JP7282661B2 - 浄化装置 - Google Patents
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Description
[1]発電プラント
図1は、第1実施形態に係る発電プラントの概要を示す図である。図1では、発電プラント1として、原子力発電プラントの一部を模式的に示している。
図2は、第1実施形態に係る浄化装置10を模式的に示す図である。
浄化装置10において、陰イオン吸着剤充填部20は、容器21を含み、容器21の入口に配管L11が連結されていると共に、容器21の出口に配管L12が連結されている。
加熱部40は、ヒータを含み、陰イオン吸着剤充填部20の外部に設置されている。加熱部40は、陰イオン吸着剤充填部20に充填された陰イオン吸着剤23を加熱するために設置されている。
上記の浄化装置10を用いて浄化処理を行う際の動作に関して説明する。
以上のように、本実施形態では、陰イオン吸着剤23は、BiO(OH)(式(A)参照)で表されるビスマス化合物であり、100℃以上の温度条件で陰イオン吸着剤充填部20において浄化処理が行われる。このため、本実施形態では、被処理水の温度を低下させずに、被処理水に不純物として含有する陰イオンを効率的に被処理水から除去することができる。
上記の実施形態では、図1に示したように、圧力容器2から炉水が被処理水として浄化装置10に流入する場合について説明したが、これに限らない。
[1]浄化装置10
図5は、第2実施形態に係る浄化装置10を模式的に示す図である。
浄化装置10において、陽イオン吸着剤充填部30は、容器31を含み、容器31の入口に配管L10が連結されていると共に、容器31の出口に配管L11が連結されている。
加熱部50は、ヒータを含み、陽イオン吸着剤充填部30の外部に設置されている。加熱部50は、陽イオン吸着剤充填部30に充填された陽イオン吸着剤33を加熱するために設置されている。
上記の浄化装置10を用いて浄化処理を行う際の動作に関して説明する。
以上のように、本実施形態では、第1実施形態の場合と同様に、被処理水の温度を低下させずに、被処理水に不純物として含有する陽イオンおよび陰イオンを効率的に被処理水から除去することができる。
[1]浄化装置10
図6は、第3実施形態に係る浄化装置10を模式的に示す図である。
以上のように、本実施形態では、被処理水は、陽イオン吸着剤充填部30と陰イオン吸着剤充填部20とにおいて、順次、浄化処理が施された後に、フィルタ部60において濾過処理が施される。陽イオン吸着剤充填部30の陽イオン吸着剤33および陰イオン吸着剤充填部20の陰イオン吸着剤23が、時間の経過に伴って摩耗し、欠損部が生じた場合には、欠損部の欠片が流れる場合がある。しかしながら、本実施形態では、フィルタ部60の濾過処理によって、その欠片などの固形分を捕捉することができる。したがって、処理済水から欠片などの固形分が除去することができる。
なお、本発明は上述した実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階では、上述した実施例以外にも様々な形態で実施することができる。本発明は、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、追加、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
Claims (5)
- 被処理水を浄化する浄化装置であって、
前記被処理水に不純物として含有する陰イオンを陰イオン吸着剤で吸着することによって、前記被処理水について浄化処理を行う陰イオン吸着剤充填部と、
前記陰イオン吸着剤充填部に充填された前記陰イオン吸着剤を加熱する加熱部と
を備え、
前記陰イオン吸着剤は、BiO(OH)で表されるビスマス化合物であり、
前記陰イオン吸着剤充填部において前記浄化処理が実行される際には、前記陰イオン吸着剤は、前記加熱部によって200℃以上350℃以下の温度範囲になるように加熱される、
浄化装置。 - 前記被処理水は、蒸気タービンを駆動する水蒸気を発生させるために使用される水である、
請求項1に記載の浄化装置。 - 前記被処理水に不純物として含有する陽イオンを陽イオン吸着剤で吸着することによって、前記被処理水について浄化処理を行う陽イオン吸着剤充填部
を更に備える、
請求項1または2に記載の浄化装置。 - 前記被処理水について濾過処理を行うフィルタ部
を更に備える、
請求項1から3のいずれかに記載の浄化装置。 - 前記被処理水は、液体である、
請求項1から4のいずれかに記載の浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2019218314A JP7282661B2 (ja) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | 浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2019218314A JP7282661B2 (ja) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | 浄化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021087903A JP2021087903A (ja) | 2021-06-10 |
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Family
ID=76218773
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019218314A Active JP7282661B2 (ja) | 2019-12-02 | 2019-12-02 | 浄化装置 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP7282661B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
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Citations (1)
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| WO2013191075A1 (ja) | 2012-06-21 | 2013-12-27 | 東亞合成株式会社 | 非晶質無機陰イオン交換体、電子部品封止用樹脂組成物および非晶質ビスマス化合物の製造方法 |
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2019
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Patent Citations (1)
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| WO2013191075A1 (ja) | 2012-06-21 | 2013-12-27 | 東亞合成株式会社 | 非晶質無機陰イオン交換体、電子部品封止用樹脂組成物および非晶質ビスマス化合物の製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| J.L.Kharbanda,INDIAN J.CHEM.,1976年,Vol.14A,p.340-342 |
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