[go: up one dir, main page]

RU2008120015A - Не загрязняющийся материал и способ его получения - Google Patents

Не загрязняющийся материал и способ его получения Download PDF

Info

Publication number
RU2008120015A
RU2008120015A RU2008120015/03A RU2008120015A RU2008120015A RU 2008120015 A RU2008120015 A RU 2008120015A RU 2008120015/03 A RU2008120015/03 A RU 2008120015/03A RU 2008120015 A RU2008120015 A RU 2008120015A RU 2008120015 A RU2008120015 A RU 2008120015A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
titanium oxide
layer
use according
thin hydrophilic
hydrophilic layer
Prior art date
Application number
RU2008120015/03A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2430897C2 (ru
Inventor
Бернар НГЬЕМ (FR)
Бернар Нгьем
Жорж ЗАГДУН (FR)
Жорж Загдун
Элин ЗОНДЕРГАРД (FR)
Элин Зондергард
Ронан ГАРРЕК (FR)
Ронан Гаррек
Эдди РОЙЕР (FR)
Эдди Ройер
Андрий ХАРЧЕНКО (FR)
Андрий Харченко
Анн ЛЕЛАРЖ (FR)
Анн Леларж
Этьен БАРТЕЛЬ (FR)
Этьен Бартель
Original Assignee
Сэн-Гобэн Гласс Франс (Fr)
Сэн-Гобэн Гласс Франс
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from FR0553203A external-priority patent/FR2892408B1/fr
Priority claimed from FR0652877A external-priority patent/FR2903399B1/fr
Application filed by Сэн-Гобэн Гласс Франс (Fr), Сэн-Гобэн Гласс Франс filed Critical Сэн-Гобэн Гласс Франс (Fr)
Publication of RU2008120015A publication Critical patent/RU2008120015A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2430897C2 publication Critical patent/RU2430897C2/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/23—Mixtures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475—Inorganic materials
    • C03C2217/477—Titanium oxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/71—Photocatalytic coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/75—Hydrophilic and oleophilic coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/91—Coatings containing at least one layer having a composition gradient through its thickness
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/24562—Interlaminar spaces
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/24612—Composite web or sheet
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/24992—Density or compression of components
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
    • Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
    • Y10T428/264—Up to 3 mils
    • Y10T428/265—1 mil or less
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

1. Применение материала, состоящего из основы, имеющей покрытие на основе оксида титана, на которое нанесен тонкий гидрофильный слой, формирующий, по меньшей мере, часть наружной поверхности указанного материала и не содержащий оксид титана, в качестве материала, препятствующего оседанию неорганических загрязнителей на упомянутую наружную поверхность в отсутствие потока воды. ! 2. Применение по п.1, в котором тонкий гидрофильный слой имеет толщину меньше 10 нм, предпочтительно, между 1 и 2 нм. ! 3. Применение по п.1 или 2, в котором тонкий гидрофильный слой способен создать, в присутствии влаги окружающей среды и благодаря наличию подслоя из оксида титана, гидратационный слой, менее плотный, чем вода в жидком состоянии. ! 4. Применение по любому из пп.1 и 2 в котором тонкий гидрофильный слой образован на основе кремния и кислорода. ! 5. Применение по п.4, в котором тонкий гидрофильный слой состоит из оксида кремния (SiO2), возможно легированного такими атомами, как алюминий (Аl) или цирконий (Zr). ! 6. Применение по любому из пп.1 и 2, в котором покрытие на основе оксида титана состоит исключительно из оксида титана, аморфного или со структурой, по меньшей мере, частично кристаллической, в частности, в фазе анатаза или рутила. ! 7. Применение по любому из пп.1 и 2, в котором покрытие на основе оксида титана содержит различимые частицы оксида титана, по меньшей мере, частично кристаллические и диспергированные в связующем. ! 8. Применение по п.7, в котором тонкий гидрофильный слой составляет неотъемлемую часть покрытия на основе оксида титана и образует крайнюю поверхность. ! 9. Применение по любому из пп.1 и 2, в котором покрытие на основе оксида ти

Claims (28)

1. Применение материала, состоящего из основы, имеющей покрытие на основе оксида титана, на которое нанесен тонкий гидрофильный слой, формирующий, по меньшей мере, часть наружной поверхности указанного материала и не содержащий оксид титана, в качестве материала, препятствующего оседанию неорганических загрязнителей на упомянутую наружную поверхность в отсутствие потока воды.
2. Применение по п.1, в котором тонкий гидрофильный слой имеет толщину меньше 10 нм, предпочтительно, между 1 и 2 нм.
3. Применение по п.1 или 2, в котором тонкий гидрофильный слой способен создать, в присутствии влаги окружающей среды и благодаря наличию подслоя из оксида титана, гидратационный слой, менее плотный, чем вода в жидком состоянии.
4. Применение по любому из пп.1 и 2 в котором тонкий гидрофильный слой образован на основе кремния и кислорода.
5. Применение по п.4, в котором тонкий гидрофильный слой состоит из оксида кремния (SiO2), возможно легированного такими атомами, как алюминий (Аl) или цирконий (Zr).
6. Применение по любому из пп.1 и 2, в котором покрытие на основе оксида титана состоит исключительно из оксида титана, аморфного или со структурой, по меньшей мере, частично кристаллической, в частности, в фазе анатаза или рутила.
7. Применение по любому из пп.1 и 2, в котором покрытие на основе оксида титана содержит различимые частицы оксида титана, по меньшей мере, частично кристаллические и диспергированные в связующем.
8. Применение по п.7, в котором тонкий гидрофильный слой составляет неотъемлемую часть покрытия на основе оксида титана и образует крайнюю поверхность.
9. Применение по любому из пп.1 и 2, в котором покрытие на основе оксида титана и тонкий гидрофильный слой образуют слой, состоящий из оксида титана и оксида кремния, причем содержание оксида титана на уровне упомянутой наружной поверхности не равно нулю, а содержание оксида кремния более высокое на уровне наружной поверхности, чем в центре слоя.
10. Применение по любому из пп.1 и 2, в котором подслой, барьерный к ионам шелочного металла, расположен прямо под покрытием на основе оксида титана.
11. Применение материала, состоящего из основы, имеющей покрытие на основе оксида титана, на которое нанесен тонкий гидрофильный слой, формирующий, по меньшей мере, часть наружной поверхности упомянутого материала и не содержащий оксид титана, в качестве материала, имеющего свойство не загрязняться при установлении его с наружной стороны в зонах, защищенных от дождя, или в географических зонах с очень редкими осадками.
12. Материал, состоящий из основы, имеющей покрытие на основе оксида титана, на которое нанесен тонкий гидрофильный слой, формирующий, по меньшей мере, часть наружной поверхности упомянутого материала и не содержащий оксид титана, отличающийся тем, что упомянутый тонкий гидрофильный слой способен создавать в присутствии влаги окружающей среды и благодаря наличию подслоя из оксида титана гидратационный слой, менее плотный, чем вода в жидком состоянии.
13. Материал, состоящий из основы, имеющей покрытие на основе оксида титана, на который нанесен тонкий гидрофильный слой, формирующий, по меньшей мере, часть наружной поверхности упомянутого материала и не содержащий оксид титана, отличающийся тем, что оксид титана, в основном, аморфен.
14. Материал, состоящий из основы, покрытой, по меньшей мере, одним слоем, поверхность которого формирует, по меньшей мере, часть наружной поверхности упомянутого материала, причем упомянутый слой состоит из оксида титана и оксида кремня, отличающийся тем, что содержание оксида титана на уровне упомянутой наружной поверхности не равно нулю, а содержание оксида кремния более высокое на уровне упомянутой наружной поверхности, чем в центре слоя.
15. Материал по п.14, в котором содержание оксида кремния растет непрерывным образом по толщине слоя от центра слоя, а именно от наиболее близкой к основе части до наружной поверхности.
16. Материал по п.14 или 15, в котором толщина слоя находится в диапазоне значений от 3 до 30 нм, предпочтительно, от 5 до 20 нм.
17. Материал по любому из пп.14 и 15, в котором содержание оксида кремния в наиболее близкой к основе части слоя не равно нулю.
18. Материал по любому из пп.14 и 15, в котором подслой, барьерный к ионам щелочного металла, расположен прямо под слоем, состоящим из оксида титана и оксида кремния.
19. Материал по п.18, в котором подслой, барьерный к ионам щелочного металла, представляет собой слой из SiOC, предпочтительно, нанесенный способом CVD прямо на основу.
20. Материал по п.19, в котором подслой из SiOC имеет на своей поверхности выпуклости, разделенные регулярными промежутками, причем их ширина в основании, предпочтительно, равна примерно от 60 до 120 нм и высота примерно от 20 до 25 нм.
21. Способ получения материала, состоящего из основы, покрытой, по меньшей мере, одним слоем, содержащим оксид титана и оксид кремния, согласно которому упомянутый слой нанесен способом химического осаждения из паровой фазы (CVD) на упомянутую основу, двигающуюся вдоль оси, причем упомянутое осаждение осуществляют с помощью сопла, расположенного поперек оси движения упомянутой основы и имеющего одну щель, причем газообразные предшественники оксида титана и оксида кремния, не реагируя между собой, вводятся одновременно через единственную щель, и, по меньшей мере, один предшественник оксида титана имеет температуру разложения, присущую ему или заданную, достаточно более низкую, чем температура разложения, по меньшей мере, одного предшественника оксида кремния для того, чтобы образовался слой, в котором содержание оксида кремния растет непрерывным образом по толщине слоя.
22. Способ по п.21, в котором вводят один предшественник оксида титана и один предшественник оксида кремния.
23. Способ по п.22, в котором разница между соответствующими температурами разложения предшественников оксида титана и оксида кремния составляет, по меньшей мере, 50°С.
24. Способ по п.23, в котором предшественниками оксида кремния и оксида титана являются, соответственно, тетраэтоксисилан (ТЭОС) и тетраизопропилтитанат (ТИПТ).
25. Способ по любому из пп.21-24, в котором молярное отношение Ti/(Ti+Si), рассчитанное исходя из мольных количеств введенных атомов Ti и Si (присутствующих в газовой фазе), находится в диапазоне значений от 0,85 до 0,96, предпочтительно, от 0,90 до 0,93.
26. Материал, который может быть получен согласно способу по любому из пп.21-25.
27. Материал, по любому из предыдущих пунктов, касающихся материала, в котором основа представляет собой стекло.
28. Стекло или экран для визуализации, включающие, по меньшей мере, один материал по предыдущим пунктам формулы изобретения.
RU2008120015/03A 2005-10-21 2006-10-20 Незагрязняющийся материал и способ его получения RU2430897C2 (ru)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0553203A FR2892408B1 (fr) 2005-10-21 2005-10-21 Utilisation d'un substrat anti-salissures
FR0553203 2005-10-21
FR0652877A FR2903399B1 (fr) 2006-07-07 2006-07-07 Materiau anti-salissures et son procede d'obtention
FR0652877 2006-07-07

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2008120015A true RU2008120015A (ru) 2009-11-27
RU2430897C2 RU2430897C2 (ru) 2011-10-10

Family

ID=37888021

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2008120015/03A RU2430897C2 (ru) 2005-10-21 2006-10-20 Незагрязняющийся материал и способ его получения

Country Status (10)

Country Link
US (1) US7955687B2 (ru)
EP (1) EP1940750A2 (ru)
JP (1) JP5199102B2 (ru)
KR (1) KR101402175B1 (ru)
AU (1) AU2006303170B2 (ru)
BR (1) BRPI0617646A2 (ru)
CA (1) CA2626843C (ru)
RU (1) RU2430897C2 (ru)
UA (1) UA96581C2 (ru)
WO (1) WO2007045805A2 (ru)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006017349A1 (en) 2004-07-12 2006-02-16 Cardinal Cg Company Low-maintenance coatings
US8227688B1 (en) 2005-10-17 2012-07-24 Solaria Corporation Method and resulting structure for assembling photovoltaic regions onto lead frame members for integration on concentrating elements for solar cells
US7910822B1 (en) 2005-10-17 2011-03-22 Solaria Corporation Fabrication process for photovoltaic cell
KR101431230B1 (ko) 2006-04-11 2014-08-18 카디날 씨지 컴퍼니 개선된 낮은 유지 특성이 있는 광촉매성 코팅
US20080011599A1 (en) 2006-07-12 2008-01-17 Brabender Dennis M Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control
DE102006038593A1 (de) * 2006-08-17 2008-02-21 Siemens Ag Selbstreinigende Oberflächenbeschichtung (Photokatalyse)
US7910392B2 (en) 2007-04-02 2011-03-22 Solaria Corporation Method and system for assembling a solar cell package
US20090056806A1 (en) * 2007-09-05 2009-03-05 Solaria Corporation Solar cell structure including a plurality of concentrator elements with a notch design and predetermined radii and method
US8119902B2 (en) 2007-05-21 2012-02-21 Solaria Corporation Concentrating module and method of manufacture for photovoltaic strips
CA2664368A1 (en) 2007-09-14 2009-03-19 Cardinal Cg Company Low-maintenance coating technology
US7910035B2 (en) 2007-12-12 2011-03-22 Solaria Corporation Method and system for manufacturing integrated molded concentrator photovoltaic device
FR2940966B1 (fr) * 2009-01-09 2011-03-04 Saint Gobain Substrat hydrophobe comprenant un primage du type oxycarbure de silicium active par plasma
US20100294338A1 (en) * 2009-02-20 2010-11-25 Solaria Corporation Large Area Concentrator Lens Structure and Method
DE102009014600C5 (de) * 2009-03-24 2015-04-02 Dyckerhoff Gmbh Photokatalytisch aktivierte Bauteile aus einer mit einem mineralischen Bindemittel gebundenen Matrix sowie Verfahren zur Herstellung der Bauteile
FR2948037B1 (fr) 2009-07-17 2012-12-28 Saint Gobain Materiau photocatalytique
FR2949774B1 (fr) 2009-09-08 2011-08-26 Saint Gobain Materiau comprenant un substrat en verre revetu d'un empilement de couches minces
FR2950878B1 (fr) 2009-10-01 2011-10-21 Saint Gobain Procede de depot de couche mince
JP5586300B2 (ja) * 2010-03-31 2014-09-10 デクセリアルズ株式会社 機能性積層体及び機能性構造体
US20110242658A1 (en) * 2010-04-05 2011-10-06 Honeywell International Inc. Film structure having inorganic surface structures and related fabrication methods
FR2971519A1 (fr) 2011-02-16 2012-08-17 Saint Gobain Procede d’obtention d’un materiau photocatalytique
USD699176S1 (en) 2011-06-02 2014-02-11 Solaria Corporation Fastener for solar modules
BR112013033726A2 (pt) * 2011-06-30 2017-01-31 Agc Glass Europe camadas de nanocompostos transparentes temperáveis e não temperáveis
FR2993200B1 (fr) * 2012-07-13 2014-07-18 Saint Gobain Element transparent a reflexion diffuse comprenant une couche sol-gel
WO2014186113A2 (en) * 2013-05-17 2014-11-20 3M Innovative Properties Company Easy-clean surface and method of making the same
US10317578B2 (en) 2014-07-01 2019-06-11 Honeywell International Inc. Self-cleaning smudge-resistant structure and related fabrication methods
EP3541762B1 (en) 2016-11-17 2022-03-02 Cardinal CG Company Static-dissipative coating technology
RU2661531C1 (ru) * 2017-07-27 2018-07-17 Акционерное общество "Научно-производственный комплекс "Дедал" Мобильный быстроустанавливаемый автономный пост технического наблюдения для контроля обстановки на охраняемой территории
FR3105211B1 (fr) 2019-12-18 2021-12-31 Saint Gobain Vitrage photocatalytique comprenant une couche à base de nitrure de titane
CN111501015B (zh) * 2020-04-30 2022-08-19 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品
JP7757968B2 (ja) * 2020-09-04 2025-10-22 Ａｇｃ株式会社 ガラス物品

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2736632B1 (fr) * 1995-07-12 1997-10-24 Saint Gobain Vitrage Vitrage muni d'une couche conductrice et/ou bas-emissive
JP2901550B2 (ja) 1996-07-26 1999-06-07 株式会社村上開明堂 防曇素子
US6124026A (en) * 1997-07-07 2000-09-26 Libbey-Owens-Ford Co. Anti-reflective, reduced visible light transmitting coated glass article
FR2780054B1 (fr) 1998-06-19 2000-07-21 Saint Gobain Vitrage Procede de depot d'une couche a base d'oxyde metallique sur un substrat verrier, substrat verrier ainsi revetu
KR20010031599A (ko) 1998-09-30 2001-04-16 마쯔무라 미노루 광촉매 물품과 방담방오 물품 및 방담방오 물품의 제조방법
JP3904355B2 (ja) * 1998-12-03 2007-04-11 日本板硝子株式会社 親水性光触媒部材
JP2001025666A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Nippon Sheet Glass Co Ltd 積層体およびその製造方法
JP3622585B2 (ja) 1999-08-05 2005-02-23 日本板硝子株式会社 光触媒活性を有する物品
US7041170B2 (en) 1999-09-20 2006-05-09 Amberwave Systems Corporation Method of producing high quality relaxed silicon germanium layers
JP3701826B2 (ja) 1999-11-12 2005-10-05 株式会社村上開明堂 有色防曇鏡
JP2001264509A (ja) * 2000-03-21 2001-09-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd 反射防止膜が被覆された物品およびその製造方法
JP2002047032A (ja) * 2000-08-01 2002-02-12 Nippon Sheet Glass Co Ltd 光触媒膜付き基板及びその製造方法
GB0021396D0 (en) 2000-09-01 2000-10-18 Pilkington Plc Process for coating glass
JPWO2002100634A1 (ja) 2001-06-11 2004-09-24 株式会社村上開明堂 防曇素子及びその形成方法
US20040241456A1 (en) * 2001-09-28 2004-12-02 Takeyuki Yamaki Soil-resisting film formed article
JP2004124180A (ja) * 2002-10-03 2004-04-22 Hidetoshi Saito 針状金属酸化物構造体の製造方法及び製造装置
FR2861386B1 (fr) * 2003-10-23 2006-02-17 Saint Gobain Substrat, notamment substrat verrier, portant une couche a propriete photocatalytique revetue d'une couche mince protectrice.
JP4877941B2 (ja) * 2005-09-30 2012-02-15 エスケー化研株式会社 塗膜積層体

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007045805A8 (fr) 2007-07-26
UA96581C2 (ru) 2011-11-25
BRPI0617646A2 (pt) 2011-08-02
US7955687B2 (en) 2011-06-07
JP2009512573A (ja) 2009-03-26
WO2007045805A2 (fr) 2007-04-26
AU2006303170A1 (en) 2007-04-26
US20080241479A1 (en) 2008-10-02
EP1940750A2 (fr) 2008-07-09
CA2626843C (en) 2015-03-17
KR101402175B1 (ko) 2014-06-19
CA2626843A1 (en) 2007-04-26
RU2430897C2 (ru) 2011-10-10
KR20080055865A (ko) 2008-06-19
AU2006303170B2 (en) 2012-10-11
WO2007045805A3 (fr) 2007-06-14
JP5199102B2 (ja) 2013-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2008120015A (ru) Не загрязняющийся материал и способ его получения
RU2269494C2 (ru) Прозрачная подложка со слоем из производного кремния
Duminica et al. Growth of TiO2 thin films by AP-MOCVD on stainless steel substrates for photocatalytic applications
CN1286762C (zh) 具有自清洁涂层的基底
Shaikhutdinov et al. Ultrathin silica films on metals: The long and winding road to understanding the atomic structure
Chen et al. Structure of thin SiO 2 films grown on Mo (112)
US6379776B1 (en) Nonfogging and stainproof glass articles
Nigro et al. Comparison between thermal and plasma enhanced atomic layer deposition processes for the growth of HfO2 dielectric layers
US9534293B2 (en) Process for depositing a thin layer and product obtained thereby
CN108126681A (zh) 用于增强二氧化钛（TiO2）涂层的光催化活性的成核层
ES2328297T3 (es) Chapa de acero inoxidable revestida por un revestimiento auto-limpiador.
JP2005528313A5 (ru)
KR20090023609A (ko) 도포액，도포액을 이용하여 형성한 산화티탄박막 및 그 형성방법
MX2007000528A (es) Recubrimientos de oxicarburo de silicio que tienen propiedades hidrofilicas durables.
US9126193B2 (en) Photocatalytic film, method for forming photocatalytic film and photocatalytic film coated product
Premkumar et al. Morphological description of ultra‐smooth organo‐silicone layers synthesized using atmospheric pressure dielectric barrier discharge assisted PECVD
Prakash Thin film studies of oxides by the organometallic-CVD technique
Wang et al. Area-selective growth of ruthenium dioxide nanorods on LiNbO 3 (100) and Zn/Si substrates
KR101258768B1 (ko) 무연 압전박막의 제조방법
JP4668043B2 (ja) ヘリウム分離材の製造方法
KR20050117342A (ko) 광촉매 산화물이 코팅된 자동차 사이드 미러 및 그 코팅방법
JP4086055B2 (ja) 防曇防汚ガラス物品
Kuo et al. Properties of CVD alumina–titania composite films grown at different CO2/H2 inputs
Kuo et al. Growth of chemical vapor deposition aluminum titanate films at different CO 2/H 2 and aluminum butoxide inputs
Vives et al. Evolution with temperature of a single sol–gel TIO2 layer on sapphire (α-Al2O3)(0 0 0 1)

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20161021