[go: up one dir, main page]

JPH0859611A - ヘテロ環誘導体の製造法 - Google Patents

ヘテロ環誘導体の製造法

Info

Publication number
JPH0859611A
JPH0859611A JP22596294A JP22596294A JPH0859611A JP H0859611 A JPH0859611 A JP H0859611A JP 22596294 A JP22596294 A JP 22596294A JP 22596294 A JP22596294 A JP 22596294A JP H0859611 A JPH0859611 A JP H0859611A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
substituent
group
compound represented
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22596294A
Other languages
English (en)
Inventor
Isami Hamamoto
伊佐美 浜本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Soda Co Ltd filed Critical Nippon Soda Co Ltd
Priority to JP22596294A priority Critical patent/JPH0859611A/ja
Publication of JPH0859611A publication Critical patent/JPH0859611A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Furan Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】工程ａ及びｂを経ることを特徴とする、式
〔Ｉ〕で表されるヘテロ環誘導体の製造法。 【化１】 〔式中、R1はアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基等を表し、R2は電子吸引性基を表し、R3
は水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表
し、X はNR5 、O 又はS を表し、Y は水素原子、カルボ
キシ基、CO0R6 又はシアノ基を表し、R6はアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基等を表し、R5
は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
等を表す。〕 【効果】簡便に収率よく工業的に有利に製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子吸引性基を３位に有
するピロ−ル、フランおよびチオフェン等のヘテロ環誘
導体の簡便で収率のよい製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ピロ−ル、フランおよびチオフェン類の
合成法の中で、（３＋２）のユニットからなる環化法
は、「２」のユニットとして、α位にヘテロ原子（Ｎ，
Ｏ，Ｓ）をもつ酢酸誘導体（即ち、グリシン、グリコ−
ル酸、チオグリコ−ル酸誘導体）を用いることができ、
これら誘導体は容易にかつ安価に入手できるので極めて
有効な方法である。この方法に従う報告例は数多く知ら
れていて、ComprehensiveHeterocyclic Chemistry,vol.
4.,Part 3.(1984) p123−125 ; CA.,80,59815;CA.,87,2
2933; J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,472,1976; EP.18273
8; Helv.Chim.Acta. 65,1694,1982; J.Med.Chem.,23,48
1,1980; Heterocycles,31,1049,1990;Synthesis,389,19
90 に記載されている。これらの報告例は、「３」のユ
ニットが生理活性などのある特殊な目的に沿うように合
成されたものであり一般性に欠ける、環化までの前駆体
合成が簡便ではない、環化収率が低いなどの問題点を有
している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、α、β−不
飽和ケトンのα位に電子吸引性基を導入することによ
り、３位に電子吸引性基を有するピロ−ル、フランおよ
びチオフェン等のヘテロ環誘導体の製造を簡便に収率よ
く工業的に有利に実施できる方法を提供することを目的
とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
１．発明の構成 本発明は、下記工程ａ及びｂを経ることを特徴とする、
式〔Ｉ〕
【化１１】 で表されるヘテロ環誘導体の製造法である。ここで、R1
は置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有しても
よいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル
基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有して
もよいヘテロ環又はCOOR4 を表す。R2は電子吸引性基を
表す。R3は水素原子又は置換基を有してもよいアルキル
基を表す。X はNR5 、O 又はS を表す。Y は水素原子、
カルボキシ基、COOR6 又はシアノ基を表す。R5は水素原
子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有して
もよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル
基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有して
もよいヘテロ環又はCOR7を表す。R4、R6は置換基を有し
てもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル
基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有し
てもよいアリール基又は置換基を有してもよいヘテロ環
を表す。R7は置換基を有してもよいアルキル基を表す。 工程ａ： 式〔II〕
【化１２】R1COC(=CR3-OR8)R2 〔II〕 〔式中、R1、R2およびR3は前記と同じ意味を表す。R8は
水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表
す。〕で表される化合物と、式〔III 〕
【化１３】HX'CH2Y' 〔III 〕 〔式中、X'はNR4'、O 又はS を表す。R4' は水素原子、
置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよ
いアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、
置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよ
いヘテロ環を表す。Y'はCOOM、COOR6 又はシアノ基を表
す。M はアルカリ金属を表す。R6は前記と同じ意味を表
す。〕で表される化合物とを反応させて、式〔IV〕
【化１４】R1COC(=CR3-X'CH2Y')R2 〔IV〕 〔式中、R1，R2、R3、X'、Y'は前記と同じ意味を表
す。〕で表される化合物を製造する工程。 工程ｂ： 式〔IV' 〕
【化１５】R1COC(=CR3-X'CH2Y")R2 〔IV' 〕 〔式中、Y"はカルボキシ基、COOM、COOR6 又はシアノ基
を表す。M 及びR6は前記と同じ意味を表す。〕で表され
る化合物を、塩基又は式〔Ｖ〕
【化１６】R7COOCOR7 〔Ｖ〕 〔式中、R7は前記と同じ意味を表す。〕で表される化合
物存在下に閉環反応させて、式〔Ｉ〕
【化１７】 〔式中、R1，R2、R3、X 、Y は前記と同じ意味を表
す。〕で表される化合物を製造する工程。但し、工程ｂ
を式〔Ｖ〕で表される化合物存在下に行う場合は、X'が
NHのときX はNCOR7 （R7は前記と同じ意味を表す。）で
あり、Y"がカルボキシ基又はCOOM（M は前記と同じ意味
を表す。）のときY は水素原子である。
【０００５】２．詳細な説明 R1、R4、R5、R6、R7のアルキル基、アルケニル基、アル
キニル基の置換基としては、例えば、ハロゲン、アルコ
キシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ基、フェノ
キシ基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アルキニ
ルチオ基、フェニルチオ基、シアノ、アルコキシカルボ
ニル、ニトロ、ジアルキルアミノ、（アルキルまたはア
ルキルなどの置換基を有してもよいアリ−ルなどの）置
換基を有してもよいスルホニルなどが挙げられる。R1、
R4、R5、R6のアリ−ル、ヘテロ環の置換基としては、C1
〜C10 のアルキル基、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、ハロゲン、アルコキシ、アルケニルオキシ、
アルキニルオキシ基、フェノキシ基、アルキルチオ基、
アルケニルチオ基、アルキニルチオ基、フェニルチオ
基、シアノ、アルコキシカルボニル、アシル、ニトロ、
ジアルキルアミノ、（アルキルまたはアルキルなどの置
換基を有してもよいアリ−ルなどの）置換基を有しても
よいスルホニルなどが挙げられる。R2としては、アルコ
キシカルボニル、アシル、シアノ、ニトロ、（アルキル
またはアルキルなどの置換基を有してもよいアリ−ルな
どの）置換基を有してもよいスルホニル、トリフルオロ
メチル及びテトラフルオロエチル等のハロアルキルなど
の電子吸引性基が挙げられる。R3としては、水素原子、
C1〜C6のアルキル基などが挙げられる。R7としては、通
常、C1〜C6のアルキル基、トリクロロメチル、トリフル
オロメチル等のハロアルキル基などである。R8として
は、通常、水素原子、C1〜C6のアルキル基などである。
本発明において、アルキル基は通常C1〜C10 であるが、
C11 以上でもよい。またX がS の場合は、Y は水素原
子、カルボキシ基、又はシアノ基がよい。
【０００６】工程ａの説明
【化１８】 式〔II〕〔式中、R1、R2、R3及びR8は前記と同じ意味を
表す。〕で表される化合物と式〔III 〕〔式中、X'及び
Y'は前記と同じ意味を表す。〕で表される化合物を反応
させることにより行われる。式〔II〕で表される化合物
は、例えば、J.Org.Chem.,49,140,1984 やJ.Heterocycl
ic Chem., 13,973,1976 などに記載された方法により容
易に合成できる。式〔III 〕で表される化合物は、例え
ば市販品をそのまま使用してもよいし、場合によりグリ
シン、グリコ−ル酸あるいはチオグリコ−ル酸とアルカ
リ金属水酸化物とをエタノ−ルなどのアルコ−ル中で混
合、溶解させることによって製造する。次に、式〔III
〕で表される化合物のアルコ−ル溶液と、等量の式〔I
I〕で表される化合物を混合する。この時のアルコ−ル
の使用量は任意である。また、DMF,DMSOなどの非プロト
ン性極性溶媒を使ってもよい。特に、式〔III 〕でX'が
O またはS の場合は、〔II〕との反応において塩基を使
用する。塩基としては、水酸化カリウムなどの無機塩
基、あるいはアルコラ−ト、アミン類などの有機塩基を
例示できる。好ましくは１当量の水酸化カリウムまたは
水酸化ナトリウムなどの無機塩基である。反応は、室温
〜100 ℃、10分〜5 時間、好ましくは50〜80℃、30分〜
2 時間攪拌し、溶媒を留去後、粗製の式〔IV〕で表され
る化合物を得ることができる。式〔IV〕でY'がカルボン
酸のアルカリ金属塩の場合は塩酸などの酸を加えてカル
ボン酸へ誘導して使ってもよい。これら粗製の化合物は
そのまま次の工程で使用してもよいし、通常の精製（再
結晶やカラムクロマトグラフィ−など）を施してもよ
い。
【０００７】工程ｂの説明
【化１９】 式〔IV' 〕〔式中、R1、R2、R3、X'及びY"は前記と同じ
意味を表す。〕で表される化合物を、塩基又は式〔Ｖ〕
〔式中、R7は前記と同じ意味を表す。〕で表される化合
物存在下に閉環反応させることにより行われる。
【０００８】ｂ−１）塩基存在下に行う場合 式〔IV' 〕で表される化合物を塩基存在下に閉環反応さ
せる。塩基としては水酸化カリウム、水酸化ナトリウ
ム、金属ナトリウムまたは水素化ナトリウムなどの無機
塩基やナトリウムアルコラ−ト、tert−ブトキシカリウ
ムなどの有機塩基を例示できる。好ましくは、１当量の
ナトリウムアルコラ−トである。溶媒としては、アルコ
−ル類、BTX 系の炭化水素類、エ−テル類、DMF または
これらの混合物などが挙げられるが、好ましくはメタノ
−ルやエタノ−ルなどのアルコ−ル類である。反応は室
温〜100 ℃、10分〜10時間、好ましくは50〜80℃、１時
間〜３時間かくはんすることにより行う。Y'は好ましく
はカルボキシ基、COOR6 又はシアノ基、より好ましくは
COOR6 又はシアノ基である。
【０００９】ｂ−２）式〔Ｖ〕で表される化合物存在下
に行う場合 式〔IV' 〕で表される化合物と式〔Ｖ〕で表される化合
物とを溶媒存在下または非存在下に反応させる。溶媒と
しては、BTX 系の炭化水素類、エ−テル類または酢酸な
どが挙げられる。式〔Ｖ〕で表される化合物としては、
種々のカルボン酸無水物を使用できるが、工業的にも非
常に安価でかつ大量に取扱い容易な、無水酢酸が最も好
ましい。使用量は式〔IV' 〕で表される化合物に対し
て、1 〜50当量、好ましくは10〜25当量である。反応は
50〜200 ℃、10分〜24時間、好ましくは100 〜140 ℃、
30分〜2 時間かくはんすることにより行う。Y"は好まし
くはカルボキシ基又はそのアルカリ金属塩である。本反
応ではX'がNHのときX はNCOR7 （R7は前記と同じ意味を
表す。）になり、Y"がカルボキシ基又はCOOM（M は前記
と同じ意味を表す。）のとき脱炭酸してY は水素原子に
なる。
【００１０】こうして上記の反応を行った後、通常の後
処理を施す。精製が必要な場合は常法に従い、例えば蒸
留や再結晶法あるいはカラムクロマトグラフィ−により
式〔Ｉ〕で表される化合物を得ることができる。本発明
における化合物の構造確認は、NMR,IR,MASS,融点などの
測定により行った。
【００１１】
【実施例】次に代表例を挙げて本発明を更に具体的に説
明する。
【００１２】〔実施例１〕 3-メチルピロ−ル-2,4-ジカルボン酸ジエチルの合成：
【化２０】MeCOC(=CHOEt)COOEt ＋ EtOCOCH2NH2・HCL
→ MeCOC(=CHNHCH2COOEt)COOEt 37g の (エトキシメチレン) アセト酢酸エチルと、28g
のグリシンエチルエステル塩酸塩を500mL のエタノ−ル
に加え、この混合物に21g のトリエチルアミンを添加し
た。50〜60℃で約１時間加熱かくはんした後、減圧下エ
タノ−ルを留去し、残査に水を加えて塩化メチレンで抽
出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を留去し、粗製のＮ−（2-エトキシカルボニル
-3- オキソ-1- ブテニル) グリシンエチルエステル(39.
8g) を得た。 MS(CI);244(M+1,100%), 198(M-OEt,20%), 1H-NMR(CDC
l3)δ1.3(t,6H),2.46(s,3H),4.15(m,6H),7.86(d,1H),1
1.1(br s,1H)
【００１３】
【化２１】 次に、49g のＮ−（2-エトキシカルボニル-3- オキソ-1
- ブテニル) グリシンエチルエステルを、1.4gのナトリ
ウムエチラ−トを溶解したエタノ−ル溶液(500mL) に加
え、加熱還流下約１時間かくはんした。放冷後、減圧下
エタノ−ルを留去し、残査に水を加えて酢酸エチルで抽
出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィ−(展開溶媒: ヘキサン- 酢酸エチル v/v=7/3 )
により精製し、白色粉末の3-メチルピロ−ル-2,4-ジカ
ルボン酸ジエチル(31.6g) を得た。 mp.91-91.5 ℃(Lit.90-91℃, JACS.,64，1267,1942)
【００１４】〔実施例２〕 3-メチルチオフェン-4- カルボン酸エチルの合成：
【化２２】MeCOC(=CHOEt)COOEt ＋ HSCH2COONa → Me
COC(=CHSCH2COOH)COOEt 34.3g のチオグリコ−ル酸ナトリウムを、20g の水酸化
カリウムを溶解したエタノ−ル500mL に加え、加熱還流
下30分かくはんしたのち、55g の( エトキシメチレン)
アセト酢酸エチルを添加した。この混合物を加熱還流下
約３時間かくはんした後、減圧下エタノ−ルを留去し、
残査に水を加えて２Ｎ塩酸をpH1-2 になるまで滴下し
た。生じた結晶をろ過し、水洗後乾燥して、粗製のＳ−
(2- エトキシカルボニル-3- オキソ-1- ブテニル) チオ
グリコ−ル酸(54.3g) を得た。
【００１５】
【化２3 】 次に、無水酢酸300mL に54.3g のＳ−(2- エトキシカル
ボニル-3- オキソ-1-ブテニル) チオグリコ−ル酸を加
え、130-135 ℃で約１時間かくはんした。放冷後、無水
酢酸を留去し、残査に酢酸エチル(1L)を加えて、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で２回、飽和食塩水で１回洗浄
した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留
去し、残査を減圧蒸留により精製し、3-メチルチオフェ
ン-4- カルボン酸エチル(32g) を得た。bp. 90-100℃/
0.5mm
【００１６】〔実施例３〕 3-エトキシカルボニル-4- メチルピロールの合成；
【化２４】 グリシン（75g,1mol）と85％水酸化カリウム（66g,1mo
l）を700mL のエタノールに加え、40〜50℃で攪拌して
溶解させた。この溶液に、（エトキシメチレン)アセト
酢酸エチル(185g,1mol) を添加し、加熱還流下約 1時間
攪拌した。放冷後、減圧下エタノールを留去し、残査に
水(400mL) を加え溶解させた。これに35％塩酸(80mL)を
加えることにより生じた結晶をろ過し、水で洗浄し、次
いで乾燥することにより、154.8gのN-(2- アセチル-2-
エトキシカルボニルエチレン) グリシンを得た。
【００１７】
【化２５】 次に、N-(2- アセチル-2- エトキシカルボニルエチレ
ン) グリシン(50g, 0.23mol)を無水酢酸(50mL,5mol) に
加え、 130〜 135℃で 1時間攪拌した。放冷後、過剰の
無水酢酸を減圧下留去し、残査に酢酸エチル(1L)を加え
て、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(300mL) で 2回、さ
らに飽和食塩水(300mL) で 1回洗浄した。分液した有機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残査
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー( 展開溶媒: ヘ
キサン- 酢酸エチル v/v=7/3 )により精製し、35.6g の
1-アセチル-3- エトキシカルボニル-4- メチルピロール
を得た。 収率 78.7 ％ . mp.41-44 ℃ この後の留分として、1.4gの3-エトキシカルボニル-4-
メチルピロールを得た。収率 4％．
【００１８】上記実施例３の方法に準じて種々の化合物
を用いて反応を行なった。その結果を第１表に示す。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【発明の効果】３位に電子吸引性基を有するピロ−ル、
フランおよびチオフェン等のヘテロ環誘導体の製造を従
来の技術に比べてより簡便に収率よく工業的に有利に実
施できる方法を実現した。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記工程ａ及びｂを経ることを特徴とす
    る、式〔Ｉ〕 【化１】 〔式中、R1は置換基を有してもよいアルキル基、置換基
    を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいア
    ルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基
    を有してもよいヘテロ環又はCO0R4 を表す。R2は電子吸
    引性基を表す。R3は水素原子又は置換基を有してもよい
    アルキル基を表す。X はNR5 、O 又はS を表す。Y は水
    素原子、カルボキシ基、CO0R6 又はシアノ基を表す。
    R4、R6は置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有
    してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキ
    ニル基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を
    有してもよいヘテロ環を表す。R5は水素原子、置換基を
    有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケ
    ニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を
    有してもよいアリール基、置換基を有してもよいヘテロ
    環又はCOR7を表す。R7は置換基を有してもよいアルキル
    基を表す。但し、X がS の場合は、Y は水素原子、カル
    ボキシ基、又はシアノ基を表し、又、工程ｂを式〔Ｖ〕
    で表される化合物存在下に行う場合は、X'がNHのときX
    はNCOR7 （R7は前記と同じ意味を表す。）を、Y"がカル
    ボキシ基又はCOOM（M はアルカリ金属を表す。）のとき
    Y は水素原子を表す。〕で表されるヘテロ環誘導体の製
    造法。 工程ａ： 式〔II〕 【化２】R1COC(=CR3-OR8)R2 〔II〕 〔式中、R1、R2およびR3は前記と同じ意味を表す。R8は
    水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基を表
    す。〕で表される化合物と、式〔III 〕 【化３】HX'CH2Y' 〔III 〕 〔式中、X'はNR5'、O 又はS を表す。R5' は水素原子、
    置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよ
    いアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、
    置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよ
    いヘテロ環を表す。Y'はCOOM、CO0R6 又はシアノ基を表
    す。R6及びM は前記と同じ意味を表す。〕で表される化
    合物とを反応させて、式〔IV〕 【化４】R1COC(=CR3-X'CH2Y')R2 〔IV〕 〔式中、R1，R2、R3、X'、Y'は前記と同じ意味を表
    す。〕で表される化合物を製造する工程。 工程ｂ： 式〔IV' 〕 【化５】R1COC(=CR3-X'CH2Y")R2 〔IV' 〕 〔式中、Y"はカルボキシ基、COOM、COOR6 又はシアノ基
    を表す。R1、R2、R3、R6、X'及びM は前記と同じ意味を
    表す。〕で表される化合物を、塩基又は式〔Ｖ〕 【化６】R7COOCOR7 〔Ｖ〕 〔式中、R7は前記と同じ意味を表す。〕で表される化合
    物存在下に閉環反応させて、式〔Ｉ〕 【化７】 〔式中、R1，R2、R3、X 、Y は前記と同じ意味を表
    す。〕で表される化合物を製造する工程。
  2. 【請求項２】 式〔IV' 〕 【化８】R1COC(=CR3-X'CH2Y")R2 〔IV' 〕 〔式中、R1、R2、R3、X'及びY"は前記と同じ意味を表
    す。〕で表される化合物を、塩基又は式〔Ｖ〕 【化９】R7COOCOR7 〔Ｖ〕 〔式中、R7は前記と同じ意味を表す。〕で表される化合
    物存在下に閉環反応させることを特徴とする、式〔Ｉ〕 【化１０】 〔式中、R1，R2、R3、X 、Y は前記と同じ意味を表
    す。〕で表されるヘテロ環誘導体の製造法。
JP22596294A 1994-08-26 1994-08-26 ヘテロ環誘導体の製造法 Pending JPH0859611A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22596294A JPH0859611A (ja) 1994-08-26 1994-08-26 ヘテロ環誘導体の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22596294A JPH0859611A (ja) 1994-08-26 1994-08-26 ヘテロ環誘導体の製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0859611A true JPH0859611A (ja) 1996-03-05

Family

ID=16837618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22596294A Pending JPH0859611A (ja) 1994-08-26 1994-08-26 ヘテロ環誘導体の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0859611A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8884034B2 (en) 2009-07-08 2014-11-11 Dermira (Canada), Inc. TOFA analogs useful in treating dermatological disorders or conditions

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8884034B2 (en) 2009-07-08 2014-11-11 Dermira (Canada), Inc. TOFA analogs useful in treating dermatological disorders or conditions
US9434718B2 (en) 2009-07-08 2016-09-06 Dermira (Canada), Inc. TOFA analogs useful in treating dermatological disorders or conditions
US9782382B2 (en) 2009-07-08 2017-10-10 Dermira (Canada), Inc. TOFA analogs useful in treating dermatological disorders or conditions

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3179515B2 (ja) ２−クロロチアゾール類の製造方法
JP5545118B2 (ja) ニトリル化合物、カルボン酸化合物又はカルボン酸エステル化合物の製法
JPS63139182A (ja) チアゾリジンジオン誘導体の製造法
AU2007346135B2 (en) Process for the preparation of 2-substituted-5-(1-alkylthio) alkylpyridines
WO2003076374A1 (en) PROCESS FOR PRODUCING trans-4-AMINO-1-CYCLOHEXANECARBOXYLIC ACID DERIVATIVE
JPH0859611A (ja) ヘテロ環誘導体の製造法
US5532381A (en) Process for preparing pyrrolizine derivatives
KR100424393B1 (ko) 옥시라세탐의 제조방법
US6388083B2 (en) Process for the synthesis of (2S)-phenyl-3-piperidone
JPH01316352A (ja) ３‐シアノ‐４‐アリールピロールの製造法
HU195485B (en) Process for producing aromatic carboxylic acid derivatives and -carboxamide derivatives
JPH1171354A (ja) アルコキシピラジン誘導体の製造方法
MX2008013408A (es) Derivado de 2-alquenil-3-aminotiofeno y proceso para producir el mismo.
JP3404720B2 (ja) ３，４−二置換ピロールの製造法
SK279499B6 (sk) Spôsob výroby 2-aryl-5-trifluórmetylpyrolových zlú
CN120698910A (zh) Elobixibat中间体2,4-二溴-5-甲氧基苯磺酰氯的制备方法
JP2005126340A (ja) 置換ピリドン類の製造法、その原料化合物及びその製造方法
JP3013760B2 (ja) ４−ヒドロキシ−２−ピロリドンの製法
JP2003286285A (ja) ピリドン化合物の製造法およびその中間体
JP3819473B2 (ja) ４，４−ビスハロメチル−３−オキソアルカンカルボン酸誘導体とそれを用いる３−シクロプロピル−３−オキソプロピオン酸誘導体の製造方法
JPH0432064B2 (ja)
JP2021187795A (ja) ２，３−ジフルオロ−６−メトキシベンズアルデヒドの製造方法
JPS5852995B2 (ja) フルフラ−ル誘導体の製造法
JPH0552824B2 (ja)
JPS58413B2 (ja) （ｎ−メチルピリル−２）アセトチオアミド誘導体

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050221

A02 Decision of refusal

Effective date: 20050704

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02