JP4541061B2 - 材料転写方法、プラズマディスプレイ用基板の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、たとえばプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）のように表示領域内に突起物を必要とする基板に関する。より具体的には、転写用凹版を用いた転写方法を利用して基板を製造する技術に関する。

本発明に係る突起物を有した基板が必要となる例として、ＰＤＰを用いて説明をする。ＰＤＰは、一対の基板（通常はガラス基板）を微細な間隔を設けて対向配置し、周囲を封止することによって内部に放電空間を形成した自己発光型の表示パネルである。

一般にＰＤＰには、放電空間を仕切るように、高さ１００〜２５０μｍ程度のリブ（隔壁）が、基板上に周期的に設けられている。たとえば、カラー表示に適した面放電型ＰＤＰには、ＰＤＰを直視した場合にストライプ状のリブが、基板上に、アドレス電極ラインに沿って等間隔に設けられている。このリブによって、放電の干渉や色のクロストークを防止する。

上述の構造をもつＰＤＰ基板の製造法は、基板上にアドレス電極パターンを形成し、その電極パターンに整合（アライメント）させるようにリブを形成してゆくプロセスが一般的である。リブの形成方法としては、さまざまな方法が提案され実施されているが、代表的なものとしては、積層印刷法、サンドブラスト法、埋め込み法、フォトリソ法、転写法などがあり、その中でも、最も低コスト化が期待できる手法として転写法が期待されている。

転写法とは、リブを形成するための溝があけてある転写用凹版を用いて、基板上にリブを形成する方法またはリブと誘電体層とを同時に形成する方法である。手順としては、転写用凹版表面に転写材料を充填した後、充填された転写材料の固化物あるいは硬化物を基板に転写することによりリブおよび誘電体層を形成する（たとえば、特許文献１〜３参照）。

転写法においては、転写用凹版の溝に充填した転写材料の溶媒を除去することにより転写材料を固化し，転写材料の粘着性を利用して、転写材料を基板に転写する粘着転写法（特許文献４参照。）や、転写用凹版と基板との間に紫外線硬化性転写材料を挟み込み、ローラー等により転写用凹版と基板とを互いに押圧させつつ転写材料を延ばして転写用凹版の凹部に押し込み、紫外線を照射して基板に転写材料を接着させる紫外線硬化型転写法（特許文献３参照。）がある。

粘着転写法においては、ペースト状の転写材料を転写用凹版の溝に充填した後に、溶媒を除去して転写材料を固化するため、転写用凹版材料としては硬度の低いものが使用可能であり、転写用凹版の離型時に複雑な形状のリブでも欠損障害が少ない。
特許第３３２１１２９号公報（特許請求の範囲） 特開平８−２７３５３７号公報（特許請求の範囲） 特開２００１−１９１３４５号公報（特許請求の範囲） 特開平１０−３２６５６０号公報（特許請求の範囲）

しかし、粘着樹脂、溶媒、低融点ガラス材料などで構成する転写材料ペーストは、乾燥しすぎると、溶媒だけでなく、粘着性樹脂の一部も分解蒸発もしくは劣化してしまうため、対象となる基板が大型化するにしたがい、転写確率を支配する均一な粘着性を発現させる乾燥条件管理が難しくなる。粘着性が不均一になると、ある部分では転写するに充分な粘着性を有するようになったときに他の部分ではまだ粘着性が不十分であるとか、乾燥が進みすぎて粘着性が失われてしまうと言うような問題が生じることがわかった。

紫外線硬化型転写法に関しては、転写用凹版と基板との間に挟み込まれた転写材料が硬化することにより基板に接着するため、基板に対する接着安定性はよいが、転写材料を挟み込む際に、転写用凹版と基板とを押圧する必要があることから、突起物の形状が乱れないように転写用凹版は硬い必要があり、複雑な形状（とくに急激に曲がるなどの形状）には対応できない問題がある。また、ローラー等により転写用凹版と基板とを互いに押圧させつつ転写材料を延ばして転写用凹版の凹部に押し込む方法では、転写領域の限定が困難であり、ＰＤＰのリブ間が誘電体層でつながれた場合のように突起物が面部分により連結されたものである場合には、リブ間の誘電体層の膜厚設定が困難であることがわかった。

本発明は、上記粘着転写法や紫外線硬化型転写法における問題を解決し、突起物を有する基板を製造する信頼性の高い技術を提供することを目的とする。本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになるであろう。

本発明の一態様によれば、紫外線硬化性転写材料を転写用凹版の溝に充填後、酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気に紫外線硬化性転写材料が露出される条件下で紫外線を照射して、紫外線硬化性転写材料を硬化するとともに、この雰囲気下に露出されている紫外線硬化性転写材料部分に硬化阻害部を形成し、硬化阻害部を基板に接着して、紫外線硬化性転写材料を基板に転写し、突起物を形成することを含む、突起物を有する基板の製造方法が提供される。

接着後、基板または転写用凹版越しに紫外線を照射することを含むこと基板と転写用凹版との少なくともいずれか一方が、紫外線透過性を有すること、酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気が、空気雰囲気または空気と酸素との混合雰囲気または空気とオゾンとの混合雰囲気または空気と酸素とオゾンとの混合雰囲気であり、転写用凹版面に酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む気流を供給して、酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気を形成することを含むこと、紫外線硬化性転写材料が、低融点ガラス材料と光重合性化合物と光重合反応開始剤とを含むこと、光重合反応開始剤がラジカル重合開始剤であること、紫外線硬化性転写材料が、さらに、粘着性物質を含むこと、突起物がストライプ状パターンであることまたはミアンダ（蛇行）状の繰り返しパターンであることまたは格子状パターンであること、突起物が、面部分により連結されたものであること、突起物の高さが１００〜２５０μｍの範囲にあり、突起物の幅が３５〜９０μｍの範囲にあること、面部分の厚さが１０〜３０μｍの範囲にあること、転写用凹版が紫外線透過性を有し、金属枠で囲まれたものであることが好ましい。

本発明の上記態様により、上記した従来技術の欠点を克服することができ、突起物を有する基板を製造する信頼性の高い技術を実現できる。

本発明の他の態様によれば、上記の基板製造方法で製造された基板、この基板を、リブを有する基板として使用した、ガス放電パネルおよび、この基板を、リブを有する基板として使用した、ガス放電パネル表示装置が提供される。

本発明のこれらの態様により、優れた表示品質のガス放電パネルやガス放電パネル表示装置が得られる。

本発明によれば、突起物を有する基板を製造する信頼性の高い技術を提供できる。

以下に、本発明の実施の形態を図、実施例等を使用して説明する。なお、これらの図、実施例等および説明は本発明を例示するものであり、本発明の範囲を制限するものではない。本発明の趣旨に合致する限り他の実施の形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。図中、同一の符号は同一の要素を示す。

図１に従来のＰＤＰの一例の分解図を、図２にその横断面図を示す。図１，２において、人は矢印に沿う方向からパネルを見ることになる。ＰＤＰ１は、前面基板２と背面基板３とが対向する構造を有する。この例では、前面基板２の内側（背面基板３に面する側）に表示電極４、誘電体層５、誘電体層保護のための保護層６が順次積層されており、背面基板３の内側（前面基板２に面する側）に、アドレス電極７、誘電体層８が順次積層されており、その上にリブ９と蛍光体層１０がある。誘電体層８は、図１のような三電極面放電構造の場合で，二つの表示電極間に電圧を印加して表示の為の維持放電を起こさせる方式の場合は設置しなくてもよい場合がある。

誘電体層５とリブ９と蛍光体層１０とで囲まれた放電空間１１にネオンガスやキセノンガス等の紫外線発光用ガスが封入される。ＰＤＰ１は、二つの表示電極間に電圧を印加して放電を起こさせ、紫外線発光用ガスを励起し，元の状態に戻る際に発生する紫外線を利用して蛍光体層１０の蛍光体を発光させることにより、可視光の表示を実現するものである。ＰＤＰにはカラーフィルター、電磁波遮蔽シート、反射防止フィルム等も付設されることが多い。このＰＤＰに電源部やチューナーユニットとのインターフェースを付設することにより、大型テレビジョン装置（プラズマテレビ）のようなガス放電パネル表示装置が得られる。

ＰＤＰの基板には、ソーダライムガラス、高歪点ガラスなどが使用される。アドレス電極には導電性を有する金属ならどのようなものを使用してもよい。通常は，主材料としては，銅や銀等が使用される。誘電体層には低融点ガラス等が使用される。リブ９は低融点ガラスから形成されている。

背面基板３の内側に、アドレス電極７、誘電体層８、リブ９、蛍光体層１０を形成する順序は、たとえば次のようにして行う。まず、図３を参照して、ステップＳ３１のように、背面基板３に一様な金属層を形成する、ついで、ステップＳ３２のように、不要な部分を取り除き、所定のパターンを有するアドレス電極７を形成する。ついで、ステップＳ３３のように、誘電体層８を形成する。ついで、ステップＳ３４のように、低融点ガラスを含むペースト状の転写材料を転写用凹版から転写してリブの形状を形成し、ステップＳ３５のように、この転写材料を焼成してリブとなし、その後、ステップＳ３６のように、蛍光体を塗布する。なお、ステップＳ３３を省略することも可能であり、また、ステップＳ３３を省略し、ステップＳ３４で、リブと共に面部分も形成して、ステップ３５で誘電体層とリブとを同時に得る方法もある。

本発明は、このような、ＰＤＰに代表される、ガス放電パネル、ガス放電パネル表示装置において使用される基板上にリブを突起物として形成するのに好適に適用することができる。ただし、これらの分野に限らず、他の分野においても、基板上に突起物を形成する場合に好適に利用することができる。なお、突起物の立体的形状としては、本発明の趣旨に反しない限りどのようなものでもよい。基板への転写を容易にするため、若干の抜き角を有していてもよい。たとえば図１における直方体形状の場合には、その断面を台形状にすることができる。

なお、本発明において「基板」は、ＰＤＰ等の電子機器の基板に限定されるわけではなく、どのような基板でもよい。基板の材質としては、本発明の趣旨に反しない限りどのようなものを使用してもよい。

また、本発明において、突起物の形成パターンとしてはどのようなものを採用してもよい。図４に示すようなストライプ状の繰り返しパターン、図５に示すようなミアンダ状の繰り返しパターンおよび、図６に示すような格子状の繰り返しパターンを含む場合を例示できる。図４〜６中、符号４１は突起物を、符号４２は突起物以外の地の部分（対象面）を表している。

以下、本発明の紫外線硬化性転写材料転写方法および突起物を有する基板の製造方法について説明する。なお、本発明において「硬化」とは架橋反応による硬化を意味するが、溶媒除去による「固化」も同時に起こる場合も本発明による「硬化」の範疇に属する。

本発明の基板の製造方法によれば、紫外線硬化性転写材料を転写用凹版の溝に充填後、酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気に紫外線硬化性転写材料が露出される条件下で紫外線を照射して、紫外線硬化性転写材料を硬化するとともに、雰囲気に露出されている紫外線硬化性転写材料部分に硬化阻害部を形成し、硬化阻害部を基板に接着して、紫外線硬化性転写材料を基板に転写し、突起物を形成する。

紫外線硬化性転写材料を転写用凹版の溝に充填すると充填物の表面が外部に曝される。そこで転写用凹版を設置する環境を酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気におけば、この充填物の表面が、酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気下に露出されることになり、紫外線照射後、硬化阻害部が充填物の表面およびその近傍に形成される。なお、以下においては、紫外線硬化性転写材料を単に「転写材料」ともいう。

本発明に係る転写材料は、基板上に形成する突起物についての実際上の要求に応じて、紫外線硬化性を有する公知の材料の中から任意に選択することができる。ＰＤＰ用基板上にリブを設ける目的からは、原料転写材料が、低融点ガラス粉末、バインダー等を含むものであることが好ましい。さらに耐熱性酸化物等をフィラーとして加えることもできる。原料転写材料の粘度は、取扱性の容易さから、室温で５０〜１００Ｐ（ポアズ）が好ましい。バインダーには紫外線硬化性を有する有機樹脂が含まれる。紫外線硬化性を有する有機樹脂としてはアクリル系の樹脂やビニル樹脂を例示できる。燃焼性を考えるとアクリル系の樹脂が良く、また、ビニル樹脂としては，ポリビニルアルコールにジアゾニウム塩を添加したＵＶ硬化樹脂などを用いることができる。このように、紫外線で架橋し、硬化する光重合性化合物が好ましい。光重合性化合物は、いわゆるモノマーでもオリゴマーでもプレポリマーでもよい。この際、光重合反応開始剤を共存させてもよい。有機樹脂が光ラジカル反応によって硬化するものである場合は、光重合反応開始剤として、増感剤、ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤を例示できる。

転写用凹版の溝に充填された後に転写材料を硬化させれば、基板上への転写に際し、転写材料の転写用凹版の溝からの剥離（いわゆる脱型）が容易になり、また、形状一体性が向上するため、転写材料が破損し、一部転写用凹版の溝中に残ってしまうような問題を防止することができる。なお、硬化が完全なものではなく、不十分な硬化または半硬化であって，基板上に転写材料が転写された後に充分な硬化を行ってもよい。

更に、バインダーには溶媒を含めてもよい。溶媒としては、テルピネオール、ＢＣＡ（ブチルカルビトールアセテート）などを例示できる。溶媒は原料としての転写材料の粘度を調節することができる。

転写用凹版の材料としては、転写時に成形材料の形状を破壊しないように、やわらかく離型性のすぐれた材料を使用することが好ましい。シリコーンゴムを例示できる。

酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気に転写材料が露出される条件下で紫外線を照射するのは、この雰囲気下に露出されている転写材料の表面部分における硬化反応を酸素やオゾンにより阻害し、露出された表面部分に硬化阻害部を形成するためである。硬化反応が阻害されたことは、転写用材料が全体的に硬化して転写用凹版から転写できる状態になっても、硬化阻害部が粘着性を維持していることから容易に判断できるが、実際には、酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気に転写材料が露出される条件下、転写材料に紫外線を照射すれば、硬化阻害部が形成されたと考えてよい。紫外線照射の時間は、実際の製造条件によって任意に選択することができる。たとえば、１０秒程度から３分程度を例示できる。使用できる紫外線の波長範囲も実際の製造条件によって任意に選択することができる。たとえば３００〜４００ｎｍの範囲を例示できる。

酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気中における酸素やオゾンの濃度は、実際の転写条件に応じて試行錯誤等で容易に定めることができる。このような、酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気を形成するためのベースとなる気体としては、窒素やアルゴンのような転写材料の硬化を阻害しない気体でもよいが、単なる空気でもよい。また、酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気としては、窒素やアルゴンのような転写材料の硬化を阻害しない気体と、酸素、オゾンまたは空気の混合物でもよいが、空気と酸素との混合雰囲気または空気とオゾンとの混合雰囲気または空気と酸素とオゾンとの混合雰囲気でもよい。さらに空気雰囲気そのものでもよい。空気雰囲気または空気と酸素との混合雰囲気または空気とオゾンとの混合雰囲気または空気と酸素とオゾンとの混合雰囲気は、製造環境を複雑化することがなく好ましい。

硬化阻害部をどの程度硬化が阻害されたものとするかは、このような酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気の選択と適切な硬化阻害性を発揮できる転写材料の選択により決めることができる。この選択は実験等を通じて容易に行うことができる。

酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気は、転写用凹版面に酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む気流を供給することで容易に作り出すことができる。

転写材料を酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気下に置くのは、転写用凹版への充填後であれば、紫外線照射の前からでもよいが、一般的には紫外線照射と同時でも充分である。

上記のようにすると、硬化阻害部を基板に接着して、転写材料を基板に転写し、突起物を形成する際に、硬化阻害部が粘着性を有するため、転写材料が基板に強固に接着され、基板に対する優れた接着安定性が得られる。なお、硬化阻害部の粘着性を更に高めるため、転写材料に粘着性物質を含めておいてもよい。この粘着性物質としては、ガラス転移点の低い（−１５０〜６０℃程度）粘着性樹脂が好ましい。

本発明によれば、硬化の進捗状態が場所により異なる様な事態が生じたとしても、硬化の遅い箇所と速い箇所との両方で、硬化阻害部が粘着性を維持できる範囲を容易に見出すことができるため、大型基板の製造が容易になる。

さらに、転写材料全体としては硬化しているため、接着時に圧力を加えたとしても、その影響で転写材料が変形する恐れが少ない。従って、複雑な形状であっても、その形状を変形させることなく、転写することが可能となる。また、たとえ転写材料の硬化の程度が小さく、大きな圧力を加えた場合には変形する恐れが残る場合にも、硬化阻害部が粘着性を有するため、硬化阻害部を基板に接着する際の転写用凹版と基板との間の押圧を最小限にとどめることができ、この点からも形状の保持が容易である。圧力を加える際に、どの程度の圧を加えるべきかは、製造の実状に合わせて決めることができる。

なお、硬化の阻害とは、現象的には、硬化対象の内、阻害されなかった部分が架橋等によりある程度硬化したにも拘わらず、阻害された部分が粘着性を示している未硬化の状態を意味するが、化学反応的には、たとえば、紫外線照射による光重合反応において、酸素が発生したラジカルと反応してこれを消費してしまい、重合活性すなわち硬化活性が失われることと考えることができる。たとえば、転写材料の表層部、すなわち、上記した充填物の表面およびその近傍、における光重合反応ラジカル発生密度を低減して重合速度を下げれば、硬化対象の内、阻害されなかった部分がある程度硬化した段階でも、阻害された部分では、未反応の光重合性化合物が残存し、このため、未硬化のまま、粘着性を示すのである。

硬化阻害を起こしている層はごく表面層だけであり、転写用凹版の溝内の転写材料のその他の部分はすべて硬化することができ、かつ、転写材料の表面は極めて再現性の高い粘着層を形成し得る。また、硬化阻害部であっても、接着転写後の焼成工程において，樹脂成分は焼失するものであるため，問題とはならない。

更に、硬化阻害部であっても、たとえば光ラジカル重合の場合、適正な量のラジカルがあとで発生すれば、再硬化が可能であることから、硬化阻害部による基板への接着後には転写材料が酸素やオゾンと接触しなくなるので、基板または転写用凹版越しに紫外線を照射すると、硬化阻害部が硬化し、膜強度が上がることで、転写の信頼性、歩留まりを更に向上させることができ、好ましい。

また、基板または転写用凹版越しに紫外線を照射すると、転写用凹版内の転写材料について、硬化阻害部とは反対側にある部分にも更に紫外線が照射されることになる。このことにより、たとえば直方体形状の場合のように、比較的鋭い角度を有する部分についても充分な硬化が実現されることになり、形状のトレース性の向上および転写用凹版内部の残渣の減少が図れる。

以上のようにして、硬化阻害部における転写材料が硬化し、転写の信頼性や歩留まりを更に向上させることができる。なお、紫外線が基板または転写用凹版越しに硬化阻害部に到達するためには、基板や転写用凹版が紫外線透過性を有することが必要である。具体的には紫外線透過率が６０％以上であることが好ましい。このためには、基板としてガラス基板を採用することや転写用凹版として透明シリコーンゴムを採用することができる。

また、この紫外線照射の際には、硬化を阻害する必要がなくなる。従って、最初の紫外線照射を、積極的に酸素およびオゾンを含む雰囲気下に行った場合には、基板または転写用凹版越しの紫外線照射、すなわち後の紫外線照射を、積極的に酸素およびオゾンを含ませない雰囲気で行う方が好ましい場合がある。このことは、たとえば、最初の紫外線照射の際には、オゾナイザーで発生させたオゾンを混合した空気を使用し、後の紫外線照射では、オゾナイザーの運転を休止することにより、容易に実現できる。なお、後の紫外線照射の際には、雰囲気下に露出される転写材料部部分がなくなるので、酸素およびオゾンを含む雰囲気下に紫外線照射を行ってもよい。たとえば単なる空気雰囲気下に最初の紫外線照射を行った場合に、後の紫外線照射についてもそのまま空気雰囲気中で行ってもよい。また、最初の紫外線照射の際にオゾナイザーで発生させたオゾンを混合した空気を使用し、後の紫外線照射では、オゾナイザーの運転を休止するときにも、雰囲気中のオゾンがなくなるまで待つ必要がない場合が多い。

突起物としては、どのようなものでもよいが、たとえばＰＤＰの場合には、ストライプ状のもの、ミアンダ状のもの、格子状のものを例示することができる。なお、ストライプや格子の高さは一様であってもよいが、複数の異なる高さが含まれていてもよい。たとえば、直交する格子の高さが段違いになっていてもよい。これらの形状は、転写用凹版の溝の形状によって与えられる。

なお、上記で、転写材料を転写用凹版に充填するに当たって、図７に示すように、転写用凹版７１の溝にのみ転写材料７２を充填すれば、図８のように、基板８１上には突起物８２のみの形状が得られるが、図９に示すように、溝以外の転写用凹版の表面についても転写材料７２をコーティングすれば、図１０に示すように面部分８３で連結された突起物８２を基板８１上に形成することもできる。これは、ＰＤＰにおいて、リブと誘電体層とを同時に形成することに相当する。なお、図７の符号７３および図９の符号９１が、本発明に係る充填物の表面である。

溝以外の転写用凹版の表面についての転写材料のコーティングは、たとえば、一旦転写材料を転写用凹版に充填した後、改めてロールコート法等で所定の厚さの塗膜を形成する方法で容易に実現することができる。このようにすると、上記面部分の厚さの調整が容易になる。本発明において、「充填」には、このようなコーティングも含まれる。

本発明は、幅よりも高さのある形状の突起物の場合に、信頼性の高さがより発揮される。突起物の高さが、１００〜２５０μｍの範囲にあり、突起物の幅が３５〜９０μｍの範囲にあることが好ましい。突起間隔はそれほど重要ではないが、５０〜３３０μｍの範囲が好ましい。また、面部分の厚さが１０〜３０μｍの範囲にあることが好ましい。これらの寸法は、基板上に形成された時のものである。

このようにして、各種の突起物が形成された基板を、信頼性の高い方法で得ることができる。この方法によれば、転写用凹版の離型時に複雑な形状のものでも欠損障害が少なく、また、対象となる基板が大型化しても、転写確率を支配する均一な粘着性を発現させることが容易である。接着時に転写用凹版と基板とを押圧する際に、あまり圧力を要さず、また、転写材料の主要部分については充分硬化させておくことができるため、突起物の形状が乱れにくくなる。複雑な形状への対応も容易である。転写領域の限定も容易である。充分な硬化の後に転写を行えるので、転写用凹版における残渣も少なくなることが期待できる。

さらに、硬化部分に充分な硬度を与えることが容易であるため、接着および転写時における寸法変化が小さく、従って、ＰＤＰのリブ間が誘電体層でつながれた場合のように突起物が面部分により連結されたものであるときにも膜厚設定が容易である。

また、本発明によって製造された基板は、突起物の欠損障害が少なく、転写用凹版の溝内の汚れも少ないことから、長期の使用に際しても突起物の形状再現性に優れており、このような基板を、リブを有する基板として使用した、ガス放電パネルやガス放電パネル表示装置では、優れた表示品質が期待できる。

なお、以上においては、硬化に使用する光線として紫外線を使用したが、本発明は、紫外線に変えて、その他の活性エネルギー線を使用する場合にも適用可能である。その場合においては、たとえば「紫外線硬化性転写材料」を「活性エネルギー線硬化性転写材料」と置き換えて考えればよい。

以下に本発明の実施例を詳述する。

［実施例１］
図１１に本発明の原理図および第一実施例を示す。転写材料としては、低融点ガラス粉体と光重合性プレポリマー、モノマー、および光重合反応開始剤からなる転写材料を混練し、ペースト化したものを使用する。この転写材料は紫外線照射により発生したラジカルがプレポリマーまたはモノマーの重合をおこなうものである。ラジカルは化学的に非常に活性であるため、雰囲気内に酸素やオゾンがある場合には酸素やオゾンとラジカルが反応し、重合に寄与するラジカルが減少し、結果、プレポリマー、モノマーが重合できず未硬化（硬化阻害の状態）となる。

本実施例においては、転写用凹版に転写材料を充填後、酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気下で転写材料に紫外線を照射することにより、転写材料の表面に故意に硬化阻害部を設ける。図１１は、支持台１１２上に置かれた転写用凹版７１の溝に充填された転写材料７２が、酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気下、紫外線照射機１１１から紫外線を照射することにより、硬化すると共に、その表面に故意に硬化阻害部を設けている様子を模式的に示している。雰囲気内にオゾナイザ１１３を設置して紫外線照射雰囲気をオゾン含有雰囲気とすることで硬化阻害を促進させることができる。オゾン含有雰囲気は送風機の併用により効果的となる。なお、紫外線の照射方向はどのようなものでもよい。転写用凹版が紫外線透過性を有する場合は、図１３に示すように、転写用凹版の背後から転写用凹版越しに紫外線照射してもよい。もちろん図１３の下側から照射してもよい。

このようにして硬化阻害部を生成した転写材料を持つ転写用凹版は、ついで、転写用凹版の硬化阻害部のある面を基板に対向させ、基板に転写材料を転写する。図１２は、支持台１２１状に置かれた基板８１に対向して転写凹版７１を置き、その背面にあるローラー１２２により、押圧することにより、転写材料の硬化阻害部を基板８１に接着せしめ、転写材料を転写凹版７１から基板８１に転写しつつある状態を模式的に示したものである。

転写材料表面は硬化阻害によりベタつくため、それ自体で粘着力があり、接着による粘着転写が可能である。なお、この粘着強度をより増加したい場合には、ガラス転移点の低い（−１５０〜６０℃程度）粘着性樹脂を粘着性物質として添加することが効果的である。

［実施例２］
本例は、実施例１の転写に際して、さらに、基板の背面から基板越しの紫外線照射を行い、硬化を促進する例である。この目的のためには、基板が紫外線透過性を有することが必要である。図１２の装置をこの目的に使用することもできる。すなわち、図１２の矢印に示すように、基板の背面から基板越しの紫外線照射を行い、硬化を促進する。この場合、基板の背面に当たる支持台部分についても紫外線透過性が必要である。転写用凹版が紫外線透過性を有する場合は、その代わりに、転写用凹版の背後から転写用凹版越しに紫外線を照射してもよい。

［実施例３］
本例は、転写用凹版の背面から紫外線を照射する方法について具体的に説明するものである。図１４−Ａ，１４−Ｂは、それぞれ、その例示用の模式的平面図と模式的横断面図である。図１４−Ａ，１４−Ｂでは、転写用凹版の転写領域（溝形成領域）１４１を透明シリコーンゴムで作製し、平面方向の伸びを抑え、寸法精度を補償するためにＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム１４２（図１４−Ａでは点線で示してある）を積層して転写用凹版とした。さらに。この転写用凹版を転写用の装置に設置する際に、重力や引っ張り等の外力により平面寸法が変化しないように、転写用凹版の転写領域１４１を囲むようにして、ステンレス鋼シート１４３をＰＥＴフィルム１４２と部分的に重ね合わせて補強しておく。このステンレス鋼シートには、転写領域部に穴１４４が開いている状態となり、転写用凹版１４１を囲む枠となっているので、転写用凹版背面側からの紫外線照射が可能である。なお、本構成において、同時に、転写用材料が充填されている側からの紫外線照射を行ってもよいことは言うまでもない。

このようにして構成された転写用凹版は図１５のようにして両側にあるテンション付与するための枠１５１に張力を掛けて張りつければ、転写領域に歪みを生じることなく、平面状の転写凹版を実現することができる。このとき、張力のレベルを適宜選択することにより、図１２に示したようなローラーによる押圧が可能であり、所望の形状を保ったまま転写用材料の転写を行うと共に、転写用凹版越しの紫外線照射を行うことができる。なお、使用材料に関しては、本発明の目的に反しない限りどのようなものでもよく、上記のシリコーンゴム、ＰＥＴフィルム、ステンレス鋼に限定されるわけではない。上記枠用のステンレス鋼の代わりに任意の金属を使用することも可能である。

なお、本実施例１から本実施例３においては、あくまでＰＤＰ用の基板に転写材料を転写して隔壁（突起物）を形成する例であったが、転写用凹版の凹部が、凹版上部あるいは下部から見てどのような形状であっても本願発明が利用できることは言うまでもない。例えば、図１６は転写用凹版に転写材料を充填した図であるが、凹部が複数の突起物を形成するような形状ではなく、凹版上部（図１６のＡ方向）あるいは凹版下部（図１６のＢ方向）から見て広い方形であることを示している。また、図１７と図１８は、図１６の転写材料を基板に転写したものを示す図である。図１７のＣ方向から見たものが図１８であり、図１８のＤ−Ｄ’の断面図が図１７となる。凹版の上部から見た凹部の形状は方形に限らず、三角形でも、円形でも構わず、本願が凹版上部から見た凹部の形状に依存しないことは明らかである。また、凹部の深さが部分的に異なっていても構わない。なお、凹部の断面形状は、方形状か台形状か三角形状か半円形状が転写に好ましいことは言うまでもない。

ＰＤＰの一例の模式的分解図である。 ＰＤＰの一例の模式的横断面図である。 ＰＤＰ用基板にリブを形成する順序を示すフロー図である。 ストライプ状の突起物のパターンを示す模式図である。 ミアンダ状の突起物のパターンを示す模式図である。 格子状の突起物を示す模式図である。 転写用凹版の溝にのみ転写材料を充填した様子を示す模式的横断面図である。 基板上に突起物のみの形状が転写された様子を示す模式的横断面図である。 転写用凹版溝とともに、溝以外の転写用凹版の表面についても転写材料がコーティングされた様子を示す模式的横断面図である。 基板上に面部分で連結された突起物の形状が転写された様子を示す模式的横断面図である。 紫外線により、転写材料を硬化させつつ、硬化阻害部を形成する様子を模式的に示す側面図である。 転写材料を、転写用凹版から基板に転写する様子を模式的に示す側面図である。 紫外線により、転写材料を硬化させつつ、硬化阻害部を形成する様子を模式的に示す他の側面図である。 転写用凹版の背面から紫外線を照射するための転写用凹版の模式的平面図である。 転写用凹版の背面から紫外線を照射するための転写用凹版の模式的横断面図である。 図１４の転写用凹版に張力を掛けた様子を示す模式図である。 転写用凹版の溝にのみ転写材料を充填した様子を示す模式的横断面図である。 基板上に転写材料が転写された様子を示す模式的横断面図である。 基板上に転写材料が転写された様子を、基板上部から示す図面である。

符号の説明

１ ＰＤＰ
２ 前面基板
３ 背面基板
４ 表示電極
５ 誘電体層
６ 保護層
７ アドレス電極
８ 誘電体層
９ リブ
１０ 蛍光体層
１１ 放電空間
４１ 突起物パターン
４２ 突起物以外の地の部分
７１ 転写用凹版
７２ 転写材料
７３ 充填物の表面
８１ 基板
８２ 突起物
８３ 面部分
９１ 充填物の表面
１１１ 紫外線照射機
１１２ 支持台
１１３ オゾナイザー
１２１ 支持台
１２２ ローラー
１４１ 転写領域
１４２ ＰＥＴフィルム
１４３ ステンレス鋼シート
１４４ 穴
１５１ 版枠

Claims (5)

1. 転写用凹版の凹部に充填した転写材料を、基板上に転写する材料転写方法において、
   酸素とオゾンの少なくともいずれか一方を含む雰囲気下では、紫外線を照射しても硬化せず、かつ、未硬化の状態で粘着性を有する紫外線硬化性転写材料を用意し、
   前記転写材料を前記転写用凹版の凹部に充填した後に、雰囲気内に設置したオゾナイザと送風機とを起動させた状態でオゾン含有雰囲気下で、前記転写材料に紫外線を照射する第１照射工程により、前記転写用凹版から露出した部分以外を硬化させ、
   前記転写材料の未硬化部を前記基板に接着して、当該転写材料を当該基板上に転写させた後に、前記オゾナイザと前記送風機とを停止させた状態で、前記第１照射工程よりも前記オゾンの含有率を低くした雰囲気下で、紫外線を照射する第２照射工程により、前記転写材料の前記未硬化部分を硬化させることを特徴とする材料転写方法。
2. 前記基板と前記転写用凹版の少なくともいずれか一方が、紫外線透過性を有し、前記転写材料の前記未硬化部を前記基板に接着した状態で、当該基板または転写用凹版越しに紫外線を照射して、前記未硬化部を硬化することを含む、請求項１に記載の材料転写方法。
3. 前記転写材料が、低融点ガラス材料と光重合性化合物と光重合反応開始剤とを含む、請求項１または請求項２に記載の材料転写方法。
4. 請求項３に記載の転写材料に含まれる光重合反応開始剤がラジカル重合開始剤であることを特徴とする請求項３に記載の材料転写方法。
5. 請求項１乃至４に記載の転写方法を含み、前記転写材料が放電空間を仕切るためのリブとして基板上に形成されることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用基板の製造方法。

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