JP2834004B2 - 流体の汚染レベルの監視方法および装置 - Google Patents
流体の汚染レベルの監視方法および装置Info
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Description
御に関し、特に液圧システムおよび潤滑システムにおけ
る流体汚染レベルの連続的インライン監視のための方法
および装置に関する。
制御がシステムの信頼性において重要な役割を果たすも
のであるということが、液圧システムおよび潤滑システ
ムの設計および動作においてこれまで認識されてきた。
砂、塵埃、金属片等の固体粒子の汚染物質は、製造時や
システムの完全性が断たれた際にシステムに侵入した
り、システム部品の浸食や摩滅の結果として生じるもの
である。数多くの理由により、気泡および水滴が流体中
で飛沫同伴化する(entrained)可能性があり、これは、
システム部品の損傷および腐食を引き起こし得るものと
なる。汚染制御装置を適切に選択して配設することによ
り、システム故障の最大80%を占める本質的な原因を排
除することができる。更に、適当なフィルタまたは他の
汚染制御装置の正しい選択およびその配設と組み合わせ
て、目標清浄レベルを適切に識別するということは、性
能の改善、部品の長寿命化、オイルの長寿命化、システ
ムの耐用時間の長期化、および修理の低減等の救済策に
より、そのフィルタおよび装置の損失を迅速に回復させ
ることを可能にする。
を、システムの所望の使用寿命中にそのシステム内の部
品の故障要因となり得る汚染レベルかそれ以下に維持す
ることが目標とされる。この目標を達成するための第1
ステップは、システムに関する詳細な必要性および部品
を考慮した目標清浄レベルの識別および設定をシステム
の設計段階で行うことである。この目標汚染レベルは、
部品設計およびシステム動作特性により決定される。例
えば、高流体圧で動作するシステムの場合には、低流体
圧で動作するシステムの場合よりも目標清浄レベルが一
般に高く(小さい数)、従って、許容可能な汚染濃度レ
ベルが一般に小さいことになる。第2ステップは、コス
ト効率の良い態様で目標清浄レベルを維持することがで
きるように、フィルタその他の汚染制御装置の選択およ
び配設を行うことである。第3ステップは、所望の目標
清浄レベルが維持されていることを確認することであ
る。システム汚染制御に関する詳細な説明については、
「Vickers Guide to SystemicContamination Control」
(Vickers, Incorporated, December 1992)を参照された
い。本発明は、特に、第3ステップ、即ち、流体汚染制
御に対するシステム的な方法における流体監視ステップ
に関するものである。
ムからその動作中に流体サンプルを得て、そのサンプル
を研究室に送ることにより行われる。その研究室は、既
に確立されている標準データ形式(例えばISO規格44
06)を有する清浄性データという形で清浄レベルを分析
して報告する。目標清浄レベルが満たされている場合に
は、標準的なフィルタ保守および周期的な流体検査が続
行される。また、目標清浄レベルが満たされていない場
合には、保守実施方法の変更、および恐らくはフィルタ
の追加または再配置が許可される可能性がある。この汚
染レベルを監視するための従来の技術は、研究室での検
査結果を得るまでに数時間または数日を要するものであ
り、このため、問題が一層深刻になる前に補正動作を開
始させることができるように、汚染レベルの精確な指示
をリアルタイムで提供するということに関して多くの要
望が存在する。
的な目的は、流体の清浄性を監視して流体清浄レベルの
連続的な指示をリアルタイムで提供するために流体流路
中に1つ以上のセンサが配設されている液圧、潤滑その
他の流体システムにおける流体の清浄性の順向(proacti
ve)保守のためのシステムおよび方法を提供することに
ある。本発明の別の一層詳細な目的は、流体汚染レベル
の監視方法およびその装置であって、消耗部品を含ま
ず、システム中での配置に関して向上した柔軟性を有
し、実質的に流体の流れを制限することがなく、3つの
主なタイプの汚染(固体粒子、水滴、気泡)の全てに対
して義務履行能力を有し、連続的な無人監視をリアルタ
イムで提供し、異なる目標清浄レベルを検出するために
現場で容易にプログラムすることでき、ISOコード
「+1」または「−1」の感度を有しており、および/
または、システムポンプその他の流体用部品が悪影響を
受ける前に汚染濃度レベルの変化をユーザに警告する、
流体汚染レベルの監視方法およびその装置を提供するこ
とにある。本発明の別の一層詳細な目的は、製造が経済
的であり、新規のまたは既存の工業用または自動車用流
体システムの何れにも容易に装着可能な、上記特徴を有
する流体汚染レベル監視装置を提供することにある。
ベルの監視装置は、流体サンプル経路中を流れる流体中
に光エネルギーを向けるために流体サンプル経路の一方
の側に配置された光源と、そのサンプル経路の同じ側に
配置された光検出手段と、サンプル流体を通って搬送さ
れた前記光源からの光を受けて、その光をサンプル流体
を通して前記光検出手段へと反射し戻すためにサンプル
経路の対向側に配置された反射器とを備えている。光検
出手段は、流体を2回通過した後にその光検出手段上に
入射した光源からの光の強度の関数としての電気信号を
提供し、流体中の汚染の濃度またはレベルが前記電気信
号の関数として指示される。従って、流体を通した光エ
ネルギーの伝搬を消失させる(散乱、吸収、または阻止
する)汚染の濃度は、光検出手段における光強度の逆関
数として指示され、それをプリセット目標しきいレベル
と比較して、不所望に高い汚染レベル(即ち、設計上の
目標汚染レベルに近づきまたはそれを越えるレベル)を
指示することができる。
ーバから前記ポンプおよびシステムの様々な部品を通っ
て前記流体リザーバ自体へと戻る閉経路中で流体を循環
させるための配管とを備えた流体システムにおいて、本
発明の監視装置は好適には、光源と光検出手段と適当な
制御用電子装置とを収容したハウジング、および、その
ハウジングから前記リザーバの上流側のポンプ入口中へ
と延びる細長い中空プローブ、という形態をとる。一対
の光学窓が、前記ハウジングから離して前記中空プロー
ブ内に配設され、その中空プローブの側壁の開口部によ
り前記窓間の領域に流体が通される。前記反射器は、前
記窓の対向側でプローブ中に配設され、前記光源および
前記光検出手段から離れて前記窓の外側表面上に設けら
れた反射被覆、または、そのような離れた窓に隣接して
配置された別個の再帰反射器という形態をとることが可
能なものである。前記窓は、サンプル流体を通って光エ
ネルギーが両方向に伝搬する際にそのサンプル流体の経
路中の一点に光エネルギーを集束させるように平凸レン
ズにより構成可能なものである。光エネルギーは、別個
の光ファイバにより光源および光検出手段との間でプロ
ーブを通って伝搬させることが可能なものであり、また
は、共通の光路に沿って伝搬させ、光源および光検出手
段のところでビームスプリッタにより分割することが可
能なものである。本発明の様々な実施例では、前記ビー
ムスプリッタは、光エネルギーの偏りを回転させ、これ
により光検出器上に入射した光エネルギーから光源から
の光エネルギーを分離させる、偏光ビームスプリッタお
よび四分の一波長板という形態をとること、または、伝
搬して戻る光エネルギーを分離させるためのホログラム
および回折格子を備えたホログラフ式光ピックアップと
いう形態をとることが可能なものである。
の光エネルギーを伝送するレーザダイオードから構成さ
れる。これは、光学系が周囲光による影響を実質的に受
けないようにし、また流体が古くなった際の流体色の変
化による影響も実質的に受けないようにする、という利
点を有する。好適実施例では、光検出手段が汚染物質を
区別せずに全てのタイプの汚染物質に同時に応じること
ができるように、レーザダイオードにより伝送された全
ての波長の光が光検出手段で収集されて効果的に統合さ
れる。代替的には、異なるタイプの汚染物質を検知する
ように、光検出手段上に入射する前に戻り光エネルギー
を波長の関数として分離させることが可能である。本発
明の方法および装置は、液圧および潤滑流体システムに
関する特定用途を見い出したものであるが、水/グリコ
ールおよびリン酸エステル流体循環システムに関連して
用いることも可能である。
利点と共に、以下の詳細な説明、特許請求の範囲、およ
び図面を参照することにより、最も良好に理解されよ
う。
ide to Systemic ContaminationControl」(Vickers, In
corporated, December 1992)については、上記引用をも
ってその開示内容を本明細書に包含させたものとし、そ
の詳細な説明は省略することとする。
域を有する流体リザーバ12を備えたものとして液圧シス
テム10を示している。ポンプ16は、リザーバ12の中央区
域から流体を吸い込み、その加圧下にある流体をリリー
フバルブ18を介して液圧装置20の様々な構成要素へと供
給する。流体は、液圧装置20からフィルタ22を介してリ
ザーバ12の一端の区域へと戻される。リリーフバルブ18
は、リザーバ12の他端の区域へと流体を戻す。これまで
説明してきた範囲内では、液圧システム10は、従来の構
成を有するものである。本発明による汚染監視装置24
は、ポンプ16の入口に隣接してリザーバ12内の流体中へ
と延びるようにリザーバ12上に取り付けられ、汚染レベ
ルを表示するためのおよび/または汚染レベルが過度に
なった場合にシステムの構成要素を制御するための適当
な電子装置26に接続されている。
じたハウジング28を示すものであり、前記プローブ30
は、前記ハウジング28の一側壁に固定されてそこから突
出している。プローブ30は、ハウジング28に隣接して雄
ネジ32を有しており、これは、リザーバ12(図1参照)
上部の雌ネジが切られたグランド(図示せず)中に監視
装置アセンブリを取り付けるためのものである。光透過
性を有する一対の窓34,36は、ハウジング28から離して
プローブ30内に取り付けられ、プローブ30の側壁内の直
径方向で対向する開口部38を介して前記一対の窓34,36
の間に流体を通すように互いに隔置されている。レーザ
ダイオード40は、ハウジング28内に取り付けられ、光フ
ァイバ42と位置合わせされている。その光ファイバ42
は、前記ダイオード40からの光をプローブ30の内部を通
って窓34へと長手方向に伝搬させるものである。第2の
光ファイバ44は、プローブ30の内部を通って延び、窓34
からの光をハウジング28内の光検出器46へと伝搬する。
再帰反射器48は、プローブ30におけるハウジングからの
遠隔端部で窓36に隣接して配置され、窓34における光フ
ァイバ42,44の端部と位置合わせされた反射面50を有し
ている。一対の回路基板52,54は、ハウジング28内に取
り付けられ、ダイオード40および光検知器46に電気的に
接続されている。回路基板52,54は、光検知器46におけ
る光エネルギーに応じて流体汚染レベルを決定し、それ
に対応する出力信号を、表示/制御用電子装置26(図1
参照)への接続用のハウジング28外部の端子ストリップ
56に供給する、電気回路(図3参照)を備えている。
開口部38を通って連続的に流れる。光エネルギーは、ダ
イオード40から光ファイバ42を通って窓34へと伝搬し、
そこで、その光エネルギーは、窓34を通り、窓34,36間
の流体を通り、および窓36を通って反射器40へと伝搬す
る平行ビームとして現れる。かかる光エネルギーは、反
射器48の表面50により反射されて、窓36を通り、窓34,3
6間の流体を通り、および窓34を通って、光ファイバ44
へと戻る。かかる反射された光エネルギーが、光ファイ
バ44により光検知器46へと伝搬され、その光検知器46
が、それ自体に入射した光の強度を示す電気信号を提供
する。従って、流体を直接通って双方向に伝搬した光エ
ネルギーのみが光検知器46に入射し、換言すれば、流体
またはその流体中に含まれる汚染物質により消失された
(即ち、吸収、散乱、または阻止された)光エネルギー
が光検知器46に達することはない。ダイオード40と光検
知器46との間で検査流体サンプルを2回通過することに
より、汚染監視装置24の感度が効果的に2倍になる。
終的には光検知器46により生成される電気信号は、窓3
4,36間の流体内の固体粒子、気泡、および水滴による汚
染物質の濃度の逆関数となり、このため、汚染濃度レベ
ルの直接的な指示が提供される。即ち、それら3タイプ
の汚染物質のうちのいずれか1つ以上の濃度が流体中で
上昇すると、その汚染物質により消失される光の量が増
大し、最終的にはサンプルを2回通って伝搬されて光検
知器46に入射する光の量が減少することになる。一方、
窓34,36間の流体の体積は一定のままであり、流体自体
により吸収される光の量は実質的に一定のままである。
この点で、近赤外線範囲内の光を使用することにより、
システムが、周囲の迷光の影響を受けることが実質的に
なくなるだけでなく、流体が古くなった際にそれ自体に
生じる通常の色変化の影響を受けることが実質的になく
なる、ということが理解されよう。光検知器46の電気的
な出力信号は、比較回路58(図3参照)へと供給され、
その比較回路58において、前記電気信号が、所望の目標
汚染レベルを示す所定のしきい値60と比較される。汚染
レベルが前記目標汚染レベルを越えて増大した場合に
は、比較回路58がそれに対応する信号を出力端子ブロッ
ク56に提供し、従って、その信号は、その出力端子ブロ
ック56に接続されている表示および/または制御回路26
(図1参照)へと供給される。
なるシステムの目標汚染レベルと等しい)汚染レベルを
有する検査用流体を窓34,36間に送ることにより較正さ
れる。その検査用流体は、異なるタイプの汚染物質を含
むものであり、即ち、所望の目標汚染レベルに対応する
濃度であると経験的に分かった濃度の「標準汚染物質」
を含むものである。次いで、比較器58が出力56に目標汚
染レベルを示すまで、しきい値回路60が調節される。そ
の後、動作中に、総汚染レベルが前記目標汚染レベルに
達した際には必ず前記出力が得られることになる。勿
論、汚染物質のサイズ、タイプ、およびソースを決定す
るために、流体の汚染物質の更なる分析が必要となる場
合がある。
装置の修正例を示すものである。これらの図では、図2
および図3で用いた符号と同じ符号は同一の構成要素を
示し、添え字を有する符号は修正された構成要素を示し
ている。図4において、修正された汚染監視装置62は、
レンズ66により平行化されたダイオード40からの光エネ
ルギーを反射してプローブ30を通って窓34へと送り、そ
の戻り光エネルギーを光検知器46上へと伝搬させる、ビ
ームスプリッタ64を備えている。窓34,36は、その個々
に係合するシールリング70を有するカラー68により互い
に隔置されている。開口部38aは、窓34,36間に流体を通
すようにカラー68の直径方向の対向側に形成されてい
る。この実施例における再帰反射器は、窓36の外面上に
設けられた反射被覆48aという形態をとっている。従っ
て、ダイオード40からの光エネルギーは、レンズ66によ
り平行化され、ビームスプリッタ64により反射されて、
プローブ30の中空内部を通り、窓34を通り、窓34,36間
の流体を通り、窓36を通って、反射層48a上へと進む。
かかる光エネルギーは、反射されて、窓36を通り、窓3
4,36間の流体を通り、窓34を通り、プローブ30の中空内
部を通り、ビームスプリッタ64を通って、光検知器46へ
と送られる。
タ64a、および、そのビームスプリッタ64aとプローブ30
の中空内部との間に配設された四分の一波長板64bを備
えたものである。従って、ダイオード40からの光エネル
ギーの偏りが四分の一波長板64bを通過する度に90゜だけ
回転され、伝搬される光エネルギーと戻される光エネル
ギーとを分離するよう偏光ビームスプリッタ64aが機能
するようになっている。戻り光エネルギーは、集束レン
ズ74を通って光検知器46に送られる。図5の実施例にお
ける窓34a,34bは、平凸レンズという形態をとったもの
であり、この場合も、窓34bは、その外面上に被覆48bと
して形成された再帰反射器を有している。従って、入射
および戻り光エネルギーは、レンズ/窓34a,34bによ
り、その窓の間のサンプル空間内の一点に集束される。
ード40aおよび光検知器46aが、ホログラフ式光ピックア
ップによるビームスプリッタ中に組み込まれている。ピ
ックアップ78内のホログラフ要素80は、ホログラム82お
よび回折格子84を有し、それらが共に通常の態様で機能
して、光検知器46上に集束される戻り光エネルギーか
ら、ダイオード40により放射される光エネルギーを、分
離または隔離する。
は、戻りエネルギーの全てが光検知器46上に集束され、
その光検知器がダイオードにより放射される近赤外線波
長の全波長の戻り光エネルギーに応じるようになってお
り、異なるタイプの汚染物質を区別することはない。図
7に示す修正された電子回路86では、光検知器上に入射
する戻り光のうちの1つ以上の特定波長帯域を選択する
ために、回転可能またはチルト可能なフィルタ要素等の
波長選択機構88が、光検知器46に隣接して配設されてい
る。このようにして、光検知器は、特定波長の光エネル
ギーを吸収する特定タイプの汚染物質を選択的に検知可
能なものとなる。多数の比較器58aは、波長選択機構88
の動作と同期がとられ、これにより、選択された波長ま
たは波長帯域の各々における戻り光エネルギーがそれに
関するしきい値60aと比較され、それに対応する信号
が、特定の汚染物質が所望のしきい値または目標レベル
を越えた際に出力端子ブロック56aに出力される。
体の清浄性を監視して流体清浄レベルの連続的な指示を
リアルタイムで提供するために流体流路中に1つ以上の
センサが配設されている液圧、潤滑その他の流体システ
ムにおける流体の清浄性の順向(proactive)保守のため
のシステムおよび方法を提供することができる。
装置を備えた液圧システムを示す概略図である。
分断面図である。
ある。
図である。
図である。
図である。
ブロック図である。
Claims (5)
- 【請求項1】流体の汚染レベルを監視する装置(72,76)
であって、この監視装置が、 細長いプローブ(30)と、 前記プローブの第1の端部に隣接し、前記プローブと直
交する方向に前記プローブを通るサンプル流体の流路を
提供する、第1の手段(38,38a)と、 前記プローブの第2の端部に配置され、平行化された光
エネルギーを前記流路に向かって前記プローブ内の光路
に沿って送る、光源(40,40a)と、 前記光源と対向する前記流路の側で前記プローブの前記
第1の端部に配置された再帰反射手段(48b,48c)と、 前記光源と前記流路との間で前記プローブ内に配置さ
れ、前記流路を通して前記再帰反射手段へと光を送り、
前記再帰反射手段からの光を前記流路を再び通った後に
受容する、第2の手段(34,34a,34b)と、 前記光源と前記第2の手段との間で前記光路中に配置さ
れ、前記再帰反射手段により反射された光エネルギーを
前記光路から分離する、第3の手段(64a,64b,64c)と、 前記プローブの前記第2の端部に配置され、前記第3の
手段によって前記光路から分離された光エネルギーを受
容し、該光エネルギーの関数として前記流路中の流体の
汚染レベルの指示を与える、光検知手段(46,46a)とを備
えており、 前記第2の手段(34,34a,34b)が、前記再帰反射手段(48
b,48c)と協働して、前記光源からの平行化された光エネ
ルギーを前記流路中の一点に集束させ、次いで該光エネ
ルギーが前記再帰反射手段上へ送られ、該再帰反射手段
が前記流路中の前記と同一の点へと前記光エネルギーを
反射し及び再集束させ、次いで前記第2の手段へと送ら
れて、前記第3の手段への前記プローブ中の前記光路と
同一の光路に沿った再平行化及び戻り通路が提供される
ことを特徴とする、前記汚染レベル監視装置。 - 【請求項2】前記第3の手段(64c)が、前記光路中に直
列に配置されたホログラム(82)及び回折格子(84)を備え
ている、請求項1記載の汚染レベル監視装置(76)。 - 【請求項3】前記第3の手段が、前記光路中に直列に配
置されたビームスプリッタ(64a)及び四分の一波長板(64
b)を備えている、請求項1記載の汚染レベル監視装置(7
2)。 - 【請求項4】前記第2の手段が、前記流路の反対側に配
置され前記流路内に共通の焦点を有する一対の平凸レン
ズ(34a,34b)を備えている、請求項3に記載の汚染レベ
ル監視装置(72)。 - 【請求項5】前記再帰反射手段が、前記光源から離れた
方の前記平凸レンズ(34b)の表面上に反射性被覆(48b)を
備えている、請求項4記載の汚染レベル監視装置(72)。
Applications Claiming Priority (2)
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