KR20020002249A - 디페닐요소 화합물, 이들의 제조 방법 및 이들을 함유하는약제학적 조성물 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염:상기 식에서,R1, R2, R3및 R4는 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 알킬, 알콕시, 하이드록시, 알킬티오, 머캅토, 시아노, (하나 또는 두 개의 알킬기에 의해 임의적으로 치환된)아미노, 니트로, 카복시, 알콕시카보닐, (하나 또는 두 개의 알킬기에 의해 임의적으로 치환된)아미노카보닐 또는 카바모일기를 나타내거나, 짝을 지어, 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 결합하여 5원 내지 7원 링을 가지고 있고 질소, 산소 및 황으로부터 선택된 1개 내지 3개의 헤테로 원자를 포함하는 페닐 링 또는 방향족 헤테로사이클을 형성하고,L1및 L2는 각각 수소 원자를 나타내거나 함께 결합하여 -CH2-CH2- 기를 형성하고,방향족 링의 2 또는 3 위치에 결합된 X1은 단일결합을 나타내고, 이러한 경우에, X2는 수소 원자, 할로겐 원자, 알킬, 알콕시, 하이드록시, 니트로 또는 시아노기, 또는 (하나 또는 두 개의 알킬기에 의해 임의적으로 치환된)아미노기를 나타내거나,X1및 X2는 방향족 링의 2, 3 또는 4 위치에서 이들이 결합되어 있는 두 개의 인접한 탄소 원자와 함께 결합하여 사이클로알킬 링의 하나 또는 두 개의 -CH2- 기가 산소 원자 또는 (알킬기에 의해 임의적으로 치환된)NH 기에 의해 임의적으로 치환되고 사이클로알킬 링의 하나의 탄소 원자가 G 기에 의해 치환된 (C4-C7)사이클로알킬기를 형성하고,X3는 수소 원자, 할로겐 원자, 알킬, 알콕시, 하이드록시, 니트로 또는 시아노기, 또는 아미노기(하나 또는 두 개의 알킬기에 의해 임의적으로 치환된)를 나타내고,G는 하기 식으로부터 선택된 기를 나타내며:상기 식에서,점선은 임의적으로 존재하는 이중결합을 나타내고,Alk는 선형 또는 분지된 (C1-C6)알킬렌기를 나타내고, 여기서 G1또는 G2가 이미다졸린기를 포함하는 경우, Alk-기는 링의 2 위치에 결합하고,n은 0 또는 1이고,T3는 알킬, 임의적으로 치환된 아릴, 임의적으로 치환된 아릴알킬, 임의적으로 치환된 헤테로아릴 또는 임의적으로 치환된 헤테로아릴알킬기를 나타내고,T4는 알킬, 임의적으로 치환된 아릴, 임의적으로 치환된 아릴알킬, 임의적으로 치환된 헤테로아릴 또는 임의적으로 치환된 헤테로아릴알킬기를 나타내고;여기서,- 용어 "알킬"은 1개 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지된 기를 나타내고,- 용어 "알콕시"는 1개 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 선형 또는 분지된 알킬-옥시기를 나타내고,- 용어 "아릴"은 페닐, 나프틸 또는 비페닐기를 나타내고,- 용어 "헤테로아릴"은 방향족 모노사이클릭 기, 또는 링 중 적어도 하나가 방향족이고, 각각의 기가 5원 내지 11원 링 및 질소, 산소 및 황으로부터 선택된 1개 내지 5개의 헤테로 원자를 포함하는 비사이클릭 기를 나타내고,- 아릴, 아릴알킬, 헤테로아릴 및 헤테로아릴알킬기와 관련된 표현 "임의적으로 치환된"은 상기 기들이 하나 이상의 할로겐 원자 및/또는 알킬, 알콕시, 하이드록시, 머캅토, 알킬티오, 시아노, (하나 또는 두 개의 알킬기에 의해 임의적으로 치환된)아미노, 니트로, 카복시, 알콕시카보닐, (하나 또는 두 개의 알킬기에 의해 임의적으로 치환된)아미노카보닐 또는 카바모일기에 의해 사이클릭 잔기상에서 치환되거나 치환되지 않음을 나타내고, 여기서 헤테로아릴 및 헤테로아릴알킬기는 옥소기에 의해 추가적으로 치환될 수 있다.
- 제 1항에 있어서, L1및 L2가 각각 수소 원자를 나타냄을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- 제 1항에 있어서, L1및 L2가 함께 결합하여 -CH2-CH2- 기를 형성함을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- 제 1항에 있어서, R1및 R4가 각각 수소 원자를 나타냄을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- 제 1항에 있어서, R2및 R3가 할로겐 원자 및 알킬기로부터 선택됨을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- 제 1항에 있어서, X1이 페닐 링의 2 위치에 결합되어 있음을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 이들의 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- 제 1항에 있어서, X1이 단일결합을 나타내고 X2가 할로겐 원자 또는 알킬 또는 알콕시기를 나타냄을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- 제 1항에 있어서, X3가 수소 원자를 나타냄을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- 제 1항에 있어서, R3및 R4가 이들이 결합되어 있는 탄소 원자와 함께 결합하여 페닐 링을 형성하고 L1및 L2가 함께 결합하여 -CH1-CH2- 기를 형성함을 특징으로하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- 제 1항에 있어서, G가 하기 식으로부터 선택됨을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염:상기 식에서, T'3는 더욱 특히 임의적으로 치환된 헤테로아릴기 또는 임의적으로 치환된 헤테로아릴알킬기일 것이다.
- 제 1항에 있어서, X1및 X2가 이들이 결합되어 있는 방향족 링의 2 및 3 위치의 두 개의 탄소 원자와 함께 결합하여 (C4-C7)사이클로알킬기를 형성함을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- N-(3-클로로-4-메틸페닐)-N'-{3-[4-(2,3-디하이드로-1,4-벤조디옥신-2-일메틸)-1-피페라지닐]페닐}요소임을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- N-[4-클로로-3-(4,5-디하이드로-1H-이미다졸-2-일아미노)페닐]-N'-(3-클로로-4-메틸페닐)요소임을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- N-(3-클로로-4-메틸페닐)-N'-[2-(1H-이미다졸-4-일)-인단-5-일]요소임을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- N-{3-[4-(2,3-디하이드로-1,4-벤조디옥신-2-일메틸)-1-피페라지닐]페닐}-N'-(3,4-디메틸페닐)요소임을 특징으로 하는 화학식 (I)의 화합물, 이들의 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 이들과 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염.
- 화학식 (II)의 방향족 아민을 출발 물질로서 사용하여, 이를 화학식 (III)의 화합물과 함께 염기성 매질중에서 가열시킴으로써 축합시켜 화학식 (I)의 화합물의 특정 형태인 화학식 (I/a)의 화합물을 수득하는 것을 특징으로 하는 제 1항에 따른 화학식 (I)의 화합물을 제조하는 방법으로서, 화학식 (III)의 이소시아네이트가 상업적으로 입수되거나 공지된 방법에 따라 제조되고, 화학식 (I/a)의 화합물이, 필요한 경우, 통상적인 정제 기술에 따라 정제될 수 있거나, 임의적으로 통상적인 분리 기술에 따라 이성질체로 분리되거나, 원하는 경우, 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염으로 전환되는 방법:상기 식에서, R1, R2, R3, R4, X1, X2, X3및 G는 화학식 (I)에 대해 정의한 바와 같다.
- 화학식 (IV)의 아민을 출발 물질로 사용하여, 이를 화학식 (V)의 화합물과 함께 염기성 매질중에서 가열시킴으로써 축합시켜 화학식 (I)의 화합물의 특정 형태인 화학식 (I/b)의 화합물을 수득함을 특징으로 하는 제 1항에 따른 화학식 (I)의 화합물을 제조하는 방법으로서, 화학식 (V)의 이소시아네이트가 상업적으로 입수되거나 공지된 방법에 따라 제조되고, 화학식 (I/b)의 화합물이, 필요한 경우, 통상적인 정제 기술에 따라 정제될 수 있거나, 임의적으로 통상적인 분리 기술에 따라 이성질체로 분리되거나, 원하는 경우, 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염으로 전환되는 방법:상기 식에서, R1, R2, R3, R4, L1, L2, X1, X2, X3및 G는 화학식 (I)에 대해 정의한 바와 같다.
- 화학식 (VI)의 아민을 출발 물질로서 사용하여, 이를 화학식 (III)의 화합물과 함께 염기성 매질중에서 가열함으로써 축합시켜 화학식 (VII)의 화합물을 수득하고, 이 화학식 (VII)의 화합물을,- GN34가 1-피페라지닐 또는 4-피페리디닐기를 나타내는 경우, 필요에 따라 아민 작용기를 탈보호시킨 후에, 염기성 매질중에서 치환 반응시켜 화학식 (I)의 화합물의 특정 형태인 화학식 (I/c)의 화합물을 수득하거나,- GN34가 NH기를 나타내는 경우, 필요에 따라 탈보호시킨 후에, 티오포스젠으로 축합시켜 화학식 (VIII)의 화합물을 수득하고, 이 화합물을 에틸렌디아민으로 처리하여 화학식 (IX)의 화합물을 수득하고, 이 화학식 (IX)의 화합물을 팔라듐 화합물을 촉매로 하여 분자내 고리화 반응시켜 화학식 (I)의 화합물의 특정 형태인 화학식 (I/d)의 화합물을 수득하고,이러한 화학식 (I/c) 및 화학식 (I/d)의 화합물이, 필요한 경우, 통상적인 정제 기술에 따라 정제될 수 있거나, 임의적으로 통상적인 분리 기술에 따라 이성질체로 분리되거나, 원하는 경우, 약제학적으로 허용되는 산 또는 염기와의 부가염으로 전환되는 방법:상기 식에서, R1, R2, R3, R4, X1, X2및 X3는 화학식 (I)에 대해 정의한 바와 같고, GN34는 NH기 또는 1-피페라지닐 또는 4-피페리디닐기를 나타내고, P는 수소 원자 또는 아민 작용기를 보호하는 기를 나타내고, G34는 화학식 (I)에 대해 정의한바와 같이 G3또는 G4기를 나타낸다.
- 활성 성분으로서의 제 1항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 따른 1종 이상의 화합물을 단독으로 포함하거나 1종 이상의 약제학적으로 허용되는 불활성이고 비독성인 부형제 또는 캐리어와 조합된 형태로 포함하는 약제학적 조성물.
- 제 19항에 있어서, 우울증, 불안, 정신분열증, 파킨슨병, 인지장애, 리비도 장애, 성기능장애, 수면장애, 약물 남용 및 충동성 행위 장애의 치료에 있어서 이중 α2/5-HT2c길항제로서 유용한 약제를 제조하는데 사용하기 위해 제 1항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 따른 1종 이상의 활성 성분을 함유함을 특징으로 하는 약제학적 조성물.
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