JPH0613497B2 - Process for producing pyrone-3-carboxamide derivative - Google Patents
Process for producing pyrone-3-carboxamide derivativeInfo
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- JPH0613497B2 JPH0613497B2 JP5348386A JP5348386A JPH0613497B2 JP H0613497 B2 JPH0613497 B2 JP H0613497B2 JP 5348386 A JP5348386 A JP 5348386A JP 5348386 A JP5348386 A JP 5348386A JP H0613497 B2 JPH0613497 B2 JP H0613497B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド化合物の新規な製造法に関するものである。この発
明によって得られる化合物は医薬、農薬あるいはそれら
の合成中間体として有用である。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel method for producing a 4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide compound. The compound obtained by this invention is useful as a medicine, an agricultural chemical, or a synthetic intermediate thereof.
(従来技術) 4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド化合物
を製造する方法としては、従来いくつかの方法が報告さ
れている。(Prior Art) As a method for producing a 4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide compound, several methods have been conventionally reported.
そのうち、ジケテンをイソシアナート類あるいは第1級
アミンまたはそのアセトアセチル体または、β−アミノ
クロトン酸アミド誘導体と反応させて、4−オキソ−4
H−ピラン−3−カルボキサミド化合物を得ている報告
例として,特公昭45-31663号;薬学雑誌,87,1212(196
7);Chem. Pharm.Bull.,19,1477(1971);Chem. Pharm.Bull.,20,133(1972);Chem. Pharm.Bull.,28,2129(1980);薬学雑誌,101,40(198
1)等がある。しかしながら、これらの方法は、得られる
4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド化合物
が、ピラン環の2位および6位がともにメチル基であ
り、かつ5位が水素原子である化合物に限定されるた
め、この発明の化合物を製造することはできない。Among them, diketene is reacted with an isocyanate, a primary amine, an acetoacetyl derivative thereof, or a β-aminocrotonic acid amide derivative to give 4-oxo-4.
As a reported example of obtaining an H-pyran-3-carboxamide compound, Japanese Examined Patent Publication No. 45-31663; Pharmaceutical Journal, 87 , 1212 (196
7); Chem. Pharm. Bull., 19 , 1477 (1971); Chem. Pharm. Bull., 20 , 133 (1972); Chem. Pharm. Bull., 28 , 2129 (1980); Pharmaceutical Journal, 101 , 40 (198
1) etc. However, these methods are limited to compounds in which the resulting 4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide compound has a methyl group at both the 2- and 6-positions of the pyran ring and a hydrogen atom at the 5-position. Therefore, the compound of the present invention cannot be produced.
また、β−ケトアミド誘導体の2量化によって、4−オ
キソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド化合物を得る
方法も知られているが(J.Org.Chem.,29,3548およ
び3555(1964);Zesz.Nauk.Uniw.Jagiellon.,Pr.
Chem.1976,21,141,;Zesz.Nauk.Uniw.Jagiello
n.;Pr.Chem.1980,25,7.)これらの方法で得られる化
合物は、ピラン環の2位および6位の置換基がともに等
しいものに限られるため、一般的とはいえない。以上の
ように、従来、この発明に含まれる4−オキソ−4H−
ピラン−3−カルボキサミド化合物の一般的な製造法は
知られていない。A method for obtaining a 4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide compound by dimerizing a β-ketoamide derivative is also known (J. Org. Chem., 29 , 3548 and 3555 (1964); Zesz. . Nauk. Uniw. Jagiellon., Pr.
Chem. 1976, 21, 141 ,; Zesz. Nauk. Uniw. Jagiello
n .; Pr. Chem. 1980,25,7.) The compounds obtained by these methods are not common because the substituents at the 2- and 6-positions of the pyran ring are both the same. As described above, 4-oxo-4H- which has been conventionally included in the present invention
A general method for producing a pyran-3-carboxamide compound is not known.
(発明の構成) この発明は一般式(I)または(I)′ 〔式(I)および(I)′中R1は置換基を有していて
もよいアリール基または異項環基であり、R2は、C1
〜C11のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、
置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアラル
キル基、ハロゲン化アルキル基または5もしくは6員の
異項環基であり、R3はジアルキルアミノ基であり、n
は0〜6の整数を表わす〕で表わされる化合物と 一般式(II): (式中R4、R5は水素原子、アルキル基あるいはアリ
ール基またはR4およびR5が共にアルキル基のときシ
クロアルキル基を形成してもよい。R6は水素原子また
はC1〜C11のアルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキ
ル基、置換されていてもよいアリール基、置換されてい
てもよいアラルキル基、またはハロゲン化アルキル基で
あり、R6が水素原子の場合R7は水素原子、C2〜C
11のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、置
換されていてもよいアリール基、置換されていてもよい
アラルキル基またはハロゲン化アルキル基を表わし、R
6が水素原子以外の置換基の場合は、R7は水素原子、
C1〜C11のアルキル基、低級アルケニル基、低級アル
キニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル
基、置換されていてもよいアリール基、置換されていて
もよいアラルキル基またはハロゲン化アルキル基を表わ
すか;あるいはR6およびR7は一緒に−(CH2)m
−(mは3または4である)を表わす〕 で表わされる化合物とを反応させるか、または、 一般式(III): 〔R1、R2は式(I)、(I)′の定義と同じ、R8
は水素原子、アルキル基、アラルキル基、シクロアルキ
ル基、アリール基または異項環基を表わす〕 の化合物と、一般式(II)の化合物とを第3級有機塩基の
存在下反応させて、 一般式(IV): (式中R1、R2、R6、R7は上記と同じ) の化合物を得ることを特徴とする4−オキソ−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド化合物の製造法を要旨とす
る。(Structure of the Invention) This invention has the general formula (I) or (I) ′. [In the formulas (I) and (I) ′, R 1 is an aryl group or heterocyclic group which may have a substituent, and R 2 is C 1
To C 11 alkyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, cycloalkyl group, lower alkoxyalkyl group,
An optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, a halogenated alkyl group or a 5- or 6-membered heterocyclic group, R 3 is a dialkylamino group, and n
Represents an integer of 0 to 6] and a compound represented by the general formula (II): (In the formula, R 4 and R 5 may be a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, or may form a cycloalkyl group when R 4 and R 5 are both alkyl groups. R 6 is a hydrogen atom or C 1 to C 11 Is an alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, or a halogenated alkyl group, and R 6 is In the case of a hydrogen atom, R 7 is a hydrogen atom, C 2 to C.
11 represents an alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group or a halogenated alkyl group, R
When 6 is a substituent other than a hydrogen atom, R 7 is a hydrogen atom,
C 1 -C 11 alkyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, cycloalkyl group, lower alkoxyalkyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted aralkyl group or halogenated alkyl group Or R 6 and R 7 together are — (CH 2 ) m
-(M represents 3 or 4)] or a compound represented by the general formula (III): [R 1 and R 2 are the same as defined in formulas (I) and (I) ′, R 8
Represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a heterocyclic group] and a compound of the general formula (II) in the presence of a tertiary organic base, Formula (IV): (Wherein R 1 , R 2 , R 6 , and R 7 are the same as above), a process for producing a 4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide compound is summarized.
一般式(I)、(I)′ないし(III)によって表わされ
る化合物は、次式(V)で表わされるβ−ケトアミド誘
導体と、 R2−COCH2CONHR1 (V) 〔式中R1、R2は式(I)、(I)′、(III)中の定
義に同じ〕 式(VI)または(VII)で表わされる第1級アミンとの脱水
縮合反応 H2N(CH2)nR3 (VI) H2NR8 (VII) 〔式中R3、R8とnは式(I)、(I)′、(III)中
の定義に同じ〕 によって得られる生成物を意味しており、一般式(I)
ないし(I)′の表現は、一つの化合物のプロトトロピ
ーによって相互に変換しうる異性体を意味するもので、
式中のnおよびR1によってその存在比率が異なる。The compounds represented by the general formulas (I) and (I) ′ to (III) include a β-ketoamide derivative represented by the following formula (V) and R 2 —COCH 2 CONHR 1 (V) [in the formula, R 1 , R 2 has the same definition as in formulas (I), (I) ′ and (III)] dehydration condensation reaction with a primary amine represented by formula (VI) or (VII) H 2 N (CH 2 ) nR 3 (VI) H 2 NR 8 (VII) means a product obtained by R 3 , R 8 and n are as defined in formulas (I), (I) ′ and (III). Cage, general formula (I)
The expressions (1) to (I) 'mean isomers which can be mutually converted by prototropy of one compound,
The abundance ratio differs depending on n and R 1 in the formula.
一般式(I)、(I)′、(III)および(IV)中のR
1は、置換基を有していてもよいアリール基または異項
環基を表わす。アリール基としてはフェニル基またはナ
フチル基が含まれる。異項環基としては、窒素原子、硫
黄原子、酸素原子から選ばれた1〜3個の異原子を含有
する5員環または6員環の異項環基が含まれ、ことにフ
リル、テトラヒドロフリル、チエニル、チアゾリル、イ
ソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラ
ゾリルのような5員環の基、ピリジル、ピリミジニル、
ピラジニル、ピリダジニルのような6員環の基が挙げら
れる。R in the general formulas (I), (I) ′, (III) and (IV)
1 represents an aryl group or a heterocyclic group which may have a substituent. The aryl group includes a phenyl group or a naphthyl group. The heterocyclic group includes a 5-membered or 6-membered heterocyclic group containing 1 to 3 hetero atoms selected from a nitrogen atom, a sulfur atom and an oxygen atom, particularly furyl and tetrahydro. 5-membered ring groups such as furyl, thienyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, pyrazolyl, pyridyl, pyrimidinyl,
Examples include 6-membered ring groups such as pyrazinyl and pyridazinyl.
置換基は、この発明の反応に不活性な基であれば特に限
定されない。置換基の具体例としては、塩素原子、臭素
原子、フッ素原子のようなハロゲン原子;メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチルのようなアルキル
基;メトキシ、エトキシ、プロポキシのようなアルコキ
シ基;メトキシカルボニル、エトキシカルボニルのよう
なアルコキシカルボニル基;シアノ基、ニトロ基、トリ
フルオロメチル基などが挙げられる。The substituent is not particularly limited as long as it is a group inert to the reaction of the present invention. Specific examples of the substituent include halogen atom such as chlorine atom, bromine atom and fluorine atom; alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl and butyl; alkoxy group such as methoxy, ethoxy and propoxy; methoxycarbonyl. , An alkoxycarbonyl group such as ethoxycarbonyl; a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group and the like.
この発明は、前述のように反応自体に特徴を有するもの
であるが、R1は最終目的物(たとえば植物の成長抑制
作用を示す農薬、または抗炎症作用を示す医薬)として
有用な観点から選択するのが望ましい。Although the present invention is characterized by the reaction itself as described above, R 1 is selected from the viewpoint of being useful as a final target product (for example, a pesticide showing a plant growth inhibitory action, or a drug showing an anti-inflammatory action). It is desirable to do.
式(I)、(I)′、(III)および(IV)中のR2は、C
1〜C11のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
ニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル
基、置換されてもよいアリール基、置換されてもよいア
ラルキル基、ハロゲン化アルキル基、5もしくは6員の
異項環基を表わす。R 2 in the formulas (I), (I) ′, (III) and (IV) is C
1 to C 11 alkyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, cycloalkyl group, lower alkoxyalkyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted aralkyl group, halogenated alkyl group, 5 or 6-membered Represents a heterocyclic group.
この発明で、低級アルキル基、低級アルコキシ基などで
用いた用語〈低級〉とはC1〜C5の炭素原子を含有す
る基を意味する。具体的には、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イ
ソペンチルのような低級アルキル基;メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシのような低
級アルコキシ基;メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニルのよ
うな低級アルコキシカルボニル基;メチルチオ、エチル
チオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、
ペンチルチオのような低級アルキルチオ基が挙げられ、
C1〜C4のものが好ましい。In the present invention, the term "lower" used in a lower alkyl group, a lower alkoxy group and the like means a group containing a C 1 to C 5 carbon atom. Specifically, lower alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, pentyl, isopentyl; lower alkoxy groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy; methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, Lower alkoxycarbonyl groups such as propoxycarbonyl, butoxycarbonyl; methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, butylthio,
Lower alkylthio groups such as pentylthio,
Those having C 1 to C 4 are preferable.
低級アルケニル基及び低級アルキニル基には、ビニル、
アリル、イソプロペニル、2−ブテニル、1,3−ブタ
ジエニル、2−ペンテニル、1,4−ペンタジエニル,
1,6−ヘプタジエニル、1−ヘキセニル、エチニル、
2−プロピニルなとが含まれる。The lower alkenyl group and lower alkynyl group include vinyl,
Allyl, isopropenyl, 2-butenyl, 1,3-butadienyl, 2-pentenyl, 1,4-pentadienyl,
1,6-heptadienyl, 1-hexenyl, ethynyl,
2-propynyl is included.
シクロアルキル基には、シクロプロピル、シクロペンチ
ルまたはシクロヘキシル基などが含まれる。Cycloalkyl groups include cyclopropyl, cyclopentyl or cyclohexyl groups and the like.
ハロゲン化アルキル基には、トリフルオロメチル、クロ
ルメチルなどが含まれる。Halogenated alkyl groups include trifluoromethyl, chloromethyl and the like.
低級アルコキシアルキル基には、メトキシメチル、エト
キシメチル、プロポキシメチル、ブトキシメチル基など
が含まれる。Lower alkoxyalkyl groups include methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl groups and the like.
ハロゲン原子には塩素、臭素、ヨウ素またはフッ素原子
が挙げられ、フッ素、塩素、臭素原子が好ましく、とく
にフッ素原子が好ましい。The halogen atom includes chlorine, bromine, iodine or fluorine atom, preferably fluorine, chlorine or bromine atom, particularly preferably fluorine atom.
低級アルキル基には、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチ
ル基が挙げられる。Lower alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, pentyl, isopentyl groups.
低級アルコキシ基には、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ基が挙げられる。Lower alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy groups.
アラルキル基には、ベンジル、3−フェニルプロピル、
4−フェニルブチル基などが含まれる。Aralkyl groups include benzyl, 3-phenylpropyl,
A 4-phenylbutyl group and the like are included.
5もしくは6員の異項環基には、窒素原子、酸素原子、
硫黄原子から選択されたヘテロ原子を1〜3個含有する
5もしくは6員の異項環基が含まれる。たとえば、フリ
ル、テトラヒドロフリル、チエニル、チアゾリル、イソ
チアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラゾ
リルなどの5員環の基;ピリジル、ピリミジニル、ピラ
ジニル、ピリダジニルなどの6員環の基が挙げられる。
これらの基は、メチルまたはエチルのようなアルキル
基、ハロゲン原子または、フェニル基で置換されてもよ
い。フェニル基で置換された場合、環内の2つの炭素原
子と結合して縮合環を形成してもよい。縮合環を形成し
た場合の例としては、ベンゾチアゾリル、ベンゾフリ
ル、キナゾリニル、キノキサリニル基などが挙げられ
る。The 5- or 6-membered heterocyclic group includes a nitrogen atom, an oxygen atom,
Included are 5 or 6 membered heterocyclic groups containing 1 to 3 heteroatoms selected from sulfur atoms. Examples thereof include 5-membered ring groups such as furyl, tetrahydrofuryl, thienyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl and pyrazolyl; and 6-membered ring groups such as pyridyl, pyrimidinyl, pyrazinyl and pyridazinyl.
These groups may be substituted with an alkyl group such as methyl or ethyl, a halogen atom or a phenyl group. When substituted with a phenyl group, it may combine with two carbon atoms in the ring to form a fused ring. Examples of the case where a condensed ring is formed include benzothiazolyl, benzofuryl, quinazolinyl, quinoxalinyl groups and the like.
置換されていてもよいアリールもしくはアラルキル基と
は、フェニル基、ナフチル基、ベンジル、3−フェニル
プロピルなどの非置換のアリールもしくはアラルキル
基、並びにこれらの基の核がハロゲン原子、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基およびシアノ基の1〜3個で置
換されたものが含まれる。R1におけるアリール基の置
換分は一般に1〜3個が好ましい。R2とR7における
アリール基もしくはアラルキル基の置換分は一般に1〜
3個が好ましい。さらにR6におけるアリール基もしく
はアラルキル基の置換分も一般に1〜3個が好ましい。The optionally substituted aryl or aralkyl group means an unsubstituted aryl or aralkyl group such as phenyl group, naphthyl group, benzyl, 3-phenylpropyl, etc., and a nucleus of these groups is a halogen atom, a lower alkyl group or a lower alkyl group. Those substituted with 1 to 3 alkoxy groups and cyano groups are included. Generally, the number of substituted aryl groups in R 1 is preferably 1 to 3. The substituent of the aryl group or aralkyl group in R 2 and R 7 is generally 1 to
Three is preferable. Further, the substituted amount of the aryl group or aralkyl group in R 6 is also preferably 1 to 3 in general.
R3は、ジアルキルアミノ基を表わす。アルキル基は、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチルなど
のアルキル基を意味する。2つのアルキル基は、共に結
合して、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルのようなシクロアルキル基を形成してもよい。ま
た、2つのアルキル基は、それらが結合するアミノ基の
窒素原子および場合により他の異原子と共に、異項環基
を形成してもよい。このような異項環基の具体例として
は、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モル
ホリン環などが挙げられる。R 3 represents a dialkylamino group. The alkyl group is
It means an alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl and butyl. Two alkyl groups may be joined together to form a cycloalkyl group such as cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl. The two alkyl groups may also form a heterocyclic group with the nitrogen atom of the amino group to which they are attached and optionally other heteroatoms. Specific examples of such a heterocyclic group include a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a piperazine ring, and a morpholine ring.
一般式(I)または(I)′中のnは、0〜6の整数を
表わし、0の場合は(I)または(I)′の化合物の分
子内にヒドラジノ結合を形成する。N in the general formula (I) or (I) ′ represents an integer of 0 to 6, and when 0, forms a hydrazino bond in the molecule of the compound of (I) or (I) ′.
一般式(I)または(I)′の化合物を形成するのに用
いる式(VI)の第1級アミン原料としては、N,N−ジメ
チルヒドラジン、N,N−ジエチルヒドラジン、N−ア
ミノピロリジン、N−アミノピペリジン、N−アミノモ
ルホリン、1−アミノ−4−メチルピペラジン、N,N
−ジメチルエチレンジアミン、N,N−ジエチルエチレ
ンジアミン、N−(2−アミノエチル)ピロリジン、N
−(2−アミノエチル)ピペリジン、N−(2−アミノ
エチル)モルホリン、N−(3−アミノプロピル)モル
ホリン、N−(6−アミノヘキシル)モルホリンなどが
挙げられる。Examples of the primary amine raw material of the formula (VI) used for forming the compound of the general formula (I) or (I) ′ include N, N-dimethylhydrazine, N, N-diethylhydrazine, N-aminopyrrolidine, N-aminopiperidine, N-aminomorpholine, 1-amino-4-methylpiperazine, N, N
-Dimethylethylenediamine, N, N-diethylethylenediamine, N- (2-aminoethyl) pyrrolidine, N
-(2-Aminoethyl) piperidine, N- (2-aminoethyl) morpholine, N- (3-aminopropyl) morpholine, N- (6-aminohexyl) morpholine and the like can be mentioned.
一般式(II)で表わされる1,3−ジオキシン−4−オン
化合物は、従来既知の方法で製造することができる〔C
hem.Pharm.Bull.,31,1896(1983);特開昭54-106478
号;特開昭61-22077号公報参照〕。The 1,3-dioxin-4-one compound represented by the general formula (II) can be produced by a conventionally known method [C
hem.Pharm.Bull., 31 , 1896 (1983); JP-A-54-106478
No .; see JP-A-61-22077].
一般式(II)におけるR4とR5は水素原子、アルキル基
あるいはアリール基を意味し、またはR4とR5が共に
アルキル基のとき両者が結合してシクロアルキル基を形
成していてもよい。これらのR4とR5は、目的物に導
入されない基であり、入手容易で安価なものを選択利用
するのが望ましい。R4、R5として、メチル基または
エチル基が好ましい。R 4 and R 5 in the general formula (II) mean a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, or when both R 4 and R 5 are alkyl groups, they may be bonded to each other to form a cycloalkyl group. Good. These R 4 and R 5 are groups that are not introduced into the desired product, and it is desirable to select and use easily available and inexpensive ones. As R 4 and R 5 , a methyl group or an ethyl group is preferable.
一般式(II)におけるR6は、水素原子又はC1〜C11の
アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シ
クロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、置換され
ていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラル
キル基、またはハロゲン化アルキル基を表わし、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低
級アルコキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基、置換
されていてもよいアリール基または置換されていてもよ
いアラルキル基はR2における例示と同じものが含まれ
る。R 6 in the general formula (II) is a hydrogen atom or a C 1 to C 11 alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, or a substituted group. Optionally represents an aralkyl group or a halogenated alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, a halogenated alkyl group, an optionally substituted aryl group or a substituted The aralkyl groups which may be mentioned include the same ones as exemplified for R 2 .
一般式(II)におけるR7は、R6が水素原子の場合に
は、水素原子、C2〜C11のアルキル基、低級アルケニ
ル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級アル
コキシアルキル基、置換されていてもよいアリール基、
置換されていてもよいアラルキル基またはハロゲン化ア
ルキル基を表わし、R6が水素原子以外の置換基の場合
には、水素原子、C1〜C11のアルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級ア
ルコキシアルキル基、置換されていてもよいアリール
基、置換されていてもよいアラルキル基またはハロゲン
化アルキル基を表わすか、あるいはR6及びR7は一緒
に−(CH2)m−(mは3または4である)を表わ
す。低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアル
キル基、低級アルコキシアルキル基、アラルキル基、ハ
ロケン化アルキル基、置換されていてもよいアリール基
または置換されていてもよいアラルキル基はR2におけ
る例示と同じものが含まれる。When R 6 is a hydrogen atom, R 7 in the general formula (II) is a hydrogen atom, a C 2 to C 11 alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, a substituent. An optionally substituted aryl group,
Represents an optionally substituted aralkyl group or a halogenated alkyl group, and when R 6 is a substituent other than a hydrogen atom, a hydrogen atom, a C 1 to C 11 alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, Represents a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group or a halogenated alkyl group, or R 6 and R 7 together represent-(CH 2 ) m Represents-(m is 3 or 4). The lower alkenyl group, lower alkynyl group, cycloalkyl group, lower alkoxyalkyl group, aralkyl group, halosaponified alkyl group, optionally substituted aryl group or optionally substituted aralkyl group are the same as those exemplified for R 2 . Is included.
一般式(III)におけるR8のアルキル基としては、炭素
数1〜11のアルキル基、アラルキル基としては、ベン
ジル基、2−フェニルエチル基など、シクロアルキル基
としては炭素数3〜7のシクロアルキル基が含まれ、ま
た置換されたアリールまたは異項環基はR1における例
示と同じものが含まれる。The alkyl group of R 8 in the general formula (III) is an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, the aralkyl group is benzyl group, 2-phenylethyl group, etc., and the cycloalkyl group is cycloalkyl having 3 to 7 carbon atoms. The alkyl group is included, and the substituted aryl or heterocyclic group is the same as those exemplified for R 1 .
第3級有機塩基としては、脂肪族もしくは芳香族第3級
アミンおよび窒素含有複素環塩基が含まれる。脂肪族第
3級アミンとしては、トリエチルアミン、トリプロピル
アミン、トリイソブチルアミン、N,N−ジメチルベン
ジルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、
N,N,N′,N′−テトラメチルエチレンジアミン、
N,N,N′,N′−テトラメチル−1,3−プロパン
ジアミンなど、芳香族第3級アミンとしては、N,N−
ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、N,N
−ジメチル−o−トルイジンなど、窒素含有複素環塩基
としては、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジ
ン、N,N′−ジメチルピペラジン、N−メチルモルホ
リン、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.2〕オクタン
などが挙げられる。Tertiary organic bases include aliphatic or aromatic tertiary amines and nitrogen-containing heterocyclic bases. Examples of the aliphatic tertiary amine include triethylamine, tripropylamine, triisobutylamine, N, N-dimethylbenzylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine,
N, N, N ', N'-tetramethylethylenediamine,
Examples of aromatic tertiary amines such as N, N, N ', N'-tetramethyl-1,3-propanediamine include N, N-
Dimethylaniline, N, N-diethylaniline, N, N
Examples of the nitrogen-containing heterocyclic base such as -dimethyl-o-toluidine include N-methylpyrrolidine, N-methylpiperidine, N, N'-dimethylpiperazine, N-methylmorpholine and 1,4-diazabicyclo [2.2.2. ] Examples include octane.
一般式(I)あるいは(I)′で表わされる化合物と一
般式(II)で表わされる化合物との反応あるいは、一般式
(III)で表わされる化合物と一般式(II)で表わされる化
合物との反応は、無溶媒下または不活性溶剤中で行うこ
とができる。好ましい不活性溶剤の例として、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン、デ
カリン、ジフェニルエーテルなどが挙げられる。反応温
度としては、一般式(II)で表わされる化合物の熱分解温
度を目安として、約100℃から200℃程度の温度が用いら
れる。Reaction of a compound represented by the general formula (I) or (I) ′ with a compound represented by the general formula (II)
The reaction between the compound represented by (III) and the compound represented by the general formula (II) can be carried out without a solvent or in an inert solvent. Examples of preferable inert solvents include benzene, toluene, xylene, mesitylene, tetralin, decalin, diphenyl ether and the like. As the reaction temperature, a temperature of about 100 ° C. to 200 ° C. is used with the thermal decomposition temperature of the compound represented by the general formula (II) as a guide.
また一般式(II)で表わされる化合物の使用量は、一般式
(I)、(I)′あるいは(III)で表わされる化合物に
対して1当量以上用いることは当然であるが、好ましく
は1.2〜3.0当量の範囲で好結果が得られる。The amount of the compound represented by the general formula (II) to be used is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the general formula (I), (I) 'or (III), but it is preferably 1.2. Good results are obtained in the range of up to 3.0 equivalents.
この発明において、熱分解生成物として式(VIII)で表わ
されるカルボニル化合物が反応系中に発生する。この化
合物の沸点が反応設定温度より低い場合には、 反応中、必要ならば使用溶媒の一部と共に系外に留去し
ながら反応を行なうことが有利である。In this invention, a carbonyl compound represented by the formula (VIII) is generated as a thermal decomposition product in the reaction system. If the boiling point of this compound is lower than the set reaction temperature, During the reaction, it is advantageous to carry out the reaction by distilling it out of the system together with a part of the solvent used if necessary.
一般式(III)で表わされる化合物と一般式(II)で表わさ
れる化合物との反応の際、使用する第3級有機塩基の使
用量は、一般式(III)の化合物に対して、0.5当量以上、
好ましくは1当量以上用いた場合に好結果が得られる。
10当量以上用いてもより大きな効果は得られない。In the reaction of the compound represented by the general formula (III) with the compound represented by the general formula (II), the amount of the tertiary organic base used is 0.5 equivalent to the compound of the general formula (III). that's all,
Preferably, good results are obtained when 1 equivalent or more is used.
Even if 10 equivalents or more are used, a larger effect cannot be obtained.
以下実施例によって、この発明をさらに具体的に説明す
る。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.
実施例1. N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6−ジメチル
−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド N−(2,6−ジエチルフェニル)−3−オキソ−ヘキ
サン酸アミド5.22g(20mmol)、N,N−ジメチルヒドラ
ジン2.40g(40mmol)およびトルエン40mlの混合物を60℃
で6時間攪拌下に加熱した後、反応混合物を昇温して未
反応のN,N−ジメチルヒドラジンおよび生成した水を
常圧にて約12mlのトルエンと共に系外に留去し、さらに
減圧下ロータリーエバポレーターを用いて乾固まで溶媒
を除去した。得られた残渣に2,2,5,6−テトラメ
チル−4H−1,3−ジオキシン−4−オン6.87g(44mm
ol)およびメシチレン20mlを加え、生成するアセトンを
系外に除去しながら、1.5時間穏やかに加熱還流させ
た。反応混合物から溶媒を減圧下に留去し、得られた残
渣をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによ
って処理し、さらにヘキサンから晶析させることによっ
て、題記化合物5.39g(収率78.9%)を得た。Example 1. N- (2,6-diethylphenyl) -5,6-dimethyl-4-oxo-2-propyl-4H-pyran-3-carboxamide N- (2,6-diethylphenyl) -3-oxo-hexanoic acid amide A mixture of 5.22 g (20 mmol), 2.40 g (40 mmol) of N, N-dimethylhydrazine and 40 ml of toluene was added at 60 ° C.
After heating for 6 hours under stirring at room temperature, the reaction mixture is heated to distill off unreacted N, N-dimethylhydrazine and the produced water together with about 12 ml of toluene under atmospheric pressure, and further under reduced pressure. The solvent was removed to dryness using a rotary evaporator. 2,2,5,6-tetramethyl-4H-1,3-dioxin-4-one 6.87 g (44 mm
ol) and 20 ml of mesitylene were added, and the resulting acetone was gently heated to reflux for 1.5 hours while removing the generated acetone outside the system. The solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure, the obtained residue was treated by column chromatography using silica gel, and further crystallized from hexane to obtain 5.39 g (yield 78.9%) of the title compound. .
融点:59.5−61℃ IR(KBrディスク):1650,1680cm-1、 NMR(CDCl3)δ値: 0.98(t,3H)、1.16(t,6H)、 1.75(six,2H)、2.00(s,3H)、 2.32(s,3H)、2.62(q,4H)、 3.20(t,2H)、7.04(s,3H)、 11.10(br,1H)。Melting point: 59.5-61 ° C IR (KBr disc): 1650, 1680 cm -1 , NMR (CDCl 3 ) δ value: 0.98 (t, 3H), 1.16 (t, 6H), 1.75 (six, 2H), 2.00 (s , 3H), 2.32 (s, 3H), 2.62 (q, 4H), 3.20 (t, 2H), 7.04 (s, 3H), 11.10 (br, 1H).
実施例2. 2−ブチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,
6−ジメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド 出発原料として、N−(2,6−ジエチルフェニル)−
3−オキソ−ヘプタン酸アミドを用いた以外は実施例1
と同様に反応を行った後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーによって精製することにより、題記混合物を収
率77.1%で得た。Example 2. 2-Butyl-N- (2,6-diethylphenyl) -5,
6-Dimethyl-4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide As a starting material, N- (2,6-diethylphenyl)-
Example 1 except using 3-oxo-heptanoic acid amide
The reaction was performed in the same manner as in, and then the product was purified by silica gel column chromatography to obtain the title mixture in a yield of 77.1%.
IR(neat):1655,1680cm-1、 NMR(CDCl3)δ値: 0.80〜2.00(m,7H)、 1.17(t,6H)、2.00(s,3H)、 2.32(s,3H)、2.61(q,4H)、 3.20(t,2H)、7.04(s,3H)、 11.13(br,1H) 実施例3. 5−エチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド 1,3−ジオキシン−4−オン化合物として、5−エチ
ル−2,2,6−トリメチル−4H−1,3−ジオキシ
ン−4−オンを用いた以外は、実施例1と同様に反応を
行った後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによっ
て精製することにより、題記化合物を収率75.1%で得
た。IR (neat): 1655, 1680 cm -1 , NMR (CDCl 3 ) δ value: 0.80-2.00 (m, 7H), 1.17 (t, 6H), 2.00 (s, 3H), 2.32 (s, 3H), 2.61 (Q, 4H), 3.20 (t, 2H), 7.04 (s, 3H), 11.13 (br, 1H) Example 3. 5-ethyl-N- (2,6-diethylphenyl) -6-
Methyl-4-oxo-2-propyl-4H-pyran-3
-Carboxamide 1,3-dioxin-4-one Reaction as in Example 1 except that 5-ethyl-2,2,6-trimethyl-4H-1,3-dioxin-4-one was used as the compound. After that, the title compound was obtained in a yield of 75.1% by purification by silica gel column chromatography.
IR(neat):1650,1680cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 0.96(t,3H)、1.09(t,3H)、 1.16(t,6H)、1.73(six,2H)、 2.31(s,3H)、2.49(q,2H)、 2.61(q,4H)、3.17(t,2H)、 7.04(s,3H)、11.14(br,1H)。IR (neat): 1650, 1680 cm -1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 0.96 (t, 3H), 1.09 (t, 3H), 1.16 (t, 6H), 1.73 (six, 2H), 2.31 (s, 3H), 2.49 (q, 2H), 2.61 (q, 4H), 3.17 (t, 2H), 7.04 (s, 3H), 11.14 (br, 1H).
実施例4. 2−ブチル−5,6−ジメチル−N−(2,3−ジメチ
ルフェニル)−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボ
キサミド N−(2,3−ジメチルフェニル)−3−オキソ−ヘプ
タン酸アミド2.47g(10mmol)、1−(2−アミノエチ
ル)ピロリジン1.14g(10mmol)およびトルエン20mlの混
合物に酢酸1滴を加え、80℃で1時間加熱攪拌した後、
1時間還流下に保ち、その間に生成した水をトルエン約
12mlと共に留去し、さらに減圧下、ロータリーエバポレ
ーターを用いて乾固まで溶媒を除去した。得られた残渣
に、2,2,5,6−テトラメチル−4H−1,3−ジ
オキシン−4−オン3.44g(22mmol)およびメシチレン10m
lを加え、生成するアセトンを系外に除去しながら、1.5
時間穏やかに加熱還流させた。反応混合物から、溶媒を
減圧下に留去し、得られた残渣をエーテルと共に分液ロ
ートに移し、1N塩酸で洗浄し、次いで水洗し、常法に
従って有機層を乾燥、濃縮し、得られた結晶性残渣を、
エーテルとヘキサンとの混合物から再結晶して題記化合
物2.42g(収率74.0%)を得た。Example 4. 2-Butyl-5,6-dimethyl-N- (2,3-dimethylphenyl) -4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide N- (2,3-dimethylphenyl) -3-oxo-heptanoic acid amide After adding 1 drop of acetic acid to a mixture of 2.47 g (10 mmol), 1- (2-aminoethyl) pyrrolidine 1.14 g (10 mmol) and toluene 20 ml, the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 1 hour,
Keep under reflux for 1 hour, and water generated during
It was distilled off together with 12 ml, and the solvent was removed to dryness under reduced pressure using a rotary evaporator. To the obtained residue, 2,2,5,6-tetramethyl-4H-1,3-dioxin-4-one (3.44 g, 22 mmol) and mesitylene (10 m) were added.
Add l to remove generated acetone out of the system, and
Gently heated to reflux for a period of time. The solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure, the obtained residue was transferred to a separating funnel together with ether, washed with 1N hydrochloric acid, and then washed with water, and the organic layer was dried and concentrated according to a conventional method to obtain a product. The crystalline residue,
Recrystallization from a mixture of ether and hexane gave 2.42 g (yield 74.0%) of the title compound.
融点:98−99.5℃ IR(KBrディスク):1605,1645,1693cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 0.65〜2.00(m,7H)、 1.98(s,3H)、2.26(s,9H)、 3.27(t,2H)、 6.70〜7.80(m,3H)、 11.80(br,1H)。Melting point: 98-99.5 ° C IR (KBr disc): 1605, 1645, 1693 cm -1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 0.65 to 2.00 (m, 7H), 1.98 (s, 3H), 2.26 (s, 9H), 3.27 (t, 2H), 6.70 to 7.80 (m, 3H), 11.80 (br, 1H).
実施例5. 2−(3−クロロフェニル)−5,6−ジメチル−4−
オキソ−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド 出発原料として、3−(3−クロロフェニル)−3−オ
キソ−N−フェニル−プロピオン酸アミドおよびN,N
−ジメチルエチレンジアミンを用いた以外は、実施例3
と同様に反応を行った後、溶媒を減圧下に留去し、得ら
れた残渣を塩化メチレンと共に分液ロートに移し、1N
塩酸で洗浄し、次いで水洗し、常法に従って有機層を乾
燥、濃縮し、得られた結晶性残渣を酢酸エチルから再結
晶して、題記化合物を収率65.3%で得た。Example 5. 2- (3-chlorophenyl) -5,6-dimethyl-4-
Oxo-N-phenyl-4H-pyran-3-carboxamide As starting materials, 3- (3-chlorophenyl) -3-oxo-N-phenyl-propionic acid amide and N, N
Example 3 except that dimethylethylenediamine was used
After carrying out the same reaction as above, the solvent was distilled off under reduced pressure, the obtained residue was transferred to a separating funnel together with methylene chloride, and 1N
The organic layer was washed with hydrochloric acid and then washed with water, the organic layer was dried and concentrated according to a conventional method, and the obtained crystalline residue was recrystallized from ethyl acetate to obtain the title compound in a yield of 65.3%.
融点:173.5−175℃ IR(KBrディスク):1645,1695cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 2.06(s,3H)、2.39(s,3H)、 7.00〜7.10(m,9H)、 11.40(br,1H)。Melting point: 173.5-175 ° C IR (KBr disc): 1645, 1695 cm -1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 2.06 (s, 3H), 2.39 (s, 3H), 7.00 to 7.10 (m, 9H), 11.40 ( br, 1H).
実施例6. N−(4−クロロフェニル)−2−メチル−4−オキソ
−6−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミド p−クロロアセトアセトアニリド2.12g(10mmol)、ベン
ジルアミン1.07g(10mmol)およびトルエン20mlの混合物
を1時間還流下に保ち、その間に生成した水をトルエン
約12mlと共に留去し、さらに減圧下、ロータリーエバポ
レーターを用いて乾固まで溶媒を除去した。得られた残
渣に、2,2−ジメチル−6−フェニル−4H−1,3
−ジオキシン−4−オン4.49g(22mmol)、N,N,
N′,N′−テトラメチルエチレンジアミン4.65g(40mm
ol)およびキシレン20mlを加え、生成するアセトンを系
外に除去しながら、1.5時間穏やかに加熱還流させた。
反応混合物を放冷し、析出した結晶を濾過、乾燥して、
題記化合物2.63g(収率77.5%)を得た。Example 6. N- (4-chlorophenyl) -2-methyl-4-oxo-6-phenyl-4H-pyran-3-carboxamide p-chloroacetoacetanilide 2.12 g (10 mmol), benzylamine 1.07 g (10 mmol) and a mixture of toluene 20 ml. Was kept under reflux for 1 hour, the water formed during that time was distilled off together with about 12 ml of toluene, and the solvent was removed to dryness using a rotary evaporator under reduced pressure. 2,2-Dimethyl-6-phenyl-4H-1,3 was added to the obtained residue.
-Dioxin-4-one 4.49 g (22 mmol), N, N,
N ', N'-tetramethylethylenediamine 4.65g (40mm
ol) and 20 ml of xylene were added, and the resulting acetone was gently heated to reflux for 1.5 hours while removing the resulting acetone from the system.
The reaction mixture was allowed to cool, the precipitated crystals were filtered and dried,
2.63 g (yield 77.5%) of the title compound was obtained.
融点:220−224℃ IR(KBrディスク):1638,1685cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 2.97(s,3H)、6.83(s,1H)、 7.10〜7.83(m,9H)、 12.10(br,1H)。Melting point: 220-224 ° C IR (KBr disc): 1638, 1685 cm -1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 2.97 (s, 3H), 6.83 (s, 1H), 7.10 to 7.83 (m, 9H), 12.10 ( br, 1H).
実施例7. N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6,7,8−
テトラヒドロ−2−メチル−4−オキソ−4H−クロメ
ン−3−カルボキサミド N−(2,6−ジエチルフェニル)−3−オキソ−酪酸
アミド2.33g(10mmol)、40%メチルアミン水溶液1.56g(2
0mmol)およびトルエン20mlの混合物に酢酸1滴を加え、
室温で8時間攪拌した後、反応混合物を加熱して、未反
応のメチルアミンおよび水をトルエン約12mlと共に留去
し、さらに減圧下ロータリーエバポレーターを用いて乾
固まで溶媒を除去した。得られた残渣に、2,2−ジメ
チル−5,6,7,8−テトラヒドロ−4H−1,3−
ベンゾジオキシン−4−オン4.01g(22mmol)、N,N,
N′,N′−テトラメチル−1,3−プロパンジアミン
5.21g(40mmol)およびメシチレン20mlを加え、生成する
アセトンを系外に除去しながら、1.5時間穏やかに加熱
還流させた。反応混合物から、溶媒を減圧下に留去し、
得られた残渣をシリカゲルを用いカラムクロマトグラフ
ィーによって処理し、さらにヘキサンから晶析させるこ
とによって題記化合物2.16g(収率63.5%)を得た。Example 7. N- (2,6-diethylphenyl) -5,6,7,8-
Tetrahydro-2-methyl-4-oxo-4H-chromene-3-carboxamide N- (2,6-diethylphenyl) -3-oxo-butyric acid amide 2.33 g (10 mmol), 40% methylamine aqueous solution 1.56 g (2
(0 mmol) and 20 ml of toluene, add 1 drop of acetic acid,
After stirring at room temperature for 8 hours, the reaction mixture was heated to distill off unreacted methylamine and water together with about 12 ml of toluene, and then the solvent was removed to dryness using a rotary evaporator under reduced pressure. 2,2-Dimethyl-5,6,7,8-tetrahydro-4H-1,3- was added to the obtained residue.
Benzdioxin-4-one 4.01 g (22 mmol), N, N,
N ', N'-tetramethyl-1,3-propanediamine
5.21 g (40 mmol) and 20 ml of mesitylene were added, and the mixture was gently heated to reflux for 1.5 hours while removing the produced acetone from the system. From the reaction mixture, the solvent was distilled off under reduced pressure,
The obtained residue was treated by column chromatography using silica gel, and then crystallized from hexane to obtain 2.16 g (yield 63.5%) of the title compound.
融点:115−117℃ IR(KBrディスク):1655,1677cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 1.16(t,6H)、 1.40〜2.85(m,8H)、 2.59(q,4H)、2.76(s,3H)、 7.01(s,3H)、11.23(br,1H)。Melting point: 115-117 ° C IR (KBr disc): 1655, 1677 cm -1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 1.16 (t, 6H), 1.40 to 2.85 (m, 8H), 2.59 (q, 4H), 2.76 ( s, 3H), 7.01 (s, 3H), 11.23 (br, 1H).
実施例8. N−(2,6−ジエチルフェニル)−2,6−ジメチル
−4−オキソ−5−フェニルメチル−4H−ピラン−3
−カルボキサミド N−(2,6−ジエチルフェニル)−3−オキソ−酪酸
アミド2.33g(10mmol)、ブチルアミン0.73g(10mmol)およ
びトルエン20mlの混合物に酢酸1滴を加え、80℃で1時
間加熱攪拌した後、1時間還流下に保ち、その間に生成
した水をトルエン約12mlと共に留去し、さらに減圧下、
ロータリーエバポレーターを用いて乾固まで溶媒を除去
した。得らた得られた残渣に2,2,6−トリメチル−
5−フェニルメチル−4H−1,3−ジオキシン−4−
オン5.11g(22mmol)、N,N,N′,N′−テトラメチ
ル−1,3−プロパンジアミン5.21g(40mmol)およびメ
シチレン20mlを加え、生成するアセトンを系外に除去し
ながら、1.5時間穏やかに加熱還流させた。反応混合物
から溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣をシリカゲル
を用いたカラムクロマトグラフィーによって処理し、さ
らにヘキサンから晶析させることによって題記化合物2.
57g(収率66.0%)を得た。Example 8. N- (2,6-diethylphenyl) -2,6-dimethyl-4-oxo-5-phenylmethyl-4H-pyran-3
-Carboxamide N- (2,6-diethylphenyl) -3-oxo-butyric acid amide 2.33 g (10 mmol), butylamine 0.73 g (10 mmol) and 1 ml of acetic acid was added to a mixture of 20 ml of toluene, and the mixture was heated with stirring at 80 ° C for 1 hour. After that, the mixture was kept under reflux for 1 hour, water generated during that time was distilled off together with about 12 ml of toluene, and further under reduced pressure,
The solvent was removed to dryness using a rotary evaporator. The resulting residue obtained is 2,2,6-trimethyl-
5-phenylmethyl-4H-1,3-dioxin-4-
5.11 g (22 mmol) of ON, 5.21 g (40 mmol) of N, N, N ', N'-tetramethyl-1,3-propanediamine and 20 ml of mesitylene were added, and the generated acetone was removed from the system for 1.5 hours. Gently heated to reflux. The solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure, the obtained residue was treated by column chromatography using silica gel, and further crystallized from hexane to give the title compound 2.
57 g (yield 66.0%) was obtained.
融点:95−96℃ IR(KBrディスク):1640,1717cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 1.13(t,6H)、2.25(s,3H)、 2.60(q,4H)、2.73(s,3H)、 3.81(s,2H)、7.05(s,3H)、 7.15(s,5H)、11.25(br,1H) (発明の効果) この発明の方法により、多種多様な置換基を任意の位置
に有する4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ド化合物が、入手しやすい原料を用い簡単な操作によっ
て収率良く得ることが可能になった。Melting point: 95-96 ° C. IR (KBr disc): 1640,1717 cm −1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 1.13 (t, 6H), 2.25 (s, 3H), 2.60 (q, 4H), 2.73 (s, 3H), 3.81 (s, 2H), 7.05 (s, 3H), 7.15 (s, 5H), 11.25 (br, 1H) (Effect of the invention) By the method of the present invention, a wide variety of substituents can be substituted at arbitrary positions. It has become possible to obtain the 4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide compound of 1) in good yield by a simple operation using readily available raw materials.
Claims (8)
もよいアリール基または異項環基であり、R2は、C1
〜C11のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、
置換されてもよいアリール基、置換されてもよいアラル
キル基、ハロゲン化アルキル基または5もしくは6員の
異項環基であり、R3はジアルキルアミノ基であり、n
は0〜6の整数を表わす〕で表わされる化合物と 一般式(II): 〔式中R4、R5は水素原子、アルキル基あるいはアリ
ール基またはR4およびR5が共にアルキル基のときシ
クロアルキル基を形成してもよい。R6は水素原子また
はC1〜C11のアルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキ
ル基、置換されていてもよいアリール基、置換されてい
てもよいアラルキル基、またはハロゲン化アルキル基で
あり、R6が水素原子の場合R7は水素原子、C2〜C
11のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、置
換されていてもよいアリール基、置換されていてもよい
アラルキル基またはハロゲン化アルキル基を表わし、R
6が水素原子以外の置換基の場合は、R7は水素原子、
C1〜C11のアルキル基、低級アルケニル基、低級アル
キニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル
基、置換されていてもよいアリール基、置換されていて
もよいアラルキル基またはハロゲン化アルキル基を表わ
すか;あるいはR6およびR7は一緒に−(CH2)m
−(mは3または4である)を表わす〕 で表わされる化合物とを反応させて、 一般式(IV): 〔式中R1、R2、R6、R7は上記と同じ〕 の化合物を得ることを特徴とする4−オキサ−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド化合物の製造法。1. A formula (I) or (I) ' [In the formulas (I) and (I) ′, R 1 is an aryl group or heterocyclic group which may have a substituent, and R 2 is C 1
To C 11 alkyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, cycloalkyl group, lower alkoxyalkyl group,
An optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, a halogenated alkyl group or a 5- or 6-membered heterocyclic group, R 3 is a dialkylamino group, and n
Represents an integer of 0 to 6] and a compound represented by the general formula (II): [Wherein R 4 and R 5 are a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, or when R 4 and R 5 are both alkyl groups, a cycloalkyl group may be formed. R 6 is a hydrogen atom or a C 1 to C 11 alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, Or a halogenated alkyl group, when R 6 is a hydrogen atom, R 7 is a hydrogen atom, C 2 -C
11 represents an alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group or a halogenated alkyl group, R
When 6 is a substituent other than a hydrogen atom, R 7 is a hydrogen atom,
C 1 -C 11 alkyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, cycloalkyl group, lower alkoxyalkyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted aralkyl group or halogenated alkyl group Or R 6 and R 7 together are — (CH 2 ) m
-(M is 3 or 4)] is reacted with a compound represented by the general formula (IV): [Wherein R 1 , R 2 , R 6 , and R 7 are the same as above], a process for producing a 4-oxa-4H-pyran-3-carboxamide compound.
n〜がジメチルアミノ基である特許請求の範囲第1項記
載の製造法。2. R 3 (CH 2 ) of formula (I) or (I) ′.
The production method according to claim 1, wherein n is a dimethylamino group.
H2)n〜が2−(N,N−ジメチルアミノエチル)基
または2−(1−ピロリジニルエチル)基である特許請
求の範囲第1項記載の製造法。3. R 3 (C in formula (I) or (I) ′.
The method according to claim 1, wherein H 2 ) n is a 2- (N, N-dimethylaminoethyl) group or a 2- (1-pyrrolidinylethyl) group.
ル基である特許請求の範囲第1〜3項の何れか1つに記
載の製造法。4. The method according to claim 1, wherein R 4 and R 5 in the formula (II) are a methyl group or an ethyl group.
は異項環基であり、R2は、C1〜C11のアルキル基、
低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル
基、低級アルコキシアルキル基、置換されてもよいアリ
ール基、置換されてもよいアラルキル基、ハロゲン化ア
ルキル基、または5もしくは6員の異項環基であり、R
8はアルキル基、アラルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基または異項環基を表わす) の化合物と、一般式(II): (式中R4、R5は水素原子、アルキル基あるいはアリ
ール基またはR4およびR5が共にアルキル基のときシ
クロアルキル基を形成してもよい。R6は水素原子また
はC1〜C11のアルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキ
ル基、置換されていてもよいアリール基、置換されてい
てもよいアラルキル基、ハロゲン化アルキル基または5
もしくは6員の異項環基であり、R6が水素原子の場合
R7は水素原子、C2〜C11のアルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級ア
ルコキシアルキル基、置換されていてもよいアリール
基、置換されていてもよいアラルキル基またはハロゲン
化アルキル基を表わし、R6が水素原子以外の置換基の
場合は、R7は水素原子、C1〜C11のアルキル基、低
級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル
基、低級アルコキシアルキル基、置換されていてもよい
アリール基、置換されていてもよいアラルキル基または
ハロゲン化アルキル基を表わすか;あるいはR6および
R7は一緒に−(CH2)m−(mは3または4であ
る)を表わす〕 で表わされる化合物とを第3級有機塩基の存在下反応さ
せて、一般式(IV): 〔式中R1、R2、R6、R7は上記と同じ〕 の化合物を得ることを特徴とする4−オキサ−4H−ピ
ラン−3−カルボキサミド化合物の製造法。5. General formula (III): (In the formula, R 1 is an aryl group which may have a substituent or a heterocyclic group, R 2 is a C 1 -C 11 alkyl group,
A lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, a halogenated alkyl group, or a 5- or 6-membered heterocyclic group , R
8 represents an alkyl group, an aralkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a heterocyclic group), and a compound represented by the general formula (II): (In the formula, R 4 and R 5 may be a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, or may form a cycloalkyl group when R 4 and R 5 are both alkyl groups. R 6 is a hydrogen atom or C 1 to C 11 Alkyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, cycloalkyl group, lower alkoxyalkyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted aralkyl group, halogenated alkyl group or 5
Or, when it is a 6-membered heterocyclic group and R 6 is a hydrogen atom, R 7 is a hydrogen atom, a C 2 to C 11 alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, It represents an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group or a halogenated alkyl group, and when R 6 is a substituent other than a hydrogen atom, R 7 is a hydrogen atom, C 1 to C 11 Represents an alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group or a halogenated alkyl group; or R 6 and R 7 together - (CH 2) m- (m is 3 or 4) presence reaction of tertiary organic base and a compound represented by representing the] Let general formula (IV): [Wherein R 1 , R 2 , R 6 , and R 7 are the same as above], a process for producing a 4-oxa-4H-pyran-3-carboxamide compound.
ル基である特許請求の範囲第5項に記載の製造法。6. The production method according to claim 5 , wherein R 4 and R 5 of the formula (II) are a methyl group or an ethyl group.
N,N,N′,N′−テトラメチルエチレンジアミン、
N,N,N′,N′−テトラメチル−1,3−プロパン
ジアミンである特許請求の範囲第5〜第6項のいずれか
1つに記載の製造法。7. A tertiary organic base is triethylamine,
N, N, N ', N'-tetramethylethylenediamine,
The method according to any one of claims 5 to 6, which is N, N, N ', N'-tetramethyl-1,3-propanediamine.
に対し、0.5当量以上用いられる特許請求の範囲第5〜
7項の何れか1つに記載の製造法。8. The method according to claim 5, wherein the tertiary organic base is used in an amount of 0.5 equivalent or more based on the compound of the general formula (III).
7. The manufacturing method according to any one of item 7.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5348386A JPH0613497B2 (en) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | Process for producing pyrone-3-carboxamide derivative |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5348386A JPH0613497B2 (en) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | Process for producing pyrone-3-carboxamide derivative |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62212383A JPS62212383A (en) | 1987-09-18 |
| JPH0613497B2 true JPH0613497B2 (en) | 1994-02-23 |
Family
ID=12944087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5348386A Expired - Lifetime JPH0613497B2 (en) | 1986-03-11 | 1986-03-11 | Process for producing pyrone-3-carboxamide derivative |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0613497B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08818B2 (en) * | 1986-09-08 | 1996-01-10 | ダイセル化学工業株式会社 | Process for producing pyrone-3-carboxamide derivative |
-
1986
- 1986-03-11 JP JP5348386A patent/JPH0613497B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62212383A (en) | 1987-09-18 |
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