RU2018135083A - Способ обработки и устройство - Google Patents
Способ обработки и устройство Download PDFInfo
- Publication number
- RU2018135083A RU2018135083A RU2018135083A RU2018135083A RU2018135083A RU 2018135083 A RU2018135083 A RU 2018135083A RU 2018135083 A RU2018135083 A RU 2018135083A RU 2018135083 A RU2018135083 A RU 2018135083A RU 2018135083 A RU2018135083 A RU 2018135083A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- range
- preceding paragraph
- structures
- optionally
- laser
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
- B23K26/0626—Energy control of the laser beam
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/0006—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring taking account of the properties of the material involved
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
- B23K26/3568—Modifying rugosity
- B23K26/3584—Increasing rugosity, e.g. roughening
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/04—Automatically aligning, aiming or focusing the laser beam, e.g. using the back-scattered light
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
- B23K26/0622—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses
- B23K26/0624—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses using ultrashort pulses, i.e. pulses of 1ns or less
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/082—Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/40—Removing material taking account of the properties of the material involved
-
- H10W20/068—
-
- H10W20/494—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
- B23K2101/32—Wires
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
- B23K2101/36—Electric or electronic devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/02—Iron or ferrous alloys
- B23K2103/04—Steel or steel alloys
- B23K2103/05—Stainless steel
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/08—Non-ferrous metals or alloys
- B23K2103/10—Aluminium or alloys thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/08—Non-ferrous metals or alloys
- B23K2103/12—Copper or alloys thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/08—Non-ferrous metals or alloys
- B23K2103/14—Titanium or alloys thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/50—Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26
- B23K2103/52—Ceramics
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Claims (35)
1. Способ уменьшения фотоэлектронного выхода (PEY) и/или выхода вторичных электронов (SEY) керамической поверхности, содержащий подачу импульсного лазерного излучения, содержащего последовательность лазерных импульсов, к поверхности для получения периодического расположения структур на поверхности.
2. Способ по п. 1, причем удельная мощность импульсов находится в диапазоне от 0,1 ТВт/см2 до 3 ТВт/см2, необязательно в диапазоне от 0,5 ТВт/см2 до 1,5 ТВт/см2.
3. Способ по п. 1, причем удельная мощность импульсов находится в диапазоне от 0,1 ГВт/см2 до 3 ГВт/см2, необязательно в диапазоне от 0,2 ГВт/см2 до 1 ГВт/см2.
4. Способ по любому предшествующему пункту, причем подача лазерного излучения является такой, чтобы изменять свойства поверхности так, что эта поверхность имеет значение SEY меньше 2,5, необязательно меньше 2,0, необязательно меньше или равное 1,6, необязательно меньше или равное 1,4, необязательно в диапазоне 0,2-2,0, необязательно в диапазоне 0,5-1,6, необязательно в диапазоне 1,0-1,4.
5. Способ по любому предшествующему пункту, причем лазерные импульсы имеют длительность меньшую, чем время термической релаксации материала поверхности.
6. Способ по любому предшествующему пункту, причем длительность лазерного импульса может находиться в диапазоне от 300 фемтосекунд (фс) до 1 наносекунды (нс), необязательно в диапазоне от 1 нс до 100 нс.
7. Способ по любому предшествующему пункту, причем длительность импульса может находиться в диапазоне от 1 пс до 100 пс, необязательно, длительность импульса может находиться в диапазоне от 1 пс до 50 пс, необязательно, длительность импульса может находиться в диапазоне от 5 пс до 500 пс.
8. Способ по любому предшествующему пункту, причем периодическое расположение структур на поверхности содержит периодическую последовательность пиков и впадин практически параллельных друг другу, и необязательно эти пики могут быть практически плоскими на вершине и/или могут быть закруглены на вершине, и/или могут иметь практически незаостренные и/или заостренные области на вершине.
9. Способ по любому предшествующему пункту, причем расстояние от пика до впадины для по меньшей мере некоторых из пиков и/или среднее или медианное расстояние от пика до впадины находится в диапазоне от 1 мкм до 100 мкм, необязательно в диапазоне от 20 мкм до 80 мкм, необязательно в диапазоне от 30 мкм до 60 мкм.
10. Способ по любому предшествующему пункту, причем периодическое расположение структур содержит перекрестное расположение или расположение практически параллельных линий пиков и впадин практически без пересечения.
11. Способ по любому предшествующему пункту, причем периодическое расположение структур создают одним проходом лазерного источника, который выдает лазерное излучение.
12. Способ по любому предшествующему пункту, причем лазерное излучение содержит импульсный лазерный пучок, который имеет диаметр фокального пятна на поверхности в диапазоне от 5 мкм до 100 мкм или в диапазоне от 1 мкм до 100 мкм.
13. Способ по любому предшествующему пункту, причем импульсное излучение имеет частоту повторения импульсов в диапазоне от 10 кГц до 1 МГц.
14. Способ по любому предшествующему пункту, причем средняя мощность лазерного излучения может находиться в диапазоне от 3 Вт до 8 Вт, или в диапазоне от 1 Вт до 10 Вт, или в диапазоне от 0,3 Вт до 2 Вт, или в диапазоне от 1 Вт до 5 Вт, или в диапазоне от 0,1 Вт до 1 Вт, или в диапазоне от 0,1 Вт до 2 Вт, или в диапазоне от 0,3 Вт до 5 Вт.
15. Способ по любому предшествующему пункту, причем подача лазерного излучения к поверхности содержит сканирование импульсным лазерным пучком по поверхности, и скорость этого сканирования находится в диапазоне от 1 мм/с до 200 мм/с.
16. Способ по любому предшествующему пункту, причем сканирование импульсным лазерным пучком по поверхности повторяют от 2 до 10 раз или выполняют однократно.
17. Способ по любому предшествующему пункту, причем угол падения лазерного излучения на поверхность находится в диапазоне от 0 до 30 градусов или от 90 до 60 градусов.
18. Способ по любому предшествующему пункту, причем длина волны излучения находится в диапазоне от 100 нм до 2000 нм, необязательно 355 нм, или 532 нм, или 1064 нм.
19. Способ по любому предшествующему пункту, причем периодическое расположение структур содержит первую последовательность пиков и впадин, расположенных в первом направлении, и вторую последовательность пиков и впадин, расположенных во втором, отличающемся направлении.
20. Способ по любому предшествующему пункту, причем первая последовательность пиков и впадин и вторая последовательность пиков и впадин пересекаются так, что периодическое расположение структур представляет собой перекрестное расположение.
21. Способ по любому предшествующему пункту, причем лазерное излучение является таким, что подача лазерного излучения к поверхности создает дополнительные структуры, и эти дополнительные структуры меньше, чем структуры с периодическим расположением структур.
22. Способ по любому предшествующему пункту, причем дополнительные структуры содержат дополнительные периодические структуры, необязательно нановолнистости.
23. Способ по любому предшествующему пункту, причем дополнительные структуры содержат индуцированные лазером периодические поверхностные структуры (LIPPS).
24. Способ по любому предшествующему пункту, причем дополнительные структуры имеют периодичность в диапазоне от 10 нм до 1 мкм, необязательно в диапазоне от 100 нм до 1 мкм.
25. Способ по любому предшествующему пункту, причем дополнительные структуры покрывают по меньшей мере часть периодического массива структур и/или сформированы во впадинах и/или на пиках периодического расположения структур.
26. Способ по любому предшествующему пункту, причем поверхность образует часть ламинированной структуры.
27. Способ по любому предшествующему пункту, причем поверхность образует часть ускорителя частиц, инжекционной кикерной системы, канала синхротронного излучения, волновода, например радиочастотного волновода, детектора, детекторного устройства, космического аппарата или вакуумной камеры.
28. Способ по любому предшествующему пункту, причем поверхность содержит поверхность компонента устройства, и способ содержит подачу лазерного излучения к этой поверхности для создания периодического расположения структур на поверхности, а затем установку этого компонента в устройство, или способ содержит подачу лазерного излучения к этой поверхности с компонентом непосредственно в этом устройстве.
29. Способ по любому предшествующему пункту, дополнительно содержащий формирование металлического слоя на по меньшей мере части этой поверхности после подачи лазерного излучения.
30. Способ по любому предшествующему пункту, содержащий по меньшей мере одно из обезжиривания, очистки или сглаживания поверхности после подачи лазерного излучения и/или выполнения процесса поверхностного восстановления углерода по отношению к упомянутой поверхности после подачи лазерного излучения.
31. Устройство для сокращения фотоэлектронного выхода (PEY) и/или выхода вторичных электронов (SEY) керамической поверхности, содержащее
лазерный источник для подачи импульсного лазерного излучения к поверхности; и
лазерный контроллер, выполненный с возможностью управления лазерным источником для подачи лазерного излучения в виде последовательности лазерных импульсов так, чтобы получить периодическое расположение структур на керамической поверхности.
32. Обработанная лазером керамическая поверхность, содержащая периодическое расположение структур.
33. Обработанная лазером керамическая поверхность по п. 32, дополнительно содержащая металлический слой, покрывающий по меньшей мере часть периодического расположения структур.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GBGB1603991.9A GB201603991D0 (en) | 2016-03-08 | 2016-03-08 | Processing method and apparatus |
| GB1603991.9 | 2016-03-08 | ||
| PCT/GB2017/050621 WO2017153750A1 (en) | 2016-03-08 | 2017-03-08 | Method of reducing photoelectron yield and/or secondary electron yield of a ceramic surface; corresponding apparatus and product |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2018135083A true RU2018135083A (ru) | 2020-04-08 |
| RU2018135083A3 RU2018135083A3 (ru) | 2020-05-15 |
Family
ID=55859181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2018135083A RU2018135083A (ru) | 2016-03-08 | 2017-03-08 | Способ обработки и устройство |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10994369B2 (ru) |
| EP (1) | EP3397421A1 (ru) |
| JP (1) | JP2019508256A (ru) |
| KR (1) | KR20190015180A (ru) |
| CN (1) | CN109070266B (ru) |
| AU (1) | AU2017231862A1 (ru) |
| BR (1) | BR112018067765A2 (ru) |
| CA (1) | CA3015159A1 (ru) |
| GB (1) | GB201603991D0 (ru) |
| RU (1) | RU2018135083A (ru) |
| WO (1) | WO2017153750A1 (ru) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL2024815A (en) * | 2019-02-19 | 2020-08-27 | Asml Holding Nv | Laser roughening: engineering the roughness of the burl top |
| CN111215399A (zh) * | 2020-02-27 | 2020-06-02 | 长安大学 | 一种惰性离子清洗及热处理降低二次电子发射系数的方法 |
Family Cites Families (51)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4834667A (ru) * | 1971-09-08 | 1973-05-21 | ||
| JPH0640797A (ja) | 1992-04-23 | 1994-02-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンドの加工方法 |
| JPH05325780A (ja) * | 1992-05-14 | 1993-12-10 | Nec Corp | マイクロ波管用コレクタ電極の製造方法 |
| US6518540B1 (en) * | 1998-06-16 | 2003-02-11 | Data Storage Institute | Method and apparatus for providing ablation-free laser marking on hard disk media |
| JP4115051B2 (ja) | 1998-10-07 | 2008-07-09 | キヤノン株式会社 | 電子線装置 |
| US7838794B2 (en) | 1999-12-28 | 2010-11-23 | Gsi Group Corporation | Laser-based method and system for removing one or more target link structures |
| TW504425B (en) | 2000-03-30 | 2002-10-01 | Electro Scient Ind Inc | Laser system and method for single pass micromachining of multilayer workpieces |
| JP4578710B2 (ja) * | 2001-03-28 | 2010-11-10 | 独立行政法人科学技術振興機構 | フェムト秒レーザー照射による分極反転構造の作成方法 |
| GB0112234D0 (en) | 2001-05-18 | 2001-07-11 | Welding Inst | Surface modification |
| JP2003303561A (ja) * | 2002-04-10 | 2003-10-24 | Canon Inc | スペーサ、スペーサの製造方法および電子線装置 |
| US9409254B2 (en) | 2005-09-30 | 2016-08-09 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Ablation layers to prevent pitting in laser peening |
| US8846551B2 (en) * | 2005-12-21 | 2014-09-30 | University Of Virginia Patent Foundation | Systems and methods of laser texturing of material surfaces and their applications |
| US7628865B2 (en) | 2006-04-28 | 2009-12-08 | Asml Netherlands B.V. | Methods to clean a surface, a device manufacturing method, a cleaning assembly, cleaning apparatus, and lithographic apparatus |
| US20080216926A1 (en) | 2006-09-29 | 2008-09-11 | Chunlei Guo | Ultra-short duration laser methods for the nanostructuring of materials |
| US20080299408A1 (en) | 2006-09-29 | 2008-12-04 | University Of Rochester | Femtosecond Laser Pulse Surface Structuring Methods and Materials Resulting Therefrom |
| WO2008091898A1 (en) * | 2007-01-23 | 2008-07-31 | Imra America, Inc. | Ultrashort laser micro-texture printing |
| DE102007018402A1 (de) * | 2007-04-17 | 2008-10-23 | Panasonic Electric Works Europe Ag | Verfahren zum Einbringen einer Struktur in eine Oberfläche eines transparenten Werkstücks |
| NZ581823A (en) * | 2007-06-12 | 2012-09-28 | Technolines Llc | High speed and high power laser scribing system with a laser, mirror and controller |
| JP2010050138A (ja) * | 2008-08-19 | 2010-03-04 | Canon Machinery Inc | 微細周期構造形成方法 |
| KR101609899B1 (ko) | 2008-10-22 | 2016-04-06 | 도요세이칸 그룹 홀딩스 가부시키가이샤 | 미세 주기 구조를 갖는 적층 구조체 |
| PT2414130E (pt) | 2009-03-30 | 2015-06-08 | Boegli Gravures Sa | Método e dispositivo de estruturação de uma superfície de corpo sólido com um revestimento duro com um primeiro laser com pulsos no domínio dos nanossegundos e um segundo laser com pulsos no domínio dos pico ou fentossegundos; película de embalagem |
| US20110089039A1 (en) | 2009-10-16 | 2011-04-21 | Michael Nashner | Sub-Surface Marking of Product Housings |
| EP2336810A1 (de) | 2009-12-18 | 2011-06-22 | Boegli-Gravures S.A. | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von Farbmustern mittels Beugungsgitter |
| US8451873B2 (en) | 2010-02-11 | 2013-05-28 | Electro Scientific Industries, Inc. | Method and apparatus for reliably laser marking articles |
| US8379678B2 (en) | 2010-02-11 | 2013-02-19 | Electro Scientific Industries, Inc. | Method and apparatus for reliably laser marking articles |
| US8743165B2 (en) | 2010-03-05 | 2014-06-03 | Micronic Laser Systems Ab | Methods and device for laser processing |
| WO2011123515A1 (en) | 2010-03-30 | 2011-10-06 | Sun Chemical Corporation | A reversible piezochromic system, methods of making a reversible piezochromic system, and methods of using a reversible piezochromic system |
| US8389895B2 (en) * | 2010-06-25 | 2013-03-05 | Electro Scientifix Industries, Inc. | Method and apparatus for reliably laser marking articles |
| EP2593266A4 (en) * | 2010-07-12 | 2017-04-26 | Rofin-Sinar Technologies, Inc. | Method of material processing by laser filamentation |
| GB201011720D0 (en) | 2010-07-13 | 2010-08-25 | Univ Southampton | Controlling the colours of metals: bas-relief and intaglio metamaterials |
| RU2447012C1 (ru) | 2010-10-28 | 2012-04-10 | Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли Российской Федерации (Минпромторг России) | Способ получения наноструктурированной поверхности сталей методом лазерно-плазменной обработки |
| US20130083500A1 (en) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | Christopher D. Prest | Interferometric color marking |
| JP2013111595A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 金型加工方法およびエンブレムの形成方法 |
| US20150049593A1 (en) | 2012-03-12 | 2015-02-19 | Rolex Sa | Method for engraving a timepiece component and timepiece component obtained using such a method |
| CN103304276B (zh) * | 2012-03-14 | 2015-11-25 | 比亚迪股份有限公司 | 一种陶瓷基板表面金属化的方法及一种大功率led底座 |
| PL222531B1 (pl) | 2012-04-05 | 2016-08-31 | Wrocławskie Centrum Badań Eit + Spółka Z Ograniczoną | Sposób i system do kolorowego znakowania metali |
| US20140083984A1 (en) | 2012-09-23 | 2014-03-27 | Timothy Gerke | Formation Of Laser Induced Periodic Surface Structures (LIPSS) With Picosecond Pulses |
| FR2996487B1 (fr) * | 2012-10-08 | 2014-11-28 | Snecma | Procede de marquage en surface d'une piece de moteur a turbine a gaz par une representation graphique predefinie |
| GB201221184D0 (en) | 2012-11-24 | 2013-01-09 | Spi Lasers Uk Ltd | Method for laser marking a metal surface with a desired colour |
| US20140175067A1 (en) | 2012-12-20 | 2014-06-26 | Electro Scientific Industries, Inc. | Methods of forming images by laser micromachining |
| US9413137B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-08-09 | Nlight, Inc. | Pulsed line beam device processing systems using laser diodes |
| JP6079505B2 (ja) * | 2013-08-26 | 2017-02-15 | 三菱マテリアル株式会社 | 接合体及びパワーモジュール用基板 |
| CN103586578B (zh) | 2013-11-14 | 2016-08-31 | 苏州图森激光有限公司 | 一种材料表面激光黑化或着色方法 |
| FR3019074B1 (fr) * | 2014-04-01 | 2016-04-15 | Snecma | Procede de marquage en surface d'une piece mecanique par une representation graphique predefinie avec effet de type holographique |
| GB2527291B (en) | 2014-06-13 | 2021-01-13 | Res & Innovation Uk | Apparatus and methods relating to reduced photoelectron yield and/or secondary electron yield |
| ES2564054B1 (es) * | 2014-09-16 | 2016-12-27 | Consejo Superior De Investigaciones Científicas (Csic) | Recubrimiento anti-multipactor |
| WO2016159933A1 (en) * | 2015-03-27 | 2016-10-06 | Siemens Aktiengesellschaft | Hybrid ceramic matrix composite components for gas turbines |
| EP3031785B1 (de) * | 2014-12-12 | 2018-10-17 | Schott AG | Verfahren zur herstellung eines glaskeramikelements mit strukturierter beschichtung |
| CN104741852B (zh) * | 2015-03-19 | 2016-05-25 | 江苏大学 | 一种船用甲板焊接试验用可调式夹具 |
| TWI640381B (zh) * | 2015-04-21 | 2018-11-11 | Tocalo股份有限公司 | 基材的粗糙面化方法、基材的表面處理方法、熔射塗膜被覆構件的製造方法及熔射塗膜被覆構件 |
| CN108260349B (zh) | 2015-06-24 | 2020-07-03 | 敦提大学 | 用于降低光电子产率和/或二次电子产率的方法和装置 |
-
2016
- 2016-03-08 GB GBGB1603991.9A patent/GB201603991D0/en not_active Ceased
-
2017
- 2017-03-08 WO PCT/GB2017/050621 patent/WO2017153750A1/en not_active Ceased
- 2017-03-08 RU RU2018135083A patent/RU2018135083A/ru not_active Application Discontinuation
- 2017-03-08 EP EP17716291.4A patent/EP3397421A1/en not_active Withdrawn
- 2017-03-08 JP JP2018546883A patent/JP2019508256A/ja active Pending
- 2017-03-08 US US16/082,163 patent/US10994369B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2017-03-08 AU AU2017231862A patent/AU2017231862A1/en not_active Abandoned
- 2017-03-08 BR BR112018067765-5A patent/BR112018067765A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2017-03-08 CN CN201780012612.4A patent/CN109070266B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2017-03-08 CA CA3015159A patent/CA3015159A1/en not_active Abandoned
- 2017-03-08 KR KR1020187026071A patent/KR20190015180A/ko not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP3397421A1 (en) | 2018-11-07 |
| WO2017153750A1 (en) | 2017-09-14 |
| RU2018135083A3 (ru) | 2020-05-15 |
| CA3015159A1 (en) | 2017-09-14 |
| JP2019508256A (ja) | 2019-03-28 |
| US20190084081A1 (en) | 2019-03-21 |
| GB201603991D0 (en) | 2016-04-20 |
| BR112018067765A2 (pt) | 2019-01-15 |
| AU2017231862A1 (en) | 2018-08-23 |
| US10994369B2 (en) | 2021-05-04 |
| CN109070266A (zh) | 2018-12-21 |
| KR20190015180A (ko) | 2019-02-13 |
| CN109070266B (zh) | 2021-05-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2018102523A (ru) | Способ и устройство для уменьшения фотоэлектронного выхода и/или выхода вторичных электронов | |
| EP3169475B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum laserbasierten bearbeiten von flächigen, kristallinen substraten, insbesondere von halbleitersubstraten | |
| CN106457467B (zh) | 用于将飞秒或皮秒激光束掩模投射到衬底表面上的设备 | |
| US9335637B2 (en) | Laser-produced plasma EUV source with reduced debris generation utilizing predetermined non-thermal laser ablation | |
| Karasik et al. | Suppression of laser nonuniformity imprinting using a thin high-Z coating | |
| CN1617783A (zh) | 提高激光机加工除材速率的方法与设备 | |
| JP2015529161A5 (ru) | ||
| JP2015533654A5 (ru) | ||
| CN107004780A (zh) | 利用激光的三维图案化方法 | |
| PH12019000406A1 (en) | Material cutting using laser pulses | |
| RU2018135083A (ru) | Способ обработки и устройство | |
| CA3071681C (en) | Laser processing method and laser processing apparatus | |
| JP2019508256A5 (ru) | ||
| JP2019532494A5 (ru) | ||
| US8426834B2 (en) | Method and apparatus for the generation of EUV radiation from a gas discharge plasma | |
| EP2963743A1 (en) | Laser processing apparatus | |
| EA201892466A1 (ru) | Способ лазерного отжига неметаллических материалов | |
| DE102004040388A1 (de) | Einzelkopflaser für Laserschockbehandlung mit hohem Durchsatz | |
| RU2449048C2 (ru) | Способ лазерно-плазменного напыления покрытий | |
| RU2838925C1 (ru) | Способ лазерной ударной обработки металлической заготовки | |
| KR20250041172A (ko) | 공간적 목표 값 주변에 공간 통계적으로 도입되는 레이저 펄스를 통해 소재를 처리하기 위한 장치 및 방법 | |
| RU174220U1 (ru) | Устройство для отжига сегнетоэлектрика лазерным излучением с пространственным разрешением, превышающим дифракционный предел | |
| Kai et al. | Experimental investigation of laser generated shock waves and the onset of evaporation in a mini-shock glass tube filled with water | |
| Jiménez‐Jarquín et al. | Morphology of IR and UV Laser‐induced Structural Changes on Silicon Surfaces | |
| Volkov et al. | PRE-PULSE CONTROL OF FAST ELECTRONS PRODUCTION FROM SOLIDS AT RELATIVISTIC INTENSITIES |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FA92 | Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted) |
Effective date: 20210315 |