性膨脹 係數 (χ10*6(1/°Ο) 寸 m m m r—Η Os (N ON (N m m ON m 玻璃轉移 溫度 ΓΟ 253 253 253 260 258 258 263 263 280 275 240 259 262 251 244 NMP 189.75 188.60 190.50 188.58 | 192.70 1 | 187.17 1 | 194.54 | 181.00 198.96 | 180.56 | 235.80 186.71 | 182.14 | 195.28 1 206.33 AN <N 0.19 (N 0.30 SiDA m-TB BAPS TPE-R o 29.23 o | 2.92 | o m 8.77 PDA in (N 2.70 <N 2.70 <N 2.70 CN 2.70 卜 (N m 3.46 (N o m 卜 m 4.00 o 丨 5.41 1 <N | 2.70 1 in (N | 2.70 | o <N 2.16 O 1.08 DAE r- 15.02 I 15.02 ^T) 卜 1 15.02 I jn | 15.02 1 m oo | 16.62 1 00 VO 1 13.62 | 00 00 17.62 1 m VO 1 12.62 | 1—刚-_1 20.02 〇 10.01 JO 15.02 卜 15.02 〇 14.02 § 12.01 ODPA BTDA PMDA o r—^ 2.18 <N 5.45 aBPDA 〇 29.72 sBPDA 〇 29.72 ON ON 29.13 1 ιοί 1 | 29.72 | On OS 29.13 〇 Γ29.721 o ϊ—H 29.72 o 29.72 r—^ 〇 1 29.72 1 Τ-Ή 29.72 〇 r-H 29.72 On 26.77 v〇 卜 | 22.36 | r1^ 1—( 29.72 f-H o 29.72 ? « ίί m Ϊ /—s W « n 8 /^S JJ W* M /^S *1 m i ΛΛ W M iM m 8 ΔΛ 时 « ίί n ϊ /—N W M /--s ίϋ 腾 1莫耳比(%) iW n i 莫耳比(%) M I /—N δ -LJ w M _ m 3 y^N JJ -u 时 M ίί m s ΛΛ w M bX) ίί m s Λ3 W M ίί n Ϊ % w M s •1 n Ϊ w M N _ m ϊ |莫耳比(%) | ίί η i 清漆 PAA1 PAA2 PAA3 PAA4 PAA5 PAA6 PAA7 PAA8 PAA9 PAA10 PAAll PAA12 PAA13 PAA14 PAA15 200815499 熱線性膨脹 係數 (xl〇-6(l/°C)) o S 卜 (N (N 00 m <N m 00 (N 玻璃轉移 溫度(°c) 1 190 210 200 1 1 1 260 248 260 扁 NMP 147.06 222.64 291.88 211.44 167.08 160.56 171.92 185.16 191.36 189.75 152.32 AN SiDA § 22.36 o 17.4 m-TB 100 21.23 BAPS o 43.25 TPE-R PDA 00 o OO 〇 r—( 3.24 100 10.81 (N 2.70 (N -2.70 <N 2.70 o 寸 4.32 DAE (N 5.01 100 20.02 15.02 15.02 in 卜 15.02 § 12.01 ODPA in (N 7.76 BTDA 100 32.22 100 32.22 PMDA 74.7 16.29 99.7 21.75 99.7 21.75 3.27 99.7 21.75 aBPDA i-H o 29.72 sBPDA (N 7.36 〇 29.72 99.7 29.33 VO OO 25.3 22.36 1莫耳比(%) 1 添加量(kg) 莫耳比(%) 添加量(kg) 1莫耳比(%) 1 添加量(kg) 莫耳比(%) 添加量(kg) 1莫耳比(%) 1 添加量(kg) 莫耳比(%) 添加量(kg) 1莫耳比(%) 1 添加量(kg) 1莫耳比(%) 1 添加量(kg) 1莫耳比(%) 1 添加量(kg) 1莫耳比(%) 1 添加量(kg) 莫耳比(%) 添加量(kg) 清漆 PAA16 PAA17 PAA18 PAA19 PAA20 PAA21 PAA22 PAA23 PAA24 PAA25 PAA26 200815499 實施例1 分別將PAA1及PAA16之黏度調製成300Pa · s後,將 該等分別從押出機輸出,使用送料器(feed block),以形成 ΡΑΑ1(3 0μιη)/ΡΑΑ16(9 0μιη)/ΡΑΑ1(3 0μΓη)之積層體之方式押 出至連續式輸送帶(endless belt)上,得到3層之聚醯胺酸 之片狀物。將其用熱風乾燥,形成自撐性薄膜,將其從連 續式輸送帶上剝離,繼而用針挾持兩側,同時從2 0 0 °C慢慢 升溫至4 0 0 °C,除去溶劑,同時進行醯亞胺化,得到積層聚 醯亞胺薄膜。所得聚醯亞胺薄膜,兩側之熱可塑性聚醯亞 胺層爲3μιη,高耐熱性聚醯亞胺層爲9μιη,總厚度爲15μιη。 所得積層聚醯亞胺薄膜之拉伸彈性率爲5 · 1 GP a,斷裂伸長 率爲6 0 %。 在所得積層聚醯亞胺薄膜之兩面,將厚度12 μηι之壓 延銅箔ΒΗΥ(日鑛材料股份有限公司製),用加熱輥貼合 機,在輥溫度3 5 0°C及輥壓合壓力50N/mm下,以2m/分鐘 之輸送速度連續地加熱壓合,得到金屬箔積層聚醯亞胺薄 膜。此時,銅箔與加熱輥之間夾有聚醯亞胺薄膜「Kapton」 5 00H(東麗杜邦股份公司製)。此時,銅箔與積層聚醯亞胺 薄膜之接著力爲15N/cm。 實施例2〜1 0 除使用PAA2〜6、12、14、23、25代替PAA1之外, 以與實施例1同樣之方式,得到積層聚醯亞胺薄膜。所得 積層聚醯亞胺薄膜之拉伸彈性率及斷裂伸長率如表3所 示。又,以與實施例1同樣之方式,得到金屬箔積層聚醯 200815499 亞胺薄膜。此時之銅箔與積層聚醯亞胺薄膜之 3所示。 比較例1〜8 除使用 PAA7〜11、13、15、24 代替 PAA1 實施例1同樣之方式得到積層聚醯亞胺薄膜。 醯亞胺薄膜之拉伸彈性率及斷裂伸長率如表3 以與實施例1同樣之方式,得到金屬箔積層: 膜。此時之銅箔與積層聚醯亞胺薄膜之接著力如 實施例1 1 只將PA A 1從押出機押出,在連續式輸送 度1 5 0 μπι之聚醯胺酸清漆1之片狀物。將其用 形成自撐性薄膜,將其從連續式輸送帶上剝離 針挾持其兩側,同時從20(TC慢慢升溫至3 00°C, 同時進行醯亞胺化,得到熱可塑性聚醯亞胺薄 可塑性聚醯亞胺薄膜之厚度爲1 5 μιη。所得熱可 胺薄膜之拉伸彈性率爲3 . 1 GPa,斷裂伸長率爲 在所得熱可塑性聚醯亞胺薄膜之兩面,將 之壓延銅箔BHY(日鑛材料股份有限公司製), 合機,在輥溫度3 5 0 °C及輥壓合壓力50N/mm下 鐘之輸送速度連續地加熱壓合,得到金屬箔積 薄膜。此時,銅箔與加熱輥之間夾有聚醯亞胺薄 5〇〇H(東麗杜邦股份公司製)。此時’銅箔與熱 亞胺薄膜之接著力爲15N/cm。 實施例1 2 接著力如表 之外,以與 所得積層聚 所示。又, 聚醯亞胺薄 1表3所示。 帶上得到厚 熱風乾燥, ,繼而,用 除去溶劑, 膜。所得熱 塑性聚醯亞 8 0%。 厚度 1 2 μιη 用加熱輥貼 ,以2 m /分 層聚醯亞胺 膜「Kapton」 可塑性聚醯 -32- 200815499 將PAA1調製成黏度IPa · s後,藉由凹輪塗布法將其 塗布在聚醯亞胺薄膜「Kapton」50EN上。將其從160°C慢 慢升溫至3 00 °C,除去溶劑,同時進行醯亞胺化,得到在單 面積層有3 μιη熱可塑性聚醯亞胺之聚醯亞胺薄膜。繼而, 在相反面同樣地塗布ΡΑΑ1,得到兩面均積層有3μπι熱可 塑性聚醯亞胺之積層聚醯亞胺薄膜。所得積層聚醯亞胺薄 膜之拉伸彈性率爲5.1 GPa,斷裂伸長率爲50%。 在所得積層聚醯亞胺薄膜之兩面,將厚度12 μπι之壓 延銅箔ΒΗΥ(日鑛材料股份有限公司製),用加熱輥貼合 機,在輥溫度3 5 0 °C、輥壓合壓力50N/mm下,以2m/分鐘 之輸送速度連續地加熱壓合,得到金屬箔積層聚醯亞胺薄 膜。此時,銅箔與加熱輥之間夾有聚醯亞胺薄膜「Kapton」 5 00H(東麗杜邦股份公司製)。此時,銅箔與積層聚醯亞胺 薄膜間之接著力爲lON/cm,在耐熱性聚醯亞胺薄膜與熱可 塑性聚醯亞胺層之間剝離。 比較例9 分別將PAA1 1及PAA1 6之黏度調製成3 00Pa · s後, 將其等分別從押出機輸出,使用送料器(feed block),以形 成 ΡΑΑ11(30μπι)/聚 ΡΑΑ16(90μιη)/ΡΑΑ11(30μηι)之積層體之 方式,押出至連續式輸送帶(endless belt)上,得到3層之 聚醯胺酸之片狀物。將其用熱風乾燥,形成自撐性薄膜, 將其從連續式輸送帶上剝離,繼而,用針挾持兩側,同時 從2 0 0 °C慢慢升溫至3 2 0 °C,除去溶劑,同時進行醯亞胺化, 得到積層聚醯亞胺薄膜。所得聚醯亞胺薄膜在兩側之熱可 塑性聚醯亞胺層爲3 μπι,高耐熱性聚醯亞胺層爲9 μιη,總 -33- 200815499 厚度爲1 5 μιη。所得積層聚醯亞胺薄膜之拉伸彈性率爲 4.5GPa,斷裂伸長率爲20%。 在所得積層聚醯亞胺薄膜之兩面,將厚度12μιη之壓 延銅箔ΒΗΥ(日鑛材料股份公司製),用力[]熱輥貼合機,在 輥溫度3 5 0 °C及輥壓合壓力50N/mm下,以2m/分鐘之輸送 速度連續地加熱壓合,得到金屬箔積層聚醯亞胺薄膜。此 時,銅箔與加熱輥之間夾有聚醯亞胺薄膜「Kapt on」5 00 Η (東 麗杜邦股份公司製)。此時,銅箔與積層聚醯亞胺薄膜之接 著力爲1 5N/cm。 [表3] 熱可塑性聚醯亞胺 高耐熱性聚醯亞胺 拉伸彈性率 (GPa) 斷裂伸長率 (%) 與銅箔之接著力 (N/cm) 實施例1 PAA1 PAA16 5.1 60 15 實施例2 PAA2 PAA16 5.1 60 15 實施例3 PAA3 PAA16 5.1 60 15 實施例4 PAA4 PAA16 5.1 60 10 實施例5 PAA5 PAA16 5.2 60 15 實施例6 PAA6 PAA16 5.0 70 15 實施例7 PAA12 PAA16 5.2 50 12 實施例8 PAA14 PAA16 5.0 60 11 實施例9 PAA23 PAA16 5.1 50 10 實施例10 PAA25 PAA16 5.1 60 10 實施例11 PAA1 3.1 80 15 實施例12 PAA1 「Kapton」EN 5.1 50 10 比較例1 PAA7 PAA16 5.2 60 3 比較例2 PAA8 PAA16 5.0 70 3 比較例3 PAA9 PAA16 5.0 60 1 比較例4 PAA10 PAA16 5.0 60 1 比較例5 PAA11 PAA16 4.5 20 3 比較例6 PAA13 PAA16 5.3 40 1 比較例7 PAA15 PAA16 4.7 30 3 比較例8 PAA24 PAA16 4.3 30 7 比較例9 PAA11 PAA16 4.5 20 15 -34- 200815499 實施例1 3 分別將 PAA1(層(A))、PAA21(層(C))及 PAA20(層(B)) 之黏度調製成30 OPa · s後,將其各個分別從押出機輸出, 使用送料器(feed block),以形成 ΡΑΑ1(30μιη)/ΡΑΑ21 (9 0μηι)/ΡΑΑ2 0(3 0 μΓη)之積層體之方式押出至連續式輸送帶 上,得到3層之聚醯胺酸之片狀物。將其用熱風乾燥,形 成自撐性薄膜,將其從連續式輸送帶上剝離,繼而,用針 挾持兩側,同時從2 0 0 °C慢慢升溫至4 0 0 °C,除去溶劑,同 時進行醯亞胺化,得到積層聚醯亞胺薄膜。所得聚醯亞胺 薄膜中,熱熔著性聚醯亞胺層(A)爲3 μηι,高耐熱性聚醯 亞胺層(C)爲9μηι,非熱熔著性聚醯亞胺層(Β)爲3μιη,總 厚度爲15 μπι。積層聚醯亞胺薄膜之翹曲(翹曲1)爲0mm。 在得到之積層聚醯亞胺薄膜之熱熔著性聚醯亞胺層 (A)側,將厚度12μιη之壓延銅箔BHY(日鑛材料股份公司 製),用加熱輥貼合機,在輥溫度 3 5 0 °C及輥壓合壓力 5 ON/mm下,以2m/分鐘之輸送速度連續地加熱壓合,得到 金屬箔積層聚醯亞胺薄膜。此時,銅箔與加熱輥之間,以 及積層聚醯亞胺薄膜之非熱熔著性聚醯亞胺層(B)側與加 熱輥之間夾有聚醯亞胺薄膜「Kapton」5 00H(東麗杜邦股份 公司製)。銅箔與積層聚醯亞胺薄膜之接著力爲15N/cm。 又,金屬箔積層聚醯亞胺薄膜之翹曲(翹曲2)爲2 mm,又, 將金屬箔腐蝕後之翹曲(翹曲3)爲1mm。 實施例1 4〜1 7 除於層(A)使用PAA5、6、3、2代替PAA1之外,以與 -35 - 200815499 實施例1 3同樣方式得到積層聚醯亞胺薄膜。將所得積層聚 醯亞胺薄膜之翹曲(翹曲1)示於表4中。又,以與實施例 1 3同樣之方式,得到金屬箔積層聚醯亞胺薄膜。將此時之 銅箔與積層聚醯亞胺薄膜之接著力及翹曲(翹曲2),以及蝕 刻銅箔後之翹曲(翹曲3)分別示於表4中。 實施例1 8〜2 0 除於層(C)使用PAA1 6、22、26代替PAA2 1之外,以 與實施例1 3同樣方式,得到積層聚醯亞胺薄膜。得到之積 f' 層聚醯亞胺薄膜之翹曲(翹曲1),如表4所示。又,以與實 施例1 3同樣方式,得到金屬箱積層聚醯亞胺薄膜。將此時 之銅箔與積層聚醯亞胺薄膜之接著力及翹曲(翹曲2),以及 蝕刻銅箔後之翹曲(翹曲3)分別示於表4中。 比較例1 0〜1 6 除於層(A)使用PA A 1 1、1 7、1 8、7〜1 0代替PAA 1之 外,以與實施例1 3同樣之方式,得到積層聚醯亞胺薄膜。 將所得積層聚醯亞胺薄膜之翹曲(翹曲1)示於表4中。又, / 、, 以與實施例1 3同樣之方式,得到金屬箔積層聚醯亞胺薄 膜。將此時之銅箔與積層聚醯亞胺薄膜之接著力及翹曲(翹 曲2),以及蝕刻銅箔後之翹曲(翹曲3)分別示於表4中。 比較例17 除分SU使用 PAA17代替層(A)所用之 PAA1,使用 PAA19代替層(B)所用之PAA20之外,以與實施例13同樣 之方式’得到積層聚醯亞胺薄膜。然而,非熱熔性聚醯亞 胺層與保護薄膜形成熱熔著,而難以從保護薄膜剝離。將 -36- 200815499 所得積層聚醯亞胺薄膜之翹曲(翹曲丨)示於表4中。又,以 與實施例1 3同樣之方式,得到金屬箔積層聚醯亞胺薄膜。 M Jit Β寺;Ζ銅I箔與積層聚醯亞胺薄膜之接著力及翹曲(翹曲 2) ’以及蝕刻銅箔後之翹曲(翹曲3)分別示於表4中。 實施例2 1 將PAA1(層(A))調製成黏度1Pa· s後,藉由凹輪塗布 法將其塗布在聚醯亞胺薄膜「Kapton」5 0EN上。將其從 160°C慢慢升溫至3 00 °C,除去溶劑,同時進行醯亞胺化, z 得到在單面積層有3 μ m熱熔著性聚醯亞胺之積層聚醯亞胺 薄膜。繼而,再在另一面同樣地塗布PAA20(層(B))。所得 積層聚醯亞胺薄膜中,熱熔著性聚醯亞胺層(層(A))爲 3pm’「Kapton」EN(層(C))爲12·5μιη,非熱熔著性聚醯亞 胺層(層(Β))爲3μιη,總厚度爲18·5μπι'。將所得積層聚醯亞 胺薄膜之翹曲(翹曲1)示於表4中。又,以與實施例13同 樣之方式,得到金屬箔積層聚醯亞胺薄膜。將此時之銅箔 與積層聚醯亞胺薄膜之接著力及翹曲(翹曲2),以及蝕刻銅 箔後之翹曲(翹曲3)分別示於表4中。 -37 - 200815499 【寸^】 翹曲3 (mm) 蝕刻後 之翹曲 T—Η 〇 O r—H m i—H <N 1 寸 1 oo 翹曲2 (mm) 酴職 mm _狴 (Ν 〇 (N 寸 o 握 (N m in m 寸 (N m 寸 翹曲1 (mm) i5S 〇 o 〇 i—H τ-Η 〇 O CO m ON m (N 1 i-H (N 1 卜 接著力 (N/cm) f-H … in r-H o T—H m 卜 〇 m m r—4 7 (B層熱 熔著) αΑ 與 αΒ 之差 o (N t—( r-H T—H v〇 <N v〇 Ό vo v〇 卜 層(Β) 厚度 (μιη) m m m CO m m m m m m m m m m m m m «ο m m m m in m ^T) cn m m in m ΓΠ in m m m 〇 VO 清漆 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA20 PAA19 層(C) 厚度 (μιη) Os ON ON Os ON ON ON <N ON ON ON ON C\ as υ 卜 卜 卜 卜 卜 o (N 〇〇 (N r-H 卜 o 卜 卜 卜 卜 卜 卜 清漆 PAA21 PAA21 PAA21 PAA21 PAA21 PAA16 PAA22 PAA26 「Kapton」EN PAA21 PAA21 PAA21 PAA21 PAA21 PAA21 PAA21 PAA21 層(Α) 鲥? 1143 m m m ΓΠ m m m cn m m cn ΓΛ < CO m 寸 m 寸 m 寸 m 寸 cn 寸 m 寸 m 卜 卜 r-H v〇 寸 On CN T—H 寸 ON (N 清漆 PAAl PAA5 PAA6 PAA3 PAA2 PAAl PAAl PAAl PAAl PAAll PAA17 PAAl 8 PAA7 PAA8 PAA9 PAA10 PAA17 實施例13 實施例14 實施例15 實施例16 實施例17 實施例18 實施例19 實施例20 實施例21 比較例10 比較例11 比較例12 比較例13 比較例14 比較例15 比較例16 比較例π 丨oocn丨 200815499 產業上之可利用性 若依照本發明’可得到不易因熱而劣化,玻璃轉移溫 度低,可藉由短時間之加熱壓合與金屬箔接著之熱可塑性 聚醯亞胺。使用本發明之熱可塑性聚醯亞胺之積層聚醯亞 胺薄膜,由於可於3 60 °C以上之高溫進行熱處理,具有高斷 裂伸長率,可適宜利用做爲使用於電子機器之可撓性基板 用材料。 【圖式簡單說明】 /、 無。 \ ? 【主要元件符號說明】 無0 -39 -
Claims (1)
- 200815499 十、申請專利範圍: 1 · 一種熱可塑性聚醯亞胺,其係具有四羧酸二酐殘基及二 胺殘基的熱可塑性聚醯亞胺,其包括:佔全部四羧酸二 酐殘基中8 0莫耳%以上的聯苯四羧酸二酐殘基,佔全部 二胺殘基中65莫耳%以上85莫耳%以下的4,4,-二胺基 二苯基醚殘基,以及佔全部二胺殘基中i 5莫耳%以上3 5 莫耳%以下的對苯二胺殘基。 2 ·如申請專利範圍第1項之熱可塑性聚醯亞胺,其中全部 四羧酸二酐殘基與全部二胺殘基的莫耳比爲:相對於全 部二胺殘基100,全部四羧酸二酐殘基爲100」以上1〇5 以下。 3 ·如申請專利範圍第2項之熱可塑性聚醯亞胺,其進一步 具有單胺殘基,且相對於全部二胺殘基1 〇 〇,全部單胺殘 基的莫耳比爲0 · 2以上1 〇以下。 4 ·如申請專利範圍第1項之熱可塑性聚醯亞胺,其進一步 具有二羧酸酐殘基,全部四羧酸二酐殘基、全部二胺殘 基、全部二羧酸酐殘基的莫耳比爲:相對於全部二胺殘 基100,全部四羧酸二酐殘基爲95以上99.9以下,全部 二羧酸酐殘基爲〇 . 2以上1 0以下。 5 ·如申請專利範圍第1項之熱可塑性聚醯亞胺,其中玻璃 轉移溫度爲2 5 0 °C以上2 6 0 °C以下。 6· —種積層聚醯亞胺薄膜,其在高耐熱性聚_亞胺層的至 少一面上,具有包括如申請專利範圍第1項之熱可塑性 聚醯亞胺的熱熔著性聚醯亞胺層。 -40- 200815499 7 .如申請專利範圍第6項之積層聚醯亞胺薄膜,其係具有3 層以上聚醯亞胺層的積層聚醯亞胺薄膜,其中此等聚醯 亞胺層包括於3 0 °C〜2 0 0 °C的熱線性膨脹係數a c爲-5 X 1 0_ 6 ( 1 / °C )以上1 5 X 1 (Γ6 (1 / °C )以下的高耐熱性聚醯亞胺 層(C);該積層聚醯亞胺薄膜一側的最表層(A)係包括如 申請專利範圍第1至5項中任一項之熱可塑性聚醯亞胺 的熱熔著性聚醯亞胺層,另一側的最表層(B)係於3 〇°C〜 200°C的熱線性膨脹係數αΒ爲大於15 X 10_6(1/°C)且在40 X 1 (Γ6 (1 / °C )以下的非熱熔著性聚醯亞胺層。 8 ·如申請專利範圍第7項之積層聚醯亞胺薄膜’其中層(A) 於3 0°C〜200°C的熱線性膨脹係數αΑ與層(B)於30°C〜 2〇〇°(:的熱線性膨脹係數〇^的差異爲5乂10^(1/°(:)以下。 9 ·如申請專利範圍第7項之積層聚醯亞胺薄膜,其中層(A) 於3(TC〜200°C的熱線性膨脹係數αΑ爲40 X 10_6(1/°(:)以 下。 1 〇.如申請專利範圍第7項之積層聚醯亞胺薄膜,其中層(B) 係包括聚醯亞胺的非熱熔著性聚醯亞胺層’該聚醯亞胺 包括佔全部四羧酸二酐殘基中8 0莫耳%以上的均苯四酸 二酐殘基,且包括佔全部二胺殘基中4 0莫耳%以上1 0 0 莫耳。/〇以下的4,4 ’ -二胺基二苯基醚殘基及佔全部二胺殘 基中〇莫耳%以上6 0莫耳%以下的對苯二胺殘基。 1 1 · 一種積層聚醯亞胺薄膜之製法,其係用於製造如申請專 利範圍第6至1 0項中任一項之積層聚醯亞胺薄膜之製 -41 - 200815499 法,其包括:(1)至少將高耐熱性聚醯亞胺前驅體溶液與 熱可塑性聚醯亞胺前驅體溶液一起押出的步驟;(2)於 3 60 °C以上的溫度進行熱處理的步驟。 12. —種金屬箔積層聚醯亞胺薄膜,其係在如申請專利範圍 第6至1 0項中任一項之積層聚醯亞胺薄膜的至少一面上 具有金屬箔。-42- 200815499 七、指定代表圖·· (一) 本案指定代表圖為:無。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: te 〇 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式:
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006186355 | 2006-07-06 | ||
| JP2006331490 | 2006-12-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200815499A true TW200815499A (en) | 2008-04-01 |
Family
ID=38894466
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW96124244A TW200815499A (en) | 2006-07-06 | 2007-07-04 | Thermoplastic polyimide, Laminate polyimide film using it and metal foil laminated polyimide film |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20090252957A1 (zh) |
| EP (1) | EP2039715A4 (zh) |
| JP (1) | JPWO2008004496A1 (zh) |
| KR (1) | KR20090111797A (zh) |
| TW (1) | TW200815499A (zh) |
| WO (1) | WO2008004496A1 (zh) |
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| JP5524475B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2014-06-18 | 株式会社有沢製作所 | 2層両面フレキシブル金属積層板及びその製造方法 |
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| CN105437656A (zh) * | 2010-01-18 | 2016-03-30 | 株式会社钟化 | 多层聚酰亚胺膜及使用有该多层聚酰亚胺膜的柔性金属箔积层板 |
| KR101328838B1 (ko) * | 2010-03-30 | 2013-11-13 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 폴리이미드 필름 |
| JP5408001B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2014-02-05 | 宇部興産株式会社 | ポリイミドフィルム |
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| CN103764731A (zh) * | 2011-08-25 | 2014-04-30 | 宇部兴产株式会社 | 一种热融着性聚酰亚胺膜及其制备方法、使用热融着性聚酰亚胺膜的聚酰亚胺金属层积体 |
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| JP5863488B2 (ja) * | 2012-02-03 | 2016-02-16 | キヤノン株式会社 | 無端ベルト及び像加熱装置 |
| WO2013157565A1 (ja) * | 2012-04-19 | 2013-10-24 | 宇部興産株式会社 | 熱融着性ポリイミドフィルム、熱融着性ポリイミドフィルムの製造方法及び熱融着性ポリイミドフィルムを用いたポリイミド金属積層体 |
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| WO2017095884A1 (en) * | 2015-12-01 | 2017-06-08 | Materion Corporation | Metal-on-ceramic substrates |
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| WO2018061727A1 (ja) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 新日鉄住金化学株式会社 | ポリイミドフィルム、銅張積層板及び回路基板 |
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| JP7195530B2 (ja) * | 2019-01-11 | 2022-12-26 | エルジー・ケム・リミテッド | フィルム、金属張積層板、フレキシブル基板、フィルムの製造方法、金属張積層板の製造方法、及びフレキシブル基板の製造方法 |
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| JP7680242B2 (ja) * | 2021-03-30 | 2025-05-20 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | フレキシブル金属張積層板及びフレキシブル回路基板 |
| JPWO2023157789A1 (zh) * | 2022-02-16 | 2023-08-24 |
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2007
- 2007-06-29 US US12/306,486 patent/US20090252957A1/en not_active Abandoned
- 2007-06-29 WO PCT/JP2007/063072 patent/WO2008004496A1/ja not_active Ceased
- 2007-06-29 KR KR1020097000118A patent/KR20090111797A/ko not_active Withdrawn
- 2007-06-29 EP EP07767859A patent/EP2039715A4/en not_active Withdrawn
- 2007-06-29 JP JP2007536523A patent/JPWO2008004496A1/ja active Pending
- 2007-07-04 TW TW96124244A patent/TW200815499A/zh unknown
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPWO2008004496A1 (ja) | 2009-12-03 |
| US20090252957A1 (en) | 2009-10-08 |
| EP2039715A4 (en) | 2010-07-21 |
| EP2039715A1 (en) | 2009-03-25 |
| KR20090111797A (ko) | 2009-10-27 |
| WO2008004496A1 (fr) | 2008-01-10 |
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