JP7685381B2 - イオンセンサ、イオンセンサの製造方法及びイオンの測定方法 - Google Patents
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Description
本発明は、第1のインサーション材料及び第1のイオン伝導性セラミックスを含有する第1の内部固体層と、第1の内部固体層上に配置されたイオン選択膜と、を含むイオン選択性電極と、第2のインサーション材料及び第2のイオン伝導性セラミックスを含有する第2の内部固体層と、第2の内部固体層上に配置されたイオン液体含有膜と、を含む参照電極と、イオン選択性電極及び参照電極が配置された絶縁体と、を含むイオンセンサ(本明細書において、「本発明のイオンセンサ」と示すこともある。)に関する。以下に、これについて説明する。
本発明は、絶縁体上に、第1のインサーション材料及び第1のイオン伝導性セラミックスを含有する第1の内部固体層と、イオン選択膜と、を含むイオン選択性電極を形成する工程と、絶縁体上に、第2のインサーション材料及び第2のイオン伝導性セラミックスを含有する第2の内部固体層と、イオン液体含有膜と、を含む参照電極を形成する工程と、を含む、イオンセンサの製造方法、に関する。
本発明は、本発明のイオンセンサを用いたイオンの測定方法であって、イオン選択性電極と参照電極に試料を接触させる工程と、イオン選択性電極と参照電極との間の電位を測定する工程と、を含む、イオンの測定方法(本明細書において、「本発明の測定方法」と示すこともある。)に関する。
図1(A)、(B)を用いてイオンセンサの構造について説明する。図1(A)は、実施例1で得られたイオンセンサの平面図を示しており、図1(B)は図1(A)の1B-1B´線に沿ったイオンセンサの断面図を示している。イオンセンサ1は、絶縁体であるアルミナ基板11の同一面側に形成された凹部112、111のそれぞれ対向する位置に、イオン選択性電極52及び参照電極51が配置されている。イオン選択性電極52は、アルミナ基板11に近い方から順に、白金電極22、内部固体層32、イオン選択膜42がアルミナ基板11上に配置された構造である。参照電極51は、アルミナ基板11に近い方から順に、白金電極21、内部固体層31、イオン液体含有膜41がアルミナ基板11上に配置された構造である。白金電極21、22は、凹部111、112に埋め込まれており、上面視で円形状の直径1.7mm(φ1.7mm)を有している。イオン選択膜42は、内部固体層32の上面及び側面を覆うようにアルミナ基板11上に配置されている。イオン液体含有膜41は、内部固体層31の上面及び側面を覆うようにアルミナ基板11上に配置されている。イオン選択性電極52の内側端部62と参照電極51の内側端部61との間の距離は5.6mmである。内部固体層32(厚さ約15μm)とイオン選択膜42(厚さ約15μm)の総厚さは約30μmであり、内部固体層31(厚さ約15μm)とイオン液体含有膜41(厚さ約15μm)の総厚さは約30μmである。アルミナ基板11の同一面側に凹部112、111を形成した場合には、イオン選択性電極52及び参照電極51の形状に応じた作製が容易となる。なお、イオンセンサ1は、凹部112、111が形成されていないアルミナ基板11に、イオン選択性電極52及び参照電極51が配置されていてもよい。
イオンセンサ1(実施例1)のイオン選択性電極52及び参照電極51それぞれの開放回路電位を、図3に示すようにして、Ag/AgCl参照電極78(飽和KCl、ダブルジャンクションNaCl 140 mmol dm-3)に対して3分間測定した。具体的には、イオン選択性電極52と参照電極51との間が電位差計75を介して接続させ、さらにイオン選択性電極52とAg/AgCl参照電極78との間、及び参照電極51とAg/AgCl参照電極78との間も電位差計752、751を介して接続させ、電位を測定した。イオン選択性電極52及び参照電極51をアルミナ基板11の同一面上に集積したイオンセンサ1の評価において、イオン選択性電極52と参照電極51との間の電位(E)は、イオン選択性電極52の電位(EW)から参照電極51の電位(ER)を差し引いて算出し、ERとEWはそれぞれAg/AgCl 参照電極78との間で測定した。各測定において、事前のコンディショニング(測定対象イオン(カリウムイオン)が含まれる溶液に電極を一定時間接触させる作業)を行っていない乾燥状態のセンサに試料溶液を滴下し、50~60秒、110~120秒、170~180秒の平均値を、それぞれ1分、2分、3分の測定値として測定した。KCl測定用のサンプル液には、KCl 1, 10, 100 mmol dm-3および140 mmol dm-3のNaCl電解質が含まれていた。血清測定には、血清標準液(JCTCM 130-4)Low(L)、Middle(M)、High(H)を購入し、LとM、MとHを混合して他の濃度レベルの試料を調製した。表1に、血清サンプルの各イオン濃度を示す。
イオンセンサ1の電極間距離5.6mmの妥当性を評価するために、イオンセンサ1(実施例1)と、参照電極51を備えない以外はイオンセンサ1(実施例1)と同じ構成のイオンセンサ2(図5)を用意した。イオンセンサ1及びイオンセンサ2それぞれのイオン選択性電極の開放回路電位を、実施例2(図3)と同様にしてAg/AgCl参照電極78に対して3分間測定し、検量線を得て、傾き、標準電位、選択性(Kpot K+,Na+)などのパラメータが両者で異なるかどうかを評価した。
イオンセンサ1(実施例1)がディスポ―ザブルセンサーとして、キャリブレーションフリー測定が可能かどうか確認するために、イオンセンサ1(実施例1)1つで1回のみKCl溶液を測定し、検量線を取得した。溶液毎に3つずつのイオンセンサ1を使用し、合計15個のイオンセンサ1を使用した。これら15個のイオンセンサ1は、同じ方法でそれぞれ独立して作製されたものであった。
イオンセンサ1(実施例1)の性能を血液の血清サンプルでテストした。K+, Na+, Cl-の濃度が異なる一連の血清サンプルを用意した(表1)。
イオンセンサ1(実施例1)のイオン液体含有膜41上に、さらにイオン液体70質量%のイオン液体含有膜43を積層したイオンセンサ3(実施例6)を用いて、図8で示す系にて測定を行った。具体的には、参照電極51とAg/AgCl参照電極78とを電位差計75を介して接続させ、電位を測定した。
2 イオンセンサ
11 アルミナ基板
111 凹部
112 凹部
21 白金電極
22 白金電極
31 内部固体層
32 内部固体層
41 イオン液体含有膜
42 イオン選択膜
43 イオン液体70質量%のイオン液体含有膜
51 参照電極
52 イオン選択性電極
61 端部
62 端部
71 Ag/AgCl
72 飽和KCl溶液
73 140mm dm-3 NaCl溶液
74 試料溶液
75 電位差計
751 電位差計
752 電位差計
76 導線
78 Ag/AgCl参照電極
A 内部固体層
B 電極材
C1 イオン選択膜
C2 イオン液体含有膜
D イオン選択性電極
E 参照電極
F 絶縁体
G 電位差計
H 導線
I 試料溶液
J イオンセンサ
K 接続端子
L 先端
M 流路
Claims (25)
- イオン選択性電極と、参照電極と、前記イオン選択性電極及び前記参照電極が配置された絶縁体と、を含み、
前記イオン選択性電極が、第1のインサーション材料及び第1のイオン伝導性セラミックスを含有する第1の内部固体層と、前記第1の内部固体層の前記絶縁体側とは反対側に前記第1の内部固体層が露出しないように配置されたイオン選択膜と、を含むイオン選択性電極であり、且つ
前記参照電極が、第2のインサーション材料及び第2のイオン伝導性セラミックスを含有する第2の内部固体層と、前記第2の内部固体層の前記絶縁体側とは反対側に前記第2の内部固体層が露出しないように配置されたイオン液体含有膜と、を含む参照電極である、
イオンセンサ。 - 前記第1のイオン伝導性セラミックス及び前記第2のイオン伝導性セラミックスは、カリウムイオン伝導性セラミックス、ナトリウムイオン伝導性セラミックス、又はリチウムイオン伝導性セラミックスである、請求項1に記載のイオンセンサ。
- 前記第1のイオン伝導性セラミックス及び前記第2のイオン伝導性セラミックスは、β”アルミナ又はβアルミナである、請求項1又は2に記載のイオンセンサ。
- 前記第1のインサーション材料及び前記第2のインサーション材料は、金属酸化物、酸素レドックス材料、又はプルシアンブルー類似体である、請求項1~3のいずれか一項に記載のイオンセンサ。
- 前記第1のインサーション材料及び前記第2のインサーション材料は、イオン-電子伝導体である、請求項1~4のいずれか一項に記載のイオンセンサ。
- 前記第1のインサーション材料及び前記第2のインサーション材料は、カリウムイオン、ナトリウムイオン、又はリチウムイオンに対するイオン-電子伝導体である、請求項5に記載のイオンセンサ。
- 前記第1のインサーション材料及び前記第2のインサーション材料は、金属酸化物である、請求項1~6のいずれか一項に記載のイオンセンサ。
- 前記金属酸化物は、MxMnO2(MはNa又はKを示し、xは任意の正数を示す。)である、請求項7に記載のイオンセンサ。
- 前記xは、0.2~0.5である、請求項8に記載のイオンセンサ。
- 前記イオン選択性電極及び前記参照電極は、電極材を含む、請求項1~9のいずれか一項に記載のイオンセンサ。
- 前記第1のインサーション材料、前記第2のインサーション材料、前記第1のイオン伝導性セラミックス及び前記第2のイオン伝導性セラミックスは、粒子である、請求項1~10のいずれか一項に記載のイオンセンサ。
- 前記第1のイオン伝導性セラミックスの平均粒径は、前記第1のインサーション材料の平均粒径より小さく、且つ前記第2のイオン伝導性セラミックスの平均粒径は、前記第2のインサーション材料の平均粒径より小さい、請求項11に記載のイオンセンサ。
- 前記第1のインサーション材料と前記第1のイオン伝導性セラミックスとの質量比及び前記第2のインサーション材料と前記第2のイオン伝導性セラミックスの質量比は、2:1~1:2である、請求項1~12のいずれか一項に記載のイオンセンサ。
- 前記第1の内部固体層及び前記第2の内部固体層は、結着剤及び導電剤を含有する、請求項1~13のいずれか一項に記載のイオンセンサ。
- 前記結着剤は、
(a)ポリフッ化ビニリデン、
(b)スチレンブタジエンラテックス及びカルボキシメチルセルロースを含有する混合剤、
(c)ポリアミド、ポリイミド、及びカルボジイミドを含有する混合剤、
(d)ポリテトラフルオロエチレン、又は
(e)アクリルエマルジョンである、請求項14に記載のイオンセンサ。 - 前記導電剤は、カーボンブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラック、カーボンナノチューブ、グラフェン、カーボン粉末、又はグラファイト粉末である、請求項14又は15に記載のイオンセンサ。
- 前記イオン選択膜は、イオノフォアを含有する、請求項1~16のいずれか一項に記載のイオンセンサ。
- 前記イオン液体含有膜は、イオン液体を含有するゲル膜である、請求項1~17のいずれか一項に記載のイオンセンサ。
- 前記第1の内部固体層の組成と前記第2の内部固体層の組成は、同じである、請求項1~18のいずれか一項に記載のイオンセンサ。
- 前記イオン選択性電極及び前記参照電極は、前記絶縁体の同一面側に配置されている、請求項1~19のいずれか一項に記載のイオンセンサ。
- 絶縁体上に、第1のインサーション材料及び第1のイオン伝導性セラミックスを含有する第1の内部固体層と、イオン選択膜と、を含むイオン選択性電極を形成する工程と、
前記絶縁体上に、第2のインサーション材料及び第2のイオン伝導性セラミックスを含有する第2の内部固体層と、イオン液体含有膜と、を含む参照電極を形成する工程と、を含む、イオンセンサの製造方法。 - 前記第1の内部固体層及び前記第2の内部固体層の形成方法は、静電塗布である、請求項21に記載の製造方法。
- 請求項1~22のいずれかに記載のイオンセンサを用いたイオンの測定方法であって、
前記イオン選択性電極と前記参照電極に試料を接触させる工程と、
前記イオン選択性電極と前記参照電極との間の電位を測定する工程と、を含む、イオンの測定方法。 - 前記試料を接触させる工程において、前記試料をイオンセンサ上に供給する、請求項23に記載のイオンの測定方法。
- 前記試料を接触させる工程において、前記試料を前記イオン選択性電極が配置された位置から前記参照電極が配置された位置に向かって流動させる、請求項23に記載のイオンの測定方法。
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