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JPH08818B2 - Process for producing pyrone-3-carboxamide derivative - Google Patents

Process for producing pyrone-3-carboxamide derivative

Info

Publication number
JPH08818B2
JPH08818B2 JP61209656A JP20965686A JPH08818B2 JP H08818 B2 JPH08818 B2 JP H08818B2 JP 61209656 A JP61209656 A JP 61209656A JP 20965686 A JP20965686 A JP 20965686A JP H08818 B2 JPH08818 B2 JP H08818B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
optionally substituted
compound represented
alkyl group
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61209656A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6366175A (en
Inventor
幸久 後藤
和久 正本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Chemical Industries Ltd filed Critical Daicel Chemical Industries Ltd
Priority to JP61209656A priority Critical patent/JPH08818B2/en
Publication of JPS6366175A publication Critical patent/JPS6366175A/en
Publication of JPH08818B2 publication Critical patent/JPH08818B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド化合物の新規な製造法に関するものである。この発
明によって得られる化合物は医薬、農薬あるいはそれら
の合成中間体として有用である。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel method for producing a 4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide compound. The compound obtained by this invention is useful as a medicine, an agricultural chemical, or a synthetic intermediate thereof.

(従来技術) 4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド化合物
を製造する方法としては、従来いくつかの方法が報告さ
れている。
(Prior Art) As a method for producing a 4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide compound, several methods have been reported so far.

そのうち、ジケテンをイソシアナート類あるいは第1
級アミンまたはそのアセトアセチル体または、β−アミ
ノクロトン酸アミド誘導体と反応させて、4−オキソ−
4H−ピラン−3−カルボキサミド化合物を得ている報告
例として、特公昭45−31663号;薬学雑誌,87,1212(19
67):ケミカル・ファーマス−ティカル・ビュレチン
(Chem.Pharm.Bull.)19,1477(1971);同誌20,133(1
972);同誌28,2129(1980);薬学雑誌,101,40(198
1)等がある。しかしながら、これらの方法は、得られ
る4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド化合物
が、ピラン環の2位および6位が共にメチル基であり、
かつ5位が水素原子である化合物に限定されるため、こ
の発明の化合物を製造することはできない。
Of these, diketene is the isocyanate or the first
4-oxo- by reacting with a primary amine or its acetoacetyl derivative or a β-aminocrotonamide derivative
As a reported example of obtaining a 4H-pyran-3-carboxamide compound, JP-B-45-31663; Pharmaceutical Journal, 87 , 1212 (19
67): Chemical Pharmaceutical-Bulletin (Chem.Pharm.Bull.) 19 , 1477 (1971); The same magazine 20 , 133 (1)
972); ibid 28 , 2129 (1980); pharmacy journal, 101, 40 (198
1) etc. However, in these methods, the resulting 4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide compound has a methyl group at both the 2-position and the 6-position of the pyran ring,
In addition, the compound of the present invention cannot be produced because it is limited to the compound in which the 5-position is a hydrogen atom.

また、β−ケトアミド誘導体の2量化によって、4−
オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサミド化合物を得る
方法も知られている(ジャナル・オーガニック・ケミス
トリー(J.Org.Chem.,29,3548および3555(1964)ケミ
カルアブストラクツ88,225655g及び同誌94,191177m)。
これらの方法で得られる化合物は、ピラン環の2位およ
び6位の置換基がともに等しいものに限られ、かつ5位
が水素原子である化合物に限定されるため、この発明の
化合物を製造することはできない。
Further, by dimerization of the β-ketoamide derivative, 4-
A method for obtaining an oxo-4H-pyran-3-carboxamide compound is also known (J. Org. Chem., 29 , 3548 and 3555 (1964) Chemical Abstracts 88 , 225655 g and ibid. 94). , 191177m).
The compounds obtained by these methods are limited to those in which the substituents at the 2- and 6-positions of the pyran ring are both the same, and are limited to those having a hydrogen atom at the 5-position. It is not possible.

以上のように、従来、この発明に含まれる4−オキソ
−4H−ピラン−3−カルボキサミド化合物の一般的な製
造法は知られていない。
As described above, conventionally, a general method for producing a 4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide compound included in the present invention has not been known.

(発明の構成) この発明は、下記式(IV) R2−COCH2CONHR1 (IV) [式中、R1は置換基を有していてもよいアリール基また
は異項環基であり、R2はC1〜C11のアルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低
級アルコキシアルキル基、置換されていてもよいアリー
ル基、置換されていてもよいアラルキル基、ハロゲン化
アルキル基、または5もしくは6員の異項環基である]
で表わされる化合物と、下記式(V) R3R3′NH (V) [式中、R3,R3′は水素原子、アルキル基、アラルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又は異項環基を示
し、R3とR3′はそれらが結合する窒素原子と共に異項
環基を形成してもよい]で表わされる化合物との反応に
より生成する下記一般式(I): [式中、R1,R2,R3及びR3′は上記に同じ]で表わされ
る化合物と、一般式(II): [式中、R4,R5は水素原子、アルキル基あるいはアリー
ル基を示し、R4,R5が共にアルキル基のときシクロアル
キル基を形成してもよい。R6はC1〜C11のアルキル基、
低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル
基、低級アルコキシアルキル基、置換されていてもよい
アリール基、置換されていてもよいアラルキル基、ハロ
ゲン化アルキル基または5もしくは6員の異項環基を示
し、R7は水素原子、C1〜C11のアルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級ア
ルコキシアルキル基、置換されていてもよいアリール
基、置換されていてもよいアラルキル基またはハロゲン
化アルキル基を示し、R6およびR7は一緒になって−(CH
2−(mは3又は4である)を形成してもよい]で
表わされる化合物とを、第3級有機塩基の非存在下で反
応させて、一般式(III): [式中、R1,R2,R6,R7は上記に同じ]で表される化合物
を得ることを特徴とする4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド化合物の製造法を要旨する。
(Structure of the Invention) The present invention provides the following formula (IV) R 2 —COCH 2 CONHR 1 (IV) [wherein, R 1 is an aryl group or heterocyclic group which may have a substituent, R 2 is a C 1 to C 11 alkyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, cycloalkyl group, lower alkoxyalkyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted aralkyl group, halogenated alkyl A group or a 5- or 6-membered heterocyclic group]
And a compound represented by the following formula (V) R 3 R 3 ′ NH (V) [wherein R 3 and R 3 ′ are a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a heterocyclic ring] And R 3 and R 3 ′ may form a heterocyclic group together with the nitrogen atom to which they are attached], which is formed by a reaction with a compound represented by the following general formula (I): [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 3 ′ are the same as those defined above] and the compound represented by the general formula (II): [In the formula, R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and when both R 4 and R 5 are alkyl groups, a cycloalkyl group may be formed. R 6 is a C 1 to C 11 alkyl group,
A lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, a halogenated alkyl group or a 5- or 6-membered heterocyclic group R 7 is a hydrogen atom, a C 1 to C 11 alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl A group or a halogenated alkyl group, R 6 and R 7 together are-(CH
2 ) m- (m may be 3 or 4) may be formed] to react with a compound represented by the general formula (III): [In the formula, R 1 , R 2 , R 6 and R 7 are the same as above] 4-oxo-4H-pyran-3-
A method for producing a carboxamide compound is summarized.

一般式(I),(III)および(IV)の中のR1は、置
換基を有していてもよいアリール基または異項環基を表
わす。アリール基としてはフェニル基またはナフチル基
が含まれる。異項環基としては、窒素原子、硫黄原子、
酸素原子から選ばれた1〜3個の異原子を含有する5員
環または6員環の異項環基が含まれ、ことにフリル、テ
トラヒドロフリル、チエニル、チアゾリル、イソチアゾ
リル、オキサゾリル、イソオキゾリル、ピラゾリルのよ
うな5員環の基、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニ
ル、ピリダジニルのような6員環の基が挙げられる。
R 1 in the general formulas (I), (III) and (IV) represents an aryl group which may have a substituent or a heterocyclic group. The aryl group includes a phenyl group or a naphthyl group. The heterocyclic group includes a nitrogen atom, a sulfur atom,
It includes a 5-membered or 6-membered heterocyclic group containing 1 to 3 heteroatoms selected from oxygen atoms, particularly furyl, tetrahydrofuryl, thienyl, thiazolyl, isothiazolyl, oxazolyl, isooxolyl, pyrazolyl. And a 6-membered ring group such as pyridyl, pyrimidinyl, pyrazinyl and pyridazinyl.

置換基は、この発明の反応に不活性な基であれば特に
限定されない。置換基の具体例としては、塩素原子、臭
素原子、フッ素原子のようなハロゲン原子;メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチルのようなアルキ
ル基;メトキシ、エトキシ、プロポキシのようなアルコ
キシ基;メトキシカルボニル、エトキシカルボニルのよ
うなアルコキシカルボニル基;シアノ基、ニトロ基、ト
リフルオロメチル基などが挙げられる。
The substituent is not particularly limited as long as it is a group inert to the reaction of the present invention. Specific examples of the substituent include halogen atom such as chlorine atom, bromine atom and fluorine atom; alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl and butyl; alkoxy group such as methoxy, ethoxy and propoxy; methoxycarbonyl. , An alkoxycarbonyl group such as ethoxycarbonyl; a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group and the like.

この発明は、前述のように反応自体に特徴を有するも
のであるが、R1は最終目的物(たとえば植物の成長抑制
作用を示す農薬、または抗炎症作用を示す医薬)として
有用な観点から選択するのが望ましい。
Although the present invention is characterized by the reaction itself as described above, R 1 is selected from the viewpoint of being useful as a final target product (for example, a pesticide showing a plant growth inhibitory action, or a drug showing an anti-inflammatory action). It is desirable to do.

一般式(I),(III)および(IV)中のR2はC1〜C11
のアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、
シクロアルキル基、低級アルコキシアルキル基、置換さ
れてもよいアリール基、置換されてもよいアラルキル
基、ハロゲン化アルキル基、5もしくは6員の異項環基
を表わす。
R 2 in the general formulas (I), (III) and (IV) is C 1 to C 11
An alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group,
It represents a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, a halogenated alkyl group, a 5- or 6-membered heterocyclic group.

低級アルケニル基及び低級アルキニル基には、ビニ
ル、アリル、イソプロペニル、2−ブテニル1,3−ブタ
ジエニル、2−ペンテニル、1,4−ペンタジエニル,1,6
−ヘプタジエニル、1−ヘキセニル、エチニル、2−プ
ロピニルなどが含まれる。
The lower alkenyl group and lower alkynyl group include vinyl, allyl, isopropenyl, 2-butenyl 1,3-butadienyl, 2-pentenyl, 1,4-pentadienyl, 1,6
-Heptadienyl, 1-hexenyl, ethynyl, 2-propynyl and the like.

シクロアルキル基には、シクロプロピル、シクロペン
チルまたはシクロヘキシル基などが含まれる。
Cycloalkyl groups include cyclopropyl, cyclopentyl or cyclohexyl groups and the like.

ハロゲン化アルキル基には、トリフルオロメチル、ク
ロルメチル基などが含まれる。
Halogenated alkyl groups include trifluoromethyl, chloromethyl groups and the like.

低級アルコキシアルキル基には、メトキシメチル、エ
トキシメチル、プロポキシメチル、ブトキシメチル基な
どが含まれる。
Lower alkoxyalkyl groups include methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl groups and the like.

アラルキル基には、ベンジル、3−フェニルプロピ
ル、4−フェニルブチル基などが含まれる。
Aralkyl groups include benzyl, 3-phenylpropyl, 4-phenylbutyl groups and the like.

5もしくは6員の異項環基には、窒素原子、酸素原
子、硫黄原子から選択されたヘテロ原子を1〜3個含有
する5もしくは6員の異項環基が含まれる。たとえば、
フリル、テトラヒドロフリル、チエニル、チアゾリル、
イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピ
ラゾリルなどの5員環の基;ピリジル、ピリミジニル、
ピラジニル、ピリダジニルなどの6員環の基が挙げられ
る。これらの基は、メチルまたはエチルのようなアルキ
ル基、ハロゲン原子またはフェニル基で置換されてもよ
い。フェニル基で置換された場合、環内の2つの炭素原
子と結合して縮合環を形成してもよい。縮合環を形成し
た場合の例としては、ベンゾチアゾリル、ベンゾフリ
ル、キナゾリニル、キノキサリニル基などが挙げられ
る。
The 5- or 6-membered heterocyclic group includes a 5- or 6-membered heterocyclic group containing 1 to 3 heteroatoms selected from nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom. For example,
Furyl, tetrahydrofuryl, thienyl, thiazolyl,
5-membered ring groups such as isothiazolyl, oxazolyl, isoxazolyl, and pyrazolyl; pyridyl, pyrimidinyl,
Examples thereof include 6-membered ring groups such as pyrazinyl and pyridazinyl. These groups may be substituted with alkyl groups such as methyl or ethyl, halogen atoms or phenyl groups. When substituted with a phenyl group, it may combine with two carbon atoms in the ring to form a fused ring. Examples of the case where a condensed ring is formed include benzothiazolyl, benzofuryl, quinazolinyl, quinoxalinyl groups and the like.

置換されていてもよいアリールもしくはアラルキル基
とは、フェニル基、ナフチル基、ベンジル、3−フェニ
ルプロピルなどの非置換のアリールもしくはアラルキル
基、並びにこれらの基のアリール部分がハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基およびシアノ基など
この反応に不活性な基の1〜3個で置換されたものが含
まれる。
The optionally substituted aryl or aralkyl group is an unsubstituted aryl or aralkyl group such as a phenyl group, a naphthyl group, benzyl, 3-phenylpropyl, and a halogen atom in the aryl portion of these groups,
Those substituted with 1 to 3 groups inert to this reaction such as a lower alkyl group, a lower alkoxy group and a cyano group are included.

一般式(I)および(V)におけるR3又はR3′のアル
キル基としては、炭素数1〜11のアルキル基、アラルキ
ル基としてはベンジル基、2−フエニルエチル基など、
シクロアルキル基としては炭素数3〜7のシクロアルキ
ル基が含まれ、またアリール基または異項環基にはR1
おける例示と同じものが含まれる。またR3およびR3′が
共にアルキル基の場合は、それらが結合するアミノ基の
窒素原子及び場合により他の異原子と共に、異項環基を
形成してもよい。この様な異項環基の具体例としては、
ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリ
ン環などが挙げられる。
The alkyl group represented by R 3 or R 3 ′ in the general formulas (I) and (V) is an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms, the aralkyl group is a benzyl group, a 2-phenylethyl group, and the like.
The cycloalkyl group includes a cycloalkyl group having 3 to 7 carbon atoms, and the aryl group or the heterocyclic group includes the same groups as those exemplified for R 1 . When R 3 and R 3 ′ are both alkyl groups, they may form a heterocyclic group together with the nitrogen atom of the amino group to which they are bonded and optionally with another heteroatom. Specific examples of such a heterocyclic group include:
Examples thereof include a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a piperazine ring and a morpholine ring.

一般式(II)で表わされる1,3−ジオキシン−4−オ
ン化合物は、従来既知の方法で製造することができる
〔ケミカル・ファーマス−ティカル・ビュレチン(Che
m,Pharm.Bull.)31,1896(1983)参照〕。
The 1,3-dioxin-4-one compound represented by the general formula (II) can be produced by a conventionally known method [Chemical Pharmaceutical Buretin (Che
m, Pharm.Bull.) 31, 1896 (1983)].

一般式(II)におけるR4とR5は水素原子、アルキル基
あるいはアリール基を意味し、またはR4とR5が共にアル
キル基のとき両者が結合してシクロアルキル基を形成し
ていてもよい。これらのR4とR5は、目的物に導入されな
い基であり、入手容易で安価なものを選択利用するのが
望ましい。R4、R5として、メチル基またはエチル基が好
ましい。
R 4 and R 5 in the general formula (II) mean a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, or when both R 4 and R 5 are alkyl groups, they may be bonded to each other to form a cycloalkyl group. Good. These R 4 and R 5 are groups that are not introduced into the intended product, and it is desirable to select and use easily available and inexpensive ones. As R 4 and R 5 , a methyl group or an ethyl group is preferable.

一般式(II)および(III)におけるR6は、水素原子
又はC1〜C11のアルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキ
ル基、置換されていてもよいアリール基、置換されてい
てもよいアラルキル基、またはハロゲン化アルキル基を
表わし、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロ
アルキル基、低級アルコキシアルキル基、ハロゲン化ア
ルキル基、置換されてもよいアリール基または置換され
ていてもよいアラルキル基にはR2における例示と同じも
のが含まれる。
R 6 in the general formulas (II) and (III) represents a hydrogen atom or a C 1 to C 11 alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, or an optionally substituted aryl. Group, an optionally substituted aralkyl group, or a halogenated alkyl group, and a lower alkenyl group, lower alkynyl group, cycloalkyl group, lower alkoxyalkyl group, halogenated alkyl group, optionally substituted aryl group or substituted The aralkyl groups which may be included include the same groups as those exemplified for R 2 .

一般式(II)および(III)におけるR7は、水素原
子、C1〜C11のアルキル基、低級アルケニル基、低級ア
ルキニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシアルキ
ル基、置換されていてもよいアリール基、置換されてい
てもよいアラルキル基またはハロゲン化アルキル基を表
わす。R6及びR7は一緒になって−(CH2−(mは3
又は4である)を形成してもよい。低級アルケニル基、
低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級アルコキシ
アルキル基、アラルキル基、ハロゲン化アルキル基、置
換されていてもよいアリール基または置換されていても
よいアラルキル基にはR2における例示と同じものが含ま
れる。
R 7 in the general formulas (II) and (III) represents a hydrogen atom, a C 1 to C 11 alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, or an optionally substituted aryl. Represents a group, an optionally substituted aralkyl group or a halogenated alkyl group. R 6 and R 7 together form-(CH 2 ) m- (m is 3
Or 4) may be formed. Lower alkenyl group,
A lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an aralkyl group, a halogenated alkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted aralkyl group include the same as those exemplified for R 2 . .

一般式(I)で表わされる化合物と一般式(II)で表
わされる化合物との反応は、第3級有機塩基を用いるこ
となく、無溶媒下または不活性溶剤中で行うことができ
る。好ましい不活性溶剤の例として、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メシチレン、テトラリン、デカリン、ジ
フェニルエーテルなどが挙げられる。反応温度として
は、一般式(II)で表わされる化合物の熱分解温度を目
安として、約100℃から200℃程度の温度が用いられる。
The reaction between the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II) can be carried out without a solvent or in an inert solvent without using a tertiary organic base. Examples of preferable inert solvents include benzene, toluene, xylene, mesitylene, tetralin, decalin, diphenyl ether and the like. As the reaction temperature, a temperature of about 100 ° C. to 200 ° C. is used with the thermal decomposition temperature of the compound represented by the general formula (II) as a guide.

また一般式(II)で表わされる化合物の使用量は、一
般式(I)で表わされる化合物に対して1当量以上用い
ることは当然であるが、好ましくは1.2〜3.0当量の範囲
で好結果が得られる。
The amount of the compound represented by the general formula (II) to be used is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the general formula (I), but preferably in the range of 1.2 to 3.0 equivalents. can get.

この発明において、熱分解生成物として式(VI)で表
わされるカルボニル化合物が反応系中に発生する。この
化合物の沸点が反応設定温度より低い場合には、 反応中、必要ならば使用溶媒の一部と共に系外に留去し
ながら反応を行なうことが有利である。
In this invention, a carbonyl compound represented by the formula (VI) is generated in the reaction system as a thermal decomposition product. If the boiling point of this compound is lower than the set reaction temperature, During the reaction, it is advantageous to carry out the reaction by distilling it out of the system together with a part of the solvent used if necessary.

(実施例) 以下実施例によって、この発明をさらに具体的に説明
する。
(Examples) The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

実施例1 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−2,5,6−
トリメチル−4−オキソ−4H−ピラン−3−カルボキサ
ミド N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−3−
オキソ酪酸アミド3,12g(10mmol)、ブチルアミン0.73g
(10mmol)およびトルエン20mlの混合物に酢酸1滴を加
え、90℃で1時間加熱攪拌した後、1時間後還流下に保
ち、その間に生成した水をトルエン約12mlと共に留去
し、さらに減圧下ロータリーエバポレーターを用いて乾
固まで溶媒を除去した。得られた残渣に2,2,5,6−テト
ラメチル−4H−1,3−ジオキシン−4−オン3.44g(22mm
ol)およびメチレン10mlを加え、生成するアセトンを系
外に除去しながら1.5時間穏やかに加熱還流させた。反
応混合物から溶媒を減圧下に留去し、得られた残渣をシ
リカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによって処
理し、さらに酢酸エチルから晶析させることによって題
記化合物2.22g(収率57%)を得た。
Example 1 N- (4-bromo-2,6-diethylphenyl) -2,5,6-
Trimethyl-4-oxo-4H-pyran-3-carboxamide N- (4-bromo-2,6-diethylphenyl) -3-
Oxobutyric acid amide 3,12 g (10 mmol), butylamine 0.73 g
To the mixture of (10 mmol) and 20 ml of toluene, 1 drop of acetic acid was added, and the mixture was stirred with heating at 90 ° C for 1 hour, and after 1 hour, the mixture was kept under reflux, and the water formed during that time was distilled off together with about 12 ml of toluene, and further under reduced pressure. The solvent was removed to dryness using a rotary evaporator. 2,2,5,6-tetramethyl-4H-1,3-dioxin-4-one 3.44 g (22 mm
ol) and 10 ml of methylene were added, and the mixture was gently heated to reflux for 1.5 hours while removing the produced acetone out of the system. The solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure, the obtained residue was treated by column chromatography using silica gel, and further crystallized from ethyl acetate to obtain 2.22 g (yield 57%) of the title compound. .

融点:137−139.5℃ IR(KBrディスク):1657,1680cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 1.16(t,6H),1.99(s,3H),2.33(s,3H),2.57(q,4
H),2.78(s,3H),7.18(s,2H),11.25(br,1H) 実施例2 5−エチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)−6−
メチル−4−オキソ−2−プロピル−4H−ピラン−3−
カルボキサミド 出発原料としてN−(2,6−ジエチルフェニル)−3
−オキソ−ヘキサン酸アミドを、1,3−ジオキシン−4
−オン化合物として、5−エチル−2,2,6−トリメチル
−4H−1,3−ジオキシン−4−オンを用いた以外は、実
施例と同様に反応を行った後、シリカゲルを用いたカラ
ムクロマトグラフィーによって精製することにより題記
化合物を収率65%で得た。
Melting point: 137-139.5 ° C IR (KBr disk): 1657,1680 cm -1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 1.16 (t, 6H), 1.99 (s, 3H), 2.33 (s, 3H), 2.57 (q, Four
H), 2.78 (s, 3H), 7.18 (s, 2H), 11.25 (br, 1H) Example 2 5-Ethyl-N- (2,6-diethylphenyl) -6-
Methyl-4-oxo-2-propyl-4H-pyran-3-
Carboxamide N- (2,6-diethylphenyl) -3 as a starting material
-Oxo-hexanoic acid amide, 1,3-dioxin-4
After the reaction was performed in the same manner as in Example except that 5-ethyl-2,2,6-trimethyl-4H-1,3-dioxin-4-one was used as the -one compound, a column using silica gel was used. Purification by chromatography gave the title compound in 65% yield.

IR(neat):1650,1680cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 0.96(t,3H),1.09(t,3H),1.16(t,6H),1.73(six,2
H)2.31(s,3H),2.49(q,2H),2.61(q,4H),3.17(t,
2H),7.04(s,3H),11.14(br,1H) 実施例3 2−ブチル−5,6−ジメチル−N−(2,3−ジメチルフ
ェニル)−4−オキソ−4H−ピラン−カルボキサミド N−(2,3−ジメチルフェニル)−3−オキソ−ヘプ
タン酸アミド2.47g(10mmol)、ベンジルアミン1.07g
(10mmol)およびトルエン20mlの混合物を1時間還流下
に保ち、その間に生成した水をトルエン約12mlと共に留
去し、さらに減圧下ロータリーエバポレーターを用いて
乾固まで溶媒除去した。得られた残渣に残渣に2,2,5,6
−テトラメチル−4H−1,3−ジオキシン−4−オン3.44g
(22mmol)およびメシチレン10mlを加え、生成するアセ
トンを系外に除去しながら1.5時間穏やかに加熱還流さ
せた。反応混合物から溶媒を減圧下に留去して得られた
残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーに
よって処理し得られた結晶性残渣をエーテルとヘキサン
との混合物から再結晶して題記化合物2.09g(収率64
%)を得た。
IR (neat): 1650, 1680 cm -1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 0.96 (t, 3H), 1.09 (t, 3H), 1.16 (t, 6H), 1.73 (six, 2
H) 2.31 (s, 3H), 2.49 (q, 2H), 2.61 (q, 4H), 3.17 (t,
2H), 7.04 (s, 3H), 11.14 (br, 1H) Example 3 2-Butyl-5,6-dimethyl-N- (2,3-dimethylphenyl) -4-oxo-4H-pyran-carboxamide N -(2,3-Dimethylphenyl) -3-oxo-heptanoic acid amide 2.47 g (10 mmol), benzylamine 1.07 g
A mixture of (10 mmol) and 20 ml of toluene was kept under reflux for 1 hour, water generated during that time was distilled off together with about 12 ml of toluene, and the solvent was removed to dryness under reduced pressure using a rotary evaporator. The residue obtained is 2,2,5,6
-Tetramethyl-4H-1,3-dioxin-4-one 3.44 g
(22 mmol) and 10 ml of mesitylene were added, and the mixture was gently heated to reflux for 1.5 hours while removing the produced acetone outside the system. The solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure, the resulting residue was treated by column chromatography using silica gel, and the obtained crystalline residue was recrystallized from a mixture of ether and hexane to give 2.09 g of the title compound ( Yield 64
%) Was obtained.

融点:98−99.5℃ IR(KBrディスク):1605,1645,1693cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 0.65〜2.00(m,7H),1.98(s,3H),2.26(s,9H),3.27
(t,2H),6.70〜7.80(m,3H),11.80(br,1H) 実施例4 2−(3−クロロフェニル)−5,6−ジメチル−4−
オキソ−N−フェニル−4H−ピラン−3−カルボキサミ
ド 出発原料として3−(3−クロロフェニル)−3−オ
キソ−N−フェニルプロピオン酸アミドを用いた以外
は、実施例3と同様に反応及びカラムクロマト処理を行
い、得られた結晶性残渣を酢酸エチルから再結晶して題
記化合物を収率53%で得た。
Melting point: 98-99.5 ° C IR (KBr disc): 1605, 1645, 1693 cm -1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 0.65 to 2.00 (m, 7H), 1.98 (s, 3H), 2.26 (s, 9H), 3.27
(T, 2H), 6.70 to 7.80 (m, 3H), 11.80 (br, 1H) Example 4 2- (3-chlorophenyl) -5,6-dimethyl-4-
Oxo-N-phenyl-4H-pyran-3-carboxamide Reaction and column chromatography were performed in the same manner as in Example 3 except that 3- (3-chlorophenyl) -3-oxo-N-phenylpropionic acid amide was used as a starting material. The mixture was treated and the obtained crystalline residue was recrystallized from ethyl acetate to give the title compound in a yield of 53%.

融点:173.5−175℃ IR(KBrディスク):1645,1695cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 2.06(s,3H),2.39(s,3H),7.00〜7.10(m,9H),11.40
(br,1H) 実施例5 N−(2,6−ジエチルフェニル)−5,6,7,8−テトラヒ
ドロ−2−メチル−4−オキソ−4H−クロメン−3−カ
ルボキサミド N−(2,6−ジエチルフェニル)−3−オキソ−酪酸
アミド2.33g(10mmol)、40%メチルアミン水溶液1.56g
(22mmol)およびトルエン20mlの混合物に酢酸を1滴加
え、室温で8時間攪拌した後、反応混合物を加熱して、
未反応のメチルアミンおよび水をトルエン約12mlと共に
留去し、さらに減圧下ロータリーエバポレーターを用い
て乾固まで溶媒を除去した。得られた残渣に、2,2−ジ
メチル−5,6,7,8−テトラヒドロ−4H−1,3−ベンゾジオ
キシン−4−オン4.01g(22mmol)およびメシチレン20m
lを加え、生成するアセトンを系外に除去しながら、1.5
時間穏やかに加熱乾流させた。反応混合物から、溶媒を
減圧下に留去し、得られた残渣をシリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフィーによって処理し、さらにヘキサ
ンから晶析させることによって題記化合物2.07g(収率6
1%)を得た。
Melting point: 173.5-175 ° C IR (KBr disk): 1645, 1695 cm -1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 2.06 (s, 3H), 2.39 (s, 3H), 7.00 to 7.10 (m, 9H), 11.40
(Br, 1H) Example 5 N- (2,6-diethylphenyl) -5,6,7,8-tetrahydro-2-methyl-4-oxo-4H-chromene-3-carboxamide N- (2,6) -Diethylphenyl) -3-oxo-butyric acid amide 2.33 g (10 mmol), 40% methylamine aqueous solution 1.56 g
To the mixture of (22 mmol) and 20 ml of toluene, 1 drop of acetic acid was added, and after stirring at room temperature for 8 hours, the reaction mixture was heated,
Unreacted methylamine and water were distilled off together with about 12 ml of toluene, and the solvent was removed to dryness using a rotary evaporator under reduced pressure. To the obtained residue, 2,2-dimethyl-5,6,7,8-tetrahydro-4H-1,3-benzodioxin-4-one 4.01 g (22 mmol) and mesitylene 20 m
Add l to remove generated acetone out of the system, and
Gently heated to dryness for an hour. From the reaction mixture, the solvent was evaporated under reduced pressure, the obtained residue was treated by column chromatography using silica gel, and further crystallized from hexane to give 2.07 g of the title compound (yield 6
1%).

融点:115−117℃ IR(KBrディスク:1655,1677cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 1.16(t,6H),1.40〜2.85(m,8H),2.59(q,4H),2.76
(s,3H),7.01(s,3H),11.23(br,1H) 実施例6 N−(2,6−ジエチルフェニル)−2,6−ジメチル−4
−オキソ−5−フェニルメチル−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド N−(2,6−ジエチルフェニル)−3−オキソ−酪酸
アミド2.33g(10mmol)、ブチルアミン0.73g(10mmol)
およびトルエン20mlの混合物に酢酸1滴を加え、80℃で
1時間加熱撹拌した後、1時間還流下に保ち、その間に
生成した水をトルエン約12mlと共に留去し、さらに減圧
下、ロータリーエバポレーターを用いて乾固まで溶媒を
除去した。得られた残渣に2,2,6−トリメチル−5−フ
ェニルメチル−4H−1,3−ジオキシン−4−オン5.11g
(22mmol)、およびメシチレン20mlを加え、生成するア
セトンを系外に除去しながら、1.5時間穏やかに加熱還
流させた。反応混合物から溶媒を減圧下に留去し、得ら
れた残渣をシリカゲルを用いたカラムクロマドグラフィ
ーによって処理し、さらにヘキサンから晶析させること
によって、題記化合物2.34g(収率60%)を得た。
Melting point: 115-117 ° C IR (KBr disc: 1655, 1677 cm -1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 1.16 (t, 6H), 1.40 to 2.85 (m, 8H), 2.59 (q, 4H), 2.76
(S, 3H), 7.01 (s, 3H), 11.23 (br, 1H) Example 6 N- (2,6-diethylphenyl) -2,6-dimethyl-4
-Oxo-5-phenylmethyl-4H-pyran-3-carboxamide N- (2,6-diethylphenyl) -3-oxo-butyric acid amide 2.33 g (10 mmol), butylamine 0.73 g (10 mmol)
1 drop of acetic acid was added to the mixture of 20 ml of toluene and toluene, and the mixture was heated with stirring at 80 ° C. for 1 hour and then kept under reflux for 1 hour, while water formed was distilled off together with about 12 ml of toluene, and the mixture was further rotary evaporated under reduced pressure. The solvent was removed to dryness using. 5.12 g of 2,2,6-trimethyl-5-phenylmethyl-4H-1,3-dioxin-4-one was added to the obtained residue.
(22 mmol) and mesitylene (20 ml) were added, and the resulting acetone was gently heated to reflux for 1.5 hours while removing the resulting acetone from the system. The solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure, the obtained residue was treated by column chromatography using silica gel, and further crystallized from hexane to obtain 2.34 g of the title compound (yield 60%). It was

融点95−96℃ IR(KBrディスク):1640,1717cm-1 NMR(CDCl3)δ値: 1.13(t,6H),2.25(s,3H), 2.60(q,4H),2.73(s,3H), 3.81(s,2H),7.05(s,3H), 7.15(s,5H),11.25(br,1H) 実施例7 N−(2,6−ジエチルフェニル)−2,6−ジメチル−4
−オキソ−5−フェニルメチル−4H−ピラン−3−カル
ボキサミド ブチルアミンのかわりにピロリジンを用いた以外は実
施例6と同様に反応、精製を行うことにより題記化合物
を収率55%で得た。
Melting point 95-96 ° C IR (KBr disk): 1640,1717cm -1 NMR (CDCl 3 ) δ value: 1.13 (t, 6H), 2.25 (s, 3H), 2.60 (q, 4H), 2.73 (s, 3H ), 3.81 (s, 2H), 7.05 (s, 3H), 7.15 (s, 5H), 11.25 (br, 1H) Example 7 N- (2,6-diethylphenyl) -2,6-dimethyl-4
-Oxo-5-phenylmethyl-4H-pyran-3-carboxamido The reaction and purification were conducted in the same manner as in Example 6 except that pyrrolidine was used instead of butylamine to give the title compound in a yield of 55%.

融点95−96℃Melting point 95-96 ° C

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記式(IV) R2−COCH2CONHR1 (IV) [式中、R1は置換基を有していてもよいアリール基また
は異項環基であり、R2はC1〜C11のアルキル基、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低
級アルコキシアルキル基、置換されていてもよいアリー
ル基、置換されていてもよいアラルキル基、ハロゲン化
アルキル基、または5もしくは6員の異項環基である]
で表わされる化合物と、下記式(V) R3R3′NH (V) [式中、R3,R3′は水素原子、アルキル基、アラルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又は異項環基を示
し、R3とR3′はそれらが結合する窒素原子と共に異項
環基を形成してもよい]で表わされる化合物との反応に
より生成する下記一般式(I): [式中、R1,R2,R3及びR3′は上記に同じ]で表わされ
る化合物と、一般式(II): [式中、R4,R5は水素原子、アルキル基あるいはアリー
ル基を示し、R4,R5が共にアルキル基のときシクロアル
キル基を形成してもよい。R6はC1〜C11のアルキル基、
低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル
基、低級アルコキシアルキル基、置換されていてもよい
アリール基、置換されていてもよいアラルキル基、ハロ
ゲン化アルキル基または5もしくは6員の異項環基を示
し、R7は水素原子、C1〜C11のアルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級ア
ルコキシアルキル基、置換されていてもよいアリール
基、置換されていてもよいアラルキル基またはハロゲン
化アルキル基を示し、R6およびR7は一緒になって−(CH
2−(mは3又は4である)を形成してもよい]で
表わされる化合物とを、第3級有機塩基の非存在下で反
応させて、一般式(III): [式中、R1,R2,R6,R7は上記に同じ]で表される化合物
を得ることを特徴とする4−オキソ−4H−ピラン−3−
カルボキサミド化合物の製造法。
1. A compound represented by the following formula (IV) R 2 —COCH 2 CONHR 1 (IV) [wherein R 1 is an aryl group or heterocyclic group which may have a substituent, and R 2 is C 1 to C 11 alkyl group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, cycloalkyl group, lower alkoxyalkyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted aralkyl group, halogenated alkyl group, or 5 Or a 6-membered heterocyclic group]
And a compound represented by the following formula (V) R 3 R 3 ′ NH (V) [wherein R 3 and R 3 ′ are a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a heterocyclic ring] And R 3 and R 3 ′ may form a heterocyclic group together with the nitrogen atom to which they are attached], which is formed by a reaction with a compound represented by the following general formula (I): [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 3 ′ are the same as those defined above] and the compound represented by the general formula (II): [In the formula, R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and when both R 4 and R 5 are alkyl groups, a cycloalkyl group may be formed. R 6 is a C 1 to C 11 alkyl group,
A lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, a halogenated alkyl group or a 5- or 6-membered heterocyclic group R 7 is a hydrogen atom, a C 1 to C 11 alkyl group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxyalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl A group or a halogenated alkyl group, R 6 and R 7 together are-(CH
2 ) m- (m may be 3 or 4) may be formed] to react with a compound represented by the general formula (III): [In the formula, R 1 , R 2 , R 6 and R 7 are the same as above] 4-oxo-4H-pyran-3-
Process for producing carboxamide compound.
【請求項2】式(II)のR4、R5がメチル基またはエチル
基である特許請求の範囲第1項に記載の製造法。
2. The production method according to claim 1, wherein R 4 and R 5 in the formula (II) are a methyl group or an ethyl group.
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