KR20100051672A - 고형화된 세정제 조성물 및 이의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
[화학식 1]
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타낸다.
Description
도 2는 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드에 계면활성제를 첨가하지 않은 용액, 양이온성 계면활성제를 첨가한 용액, 비이온성 계면활성제를 첨가한 용액에 있어서, 각 반응계의 용액을 동결건조하고 이의 재용해액의 항균성을 평가한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 3은 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드에 계면활성제를 첨가하지 않은 용액, 양이온성 계면활성제를 첨가한 용액, 비이온성 계면활성제를 첨가한 용액에 있어서, 각 항균제의 재용해액으로 처리한 유리의 항균성을 평가한 결과를 나타낸 그래프이다.
| 계면활성제 | 용매첨가 | 70℃에서의 공비 | 수도물에서의 용해성 | |
| QAS 원액 | 없음 | 없음 | 겔화·고형화 | 겔→고형화 |
| QAS | HD | 없음 | 겔화·고형화 | 겔→고형화 |
| QAS | HD | 아세톤 | 겔화·고형화 | 겔→고형화 |
| QAS | HD | 에탄올 | 겔화·고형화 | 가볍게 겔화되었으나, 고형화되지 않음 |
| 계면활성제 | 용매첨가 | 동결건조 15분간 | 수도물에서의 용해성 | 용해후의 거동 | |
| QAS 원액 | 없음 | 없음 | 분말화 (1시간) | 문제없음 | 겔고형화 |
| QAS 원액 | 없음 | 에탄올 | 분말화 (5시간) | 문제없음 | 겔고형화 |
| QAS | PO | 없음 | 분말화 | 문제없음 | 문제없음 |
| QAS | HD | 없음 | 분말화 | 문제없음 | 문제없음 |
| QAS | HD | 에탄올 | 분말화 | 문제없음 | 문제없음 |
| QAS | HD | t-부틸알코올 | 분말화 | 문제없음 | 문제없음 |
| 계면활성제 | 용매첨가 | 동결건조 15분간 | 수도물에서의 용해성 | 용해후의 거동 | |
| QAS 원액 | 없음 | 없음 | 분말화 | 문제없음 | 겔고형화 |
| QAS 원액 | 없음 | 없음 | 분말화후 PO | 문제없음 | 문제없음 |
| QAS 원액 | 없음 | 없음 | 분말화후 HD | 문제없음 (약간 백탁) | 문제없음 |
Claims (26)
- (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 용액을 감압건조한 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물:
[화학식 1]
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄. - (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물을 함유한 용액을 감압건조하고, 얻어진 감압건조물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물:
[화학식 2]
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄. - 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 감압건조를 -30℃ 내지 -60℃에서 수행한 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 규소 함유 화합물 (a)의 R1은 탄소원자수 10 내지 25의 알킬기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬기를 나타내며, R4는 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬렌기를 나타내며, R5, R6 및 R7은 같거나 다를 수 있고 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기 카르보키닐옥시 이온인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 규소 함유 화합물 (a)이, 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 옥타데실디에틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(2-트리메틸실릴에틸)암모늄 클로라이드, 옥타데실디프로필(4-트리메톡시실릴부틸)암모늄 아세테이트, 옥타데실디메틸(3-트리에톡시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(3-트리이소프로폭시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(3-트리에틸시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(3-트리이소프로필시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 헵타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 헵타데실디이소프로필(2-트리에톡시실릴에틸)암모늄 클로라이드, 헥사데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 헥사데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 아세테이트 및 펜타사데실디메틸(3-트리에톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 규소 함유 화합물인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 규소 함유 화합물 (a)이, 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 7에 있어서, 상기 일반식 (2)로 표시되는 상기 양이온 계면활성제 (b11)의 R11는 탄소원자수 10 내지 25의 알킬기를 나타내며, R12, R13 및 R14는 같거나 다를 수 있고 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬기를 나타내며, Y가 할로겐 이온 또는 유기 카르보닐옥시 이온인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서, 상기 양이온 계면활성제 (b11)가 데실트리메틸암모늄클로라이드, 데실트리에틸암모늄아세테이트, 도데실트리메틸암모늄아세테이트, 도데실트리이소프로필암모늄브로마이드, 트리데실트리에틸암모늄프로마이드, 테트라데실트리메틸암모늄클로라이드, 테트라데실트리에틸암모늄클로라이드, 테트라데실트리-n-프로필암모늄클로라이드, 펜타데실트리메틸암모늄클로라이드, 펜타데실트리에틸암모늄클로라이드, 펜타데실트리-n-프로필암모늄클로라이드, 헥사데실트리메틸암모늄클로라이드, 헥사데실트리에틸암모늄클로라이드, 헥사데실트리-n-프로필암모늄클로라이드, 옥타데실트리메틸암모늄클로라이드, 옥타데실트리에틸암모늄클로라이드 및 옥타데실트리-n-프로필암모늄클로라이드로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한종인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서, 상기 양이온 계면활성제 (b1)가 헥사데실트리메틸암모늄클로라이드인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비이온 계면활성제 (b2)가 폴리옥시에틸렌 단위 및/또는 폴리옥시프로필렌 단위를 함유하는 폴리옥시알킬렌 글리콜의 알킬에테르 또는 지방산 에스테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 지방산 모노글리세라이드로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 비이온성 계면활성제인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 6, 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비이온성 계면활성제 (b2)가 폴리옥시에틸렌솔비탄모노라우레이트인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서, 상기 규소 함유 화합물 (a)로서 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄클로라이드, 및 상기 양이온 계면활성제 (b1)로서 헥사데실트리메틸암모늄클로라이드를 함유하는 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 6, 청구항 11 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서, 상기 규소 함유 화합물 (a)로서 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄클로라이드, 및 상기 비이온 계면활성제 (b2)로서 폴리옥시에틸렌솔비탄모노라우레이트를 함유하는 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 있어서, 필요에 따라 탄소수 10 이하의 저급 알코올을 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 15에 있어서, 상기 저급 알코올이 탄소수 5 이하의 알코올인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 15 내지 청구항 16에 있어서, 상기 저급 알코올이 에탄올, t-부틸알코올, 프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, sec-부틸알코올, tert-부틸알코올 및 펜틸알코올로 이루어진 군에서 선택된 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- 청구항 1 내지 청구항 17 중 어느 한 항에 있어서, 수도물에 재용해가능한 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
- (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 용액을 제조하는 공정, 및
상기 용액을 감압건조하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물의 제조방법:
[화학식 4]
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄. - (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물의 용액을 감압건조하는 공정, 및
상기 공정에서 얻어진 감압건조물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물의 제조방법;
[화학식 5]
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄. - 청구항 19 또는 청구항 20에 있어서, 상기 감압건조를 -30℃ 내지 -60℃에서 수행한 것을 특징으로 하는, 제조방법.
- 청구항 19 내지 청구항 21 중 어느 한 항에 있어서, 필요에 따라 상기 용액에 탄소수 10 이하의 저급 알코올을 추가로 첨가하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 제조방법.
- (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법에 있어서, 상기 규소 함유 화합물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 용액을 제조하는 공정, 및
상기 용액을 감압건조하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 상기 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법:
[화학식 6]
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄. - (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법에 있어서, 상기 규소 화합물의 용액을 감압건조하는 공정, 및
상기 공정에서 얻어진 감압건조물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 상기 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법:
[화학식 7]
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄. - 청구항 23 또는 청구항 24에 있어서, 상기 감압건조를 -30℃ 내지 -60℃에서 수행한 것을 특징으로 하는, 방법.
- 청구항 23 내지 청구항 25 중 어느 한 항에 있어서, 필요에 따라 상기 용액에 탄소수 10 이하의 저급 알코올을 추가로 첨가하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 방법.
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