JP5824081B2 - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルム、特に表示装置に用いられる光学フィルムの製造方法に関する。

ポリマーフィルムは、優れた光透過性や柔軟性および軽量薄膜化が可能であるなどの特長から光学フィルムとして多岐に利用されている。ポリマーフィルムの中でも、セルロースアシレートフィルムは、液晶表示装置の偏光板の保護フィルム，位相差フィルムなどの光学フィルムに用いられている。

ポリマーフィルムの主な製造方法としては、溶融押出方法と溶液製膜方法とがある。溶融押出方法は、ポリマーをそのまま加熱溶解させた後、押出機で押し出してポリマーフィルムを製造する方法である。溶融押出方法は、ポリマーフィルムの生産性が高く、設備コストも比較的低いなどの特徴を有する。一方、溶液製膜方法は、ポリマーが溶媒に溶けているポリマー溶液（以下、ドープと称する）を支持体上に流延し、流延膜を形成する。そして、溶液製膜方法は、流延膜が自己支持性を有するものとなった後、溶媒を含んだ状態の流延膜を支持体から剥がすことでフィルムを形成し、このフィルムを乾燥する方法である。この溶液製膜方法は、溶融押出方法と比べて、厚みの均一性に優れるとともに、含有異物の少ないフィルムを得ることができるため、特に光学フィルムの製造方法に適している。

液晶ディスプレイ等の表示装置に対する要求性能は近年ますます高くなっており、表示装置に用いる光学フィルムに対しても要求性能は高まるばかりである。例えば液晶ディスプレイにおいては、厚みがますます薄く、画面がますます大きく、輝度がますます高くなっており、これに伴い、位相差フィルム等の光学フィルムに対しては、光学特性の均一性や透明性について、より厳しい要求が出されている。

また、液晶表示装置等に用いられる光学フィルムには、所定の環境条件下で一定の特性、品質を確保することが求められている。例えば、高温高湿の条件（例えば、温度６０℃以上相対湿度９０％ＲＨ）下における耐久試験（以下、湿熱耐久試験と称する）によりポリマーフィルムのレタデーションが変化してしまうことがあり、このような湿熱耐久試験によるレタデーションの変化が小さいことが求められている。

以上のような透明性の低下や、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化を抑制するために、種々の提案がこれまでなされている。例えば、特許文献１は、３層構造のセルロースアシレートフィルムを共流延により製造する方法を提案している。この特許文献１では、厚み方向における中央のコア層と、コア層の一方の面に設けられる第１表層とを、セルロースアシレートと有機溶媒と添加剤とが含まれ、添加剤の含有量が互いに異なるドープから形成し、コア層の他方の面に設けられる第２表層を、セルロースアシレートと微粒子と有機溶媒とが含まれるドープから形成している。そして、溶媒を含んだ状態で流延膜を支持体から剥がすことにより形成したフィルムを、残留溶媒量が３質量％以上５０質量％以下の範囲内にある間、もしくは、延伸の際のフィルムの温度を１４０℃以上２００℃以下の範囲内にしながら、少なくとも幅方向に延伸する。特許文献１は、これにより、透明性に優れたフィルムを製造する。

また、特許文献２は、延伸工程を経たポリマーフィルムに水蒸気接触処理と、熱処理とを施し、これにより、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化を小さく抑える。水蒸気接触処理を行う水蒸気接触工程は、延伸工程後のポリマーフィルムに水蒸気を接触させ、ポリマーフィルムの温度を１００℃以上１５０℃以下の範囲内に維持する。熱処理工程は、水蒸気接触工程を経たポリマーフィルムに乾燥した気体を接触させ、ポリマーフィルムの温度を１２０℃以上１３０℃以下の範囲内に維持する。

さらに、ポリマーフィルムに目的とする光学特性を発現させるために、長尺のポリマーフィルムに対して、例えば幅方向に延伸する延伸処理が施されることが多い。

特許第４６８６９１６号公報 特開２０１０−１０７９４９号公報

光学フィルムに目的とするレタデーションを発現させるには、厚みが薄いほど、延伸処理においてポリマーフィルムをより高い延伸倍率で延伸させる必要があるが、延伸倍率が高いほどポリマーフィルムの透明性は低下する。そして、透明性を維持するためには、延伸処理においてポリマーフィルムをより高い温度にした状態で延伸する必要がある。しかし、延伸処理においてこのようにポリマーフィルムの温度をより高くした状態で延伸倍率をより高くするほど、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化が大きくなってしまう。このような湿熱耐久試験によるレタデーションの変化は、特許文献１の方法では小さく抑えることができない。

また、特許文献２の方法によると、透明性に優れたフィルムを得ることができ、また湿熱耐久試験によるレタデーションの変化を小さく抑える点について一定の効果はある。しかし、特許文献２の方法は、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化については、最近求められるようになってきたレベルを確実に達成するには至っていない。

そこで、本発明は、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化が小さく抑えられ、透明性に優れた光学フィルムを製造する方法を提供することを目的とする。

本発明は、長尺のセルロースアシレートフィルムを搬送しながら幅方向に延伸することにより光学フィルムにする光学フィルムの製造方法において、セルロースアシレートフィルムのガラス転移点をＴｇ（℃）とし、セルロースアシレートフィルムの搬送方向とセルロースアシレートフィルムの側縁の通過路とのなす角を延伸角度とするときに、セルロースアシレートフィルムの搬送方向の上流側から順に配された、セルロースアシレートフィルムを予熱する予熱エリアと、幅方向に延伸する第１延伸エリア及び第２延伸エリアと、冷却する冷却エリアとを備えるテンタの予熱エリアにて、セルロースアシレートフィルムの幅を一定に保持しながら、セルロースアシレートフィルムを予熱する予熱工程と、予熱工程に連続して行われ、第１延伸エリアにて、セルロースアシレートフィルムを（Ｔｇ＋１０℃）以上（Ｔｇ＋５０℃）以下の範囲内の温度にした状態で幅方向に延伸することにより幅を１．５倍以上１．８倍以下に拡げる第１延伸工程と、第１延伸工程に連続して行われ、第２延伸エリアにて、第１延伸工程における延伸角度θ１よりも小さな延伸角度θ２でセルロースアシレートフィルムを幅方向に延伸する第２延伸工程と、第２延伸工程に連続して行われ、冷却エリアにて、セルロースアシレートフィルムの幅を一定に保持した状態で搬送しながら冷却する冷却工程とを有し、セルロースアシレートフィルムが予熱エリアを通過する時間をＴａ、第１延伸エリアを通過する時間をＴｂ、第２延伸エリアを通過する時間をＴｃ、冷却エリアを通過する時間をＴｄとするときに、下記（１）及び（２）を満たすことを特徴として構成されている。
０．５≦（Ｔａ＋Ｔｄ）／（Ｔｂ＋Ｔｃ）≦３．０・・・（１）
０．２≦（Ｔｂ／Ｔｃ）≦４．５ ・・・（２）

第２延伸工程は、セルロースアシレートフィルムの温度を下げながら、セルロースアシレートフィルムを幅方向に延伸することが好ましい。（θ２／θ１）×１００で求める角度変化率（単位；％）が０．５％以上４０％以下の範囲内であることが好ましい。第１延伸工程の前に、セルロースアシレートフィルムを１４０℃以下の温度にした状態で幅方向に延伸することにより、幅を１．０１倍以上１．２０倍以下の範囲内に拡げる予備延伸工程を有することが好ましい。

セルロースアシレートが溶媒に溶けたドープを移動する支持体上に流延して流延膜を形成する流延工程と、溶媒を含んだ状態の流延膜を剥ぎ取ることによりセルロースアシレートフィルムを形成する剥取工程とを有し、第１延伸工程は、残留溶媒量が２０質量％以下になったセルロースアシレートフィルムを延伸することが好ましい。

第２延伸工程の後に光学フィルムに水蒸気を接触させ、光学フィルムの温度を１００℃以上１５０℃未満の範囲内に維持する水蒸気接触工程を有することが好ましい。

セルロースアシレートフィルムは、総アシル基置換度Ｚが下記式（Ｉ）を満たすセルロースアシレートからなる第１の層と、この第１の層の少なくとも一方の面に配され、総アシル基置換度Ｚが下記式（II）を満たすセルロースアシレートからなる第２の層とを有することが好ましい。第１延伸工程は、セルロースアシレートフィルムの幅を１．６倍以上１．８倍以下に拡げることが好ましい。
２．０≦Ｚ＜２．７・・・（Ｉ）
２．７≦Ｚ≦３．０・・・（II）

本発明によれば、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化が小さく抑えられ、透明性に優れた光学フィルムが得られる。

溶液製膜設備を示す概略図である。 第２テンタの概略図である。 図２のIII−III線に沿う概略断面図である。 水蒸気接触装置の概略図である。

本発明により製造する光学フィルムにおけるポリマーは、透明な熱可塑性のポリマーである。熱可塑性ポリマーが吸湿性をもつ場合に本発明は効果があり、吸湿性が高いものほど、本発明は効果が大きい。本実施形態ではこのような吸湿性がある熱可塑性ポリマーとしてセルロースアシレートを用いている。

セルロースアシレートの中でも、セルロースの水酸基へのアシル基の置換度が下記式（１）〜（３）を満たすようなＴＡＣ（セルローストリアセテート）を用いる場合に、本発明は特に有効である。式（１）〜（３）において、Ａ及びＢは、セルロースの水酸基中の水素原子に対するアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、Ｂは炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度である。なお、セルロースアシレートの総アシル基置換度Ｚは、Ａ＋Ｂで求める値である。
（１） ２．７≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（２） ０≦Ａ≦３．０
（３） ０≦Ｂ≦２．９

また、ＴＡＣに代えて、または加えて、セルロースの水酸基へのアシル基の置換度が下記式（４）を満たすようなＤＡＣ（セルロースジアセテート）を用いる場合にも、本発明は特に有効である。
（４）２．０≦Ａ＋Ｂ＜２．７

レタデーションの波長分散性の観点から、式（４）を満たしながらも、ＤＡＣのアセチル基の置換度Ａ、及び炭素数３以上２２以下のアシル基の置換度の合計Ｂは、下記式（５）および（６）を満たすことが、好ましい。
（５） １．０＜Ａ＜２．７
（６） ０≦Ｂ＜１．５

セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基（ヒドロキシル基）を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化の場合を置換度１とする）を意味する。

図１の溶液製膜設備１０は、ドープ１１からセルロースアシレートフィルム（以下、単に「フィルム」と称する）１２を製造するためのものである。ドープ１１はポリマーが溶媒に溶解したものである。溶液製膜設備１０は、流延装置１５と、第１テンタ１６と、第１切除装置１７と、第２テンタ２０と、第２切除装置２１と、乾燥室２５と、冷却室２６と、巻取装置２７とを、上流側から順に備える。

流延装置１５は、ドープ１１から溶媒を含んだ状態のフィルム１２を形成するためのものである。流延装置１５は、ベルト３０と、流延ダイ３１と、バックアップローラ３３と、剥取ローラ３５とを、外部空間と仕切るチャンバ３６の中に備える。流延ダイ３１は、ベルト３０に向けてドープ１１を流出する。ベルト３０は、環状に形成された無端の流延支持体であり、１対のバックアップローラ３３に掛け渡される。

１対のバックアップローラ３３の少なくともいずれか一方は駆動部（図示無し）を有し、この駆動部によって、断面円形の中央に設けられた軸３３ａを中心に矢線Ａ１で示す周方向に回転する。この回転により、周面に掛け渡されているベルト３０は長手方向に搬送される。搬送されているベルト３０の周面に向けて、流延ダイ３１からドープ１１が流出することにより、ベルト３０の周面上でドープが流延されて流延膜３２が形成する。流延ダイ３１からベルト３０にかけては、ドープ１１からなるビードが形成される。バックアップローラ３３の回転方向Ａ１におけるビードの上流には、空気を吸引することによりビードの上流側エリアを減圧するチャンバ（図示無し）が備えてある。

各バックアップローラ３３は、温調機３３ｂにより、周面の温度が制御される。バックアップローラ３３の内部には、伝熱媒体が流れる流路が形成されている。温調機３３ｂは、伝熱媒体の温度を調整し、バックアップローラ３３との間で、伝熱媒体を循環させる。バックアップローラ３３の周面温度を調整することにより、ベルト３０を介して流延膜３２の温度が制御される。例えば、流延膜３２を冷却固化（ゲル化）させるいわゆる冷却流延の場合には、温調機３３ｂは伝熱媒体を冷却し、冷却された伝熱媒体をバックアップローラ３３に送り込む。この送り込みを例えば連続的に行うことにより、伝熱媒体は、バックアップローラ３３の内部の流路を巡り、温調機３３ｂに戻る。流延膜３２を乾燥して固化させるいわゆる乾燥流延の場合には、温調機３３ｂは、バックアップローラ３３を加熱する。

なお、流延支持体は、ベルト３０に限定されない。例えば、ベルト３０に代えて、周方向に回転するドラム（図示無し）を流延支持体として用いてもよい。乾燥流延の場合には、ベルト３０を用いることが多く、冷却流延の場合にはドラムを用いることが多い。ドラムを流延支持体として用いる場合には、ドラムの内部に伝熱媒体を通過させることにより、ドラムの周面の温度を調整し、このドラムを通じて流延膜３２の温度を制御する。

剥取ローラ３５は、流延膜３２がベルト３０から剥ぎ取られる剥取位置を一定に保持するためのものであり、軸方向がバックアップローラ３３の軸方向と平行になるように配される。フィルム１２が搬送方向Ｚ１に引っ張られ、このフィルム１２を剥取ローラ３５が周面で支持することにより、流延膜３２は所定の位置でベルト３０から剥がされる。この連続的な剥ぎ取りにより、フィルム１２が長尺に形成される。

流延装置１５の内部には、ドープ１１、流延膜３２、フィルム１２のそれぞれから蒸発して気体となった溶媒を凝縮させる凝縮器（コンデンサ）が備えられる。この凝縮器で液化した溶媒は、チャンバ３６の外部に配された回収装置へ案内され、この回収装置で回収される。なお、凝縮器と回収装置との図示は略す。

ポリマーとしてＴＡＣを用いる場合には、フィルム１２はＴＡＣからなる単層構造であることが好ましい。これに対し、ポリマーとしてＤＡＣを用いる場合には、フィルム１２は複層構造であることが好ましい。好ましい複層構造は、ＤＡＣからなる層の一方の面にＴＡＣからなる層が設けられている構造である。より好ましい複層構造は、ＤＡＣからなる層の一方の面及び他方の面にそれぞれＴＡＣからなる層が設けられている構造である。このようなＤＡＣからなる層をもつ複層構造の光学フィルムは、溶液製膜方法でつくることが好ましく、同時共流延もしくは逐次流延でつくることが好ましい。同時共流延の場合の流延ダイ３１は、周知のマルチマニホールドダイである。マルチマニホールドダイに代えて、フィードブロックとシングルマニホールドダイとを組み合わせて用いてもよい。フィードブロックは、供給されてきた複数種類のドープを内部で合流させ、合流した流れをシングルマニホールドダイへ送る。

フィルム１２は、ローラ４０により、流延装置１５から第１テンタ１６へ案内される。第１テンタ１６は、後述する第２テンタ２０による第１延伸工程と第２延伸工程との前の予備延伸処理を行う（予備延伸工程）ためのものである。第１テンタ１６は、フィルム１２の各側部を複数のクリップ１６ａで挟持（把持）することにより保持するいわゆるクリップテンタであり、クリップ１６ａが所定軌道を走行する。クリップ１６ａの走行によりフィルム１２は搬送される。

第１テンタ１６はエア供給部１６ｂとダクト（エア流出部）１６ｃとを備える。エア供給部１６ｂがダクト１６ｃに対して、所定の温度の乾燥した空気（以下、乾燥空気と称する）を送り、ダクト１６ｃから乾燥空気がフィルム１２へ送られる。これにより、第１テンタ１６を通過する間にフィルム１２は乾燥が進む。この第１テンタ１６では、フィルム１２の乾燥をすすめることにより、フィルム１２の残留溶媒量を３質量％以上２０質量％以下の範囲内にすることが好ましい。なお、本明細書における残留溶媒量とは、残留溶媒量を求めるべき測定対象のフィルム１２の質量をＸ、このフィルム１２を完全に乾燥した後の質量をＹとするときに、｛（Ｘ−Ｙ）／Ｙ｝×１００で求めるいわゆる乾量基準の値である。なお、「完全に乾燥」とは溶媒の量が厳格に０（ゼロ）である必要はない。例えば、１１０℃で３時間、測定対象のフィルム１２に対して乾燥処理を行った後の質量をＹとすればよい。

なお、本実施形態においては、第１テンタ１６としてクリップテンタを用いているが、クリップテンタに代えて、ピンテンタを用いてもよい。ピンテンタは、フィルム１２の側部に複数のピンを貫通して保持するピンプレートを有し、このピンプレートが所定軌道を走行することにより、フィルム１２は搬送される。ピンテンタを第１テンタ１６として用いる場合も、クリップテンタを用いる場合と同様に、フィルム１２の乾燥をすすめることにより、フィルム１２の残留溶媒量を３質量％以上２０質量％以下の範囲内にすることが好ましい。後述の第２テンタ２０へ案内する前にフィルム１２を幅方向に伸ばす場合、すなわち幅方向に延伸する場合には、第１テンタ１６はクリップテンタとすることが多い。

第１切除装置１７は、フィルム１２の各側部をカットする切断刃（図示無し）を備える。フィルム１２が切断刃に連続的に案内されて、各側部を切り離すことにより第１テンタ１６でのクリップ１６ａによる保持跡を除去する。前述のようにクリップテンタに代えてピンテンタを第１テンタ１６として用いる場合には、第１切除装置１７は各側部を切り離すことによりピンによる保持跡を除去する。

本実施形態では、フィルム１２を第１テンタ１６で乾燥してから第２テンタ２０に案内する。しかし、第１テンタ１６は必ずしも用いなくともよい。しかし、ＴＡＣからなる２層の間にＤＡＣの層を備える複層構造のフィルムを製造する場合には、第１テンタ１６を用いてこれにより幅方向に延伸することが好ましい。なお、乾燥流延の場合にはピンテンタを用いなくてもよい。

第１切除装置１７で両側部を切除されたフィルム１２は、第２テンタ２０に案内される。フィルム１２は、残留溶媒量を２０質量％以下にされてから第２テンタ２０に案内される。本実施形態では、前述の通り、第１テンタ１６により残留溶媒量が２０質量％以下になるまでフィルム１２を乾燥している。第２テンタ２０は、後述の第１延伸処理と第２延伸処理とを行うためのものである。第２テンタ２０及び第１延伸処理と第２延伸処理との詳細については、別の図面を用いて後述する。

第２切除装置２１は、第１切除装置１７と同じ構成を有する。フィルム１２を切断刃に連続的に案内して、第２テンタ２０でのクリップ５０（図２参照）による保持跡が除去されるように各側部を切り離す。

乾燥室２５には、フィルム１２を周面で支持するローラ４１が複数備えられる。これら複数のローラ４１の中には、周方向に回転する駆動ローラがあり、この駆動ローラの回転によりフィルム１２が搬送される。乾燥室２５には、加熱された乾燥空気が供給されている。この乾燥室２５を通過させることによりフィルム１２をさらに乾燥する。

冷却室２６には、室温の乾燥空気が供給されている。室温とは、１５℃以上３０℃以下の範囲内の温度である。この冷却室２６を通過させることにより、フィルム１２を降温させる。温度が低下したフィルム１２は、冷却室２６から巻取装置２７に案内されて巻芯４２に巻き取られる。

第２テンタ２０は、図２，図３に示すように、フィルム１２の搬送路を囲んでこの搬送路及び周辺を外部空間と仕切るチャンバ４３を備える。チャンバ４３は、搬送方向Ｚ１の上流側から順に、予熱エリア４５、第１延伸エリア４６、第２延伸エリア４７及び冷却エリア４８を有する。ただし、チャンバ４３は、予熱エリア４５と第１延伸エリア４６と第２延伸エリア４７と冷却エリア４８とがそれぞれ独立した空間となるように区画する仕切り部材が内部に設けてあるものではない。予熱エリア４５と第１延伸エリア４６と第２延伸エリア４７と冷却エリア４８とは、後述のように、クリップ５０の走行軌道と、第１〜第４給気室５５ａ〜５５ｄのそれぞれから流出する乾燥空気とにより空間的に形成される。

第２テンタ２０は、フィルム１２の側部を把持する複数のクリップ５０と、クリップ５０の走行軌道を成すレール５１，５２と、乾燥空気を流出するダクト（エア流出部）５５と、ダクト５５に所定条件の乾燥空気を送り込むエア供給部５６とを備える。レール５１，５２はフィルム１２の搬送路の両側に設置される。

複数のクリップ５０は、所定の間隔をもってチェーン（図示せず）に取り付けられている。このチェーンは、レール５１とレール５２とにそれぞれ取り付けられており、レール５１，５２に沿って移動自在とされている。チェーンは、予熱エリア４５よりも上流側に配されるターンホイール５７と、冷却エリア４８の下流端に配されるスプロケット５８とに噛み合っている。スプロケット５８が回転することにより、チェーンは連続走行する。チェーンの走行により、クリップ５０はレール５１，５２に沿って移動する。

予熱エリア４５よりも上流には、クリップ５０にフィルム１２の側部の把持を開始させる把持開始部材（図示無し）が設けられ、冷却エリア４８の下流側には、クリップ５０にフィルム１２の側部の把持を解除させる把持解除部材（図示無し）が設けられる。これにより、フィルム１２は、予熱エリア４５よりも上流でクリップ５０に把持され、クリップ５０がレール５１，５２に沿って移動することで長手方向へ搬送され、予熱エリア４５と第１延伸エリア４６と第２延伸エリア４７と冷却エリア４８とを順次通過する。予熱エリア４５と第１延伸エリア４６と第２延伸エリア４７と冷却エリア４８とを通過する間にフィルム１２は予熱エリア４５と第１延伸エリア４６と第２延伸エリア４７と冷却エリア４８とにおいて後述の所定の処理が施され、冷却エリア４８の下流端で把持を解除される。

レール５１とレール５２とは、所定のレール幅で互いに離間している。なお、本明細書においては、チェーンに取り付けられているクリップ５０はレール上を移動するので、フィルムの幅とレール幅とは等しいものとみなす。レール幅は、予熱エリア４５では幅Ｗ１と一定である。これにより、予熱エリア４５では、フィルム１２は幅を規制された状態で一定の幅を保持しながら搬送される。

第１延伸エリア４６は、第１延伸処理を行う（第１延伸工程）ためのものであり、搬送方向Ｚ１、すなわち下流に向かうに従ってレール幅は次第に広くなる。これにより第１延伸エリア４６では、フィルム１２は搬送されながら幅方向に延伸されることにより、幅を拡げられる。具体的には、第１延伸エリア４６に導入されるフィルム１２の幅をＷ１、第１延伸エリア４６を出るフィルム１２の幅をＷ２とするときに、第１延伸エリア４６でのレール幅を調整することにより、Ｗ２／Ｗ１で求める延伸倍率を１．５倍以上にし、より好ましくは、１．５倍以上２．２倍以下にする。ここで、搬送方向Ｚ１とフィルム１２の側縁１２ｅが通過する通過路とのなす角を延伸角度と称し、第１延伸エリア４６における延伸角度をθ１とする。

延伸角度θ１は、一定である。目的とする光学特性をフィルム１２に発現させる観点で、延伸角度θ１は０°より大きく１０°以下であることが好ましい。延伸角度θ１が１０°以下であれば、フィルム１２は第２テンタ２０内で破断しにくいので、好ましい。

第１延伸エリア４６に連続して設けられる第２延伸エリア４７は、第２延伸処理を行う（第２延伸工程）ためのものである。ここで、第２延伸エリア４７における延伸角度をθ２とする。第２延伸エリア４７においては、搬送方向Ｚ１、すなわち下流に向かうに従い第１延伸エリア４６と同様にレール幅は次第に広くなる。これにより、第２延伸エリア４７では、フィルム１２が、搬送されながら幅方向へ延伸されることにより幅を拡げられる。しかし、延伸角度θ２は延伸角度θ１よりも小さく設定される。したがって、第２延伸エリア４７における単位時間あたりの幅の広がりの度合いは第１延伸エリア４６におけるよりも小さい。本実施形態では第２延伸エリア４７における延伸角度θ２を一定にしてある。なお、第２延伸エリア４７を出るフィルム１２の幅をＷ３とする。

ＴＡＣからなる２層の間にＤＡＣの層を備える複層構造のフィルム１２を製造する場合には、Ｗ３／Ｗ１で求める延伸倍率は、１．５１倍以上２．５倍以下の範囲内とすることが好ましく、１．５５倍以上２．２倍以下の範囲内とすることがより好ましく、１．６倍以上２．０倍以下とすることがさらに好ましい。Ｗ３／Ｗ１で求める延伸倍率を１．５１倍以上とすることにより、１．５１倍未満の場合と比べて、目的とするレタデーションが確実に発現する。Ｗ３／Ｗ１で求める延伸倍率を２．５倍以下とすることにより、２．５倍よりも大きい場合に比べて、フィルム１２の内部ヘイズの上昇、すなわち透明性の低下が抑制され、かつ、破断も防止される。

冷却エリア４８は、冷却処理を行う（冷却工程）ためのものであり、レール幅は一定とされる。これにより、冷却エリア４８では、フィルム１２は幅をＷ３で一定に保持された状態で搬送される。

ただし、予熱エリア４５及び冷却エリア４８におけるレール幅に関する上記「一定」とは、厳密である必要はない。つまり、目的とする光学特性を発現させるために、予熱エリア４５と冷却エリア４８とのそれぞれにおいて、上流から下流にかけて幅Ｗ１、幅Ｗ３でそれぞれ略一定と言える程度にレール幅を若干変化させる態様でもよい。

図３に示すように、ダクト５５は、フィルム１２の搬送路との間隔が略一定となるように、搬送路の上方に設けられる。なお、搬送路の下方にも、搬送路との間隔が略一定となるように、ダクト５５と同様の構成をもつダクトを設けているが、図示は略す。ダクト５５の下部には、フィルム１２の幅方向Ｚ２に延びたスリット６１が形成されており、スリット６１は搬送方向Ｚ１に沿って複数設けられている。これに対し、搬送路の下方のダクト（図示無し）では、各スリットは、上部に形成されている。なお、搬送方向Ｚ１と幅方向Ｚ２とは直交する。

ダクト５５の内部は、複数の仕切り板６２により第１〜第４給気室５５ａ〜５５ｄに区画されている。なお、本実施形態においては、図３に示すように、第１〜第４給気室５５ａ〜５５ｄのスリット６１をそれぞれ複数としている。具体的には、第１給気室５５ａのスリット６１はひとつ、第２〜第４給気室５５ｂ〜５５ｄのスリット６１はそれぞれ３つである。しかし、各給気室５５ａ〜５５ｄにおける各スリット６１の数はこれに限られない。つまり、第１給気室５５ａにおけるスリット６１の数を１または３以上、第２〜第４給気室５５ｂ〜５５ｄにおけるスリット６１の数を１、２，４以上のいずれにしてもよい。

エア供給部５６は、ダクト５５の第１〜第４給気室５５ａ〜５５ｄに乾燥空気を供給する。エア供給部５６は、第１〜第４給気室５５ａ〜５５ｄにそれぞれ供給する各乾燥空気の温度を独立して制御する温調機（図示無し）を備える。この温調機により、所定温度に調節された乾燥空気が、それぞれ第１〜第４給気室５５ａ〜５５ｄを介して予熱エリア４５、第１延伸エリア４６、第２延伸エリア４７、冷却エリア４８へ供給される。なお、各給気室５５ａ〜５５ｄ内の温度は一定でもよいし、あるいは、さらに温度領域をフィルム１２の搬送方向Ｚ１で細分化されていてもよい。

第１給気室５５ａからの乾燥空気の供給により、フィルム１２を第１延伸エリア４６へ入る前に予め加熱する。この予熱エリア４５による加熱により、第１延伸エリア４６での延伸が迅速に開始されるようになるとともに、第１延伸エリア４６での延伸の際に、フィルム１２に対して幅方向Ｚ２でより均一な張力が付与されるようになる。

ここで、フィルム１２のガラス転移点をＴｇ（℃）とする。第２給気室５５ｂからの乾燥空気の供給により、第１延伸エリア４６では、フィルム１２を加熱してフィルム１２の温度を（Ｔｇ＋１０℃）以上（Ｔｇ＋５０℃）以下の範囲内に維持する。第１延伸エリア４６においてフィルム１２の温度を（Ｔｇ＋１０℃）以上にすることにより、内部ヘイズの上昇が確実に抑制される。また、第１延伸エリア４６においてフィルム１２の温度を（Ｔｇ＋５０℃）以下にすることにより、目的とする厚み方向レタデーションＲｔｈが確実に発現する。また、（Ｔｇ＋５０℃）以下にすることにより、フィルム１２が弛みにくくなるので、弛みによる傷の発生が防止される。ＴＡＣからなる２層の間にＤＡＣの層を備える複層構造のフィルム１２を製造する場合には、第１延伸エリア４６におけるフィルム１２の温度は、より好ましくは（Ｔｇ＋１０℃）以上（Ｔｇ＋４０℃）以下の範囲内であり、さらに好ましくは（Ｔｇ＋１０℃）以上（Ｔｇ＋３０℃）以下の範囲内である。

第２延伸エリア４７におけるフィルム１２の温度は、製造する光学フィルムのレタデーション等の光学特性と、第１延伸エリア４６での延伸によりフィルム１２の内部に残留した応力（残留応力）を緩和させる緩和作用の度合いとに基づき設定する。この緩和作用により、フィルム１２中の分子配向を目的とする状態にする。

第２延伸エリア４７においては、フィルム１２の温度を、搬送方向Ｚ１に向かうに従い、第１延伸エリア４６におけるフィルム１２の温度から下げていくことが好ましい。この降温は、連続的な下降でもよいし、段階的な下降でもよい。第２延伸エリア４７におけるフィルム１２の温度は、（Ｔｇ−５０℃）以上（Ｔｇ＋５０℃）以下の範囲内にすることが好ましい。これにより、第２延伸エリア４７においてθ１よりも小さい延伸角度θ２で延伸処理を行っても、内部ヘイズが上昇せず、目的とする厚み方向レタデーションＲｔｈがフィルム１２に発現するとともに、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化が小さく抑えられる。第２延伸エリア４７におけるフィルム１２の温度は、（Ｔｇ−３０℃）以上（Ｔｇ＋５０℃）以下の範囲内にすることがより好ましい。より具体的には、第２延伸エリア４７では、フィルム１２の温度を（Ｔｇ−５０℃）まで下げることが好ましく、Ｔｇ−３０℃まで下げることがより好ましい。

第１延伸エリア４６におけるフィルム１２の温度を（Ｔｇ＋１０℃）以上（Ｔｇ＋５０℃）以下の範囲内という高温にして、第２延伸エリア４７でこの温度を維持すると、フィルム１２が弛んで各装置とぶつかる等干渉してしまい、その結果フィルム１２に傷がつく場合がある。しかし、第１延伸エリア４６から供給されてきたフィルム１２の温度を第２延伸エリア４７において上記の温度にすることにより、フィルム１２には傷が付かない。

上記の通り、第１延伸エリア４６では、フィルム１２の温度を（Ｔｇ＋１０℃）以上（Ｔｇ＋５０℃）以下の範囲内にした状態で、延伸角度θ１で幅方向に延伸することによりフィルム１２の幅を１．５倍以上にする第１延伸処理を行う（第１延伸工程）。また、第２延伸エリア４７では、第１延伸エリア４６での延伸角度θ１よりも小さな延伸角度θ２でフィルム１２を幅方向に延伸する第２延伸処理を行う（第２延伸工程）。これにより、得られるフィルム１２は、透明性に優れ、湿熱耐久試験を経てもレタデーションの変化が小さく抑えられる。また、フィルム１２の厚みが薄いものほど、これらのレタデーションの変化の抑制はより顕著である。なお、予熱エリア４５，第１延伸エリア４６，第２延伸エリア４７における第１〜第３給気室５５ａ〜５５ｃからの乾燥空気による加熱により、フィルム１２の乾燥はさらに進められる。

冷却エリア４８では、第２延伸エリア４７で目的とする光学特性及び分子配向となったフィルム１２を、乾燥空気により冷却して分子を固定する。なお、図３では、煩雑さを避けるために、クリップ５０やターンホイール５７、スプロケット５８の図示を略す。

第１延伸工程から第２延伸工程へ切り替えるタイミング、すなわち第１延伸エリア４６と第２延伸エリア４７との境界の位置は、目的とする性能を得るために適宜選択してもよい。しかし、第２テンタ２０の搬送方向Ｚ１における長さは通常長さに制約があり、その中で予熱エリア４５における予熱処理と、冷却エリア４８における冷却処理との時間を確保する必要がある。そこで、予熱処理の時間Ｔａと、第１延伸処理の時間Ｔｂと、第２延伸処理の時間Ｔｃと、冷却処理の時間Ｔｄとを、下記の（１）及び（２）を満たす時間に設定する。これにより、第１延伸工程から第２延伸工程へ切り替えるタイミングが設定され、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化が確実に抑制される。なお、各時間Ｔａ〜Ｔｄは、各エリア４５〜４８をそれぞれフィルム１２が通過する時間であるので、各エリア４５〜４８の搬送方向Ｚ１における長さを調節することにより下記の（１）及び（２）を満たす時間を設定することができる。
０．５≦（Ｔａ＋Ｔｄ）／（Ｔｂ＋Ｔｃ）≦３．０・・・（１）
０．２≦（Ｔｂ／Ｔｃ）≦４．５ ・・・（２）

延伸角度θ１から延伸角度θ２へ延伸角度が変化する際の変化量も目的とする性能を得るために適宜選択してもよい。しかし、（θ２／θ１）×１００（単位；％）で表す角度変化率が４０％を超えて大きい場合には、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化の抑制効果が低減する。また角度変化率が０％の場合には、θ１＝θ２なので従来のテンタでの延伸条件と同じであるので、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化率が大きい。角度変化率は０．５％以上４０％以下の範囲内が好ましく、１％以上３０％以下の範囲がより好ましく、１．５％以上２０％以下の範囲内が特に好ましい。この第２テンタ２０での第１延伸処理と第２延伸処理とを行うことにより、フィルム１２は光学フィルムとしての機能を発現する。

なお、第２テンタ２０において上記の第１延伸処理と第２延伸処理とを行う場合には、第１テンタ１６における予備延伸工程は、フィルム１２の温度を１４０℃以下に保った状態でフィルム１２を幅方向に延伸することが好ましい。この第１テンタ１６における予備延伸処理の延伸倍率は、１．０１倍以上１．２０倍以下の範囲内にすることが好ましい。これにより、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化率が、より確実に小さく抑えられる。なお、第１テンタ１６における延伸倍率は、第１テンタ１６に入るフィルム１２の幅をＷ４、第１テンタ１６を出るフィルム１２の幅をＷ５とするときに、Ｗ５／Ｗ４で求める。

第１テンタ１６は第２テンタ２０と同じくレール上を移動する複数のクリップ１６ａ（図１参照）をもつ。したがって、レール間の距離を搬送方向Ｚ１に向かうに従い拡げて設定することにより、フィルム１２を幅方向に延伸する。この延伸によりフィルム１２は幅を拡げられる。また、第１テンタ１６は、第２テンタ２０と同じく、ダクト１６ｃ（図１参照）とエア供給部１６ｂ（図１参照）とを有し、エア供給部１６ｂからの乾燥空気により、フィルム１２の温度を調節する。

第１テンタ１６における上記延伸倍率及び温度の予備延伸処理は、ＴＡＣからなる２層の間にＤＡＣを備える複層構造のフィルム１２を製造する場合には、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化率を小さく抑える観点で、特に有効である。

上記の実施形態は、溶液製膜過程で幅方向Ｚ２に延伸する場合であるが、本発明はこの態様に限定されるものではない。例えば、一旦製造されたポリマーフィルムを幅方向Ｚ２に延伸するいわゆるオフライン延伸の場合にも、第２テンタ２０による上記の第１延伸処理と第２延伸処理とを行ってもよい。これにより、オフライン延伸で製造されるフィルムは、湿熱耐久試験によるレタデーションの変化率が小さく抑えられ、光学フィルムとして用いることができる。特に、ＴＡＣからなる２層の間にＤＡＣからなる層を備える複層構造のフィルムを、オフライン延伸して光学フィルムにする場合には、特に顕著な効果が得られる。

一旦製造されたポリマーフィルムとしては、溶融押出で製造された溶媒が非含有のポリマーフィルムや、溶液製膜で製造され、残留溶媒量が数％未満というように実質的に非含有と通常みなすようなポリマーフィルムがある。この場合には、上記の実施形態におけるフィルム１２を、溶媒が非含有あるいは実質的に非含有とみなすポリマーフィルムに代えて実施する。上記のように、オフライン延伸に供するフィルムは、溶液製膜方法と溶融押出方法とのいずれの方法で製造されたものであってよい。また、溶液製膜方法で製造されたポリマーフィルムあるいは溶液製膜の過程におけるフィルム１２に対して本発明を適用する場合には、本実施形態のように単層構造のものであってもよいし、同時共流延と逐次流延等による複層構造のものであってもよい。

湿熱耐久試験によるレタデーションの変化率を抑えた上で、さらに、フィルム１２の透明性を確保するためには、乾燥室２５の内部、または乾燥室２５と冷却室２６との間に、例えば図４に示す水蒸気接触装置１２０を設けることが好ましい。本実施形態では、乾燥室２５の内部に水蒸気接触装置１２０を設けてある。

水蒸気接触装置１２０は、フィルム１２に水蒸気を接触させ、フィルム１２を後述の温度範囲に維持する水蒸気接触処理を行うためのものである。水蒸気接触装置１２０は、結露防止処理ケーシング１４０と、湿潤気体接触ケーシング１４１とを備え、湿潤気体接触ケーシング１４１は結露防止処理ケーシング１４０内に設けられる。また、水蒸気接触装置１２０は、フィルム１２を搬送するローラ４１が結露防止処理ケーシング１４０及び湿潤気体接触ケーシング１４１の各内部に複数配されている。

結露防止処理ケーシング１４０には、フィルム１２を内部に導入するための入口１４０ｂと、フィルム１２を外部へ出すための出口１４０ｃとが形成されている。湿潤気体接触ケーシング１４１には、フィルム１２を内部に導入するための入口１４１ｂとフィルム１２を外部へ出すための出口１４１ｃとが形成されている。フィルム１２は、ローラ４１に案内されて、入口１４０ｂから結露防止処理ケーシング１４０内に入り、その後、入口１４１ｂから湿潤気体接触ケーシング１４１内に入る。フィルム１２は、湿潤気体接触ケーシング１４１内を通過して、出口１４１ｃから出て、結露防止処理ケーシング１４０を通過して出口１４０ｃから出る。

結露防止処理ケーシング１４０は、結露防止処理を行うためのものであり、内部に低露点乾燥気体４０４が充填される。低露点乾燥気体４０４は、露点がフィルム１２の温度よりも低い乾燥した気体である。湿潤気体接触ケーシング１４１は、フィルム１２に対して湿潤気体接触処理を行うためのものであり、内部に湿潤気体４００が充填される。湿潤気体４００は、水蒸気を含む気体である。

湿潤気体接触ケーシング１４１は、送りダクト１４２及び戻りダクト１４３により、湿潤気体供給設備１４５と接続する。湿潤気体供給設備１４５は、戻りダクト１４３を介して、湿潤気体接触ケーシング１４０の内部の気体を回収気体３００として回収する。湿潤気体供給設備１４５は、回収気体３００から所定の条件に調節された湿潤気体４００をつくり、送りダクト１４２を介して、湿潤気体４００を湿潤気体接触ケーシング１４１に供給する。

湿潤気体接触ケーシング１４１におけるフィルム１２の温度は、湿潤気体４００によって調節される。湿潤気体接触ケーシング１４１での湿潤気体接触処理は、フィルム１２の温度を１００℃以上１５０℃以下の範囲内に保持しながら、このフィルム１２を相対湿度が２０％ＲＨ以上の湿潤気体４００と、５秒以上６０分以下の範囲内で接触させることが好ましい。より好ましくは、フィルム１２の温度を１００℃以上１４０℃以下の範囲内に保持しながら、このフィルム１２を相対湿度が２５％ＲＨ以上の湿潤気体４００と、３０秒以上３０分以下の範囲内で接触させることであり、さらに好ましくは、フィルム１２の温度を１００℃以上１３０℃以下の範囲内に保持しながら、このフィルム１２を相対湿度が３０％ＲＨ以上の湿潤気体４００と、１分以上１５分以下の範囲内で接触させることである。

結露防止処理ケーシング１４０は、ダクト１２２及び１２３により、低露点乾燥気体供給設備１２１と接続する。低露点乾燥気体供給設備１２１は、湿潤気体供給設備１４５と同様の構成を有し、ダクト１２３を介して結露防止処理ケーシング１４０にある低露点乾燥気体４０４の一部を回収する。低露点乾燥気体供給設備１２１は、所定の温度の新たな低露点乾燥気体４０４をつくり、ダクト１２２を介して結露防止処理ケーシング１４０へ新たな低露点乾燥気体４０４を供給する。これにより、結露防止処理ケーシング１４０内には低露点乾燥気体４０４が充填される。

水蒸気接触装置１２０の作用を説明する。第２テンタ２０で第１延伸工程と第２延伸工程とを経たフィルム１２は、乾燥室２５に案内され、乾燥室２５内に設けられた水蒸気接触装置１２０の結露防止処理ケーシング１４０へ案内される。フィルム１２は、結露防止処理ケーシング１４０へ案内されると、低露点乾燥気体４０４に接触する結露防止処理が為される。これにより、湿潤気体接触ケーシング１４１へ入っても、フィルム１２に結露が生じることが防止される。また、湿潤気体接触ケーシング１４１が結露防止処理ケーシング１４０内に設けられているため、湿潤気体接触ケーシング１４１の外壁面での結露が防止され、外壁面での結露により生じた水滴がフィルムに滴下することも無い。

フィルム１２は、結露防止処理ケーシング１４０から湿潤気体接触ケーシング１４１へ案内される。フィルム１２には、湿潤気体接触ケーシング１４１において、湿潤気体４００と接触させる湿潤気体接触処理が為される。湿潤気体４００に接触すると、フィルム１２は水分子を吸収する。この結果、フィルム１２に含まれるセルロースアシレートのガラス転移点Ｔｇが低下するとともに、フィルム１２における水分子の拡散が促進される。フィルム１２における水分子の拡散の促進により、セルロースアシレート分子の高次構造がより安定な構造に遷移しやすくなる。このため、単なる熱処理に比べ、セルロースアシレート分子の構造が短時間で安定化する。この結果、湿熱耐久試験の前後におけるレタデーション、特に、厚み方向レタデーションＲｔｈの変動量ΔＲｔｈがより小さいフィルム１２が得られる。以上により、第２テンタ２０を経たフィルム１２には、結露防止処理と湿潤気体接触処理とからなる水蒸気接触処理が行われる（水蒸気接触工程）。

湿潤気体接触処理の前後において、低露点の加熱された高温乾燥気体に接触させて、任意のフィルム温度、搬送張力にて、一定時間熱処理する。この熱処理は、通常知られている条件範囲で任意に実施することができる。

フィルム１２は、光学フィルムとして使用される。具体的には、フィルム１２は、偏光板に用いられ光源からの光を光学的に補償する位相差フィルムとして、特に好ましく用いることができる。中でもＶＡ用位相差フィルムやＩＰＳ用位相差フィルムとして、特に有効である。また、フィルム１２は、透明性に優れ、温度や湿度条件が変化した際にもレタデーションの変化が小さく抑制されるので、これを用いた表示装置は、大画面で輝度が高く、環境変化に対して安定した表示性能を示す。

まず、表１に記載のようにアシル基の置換度が異なる２種類のセルロースアシレートを調製した。サンプル名はそれぞれＣ２、Ｃ４とした。サンプル名がＣ２のセルロースアシレートはＴＡＣ、サンプル名がＣ４のセルロースアシレートはＤＡＣである。調製の際には、触媒として硫酸を用いた。この触媒のセルロースアシレート１００質量部に対する添加量は７．８質量部である。アシル置換基の原料となるカルボン酸を添加し４０℃でアシル化反応を行った。アシル基の種類、置換度の調整は、カルボン酸の種類、量を調整することで行った。また、アシル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースアシレートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。

以下に示す処方のドープを２種調製した。

（ドープＣ２）
セルロースアシレート：表１に記載のＣ２ １００質量部
添加剤Ａ：表２のＡ−３ １１．３質量部
化合物Ｄ：化１に示す化合物Ｄ ４質量部
ジクロロメタン ４０６質量部
メタノール ６１質量部

（ドープＣ４）
セルロースアシレート：表１に記載のＣ４ １００質量部
添加剤Ａ：表２のＡ−３ １９質量部
化合物Ｄ：化１に示す化合物Ｄ ４質量部
ジクロロメタン ４０６質量部
メタノール ６１質量部

また、以上の２つのドープのいずれにも、マット剤分散液を混合、攪拌した。微粒子であるマット剤（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本エアロジル（株）製、２次平均粒子サイズ１．０μｍ以下）は、セルロースアシレート１００質量部に対して０．１３質量部とした。

なお、添加剤Ａは、ポリエステルであり、このポリエステルは、表２に記載のジカルボン酸とジオールとの組み合わせ及び比率によって得られる。表２においては、「芳香族ジカルボン酸」欄の「ＴＰＡ」はテレフタル酸、「脂肪族ジカルボン酸」欄の「ＳＡ」はコハク酸を表す。表２の「ジカルボン酸比」欄は、芳香族ジカルボン酸／脂肪族ジカルボン酸を示し、「ジオール比」欄はジオール１／ジオール２を示す。

以下に示す条件で実験１〜実験９を実施した。実験１〜４はＴＡＣからなる単層構造のフィルム１２を製造するものであり、表３の「フィルム」の「セルロースアシレート」欄には「ＴＡＣ」と記載する。実験５〜９はＤＡＣからなる層の両面にＴＡＣからなる層をそれぞれ配した３層構造のフィルム１２を製造するものであり、表３の「フィルム」の「セルロースアシレート」欄には「ＤＡＣ」と記載する。実験５〜９は、同時共流延により製造した。３層構造のうち露出する２つの表層は、互いに同じドープで形成した。以下の記載においては、３層構造のうちＤＡＣからなる層を主層と称する。

［実験１］〜［実験９］
溶液製膜設備１０を用いて、ドープＣ２により、フィルム１２を製造し、これらを実験１〜４とした。また、溶液製膜設備１０を用いて、ドープＣ２とドープＣ４とにより、フィルム１２を製造し、これらを実験５〜９とした。実験５〜９においては、ドープＣ２とＣ４とを共流延し、ドープＣ４から主層、ドープＣ２から表層を形成した。各実験で製造したフィルム１２と後述の各比較実験において製造したフィルムとの各厚みは、表２の「フィルム」の「厚み」欄に示す。

各実験について、第２テンタ２０の第１延伸エリア４６におけるフィルム１２の温度（℃）及び延伸倍率Ｗ２／Ｗ１と、第２延伸エリア４７における延伸角度θ２及び延伸倍率Ｗ３／Ｗ２とは、表３の各欄に示す。なお、延伸角度θ２は、表１の「延伸角度θ２」欄に、第１延伸エリア４６における延伸角度θ１と同じ場合には「＝θ１」と記載し、θ１よりも小さい場合には「＜θ１」と記載する。また、乾燥室２５内に水蒸気接触装置１２０を配し、フィルム１２に対して水蒸気接触処理を行った場合には、「水蒸気接触工程の有無」欄に「有」と記載し、行わなかった場合には「無」と記載する。

実験１〜実験９で得られた各フィルム１２につき、透明性と湿熱耐久試験によるレタデーションの変化についての評価を以下の方法で行った。各結果は表３に示す。
（１）透明性の評価
透明性は、内部ヘイズ（単位；％）をもって評価した。内部ヘイズは、次の方法で測定した。まず、得られたフィルム１２からサンプリングしてサンプルフィルムを得た。サンプルフィルムを２５℃、６０％ＲＨで２時間以上調湿した後に、２枚のスライドガラス板に流動パラフィンを介して挟み込み、ヘイズメータ（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機製）により、ヘイズを測定した。また、２枚のスライドガラス板にサンプルフィルム無しで流動パラフィンのみを挟み込み、これをブランクサンプルとした。このブランクサンプルのヘイズを前述のヘイズメータで測定した。そして、サンプルフィルムのヘイズ値から、ブランクサンプルのヘイズ値を減じたものを内部ヘイズとした。光学フィルムとして使用する実用上の観点から、内部ヘイズは０．１％以下であると合格と言える。

（２）湿熱耐久試験によるレタデーションの変化の評価
湿熱耐久試験は、フィルム１２からサンプリングしたサンプルフィルムについて行った。サンプリングは、フィルムの搬送方向Ｚ１と幅方向Ｚ２とにそれぞれ沿う切断線で矩形に一定の大きさで複数枚切り出すことで行い、それぞれサンプルフィルムとした。

サンプルフィルムについて、湿熱耐久試験前と、試験中とで厚み方向レタデーションＲｔｈを求めた。湿熱耐久試験に供する前のサンプルフィルムの厚み方向レタデーションＲｔｈ_０、湿熱耐久試験に供して１日経過時の厚み方向レタデーションＲｔｈ_１、湿熱耐久試験に供して５日経過時の厚み方向レタデーションＲｔｈ_５をそれぞれ求め、｛（Ｒｔｈ_１−Ｒｔｈ_０）／Ｒｔｈ_０｝×１００で求める値と、｛（Ｒｔｈ_５−Ｒｔｈ_０）／Ｒｔｈ_０｝×１００で求める値とを変動量ΔＲｔｈとした。このΔＲｔｈの値を表３の「湿熱耐久試験によるレタデーションの変化」欄に記載する。

厚み方向レタデーションＲｔｈは、下記の方法で求めた。サンプルフィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測機器（株）製）にて、５８９．３ｎｍにおけるフィルム面の垂直方向から測定した屈折率と、フィルム面を傾けながら測定した屈折率とから下記式により算出した。なお、下記式において、ｎＺ２はフィルム１２の幅方向Ｚ２に対応するサンプルフィルムにおける方向の屈折率、ｎＺ１はフィルム１２の搬送方向Ｚ１に対応するサンプルフィルムにおける方向の屈折率、ｎＴＨは厚み方向の屈折率、ｄは厚み（単位；μｍ）である。
Ｒｔｈ＝｛（ｎＺ２＋ｎＺ１）／２−ｎＴＨ｝×ｄ

なお、湿熱耐久試験は、このサンプルフィルムを一定の試験環境内に一定期間継続して置くというものである。サンプルフィルムを置く試験室の内部を温度６０℃、相対湿度９０％ＲＨでほぼ一定に保つことにより一定の試験環境を設けた。この試験室内にサンプルフィルムを置いた。なお、ΔＲｔｈは、湿熱耐久試験前のＲｔｈが低いフィルム１２ほど大きくなる傾向がある。また、ΔＲｔｈが同じ値であっても、湿熱耐久試験前のＲｔｈが低いものほどＲｔｈの変化が大きいことを意味し、高いものほどＲｔｈの変化が小さいことを意味する。ここで、実験３で製造したフィルム１２は、実験１で製造したフィルム１２や後述の比較実験２で製造したフィルムよりも湿熱耐久試験前のＲｔｈは低い。光学フィルムとして使用する実用上の観点から、目的とするＲｔｈが同じである場合には、ΔＲｔｈは極力小さいことが好ましい。なお、表３の各実験及び下記の各比較実験の結果から、湿熱耐久試験によってＲｔｈが上昇することがわかる。

［比較例］
［比較実験１］〜［比較実験７］
溶液製膜設備１０を用いて、ドープＣ２により、フィルムを製造し、これらを比較実験１〜３とした。また、溶液製膜設備１０を用いて、ドープＣ２とドープＣ４とにより、フィルムを製造し、これらを比較実験４〜７とした。比較実験４〜７においては、ドープＣ２とＣ４とを共流延し、ドープＣ４から主層、ドープＣ２から表層を形成した。

各比較実験について、第２テンタ２０の第１延伸エリア４６におけるフィルムの温度（℃）及び延伸倍率Ｗ２／Ｗ１と、第２延伸エリア４７における延伸角度θ２及び延伸倍率Ｗ３／Ｗ２とは、表３の各欄に示す。これら以外の条件は、実施例と同じである。

比較実験１〜比較実験７で得られた各フィルムにつき、透明性と湿熱耐久試験によるレタデーションの変化についての評価を実施例と同じ方法で行った。各結果は表３に示す。

１０ 溶液製膜設備
１２ フィルム
１６，２０ 第１，第２テンタ
４６，４７ 第１，第２延伸エリア
５０ クリップ
５５ ダクト
５６ エア供給部
１２０ 水蒸気接触装置

Claims (8)

1. 長尺のセルロースアシレートフィルムを搬送しながら幅方向に延伸することにより光学フィルムにする光学フィルムの製造方法において、
   前記セルロースアシレートフィルムのガラス転移点をＴｇ（℃）とし、前記セルロースアシレートフィルムの側縁の通過路と搬送方向とのなす角を延伸角度とするときに、
   前記セルロースアシレートフィルムの搬送方向の上流側から順に配された、前記セルロースアシレートフィルムを予熱する予熱エリアと、幅方向に延伸する第１延伸エリア及び第２延伸エリアと、冷却する冷却エリアとを備えるテンタの前記予熱エリアにて、前記セルロースアシレートフィルムの幅を一定に保持しながら、前記セルロースアシレートフィルムを予熱する予熱工程と、
   前記予熱工程に連続して行われ、前記第１延伸エリアにて、前記セルロースアシレートフィルムを（Ｔｇ＋１０℃）以上（Ｔｇ＋５０℃）以下の範囲内の温度に維持し一定の延伸角度θ１で幅方向に延伸することにより幅を１．５倍以上１．８倍以下に拡げる第１延伸工程と、
   前記第１延伸工程に連続して行われ、前記第２延伸エリアにて、前記延伸角度θ１よりも小さい延伸角度θ２で前記セルロースアシレートフィルムを幅方向に延伸することにより幅を拡げる第２延伸工程と、
   前記第２延伸工程に連続して行われ、前記冷却エリアにて、前記セルロースアシレートフィルムの幅を一定に保持した状態で搬送しながら冷却する冷却工程とを有し、
   前記セルロースアシレートフィルムが前記予熱エリアを通過する時間をＴａ、前記第１延伸エリアを通過する時間をＴｂ、前記第２延伸エリアを通過する時間をＴｃ、前記冷却エリアを通過する時間をＴｄとするときに、下記（１）及び（２）を満たすことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
   ０．５≦（Ｔａ＋Ｔｄ）／（Ｔｂ＋Ｔｃ）≦３．０・・・（１）
   ０．２≦（Ｔｂ／Ｔｃ）≦４．５ ・・・（２）
2. 前記第２延伸工程は、前記セルロースアシレートフィルムの温度を下げながら、前記セルロースアシレートフィルムを幅方向に延伸することを特徴とする請求項１記載の光学フィルムの製造方法。
3. （θ２／θ１）×１００で求める角度変化率（単位；％）が０．５％以上４０％以下の範囲内であることを特徴とする請求項１または２記載の光学フィルムの製造方法。
4. 前記第１延伸工程の前に、前記セルロースアシレートフィルムを１４０℃以下の温度にした状態で幅方向に延伸することにより、幅を１．０１倍以上１．２０倍以下の範囲内に拡げる予備延伸工程を有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項記載の光学フィルムの製造方法。
5. セルロースアシレートが溶媒に溶けたドープを移動する支持体上に流延して流延膜を形成する流延工程と、
   前記溶媒を含んだ状態の前記流延膜を剥ぎ取ることにより前記セルロースアシレートフィルムを形成する剥取工程とを有し、
   前記第１延伸工程は、残留溶媒量が２０質量％以下になった前記セルロースアシレートフィルムを延伸することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項記載の光学フィルムの製造方法。
6. 前記第２延伸工程の後に前記光学フィルムに水蒸気を接触させ、前記光学フィルムの温度を１００℃以上１５０℃未満の範囲内に維持する水蒸気接触工程を有することを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項記載の光学フィルムの製造方法。
7. 前記セルロースアシレートフィルムは、総アシル基置換度Ｚが下記式（Ｉ）を満たすセルロースアシレートからなる第１の層と、この第１の層の少なくとも一方の面に配され、総アシル基置換度Ｚが下記式（II）を満たすセルロースアシレートからなる第２の層とを有することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項記載の光学フィルムの製造方法。
   ２．０≦Ｚ＜２．７・・・（Ｉ）
   ２．７≦Ｚ≦３．０・・・（II）
8. 前記第１延伸工程は、前記セルロースアシレートフィルムの幅を１．６倍以上１．８倍以下に拡げることを特徴とする請求項７記載の光学フィルムの製造方法。

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