[go: up one dir, main page]

JP2610049B2 - シラン含有排ガスからのシラン化合物の除去方法 - Google Patents

シラン含有排ガスからのシラン化合物の除去方法

Info

Publication number
JP2610049B2
JP2610049B2 JP1215133A JP21513389A JP2610049B2 JP 2610049 B2 JP2610049 B2 JP 2610049B2 JP 1215133 A JP1215133 A JP 1215133A JP 21513389 A JP21513389 A JP 21513389A JP 2610049 B2 JP2610049 B2 JP 2610049B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silane
exhaust gas
solution
sodium
alcoholate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1215133A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH02102712A (ja
Inventor
ラインホールト・シヨルク
ラインハルト・マツテス
ハンス‐ヨアヒム・フアーレンジーク
Original Assignee
ヒユールス・アクチエンゲゼルシヤフト
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ヒユールス・アクチエンゲゼルシヤフト filed Critical ヒユールス・アクチエンゲゼルシヤフト
Publication of JPH02102712A publication Critical patent/JPH02102712A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2610049B2 publication Critical patent/JP2610049B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はシラン含有排ガスからシラン化合物を除去す
る方法に関する。
〔従来の技術〕
洗滌を受けなければならないシラン含有排ガスは今
日、例えばケイ素化合物の製造の際、ケイ素化合物の移
替の際、シラン含有ガス混合物の製造及び移替の際及び
半導体製造の際のように多くの工業分野で生じる。
焼却または洗滌塔での洗滌のような慣習的廃却物処理
方法は技術的実施及び公害が関係する大きな問題を引き
起す。
焼却の場合には、焼却ガスから分離の困難な、非常に
細かいケイ酸が発生する。排ガスの中にクロルシランが
含まれているときは、焼却ガスの中にHCl及びCl2が生
じ、従つて焼却に続いてさらに排ガス処理を行わねばな
らない。水性の洗滌塔系を使用するときは、そこにケイ
化により、塩化シランの場合は酸性排水による問題が発
生する。モノシランは水によつて非常に緩やかに加水分
解されるにすぎないので、ここでさらにアルカリ性洗滌
を行わなければならない。
〔本発明が解決しようとする課題〕
従つて本発明の課題は上述の欠点を有しない、シラン
含有排ガスからシラン化合物を除去する方法を見出すこ
とであつた。
〔課題を解決するための手段〕
前記課題は本発明により、シラン化合物をアルコール
性溶液中でナトリウムアルコラートでテトラアルコキシ
シランに転化させることによつて解決される。
本発明による方法の場合は前記シラン化合物は完全に
テトラアルコキシシランに転化される。該テトラアルコ
キシシランはアルコキシシラン製造元で後処理して市販
することができる。
実際には有利にはアルコール性ナトリウムアルコラー
ト溶液を充填塔を介して循環させる。
本発明による方法は並流または向流で運転することが
できる。有利にはシラン含有排ガスをナトリウムアルコ
ラート溶液に向流で導びく。
有利には本発明による方法ではメタノール中のナトリ
ウムメチラートまたはエタノール中のナトリウムエチラ
ートを使用する。アルコール中の金属アルコラートの濃
度は有利には5〜30重量%である。
本発明による方法を使用して次の化合物を除去するこ
とができる。すなわち SiHnX4-n;n=0〜4、X=F、Cl、Br. SiHn(OR)4-n;n=1〜3、R=CH3、C2H5、C3H7. Si2H6及び高級シラン、例えばトリシラン。
有利には本方法はモノ及びジシランを含有する排ガス
の際に使用する。シランの除去の際は反応は例えば次式
に従い進行する。すなわち、 メタノール中のナトリウムメチラートの使用は特にコス
ト的に有利である。
該排ガスがただSi−H化合物のみを含有するときは、
反応生成物としてテトラアルコキシシラン及び水素のみ
を得る。すなわち消耗されるのは単にアルコールだけ
で、前記アルコラートは触媒的に作用するだけである。
従つて循環する溶液にはただ消耗されるアルコール及び
テトラアルコキシシランと共に放出されるアルコラート
は調合されなければならない。
上記記載の一般的化学式のアルコキシシランとアルコ
ールとの反応はナトリウムアルコラートによる触媒的作
用下に前記記載の式に相応しシランの反応に類似しテト
ラアルコキシシラン及び水素を生成しながら進行する。
ハロゲンを含有するシランとしてはシラン含有排ガス
ではたいていテトラクロルシラン、トリクロルシラン、
ジクロロシラン及びモノクロルシランが生じる。シラン
除去の反応はたとえば次の式に従つて進行する: SiH2Cl2+2NaOCH3+2CH3OH →Si(OCH3+2H2+2NaCl ハロゲン含有のシランは別の反応生成物として金属ハ
ロンゲン化物を産出する。この際アルコールと並んで、
シランの塩素含有量に相応して、アルコラートが消耗さ
れる。
〔実施例〕
さらに本発明を本方法を実施するための装置の添付図
面ならびに実施例により詳細に説明する。
アルコール性ナトリウムアルコラート溶液は導入管7
及びポンプ6を介して充填塔1に供給される。シラン含
有排ガスは例えば導入管4を介して導入される。従つて
この実施態様ではシラン含有排ガスはアルコラート溶液
に対し向流である。排ガス冷却部3及び排ガス導管5を
介して清滌化された排ガスは該塔を出る。前記冷却部に
は、例えば−40℃の温度を有する冷媒を貫流させる。導
入管10を介して該システムは不活性ガス例えば窒素で覆
われる。また排ガス冷却部3では不活性ガスによつて連
行された溶剤及び/またはアルコキシシランが凝縮す
る。アルコール性金属アルコラート溶液は容器2に集め
られ、該容器はまたクロルシラン含有排ガスの処理の際
のNaClの沈降容器として及び排ガス冷却部3からの凝縮
物のための捕集容器として使用される。アルコール性ナ
トリウムアルコラート溶液は導出管9、ポンプ6及び導
管11を介して循環する。その都度の排ガス中に存在する
シラン化合物に基づき、消費されるアルコールまたは消
費されるアルコラート溶液は再配量される。該消費した
アルコラート溶液、生成した塩化ナトリウム及び基の他
の液状または固形の、反応または凝縮により生じた成分
は排出管8を介して排出される。
以下の実施例1から3による反応は圧力約1バール及
び室温で行つた。しかしまた他の圧力及び温度で本発明
による方法を実施することもできる。
実施例1 装置全体を先ず窒素で洗滌した。導入管7を介して20
〜30重量%のメタノール性ナトリウムエチラート溶液を
充填した。ポンプ6及び排ガス冷却部3の運転開始の後
導入管4を介してクロルシラン含有排ガスを導入した。
メチラート溶液に指示薬としてフエノールフタレエンを
添加した。充填塔1中に始つた脱色は前記溶液の消耗を
示す。それから消耗した溶液は沈殿した塩化ナトリウム
と一緒に導出口8を介して一部は排出した。ポンプ6へ
の供給は排出管9を介して確保した。導入管7を介して
相応する量の新鮮な溶液を供給した。この手段のために
該装置の運転中止は必要でなかつた。
該装置は常時窒素で覆つた。
実施例2 全装置を先ず窒素で洗滌した。導入管7を介して市販
の5〜30重量%メタノール性ナトリウムメチラート溶液
を充填した。ポンプ6及び排ガス冷却部3の運転開始の
後導入管4を介してモノシラン含有排ガスを導入した。
アルコラート溶液が消費されたとき、実施例1のように
古い溶液の一部は排出し新鮮な溶液を加えた。この場合
も該装置を停止させる必要はなかつた。
該装置は常時窒素で覆つた。
実施例3 全装置を先ず窒素で洗滌した。導入管7を介して市販
の5〜30重量%エタノール性ナトリウムエチラート溶液
を充填した。ポンプ6及排ガス冷却部3の運転開始後導
入管4を介してモノシラン含有排ガスを導入した。前記
アルコラート溶液が消耗されたときは、実施例1のよう
に古い溶液の一部を排出し新しい溶液を供給した。この
場合も、該装置を停止させる必要はなかつた。
該装置は常時窒素で覆つた。
例4(比較例) ガス導入管、攪拌機及び還流冷却器を有する1三口
フラスコにメタノール中のKOH飽和溶液600mlを入れた。
攪拌しながらトリクロルシラン含有窒素気流を前記溶液
を通して導入した。直ちに気泡を発生しながら白い固体
が生成した。前記塩化シランは反応はするがしかし発生
した懸濁液の粘性の粘稠度は実施例1〜3に記載した連
続的装置を確実にかつ再現可能に運転するには適切では
なかつた。さらに該生成品を廃棄し得る形にする難点が
生じた。
実施例1〜3により取扱つた排ガスはガスクロマトグ
ラフ分析(検出限界0.1容積%)では本発明の処理によ
れば4頁11行〜14行に相応する除去すべき化合物として
掲げるシランは何ら含んでいなかつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による方法を実施する装置の略示構成図
である。 1……充填塔、2……容器、3……冷却部、4……導入
管、5……排出管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−125229(JP,A) 特開 昭60−125228(JP,A)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】シラン含有排ガスからシラン化合物を除去
    する方法において、シラン化合物をアルコール溶液中の
    ナトリウムアルコラートでテトラアルコキシシランに転
    化させることを特徴とする、シラン含有排ガスからのシ
    ラン化合物の除去方法。
  2. 【請求項2】アルコール性ナトリウムアルコラート溶液
    を充填塔を介して循環させる、請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】シラン含有排ガスをナトリウムアルコラー
    ト溶液に対して向流で導く、請求項1又は2記載の方
    法。
  4. 【請求項4】メタノール中のナトリウムメチラートまた
    はエタノール中のナトリウムエチラートを使用する、請
    求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
  5. 【請求項5】アルコール中のナトリウムアルコラートの
    濃度が5〜30重量%である、請求項1から4までのいず
    れか1項記載の方法。
JP1215133A 1988-08-23 1989-08-23 シラン含有排ガスからのシラン化合物の除去方法 Expired - Lifetime JP2610049B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3828549A DE3828549A1 (de) 1988-08-23 1988-08-23 Verfahren zur entfernung von silanverbindungen aus silanhaltigen abgasen
DE3828549.5 1988-08-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02102712A JPH02102712A (ja) 1990-04-16
JP2610049B2 true JP2610049B2 (ja) 1997-05-14

Family

ID=6361403

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1215133A Expired - Lifetime JP2610049B2 (ja) 1988-08-23 1989-08-23 シラン含有排ガスからのシラン化合物の除去方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4923687A (ja)
EP (1) EP0355592B1 (ja)
JP (1) JP2610049B2 (ja)
DD (1) DD283948A5 (ja)
DE (2) DE3828549A1 (ja)
ES (1) ES2036310T3 (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5183914A (en) * 1991-04-29 1993-02-02 Dow Corning Corporation Alkoxysilanes and oligomeric alkoxysiloxanes by a silicate-acid route
JP3362632B2 (ja) * 1997-03-26 2003-01-07 信越化学工業株式会社 シラン類含有ガスの処理方法
US6224834B1 (en) 1998-04-16 2001-05-01 International Business Machines Corporation Silane oxidation exhaust trap
DE10102618A1 (de) * 2001-01-20 2002-08-01 Klaus J Huettinger Verfahren zur Neutralisation von halogenhaltigen Abgasen
DE102004037675A1 (de) * 2004-08-04 2006-03-16 Degussa Ag Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Wasserstoffverbindungen enthaltendem Siliciumtetrachlorid oder Germaniumtetrachlorid
DE102005041137A1 (de) * 2005-08-30 2007-03-01 Degussa Ag Reaktor, Anlage und großtechnisches Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von hochreinem Siliciumtetrachlorid oder hochreinem Germaniumtetrachlorid
DE102006003464A1 (de) * 2006-01-25 2007-07-26 Degussa Gmbh Verfahren zur Erzeugung einer Siliciumschicht auf einer Substratoberfläche durch Gasphasenabscheidung
DE102007007874A1 (de) 2007-02-14 2008-08-21 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung höherer Silane
DE102007014107A1 (de) 2007-03-21 2008-09-25 Evonik Degussa Gmbh Aufarbeitung borhaltiger Chlorsilanströme
DE102007048937A1 (de) * 2007-10-12 2009-04-16 Evonik Degussa Gmbh Entfernung von polaren organischen Verbindungen und Fremdmetallen aus Organosilanen
DE102007050199A1 (de) * 2007-10-20 2009-04-23 Evonik Degussa Gmbh Entfernung von Fremdmetallen aus anorganischen Silanen
DE102007050573A1 (de) * 2007-10-23 2009-04-30 Evonik Degussa Gmbh Großgebinde zur Handhabung und für den Transport von hochreinen und ultra hochreinen Chemikalien
DE102007059170A1 (de) * 2007-12-06 2009-06-10 Evonik Degussa Gmbh Katalysator und Verfahren zur Dismutierung von Wasserstoff enthaltenden Halogensilanen
DE102008004396A1 (de) * 2008-01-14 2009-07-16 Evonik Degussa Gmbh Anlage und Verfahren zur Verminderung des Gehaltes von Elementen, wie Bor, in Halogensilanen
DE102008002537A1 (de) * 2008-06-19 2009-12-24 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Entfernung von Bor enthaltenden Verunreinigungen aus Halogensilanen sowie Anlage zur Durchführung des Verfahrens
CN106621757B (zh) * 2017-02-21 2022-09-16 德山化工(浙江)有限公司 氯硅烷分析废气回收处理装置和处理方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1185593B (de) * 1963-05-10 1965-01-21 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Aufarbeitung von Wasserstoff, Silane und Chlorwasserstoff enthaltenden Abgasen aus Silicium-Abscheidungsanlagen
BE789534A (fr) * 1971-10-01 1973-01-15 Tokyo Shibaura Electric Co Procede de fabrication de silanes
US4313916A (en) * 1979-10-30 1982-02-02 Union Carbide Corporation Process for the purification of non-reacting gases
JPS5949822A (ja) * 1982-09-14 1984-03-22 Nippon Sanso Kk 揮発性無機水素化物等を含有するガスの処理方法
JPS60125228A (ja) * 1983-12-08 1985-07-04 Mitsui Toatsu Chem Inc 排ガスの高度処理方法
US4631183A (en) * 1985-06-25 1986-12-23 Hydro-Quebec Process for the destruction of toxic organic products
DE3533577A1 (de) * 1985-09-20 1987-03-26 Wacker Chemitronic Verfahren zur aufarbeitung von chlorsilan- und chlorwasserstoffhaltigen abgasen
JP3232564B2 (ja) * 1990-02-26 2001-11-26 三菱電機株式会社 飛しよう体の誘導装置

Also Published As

Publication number Publication date
DE3828549A1 (de) 1990-03-08
JPH02102712A (ja) 1990-04-16
DD283948A5 (de) 1990-10-31
EP0355592A1 (de) 1990-02-28
DE58902814D1 (de) 1993-01-07
EP0355592B1 (de) 1992-11-25
ES2036310T3 (es) 1993-05-16
US4923687A (en) 1990-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2610049B2 (ja) シラン含有排ガスからのシラン化合物の除去方法
JP5511667B2 (ja) ハロゲン化水素、水素およびハロゲン化ケイ素を含む混合ガスから水素ガスを生産する方法、その水素ガスを用いたケイ素化合物の生産方法、およびその方法のためのプラント
US20100296994A1 (en) Catalyst and method for dismutation of halosilanes containing hydrogen
JP5632362B2 (ja) 純シリコンを製造するための方法およびシステム
KR101819262B1 (ko) 고급 실란의 선택적 분해 방법
JPH01257118A (ja) ジクロルシランを製造する方法および装置
US6680038B2 (en) Process for the separation of chlorosilanes from gas streams
JPH05213605A (ja) クロルシラン蒸留残渣の廃水を生じない後処理方法
CN217661586U (zh) 一种多晶硅高沸物分离系统
CN106749383A (zh) 一种烷氧基硅烷的生产工艺
JP2011037670A (ja) クロロシラン類の精製方法
RU2394762C2 (ru) Способ получения трихлорсилана
JPWO2018074269A1 (ja) 固形分濃度管理方法及びトリクロロシランの製造方法
WO2008059887A1 (en) Hydrogen separation/collection method and hydrogen separation/collection facility
JP3362632B2 (ja) シラン類含有ガスの処理方法
JP3582983B2 (ja) アルキルシラン類の精製方法
JP2768990B2 (ja) オルガノクロロシランの合成からの加水分解残留物の処理方法
JP5566290B2 (ja) ハロゲン化水素、水素およびハロゲン化ケイ素を含む混合ガスから水素ガスを生産する方法、その水素ガスを用いたケイ素化合物の生産方法、およびその方法のためのプラント
US12060376B2 (en) Process for reducing the content of boron compounds in halosilane-containing compositions
JP3912157B2 (ja) フッ化アンモニウム含有排水の処理方法
JPH0753221B2 (ja) 塩化水素酸流の除湿剤
JP3912878B2 (ja) 燐酸製造プロセスからSiF4を製造する方法
JPS604193A (ja) アルコキシシランの連続的製法
CN117618966A (zh) 一种电子级四氯化硅的生产装置及方法
CN114539309A (zh) 一种基于格氏反应制备乙烯基硅烷的方法