RU2019117478A - Устройство для выдавливания рельефа - Google Patents
Устройство для выдавливания рельефа Download PDFInfo
- Publication number
- RU2019117478A RU2019117478A RU2019117478A RU2019117478A RU2019117478A RU 2019117478 A RU2019117478 A RU 2019117478A RU 2019117478 A RU2019117478 A RU 2019117478A RU 2019117478 A RU2019117478 A RU 2019117478A RU 2019117478 A RU2019117478 A RU 2019117478A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- molecule
- silicon
- group
- working die
- embossing device
- Prior art date
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 20
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 20
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 19
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 claims 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 4
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 2
- IUMSDRXLFWAGNT-UHFFFAOYSA-N Dodecamethylcyclohexasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 IUMSDRXLFWAGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N cyclotetrasiloxane Chemical compound O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 2
- 238000012163 sequencing technique Methods 0.000 claims 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N Decamethylcyclopentasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 claims 1
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 claims 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 claims 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 claims 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 claims 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000004905 tetrazines Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical group CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C1/00—Preparation of hydrocarbons from one or more compounds, none of them being a hydrocarbon
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/38—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
- B29C33/3842—Manufacturing moulds, e.g. shaping the mould surface by machining
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/38—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
- B29C33/40—Plastics, e.g. foam or rubber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
- B29C59/026—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing of layered or coated substantially flat surfaces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00436—Shaping materials, i.e. techniques for structuring the substrate or the layers on the substrate
- B81C1/00444—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate
- B81C1/0046—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate using stamping, e.g. imprinting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/24—Homopolymers or copolymers of amides or imides
- C09D133/26—Homopolymers or copolymers of acrylamide or methacrylamide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2883/00—Use of polymers having silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only, in the main chain, as mould material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2031/00—Other particular articles
- B29L2031/752—Measuring equipment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Massaging Devices (AREA)
- Confectionery (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
- Auxiliary Devices For Music (AREA)
- Mechanical Pencils And Projecting And Retracting Systems Therefor, And Multi-System Writing Instruments (AREA)
Claims (68)
1. Устройство для выдавливания рельефа, включающее:
кремниевый эталон, который включает совокупность элементов нанорельефа; и
покрытие из слоя, препятствующего прилипанию, нанесенное на кремниевый эталон, где слой, препятствующий прилипанию, включает молекулу, содержащую циклосилоксан, имеющий по меньшей мере одну функциональную группу силана.
2. Устройство для выдавливания рельефа по п. 1, в котором молекула представляет собой циклосилоксан, циклотетрасилоксан, циклопентасилоксан или циклогексасилоксан, и в котором молекула замещена по меньшей мере одной незамещенной С1-6алкильной группой и по меньшей мере одной С1-12алкильной группой, замещенной алкоксисилановой группой.
3. Устройство для выдавливания рельефа по п. 1 или 2, в котором молекула замещена четырьмя незамещенными С1-6алкильными группами и четырьмя С1-12алкильными группами, каждая из которых замещена триалкоксисилановой группой.
4. Устройство для выдавливания рельефа по п. 2 или 3, в котором незамещенные С1-6алкильные группы представляют собой метильные группы.
5. Устройство для выдавливания рельефа по любому из пп. 2-4, в котором каждая из С1-12алкильных групп, замещенных алкоксисилановой группой, представляет собой этильную или пропильную группу.
6. Устройство для выдавливания рельефа по п. 5, в котором каждая из С1-12алкильных групп, замещенных алкоксисилановой группой, представляет собой этильную группу.
7. Устройство для выдавливания рельефа по любому из пп. 2-6, в котором алкоксисилановая или триалкоксисилановая группа представляет собой триметоксисилан или триэтоксисилан.
8. Устройство для выдавливания рельефа по п. 7, в котором алкоксисилановая или триалкоксисилановая группа представляет собой триэтоксисилан.
9. Устройство для выдавливания рельефа по пункту 1, в котором циклосилоксан выбран из группы, состоящей из циклотетрасилоксана и циклогексасилоксана.
10. Устройство для выдавливания рельефа по п. 9, в котором функциональная группа силана представляет собой алкилалкоксисилан.
11. Устройство для выдавливания рельефа по п. 10, в котором алкилалкоксисилан представляет собой этилтриэтоксисилан.
12. Устройство для выдавливания рельефа по любому из предшествующих пунктов, в котором молекула представляет собой:
13. Устройство для выдавливания рельефа по любому из предшествующих пунктов, в котором слой, препятствующий прилипанию, включает смесь молекулы в чистой форме и олигомера молекулы.
14. Устройство для выдавливания рельефа по любому из предшествующих пунктов, дополнительно включающее рабочий штамп на основе кремния в контакте со слоем, препятствующим прилипанию, находящимся на кремниевом эталоне.
15. Устройство для выдавливания рельефа по п. 14, в котором рабочий штамп на основе кремния включает полимеризованные кремнийсодержащие акрилатные мономеры.
16. Устройство для выдавливания рельефа по п. 14 или 15, дополнительно включающее объединительную панель в контакте с рабочим штампом.
17. Устройство для выдавливания рельефа по любому из предшествующих пунктов, в котором молекула не включает фтор.
18. Способ, включающий:
образование эталонного шаблона посредством:
осаждения композиции на кремниевый эталон, который включает совокупность элементов нанорельефа, где композиция включает растворитель и молекулу, содержащую циклосилоксан, имеющий по меньшей мере одну функциональную группу силана; и
отверждения композиции, приводящего к образованию препятствующего прилипанию слоя на кремниевом эталоне, где слой, препятствующий прилипанию, включает указанную молекулу;
осаждения материала рабочего штампа на основе кремния на слой эталонного шаблона, препятствующий прилипанию;
отверждения материала рабочего штампа на основе кремния, что приводит к образованию рабочего штампа, включающего негативную копию совокупности элементов нанорельефа; и
отсоединения рабочего штампа от эталонного шаблона.
19. Способ по п. 18, в котором:
температура кипения растворителя составляет менее приблизительно 70°С; и
молекула присутствует в композиции в количестве, составляющем по меньшей мере приблизительно 5% масс.
20. Способ по п. 18, в котором растворитель представляет собой тетрагидрофуран или толуол.
21. Способ по любому из пп. 18-20, в котором как осаждение композиции, так и осаждение материала рабочего штампа на основе кремния включает нанесение покрытия центрифугированием.
22. Способ по любому из пп. 18-21, в котором материал рабочего штампа на основе кремния включает кремнийсодержащий акрилатный мономер.
23. Способ по любому из пп. 18-22, в котором молекула присутствует в композиции в количестве, составляющем от приблизительно 5% масс. до приблизительно 10% масс.
24. Способ по любому из пп. 18-23, в котором отсоединенный рабочий штамп по меньшей мере по существу не содержит молекулы.
25. Способ по любому из пп. 18-24, в котором молекула представляет собой:
26. Способ по любому из пп. 18-25, в котором молекула не включает фтор.
27. Способ по любому из пп. 18-26, в котором после отсоединения рабочего штампа получают отсоединенный эталонный шаблон, на который нанесен слой, препятствующий прилипанию, где способ дополнительно включает:
осаждение материала второго рабочего штампа на основе кремния на слой отсоединенного эталонного шаблона, препятствующий прилипанию;
отверждение материала второго рабочего штампа на основе кремния, приводящее к образованию второго рабочего штампа, включающего негативную копию совокупности элементов нанорельефа; и
отсоединение второго рабочего штампа от эталонного шаблона.
28. Способ по п. 27, дополнительно включающий очистку отсоединенного эталонного шаблона перед осаждением материала второго рабочего штампа на основе кремния.
29. Способ применения рабочего штампа, который был получен в результате:
образования эталонного шаблона посредством:
осаждения композиции на кремниевый эталон, который включает совокупность элементов нанорельефа, где композиция включает растворитель и молекулу, содержащую циклосилоксан, имеющий по меньшей мере одну функциональную группу силана; и
отверждения композиции, приводящего к образованию препятствующего прилипанию слоя на кремниевом эталоне, где слой, препятствующий прилипанию, включает указанную молекулу;
осаждения материала рабочего штампа на основе кремния на слой эталонного шаблона, препятствующий прилипанию;
отверждения материала рабочего штампа на основе кремния, что приводит к образованию рабочего штампа, включающего негативную копию совокупности элементов нанорельефа; и
отсоединения рабочего штампа от эталонного шаблона;
где способ применения рабочего штампа включает:
впечатывание рабочего штампа в полимер для импринт-литографии, находящийся на носителе; и
отверждение полимера, приводящее к образованию поверхности секвенирования, на которой имеется реплика совокупности элементов нанорельефа, определенная выше.
30. Способ по п. 29, в котором поверхность секвенирования по меньшей мере по существу не содержит молекулы.
31. Способ по п. 29 или 30, дополнительно включающий закрепление праймеров амплификации на промежуточной структуре, имеющейся в реплике совокупности элементов нанорельефа.
32. Способ по п. 31, в котором промежуточная структура представляет собой полимерное покрытие, включающее повторяющееся звено, имеющее формулу (I):
где
R1 представляет собой Н или необязательно замещенный алкил;
RA выбран из группы, состоящей из азидогруппы, необязательно замещенной аминогруппы, необязательно замещенного алкенила, необязательно замещенного гидразона, необязательно замещенного гидразина, карбоксила, гидроксигруппы, необязательно замещенного тетразола, необязательно замещенного тетразина, нитрилоксида, нитрона и тиола;
R5 выбран из группы, состоящей из Н и необязательно замещенного алкила;
каждая из групп -(СН2)p- может быть необязательно замещенной;
р представляет собой целое число, составляющее от 1 до 50;
n представляет собой целое число, составляющее от 1 до 50000; и
m представляет собой целое число, составляющее от 1 до 100000.
33. Способ по любому из пунктов 29-32, в котором молекула представляет собой:
34. Способ по любому из пп. 29-32, в котором молекула не включает фтор.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201662438237P | 2016-12-22 | 2016-12-22 | |
| US62/438,237 | 2016-12-22 | ||
| PCT/US2017/067333 WO2018118932A1 (en) | 2016-12-22 | 2017-12-19 | Imprinting apparatus |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2019117478A true RU2019117478A (ru) | 2021-01-25 |
| RU2019117478A3 RU2019117478A3 (ru) | 2021-01-27 |
| RU2753172C2 RU2753172C2 (ru) | 2021-08-12 |
Family
ID=62625732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2019117478A RU2753172C2 (ru) | 2016-12-22 | 2017-12-19 | Устройство для выдавливания рельефа |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US11213976B2 (ru) |
| EP (1) | EP3559745B1 (ru) |
| JP (1) | JP7084402B2 (ru) |
| KR (1) | KR102536039B1 (ru) |
| CN (1) | CN110226128B (ru) |
| AU (1) | AU2017382163B2 (ru) |
| CA (1) | CA3046374A1 (ru) |
| IL (1) | IL267443B2 (ru) |
| MX (1) | MX2019006512A (ru) |
| NZ (1) | NZ754245A (ru) |
| PH (1) | PH12019501463B1 (ru) |
| RU (1) | RU2753172C2 (ru) |
| SA (1) | SA519402145B1 (ru) |
| TW (1) | TWI823844B (ru) |
| WO (1) | WO2018118932A1 (ru) |
| ZA (1) | ZA201903897B (ru) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NZ754245A (en) * | 2016-12-22 | 2025-07-25 | Illumina Inc | Imprinting apparatus |
| FR3075800B1 (fr) * | 2017-12-21 | 2020-10-09 | Arkema France | Couches anti adhesives pour les procedes d'impression par transfert |
| US12140864B2 (en) * | 2019-02-11 | 2024-11-12 | Applied Materials, Inc. | Large area seamless master and imprint stamp manufacturing method |
| EP3739386A1 (en) | 2019-05-14 | 2020-11-18 | OpTool AB | A stamp material for nanolithography |
| EP3839626B1 (fr) * | 2019-12-18 | 2023-10-11 | Nivarox-FAR S.A. | Procede de fabrication d'un composant horloger |
| JP7111274B2 (ja) * | 2020-02-27 | 2022-08-02 | Dic株式会社 | 層間絶縁膜製造用塗布組成物、層間絶縁膜、及び半導体素子、並びに層間絶縁膜の製造方法 |
| KR20230005136A (ko) * | 2020-03-27 | 2023-01-09 | 일루미나, 인코포레이티드 | 임프린팅 장치 |
| EP3929658A1 (en) | 2020-06-23 | 2021-12-29 | Koninklijke Philips N.V. | Imprinting method and patterned layer |
| US11543584B2 (en) * | 2020-07-14 | 2023-01-03 | Meta Platforms Technologies, Llc | Inorganic matrix nanoimprint lithographs and methods of making thereof with reduced carbon |
| CN116710491A (zh) | 2021-01-05 | 2023-09-05 | 伊鲁米纳公司 | 包含偶联到基底的官能团的组合物及制备其的方法 |
| CN113307223B (zh) * | 2021-04-20 | 2024-10-29 | 杭州欧光芯科技有限公司 | 一种纳米孔局部亲疏水性修饰的方法 |
Family Cites Families (97)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4550035A (en) * | 1982-12-10 | 1985-10-29 | Creative Products Resource Associates, Ltd. | Cosmetic applicator useful for skin moisturizing and deodorizing |
| DE3821908A1 (de) * | 1988-06-29 | 1990-01-04 | Ernst Boettler Kg Bomix Chemie | Trennmittel |
| US5164278A (en) * | 1990-03-01 | 1992-11-17 | International Business Machines Corporation | Speed enhancers for acid sensitized resists |
| US5004502A (en) * | 1990-08-23 | 1991-04-02 | Ramzan Chaudhary M | Non-irritating detackifying composition |
| US5153332A (en) * | 1990-09-13 | 1992-10-06 | Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. | Organocyclosiloxane and method for its preparation |
| US5112393A (en) * | 1990-10-09 | 1992-05-12 | Prosoco, Inc. | Method of rendering masonry materials water repellent with low voc organoalkoxysilanes |
| US5330925A (en) * | 1992-06-18 | 1994-07-19 | At&T Bell Laboratories | Method for making a MOS device |
| US5378790A (en) * | 1992-09-16 | 1995-01-03 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Single component inorganic/organic network materials and precursors thereof |
| US5364737A (en) * | 1994-01-25 | 1994-11-15 | Morton International, Inc. | Waterbone photoresists having associate thickeners |
| FR2729406B1 (fr) * | 1995-01-16 | 1997-04-18 | Rhone Poulenc Chimie | Utilisation a titre d'antiadherent et/ou d'hydrofugeant de polyorganosiloxanes fonctionnalises, greffes |
| US6309580B1 (en) | 1995-11-15 | 2001-10-30 | Regents Of The University Of Minnesota | Release surfaces, particularly for use in nanoimprint lithography |
| DE19631227C1 (de) * | 1996-08-02 | 1998-04-23 | Byk Chemie Gmbh | Cyclische Siloxane und deren Verwendung als Benetzungshilfsmittel und Schaumstabilisatoren |
| RU2150154C1 (ru) * | 1998-11-18 | 2000-05-27 | Акционерное общество закрытого типа "Карбид" | Полевой эмиттер электронов и способ его изготовления (варианты) |
| US6121130A (en) * | 1998-11-16 | 2000-09-19 | Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. | Laser curing of spin-on dielectric thin films |
| US6391937B1 (en) | 1998-11-25 | 2002-05-21 | Motorola, Inc. | Polyacrylamide hydrogels and hydrogel arrays made from polyacrylamide reactive prepolymers |
| US6664061B2 (en) | 1999-06-25 | 2003-12-16 | Amersham Biosciences Ab | Use and evaluation of a [2+2] photoaddition in immobilization of oligonucleotides on a three-dimensional hydrogel matrix |
| US6372813B1 (en) | 1999-06-25 | 2002-04-16 | Motorola | Methods and compositions for attachment of biomolecules to solid supports, hydrogels, and hydrogel arrays |
| HK1049491B (zh) * | 1999-08-20 | 2006-07-07 | Alanod Aluminium-Veredlung Gmbh & Co. Kg | 无机涂料组合物及其生产方法与应用 |
| SG98433A1 (en) * | 1999-12-21 | 2003-09-19 | Ciba Sc Holding Ag | Iodonium salts as latent acid donors |
| JP2004148506A (ja) * | 2000-07-21 | 2004-05-27 | Kansai Paint Co Ltd | 塗工フィルム及びその貼り付け方法 |
| US6814898B1 (en) * | 2000-10-17 | 2004-11-09 | Seagate Technology Llc | Imprint lithography utilizing room temperature embossing |
| US20020081520A1 (en) * | 2000-12-21 | 2002-06-27 | Ratnam Sooriyakumaran | Substantially transparent aqueous base soluble polymer system for use in 157 nm resist applications |
| EP1260863A1 (en) * | 2001-05-23 | 2002-11-27 | Scandinavian Micro Biodevices | Micropatterning of plasma polymerized coatings |
| US20050064344A1 (en) * | 2003-09-18 | 2005-03-24 | University Of Texas System Board Of Regents | Imprint lithography templates having alignment marks |
| US6858697B2 (en) * | 2001-12-21 | 2005-02-22 | Air Products And Chemicals, Inc. | Stabilizers to inhibit the polymerization of substituted cyclotetrasiloxane |
| US6743368B2 (en) * | 2002-01-31 | 2004-06-01 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Nano-size imprinting stamp using spacer technique |
| EP1491927B1 (en) | 2002-04-01 | 2013-02-27 | Ibiden Co., Ltd. | Ic chip mounting substrate, and ic chip mounting substrate manufacturing method |
| ATE271109T1 (de) * | 2002-04-16 | 2004-07-15 | Goldschmidt Ag Th | Verwendung von mit oxyalkylenethergruppen modifizierten epoxypolysiloxanen als additive für strahlenhärtende beschichtungen |
| DE10217202A1 (de) * | 2002-04-18 | 2003-11-06 | Bayer Ag | Anti-Haft-Beschichtungen für Reaktoren |
| JP3848303B2 (ja) * | 2002-06-07 | 2006-11-22 | キヤノン株式会社 | 構造体、機能性構造体及び磁気記録媒体の製造方法 |
| EP1548085A4 (en) * | 2002-10-04 | 2010-05-19 | Nok Corp | MATERIAL OF SEALING |
| JP4024135B2 (ja) * | 2002-11-25 | 2007-12-19 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | レーザー彫刻印刷版 |
| US20040176503A1 (en) * | 2002-12-02 | 2004-09-09 | Kent State University | Radiation thickened sheet molding compounds |
| JP2004325172A (ja) * | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Asahi Kasei Corp | 透明炭化水素系重合体を用いるマイクロチップ |
| US7070406B2 (en) * | 2003-04-29 | 2006-07-04 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Apparatus for embossing a flexible substrate with a pattern carried by an optically transparent compliant media |
| JP4465233B2 (ja) * | 2003-06-30 | 2010-05-19 | 三星電子株式会社 | 多官能性環状シロキサン化合物、この化合物から製造されたシロキサン系重合体及びこの重合体を用いた絶縁膜の製造方法 |
| US20050038180A1 (en) * | 2003-08-13 | 2005-02-17 | Jeans Albert H. | Silicone elastomer material for high-resolution lithography |
| US20050116387A1 (en) * | 2003-12-01 | 2005-06-02 | Davison Peter A. | Component packaging apparatus, systems, and methods |
| US9040090B2 (en) * | 2003-12-19 | 2015-05-26 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Isolated and fixed micro and nano structures and methods thereof |
| JP2007525571A (ja) | 2004-01-07 | 2007-09-06 | ソレクサ リミテッド | 修飾分子アレイ |
| US7060625B2 (en) * | 2004-01-27 | 2006-06-13 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Imprint stamp |
| US7088003B2 (en) * | 2004-02-19 | 2006-08-08 | International Business Machines Corporation | Structures and methods for integration of ultralow-k dielectrics with improved reliability |
| JP2005330429A (ja) * | 2004-05-21 | 2005-12-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性組成物及びゴム加工品 |
| US7563727B2 (en) * | 2004-11-08 | 2009-07-21 | Intel Corporation | Low-k dielectric layer formed from aluminosilicate precursors |
| KR20060057778A (ko) * | 2004-11-24 | 2006-05-29 | 삼성코닝 주식회사 | 저유전성 메조포러스 박막의 제조방법 |
| KR101119141B1 (ko) * | 2005-01-20 | 2012-03-19 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 폴리머 나노 입자를 포함하는 저유전 박막 형성용 조성물및 이를 이용한 저유전 박막의 제조방법 |
| JP5424638B2 (ja) * | 2005-05-27 | 2014-02-26 | ザ・ガバナーズ・オブ・ザ・ユニバーシティー・オブ・アルバータ | ＳｉＯ２中のナノ結晶ケイ素および独立ケイ素ナノ粒子の調製方法 |
| US7854873B2 (en) | 2005-06-10 | 2010-12-21 | Obducat Ab | Imprint stamp comprising cyclic olefin copolymer |
| JP4828171B2 (ja) * | 2005-07-08 | 2011-11-30 | 株式会社メニコン | 環状シロキサン化合物を重合して得られる眼科用レンズ、細胞または臓器の培養基材、生体物容器、透明ゲルおよびその製造方法 |
| US20070160547A1 (en) * | 2006-01-11 | 2007-07-12 | Janet Duffy | Method of applying a composition |
| WO2007121006A2 (en) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Dow Corning Corporation | Low thermal distortion silicone composite molds |
| WO2007127984A2 (en) * | 2006-04-28 | 2007-11-08 | Polyset Company, Inc. | Siloxane epoxy polymers for redistribution layer applications |
| US9196641B2 (en) * | 2006-08-15 | 2015-11-24 | Thin Film Electronics Asa | Printed dopant layers |
| JP2008096923A (ja) | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
| US8128393B2 (en) | 2006-12-04 | 2012-03-06 | Liquidia Technologies, Inc. | Methods and materials for fabricating laminate nanomolds and nanoparticles therefrom |
| US7604836B2 (en) | 2006-12-13 | 2009-10-20 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Release layer and resist material for master tool and stamper tool |
| CN100468528C (zh) | 2007-06-26 | 2009-03-11 | 西安交通大学 | 连续逆压印图型直接转移式制造图案化磁记录介质的方法 |
| EP2206015A2 (en) * | 2007-10-29 | 2010-07-14 | Dow Corning Corporation | Polar polydimethylsiloxane molds, methods of making the molds, and methods of using the molds for pattern transfer |
| WO2009094786A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Acadia University | Device and method for collecting a sample from a wet environment |
| KR101445878B1 (ko) * | 2008-04-04 | 2014-09-29 | 삼성전자주식회사 | 보호 필름 및 이를 포함하는 봉지 재료 |
| JP2010084162A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-15 | Asahi Glass Co Ltd | レプリカモールドの製造方法 |
| JP5251668B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2013-07-31 | 日油株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物 |
| US8809479B2 (en) * | 2009-05-01 | 2014-08-19 | Momentive Performance Materials Inc. | Moisture curable silylated polymer compositions containing reactive modifiers |
| JP2010280159A (ja) * | 2009-06-05 | 2010-12-16 | Osaka Univ | ナノインプリントリソグラフィー用の高耐久性レプリカモールドおよびその作製方法 |
| CN101923282B (zh) * | 2009-06-09 | 2012-01-25 | 清华大学 | 纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法 |
| JP5564383B2 (ja) * | 2009-09-30 | 2014-07-30 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| WO2012014435A1 (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法 |
| SG187701A1 (en) * | 2010-08-06 | 2013-03-28 | Soken Kagaku Kk | Resin mold for nanoimprinting |
| KR101326555B1 (ko) * | 2010-10-29 | 2013-11-08 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 임프린트용 몰드의 세정 방법과 세정 장치 및 임프린트용 몰드의 제조 방법 |
| KR20120046532A (ko) * | 2010-11-02 | 2012-05-10 | 한국생명공학연구원 | 항생물부착성 ｓｓｑ／ｐｅｇ 네트워크 및 그 제조방법 |
| KR20120079734A (ko) * | 2011-01-05 | 2012-07-13 | 삼성전자주식회사 | 나노임프린트용 스탬프 제조방법 |
| JP2012248641A (ja) * | 2011-05-26 | 2012-12-13 | Hyogo Prefecture | ナノインプリント用離型処理方法および離型膜 |
| US8586397B2 (en) * | 2011-09-30 | 2013-11-19 | Sunpower Corporation | Method for forming diffusion regions in a silicon substrate |
| EP3305400A3 (en) | 2011-10-28 | 2018-06-06 | Illumina, Inc. | Microarray fabrication system and method |
| US9149958B2 (en) * | 2011-11-14 | 2015-10-06 | Massachusetts Institute Of Technology | Stamp for microcontact printing |
| JP2013138179A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-07-11 | Central Glass Co Ltd | 光重合性組成物並びにそれを用いたパターン形成方法 |
| US20130143002A1 (en) * | 2011-12-05 | 2013-06-06 | Seagate Technology Llc | Method and system for optical callibration discs |
| US9012022B2 (en) | 2012-06-08 | 2015-04-21 | Illumina, Inc. | Polymer coatings |
| US20140120678A1 (en) * | 2012-10-29 | 2014-05-01 | Matheson Tri-Gas | Methods for Selective and Conformal Epitaxy of Highly Doped Si-containing Materials for Three Dimensional Structures |
| US8874182B2 (en) * | 2013-01-15 | 2014-10-28 | Google Inc. | Encapsulated electronics |
| NL2010199C2 (en) * | 2013-01-29 | 2014-08-04 | Univ Delft Tech | Manufacturing a submicron structure using a liquid precursor. |
| US9512422B2 (en) * | 2013-02-26 | 2016-12-06 | Illumina, Inc. | Gel patterned surfaces |
| KR20140110543A (ko) * | 2013-03-08 | 2014-09-17 | 영창케미칼 주식회사 | 나노패턴 복제용 수지 조성물 및 이를 이용한 나노패턴 복제방법 |
| EP2969479B1 (en) | 2013-03-13 | 2021-05-05 | Illumina, Inc. | Multilayer fluidic devices and methods for their fabrication |
| HUE041318T2 (hu) | 2013-07-01 | 2019-05-28 | Illumina Inc | Katalizátormentes felület-funkcionalizálás és polimer-ojtás |
| US8877882B1 (en) * | 2013-10-04 | 2014-11-04 | Rochal Industries Llp | Non-self-adherent coating materials |
| CA2928598C (en) * | 2013-12-19 | 2022-11-29 | M. Shane Bowen | Substrates comprising nano-patterning surfaces and methods of preparing thereof |
| US9359512B2 (en) * | 2013-12-23 | 2016-06-07 | Xerox Corporation | Aqueous dispersible siloxane-containing polymer inks useful for printing |
| TWI632188B (zh) * | 2014-08-27 | 2018-08-11 | Fujifilm Corporation | 底層膜形成用樹脂組成物、積層體、圖案形成方法、壓印形成用套組及元件的製造方法 |
| US10421766B2 (en) * | 2015-02-13 | 2019-09-24 | Versum Materials Us, Llc | Bisaminoalkoxysilane compounds and methods for using same to deposit silicon-containing films |
| JP6694238B2 (ja) * | 2015-02-26 | 2020-05-13 | 旭化成株式会社 | 光硬化性樹脂組成物及びその製造方法 |
| NL2014520B1 (en) * | 2015-03-25 | 2017-01-19 | Morpho Bv | Method of providing an imprinted security feature. |
| KR102116252B1 (ko) * | 2016-03-31 | 2020-05-28 | 후지필름 가부시키가이샤 | 전자 재료 제조용 약액의 제조 방법, 패턴 형성 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법, 전자 재료 제조용 약액, 용기, 및 품질 검사 방법 |
| CN105903796B (zh) * | 2016-04-20 | 2019-02-12 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 曲面显示器背板成型设备及成型方法 |
| US11456476B2 (en) * | 2016-07-20 | 2022-09-27 | W. L. Gore & Associates, Inc | Roll construction of laminated material and method for producing |
| NZ754245A (en) * | 2016-12-22 | 2025-07-25 | Illumina Inc | Imprinting apparatus |
| AT521173B1 (de) | 2018-06-27 | 2019-11-15 | Trumpf Maschinen Austria Gmbh & Co Kg | Biegewerkzeug mit Distanzelement |
-
2017
- 2017-12-19 NZ NZ754245A patent/NZ754245A/en unknown
- 2017-12-19 CN CN201780079812.1A patent/CN110226128B/zh active Active
- 2017-12-19 WO PCT/US2017/067333 patent/WO2018118932A1/en not_active Ceased
- 2017-12-19 AU AU2017382163A patent/AU2017382163B2/en active Active
- 2017-12-19 PH PH1/2019/501463A patent/PH12019501463B1/en unknown
- 2017-12-19 US US15/847,150 patent/US11213976B2/en active Active
- 2017-12-19 CA CA3046374A patent/CA3046374A1/en active Pending
- 2017-12-19 EP EP17885170.5A patent/EP3559745B1/en active Active
- 2017-12-19 KR KR1020197021371A patent/KR102536039B1/ko active Active
- 2017-12-19 IL IL267443A patent/IL267443B2/en unknown
- 2017-12-19 JP JP2019529959A patent/JP7084402B2/ja active Active
- 2017-12-19 RU RU2019117478A patent/RU2753172C2/ru active
- 2017-12-19 MX MX2019006512A patent/MX2019006512A/es unknown
- 2017-12-22 TW TW106145311A patent/TWI823844B/zh active
-
2019
- 2019-06-14 ZA ZA2019/03897A patent/ZA201903897B/en unknown
- 2019-06-19 SA SA519402145A patent/SA519402145B1/ar unknown
-
2021
- 2021-12-02 US US17/541,089 patent/US12157252B2/en active Active
-
2024
- 2024-11-30 US US18/964,377 patent/US20250114980A1/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR102536039B1 (ko) | 2023-05-23 |
| PH12019501463A1 (en) | 2020-03-09 |
| EP3559745B1 (en) | 2024-02-14 |
| US20250114980A1 (en) | 2025-04-10 |
| JP7084402B2 (ja) | 2022-06-14 |
| EP3559745A1 (en) | 2019-10-30 |
| US11213976B2 (en) | 2022-01-04 |
| TWI823844B (zh) | 2023-12-01 |
| KR20190099279A (ko) | 2019-08-26 |
| US12157252B2 (en) | 2024-12-03 |
| WO2018118932A1 (en) | 2018-06-28 |
| RU2019117478A3 (ru) | 2021-01-27 |
| CA3046374A1 (en) | 2018-06-28 |
| IL267443A (en) | 2019-08-29 |
| MX2019006512A (es) | 2019-10-02 |
| BR112019013075A2 (pt) | 2020-02-04 |
| EP3559745A4 (en) | 2020-11-11 |
| ZA201903897B (en) | 2022-10-26 |
| CN110226128B (zh) | 2024-07-02 |
| PH12019501463B1 (en) | 2024-02-21 |
| NZ754245A (en) | 2025-07-25 |
| SA519402145B1 (ar) | 2022-11-08 |
| JP2020501937A (ja) | 2020-01-23 |
| US20220088834A1 (en) | 2022-03-24 |
| IL267443B1 (en) | 2023-06-01 |
| US20180178416A1 (en) | 2018-06-28 |
| AU2017382163B2 (en) | 2022-06-09 |
| AU2017382163A1 (en) | 2019-06-20 |
| TW201841716A (zh) | 2018-12-01 |
| IL267443B2 (en) | 2023-10-01 |
| RU2753172C2 (ru) | 2021-08-12 |
| CN110226128A (zh) | 2019-09-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2019117478A (ru) | Устройство для выдавливания рельефа | |
| JP5570622B2 (ja) | 転写材料用硬化性組成物および該組成物を用いた微細パターン形成方法 | |
| CN101872115B (zh) | 改性聚合物材料表面相互作用的方法和工艺 | |
| RU2019117660A (ru) | Биочипы, включающие пленку смолы и структурированный слой полимера | |
| JP2008520804A5 (ru) | ||
| TWI861103B (zh) | 放射線硬化性有機聚矽氧烷組成物、硬化物、以及剝離片 | |
| KR102671096B1 (ko) | 실리콘 조성물을 가교결합시키기 위한 ii형 광개시제 시스템의 용도 | |
| CN101970540B (zh) | 倍半硅氧烷树脂 | |
| RU2014129896A (ru) | Композиция для пигментного окрашивания на основе специфического акрилового полимера и на основе силиконового сополимера и способ окрашивания | |
| EP3636723A1 (en) | Ultraviolet-curable pressure-sensitive silicone adhesive composition and cured object obtained therefrom | |
| JP2002500239A5 (ru) | ||
| RU2000119739A (ru) | Ингибирование обрастания | |
| CN109735144B (zh) | 一种光固化poss/氟烃基硅氧烷改性聚丙烯酸酯涂料组合物及其应用 | |
| TW201716236A (zh) | 剝離紙或剝離薄膜用矽酮組成物、剝離紙及剝離薄膜 | |
| KR20100126295A (ko) | 실세스퀴옥산 수지 | |
| KR20230009907A (ko) | (메트)아크릴레이트 작용성 실리콘 및 이의 제조 및 사용 방법 | |
| JP3843575B2 (ja) | 光カチオン硬化性樹脂組成物 | |
| TWI841525B (zh) | 剝離性放射線硬化性聚矽氧組成物及剝離薄片 | |
| JPWO2023120690A5 (ru) | ||
| JPWO2004076534A1 (ja) | カチオン硬化性含ケイ素化合物の製造方法 | |
| US5075349A (en) | Novel radiation-curable polymeric composition containing a diorganopolysiloxane with (meth)acryloxy end groups | |
| TWI688620B (zh) | 塗覆用樹脂組成物及包括其硬化物作為塗覆層的塗覆膜 | |
| JP2930935B2 (ja) | スチロール基又はα−メチルスチロール基を有するオルガノシロキサン組成物、その製法、その塗布法、及びそれからの被覆膜及び成形体 | |
| EP0393954B1 (en) | A radiation-curable organopolysiloxane compound, method for the preparation thereof and method of forming a cured coating film | |
| JP2017508852A (ja) | 改質されたエラストマー表面 |