JP5715975B2 - 平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法 - Google Patents
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Description
特に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心事となっており、環境への配慮からも、より中性域に近い現像液での処理や廃液の低減が課題として挙げられている。特に湿式の後処理は、簡素化するか、乾式処理に変更することが望ましい。
このような機上現像に適した平版印刷版原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な画像形成層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに適した明室取り扱い性を有することが必要とされる。しかしながら、従来のPS版では、このような要求を充分に満足することは、実質的に不可能であった。
そこで、このような要求を満足するために、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献7参照)。その製版に際しては、赤外線レーザーで画像露光して、光熱変換により生じた熱で熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体(融着)させて画像形成した後、印刷機のシリンダー上に版を取り付け、湿し水およびインキの少なくともいずれかを供給することにより機上現像される。この平版印刷版原版は画像記録域が赤外領域であることにより、明室での取り扱い性も有している。
また、熱可塑性微粒子に代えて、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む平版印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献8〜13参照)。このような提案にかかる平版印刷版原版では、重合性化合物の反応により形成されるポリマー画像が微粒子の融着により形成される画像よりも強度に優れているという利点がある。
また、重合性化合物は反応性が高いため、マイクロカプセルを用いて隔離しておく方法が多く提案されている。そして、マイクロカプセルのシェルには、熱分解性のポリマーを使用することが提案されている。
[1] 支持体と、該支持体上に感光層を有し、該感光層が(A)重合性化合物、(B)重合開始剤、(C)少なくとも1つの水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂、(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤、(E)(メタ)アクリル樹脂を含む平版印刷版原版。
[2] 前記(C)ポリビニルアセタール樹脂が、ポリビニルブチラール樹脂である[1]の平版印刷版原版。
[3] 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤のうち、エチレン性不飽和結合を有する重合性基を含む化合物の割合が1mol%以下である[1]又は[2]の平版印刷版原版。
[4] 前記(C)少なくとも1つの水酸基または酸基を有するポリビニルアセタール樹脂を構成する構成単位のうち、エチレン性不飽和結合を有する構成単位の割合が1mol%以下である、[1]〜[3]のいずれかの平版印刷版原版。
[5] 前記(A)重合性化合物が、ウレタン結合を有する[1]〜[4]のいずれかの平版印刷版原版。
[6] 前記(A)重合性化合物が、ウレア結合を有する[1]〜[5]のいずれかの平版印刷版原版。
[7] 前記(C)少なくとも1つの水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂が、変性されたポリビニルブチラールである[1]〜[6]のいずれかの平版印刷版原版。
[8] 前記変性されたポリビニルアセタール樹脂が、トリメリット酸で変性されたポリビニルブチラールである[7]の平版印刷版原版。
[9] 前記支持体が、リン酸基を含んだポリマーで処理されたものである、[1]〜[8]のいずれかの平版印刷版原版。
[10] 前記支持体が、またはポリビニルホスホン酸で処理されたものである、[1]〜[8]のいずれかの平版印刷版原版。
[11] 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤が、アルデヒド基を有する化合物、ヒドロキシ基またはメチロール基を有する化合物、フェノール樹脂(ノボラック型またはレゾール型)、メラミン樹脂、ビニルスルホン基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、エポキシ樹脂、カルボン酸を有する化合物、無水カルボン酸を有する化合物、イソシアネート基を有する化合物、ボラン、ホウ酸、リン酸、リン酸エステル化合物、金属アルコキシド、アルコキシシラン、またはこれらを併せ持つ化合物からなる群より選ばれる[1]〜[10]のいずれかの平版印刷版原版。
[12] 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤が、脱水縮合、エステル化、トランスエステル化およびキレート化のいずれかの反応によって、架橋結合を形成する、[1]〜[11]のいずれかの平版印刷版原版。
[13] 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤が、フェノール樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、およびノボラック型エポキシ樹脂の少なくとも1つから選択される[1]〜[12]のいずれかの平版印刷版原版。
[14] 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤の重量平均分子量(Mw)が5000以上である[1]〜[13]のいずれかの平版印刷版原版。
[15] 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤が、アセタール樹脂の添加量に対して70重量%以下である[1]〜[14]のいずれかの平版印刷版原版。
[16] 前記(C)少なくとも1つの水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂が、以下の構造で表されるポリビニルブチラール樹脂である[1]〜[15]のいずれかの平版印刷版原版。
[17] [1]〜[16]のいずれかの平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
露光した前記平版印刷版原版を、pHが2〜14の現像液の存在下で、非露光部の前記感光層を除去する工程とを含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。
[18] 前記露光する工程で、露光後に前駆体を予備加熱装置内で80℃以上の温度で加熱することを含む[17]の平版印刷版原版。
[19] 前記現像する工程において、さらに界面活性剤を含有する前記現像液の存在下、非露光部の感光層と前記保護層とを同時に除去する工程を含む(但し、水洗工程を含まない)[17]の平版印刷版の製造方法。
[20] 前記現像液のpHを、2〜14に制御する工程を含む[17]〜[19]のいずれかの平版印刷版の製造方法。
[21] [1]〜[16]のいずれかの平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、印刷機上で印刷インキと湿し水を供給して非露光部の前記感光層を除去する工程とを含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。
本明細書中、一般式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基がさらに置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、一般式において、「Rはアルキル基、アリール基または複素環基を表す」との記載があれば、「Rは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基または置換複素環基を表す」ことを意味する。また、本明細書中、(メタ)アクリルは、アクリルとメタクリルを共に含む概念を表す。
以下、本発明の平版印刷版原版について詳細に説明する。本発明の平版印刷版原版は、支持体と、該支持体上に感光層を有し、該感光層が(A)重合性化合物、(B)重合開始剤、(C)少なくとも1つの水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂、(D)ポリビニルアセタール中の水酸基または酸基と反応し架橋することができる架橋剤、(E)(メタ)アクリル樹脂を含んでなることを特徴とする。なお、前記(C)少なくとも1つの水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂は特定ポリビニルブチラール樹脂、又は特定PVB樹脂とも称する。また前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基または酸基と反応し架橋することができる架橋剤を以下架橋剤とも称する。
感光層中の特定のポリビニルアセタール樹脂は、架橋点として水酸基または変性されることによって酸基を有する。露光による発熱/または露光後〜現像前に行われる予備加熱が与えられることにより、特定のポリビニルアセタール樹脂中の水酸基/酸基が架橋剤と反応を起こし架橋することで、画像部では膜強度の向上が図られる。非画像部でも若干膜強度が向上するが、画像形成性/現像性に影響を及ぼす程度ではなく現像性/耐汚れ性に影響を及ぼすことなく耐刷性の向上を図ることができる。また特定のポリビニルアセタールが架橋することで、露光により硬化したモノマーとのポリマーブレンド状態が大きく変化する。これによりポリビニルアセタール樹脂とアクリル樹脂との相溶化がはかられ、感光層の上部がより疎水性に優れ、傷に強い表面状態となり、耐薬品性/耐傷性/着肉性に優れる平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法を提供することが可能になったと考えられる。
本発明の平版印刷版原版は、支持体と、該支持体上に設けられた感光層を含む。さらに、本発明の平版印刷版原版は、前記支持体の表面上に前記感光層を有する態様の他に、前記支持体と前記感光層との間に、中間層としての下塗り層が設けられていてもよい。さらに、本発明の平版印刷版原版は、他の構成層を有していてもよい。本発明では、支持体と中間層が互いに接していることが好ましく、支持体と、中間層と、感光層が該順に互いに接していることがより好ましい。しかしながら、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、支持体と中間層の間、中間層と感光層の間に、さらに中間層(下塗り層)が設けられていてもよい。本発明の平版印刷版原版は、前記感光層の前記支持体とは反対側の表面上に、保護層を含むことが好ましい。また、本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて、支持体の裏面にバックコート層を設けることができる。
以下、本発明の平版印刷版原版を構成する支持体、中間層、感光層、その他の層、保護層、バックコート層について順に説明し、本発明の平版印刷版原版を形成する方法を説明する。
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状な親水性支持体であればよい。特に、アルミニウム支持体が好ましい。
アルミニウム支持体の中でも、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施されたアルミニウム支持体が好ましい。この粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施されたアルミニウム支持体の詳細は特表2009−516222号公報、および国際公開第2007/057348号パンフレットに記載されており、参照することができる。
アルミニウム支持体の粗面化処理には酸が使用される。祖面化処理に使用する酸としては、例えば、硝酸、硫酸、塩化水素を含んでなる酸などが挙げられ、好ましくは塩化水素を含んでなる酸である。また、例えば、塩化水素および酢酸の混合物も使用できる。
一方、電気化学的な粗面化処理、および電極電圧のような陽極酸化のパラメーターの間の関係は、酸電解質の性質と濃度、または消費電力、一方でRaおよび陽極の重量(アルミニウム表面上で生成するAl2O3のg/m2)から平版の性質を得ることはすでに知られており、より詳細は、例えばATB Metallurgie Journal,volume 42 nr.1−2(2002)pag.69に発表されたF.R.Mayersによる論文“Management of Change in the Aluminium Printing Industry”に見ることができる。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ましい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。
本発明の平版印刷版原版においては、非画像部領域の親水性を向上させ印刷汚れを防止するために、支持体表面の親水化処理を行ったり、支持体と感光層との間に下塗り層を設けたりすることも好適である。
これらの化合物は低分子でも高分子ポリマーであってもよい。特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物などが好適に挙げられる。
最も好ましい下塗り層としては、特開2005−238816、特開2005−125749、特開2006−239867、特開2006−215263公報記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面に相互作用する官能基および親水性基を有する低分子又は高分子化合物を含有するものが挙げられる。
中間層は、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液を支持体上に塗布、乾燥する方法、又は、水、あるいは、メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液に、支持体を浸漬して上記化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥する方法によって設けることができる。前者の方法では、上記化合物の濃度0.005〜10重量%の溶液を種々の方法で塗布できる。
塗布方法は、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。
支持体に表面処理を施した後または下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコート層を設けることができる。
バックコート層としては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
本発明における感光層は、(A)重合性化合物、(B)重合開始剤、(C)少なくとも1つの水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂、(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤、(E)(メタ)アクリル樹脂を有する。さらには増感剤、着色剤を有していても良い。またこれら以外のその他感光層成分を有していても良い。
本発明における感光層に用いる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
本発明の感光層は重合開始剤(以下、開始剤化合物とも称する)を含有することが好ましい。本発明においては、ラジカル重合開始剤が好ましく用いられる。
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物は、300〜450nmに極大吸収を有する増感色素と併用して用いられることが特に好ましい。
これらオニウム塩は、750〜1400nmの波長域に極大吸収を有する赤外線吸収剤と併用して用いられることが特に好ましい。
本発明における感光層中の重合開始剤の使用量は感光層全固形分の重量に対し、好ましくは0.01〜20重量%、より好ましくは0.1〜15重量%である。さらに好ましくは1.0重量%〜10重量%である。
少なくとも1つの水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂(以下、バインダーポリマーともいう)は、バインダーとしての機能を有し、ポリ酢酸ビニルを一部又は全てを鹸化して得られるポリビニルアルコールとブチルアルデヒドを酸性条件下で反応(アセタール化反応)させて合成されるポリマーのことを言いその際に少なくとも1つの水酸基が残存している。さらに、残存した水酸基と酸基等有する化合物を反応させ方法等により、酸基等を導入したポリマーも含まれる。
Ra,Rb,Rc,Rd,Re,Rfの好ましい置換基としては、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアリール基が挙げられる。さらに好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基などの直鎖アルキル基、カルボン酸が置換したアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、カルボン酸が置換したフェニル基が挙げられる。RcおよびRd、ReおよびRfはそれぞれ環構造を形成することができる。Rc,とReの結合する炭素原子およびRdとRfの結合する炭素原子間の結合は、単結合または二重結合または芳香族性二重結合であり、二重結合または芳香族性二重結合の場合、Rc‐RdまたはRe−RfまたはRc−RfまたはRe−Rdはそれぞれ結合して単結合を形成する。
qは、0〜25mol%を表し、0〜20mol%が好ましく、0〜15mol%がより好ましく、0〜10mol%が特に好ましい。
rは、1〜40mol%を表し、1〜35mol%が好ましく、5〜35mol%がより好ましく、10〜35mol%が特に好ましい。
sは、0〜25mol%を表し、0〜20mol%が好ましく、0〜15mol%が特に好ましい。
各繰り返し単位の好ましい比率は、p/q/r/s=50−78mol%/1−5mol%/5−28mol%/5−20mol%の範囲である。
nは、0〜5の整数を表し、0〜2が好ましい。
(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤は、一般的にポリビニルブチラールの水酸基および/または酸基を反応点とし、他のポリビニルブチラール樹脂、または第二のバインダーポリマー、または(A)重合性化合物を化学的に結合し、架橋する機能を有する。
(1)アルデヒド類:アルデヒド基を有する化合物、両末端アルデヒド化PVA、ジアルデヒドでんぷん、
(2)メチロール類:メチロール基を有する化合物(N、N’−ジメチロール尿素、N、N’、N’’−メチロールメラミン)、メラミン樹脂、
(3)活性化ビニル化合物:ビニルスルホン酸基を有する化合物、
(4)エポキシ類:エポキシ基を有する化合物、エポキシ樹脂、
(5)カルボン酸類:カルボン酸基を有する化合物、無水カルボン酸を有する化合物(無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸)、
(6)イソシアネート類:イソシアネート基を有する化合物、
(7)無機類:ボラン、ホウ酸、リン酸化合物、金属アルコキシド、特にチタン・ジルコニウム・アルミニウムのアルコキシド、アルコキシシラン、シランカップリング剤、
(8)フェノール樹脂(ノボラック型、レゾール型)、
(9)複数種の官能基を併せ持つ化合物、
またはこれらの組み合わせが挙げられる。
本発明の感光層には、(C)ポリビニルアセタール樹脂以外にも、バインダーとして機能する(メタ)アクリル樹脂(第二のバインダーポリマー)を有する。第二のバインダーポリマーとしては、感光層成分を支持体上に担持可能であり、現像液により除去可能であるものが用いられる。また第二のバインダーポリマーが前記(D)架橋剤の機能を果たしても良い。
置換基としては、水素原子を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。
第二のバインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。第二のバインダーポリマーの含有量は、良好な画像部の強度と画像形成性の観点から、感光層の全固形分に対して、1〜30重量%が好ましく、1〜20重量%がより好ましく、1〜15重量%であるのが更に好ましく、1〜12重量%がよりさらに好ましく、1〜10重量%が特に好ましい。
本発明における感光層は、増感色素を含有することが好ましい。増感色素は、画像露光時の光を吸収して励起状態となり、後述する重合開始剤に電子移動、エネルギー移動又は発熱などでエネルギーを供与し、重合開始機能を向上させるものであれば特に限定せず用いることができる。特に、300〜450nm又は750〜1400nmに極大吸収を有する増感色素が好ましく用いられる。
式(VI)中、R15〜R32は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基又はハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
本発明における感光層は、着色剤も含有していてもよい。着色剤は、染料または顔料であってもよい。着色剤については、特表2009−516222号公報および国際公開第2007/057348号パンフレットに記載の着色剤を使用することができるが、これに限定されるものではない。
前記感光層は、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。
前記低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類等が挙げられる。
前記感光層には、着肉性を向上させるために、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を含有させることができる。特に、保護層が無機質の層状化合物を含有する場合、感脂化剤は、無機質の層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機質の層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。
30%ポリマー溶液3.33g(固形分として1g)を、20mlのメスフラスコに秤量し、N−メチルピロリドンでメスアップする。この溶液を30℃の恒温槽で30分間静置し、ウベローデ還元粘度管(粘度計定数=0.010cSt/s)に入れて30℃にて流れ落ちる時間を測定する。なお測定は同一サンプルで2回測定し、その平均値を算出する。同様にブランク(N−メチルピロリドンのみ)の場合も測定し、下記式から還元比粘度(ml/g)を算出する。
前記感光層には、機上現像性を向上させるため、疎水化前駆体を含有させることができる。疎水化前駆体とは、熱が加えられたときに前記感光層を疎水性に変換できる微粒子を意味する。微粒子としては、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、重合性基を有するポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル及びミクロゲル(架橋ポリマー微粒子)から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。
このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレートまたはメタクリレートなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマーまたはそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレンおよびアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。
感光層は、さらに連鎖移動剤を含有することが好ましい。連鎖移動剤としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。
本発明の感光層には、特に、チオール化合物(例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類、2−メルカプトベンズチアゾール類、2−メルカプトベンズオキサゾール類、3−メルカプトトリアゾール類、5−メルカプトテトラゾール類等)を連鎖移動剤として好ましく用いることができる。
本発明の感光層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。添加剤としては、例えば、特開2007−206217号公報〔0161〕〜〔0215〕に記載の化合物などを使用することができる。
以下、本発明に使用することができる焼出し剤および界面活性剤について説明する。
本発明では、感光層に焼出し剤を含有させてもよい。焼出し剤は欧州特許出願公開第1491356号明細書19および20頁[0116]〜[0119]、米国特許第2005/8971号明細書17頁[0168]〜[0172]、特表2009−516222号公報および国際公開第2007/057348号パンフレットに記載されているような化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。好ましい焼出し剤としては、2005年7月1日に出願された公開されていないPCT出願であるPCT/欧州特許第2005/053141号明細書9頁1行〜20頁27行に記載されている化合物である。2005年6月21日に出願された公開されていない欧州特許第05105440.1号明細書5頁32行〜32頁9行に記載されているようなIR−染料がより好ましい。
本発明では、現像性の促進および塗布面状を向上させるため、界面活性剤を含有させてもよい。前記界面活性剤としては、重合体状および小分子状の両方の界面活性剤を使用でき、非イオン系界面活性剤が好ましい。非イオン系界面活性剤は、1つもしくはそれ以上のポリエーテル(例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、並びにエチレングリコールおよびプロピレングリコールの共重合体)セグメントを含有する重合体およびオリゴマー類;プロピレングリコールおよびエチレングリコールのブロック共重合体(プロピレンオキシドおよびエチレンオキシドのブロック共重合体とも称する);エトキシル化されたまたはプロポキシル化されたアクリレートオリゴマー類;並びにポリエトキシル化されたアルキルフェノール類およびポリエトキシル化された脂肪アルコール類などが挙げられる。
また、界面活性剤については、特表2009−516222号公報および国際公開第2007/057348号パンフレットに記載の界面活性剤を使用することができるが、これに限定されるものではない。
非イオン系界面活性剤の前記感光層中の含有量は、好ましくは0.1〜30重量%であり、より好ましくは0.5〜20%であり、さらに好ましくは1〜15%である。
界面活性剤については、後述の現像液に添加してもよい界面活性剤を使用することもできる。
画像のコントラストは、露光部と非露光部との間の光学濃度の差によって定義され、コントラストはより高い方が好ましい。
コントラストについての詳細は、特表2009−516222号公報および国際公開第2007/057348号パンフレットに記載されており、参照することができる。
本発明の感光層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗布して形成される。ここで使用する溶剤としては、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、γ−ブチルラクトン等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50重量%である。
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、感光層上に保護層(酸素遮断層)が設けられることが好ましい。保護層に使用できる材料としては例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることが好ましく、具体的には、ポリビニルアルコールを主成分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。
望ましい光源の波長は300nmから450nm又は750nmから1400nmの波長が好ましく用いられる。300nmから450nmの場合は、この領域に吸収極大を有する増感色素を感光層に有する平版印刷版原版が用いられ、750nmから1400nmの場合は、この領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を含有する平版印刷版原版が用いられる。300nmから450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。750nmから1400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
本発明の平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を製造することができる。
本発明の平版印刷版の製造方法は、本発明の平版印刷版原版を、画像様に露光する露光工程と;露光した前記平版印刷版原版を、pHが2〜14の現像液で現像する現像工程を含み;前記現像工程において、前記現像液の存在下、前記感光層の非露光部と前記保護層とを同時に除去する工程を含むことを特徴とする。
本発明の平版印刷版の製造方法は、前記感光層の前記支持体とは反対側の表面上に、保護層を形成する工程を含み;前記現像工程において、さらに界面活性剤を含有する前記現像液の存在下、非露光部の感光層と前記保護層とを同時に除去する工程を含む(但し、水洗工程を含まない)、ことが好ましい
本発明の平版印刷版の製造方法の第二の態様は、本発明の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、印刷機上で印刷インキと湿し水を供給して非露光部の前記感光層を除去する工程とを含むことを特徴とする。
以下、本発明の平版印刷版の製造方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本発明の平版印刷版の製造方法によれば、本発明の平版印刷版原版は前記現像工程において水洗工程を含む場合も平板印刷版を製造することができる。
光源の波長は300〜450nm又は750〜1400nmが好ましく用いられる。300〜450nmの光源の場合は、この波長領域に吸収極大を有する増感色素を感光層に有する平版印刷版原版が好ましく用いられ、750〜1400nmの光源の場合は、この波長領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を感光層に含有する平版印刷版原版が好ましく用いられる。300〜450nmの光源としては、半導体レーザーが好適である。750〜1400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
その他、本発明の平版印刷版原版からの平版印刷版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱してもよい。この様な加熱により、該感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは全面露光を行う事も有効である。この予備加熱は10分未満が好ましく、5分未満がより好ましく、1分未満がさらに好ましい。予備加熱は露光直後に、すなわち30秒未満に行われることが特に好ましい。加熱を開始するまでの時間は特に制限されないが、露光後にできるだけ速やかに加熱するために、予備加熱装置に移して加熱を開始する。この加熱温度としては、80℃〜150℃が好ましく、5秒間〜1分間にわたり行うことが好ましい。通常現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。温度が高すぎると、未露光部が硬化してしまう等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は100〜500℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。予備加熱装置には、加熱部品、例えばIR−ランプ、UV−ランプ、加熱された空気、加熱された金属ロールなどを有する。予備加熱についての詳細は、特表2009−516222号公報および国際公開第2007/057348号パンフレットに記載されており、参照することができる。
現像処理は、(1)pHが2〜14の現像液にて現像する方法(現像液処理方式)、又は(2)印刷機上で、湿し水及び/又はインキを加えながら現像する方法(機上現像方式)で行うことができる。
現像液処理方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、pHが2〜14の現像液により処理され、非露光部の感光層が除去されて平版印刷版が作製される。
高アルカリ性現像液(pH12以上)を用いる現像処理においては、通常、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥して平版印刷版が作製される。
本発明の第一の好ましい態様によれば、pHが2〜14の現像液が使用される。この態様においては、現像液中に界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有させることが好ましく、これにより現像とガム液処理を同時に行うことが可能となる。よって後水洗工程は特に必要とせず、1液で現像−ガム液処理を行うことができる。
さらに、前水洗工程も特に必要とせず、保護層の除去も現像−ガム液処理と同時に行うことができる。本発明の平板印刷版の製造方法では、現像−ガム処理の後に、例えば、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
本発明の平版印刷版の作製方法に使用される自動現像処理機の1例をとしては、図1に記載のもが挙げられる。図1の自動現像処理機は、基本的に現像部6と乾燥部10からなり、平版印刷版原版4は、現像槽20で現像処理され、乾燥部10で乾燥される。
図2に示す自動現像処理機100は、機枠202により外形が形成されたチャンバーからなり、平版印刷版原版の搬送路11の搬送方向(矢印A)に沿って連続して形成された前加熱(プレヒート)部200、現像部300及び乾燥部400を有している。
前加熱部200は、搬入口212及び搬出口218を有する加熱室208を有し、その内部には串型ローラー210とヒーター214と循環ファン216とが配置されている。
現像部300の内部には、現像液で満たされている現像槽308を有する処理タンク306と、平版印刷版原版を処理タンク306内部へ案内する挿入ローラー対304が設けられている。現像槽308の上部は遮蔽蓋324で覆われている。
ブラシローラー対322、326の下部には、スプレーパイプ330が設けられている。スプレーパイプ330はポンプ(不図示)が接続されており、ポンプによって吸引された現像槽308内の現像液がスプレーパイプ330から現像槽308内へ噴出するようになっている。
外部タンク50は第2の循環用配管C2が接続され、第2の循環用配管C2中には、フィルター部54及び現像液供給ポンプ55が設けられている。現像液供給ポンプ55によって、現像液が外部タンク50から現像槽308へ供給される。また、外部タンク50内には上限液レベル計52、下限液レベル計53が設けられている。
現像槽308は、第3の循環用配管C3を介して補充用水タンク71に接続されている。第3の循環用配管C3中には水補充ポンプ72が設けられており、この水補充ポンプ72によって補充用水タンク71中に貯留される水が現像槽308へ供給される。
液中ローラー対316の上流側には液温センサ336が設置されており、搬出ローラー対318の上流側には液面レベル計338が設置されている。
乾燥部400は、支持ローラー402、ダクト410、412、搬送ローラー対406、ダクト410、412、搬送ローラー対408がこの順に設けられている。ダクト410、412の先端にはスリット孔414が設けられている。また、乾燥部400には図示しない温風供給手段、発熱手段等の乾燥手段が設けられている。乾燥部400には排出口404が設けられ、乾燥手段により乾燥された平版印刷版は排出口404から排出される。
特に、置換基を有してもよいアルキルジメチルアミンオキシド、置換基を有してもよいアルキルカルボキシベタイン、置換基を有してもよいアルキルスルホベタインが好ましく用いられる。これらの具体例は、特開2008−203359号公報〔0255〕〜〔0278〕、特開2008−276166号公報〔0028〕〜〔0052〕等に記載されているものを用いることができる。
また、本発明の現像液に用いられる表面保護を行う水溶性高分子化合物としては、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)およびその変性体、プルラン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよびアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体などが挙げられる。
鉱酸類としては、例えば、硝酸、硫酸、燐酸、メタ燐酸などが挙げられる。有機酸としては、例えば、カルボン酸類、スルホン酸類、ホスホン酸類またはそれらの塩類、コハク酸塩類、燐酸塩類、ホスホン酸塩類、硫酸塩類、スルホン酸塩類などが挙げられる。有機酸は、減感剤として使用してもよい。有機酸の具体例としては、クエン酸、酢酸、シュウ酸、マロン酸、p−トルエンスルホン酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。
本発明のpH緩衝剤としては、pH2〜11に緩衝作用を発揮する緩衝剤であれば特に限定なく用いることができる。本発明においては弱アルカリ性の緩衝剤が好ましく用いられ、例えば(a)炭酸イオン及び炭酸水素イオン、(b)ホウ酸イオン、(c)水溶性のアミン化合物及びそのアミン化合物のイオン、及びそれらの併用などが挙げられる。すなわち、例えば(a)炭酸イオン−炭酸水素イオンの組み合わせ、(b)ホウ酸イオン、又は(c)水溶性のアミン化合物−そのアミン化合物のイオンの組み合わせなどが、現像液においてpH緩衝作用を発揮し、現像液を長期間使用してもpHの変動を抑制でき、pHの変動による現像性低下、現像カス発生等を抑制できる。特に好ましくは、炭酸イオン及び炭酸水素イオンの組み合わせである。
極性溶剤としては、アルコール類、ケトン類、エステル類等が挙げられる。
キレート化合物としては、例えば、有機ホスホン酸類、ホスホノアルカントリカルボン酸類などが挙げられる。キレート化合物の具体例は、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ニトリロ三酢酸、1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸およびアミノトリ(メチレンホスホン酸)のカリウムまたはナトリウム塩類などが挙げられる。これらのキレート化剤のナトリウムまたはカリウム塩類の他に、有機アミン塩類を用いてもよい。キレート化合物の好ましい添加量は、希釈形態の現像液に対して0.001〜5重量%である。キレート化合物については、特表2009−516222号公報および国際公開第2007/057348号パンフレットに記載のキレート化合物を使用することができるが、これに限定されるものではない。
発泡防止剤としては、例えば、シリコーン発泡防止剤が挙げられる。発泡防止剤の中で、乳剤分散剤タイプまたは溶解タイプの発泡防止剤のいずれも使用できる。発泡防止剤の添加量は、希釈形態の現像液に対して0.001〜1.0重量%であることが好ましい。防腐剤及び発泡防止剤については、特表2009−516222号公報および国際公開第2007/057348号パンフレットに記載の防腐剤及び発泡防止剤を使用することができるが、これに限定されるものではない。
これらと組み合わせて使用できるインキ受容剤としては、例えば、ケトン類、ハロゲン化された炭化水素類、エチレングリコールエーテル類、脂肪族酸類、並びに不飽和脂肪族酸類などが挙げられ、50℃の温度において液体である脂肪族酸が好ましく、5〜25個の炭素原子を有することがより好ましく、8〜21個の炭素原子を有することが特に好ましい。インキ受容剤は単独でまたはその1種もしくはそれ以上と組み合わせて使用できる。インキ受容剤の添加量は、0.01〜10重量%が好ましく、0.05〜5重量%がより好ましい。前記インキ受容剤は、水中油型乳剤として存在することができ、または可溶化剤を用いて溶解させることができる。インキ受容剤については、特表2009−516222号公報および国際公開第2007/057348号パンフレットに記載のインキ受容剤を使用することができるが、これに限定されるものではない。
さらに自動処理機は現像処理手段の後に、スクイズローラー等の余剰の現像液を除去する手段や、温風装置等の乾燥手段を備えていることが好ましい。
本発明では、現像液の代わりにベーキングガム(ベーキングゴム)を用いてもよい。ベーキングガムは上記現像液と同様な組成を有し、一般的なベーク温度において蒸発しない化合物が好ましい。ベーキングガム溶液またはベーキングガム引き溶液(Baking Gumming Solution)としては、例えば、ドデシルフェノキシベンゼンジスルホン酸ナトリウム、アルキル化されたナフタレンスルホン酸、スルホン化されたアルキルジフェニルオキシド、メチレンジナフタレンスルホン酸などの水溶液が挙げられ、これらは、親水性重合体成分、有機酸成分を含有していてもよく、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸のカリウム塩を含有していてもよい。また、スルホスクシナメート化合物および燐酸を含有していてもよい。
また、ベーキングガムについては、特表2009−516222号公報および国際公開第2007/057348号パンフレットに記載のベーキングガムを使用することができるが、これに限定されるものではない。
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の感光層が除去されて平版印刷版が作製される。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、なんらの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び/または水性成分によって、未硬化の感光層が溶解または分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した感光層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された感光層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が好適に用いられる。
下記の下塗り層としてポリビニルホスホン酸を形成した支持体1上に、下記のいずれかの感光層を形成し、さらに、下記の保護層1を形成して、平板印刷版原版を作製した。
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050,調質H16)を65℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂アルミニウム板を、25℃に保たれた10%塩酸水溶液中に1分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、0.3重量%の塩酸水溶液中で、25℃、電流密度100A/dm2の条件下に交流電流により60秒間、電解粗面化を行った後、60℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行った。デスマット処理を行った粗面化アルミニウム板を、15%硫酸水溶液溶液中で、25℃、電流密度10A/dm2、電圧15Vの条件下に1分間陽極酸化処理を行い、更に1%ポリビニルホスホン酸水溶液を用いて75℃で親水化処理を行って支持体を作製した。その表面粗さを測定したところ、0.44μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
前記下塗り層上に、下記組成の感光層塗布液(1)をバー塗布した後、90℃、60秒でオーブン乾燥し、感光層を形成した。
・下記バインダーポリマー(1)(重量平均分子量:5万) 0.06g
・下記バインダーポリマー(2)(重量平均分子量:8万) 表1に記載の添加量
・縮合架橋剤 表1に記載の化合物、及び添加量
・下記重合性化合物(1) 0.17g
(PLEX6661−O、デグサジャパン製)
・下記重合性化合物(2) 0.51g
・下記増感色素(1) 0.03g
・下記増感色素(2) 0.015g
・下記増感色素(3) 0.015g
・下記重合開始剤(1) 0.13g
・連鎖移動剤:メルカプトベンゾチアゾール 0.01g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15重量部、分散剤(アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(重量平均分子量:6万、共重合モル比:83/17)):10重量部、シクロヘキサノン:15重量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・下記水溶性フッ素系界面活性剤(1)(重量平均分子量:1万) 0.001g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
下記組成の感光層塗布液2を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、感光層2を形成した。感光層塗布液2は下記感光層塗布液(2)および疎水化前駆体液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより調製した。
・バインダーポリマー(1)(重量平均分子量:5万) 0.032g
・バインダーポリマー(2)(重量平均分子量:8万) 表1に記載の添加量
・縮合架橋剤 表1に記載の化合物、及び添加量
・下記赤外線吸収剤(1) 0.030g
・下記重合開始剤(3) 0.162g
・重合性化合物(1) 0.17g
(PLEX6661−O、デグサジャパン製)
・重合性化合物(2) 0.51g
・パイオニンA−20(竹本油脂(株)製) 0.055g
・下記感脂化剤(1) 0.044g
・上記フッ素系界面活性剤(1) 0.008g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
・下記疎水化前駆体水分散液(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ蒸留水(350mL)を加えて内温が80℃となるまで加熱した。分散剤としてドデシル硫酸ナトリウム(1.5g)添加し、さらに開始剤として過硫化アンモニウム(0.45g)を添加し、次いでグリシジルメタクリレート(45.0g)とスチレン(45.0g)との混合物を滴下ロートから約1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応単量体を除去した。その後冷却しアンモニア水でpH6に調整し、最後に不揮発分が15重量%となるように純水を添加してポリマー微粒子からなる疎水化前駆体水分散液(1)を得た。このポリマー微粒子の粒子サイズ分布は、粒子サイズ60nmに極大値を有していた。
下記のように調製した感光層塗布液(3)を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、感光層3を形成した。
感光層塗布液(1)の調製において、バインダーポリマー(2)を、下記バインダーポリマー(3)に置き換えた以外は感光層塗布液(1)の調製と同様にして感光層塗布液(3)を調製した。
下記のように調製した感光層塗布液(4)を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の感光層4を形成した。
感光層塗布液(1)の調製において、バインダーポリマー(2)を、下記バインダーポリマー(4)に置き換えた以外は感光層塗布液(1)の調製と同様にして感光層塗布液(4)を調製した。
下記のように調製した感光層塗布液(5)を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の感光層5を形成した。
感光層塗布液(1)の調製において、バインダーポリマー(1)の添加分を、バインダーポリマー(2)に置き換えた以外は感光性塗布液(1)の調製と同様にして調製した。
下記のように調製した感光層塗布液(6)を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の感光層6を形成した。
感光層塗布液(1)の調製において、重合性化合物(2)の添加分を、重合性化合物(1)に置き換えた以外は感光性塗布液(1)の調製と同様にして調製した。
下記のように調製した感光層塗布液(7)を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の感光層7を形成した。
感光層塗布液(1)の調製において、重合性化合物(1)及び(2)の添加分を、下記重合性化合物(3)に置き換えた以外は感光性塗布液(1)の調製と同様にして調製した。
下記のように調製した感光層塗布液(8)を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の感光層8を形成した。
感光層塗布液(1)において、バインダーポリマー(2)を、下記バインダーポリマー(5)に置き換えた以外は感光性塗布液(1)の調製と同様にして調製した。
下記のように調製した感光層塗布液(9)を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の感光層9を形成した。
感光層塗布液(2)において、バインダーポリマー(2)を、バインダーポリマー(5)に置き換えた以外は感光性塗布液(2)の調製と同様にして調製した。
下記のように調製した感光層塗布液(10)を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の感光層10を形成した。
感光層塗布液(1)において、重合性化合物(1)及び(2)の添加分を下記重合性化合物(4)に置き換えた以外は感光層塗布液(1)の調製と同様にして調製した。
下記のように調製した感光層塗布液(11)を上記下塗り層の上にバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の感光層11を形成した。
感光層塗布液(1)において重合性化合物(1)及び(2)の添加分を下記重合性化合物(5)に置き換えた以外は感光層塗布液(1)の調製と同様にして調製した。
感光層塗布液(1)においてバインダーポリマーの添加分を重合性化合物(4)に置き換えた以外は感光層塗布液(1)の調整と同様にして調整した。
前記感光層上に、下記組成よりなる保護層塗布液(1)をバーを用いて塗布した後、125℃、70秒で間乾燥して保護層を形成した。
・PVA−205 0.658g
(部分加水分解ポリビニルアルコール、クラレ(株)製、鹸化度=86.5−89.5モル%、粘度=4.6−5.4mPa・s(20℃、4重量%水溶液中))
・PVA−105 0.142g
(完全加水分解ポリビニルアルコール、クラレ(株)製、鹸化度=98.0−99.0モル%、粘度=5.2−6.0mPa・s(20℃、4重量%水溶液中))
・ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))(分子量7万) 0.001g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.002g
・水 13g
下記の支持体2上に、上記の感光層塗布液(1)で感光層を形成し、さらに、上記の保護層1を形成して、平板印刷版原版C−1を作製した。
厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050,調質H16)を65℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、1分間の脱脂処理を行った後、水洗した。この脱脂アルミニウム板を、25℃に保たれた10%塩酸水溶液中に1分間浸漬して中和した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、0.3重量%の塩酸水溶液中で、25℃、電流密度100A/dm2の条件下に交流電流により60秒間、電解粗面化を行った後、60℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間のデスマット処理を行った。デスマット処理を行った粗面化アルミニウム板を、15%硫酸水溶液溶液中で、25℃、電流密度10A/dm2、電圧15Vの条件下に1分間陽極酸化処理を行い支持体を作製した。
・ユーバン228:三井化学製のメラミン樹脂
・ユーバン10S60:三井化学製の尿素樹脂
・エピクロン850−LC:DIC株式会社製のビスフェノールA型エポキシ樹脂
・エピクロンN−695:DIC株式会社製のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂
・エピクロン830:DIC株式会社製のビスフェノールF型エポキシ樹脂
・エピクロン153:DIC株式会社製のテトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂
・YX4000:三菱化学製のエポキシ樹脂
・フェノライトTD−2090:DIC株式会社製のフェノールノボラック樹脂
・フェノライトKH−6021:DIC株式会社製のビスフェノールノボラック樹脂
・フェノライトKA−1165:DIC株式会社製のクレゾールノボラック樹脂
・フェノライトPR−100:DIC株式会社製のフェノール樹脂(Mw:13000−15000)
・フェノライトPR−110:DIC株式会社製のフェノール樹脂(Mw:7500−8500)
・フェノライトFG−1020:DIC株式会社製のレゾール樹脂
・フェノライトAH−5600:DIC株式会社のレゾール樹脂
メラミン10g、ホルマリン19.2gを水5gに混合し、PH8.5に調節して15℃、15時間放置させると2molの結晶水をもった融点156℃の結晶として取り出した。
(1)露光、現像および印刷
前記の平版印刷版原版を、FUJIFILM Electronic Imaging Ltd 製Violet半導体レーザープレートセッターVx9600(InGaN系半導体レーザー405nm±10nm発光/出力30mWを搭載)により画像露光を実施した。画像描画は、解像度2438dpiで、富士フイルム(株)製FMスクリーン(TAFFETA 20)を用い、50%の平網を、版面露光量0.05mJ/cm2で実施した。
次いで、下記組成の現像液(1)を用い、図1に示す構造の自動現像処理機にて、プレヒート100℃、10秒、現像液中への浸漬時間(現像時間)が、20秒となる搬送速度にて現像処理を実施した。但し、現像液(2)(AGFA社製のPL−10)を用いた際は、現像後乾燥工程を行う前に、水洗を行った。
水 88.6g
ノニオン系界面活性剤(W−1) 2.4g
ノニオン系界面活性剤(W−2) 2.4g
ノニオン系界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)
1.0g
フェノキシプロパノール 1.0g
オクタノール 0.6g
N−(2−ヒドロキシエチル)モルホリン 1.0g
トリエタノールアミン 0.5g
グルコン酸ナトリウム 1.0g
クエン酸3ナトリウム 0.5g
エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
ポリスチレンスルホン酸(Versa TL77(30%溶液)、Alco chem ical社製) 1.0g
*上記組成の現像液に、リン酸を添加し、pHを7.0に調整した。
各平版印刷版原版について、耐刷性、耐汚れ性、経時後の耐汚れ性および現像性を下記のように評価した。結果を下記表に示す。
印刷枚数の増加にともない、徐々に感光層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。同一露光量で露光した印刷版において、インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。耐刷性評価は比較例1、4を基準(100)として、以下のように定義した相対耐刷性で表した。相対耐刷性の数字が大きい程、耐刷性が高いことを表す。
相対耐刷性=(対象平版印刷版原版の耐刷性)/(基準平版印刷版原版の耐刷性)
印刷開始後20枚目の印刷物を抜き取り、非画像部に付着しているインキ濃度により耐汚れ性を評価した。非画像部のインキ付着は、必ずしも均一に発生するわけではないため、75cm2当りの目視評価の点数で表示した。目視評価の点数は、非画像部のインキ付着面積率が0%の場合を10点、0%を超え10%以下を9点、10%を超え20%以下を8点、20%を超え30%以下を7点、30%を超え40%以下を6点、40%を超え50%以下を5点、50%を超え60%以下を4点、60%を超え70%以下を3点、70%を超え80%以下を2点、80%を超え90%以下を1点、90%を超えるものを0点とした。点数の高い程、耐汚れ性が良好であることを表す。
同一露光量で露光した印刷版において、画像部(網点面積50%)に下記組成の耐薬品性試験液を滴下し一定時間後に滴下液を拭き取った。滴下した部分に、Scotchブランドテープ(3M社製)を貼り、その後テープ剥離を行い、網点面積の減少を目視評価し、耐薬品性を相対評価した。耐薬品性評価は目視評価で、10点満点で点数をつけた。点数の高いほうが程、耐薬品性良好であることを表す。
・ ブチルジグリコール 190.0g
・ ブチルグリコール 140.0g
・ リンゴ酸 15.0g
・ クエン酸 8.0g
・ 水酸化ナトリウム 24.0g
・ 硝酸アンモニウム 15.0g
・ 蒸留水 608.0g
得られた平版印刷版20枚の間に合紙を挟むことなく積層して積層体を形成した。この積層体を、同じ平版印刷版原版の上にエッジから5cmずらして重ねた後、飛び出した20枚の版材(積層体)のエッジを水平方向に押し込んで、積層した20枚の一番下の版の支持体裏面が、平版印刷版原版の特定画像層表面をこするように、すらした。この特定保護層表面が支持体裏面でこすられた版材を、耐キズ性の評価用版材とした。得られた平版印刷版の平網画像中に発生したキズの有無を目視評価した。評価は1〜5の官能評価で行い、3が実用下限レベル、2以下は実用上不可レベルとした。
印刷開始後、徐々にインキが画像記録層に付着し、結果として紙上でのインキ濃度が高まる。インキ濃度が標準的印刷物濃度に達したときの印刷枚数をインキ着肉性として計測した。着肉枚数が12枚以下の場合を4、14枚以下の場合を3、20枚以下の場合を2、25枚以上の場合を1、と評価した。
種々の搬送速度に変更して上記現像処理を行い、得られた平版印刷版の非画像部のシアン濃度をマクベス濃度計により測定した。非画像部のシアン濃度がアルミニウム支持体のシアン濃度と同等になった搬送速度を求め、現像性とした。現像性評価は比較例1、4を基準(100)として、以下のように定義した相対現像性で表した。相対現像性の数値が大きい程、高現像性であり、性能が良好であることを表す。
相対現像性=(対象平版印刷版原版の搬送速度)/(基準平版印刷版原版の搬送速度)
下記に示す各平版印刷版原版を、Creo社製Trendsetter3244VX(水冷式40W赤外線半導体レーザー(830nm)搭載)にて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2、400dpiの条件で50%平網の画像露光を行った。次いで、各現像液を用い、図2に示す構造の自動現像処理機にて、プレヒート部での版面到達温度が100℃となるヒーター設定、現像液中への浸漬時間(現像時間)が20秒となる搬送速度にて現像処理を実施した。但し、現像液2を用いた際は、現像後乾燥工程を行う前に、水洗を行った。
下記表に示す各平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像および20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
露光済み平版印刷版原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を100枚行った。
各平版印刷版原版について、耐刷性、耐汚れ性、耐薬品性、耐傷性、着肉性を実施例1と同様にして評価した。耐刷性の評価は、比較例9を基準(100)として行った。結果を下記表に示す。また、機上現像性を以下のように測定した。
感光層の非画像部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。機上現像枚数が小さいほど、現像性が良好なことを示す。
6:現像部
10:乾燥部
16:搬送ローラ
20:現像槽
22:搬送ローラ
24:ブラシローラ
26:スクイズローラ
28:バックアップローラ
36:ガイドローラ
38:串ローラ
100:自動現像処理機
200:前加熱(プレヒート)部
300:現像部
400:乾燥部
202:機枠
208: 加熱室
210:串型ローラー
212:搬入口
214:ヒーター
216:循環ファン
218:搬出口
304:挿入ローラー対
306:処理タンク
308:現像槽
312:スリット状挿入口
316:液中ローラー対
318:搬出ローラー対
322:ブラシローラー対
324:遮蔽蓋
326:ブラシローラー対
330:スプレーパイプ
332:仕切り板
334:スリット状挿通口
336:液温センサー
338:液面レベル計
332:仕切り板
342:ガイド部材
344:ガイドローラー
402:支持ローラー
404:排出口
406:搬送ローラー対
408:搬送ローラー対
410:ダクト
412:ダクト
414:スリット孔
50:外部タンク
51:オーバーフロー口
52:上限液レベル計
53:下限液レベル計
54:フィルター部
55:現像液供給ポンプ
C1:第1の循環用配管
C2:第2の循環用配管
71:補充用水タンク
72:水補充ポンプ
C3:第3の循環用配管
Claims (22)
- 支持体と、該支持体上に感光層を有し、該感光層が(A)重合性化合物、(B)重合開始剤、(C)少なくとも1つの水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂、(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤、(E)(メタ)アクリル樹脂を含み、
前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤が、アルデヒド基を有する化合物、ヒドロキシ基またはメチロール基を有する化合物、フェノール樹脂(ノボラック型またはレゾール型)、メラミン樹脂、ビニルスルホン基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、エポキシ樹脂、カルボン酸を有する化合物、無水カルボン酸を有する化合物、イソシアネート基を有する化合物、ボラン、ホウ酸、リン酸、リン酸エステル化合物、金属アルコキシド、アルコキシシラン、またはこれらを併せ持つ化合物からなる群より選ばれる平版印刷版原版。 - 前記(C)ポリビニルアセタール樹脂が、ポリビニルブチラール樹脂である請求項1に記載の平版印刷版原版。
- 前記(C)少なくとも1つの水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂が、変性されたポリビニルブチラールである請求項1または2に記載の平版印刷版原版。
- 前記変性されたポリビニルアセタール樹脂が、トリメリット酸で変性されたポリビニルブチラールである請求項3に記載の平版印刷版原版。
- 支持体と、該支持体上に感光層を有し、該感光層が(A)重合性化合物、(B)重合開始剤、(C)少なくとも1つの水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂、(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤、(E)(メタ)アクリル樹脂を含み、
前記(C)ポリビニルアセタール樹脂が、トリメリット酸で変性されたポリビニルブチラールである平版印刷版原版。 - 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤が、アルデヒド基を有する化合物、ヒドロキシ基またはメチロール基を有する化合物、フェノール樹脂(ノボラック型またはレゾール型)、メラミン樹脂、ビニルスルホン基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、エポキシ樹脂、カルボン酸を有する化合物、無水カルボン酸を有する化合物、イソシアネート基を有する化合物、ボラン、ホウ酸、リン酸、リン酸エステル化合物、金属アルコキシド、アルコキシシラン、またはこれらを併せ持つ化合物からなる群より選ばれる請求項5に記載の平版印刷版原版。
- 前記(C)少なくとも1つの水酸基を有するポリビニルアセタール樹脂が、以下の構造で表されるポリビニルブチラール樹脂である請求項5または6に記載の平版印刷版原版。
(式中、pは、10〜90mol%を表し、qは、0〜25mol%を表し、rは、1〜40mol%を表し、sは、0〜25mol%を表し、nは、0〜5の整数を表す。Rは、水素原子、−COOH、または−COOR1(R1は、Na、K、炭素数1〜8のアルキル基を表す。)を表す。) - 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤のうち、エチレン性不飽和結合を有する重合性基を含む化合物の割合が1mol%以下である請求項1〜7のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
- 前記(C)少なくとも1つの水酸基または酸基を有するポリビニルアセタール樹脂を構成する構成単位のうち、エチレン性不飽和結合を有する構成単位の割合が1mol%以下である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
- 前記(A)重合性化合物が、ウレタン結合を有する請求項1〜9のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
- 前記(A)重合性化合物が、ウレア結合を有する請求項1〜10のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
- 前記支持体が、リン酸基を含んだポリマーで処理されたものである、請求項1〜11のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
- 前記支持体が、ポリビニルホスホン酸で処理されたものである、請求項1〜12のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
- 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤が、脱水縮合、エステル化、トランスエステル化およびキレート化のいずれかの反応によって、架橋結合を形成する、請求項1〜13のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
- 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤が、フェノール樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、およびノボラック型エポキシ樹脂の少なくとも1つから選択される請求項1〜14のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
- 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤の重量平均分子量(Mw)が5000以上である請求項1〜15のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
- 前記(D)ポリビニルアセタール中の水酸基および酸基の少なくとも一方と反応し架橋することができる架橋剤が、アセタール樹脂の添加量に対して70重量%以下である請求項1〜16のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
- 請求項1〜17のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
露光した前記平版印刷版原版を、pHが2〜14の現像液の存在下で、非露光部の前記感光層を除去する工程とを含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。 - 前記露光する工程で、露光後に前駆体を予備加熱装置内で80℃以上の温度で加熱することを含む請求項18に記載の平版印刷版原版の製造方法。
- 前記現像する工程において、さらに界面活性剤を含有する前記現像液の存在下、非露光部の感光層と前記保護層とを同時に除去する工程を含む(但し、水洗工程を含まない)請求項18に記載の平版印刷版の製造方法。
- 前記現像液のpHを、2〜14に制御する工程を含む請求項18〜20のいずれか1項に記載の平版印刷版の製造方法。
- 請求項1〜17のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、印刷機上で印刷インキと湿し水を供給して非露光部の前記感光層を除去する工程とを含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。
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|---|---|---|---|---|
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| US4252887A (en) | 1979-08-14 | 1981-02-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5-triphenylimidazole compounds as photoinitiators |
| DE3036694A1 (de) | 1980-09-29 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
| DE3048502A1 (de) | 1980-12-22 | 1982-07-22 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| US4410621A (en) | 1981-04-03 | 1983-10-18 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan |
| JPS5956403A (ja) | 1982-09-27 | 1984-03-31 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合性組成物 |
| DE3410522A1 (de) | 1984-03-22 | 1985-10-03 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Einbrenngummierung fuer offsetdruckplatten und verfahren zur herstellung einer offsetdruckform |
| US4708925A (en) | 1984-12-11 | 1987-11-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin |
| DE3539992A1 (de) | 1985-11-12 | 1987-05-14 | Hoechst Ag | Einbrenngummierung fuer offsetdruckplatten |
| JPH065384B2 (ja) | 1986-06-12 | 1994-01-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性印刷版 |
| GB8617790D0 (en) | 1986-07-21 | 1986-08-28 | Smith & Nephew Ass | Wound dressing |
| JP2655349B2 (ja) | 1989-05-18 | 1997-09-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
| JP2739395B2 (ja) | 1991-08-19 | 1998-04-15 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
| JP2907643B2 (ja) | 1992-07-16 | 1999-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版およびその処理方法 |
| DE4335425A1 (de) * | 1993-10-18 | 1995-04-20 | Hoechst Ag | Mattiertes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
| WO1995012147A1 (en) * | 1993-10-29 | 1995-05-04 | Hoechst Celanese Corporation | Polyvinyl acetal resin having (meth)acrylic and urethane groups and photosensitive composition containing it |
| JP3515846B2 (ja) | 1995-02-06 | 2004-04-05 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
| DE69623140T2 (de) | 1995-10-24 | 2003-03-27 | Agfa-Gevaert, Mortsel | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindender Entwicklung |
| EP0770494B1 (en) | 1995-10-24 | 2000-05-24 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making a lithographic printing plate involving on press development |
| DE69613078T2 (de) | 1995-11-09 | 2001-11-22 | Agfa-Gevaert N.V., Mortsel | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit |
| DE69608522T2 (de) | 1995-11-09 | 2001-01-25 | Agfa-Gevaert N.V., Mortsel | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit |
| EP0778292A3 (en) * | 1995-12-04 | 1998-11-04 | Bayer Corporation | Method for the production of anhydride modified polyvinyl acetals useful for photosensitive compositions |
| JPH10282679A (ja) | 1997-04-08 | 1998-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性平版印刷版 |
| US6261740B1 (en) * | 1997-09-02 | 2001-07-17 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Processless, laser imageable lithographic printing plate |
| DE69812871T2 (de) | 1998-01-23 | 2004-02-26 | Agfa-Gevaert | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren um damit Flachdruckplatten herzustellen |
| JP3676602B2 (ja) | 1999-01-28 | 2005-07-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 感熱平版印刷原版 |
| DE69909734T2 (de) | 1999-02-02 | 2004-04-15 | Agfa-Gevaert | Verfahren zur Herstellung positiv arbeitender Druckplatten |
| JP2001166491A (ja) | 1999-09-29 | 2001-06-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体及びそれを用いた平版印刷版用原版 |
| JP2001133969A (ja) | 1999-11-01 | 2001-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型平版印刷版原版 |
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| EP1349006B1 (en) | 2002-03-28 | 2013-09-25 | Agfa Graphics N.V. | Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm. |
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| US20080166662A1 (en) * | 2005-03-14 | 2008-07-10 | Yasuhiko Takamuki | Plate-Making Method of Planographic Printing Plate and Imagewise Exposure Device |
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| EP1910897A4 (en) * | 2005-07-29 | 2010-12-22 | Anocoil Corp | PRINTING PLATE THAT CAN BE IMAGED FOR PRESS DEVELOPMENT |
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| ES2479066T3 (es) | 2005-11-18 | 2014-07-23 | Agfa Graphics N.V. | Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica |
| DK1788435T3 (da) | 2005-11-21 | 2013-06-17 | Agfa Graphics Nv | Fremgangsmåde til fremstilling af en litografisk trykplade |
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| US20090263744A1 (en) * | 2005-12-19 | 2009-10-22 | Takaaki Kuroki | Ethylenically unsaturated compound, light sensitive composition, light sensitive planographic printing plate material and printing process employing the same |
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| DE602006009936D1 (de) * | 2006-09-20 | 2009-12-03 | Eastman Kodak Co | Verfahren zur Entwicklung und Abdichtung von Lithografiedruckformen |
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