JP2001277740A - 平版印刷版用原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱により画像を形成し、良好な機上現像性を
示し、かつ、より多くの印刷物を得ることができる平版
印刷版用原版を提供する。 【解決手段】 親水性支持体上に、熱により合体する微
粒子状のポリマーを含有する感熱層を設けた平版印刷版
用原版であって、上記微粒子状のポリマー中に、他の微
粒子状のポリマー中に存在する官能基もしくは感熱層中
の他成分中に存在する官能基と反応しうる官能基を有す
ることを特徴とし、該親水性支持体が粗面化処理を行な
った後、陽極酸化処理を行なったアルミニウム基板であ
ることが好ましく、該アルミニウム基板がさらにシリケ
ート処理を行なったものであることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は親水性表面を有する
支持体、及び親水性の画像形成層からなるネガ型の平版
印刷版用原版に関する。より詳しくは、ディジタル信号
に基づいた走査露光による製版が可能であり、高感度且
つ高耐刷性で残色、汚れのない印刷物を与えることが可
能な平版印刷版用原版に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
クを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とからなる。このような平版印刷版用原版と
しては、従来、親水性支持体上に、親油性の感光性樹脂
層（インク受容層）を設けたＰＳ版が広く用いられ、そ
の平版印刷版用原版からの平版印刷版の製版方法とし
て、通常は、リスフイルムを介してマスク露光した後、
非画像部を現像液によって溶解除去することにより所望
の印刷版を得ていた。

【０００３】近年、画像情報をコンピュータを用いて電
子的に処理、蓄積、出力する、ディジタル化技術が広く
普及してきており、この様な、ディジタル化技術に対応
した、新しい画像出力方式が種々実用される様になって
きた。これに伴い、レーザ光の様な指向性の高い活性放
射線をディジタル化された画像情報に応じて走査し、リ
スフィルムを介することなく、直接印刷版を製造するコ
ンピュータ トゥ プレート（ＣＴＰ）技術が切望され
ており、これに適応した印刷版用原版を得ることが重要
な技術課題となっている。

【０００４】他方、従来のＰＳ版に於ける製版行程は、
露光の後、非画像部を溶解除去する工程が不可欠であ
り、この様な付加的な湿式の処理が不可欠であるという
点は、従来技術に対し、改善の望まれてきたもう一つの
課題である。特に近年は、地球環境への配慮が産業界全
体の大きな関心事となっている。処理の簡素化、乾式
化、無処理化は、この様な環境面と、先述のディジタル
化に伴った工程の合理化の両方の観点から、従来にも増
して、強く望まれるようになっている。

【０００５】この様な観点から、従来の処理工程をなく
す方法の一つとして次のような方法が提案されている。
即ち、印刷版用原版の非画像部の除去を通常の印刷過程
のなかで行えるような感光層を用い、現像工程を行うこ
となく、露光後、印刷機上で現像し最終的な印刷版を得
る方式である。この様な方法での平版印刷版の製版方式
は機上現像方式と呼ばれる。具体的方法としては、例え
ば、湿し水やインク溶剤に可溶な感光層の使用、印刷機
中の圧胴やブランケット胴との接触による力学的除去を
行う方法等が挙げられる。しかしながら、従来のＰＳ版
を機上現像方式の印刷版に応用する場合、原版は露光後
も、感光層が定着されないため、例えば、印刷機に装着
するまでの間、版を完全に遮光及び／もしくは恒温条件
にて保存しなければならないといった大きな問題点があ
った。

【０００６】上述のような技術課題に対し、走査露光に
よる印刷版の製造法として、最近、半導体レーザ、ＹＡ
Ｇレーザ等の固体レーザで高出力なものが安価に入手で
きるようになってきたことから、特に、これらのレーザ
を用いる方法が有望視されるようになってきた。これら
の高出力レーザを用いた高パワー密度露光系では、従来
の低〜中パワー密度露光用感光材料系に利用される光反
応とは異なった、様々な現象を利用できる。具体的に
は、化学変化の他、相変化、形態変化、等の構造変化を
利用できる。通常、このような高パワー密度露光による
記録方式はヒートモード記録と呼ばれる。高パワー密度
露光系では、多くの場合、感材に吸収された光エネルギ
ーは、熱に変換され、生じた熱によって、所望の現象が
引き起こされると信じられる為である。

【０００７】この様なヒートモード記録方式の大きな長
所は露光後の像の定着が必須ではないことにある。即
ち、ヒートモード感材の画像記録に利用される現象は、
普通の強度の光に対する暴露や、普通の環境温度下では
実質的に生じないため、露光後の画像の定着は必須では
ない。従って、例えば、ヒートモード露光により不溶化
若しくは可溶化する感光層を用い、画像露光後、任意の
時間、たとえ環境光に暴露させてから現像（非画像部の
除去）を行っても得られる画像に変化が生じないシステ
ムが可能である。従って、ヒートモード記録によれば、
先述の機上現像方式に望ましい平版印刷版用原版を得る
ことも可能となる。

【０００８】ヒートモード記録に基づく平版印刷版の好
ましい製造法の一つとして、親水性の支持体上に親水性
の画像形成層を設け、画像状にヒートモード露光し、親
水性層の溶解性・分散性を変化させ、必要に応じ、湿式
現像により未露光部を除去する方法が提案されている。
また、従来のヒートモード方式原版には、非画像部の汚
れ性が悪い、若しくは画像部の強度が弱いという別の大
きな問題があった。即ち、画像形成層中の支持体近傍で
の露光による溶解性変化が、画像形成層表面近傍に比較
して小さいという点の改良が必要であった。該ヒートモ
ード方式原版においては、ヒートモード露光時の熱の発
生は記録層中の光吸収剤の光吸収に基くものであるた
め、熱の発生量は記録層表面で大きく、支持体近傍では
小さいため、支持体近傍での記録層の溶解性変化の程度
が比較的小さくなってしまうものである。結果としてし
ばしば、ヒートモードネガ型原版においては、本来疎水
性のインク受容層を提供すべき露光部において、インク
受容性層が現像及び／又は印刷工程中に除去されること
があった。この様な、ネガ型原版における画像部インク
受容性層の除去は、印刷性能上耐刷性が悪いという問題
を生じる。特に、印刷適性上好ましい、Ａｌのような熱
伝導性の高い金属支持体を用いた場合、熱拡散によっ
て、一層、支持体近傍での温度上昇が妨げられるため、
上述のような問題は顕著である。基板付近の十分な溶解
性変化を得るためには、極端に大きな露光エネルギーを
要するか、若しくは露光後の加熱といった後処理を実施
する必要があった。

【０００９】例えば、特許２９３８３９７号公報に記載
されているように、熱可塑性疎水性重合体微粒子を赤外
線レーザー露光により熱融着させ画像形成させた上で、
印刷機シリンダー上に版を取付け、湿し水および／ある
いはインクにより機上現像する方法がある。しかしなが
らこのように単に熱融着で画像を作る方法では、良好な
機上現像性を示すものの、アルミニウム基板上に直接感
熱層を設けた場合、発生した熱がアルミニウム基板によ
り奪われるために基板〜感熱層界面上で反応が起こら
ず、耐刷性が不十分となってしまう。同様に特開平９−
１２７６８３号公報あるいはＷＯ９９／１０１８６号公
報にも熱可塑性微粒子を熱融着し機上現像により画像形
成することが記載されているが、耐刷性が不十分となっ
てしまう。

【００１０】また、特開平８−４８０２０号公報に記載
されているように親油性感熱性層を多孔質親水性支持体
上に設けて、赤外線レーザーを露光し、熱により基板に
固着する方法が挙げられているが、親油性の皮膜では機
上現像性が悪く、インキローラーあるいは印刷物へ親油
性感熱層のかすが付着してしまう。また、特開平１０−
２８７０６２号公報に記載されているように親油性感熱
性層を親水性膨潤層上に設けた場合、アルミニウム基板
による熱の吸収は抑制されるが、親水性膨潤層が湿し水
により膨潤していない状態でインクをつけるとインクの
払いが悪くなり、損紙が多くなってしまう。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】以上のように、機上現
像性が良好であり、感度が高く、かつ高耐刷性を示す感
熱性の感材はいまだ得られていない。そこで本発明は熱
により画像を形成する印刷機上現像可能な平版印刷版用
原版において、良好な機上現像性を示し、かつ、より多
くの印刷物を得るようにすることを目的とするものであ
る。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、親水性支持体
上に、画像形成に用いる熱で外壁が破れ、かつその熱に
より反応する官能基を有する化合物を含有しているマイ
クロカプセルからなる感熱層を設け、光熱変換材料を感
熱層かその隣接する層に含有していることにより、機上
現像性が良好でありながら、かつ高耐刷である、印刷機
上で現像可能な平版印刷版用原版を与えるものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下本発明について詳細に説明す
る。 〔マイクロカプセル〕本発明に使用されるマイクロカプ
セルは、画像形成に用いる熱で外壁が破れ、かつその熱
により反応する官能基（熱反応性基ともいう）を有する
化合物を含有しており、その平均粒径は０．０１μm〜
２０μmが好ましいが、その中でも０．０５μm〜２．０
μｍが更に好ましく、特に０．１０μm〜１．０μｍが
最適である。平均粒径が大き過ぎると解像度が悪く、ま
た小さ過ぎると経時安定性が悪くなってしまう。

【００１４】これらのマイクロカプセルは、その中に含
有される上記化合物の熱反応性基を介してマイクロカプ
セル同士で反応できる構造としても良いし、感熱層内に
他の添加物として後述の親水性樹脂または低分子化合物
を含有する場合にはそれらと反応できる構造としても良
い。また２種類以上のマイクロカプセルに、互いに熱反
応するような熱反応性基をそれぞれ持たせてマイクロカ
プセル同士を反応させることのできる構造としても良
い。すなわち、これらの熱反応性基による反応として
は、不飽和基による重合反応、イソシアナート基あるい
はそれのブロック体と活性水素原子を有する化合物（例
えばアミン、アルコール、カルボン酸など）による付加
反応、エポキシ基とアミノ基・カルボキシル基・ヒドロ
キシル基との付加反応、カルボキシル基とヒドロキシル
基あるいはアミノ基との縮合反応、酸無水物とアミノ基
あるいはヒドロキシル基との開環付加反応などを挙げる
ことができ、これらは化学結合が形成されればどのよう
な反応でもよい。

【００１５】このような熱反応性基を有する化合物を含
有するマイクロカプセルは、例えば、アクリレート基、
メタクリレート基、ビニル基、アリル基、エポキシ基、
アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、イソシア
ネート、酸無水物およびそれらを保護した基等の熱反応
性基を有する化合物（後に詳述する）をマイクロカプセ
ルに内包させるか、これらの化合物をマイクロカプセル
の外壁に導入する方法により得ることができる。また、
熱反応性基を有する化合物をマイクロカプセルに内包さ
せると同時に、マイクロカプセルの外壁に該化合物を導
入しても良い。

【００１６】マイクロカプセルに含有される熱反応性基
を有する化合物としては、不飽和基を有する化合物が挙
げられ、不飽和基を有する化合物は、少なくとも一個の
エチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合
物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１
個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれる。こ
の様な化合物群は当該産業分野において広く知られるも
のであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用い
る事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマ
ー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、または
それらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的
形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げら
れ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多
価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒド
ロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換
基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官
能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付
加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱
水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナ
ート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは
多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との
付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の
脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは
アミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、ア
ミン類およびチオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わり
に、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物
群を使用する事も可能である。

【００１７】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体
例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テ
トラメチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシ
プロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、
ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタ
アクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ
（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリ
エステルアクリレートオリゴマー等がある。

【００１８】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【００１９】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。

【００２０】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。

【００２１】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。

【００２２】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。

【００２３】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４７３３４、特開
昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４
１、特開平２−２２６１４９号記載の芳香族系骨格を有
するもの、特開平１−１６５６１３号記載のアミノ基を
含有するもの等も好適に用いられる。

【００２４】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。

【００２５】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭５４−２１７２６号公報記載のシクロへ
キシレン構造を有すものを挙げることができる。

【００２６】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニ
ルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。

【００２７】一般式（Ａ） ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ₄₁）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ₄₂）ＯＨ （ただし、Ｒ₄₁およびＲ₄₂は、ＨまたはＣＨ₃を示
す。）

【００２８】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−
４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２
−３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。

【００２９】さらに、特開昭６３−２７７６５３号、特
開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号
に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を
有するラジカル重合性化合物類を用いても良い。

【００３０】その他の例としては、特開昭４８−６４１
８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０
４９０号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。また、
特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、
特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合
物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０８ページ（１９８
４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。

【００３１】エポキシ化合物としては、このましくはグ
リセリンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコ
ールジグリシジルエーテル、ポリプロピレンジグリシジ
ルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエ
ーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフ
ェノール類あるいはポリフェノール類もしくはそれらの
水素添加物のポリグリシジルエーテル体などが挙げられ
る。イソシアネートを有する化合物としては、好ましく
はトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソ
シアネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソ
シアネート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、ある
いはそれらをアルコールあるいはアミン類でブロックし
た化合物を挙げることができる。アミン化合物として
は、好ましくはエチレンジアミン、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、プロピレンジアミン、ポリエチレンイミンなどが挙
げられる。

【００３２】ヒドロキシル基を有する化合物としては好
ましくは、末端メチロールを有するような化合物、ペン
タエリスリトールなどの多価アルコール、ビスフェノー
ル・ポリフェノール類などを挙げることができる。カル
ボキシル基を有する化合物としては好ましくは、ピロメ
リット酸、トリメリット酸、フタル酸などの芳香族多価
カルボン酸、アジピン酸などの脂肪族多価カルボン酸な
どが挙げられる。酸無水物としては好ましくは、ピロメ
リット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水
物などが挙げられる。

【００３３】以上具体的に詳述した熱反応性基を有する
化合物が含有されたマイクロカプセルを本発明の平版印
刷版用原版の感熱層に含有させることにより、該マイク
ロカプセルの外壁が画像形成時の熱により破れ、該マイ
クロカプセルに含有させる該化合物が感熱層中に放出さ
れると共に化学反応を起こし、これにより感熱層の画像
部の分子構造は三次元架橋体に変化する。よって、画像
形成前後において、画像部の水又は水溶液に対する溶解
性の差は大きいものとなり、良好な機上現像性を示す。
また、マイクロカプセルとしては画像形成に用いる熱で
外壁が破れるものを使用しているため、前記化合物がマ
イクロカプセル外の化合物と確実に熱反応できるので、
前記三次元架橋体の架橋密度は非常に高いものであると
考えられる。よって、画像形成後において、高い強度を
有する画像部が得られると考えられ、より多くの印刷物
を得ることができる。

【００３４】本発明に用いられる好ましいマイクロカプ
セルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混
合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタン
が好ましい。マイクロカプセルの外壁には、前記したよ
うに、熱反応性基を有する化合物を導入しても良い。

【００３５】熱反応性基を有する化合物を含有物として
マイクロカプセル化する方法としては、公知のマイクロ
カプセル化法が適用できる。例えばマイクロカプセルの
製造方法としては、米国特許２８００４５７号、同２８
００４５８号明細書に見られるコアセルベーションを利
用した方法、英国特許９９０４４３号、米国特許３２８
７１５４号明細書、特公昭３８−１９５７４号、同４２
−４４６号、同４２−７１１号に見られる界面重合法に
よる方法、米国特許３４１８２５０号、同３６６０３０
４号明細書に見られるポリマーの析出による方法、米国
特許３７９６６６９号明細書に見られるイソシアネート
ポリオール壁材料を用いる方法、米国特許３９１４５１
１号明細書に見られるイソシアネート壁材料を用いる方
法、米国特許４００１１４０号、同４０８７３７６号、
同４０８９８０２号明細書に見られる尿素―ホルムアル
デヒド系あるいは尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノー
ル系壁形成材料を用いる方法、米国特許４０２５４４５
号にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロ
キシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭３６−９
１６３号、同５１−９０７９号に見られるモノマー重合
によるｉｎ ｓｉｔｕ法、英国特許９３０４２２号、米
国特許３１１１４０７号にみられるスプレードライング
法、英国特許９５２８０７号、同９６７０７４号にみら
れる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定される
ものではない。

【００３６】〔光熱変換材料〕また本発明の平版印刷版
用原版は、その感熱層内またはそれに隣接する層内に光
熱変換材料を含有していることにより、レーザー光照射
等により画像書き込みを行うことができる。さらに、光
熱変換材料から発生される熱を有効に利用するために、
光熱変換材料をマイクロカプセル内に含有させることが
好ましい。光熱変換材料をマイクロカプセル内に含有す
ることでマイクロカプセルの外壁破壊、内包物質の放
出、反応物質の反応活性化に対し、有効に熱を利用でき
る。これにより、本発明の平版印刷版用原版の耐刷性が
向上できる。その光熱変換材料としては、カーボンブラ
ック・金属微粒子および色素など光源の波長を吸収する
ものであれば特に限定されないが特に赤外線を吸収し熱
に変換する化合物が好ましい。

【００３７】光熱変換材料は７００ｎｍ以上の光を吸収
する物質が特に好ましく、種々の顔料や染料を用いる事
ができる。顔料としては、市販の顔料およびカラーイン
デックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔
料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」
（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」Ｃ
ＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用
できる。

【００３８】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。

【００３９】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、界面
活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シリカ
ゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポキシ
化合物、イソシアネート化合物等）を顔料表面に結合さ
せる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金
属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」
（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）および「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
これらの顔料中、赤外光又は近赤外光を吸収するもの
が、赤外光又は近赤外光を発光するレーザでの利用に適
する点で特に好ましい。

【００４０】そのような赤外光又は近赤外光を吸収する
顔料としてはカーボンブラック、親水性樹脂でコートさ
れたカーボンブラックやシリカゾルで変性されたカーボ
ンブラックが好適に用いられる。これらの中でも特に水
溶性の樹脂と分散し易く、かつ親水性を損わないものと
して、親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされたカ
ーボンブラックが有用である。

【００４１】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１μｍの範囲
にあることが好ましく、０．０１μｍ〜０．５μｍの範
囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【００４２】染料としては、市販の染料および文献（例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年
刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。これらの染料中、赤外
光、もしくは近赤外光を吸収するものが、赤外光もしく
は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に
好ましい。

【００４３】赤外光又は近赤外光を吸収する染料として
は、例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−
８４３５６号、特開昭６０−７８７８７号、米国特許
４，９７３，５７２号明細書、特開平１０−２６８５１
２号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１
７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５
８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特
開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３
号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９
６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７
４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５
８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリウム
染料、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料や
米国特許第４，７５６，９９３号明細書記載の染料、米
国特許第４，９７３，５７２号明細書に記載のシアニン
染料および特開平１０−２６８５１２号記載の染料を挙
げることができる。

【００４４】

【化１】

【００４５】［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶
は、置換又は未置換のアルキル基；Ｚ ¹及びＺ²は置換も
しくは未置換のフェニル基又はナフタレン基；Ｌは置換
又は未置換のメチン基で、該置換基は、炭素数８以下の
アルキル基、ハロゲン原子又はアミノ基であるか、該メ
チン基がその２つのメチン炭素上の置換基が相互に結合
して形成された置換基を有していても良いシクロヘキセ
ン環またはシクロペンテン環を含むものであってもよ
く、該置換基は炭素数６以下のアルキル基またはハロゲ
ン原子；Ｘはアニオン基；ｎは１又は２；そしてＲ¹、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｚ¹及びＺ²の少なくとも一
つは酸性基又は酸性基のアルカリ金属塩基又はアミン塩
基を有する置換基を示す。

【００４６】

【化２】

【００４７】［式中、Ｒ¹¹は置換もしくは未置換のアル
キル基、置換もしくは未置換のアリール基又は置換もし
くは未置換のヘテロ環基；Ｒ¹²及びＲ¹⁵は水素原子又は
水素原子の代りに置換できる基：Ｒ¹³及びＲ¹⁴は水素原
子、ハロゲン原子、置換もしくは未置換のアルコキシ基
又は置換もしくは未置換のアルキル基、但しＲ¹³及びＲ
¹⁴は同時に水素原子ではない：Ｒ¹⁶及びＲ¹⁷は置換もし
くは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアリー
ル基、アシル基又はスルホニル基、又はＲ¹⁶とＲ ¹⁷で非
金属５員環もしくは６員環の形成を示す。］

【００４８】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０
５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３
号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同
５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１
４６号記載のシアニン染料、米国特許第４，２８３，４
７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、エポリン社製Ｅｐｏｌｉｇ
ｈｔ III−１７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１３０、
Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１２５等は特に好ましく用い
られる。これらの染料中、マイクロカプセル内に内包さ
せる場合は、合成上の観点から、水と混合しない溶剤に
溶解可能なものが好ましい。酢酸エチルに溶解できるも
のがさらに好ましい。具体的には炭素数４以上のアルキ
ル鎖を含む油溶性シアニン、油溶性フタロシアニン、油
溶性ポリメチン色素等が挙げられる。マイクロカプセル
外に添加する場合、特に好ましいものは上記の式（Ｉ）
の水溶性のシアニン染料である。下記に具体的な化合物
を列記する。

【００４９】

【化３】

【００５０】

【化４】

【００５１】

【化５】

【００５２】

【化６】

【００５３】

【化７】

【００５４】

【化８】

【００５５】

【化９】

【００５６】

【化１０】

【００５７】

【化１１】

【００５８】次に、光熱変換性の金属微粒子について述
べる。金属粒子の多くは、光熱変換性であってかつ自己
発熱性でもある。好ましい金属微粒子として、Ｓｉ、Ａ
ｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、
Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒ
ｈ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｗ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｇｅ、Ｒｅ、Ｓｂの
単体又は合金あるいはそれらの酸化物、硫化物の微粒子
が挙げられる。これらの金属微粒子を構成する金属の中
でも好ましい金属は、光照射によって熱融着し易い融点
がおよそ１０００℃以下で赤外、可視又は紫外線領域に
吸収をもつ金属、たとえばＲｅ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｐｂ及びＳｎである。また、とくに好
ましいのは、融点も比較的低く、熱線に対する吸光度も
比較的高い金属の微粒子、たとえばＡｇ、Ａｕ、Ｃｕ、
Ｓｂ、Ｇｅ及びＰｂで、とくに好ましい元素はＡｇ、Ａ
ｕ及びＣｕが挙げられる。

【００５９】また、例えばＲｅ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｓｎなどの低融点金属の微粒子
とＴｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｗ、Ｇｅなどの自己
発熱性金属の微粒子を混合使用するなど、２種以上の光
熱変換物質で構成されていてもよい。また、Ａｇ、Ｐ
ｔ、Ｐｄなど微小片としたときに光吸収がとくに大きい
金属種の微小片と他の金属微小片を組み合わせて用いる
ことは好ましい。以上に述べた金属単体及び合金の微粒
子は、表面を親水性化処理することによって、本発明の
効果がより発揮される。表面親水性化の手段は、親水性
でかつ粒子への吸着性を有する化合物、例えば界面活性
剤で表面処理したり、粒子の構成物質と反応する親水性
基を持つ物質で表面処理したり、保護コロイド性の親水
性高分子皮膜を設けるなどの方法を用いることができ
る。特に好ましいのは、表面シリケート処理であり、例
えば鉄微粒子の場合は、７０℃のケイ酸ナトリウム（３
％）水溶液に３０秒浸漬する方法によって表面を十分に
親水性化することができる。他の金属微粒子も同様の方
法で表面シリケート処理を行うことができる。

【００６０】これらの粒子の粒径は、１０μｍ以下、好
ましくは、０．００３〜５μｍ、さらに好ましくは、
０．０１〜３μｍである。微小であるほど、熱融着温度
は低下する、つまりヒートモードの光感度が高くなって
好都合であるが、粒子の分散が難しく、１０μｍ以上で
は、印刷物の解像度が悪くなる。本発明において、これ
らの光熱変換材料を用いる場合、その添加量は、感熱層
の全固形分中、１重量％以上であり、好ましくは２重量
％以上、特に好ましくは５重量％以上で用いられる。光
熱変換材料の含有量が１重量％未満であると感度が低く
なってしまう。

【００６１】〔親水性樹脂〕本発明の平版印刷版用原版
の感熱層中には親水性樹脂を添加しても良い。親水性樹
脂を添加することで機上現像性が良好となるばかりか、
感熱層自体の皮膜強度も上がる。親水性樹脂としては３
次元架橋していないものが機上現像性が良好で好まし
い。親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル、カルボ
キシル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、アミ
ノ、アミノエチル、アミノプロピル、カルボキシメチル
などの親水基を有するものが好ましい。具体的な親水性
樹脂として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉
誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそれらのＮａ
塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢
酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイ
ン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、
ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチル
メタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロ
キシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマ
ー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマー
及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホ
モポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリ
レートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチ
ルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエ
チレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー
類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少
なくとも６０重量％、好ましくは少なくとも８０重量％
の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマー
ル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ア
クリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリ
ルアミドのホモポリマー及びポリマー、Ｎ−メチロール
アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、２−ア
クリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸及びその
塩のホモポリマー及びコポリマー等を挙げることができ
る。

【００６２】親水性樹脂の感熱層中への添加量は、２％
〜４０％が好ましく、３％〜３０％がさらに好ましい。
２％より少ないと、皮膜強度が弱く、４０％より多いと
機上現像性は良くなるものの耐刷性が悪くなってしま
う。

【００６３】〔反応を開始あるいは促進する化合物〕本
発明の平版印刷版用原版の感熱層には、上記の熱反応性
基を有する化合物を含有するマイクロカプセルを用いる
ので、必要に応じてこれらの反応を開始あるいは促進す
るような化合物を添加してもよい。たとえば熱によりラ
ジカルあるいはカチオンを発生するような化合物を挙げ
ることができ、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合
物、過酸化物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩あるいはジ
フェニルヨードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシ
ルホスフィン、イミドスルホナートなどが挙げられる。
これらの化合物は感熱層において１重量％〜２０重量％
の範囲で添加することができる。好ましくは３重量％〜
１０重量％の範囲である。これより多いと機上現像性が
悪くなり、これより少ないと反応開始あるいは促進効果
が弱くなり耐刷性が劣化する。

【００６４】また、反応を効率よく進めるために、反応
を開始あるいは促進する化合物をマイクロカプセル内に
含有させることが好ましい。これらの化合物をマイクロ
カプセル内に含有させることで、熱反応性基を有する化
合物とあらかじめ良く混ざり合った状態にすることがで
き、レーザー照射すると、内包物が放出しながら反応が
可能となる。これにより、本発明の平版印刷版用原版の
耐刷性がさらに向上できる。

【００６５】〔マイクロカプセルに含有される熱反応性
基を有する化合物と反応する低分子化合物〕本発明の平
版印刷版用原版の感熱層には、さらに、画像形成に用い
る熱で上記マイクロカプセルに含有される熱反応性基を
有する化合物と反応することができる官能基およびその
保護基を有する低分子化合物を含有することができる。
これらの化合物の添加量は、感熱層中５重量％〜４０重
量％が好ましく、特に５重量％〜２０重量％が好まし
い。これより少ないと架橋効果が少なく耐刷性が不十分
となり、これより多いと経時後の機上現像性が悪くなっ
てしまう。このような化合物の具体例としては、前記マ
イクロカプセルに含有される熱反応性基を有する化合物
の具体例と同様のものを挙げることができる。

【００６６】〔その他の添加物〕本発明では、さらに必
要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよ
い。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の
着色剤として使用することができる。具体的には、オイ
ルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイル
ピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢ
ＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オ
イルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オ
リエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブル
ー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチ
ルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレッ
ト、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイト
グリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５
２０１５）等、及び特開昭６２−２９３２４７号に記載
されている染料を挙げることができる。また、フタロシ
アニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チ
タンなどの顔料も好適に用いることができる。

【００６７】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、感熱層塗布液全固形分に対し、
０．０１〜１０重量％の割合である。

【００６８】また、本発明においては、感熱層塗布液の
調製中あるいは保存中においてラジカル重合可能なエチ
レン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を
阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望
ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、
ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキ
ノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチ
ルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フ
ェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられ
る。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して
約０．０１重量％〜約５重量％が好ましい。また必要に
応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸
やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加し
て、塗布後の乾燥の過程で感熱層の表面に偏在させても
よい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．
１重量％〜約１０重量％が好ましい。

【００６９】また、本発明における感熱層塗布液中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭６２−２５１７４０号や特開平３−２０８５１４号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９
−１２１０４４号、特開平４−１３１４９号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリ
ステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタ
ントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。

【００７０】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、
商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の感熱
層塗布液中に占める割合は、０．０５〜１５重量％が好
ましく、より好ましくは０．１〜５重量％である。

【００７１】さらに、本発明に係る感熱層塗布液中に
は、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。

【００７２】本発明の平版印刷版用原版を製造するに
は、通常、感熱層塗布液に必要な上記各成分を溶媒に溶
かして、適当な支持体上に塗布すればよい。ここで使用
する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシ
エチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラ
クトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに
限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混合
して使用される。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固
形分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％である。

【００７３】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の感
熱層塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、平版
印刷版用原版についていえば一般的に０．５〜５．０ｇ
／ｍ ²が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法
を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、
回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗
布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を
挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見
かけの感度は大になるが、画像記録の機能を果たす感熱
層の皮膜特性は低下する。

【００７４】本発明に係る感熱層塗布液には、塗布性を
良化するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７
０９５０号に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、全感熱層
の材料固形分中０．０１〜１重量％、さらに好ましくは
０．０５〜０．５重量％である。

【００７５】〔オーバーコート層〕本発明の平版印刷版
用原版は、親油性物質による感熱層表面の汚染防止のた
め、感熱層上に、水溶性オーバーコート層を設けること
ができる。本発明に使用される水溶性オーバーコート層
は印刷時容易に除去できるものであり、水溶性の有機高
分子化合物から選ばれた樹脂を含有する。ここで用いる
水溶性の有機高分子化合物としては、塗布乾燥によって
できた被膜がフィルム形成能を有するもので、具体的に
は、ポリ酢酸ビニル（但し加水分解率６５％以上のも
の）、ポリアクリル酸およびそのアルカリ金属塩あるい
はアミン塩、ポリアクリル酸共重合体およびそのアルカ
リ金属塩またはアミン塩、ポリメタクリル酸およびその
アルカリ金属塩またはアミン塩、ポリメタクリル酸共重
合体およびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ポリア
クリルアミドおよびその共重合体、ポリヒドロキシエチ
ルアクリレート、ポリビニルピロリドン及びその共重合
体、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルメチルエー
テル／無水マレイン酸共重合体、ポリ−２−アクリルア
ミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸及びそのア
ルカリ金属塩またはアミン塩、ポリ−２−アクリルアミ
ド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸共重合体およ
びそのアルカリ金属塩あるいはアミン塩、アラビアガ
ム、繊維素誘導体（例えば、カルボキシメチルセルロー
ズ、カルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ
等）およびその変性体、ホワイトデキストリン、プルラ
ン、酵素分解エーテル化デキストリン等を挙げることが
できる。また、目的に応じて、これらの樹脂を二種以上
混合して用いることもできる。

【００７６】また、オーバーコート層には、前記の水溶
性光熱変換剤を添加しても良い。さらに、オーバーコー
ト層には塗布の均一性を確保する目的で、水溶液塗布の
場合には、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンドデシルエーテルなどの非イオ
ン系界面活性剤を添加することができる。オーバーコー
ト層の乾燥塗布量は、０．１〜２．０ｇ／ｍ²が好まし
い。それより少ないと、指紋付着汚れを起こし、それよ
り多いと、機上現像性が悪くなる。

【００７７】〔支持体〕本発明の平版印刷版用原版にお
いて前記感熱層を塗布可能な親水性支持体としては、寸
度的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等）、上記の如き金属がラ
ミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフィル
ム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエス
テルフィルム又はアルミニウム板が挙げられる。

【００７８】本発明の平版印刷版用原版に使用する支持
体としては、軽量で表面処理性、加工性、耐食性に優れ
たアルミニウム板を使用することが好ましい。この目的
に供されるアルミニウム材質としては、ＪＩＳ １０５
０材、ＪＩＳ １１００材、ＪＩＳ １０７０材、Ａｌ
−Ｍｇ系合金、Ａｌ−Ｍｎ系合金、Ａｌ−Ｍｎ−Ｍｇ系
合金、Ａｌ−Ｚｒ系合金、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金など
が挙げられる。

【００７９】支持体に使用し得るアルミニウム材質に関
する公知技術を以下に列挙する。 （１）ＪＩＳ １０５０材に関しては、下記の技術が開
示されている。 特開昭５９−１５３８６１号、特開昭６１−５１３９
５、特開昭６２−１４６６９４、特開昭６０−２１５７
２５、特開昭６０−２１５７２６、特開昭６０−２１５
７２７、特開昭６０−２１５７２８、特開昭６１−２７
２３５７、特開昭５８−１１７５９、特開昭５８−４２
４９３、特開昭５８−２２１２５４、特開昭６２−１４
８２９５、特開平４−２５４５４５、特開平４−１６５
０４１、特公平３−６８９３９、特開平３−２３４５９
４、特公平１−４７５４５、特開昭６２−１４０８９４
号公報など。また、特公平１−３５９１０、特公昭５５
−２８８７４号等も知られている。

【００８０】（２）ＪＩＳ １０７０材に関しては、下
記の技術が開示されている。 特開平７−８１２６４、特開平７−３０５１３３、特開
平８−４９０３４、特開平８−７３９７４、特開平８−
１０８６５９、特開平８−９２６７９号など。

【００８１】（３）Ａｌ−Ｍｇ系合金に関しては、下記
の技術が開示されている。 特公昭６２−５０８０、特公昭６３−６０８２３、特公
平３−６１７５３、特開昭６０−２０３４９６、特開昭
６０−２０３４９７、特公平３−１１６３５、特開昭６
１−２７４９９３、特開昭６２−２３７９４、特開昭６
３−４７３４７、特開昭６３−４７３４８、特開昭６３
−４７３４９、特開昭６４−６１２９３、特開昭６３−
１３５２９４、特開昭６３−８７２８８、特公平４−７
３３９２、特公平７−１００８４４、特開昭６２−１４
９８５６、特公平４−７３３９４、特開昭６２−１８１
１９１、特公平５−７６５３０、特開昭６３−３０２９
４、特公平６−３７１１６号など。また、特開平２−２
１５５９９、特開昭６１−２０１７４７号等も知られて
いる。

【００８２】（４）Ａｌ−Ｍｎ系合金に関しては、下記
の技術が開示されている。 特開昭６０−２３０９５１、特開平１−３０６２８８、
特開平２−２９３１８９号など。また、特公昭５４−４
２２８４、特公平４−１９２９０、特公平４−１９２９
１、特公平４−１９２９２、特開昭６１−３５９９５、
特開昭６４−５１９９２、ＵＳ５００９７２２、ＵＳ５
０２８２７６、特開平４−２２６３９４等も知られてい
る。 （５）Ａｌ−Ｍｎ−Ｍｇ系合金に関しては、下記の技術
が開示されている。 特開昭６２−８６１４３、特開平３−２２２７９６、特
公昭６３−６０８２４、特開昭６０−６３３４６、特開
昭６０−６３３４７、ＥＰ２２３７３７、特開平１−２
８３３５０、ＵＳ４８１８３００、ＢＲ１２２２７７７
等が知られている。

【００８３】（６）Ａｌ−Ｚｒ系合金に関して、下記の
技術が知られている。 特公昭６３−１５９７８、特開昭６１−５１３９５、特
開昭６３−１４３２３４、特開昭６３−１４３２３５等
が知られている。 （７）Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系合金に関しては、ＢＲ１４２
１７１０等が知られている。

【００８４】また、支持体用アルミニウム板の製造方法
としては、下記の内容が使用できる。前述のような含有
成分及び、合金成分割合のアルミニウム合金溶湯を常法
に従い清浄化処理を施し、鋳造する。清浄化処理には、
溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために、フラ
ックス処理、Ａｒガス、Ｃｌガス等を使った脱ガス処理
や、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォーム
フィルタ等のいわゆるリジッドメディアフィルターや、
アルミナフレーク、アルミナボール等を濾材とするフィ
ルタや、グラスクロスフィルター等を使ったフィルタリ
ング、あるいは、脱ガスとフィルタリングを組み合わせ
た処理が行われる。これらの清浄化処理は、溶湯中の、
非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥、溶湯にとけ
込んだガスによる欠陥を防ぐために、実施されることが
望ましい。

【００８５】溶湯のフィルタリングに関しては、特開平
６−５７３４２、特開平３−１６２５３０、特開平５−
１４０６５９、特開平４−２３１４２５、特開平４−２
７６０３１、特開平５−３１１２６１、特開平６−１３
６４６６等が知られている。溶湯の脱ガスに関しては、
特開平５−５１６５９、特開平５−５１６６０、実開平
５−４９１４８、特開平７−４００１７号などが知られ
ている。以上のように、清浄化処理を施された溶湯を使
って、鋳造を行う。鋳造方法に関しては、ＤＣ鋳造法に
代表される、固定鋳型を用いる方法と、連続鋳造法に代
表される、駆動鋳型を用いる方法がある。ＤＣ鋳造法を
用いた場合、冷却速度は、１〜３００℃／秒の範囲で凝
固される。１℃／秒未満であると、粗大な金属間化合物
が多数形成される。

【００８６】連続鋳造法には、ハンター法、３Ｃ法に代
表される、冷却ロールを用いた方法、ハズレー法、アル
スイスキャスターII型に代表される冷却ベルト、冷却ブ
ロックを用いた方法が、工業的に行われている。連続鋳
造法を用いた場合の冷却速度は、１００〜１０００℃／
秒の範囲で凝固される。一般的に、ＤＣ鋳造法に比べ
て、冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対す
る、合金成分の固溶度を高くできる特徴がある。連続鋳
造法に関しては、本願発明者らによって、特開平３−７
９７９８、特開平５−２０１１６６、特開平５−１５６
４１４、特開平６−２６２２０３、特開平６−１２２９
４９、特開平６−２１０４０６、特開平６−２６２３０
８等が開示されている。

【００８７】ＤＣ鋳造を行った場合、板厚３００〜８０
０ｍｍの鋳塊が製造できる。その鋳塊は、常法に従い、
面削を行われ、表層の１〜３０ｍｍ、望ましくは、１〜
１０ｍｍを切削される。その後、必要に応じて、均熱化
処理が行われる。均熱化処理を行う場合、金属間化合物
が粗大化してしまわないように、４５０〜６２０℃で１
時間以上、４８時間以下の熱処理が施される。１時間よ
り短い場合は、均熱化処理の効果が不十分となる。次い
で、熱間圧延、冷間圧延を行って、アルミニウム圧延板
とする。熱間圧延の開始温度としては、３５０〜５００
℃の範囲とする。冷間圧延の前、または後、またはその
途中において中間焼鈍処理を施しても良い。この場合の
中間焼鈍条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて２８０℃〜６
００℃で２〜２０時間、望ましくは、３５０〜５００℃
で２〜１０時間加熱する方法や、連続焼鈍炉を用いて４
００〜６００℃で３６０秒以下、望ましくは、４５０〜
５５０℃で１２０秒以下の加熱処理が採用できる。連続
焼鈍炉を使って、１０℃／秒以上の昇温速度で加熱する
と、結晶組織を細かくすることもできる。

【００８８】以上の工程によって、所定の厚さ０．１〜
０．５ｍｍに仕上げられたＡｌ板は平面性を改善するた
めに、ローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置に
よって、平面性を改善しても良い。平面性の改善は、板
をシート状にカットした後に行っても良いが、生産性を
向上させるためには、連続したコイルの状態で、平面性
改善を行うことが望ましい。また、板巾を所定の巾に加
工するため、スリッタラインを通すことが通常行われ
る。スリッタによって切られた板の端面は、スリッタ刃
に切られるときに、せん断面と破断面の片方、あるいは
両方が生じる。

【００８９】板の厚みの精度は、コイル全長にわたっ
て、±１０μｍ以内、望ましくは±６μｍ以内が良い。
また、幅方向の板厚差は６μｍ以内、望ましくは３μｍ
以内がよい。また、板幅の精度は、±１．０ｍｍ以内、
望ましくは±０．５ｍｍ以内が望ましい。Ａｌ板の表面
粗度は、圧延ロールの表面粗さの影響を受けやすいが、
最終的に中心線表面粗さ（Ｒａ）で、Ｒａ＝０．１〜
１．０μｍ程度に仕上げるのがよい。Ｒａが大きすぎる
と、平版印刷版用としての粗面化処理、感熱層塗布をし
たとき、Ａｌのもともとの粗さすなわち、圧延ロールに
よって転写された粗い圧延条痕が感熱層の上から見える
ため、外観上好ましくない。Ｒａ＝０．１μｍ以下の粗
さは、圧延ロールの表面を過度に低粗度に仕上げる必要
が有るため、工業的に望ましくない。

【００９０】また、Ａｌ板同士の摩擦によるキズの発生
を防止するために、Ａｌ板の表面に、薄い油膜をもうけ
ても良い。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、
不揮発性のものが適宜用いられる。油量が多すぎると、
製造ライン中でスリップ故障が発生するが、油量が皆無
だとコイル輸送中にキズが発生する不具合が生じるの
で、油量は３ｍｇ／ｍ²以上で１００ｍｇ／ｍ²以下、望
ましい上限は５０ｍｇ／ｍ²以下、更に望ましくは１０
ｍｇ／ｍ²以下が良い。冷間圧延に関しては、特開平６
−２１０３０８号等が開示されている。

【００９１】連続鋳造を行った場合、例えば、ハンター
法等の冷却ロールを用いると板厚１〜１０ｍｍの鋳造板
を直接連続鋳造圧延でき、熱間圧延の工程を省略できる
メリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ロール
を用いると、板厚１０〜５０ｍｍの鋳造板が鋳造でき、
一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に
圧延することで、板厚１〜１０ｍｍの連続鋳造圧延板が
得られる。これらの連続鋳造圧延板は、ＤＣ鋳造の場合
に説明したのと同じように、冷間圧延、中間焼鈍、平面
性改善、スリット等の工程を経て０．１〜０．５ｍｍの
板厚に仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼
鈍条件、冷間圧延条件については、特開平６−２２０５
９３、特開平６−２１０３０８、特開平７−５４１１
１、特開平８−９２７０９等が開示されている。

【００９２】上記方法で製造したＡｌ板は表面に粗面化
処理等の表面処理を行い、感熱層を塗布して平版印刷版
用原版とすることができる。粗面化処理には、機械的粗
面化、化学的粗面化、電気化学的粗面化が単独又は組み
合わせて行われる。また、表面のキズ付き難さを確保す
るための陽極酸化処理を行ったり、親水性を増すための
処理を行うことも好ましい。

【００９３】以下に支持体の表面処理について説明す
る。アルミニウム板を粗面化するに先立ち、必要に応
じ、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、
有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が
行われてもよい。アルカリの場合、次いで酸性溶液で中
和、スマット除去などの処理を行ってもよい。

【００９４】次いで支持体と感熱層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理がなされてい
る。この砂目立て処理法の具体的手段としては、サンド
ブラスト、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ナイロ
ンブラシと研磨材／水スラリーによるブラシグレイン、
研磨材／水スラリーを表面に高圧で吹き付けるホーニン
ググレインなどによる機械的砂目立て方法があり、また
アルカリまたは酸あるいはそれらの混合物からなるエッ
チング剤で表面を粗面化処理する化学的砂目立て方法が
ある。また英国特許第８９６，５６３号公報、特開昭５
３−６７５０７号公報、特開昭５４−１４６２３４号公
報及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されている
電気化学的砂目立て方法、または特開昭５３−１２３２
０４号公報、特開昭５４−６３９０２号公報に記載され
ている機械的砂目立て方法と電気化学的砂目立て方法と
を組み合わせた方法、特開昭５６−５５２６１号公報に
記載されている機械的砂目立て方法と鉱酸のアルミニウ
ム塩の飽和水溶液による化学的砂目立て方法とを組み合
わせた方法も知られている。また上記支持体材料に、粒
状体を接着剤またはその効果を有する方法で接着させて
表面を粗面化する方法や、微細な凹凸を有する連続帯や
ロールを支持体材料に圧着させて凹凸を転写することに
よって粗面を形成させてもよい。

【００９５】これらのような粗面化方法は複数を組み合
わせて行ってもよく、その順序、繰り返し数などは任意
に選択することができる。複数の粗面化処理を組み合わ
せる場合、その間に、続いて行う粗面化処理を均一に行
えるようにするために酸またはアルカリ水溶液による化
学的処理を行うことができる。上記、酸またはアルカリ
水溶液の具体例としては、例えばフッ酸、フッ化ジルコ
ン酸、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸などの酸および水酸化
ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウムなどの
アルカリ水溶液が挙げられる。これらの酸またはアルカ
リ水溶液はそれぞれ一種または二種以上を混合して使用
することができる。化学的処理はこれらの酸またはアル
カリの０．０５〜４０重量％水溶液を用い、４０℃〜１
００℃の液温において５〜３００秒処理するのが一般的
である。

【００９６】前述のような粗面化処理すなわち砂目立て
処理して得られた支持体の表面には、スマットが生成し
ているので、このスマットを除去するために適宜水洗あ
るいはアルカリエッチング等の処理を行うことが一般的
に好ましい。このような処理としては、例えば特公昭４
８−２８１２３号公報に記載されているアルカリエッチ
ング法や特開昭５３−１２７３９号公報に記載されてい
る硫酸デスマット法等の処理方法が挙げられる。本発明
に用いられるアルミニウム支持体の場合には、前述のよ
うな前処理を施した後、通常、耐摩耗性、耐薬品性、保
水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸
化皮膜を形成させる。

【００９７】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならば
いかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、
リン酸、シュウ酸、クロム酸あるいはこれらの混酸が用
いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によっ
て適宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質
により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的に
は電解質の濃度が１〜８０％溶液、液温は５〜７０℃、
電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解
時間１０秒〜５分の範囲にあれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は１．０ｇ／ｍ²以上が好適であるが、より好
ましくは２．０〜６．０ｇ／ｍ²の範囲である。陽極酸
化皮膜が１．０ｇ／ｍ²未満であると耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。

【００９８】尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版
の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏
回りにより、裏面にも０．０１〜３ｇ／ｍ²の陽極酸化
皮膜が形成されるのが一般的である。また、アルカリ水
溶液（例えば数％の苛性ソーダ水溶液）や、熔融塩中で
の陽極酸化処理や、例えばホウ酸アンモン水溶液を用い
た無孔性陽極酸化皮膜を形成させる陽極酸化処理なども
行うことができる。陽極酸化処理を行う前に、特開平４
−１４８９９１号や特開平４−９７８９６号に記載され
ている水和酸化皮膜生成を行ってもよく、また、特開昭
６３−５６４９７号や特開昭６３−６７２９５号に記載
されている金属ケイ酸塩溶液中での処理、水和酸化皮膜
生成処理や、特開昭５６−１４４１９５号に記載されて
いる化成皮膜生成処理などを行うこともできる。

【００９９】本発明の平版印刷版用原版に用いられるア
ルミニウム支持体は、陽極酸化処理後に有機酸もしくは
その塩による処理、または該有機酸もしくはその塩を感
熱層塗布の下塗り層として用いることができる。有機酸
またはその塩としては、有機カルボン酸、有機ホスホン
酸、有機スルホン酸またはその塩等が挙げられるが、好
ましくは有機カルボン酸またはその塩である。有機カル
ボン酸としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ラ
ウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸等の脂肪族モノ
カルボン酸類；オレイン酸、リノール酸等の不飽和脂肪
族モノカルボン酸類；シュウ酸、コハク酸、アジピン
酸、マレイン酸等の脂肪族ジカルボン酸類；乳酸、グル
コン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等のオキシカルボ
ン酸類；安息香酸、マンデル酸、サリチル酸、フタル酸
等の芳香族カルボン酸類およびIa、IIb、IIIb、IVa、VI
bおよびVIII族の金属塩およびアンモニウム塩が挙げら
れる。上記有機カルボン酸塩のうち好ましいのは蟻酸、
酢酸、酪酸、プロピオン酸、ラウリン酸、オレイン酸、
コハク酸および安息香酸の上記金属塩およびアンモニウ
ム塩である。これらの化合物は単独でも２種以上組み合
わせて用いてもよい。

【０１００】これらの化合物は水、アルコールに０．０
０１〜１０重量％、特に０．０１〜１．０重量％の濃度
となるよう溶解されるのが好ましく、処理条件としては
２５〜９５℃、好ましくは５０〜９５℃の温度範囲、ｐ
Ｈは１〜１３、好ましくは２〜１０分、１０秒〜２０
分、好ましくは１０秒〜３分間支持体を浸漬するか、処
理液を支持体に塗布する。

【０１０１】また、さらに陽極酸化処理後、以下のよう
な化合物溶液による処理や、これらの化合物を、感熱層
塗布の下塗り層として用いることができる。好適に用い
られる化合物としては、例えば、置換基を有してもよい
フェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホ
スホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸
およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置
換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、
アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン
酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセ
ロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシン、β
−アラニン、バリン、セリン、スレオニン、アスパラギ
ン酸、グルタミン酸、アルギニン、リジン、トリプトフ
ァン、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒドロキシ
エチルグリシン、アントラニル酸等のアミノ酸；スルフ
ァミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸等のアミノス
ルホン酸；１−アミノメチルホスホン酸、１−ジメチル
アミノエチルホスホン酸、２−アミノエチルホスホン
酸、２−アミノプロピルホスホン酸、４−アミノフェニ
ルホスホン酸、１−アミノエタン−１，１−ジホスホン
酸、１−アミノ−１−フェニルメタン−１，１−ジホス
ホン酸、１−ジメチルアミノエタン−１，１−ジホスホ
ン酸、１−ジメチルアミノブタン−１，１−ジホスホン
酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸等のア
ミノホスホン酸等の化合物が挙げられる。

【０１０２】また、塩酸、硫酸、硝酸、スルホン酸（メ
タンスルホン酸等）またはシュウ酸と、アルカリ金属、
アンモニア、低級アルカノールアミン（トリエタノール
アミン等）、低級アルキルアミン（トリエチルアミン
等）等との塩も好適に使用することができる。

【０１０３】ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンイミンおよび
その鉱酸塩、ポリ（メタ）アクリル酸およびその金属
塩、ポリスチレンスルホン酸およびその金属塩、（メ
タ）アクリル酸アルキルエステルと２−アクリルアミド
−２−メチル−１−プロパンスルホン酸およびその金属
塩、塩化トリアルキルアンモニムメチルスチレンのポリ
マーおよびその（メタ）アクリル酸とのコポリマー、ポ
リビニルホスホン酸等の水溶性ポリマーも好適に使用す
ることができる。さらに可溶性デンプン、カルボキシメ
チルセルロース、デキストリン、ヒドロキシエチルセル
ロース、アラビアガム、グアーガム、アルギン酸ソー
ダ、ゼラチン、グルコース、ソルビトールなども好適に
使用することができる。これらの化合物は単独でも２種
以上を組み合わせて用いてもよい。

【０１０４】処理の場合、これらの化合物は水かつ／ま
たはメチルアルコールに０．００１〜１０重量％、特に
０．０１〜１．０重量％の濃度となるよう溶解されるの
が好ましく、処理条件としては２５〜９５℃、好ましく
は５０〜９５℃の温度範囲、ｐＨは１〜１３、好ましく
は２〜１０、１０秒〜２０分、好ましくは１０秒〜３分
間支持体を浸漬する。

【０１０５】感熱層塗布の下塗り層として用いる場合
は、同様に水かつ／またはメチルアルコールに０．００
１〜１０重量％、特に０．０１〜１．０重量％の濃度と
なるように溶解され、必要に応じて、アンモニア、トリ
エチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１
〜１２の範囲で使用することもできる。また、平版印刷
版用原版の調子再現性改良のために黄色系染料を添加す
ることもできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜
２００ｍｇ／ｍ²が適当であり、好ましくは５〜１００
ｍｇ／ｍ²である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ²未満であ
ると汚れ防止等の本来の目的に十分な効果が得られな
い。また、２００ｍｇ／ｍ²を越えると耐刷力が低下す
る。

【０１０６】なお支持体と感熱層との密着性を高めるた
めの中間層を設けてもよい。密着性の向上のためには、
一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウムに
吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層の厚さ
は任意であり、露光した時に、上層の感熱層と均一な結
合形成反応を行い得る厚みでなければならない。通常、
乾燥固体で約１〜１００ｍｇ／ｍ²の塗布割合がよく、
５〜４０ｍｇ／ｍ²が特に良好である。中間層中におけ
るジアゾ樹脂の使用割合は、３０〜１００％、好ましく
は６０〜１００％である。

【０１０７】以上のような処理及び下塗り層付与の前
に、陽極酸化処理された支持体は、水洗処理されたあ
と、現像液や湿し水への陽極酸化皮膜の溶解抑制、感熱
層成分の残膜抑制、陽極酸化皮膜強度向上、陽極酸化皮
膜の親水性向上、感熱層との密着性向上等を目的に、以
下のような処理を行うことができる。そのひとつとして
は、陽極酸化皮膜をアルカリ金属のケイ酸塩水溶液と接
触させて処理するシリケート処理が挙げられる。この場
合、アルカリ金属ケイ酸塩の濃度は０．１〜３０重量
％、好ましくは０．５〜１５重量％であり、２５℃での
ｐＨが１０〜１３．５である水溶液に５〜８０℃、好ま
しくは１０〜７０℃、より好ましくは１５〜５０℃で
０．５〜１２０秒間接触させる。接触させる方法は、浸
せきでもスプレーによる吹き付けでも、いかなる方法に
よってもかまわない。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液はｐ
Ｈが１０より低いと液はゲル化し、１３．５より高いと
陽極酸化皮膜が溶解されてしまう。

【０１０８】本発明に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウ
ムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のｐ
Ｈ調整に使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。な
お、上記処理液にはアルカリ土類金属塩もしくは第IVｂ
族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩として
は、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネ
シウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸
塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水
溶性塩が挙げられる。第IVb族金属塩としては、四塩化
チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ
酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化
酸化ジルコニウムなどが挙げられる。アルカリ土類金属
もしくは第IVｂ族金属塩は単独または２種以上組み合わ
せて使用する事ができる。これらの金属塩の好ましい範
囲は、０．０１〜１０重量％であり、更に好ましくは
０．０５〜５．０重量％である。

【０１０９】他には、各種封孔処理も挙げられ、一般的
に陽極酸化皮膜の封孔処理方法として知られている、水
蒸気封孔、沸騰水（熱水）封孔、金属塩封孔（クロム酸
塩／重クロム酸塩封孔、酢酸ニッケル封孔など）、油脂
含浸封孔、合成樹脂封孔、低温封孔（赤血塩やアルカリ
土類塩などによる）などを用いる事ができるが、印刷版
用支持体としての性能（感熱層との密着性や親水性）、
高速処理、低コスト、低公害性等の面から水蒸気封孔が
比較的好ましい。その方法としては、たとえば特開平４
−１７６６９０号公報にも開示されている加圧または常
圧の水蒸気を連続または非連続的に、相対湿度７０％以
上・蒸気温度９５℃以上で２秒〜１８０秒程度陽極酸化
皮膜に接触させる方法などが挙げられる。他の封孔処理
法としては、支持体を８０〜１００℃程度の熱水または
アルカリ水溶液に浸漬または吹き付け処理する方法や、
これに代えるか或いは引き続き、亜硝酸溶液で浸漬また
は吹き付け処理することができる。亜硝酸塩の例として
は、周期律表のIa、IIa 、IIb 、IIIb、IVb 、IVa 、VI
a、VIIa、VIII族の金属の亜硝酸塩またはアンモニウム
塩、すなわち亜硝酸アンモニウムが挙げられ、その金属
塩としては、例えばＬｉＯ₂、ＮａＮＯ₂、ＫＮＯ₂、Ｍ
ｇ（ＮＯ₂）₂、Ｃａ（ＮＯ₂）₂、Ｚｎ（ＮＯ₃）₂、Ａｌ
（ＮＯ₂）₃、Ｚｒ（ＮＯ₂）₄、Ｓｎ（ＮＯ₂）₃、Ｃｒ
（ＮＯ₂）₃、Ｃｏ（ＮＯ₂）₂、Ｍｎ（ＮＯ₂）₂、Ｎｉ
（ＮＯ₂）₂等が好ましく、特にアルカリ金属亜硝酸塩が
好ましい。亜硝酸塩は２種以併用することもできる。

【０１１０】処理条件は、支持体の状態及びアルカリ金
属の種類により異なるので一義的には決定できないが、
例えば亜硝酸ナトリウムを用いた場合には、濃度は一般
的には０．００１〜１０重量％、より好ましくは０．０
１〜２重量％、浴温度は一般的には室温から約１００℃
前後、より好ましくは６０〜９０℃、処理時間は一般的
には１５〜３００秒、より好ましくは１０〜１８０秒の
それぞれの範囲から選択すればよい。亜硝酸水溶液のｐ
Ｈは８．０〜１１．０に調製されていることが好まし
く、８．５〜９．５に調製されていることが特に好まし
い。亜硝酸水溶液のｐＨを上記の範囲に調製するには、
例えばアルカリ緩衝液等を用いて好適に調製することが
できる。該アルカリ緩衝液としては、限定はされないが
例えば炭酸水素ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水
溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶
液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混合水溶
液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液、
塩酸と炭酸ナトリウムの混合水溶液、四ホウ酸ナトリウ
ムと水酸化ナトリウムの混合水溶液等を好適に用いるこ
とができる。また、上記アルカリ緩衝液はナトリウム以
外のアルカリ金属塩、例えばカリウム塩等も用いること
ができる。

【０１１１】以上のような、シリケート処理または封孔
処理を施したあと、感熱層との密着性をアップさせるた
めに特開平５−２７８３６２号公報に開示されている酸
性水溶液処理と親水性下塗りを行うことや、特開平４−
２８２６３７号公報や特開平７−３１４９３７号公報に
開示されている有機層を設けてもよい。

【０１１２】支持体表面に以上のような処理或いは、下
塗りなどが施された後、支持体の裏面には、必要に応じ
てバックコートが設けられる。かかるバックコートとし
ては特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合
物および特開平６−３５１７４号記載の有機または無機
金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属
酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの
被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₄、Ｓｉ（ＯＣ
₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₄、Ｓｉ（ＯＣ₄Ｈ₉）₄など
のケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それ
から得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れてお
り特に好ましい。

【０１１３】平版印刷版用支持体として好ましい特性と
しては、中心線平均粗さで０．１０〜１．２μｍであ
る。０．１０μｍより低いと感熱層と密着性が低下し、
著しい耐刷の低下を生じてしまう。１．２μｍより大き
い場合、印刷時の汚れ性が悪化してしまう。さらに支持
体の色濃度としては、反射濃度値として０．１５〜０．
６５であり、０．１５より白い場合、画像露光時のハレ
ーションが強すぎ画像形成に支障をきたしてしまい、
０．６５より黒い場合、現像後の検版作業において画像
が見難く、著しく検版性が悪いものとなってしまう。

【０１１４】なお、本発明の平版印刷版用原版は、その
支持体として、粗面化処理を行なった後陽極酸化処理を
行なったアルミニウム基板を用いることにより、より良
好な機上現像性を得ることができる。その場合、さらに
シリケート処理を行なったアルミニウム基板を用いるこ
とが、より好ましい。

【０１１５】本印刷版はアルミニウム基板上に水に不溶
な親水性層あるいはレーザー露光により発熱しかつ水に
不溶な親水性である層、あるいはアルミニウム基板上に
断熱性を持たせるために有機ポリマーよりなる断熱層を
設けたうえに、水に不溶な親水性層あるいはレーザー露
光により発熱しかつ水に不溶な親水性である層を設けて
もよい。例えば、アルミニウム基板上にシリカ微粒子と
親水性樹脂の親水性層を設けてよい。さらにこの親水性
層内に先に挙げた光熱変換材料を導入し、発熱性親水性
層としてもよい。このようにすることでアルミニウム基
板に熱が逃げ難くなるのみか、レーザー露光により発熱
する親水性基板として用いることができる。更にこの親
水性層とアルミニウム基板の間に有機ポリマーからなる
中間層を設けると、より一層熱がアルミ基板に逃げるこ
とを抑制することができる。支持体としては、機上現像
性の観点から、多孔質でないものが良く、また親水性有
機高分子材料を４０％以上含むような水により膨潤する
ような支持体はインクが払われ難く問題となってしま
う。

【０１１６】本発明に使用される親水層は３次元架橋し
ており、水及び／又はインキを使用する平版印刷で、浸
し水に溶けない層であり、下記のコロイドからなること
が望ましい。ベリリウム、マグネシウム、アルミニウ
ム、ケイ素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジル
コニウム、鉄、バナジウム、アンチモン又は遷移金属の
酸化物又は水酸化物のゾルゲル変換系からなるコロイド
である。場合によってはこれらの元素の複合体からなる
コロイドであっても良い。これらのコロイドは、上記の
元素が酸素原子を介して網目状構造を形成すると同時に
未結合の水酸基やアルコキシキ基を有していて、これら
が混在した構造となっている。活性なアルコキシ基や水
酸基が多い初期加水分解縮合段階から、反応が進行する
につれ粒子径は大きくなり不活性になる。コロイドの粒
子は一般的には２ｎｍから５００ｎｍで、シリカの場合
５ｎｍから１００ｎｍの球形のものが本発明では好適で
ある。アルミニウムのコロイドのように１００×１０ｎ
ｍのような羽毛状のものも有効である。更には、１０ｎ
ｍから５０ｎｍの球状粒子が５０ｎｍから４００ｎｍの
長さに連なったパールネック状のコロイドも用いること
ができる。

【０１１７】コロイドはそのもの単独で用いてもよく、
更には親水性の樹脂と混合して用いることも可能であ
る。また、架橋を促進させるために、コロイドの架橋剤
を添加しても良い。通常、コロイドは安定剤によって安
定化されている場合が多い。カチオンに荷電しているコ
ロイドではアニオン基を有する化合物、逆にアニオンに
荷電しているコロイドではカチオン基を有する化合物が
安定剤として添加されている。たとえば、ケイ素のコロ
イドではアニオンに荷電しているので、安定剤としてア
ミン系の化合物が添加され、アルミニウムのコロイドで
はカチオンに荷電しているので、塩酸や酢酸等の強酸が
添加されている。この様なコロイドを基板上に塗布する
と、常温で透明な皮膜を形成するものが多いが、コロイ
ドの溶媒が蒸発しただけではゲル化は不完全で、安定剤
を除去できる温度に加熱することによって、強固な３次
架橋を行い、本発明に好ましい親水層となる。

【０１１８】上記のような安定化剤を用いずに、出発物
質（例えば、ジ、トリ及び／又はテトラアルコキシシラ
ン）から直接加水分解縮合反応を行わせ、適当なゾル状
態を作りだしそのまま基板上に塗布し、乾燥させ反応を
完了させても良い。この場合、安定化剤を含む場合より
も低温で三次元架橋させることができる。

【０１１９】この他、適当な加水分解縮合反応物を有機
溶媒に分散安定化させたコロイドも本発明には好適であ
る。溶媒が蒸発するだけで、三次元架橋した皮膜が得ら
れる。これらの溶媒にはメタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルーエテルやメ
チルエチルケトンのような低沸点の溶媒を選択すると、
常温での乾燥が可能となる。とくに本発明では、メタノ
ールやエタノール溶媒のコロイドが低温での硬化が容易
であり有用である。

【０１２０】上記のコロイドと共に用いる親水性樹脂と
しては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキ
シエチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチ
ル、アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を
有するものが好ましい。具体的な親水性樹脂として、ア
ラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボ
キシメチルセルロース及びそれらのNa塩、セルロースア
セテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイ
ン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー
類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル
酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレート
のホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアク
リレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプ
ロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、
ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコ
ポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリ
マー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートの
ホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール
類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアル
コール類、ならびに加水分解度が少なくとも６０重量
％、好ましくは少なくとも８０重量％の加水分解ポリビ
ニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホ
モポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポ
リマー及びポリマー、Ｎ−メチロールアクリルアミドの
ホモポリマー及びコポリマー、２−アクリルアミド−２
−メチルプロパンスルホン酸あるいはその塩のホモポリ
マー及びコポリマー等を挙げることができる。

【０１２１】特に好ましい親水性樹脂は水溶性でない水
酸基含有ポリマーで、具体的には、ヒドロキシエチルメ
タクリレートのホモポリマー及びコポリマーとヒドロキ
シエチルアクリレートのコポリマーである。これらの親
水性樹脂はコロイドと共に用いられるが、その添加割合
は親水性樹脂が水溶性の場合、親水層の全固形分の４０
重量％以下が好ましく、水溶性でない親水性樹脂の場合
は全固形分の２０重量％以下が好ましい。

【０１２２】これらの親水性樹脂はそのまま用いること
もできるが、印刷時の耐刷力を増加さる目的で、コロイ
ド以外の親水性樹脂の架橋剤を添加してもよい。この様
な親水性樹脂の架橋剤としては、ホルムアルデヒド、グ
リオキザール、ポリイソシアネート及びテトラアルコキ
シシランの初期加水分解・縮合物、ジメチロール尿素や
ヘキサメチロールメラミンを挙げることができる。本発
明の親水層には上記の酸化物又は水酸化物のコロイドと
親水性樹脂以外に、コロイドの架橋を促進する架橋剤を
添加してもよい。その様な架橋剤としてはテトラアルコ
キシシランの初期加水分解縮合物、トリアルコキシシリ
ルプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリアルキルアンモニウムハ
ライドあるいはアミノプロピルトリアルコキシシランが
好ましい。その添加割合は親水層の全固形分の５重量％
以下であることが好ましい。

【０１２３】更に本発明の親水層には、感熱感度を高め
るために親水性の光熱変換材料を添加してもよい。特に
好ましい光熱変換材料は水溶性の赤外線吸収染料で、前
記の式（Ｉ）のスルホン酸基やスルフォン酸のアルカリ
金属塩基あるいはアミン塩基を有するシアニン染料であ
る。これらの染料の添加割合は親水層の全量に対し、１
重量％〜２０重量％で、更に好ましくは５重量％〜１５
重量％である。

【０１２４】本発明の三次元架橋した親水層の塗布厚み
は０．１μｍから１０μｍであることが好ましい。より
好ましくは、０．５μｍから５μｍである。薄すぎる
と、親水層の耐久性が劣り、印刷時の耐刷力が劣る。ま
た厚すぎると、解像度が低下する。以後、有機ポリマー
よりなる中間層について述べる。中間層に用いることの
できる有機ポリマーはポリウレタン樹脂、ポリエステル
樹脂、アクリル樹脂、クレゾール樹脂、レゾール樹脂、
ポリビニルアセタール樹脂、ビニル樹脂など通常使用さ
れる有機ポリマーであれば問題なく使用することができ
る。これらは０．１ｇ／ｍ²〜５．０ｇ／ｍ²の塗布量で
あることが好ましい。０．１ｇ／ｍ²以下だと断熱効果
が小さく、５．０ｇ／ｍ²より大きいと非画像部の耐刷
性が劣化する。

【０１２５】本発明の平版印刷版用原版は高出力のレー
ザー露光により、画像形成することができるが、サーマ
ルヘッドのような書込み機を用いてもよい。特に本発明
では赤外または近赤外領域で発光するレーザーを用いる
ことが好ましい。特に近赤外領域で発光するレーザーダ
イオードが特に好ましい。なお、この場合、その感熱層
に含まれるマイクロカプセルの外壁が破れるエネルギー
量で行う必要がある。また、紫外線ランプによる記録も
可能であるが、本発明においては、波長７６０ｎｍから
１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体
レーザにより画像露光されることが好ましい。レーザの
出力は１００ｍＷ以上が好ましく、露光時間を短縮する
ため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ま
しい。また、１画素あたりの露光時間は２０μ秒以内で
あることが好ましい。記録材料に照射されるエネルギー
は１０〜３００ｍＪ／ｃｍ²であることが好ましい。

【０１２６】このようにして露光されたプレートは処理
することなく、印刷機のシリンダーに取り付けられる。
このようにして取り付けられたプレートは以下のような
手順で印刷することができる。 （1）印刷版に湿し水を供給し、機上で現像した後に更
にインクを供給して印刷を開始する方法、（2）印刷版
に湿し水およびインクを供給し、機上で現像した後に印
刷を開始する方法、（3）インクを版に供給し、湿し水
を供給すると同時に紙を供給し印刷を開始する方法など
がある。またこれらのプレートは特許第２９３８３９８
号に記載されているように、印刷機シリンダー上に取り
付けた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露光
し、その後に湿し水及び／またはインクをつけて機上現
像することも可能であり、好ましくは水又は水溶液によ
って現像可能な、あるいは現像することなしにそのまま
印刷機に装着し印刷することが可能なものである。

【０１２７】

【実施例】以下、実施例をもって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 実施例１〜６、比較例１〜３ 支持体（１）の作成（アルミニウム基板の作成） ９９．５％以上のアルミニウムと、Ｆｅ ０．３０％、
Ｓｉ ０．１０％、Ｔｉ０．０２％、Ｃｕ ０．０１３％
を含むＪＩＳ Ａ１０５０合金の溶湯を清浄化処理を施
し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不
要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチ
ューブフィルタ処理を行った。鋳造法はＤＣ鋳造法で行
った。凝固した板厚５００ｍｍの鋳塊を表面から１０ｍ
ｍ面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように
５５０℃で１０時間均質化処理を行った。次いで、４０
０℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で５００℃６０秒中間
焼鈍した後、冷間圧延を行って、板厚０．３０ｍｍのア
ルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御する
ことにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さＲａを
０．２μｍに制御した。その後、平面性を向上させるた
めにテンションレベラーにかけた。

【０１２８】次に平版印刷版支持体とするための表面処
理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去
するため１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒
間脱脂処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間
中和、スマット除去処理を行った。

【０１２９】次いで支持体と感熱層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。１％
の硝酸と０．５％の硝酸アルミを含有する水溶液を４５
℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接
給電セルにより電流密度２０Ａ／ｄｍ²、デューティー
比１：１の交番波形でアノード側電気量２４０Ｃ／ｄｍ
²を与えることで電解砂目立てを行った。その後１０％
アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間エッチング処
理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、ス
マット除去処理を行った。（アルミニウム基板Ａ）

【０１３０】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸２０％水溶液を３５℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより１４Ａ／ｄｍ²の直流で電解処理を行うこと
で２．５ｇ／ｍ²の陽極酸化皮膜を作成した。（アルミ
ニウム基板Ｂ） この後印刷版非画像部としての親水性を確保するため、
シリケート処理を行った。処理は３号珪酸ソーダ１．５
％水溶液を７０℃に保ちアルミウェブの接触時間が１５
秒となるよう通搬し、さらに水洗した。Ｓｉの付着量は
１０ｍｇ／ｍ²であった。以上により作成した支持体の
Ｒａ（中心線表面粗さ）は０．２５μｍであった。（ア
ルミニウム基板Ｃ）

【０１３１】支持体（２）の作成（アルミ基板上に発熱
性親水性層を設けた支持体の作成） メタノール２４０gにメタノールシリカゾル （日産化学
（株）製：１０ｎｍ〜２０ｎｍのシリカ粒子を３０重量
％含有するメタノール溶液からなるコロイド）４５．２
ｇ、ポリ２−ヒドロキシエチルメタクリレート１．５２
ｇ、赤外線吸収染料（Ｉ−３２）３．２ｇを溶解し、先
に得られたアルミニウム基板Ｃ上にバー塗布を行った。
オーブンを用いて１００度３０秒の条件で乾燥させた。
塗布量は１．０g／m²であった。

【０１３２】支持体（３）の作成（アルミ基板上に断熱
性層を設け更に発熱性親水層を設けた支持体の作成） 断熱性層の塗布 メチルエチルケトン１００ｇ、乳酸メチル９０ｇにポリ
ビニルブチラール樹脂１０ｇを溶解し、先に得られたア
ルミニウム基板Ｃ上にバー塗布を行った。オーブンを用
い１００度、１分の条件で乾燥した。塗布量は０．５ｇ
／m²であった。 発熱性親水性層の塗布 メタノール２４０gにメタノールシリカゾル４５．２
ｇ、ポリ２−ヒドロキシエチルメタクリレート１．５２
ｇ、赤外線吸収染料（Ｉ−３２）３．２ｇを溶解し、先
に得られた断熱層上にバー塗布を行った。オーブンを用
いて１００度３０秒の条件で乾燥させた。塗布量は１．
０ｇ／m²であった。

【０１３３】マイクロカプセルの合成 熱で外壁が破れるマイクロカプセルの合成（１） 油相成分としてキシレンジイソシアネート４０ｇ、トリ
メチロールプロパンジアクリレート１０ｇ、アリルメタ
クリレートとブチルメタクリレートの共重合体（モル比
６０／４０）パイオニンＡ４１Ｃ（竹本油脂製）１０
ｇを酢酸エチル６０ｇに溶解した。水相成分としてＰＶ
Ａ２０５（クラレ製）の４％水溶液１２０ｇを作成し
た。油相成分および水相成分をホモジナイザーを用いて
１００００ｒｐｍで乳化した。その後、水を４０ｇ添加
し、室温で３０分さらに４０度で３時間攪拌した。この
ようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度は
２０％であり、平均粒径は０．５μmであった。

【０１３４】熱で外壁が破れるマイクロカプセルの合成
（２） 油相成分としてイソホロンジイソシアネート３０ｇ、ヘ
キサメチレンジイソシアネート１０ｇ、ジエチレングリ
コールジグリシジルエーテル２０ｇ、パイオニンＡ４１
Ｃ（竹本油脂製）０．１ｇを酢酸エチル６０ｇに溶解し
た。水相成分としてＰＶＡ２０５（クラレ製）の４％水
溶液１２０ｇを作成した。油相成分および水相成分をホ
モジナイザーを用いて１００００ｒｐｍで乳化した。そ
の後、水を４０ｇ添加し、室温で３０分さらに４０度で
３時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプ
セル液の固形分濃度は２０％であり、平均粒径は０．７
μmであった。

【０１３５】熱により合体する微粒子状ポリマーの合成
（１）（比較例）（反応基を持たない） スチレン１５ｇ、ポリオキシエチレンフェノール水溶液
（濃度９．８４×１０ ^-3ｍｏｌ・ｌ^-1）２００ｍｌを加
え、２５０ｒｐｍでかき混ぜながら、系内を窒素ガスで
置換する。この液を２５℃にした後、セリウム（IV）ア
ンモニウム塩水溶液（濃度０．９８４×１０^-3ｍｏｌ・
ｌ^-1）１０ｍｌ添加する。この際、硝酸アンモニウム水
溶液（濃度５８．８×１０^-3ｍｏｌ・ｌ^-1）を加え、ｐ
Ｈ１．３〜１．４に調整する。その後８時間これを攪拌
した。このようにして得られた液の固形分濃度は９．５
％であり、平均粒径は０．４μmであった。

【０１３６】感熱層の塗布 以上のように作成した支持体（１）、（２）、（３）上
に、合成例（１）、（２）のマイクロカプセルおよび合
成例（１）の熱により合体する微粒子状ポリマーをそれ
ぞれ含有する以下の組成よりなる塗布液を作成し、感熱
層の塗布を行った。

【０１３７】 感熱層塗布液組成 水 ７０ ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ３０ ｇ 合成したマイクロカプセル（１）、（２）、 ５ ｇ 熱により合体する微粒子状ポリマー（１） （固形分換算で） ポリヒドロキシエチルアクリレート ０．５ｇ ｐ−ジアゾフェニルアミンの硫酸塩 ０．３ｇ 赤外線吸収染料（Ｉ−３２） ０．３ｇ

【０１３８】以上の液をバー塗布した後、オーブンで９
０度１２０秒の条件で乾燥した。塗布量は０．５g／m²
であった。このようにして得られた機上現像可能な平版
印刷版を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載した
Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ ３２４４ＶＦＳ
にて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、版面
エネルギー１００ｍＪ／ｃｍ²、解像度２４００ｄｐｉ
の条件で露光した後、処理することなく、印刷機ハイデ
ルＳＯＲ−Ｍのシリンダーに取付け、湿し水を供給した
のち、インキを供給し、さらに紙を供給し印刷を行っ
た。すべてのプレートについて問題なく機上現像するこ
とができ印刷可能であった。各プレートで得られた印刷
物の枚数を表−1に記載した。

【０１３９】

【表１】

【０１４０】以上の結果から、マイクロカプセルを感熱
層に有する平版印刷版の方が耐刷性について良好である
ことが分かった。またアルミニウム基板上に発熱性親水
層を設けた支持体、あるいはアルミ基板上に断熱性層を
設け更にその上に発熱性親水層を設けた支持体の方が耐
刷性について良好となることが分かった。レーザー照射
時に熱で外壁が破れるマイクロカプセル（１）および
（２）は、熱により合体する微粒子状ポリマー（１）よ
りも低エネルギー露光時に耐刷性が高いことが分かっ
た。

【０１４１】実施例７ 支持体（３）の上に下記よりなる、感熱性層塗布液を塗
布した。

【０１４２】 水 ７０ ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ３０ ｇ 合成したマイクロカプセル（１） ５ ｇ （固形分換算で） ポリアクリル酸 ０．５ｇ （重量平均分子量 25000） ソルビトールトリアクリレート １．０ｇ 赤外線吸収染料（Ｉ−３１） ０．３ｇ ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムの硫酸塩 ０．３ｇ

【０１４３】このようにして得られたプレートを、マル
チチャンネルレーザヘッドを搭載した富士写真フイルム
（株）製Ｌｕｘｅｌ Ｔ−９０００ＣＴＰにて、ビーム
１本当たりの出力２５０ｍＷ、外面ドラム回転数８００
ｒｐｍ、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。実施
例１〜６と同様に印刷したところ１５０００枚の正常な
印刷を行うことができた。

【０１４４】実施例８ 支持体（３）の上に下記よりなる、感熱性層塗布液を塗
布した。

【０１４５】 水 ７０ ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ３０ ｇ マイクロカプセル（２） ５ ｇ （固形分換算で） ポリアクリル酸（重量平均分子量 25000） ０．５ｇ ジエチレントリアミン １．０ｇ 赤外線吸収染料（Ｉ−３１） ０．３ｇ ｔ−ブチルジフェニルヨードニウムの硫酸塩 ０．３ｇ

【０１４６】このようにして得られたプレートを、マル
チチャンネルレーザヘッドを搭載した富士写真フイルム
（株）製Ｌｕｘｅｌ Ｔ−９０００ＣＴＰにて、ビーム
１本当たりの出力２５０ｍＷ、外面ドラム回転数８００
ｒｐｍ、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。実施
例１〜６と同様に印刷したところ３００００枚の正常な
印刷を行うことができた。

【０１４７】実施例９〜１１ 下記マイクロカプセル（３）および（４）を合成し、前
記支持体（１）の上に下記よりなる感熱性層塗布液を塗
布した以外は、実施例１〜６と同様に、平版印刷版用原
版の作成、画像露光、印刷を行った。

【０１４８】熱で外壁が破れるマイクロカプセルの合成
（３） 油相成分としてキシレンジイソシナナエート４０ｇ、ト
リメチロールプロパンジアクリレート９ｇ、アリルメタ
クリレートとブチルアクリレートの共重合体８ｇ（モル
比６０／４０）赤外線吸収染料（Ｉ−３３）３ｇ、パイ
オニンＡ４１Ｃ（竹本油脂性）０．１ｇを酢酸エチル６
０ｇに溶解した。水相成分としてはＰＶＡ２０５（クラ
レ製）の４％水溶液１２０ｇを作成した。油相成分およ
び水相成分をホモジナイザーを用いて１００００ｒｐｍ
で乳化した。その後水を４０ｇ添加し、室温で３０分さ
らに４０℃で３時間撹拌した。このようにして得られた
マイクロカプセル液の固形分濃度は２０％であり、平均
粒径は０．６μｍであった。

【０１４９】熱で外壁が破れるマイクロカプセルの合成
（４） 油相成分としてキシレンジイソシナナエート４０ｇ、ト
リメチロールプロパンジアクリレート９ｇ、アリルメタ
クリレートとブチルアクリレートの共重合体８ｇ（モル
比６０／４０）赤外線吸収染料（Ｉ−３３）３ｇ、パイ
オニンＡ４１Ｃ（竹本油脂性）０．１ｇ、２，２'−ア
ゾビスイソブチロニトリル１．０ｇを酢酸エチル６０ｇ
に溶解した。水相成分としてはＰＶＡ２０５（クラレ
製）の４％水溶液１２０ｇを作成した。油相成分および
水相成分をホモジナイザーを用いて１００００ｒｐｍで
乳化した。その後水を４０ｇ添加し、室温で３０分さら
に４０℃で３時間撹拌した。このようにして得られたマ
イクロカプセル液の固形分濃度は２０％であり、平均粒
径は０．６μｍであった。

【０１５０】 実施例９の感熱性層塗布液 水 ７０ ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ３０ ｇ 合成したマイクロカプセル（３） ５ ｇ ポリヒドロキシエチルアクリレート ０．５ｇ ｐ−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩 ０．３ｇ

【０１５１】 実施例１０の感熱性層塗布液 水 ７０ ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ３０ ｇ 合成したマイクロカプセル（３） ５ ｇ ポリヒドロキシエチルアクリレート ０．５ｇ パラジアゾジフェニルアミン硫酸塩 ０．３ｇ 赤外線吸収染料（Ｉ−３２） ０．１ｇ

【０１５２】 実施例１１の感熱性層塗布液 水 ７０ ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ３０ ｇ 合成したマイクロカプセル（４） ５ ｇ ポリヒドロキシエチルアクリレート ０．５ｇ パラジアゾジフェニルアミン硫酸塩 ０．３ｇ 赤外線吸収染料（Ｉ−３２） ０．１ｇ

【０１５３】実施例９、１０における印刷可能枚数はい
ずれも１５０００枚であり、実施例１１における印刷可
能枚数は２５０００枚であり、マイクロカプセル内に光
熱変換物質を含まない実施例１（９０００枚）に比べ高
耐刷性を示し、さらに反応を開始促進する化合物をマイ
クロカプセル内に入れることでさらなる高耐刷性を示し
た。

【０１５４】実施例１２〜１４ 前記支持体（１）の作成工程によって得られるアルミニ
ウム基板Ａ〜Ｃを用いた以外は、実施例１と同様に、平
版印刷版用原版の作成、画像露光、印刷を行い、その機
上現像性を評価した。なお、機上現像性は、印刷開始か
ら１００枚目の印刷物における１５０線／インチの網点
のシャドー部が、何％まで再現できるかを観察し、その
値が高いほど良好なものとした。結果を下記表−２に示
す。

【０１５５】

【表２】

【０１５６】上記表−２より、支持体として、陽極酸化
処理、さらにはシリケート処理を行ったアルミニウム基
板を用いた方が、機上現像性に優れていることが解っ
た。

【０１５７】

【発明の効果】本発明の平版印刷版用原版は、親水性支
持体上に設ける感熱層中に、画像形成に用いる熱で外壁
が破れ、かつその熱により反応する官能基を有する化合
物を含有しているマイクロカプセルを含有させることに
より、高感度且つ高耐刷性で残色、汚れのない印刷物を
与えることが可能であり、さらに良好な機上現像性を示
し、かつ、より多くの印刷物を得ることができたもので
ある。また、支持体として、陽極酸化処理、さらにはシ
リケート処理を行ったアルミニウム基板を用いることに
より、より良好な機上現像性を示すことができた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/09 Ｇ０３Ｆ 7/09 7/11 7/11 7/26 ５２１ 7/26 ５２１ Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC42 BH00 BJ03 CC11 DA10 DA36 DA40 FA10 2H096 AA06 BA01 CA03 EA04 EA23 2H114 AA04 AA24 BA01 BA10 DA03 DA04 DA05 DA08 DA11 DA34 DA43 DA44 DA46 DA50 DA51 DA52 DA53 DA55 DA60 DA74 DA75 EA01 EA03 EA05 FA18 GA05 GA09

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 親水性支持体上に、画像形成に用いる熱
   で外壁が破れ、かつその熱により反応する官能基を有す
   る化合物を含有しているマイクロカプセルからなる感熱
   層を設け、光熱変換材料を感熱層かその隣接する層に含
   有していることを特徴とする平版印刷版用原版。
2. 【請求項２】 前記親水性支持体が粗面化処理を行なっ
   た後、陽極酸化処理を行なったアルミニウム基板である
   ことを特徴とする請求項１記載の平版印刷版用原版。
3. 【請求項３】 前記アルミニウム基板がさらにシリケー
   ト処理を行なったものであることを特徴とする請求項２
   記載の平版印刷版用原版。