JP2020064201A - 光学フィルターおよびその用途 - Google Patents

Abstract

【課題】センシング光源からの反射光を効果的にカットしつつ、高可視光透過率、低反り、誘電体多層膜の良好な密着性、および誘電体多層膜での反射によるセンサーへのノイズレスを達成することが可能な光学フィルターを提供すること。【解決手段】本発明の光学フィルターは、光吸収層を含む基材を有し、かつ、可視光を透過する光学フィルターであって、波長８００〜１０００ｎｍの領域において、前記基材の垂直方向から測定した場合のＯＤ値（１）の最大値が３．０以上であることを特徴とする。【選択図】なし

Description

本発明は、光学フィルターおよびその用途に関する。より詳しくは、特定の波長域に吸収極大を有する光吸収化合物を含む光学フィルター、ならびに該光学フィルターを具備する固体撮像装置、カメラモジュール、環境光センサーモジュールおよび電子機器に関する。

近年、スマートフォンやタブレット端末等の情報端末装置の高機能化が急速に進んでいる。これまでのカメラ（撮像）機能に加えて、環境光センシング機能、虹彩認証や顔認証などの生体認証機能、ＡＲ／ＶＲ機能、エアータッチなどの空間認識機能等が情報端末装置に新たに組み込まれる流れとなっている。

よって、従来からのカメラモジュールに加えて、環境光センサーモジュール、センシング機能を備えた顔認証モジュール、ＡＲ／ＶＲモジュール等が端末の狭い領域に密集して搭載されるようになってきている。

一方で、これらのセンシング用光源（ドットプロジェクター、投光イルミネーターなど）として使用される特定波長のＬＥＤや、レーザー光源などのセンシング用発光素子から発した光が、センシング対象物に当たった反射光、および装置内での反射光が、カメラモジュールおよび環境光センサーモジュールに入光することにより、カメラ画質の劣化および環境光センサーによる画面色調調整の作動不良を引き起こす問題が指摘されている。

更には、センシング可能な距離を長くするために、光源の出力向上による上記反射光の増加のため、カメラ画質の劣化や環境光センサーによる画面色調調整不良のような影響の拡大が見込まれる。

センシング光源の影響を軽減するために、環境光センサーモジュールやカメラモジュール用の光学フィルターに、センシング光源からの反射光をカットする機能を持たせることが非常に有効である。センシング用光源としては近赤外線波長領域に発光特性を有する光源が一般的に使用されるが、近赤外線領域の光をカットする光学フィルターとしては、例えば、近赤外線領域に幅広い吸収特性を有する吸収剤を使用した光学フィルターが提案されている（例えば、特許文献１および２参照）。

しかしながら、センシング光源からの反射光の影響を無くすためには、非常に高濃度の吸収剤を光学フィルターに含有させることが必要となり、可視光透過率を低下させる要因となる問題点があった。また、センシング光源からの反射光をカットする方法として、誘電体多層膜の層数を多くすることによりカットする方法が考えられるが、誘電体多層膜の層数が増加することによる光学フィルターの反り、誘電体多層膜と基材との密着性の低下、誘電体多層膜内での反射によるセンサーへのノイズが増加する等の問題点があった。

国際公開第２０１８／０４３５６４号明細書 特開２０１８−１０２９６号公報

本発明は、センシング光源からの反射光を効果的にカットしつつ、高可視光透過率、低反り、誘電体多層膜の良好な密着性、および、誘電体多層膜での反射によるセンサーへのノイズレスを達成することが可能な光学フィルターを提供することを目的とする。更には、センシング用発光素子の高出力化に対応可能な光学フィルターを提供することを目的とする。

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、センシング光源の発光波長に近い吸収極大波長を有し、シャープな吸収特性を有する吸収剤を適用することにより、センシング光源からの反射光を効果的にカットすることができ、環境光センサー素子または固体撮像素子に対するセンシング光源からの反射光の悪影響を問題が無いレベルまで軽減しつつ、光学フィルターの高可視光透過率、低反り、および誘電体多層膜の良好な密着性を達成することが可能となることを見出し本発明に至った。本発明の態様の例を以下に示す。

［１］ 光吸収層を含む基材を有し、かつ、可視光を透過する光学フィルターであって、
波長８００〜１０００ｎｍの領域において、前記基材の垂直方向から測定した場合のＯＤ値（１）の最大値が３．０以上であることを特徴とする光学フィルター。

［２］ 前記ＯＤ値（１）が最大値を示す波長±１００ｎｍの領域において、前記ＯＤ値（１）の平均値が２．０以下であることを特徴とする項［１］に記載の光学フィルター。

［３］ 前記ＯＤ値（１）が最大値を示す波長が、波長８２０〜８８０ｎｍまたは波長９１０〜９７０ｎｍのいずれか一方の領域にあることを特徴とする項［１］または［２］に記載の光学フィルター。

［４］ 前記光吸収層が、波長８００〜１０００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）を含むことを特徴とする項［１］〜［３］のいずれか１項に記載の光学フィルター。

［５］ 前記化合物（Ａ）が、スクアリリウム系化合物、シアニン系化合物、ピロロピロール系化合物、ペリレン系化合物、クロコニウム系化合物、および金属ジチオラート系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする項［４］に記載の光学フィルター。

［６］ 前記基材がガラス基板を含み、前記光吸収層は前記ガラス基板の少なくとも一方の面に設けられていることを特徴とする項［１］〜［５］のいずれか１項に記載の光学フィルター。

［７］ 前記基材が透明樹脂基板を含み、前記光吸収層は前記透明樹脂基板の少なくとも一方の面に設けられていることを特徴とする項［１］〜［５］のいずれか１項に記載の光学フィルター。

［８］ 前記基材の少なくとも片面に誘電体多層膜を有することを特徴とする項［１］〜［７］のいずれか１項に記載の光学フィルター。
［９］ 波長８００〜１０００ｎｍの領域において、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＯＤ値（２）の最大値が５．０以上であることを特徴とする項［８］に記載の光学フィルター。

［１０］ 波長４３０〜５８０ｎｍの領域において、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が６０％以上であることを特徴とする項［８］または［９］に記載の光学フィルター。

［１１］ 項［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とする固体撮像装置。
［１２］ 項［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。

［１３］ 項［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とする環境光センサーモジュール。
［１４］ 項［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とする電子機器。

［１５］ 項［１２］に記載のカメラモジュールおよび請求項１３に記載の環境光センサーモジュールからなる群より選ばれる少なくとも１種のモジュール（Ａ）と、センシング用発光素子を具備したモジュール（Ｂ）とが、同一面かつ４ｃｍ以内の近傍に配置されていることを特徴とする電子機器。

本発明によれば、センシング光源からの反射光を効果的にカットしつつ、光学フィルターの高可視光透過率、低反り、誘電体多層膜の良好な密着性、および誘電体多層膜での反射によるセンサーへのノイズレスを達成することが可能な光学フィルターを提供することができる。また、このような本発明の光学フィルターは、センシング用発光素子と環境光センサーモジュールやカメラモジュール等の光電変換素子とを同一装置内に備えた電子機器に好適に使用することができる。

本発明の光学フィルターの構成例を示す模式図である。 本発明の光学フィルターにおける基材の構成例を示す模式図である。 本発明のカメラモジュールの一例を示す断面概略図である。 本発明の環境光センサーの構成例を示す模式図である。 本発明の環境光センサーの構成例を示す模式図である。 本発明の電子機器の一例を示す模式図である。 実施例１で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例１で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例２で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例２で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例３で得られ基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例３で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例４で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例４で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例５で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例５で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例６で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例６で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例７で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例７で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例８で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例８で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例９で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例９で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例１０で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 実施例１０で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例１で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例１で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例２で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例２で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例３で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例３で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例４で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例４で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例５で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例５で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例６で得られた基材の垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。 比較例６で得られた光学フィルターの垂直方向から測定した分光透過率を示すグラフである。

以下、本発明の実施の形態を、必要に応じて図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付し又は類似の符号（数字の後にＡ、Ｂなどを付しただけの符号）を付し、詳細な説明を適宜省略することがある。

本明細書中において「上」とは、支持基板の主面（センサーの受光面）を基準とした相対的な位置を指し、支持基板の主面から離れる方向が「上」である。本図面では、紙面に向かって上方が「上」となっている。また、「上」には、物体の上に接する場合（つまり「ｏｎ」の場合）と、物体の上方に位置する場合（つまり「ｏｖｅｒ」の場合）とが含まれる。逆に、「下」とは、支持基板の主面を基準とした相対的な位置を指し、支持基板の主面に近づく方向が「下」である。本図面では、紙面に向かって下方が「下」となっている。

［光学フィルター］
本発明に係る光学フィルターは、光吸収層を含む基材を有し、かつ、可視光を透過する光学フィルターであって、波長８００〜１０００ｎｍの領域において、前記基材の垂直方向から測定した場合のＯＤ値（１）の最大値が３．０以上であることを特徴とする。

本発明の光学フィルターにおいて、前記基材のＯＤ値（１）の最大値が３．０以上であることを特徴とする。前記ＯＤ値（１）の最大値が３．０未満の場合、センシング光源からの反射光のカットが不十分となり、カメラモジュールのカメラ画質の劣化や、環境光センサーモジュールの環境光センサーによる画面色調調整の作動不良を引き起こす原因となる。また、前記ＯＤ値（１）の最大値の上限は特に限定されないが、高ＯＤ値とするためには、例えば、後述する光吸収化合物を大量に含有させることが必要となる場合がある。しかしながら、そのような場合、可視光透過率の低下を招く問題があるため、可視光透過率との兼ね合いで光吸収化合物の使用量を設定することが好ましい。前記ＯＤ値（１）の最大値の上限としては、６以下であることが好ましく、５以下であることがさらに好ましい。

また、前記ＯＤ値（１）が最大値を示す波長±１００ｎｍの領域において、前記ＯＤ値（１）の平均値は、好ましくは２．０以下、より好ましくは０．１〜１．８、さらに好ましくは０．２〜１．５である。前記ＯＤ値（１）の平均値が２．０超の場合、光吸収性化合物によるセンシング光源からの反射光のカット効率が低いため、例えば、高濃度の光吸収化合物を使用することが必要となる場合がある。しかしながら、そのような場合、光学フィルターの可視光透過率が大幅に悪化するため、固体撮像素子や環境光センサーへの可視光入射光が不足し、センサー感度の悪化を招くことがある。

前記ＯＤ値（１）が最大値を示す波長は、波長８２０〜８８０ｎｍまたは波長９１０〜９７０ｎｍのいずれか一方の領域にあることが好ましい。
前記光吸収層は、光吸収化合物、例えば、波長８００〜１０００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）を含むことが好ましい。

前記化合物（Ａ）以外の光吸収化合物としては、例えば、波長６００ｎｍ以上８００ｎｍ未満の領域に極大吸収を有する化合物（Ｂ）、および、波長１０００ｎｍ超１２００ｎｍ以下の領域に吸収極大を有する化合物（Ｃ）が挙げられる。

前記光吸収層の好ましい態様としては、前記化合物（Ａ）を含有させた透明樹脂基板や、ガラス基板または透明樹脂基板の少なくとも一方の面に積層させる、前記化合物（Ａ）を含有させた樹脂層などが挙げられる。また、前記化合物（Ａ）以外の光吸収化合物が、前記光吸収層に含まれてもよく、前記光吸収層とは別の樹脂層に含まれていてもよく、ガラス基板または透明樹脂基板に含まれていてもよい。

前記ガラス基板として、ＣｕＯ含有フツリン酸塩ガラスまたはＣｕＯ含有リン酸塩ガラス（以下、これらをまとめて「ＣｕＯ含有ガラス」と言う。）を使用することができる。ＣｕＯ含有ガラスを用いることで、可視光に対する高透過性を有するとともに、近赤外線に対しても高い遮蔽性を有する。なお、リン酸塩ガラスには、ガラス骨格の一部がＳｉＯ₂で構成されるケイリン酸塩ガラスも含むものとする。ＣｕＯ含有ガラスとしては、例えば、以下の組成のものが挙げられる。

（i）Ｐ₂Ｏ₅ ４６〜７０％、ＡｌＦ₃ ０．２〜２０％、ＬｉＦ＋ＮａＦ＋ＫＦ ０〜２５％、ＭｇＦ₂＋ＣａＦ＋ＳｒＦ₂＋ＢａＦ₂＋ＰｂＦ₂ １〜５０％、ただし、Ｆ ０．５〜３２％、Ｏ ２６〜５４％を含む基礎ガラス１００質量部に対し、外割でＣｕＯを０．５〜７質量部含むガラス。

（ii）Ｐ₂Ｏ₅ ２５〜６０％、Ａｌ₂ＯＦ₃ １〜１３％、ＭｇＯ １〜１０％、ＣａＯ １〜１６％、ＢａＯ １〜２６％、ＳｒＯ ０〜１６％、ＺｎＯ ０〜１６％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１３％、 Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１１％、ＣｕＯ １〜７％、ΣＲＯ（Ｒ＝Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）１５〜４０％、ΣＲ’₂Ｏ（Ｒ’＝Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）３〜１８％（ただし、３９％モル量までのＯ^2-イオンがＦ^-イオンで置換されている）からなるガラス。

（iii）Ｐ₂Ｏ₅ ５〜４５％、ＡｒＦ₃ １〜３５％、ＲＦ（ＲはＬｉ，Ｎａ，Ｋ）０〜４０％、Ｒ’Ｆ₂（Ｒ’はＭｇ，Ｃａ， Ｓｒ， Ｂａ， Ｐｂ， Ｚｎ）１０〜７５％、Ｒ”Ｆ_m（Ｒ”はＬａ，Ｙ，Ｃｄ，Ｓｉ，Ｂ，Ｚｒ，Ｔａであり、ｍはＲ”の原子価に相当する数）０〜１５％（ただしフッ化物総合計量の７０％までを酸化物に置換可能）、およびＣｕＯ ０．２〜１５％を含むガラス。

（iv）カチオン％表示で、Ｐ⁵⁺ １１〜４３％、Ａｌ³⁺ １〜２９％、Ｒカチオン（Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ，Ｐｂ，Ｚｎイオンの含量）１４〜５０％、Ｒ’カチオン（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋイオンの含量）０〜４３％、Ｒ”カチオン（Ｌａ，Ｙ，Ｃｄ，Ｓｉ，Ｂ，Ｚｒ，Ｔａイオンの含量）０〜８％、およびＣｕ²⁺ ０．５〜１３％を含み、さらにアニオン％でＦ^- １７〜８０％を含有するガラス。

（v）カチオン％表示で、Ｐ⁵⁺ ２３〜４１％、Ａｌ³⁺ ４〜１６％、Ｌｉ⁺ １１〜４０％、Ｎａ⁺ ３〜１３％、Ｒ²⁺（Ｍｇ²⁺，Ｃａ²⁺，Ｓｒ²⁺, Ｂａ²⁺，Ｚｎ²⁺の含量）１２〜５３％、およびＣｕ²⁺ ２．６〜４．７％を含み、さらにアニオン％でＦ^- ２５〜４８％およびＯ^2- ５２〜７５％を含むガラス。

（vi）質量％表示で、Ｐ₂Ｏ₅ ７０〜８５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ８〜１７％、Ｂ₂Ｏ₃ １〜１０％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜３％、 Ｎａ₂Ｏ ０〜５％、Ｋ₂Ｏ ０〜５％、ただし、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０．１〜５％、ＳｉＯ₂ ０〜３％からなる基礎ガラス１００質量部に対し、外割でＣｕＯを０．１〜５質量部含むガラス。

市販品では、例えば（i）としてＮＦ５０−Ｅ，ＮＦ５０−ＥＸ（旭硝子社製）、（ii）としてＢＧ−６０，ＢＧ−６１（SHOTT社製）、（v）としてＣＤ５０００（ＨＯＹＡ社製）等が挙げられる。

また、上記ＣｕＯ含有ガラスは、金属酸化物をさらに含有してもよい。金属酸化物として、例えばＦｅ₂Ｏ₃，ＭｏＯ₃、ＷＯ₃，ＣｅＯ₂，Ｓｂ₂Ｏ₃，Ｖ₂Ｏ₅等の１種または２種以上を含有すると、ＣｕＯ含有ガラスは紫外線吸収特性を有する。該金属名酸化物の含有量は、上記ＣｕＯ含有ガラス１００質量部に対して、Ｆｅ₂Ｏ₃，ＭｏＯ₃、ＷＯ₃およびＣｅＯ₂からなる群から選択される少なくとも１種を、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０．６〜５質量部、ＭｏＯ₃ ０．５〜５質量部、ＷＯ₃ １〜６質量部、ＣｅＯ₂２．５〜６質量部、または、Ｆｅ₂Ｏ₃とＳｂ₂Ｏ₃の２種をＦｅ₂Ｏ₃ ０．６〜５質量部＋Ｓｂ₂Ｏ₃０．１〜５質量部、もしくは、Ｖ₂Ｏ₅とＣｅＯ₂の２種をＶ₂Ｏ₅ ０．０１〜０．５質量部＋ＣｅＯ₂１〜６質量部とすることが好ましい。

ＣｕＯを含有するフツリン酸塩系ガラスまたはＣｕＯを含有するリン酸塩系ガラスの厚みとしては、０．０３〜５ｍｍの範囲であることが好ましく、強度および軽量化、低背化の観点から０．０５〜１ｍｍの範囲がより好ましい。

ＣｕＯガラス中のＣｕＯ含量を上げて、波長８００〜１０００ｎｍの領域のＯＤ値を向上させることもできるが、ＣｕＯ含量増加に伴い、ガラスの強度が低下し、ガラス基板を薄膜化した時の取扱い性が大幅に悪化する問題があり、好ましくない。そのため、光吸収性化合物を含有させた樹脂層をガラス上に積層してＯＤ値を向上させることが好ましい。

本発明では、ガラス基板として、吸収の無いガラス基板を使用することができる。吸収の無いガラス基板としては、主成分として珪酸塩を含む基板であれば、特に限定されるものではなく、結晶構造を有する石英ガラス基板等が挙げられる。ほかに、ホウ珪酸ガラス基板、ソーダガラス基板および色ガラス基板等を用いることができるが、とりわけ、無アルカリガラス基板、低α線ガラス基板等のガラス基板は、センサー素子への影響が少ないため、好ましい。

前記透明樹脂基板、または、前記透明樹脂基板もしくは前記ガラス基板に積層する樹脂層に用いられる透明樹脂としては、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、（変性）アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂、シルセスキオキサン系硬化型樹脂、アクリル系硬化型樹脂およびゾルゲル法により形成されたシリカを主成分とする樹脂などが挙げられる。前記透明樹脂は、１種単独で用いても、２種以上を用いてもよい。

前記環状（ポリ）オレフィン系樹脂の市販品としては、ＪＳＲ（株）製アートン、日本ゼオン（株）製ゼオノア、三井化学（株）製ＡＰＥＬ、ポリプラスチックス（株）製ＴＯＰＡＳなどを挙げることができる。前記ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学（株）製スミカエクセルＰＥＳなどを挙げることができる。前記ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ネオプリムなどを挙げることができる。前記芳香族ポリエステル系樹脂フィルムとしてはユニチカのユニファイナーなどを挙げることができる。前記ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人化成（株）製ピュアエースなどを挙げることができる。前記フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学（株）製ユピゼータＥＰ−５０００などを挙げることができる。前記フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル（株）製ＯＫＰ４ＨＴなどを挙げることができる。前記アクリル系樹脂の市販品としては、（株）日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。前記シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、新日鐵化学（株）製シルプラスなどを挙げることができる。

前記透明樹脂基板は、１種単独で使用することもできるし、２種以上の透明樹脂基板を貼合もしくは積層して使用することもできる。
上記のような基材を使用することにより、センシング光源からの反射光を効果的にカットしつつ、光学フィルターの高可視光透過率、低反り、誘電体多層膜の密着性、反射光によるセンサーへのノイズレスを両立させることができる高性能な光学フィルターを得ることができる。このような本発明の光学フィルターは、センシング用発光素子を備えた装置内の環境光センサーモジュールやカメラモジュールに使用することができる。

図１Ａ、図１Ｂおよび図１Ｃは、本発明の光学フィルターの構成例を示す。図１Ａに示す光学フィルター１００ａは、基材１０３の少なくとも一方の面に誘電体多層膜１０４を有する。誘電体多層膜１０４は、近赤外線を反射する特性を有する。また、図１Ｂは、基材１０３の一方の面に第１誘電体多層膜１０４ａが設けられ、他方の面に第２誘電体多層膜１０４ｂが設けられる光学フィルター１００ｂを示す。このように、近赤外線を反射する誘電体多層膜は基材の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合、製造コストや製造容易性に優れ、両面に設ける場合、高い強度を有し、反りやねじれが生じにくい光学フィルターを得ることができる。光学フィルターをカメラモジュールや環境光センサー用途に適用する場合、光学フィルターの反りやねじれが小さい方が好ましいことから、誘電体多層膜を基材の両面に設けることが好ましい。

誘電体多層膜１０４は、可視光に相当する波長の光を透過させた上で、垂直方向から入射した光に対して波長８００〜１１５０ｎｍの範囲全体にわたって反射特性を有することが好ましく、さらに好ましくは波長８００〜１２００ｎｍ、特に好ましくは８００〜１２５０ｎｍの範囲全体にわたって反射特性を有することが好ましい。基材１０３の両面に誘電体多層膜を有する形態として、光学フィルター（又は基材）の垂直方向に対して５度の角度から測定した場合に波長８００〜１０００ｎｍ付近に主に反射特性を有する第１誘電体多層膜１０４ａを基材１０２の片面に設け、基材１０３の他方の面上に光学フィルター（又は基材）の垂直方向に対して５度の角度から測定した場合に１０００ｎｍ〜１２５０ｎｍ付近に主に反射特性を有する第２誘電体多層膜１０４ｂを有する形態が挙げられる。

また、他の形態として、図１Ｃに示す光学フィルター１００ｃは、垂直方向に対して５度の角度から測定した場合に波長８００〜１２５０ｎｍ付近に主に反射特性を有する誘電体多層膜１０４を基材１０３の片面に設け、基材１０３の他方の面上に可視域の反射防止特性を有する反射防止膜１０６を有する形態が挙げられる。基材に対して誘電体多層膜と反射防止膜とを組み合わせることで、可視域の光透過率を高めつつ近赤外線を反射することができる。

図２Ａ、図２Ｂ、図２Ｃ、図２Ｄ、図２Ｅは基材１０３の構成例を示す。基材１０３は、単層であっても多層であってもよく、前記化合物（Ａ）を１種以上含む層を有することが好ましく、前記化合物（Ａ）を含む層は透明樹脂層であることがより好ましい。

図２Ａでは、基材は単層で構成され、前記化合物（Ａ）が透明樹脂基板１０５中に含有される。透明樹脂基板１０５中に前記化合物（Ｂ）および／または前記化合物（Ｃ）を含んでいてもよい。図２Ｂでは、基材は２層で構成され、光吸収化合物を含有しない透明ガラス基板または透明樹脂基板１０１と、前記化合物（Ａ）を含む樹脂層１１０との積層構造で構成される。樹脂層１１０は前記化合物（Ｂ）および／または前記化合物（Ｃ）を含んでいてもよい。図２Ｃでは、基材は３層で構成され、光吸収化合物を含有しない透明ガラス基板または透明樹脂基板１０１と、その両面に積層された樹脂層１１０、１１１とから構成され、両面に形成された樹脂層の少なくとも一方が前記化合物（Ａ）を含み、両面の樹脂層は、それぞれ独立に前記化合物（Ｂ）および／または前記化合物（Ｃ）を含んでいてもよい。図２Ｄでは、基材は２層で構成され、光吸収化合物を含有する吸収型ガラスまたは透明樹脂基板１０２と、前記化合物（Ａ）を含む樹脂層１１０との積層構造で構成される。前記化合物（Ｂ）および／または前記化合物（Ｃ）は透明樹脂基板１０２および／または樹脂層１１０に含まれていてもよい。図２Ｅでは、基材は３層で形成され、光吸収化合物を含有する吸収型ガラスまたは透明樹脂基板１０２と、その両面に積層された樹脂層１１０、１１１とから構成され、両面に形成された樹脂層の少なくとも一方が前記化合物（Ａ）を含み、両面の樹脂層は、それぞれ独立に前記化合物（Ｂ）および／または前記化合物（Ｃ）を含んでいてもよい。また、これら基材の片面もしくは両面に硬化性樹脂や熱可塑性樹脂等からなるオーバーコート層が積層されていてもよい。

ガラス基板を使用する場合、基材の薄型化と強度を両立させるためにはガラス基板はフツリン酸銅などの吸収剤を含まない無色透明のガラス基板であることが好ましく、特に基材の厚みが１５０μｍ以下となる場合はこの傾向が顕著になる。フツリン酸銅などの吸収剤を含むガラスは、薄膜化により大幅に強度が低下する問題がある。透明樹脂基板を使用する場合、光学特性調整の容易性、さらに、透明樹脂基板の傷消し効果を達成できることや基板の耐傷性向上等の点から、透明樹脂基板の両面に硬化性樹脂または熱可塑性樹脂からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層されていることが好ましい。

上記特性を満たす光吸収層を含む基材を得るためには、目的とする波長（発光素子光源の発光波長に近い波長）周辺に吸収極大を有し、吸収特性が発光素子の発光スペクトルの形状に近い光吸収化合物を使用することが好ましい。幅広い吸収特性を有する光吸収化合物を使用した場合、本発明が目的とする特性を得るためには、光吸収化合物を大量に添加することが必要となり、透明樹脂層への均一溶解性の低下や可視光透過率の低下を招くことになり好ましくない。

＜化合物（Ａ）＞
前記化合物（Ａ）の極大吸収波長は、
（１）８２０〜８８０ｎｍ、好ましくは８３０〜８７０ｎｍ、更に好ましくは８３５〜８６５ｎｍ、あるいは、
（２）９１０〜９７０ｎｍ、より好ましくは９２０〜９６０ｎｍ、更に好ましくは９２５〜９５５ｎｍ
のいずれかの範囲にあることが望ましい。これらの中では、（２）の範囲が好ましい。

センシング光源として使用される発光素子としては、発光中心波長が８５０ｎｍと９４０ｎｍのものが通常使用されるが、視認性、直線性（散乱が少ない）等の点で９４０ｎｍの発光素子を使用することが主流であるためである。

前記化合物（Ａ）としては、特に限定されないが、スクアリリウム系化合物、シアニン系化合物、ピロロピロール系化合物、ペリレン系化合物、クロコニウム系化合物、および金属ジチオラート系化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を用いることが好ましい。

上記化合物の内、スクアリリウム系化合物、シアニン系化合物、ピロロピロール系化合物を用いることが更に好ましい。これら化合物は、極大吸収波長の吸光係数と可視光透過率のバランスが良好で、高いＯＤ最大値と高可視光透過率を両立させた光学フィルターを得ることができる。
前記化合物（Ａ）として用いることができるスクアリリウム系化合物としては、特に限定されないが、下記式（Ｉ）で表される化合物（Ｉ）が好ましい。

式（Ｉ）中、置換ユニットＡおよびＢは、それぞれ独立に下記式（I-i）、（I-ii）および（I-iii）で表される置換ユニットのいずれかを表す。

式（I-i）、（I-ii）および（I-iii）中、波線で表した部分が中央四員環との結合部位を表し、Ｘaは、独立に酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または−ＮＲ¹²−を表し、 Ｒ¹〜Ｒ¹¹は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホン酸基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−ＮＲ^gＲ^h基、−ＳＲⁱ基、−ＳＯ₂Ｒⁱ基、−ＯＳＯ₂Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^hのいずれかを表し、Ｒ^gおよびＲ^hは、それぞれ独立に水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、Ｒⁱは下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
（Ｌ^a）炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌ^b）炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌ^c）炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌ^d）炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌ^e）炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌ^f）炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌ^g）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基、
（Ｌ^h）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。

前記Ｒ¹としては、好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ニトロ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、水酸基である。

前記Ｒ²〜Ｒ¹¹としては、好ましくはそれぞれ独立に水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ−メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基、ｎ−ブチルスルホニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基であり、より好ましくは水素原子、塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、水酸基、ジメチルアミノ基、メトキシ基、エトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基、メチルチオ基、エチルチオ基である。

前記Ｒ¹²としては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、フェニル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−デシル基である。

前記Ｘaとしては、好ましくは酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子、−ＮＲ¹²−であり、特に好ましくは式（I-i）の置換ユニットにおいては酸素原子、硫黄原子であり、式（I-ii）の置換ユニットにおいては−ＮＲ¹²−であり、式（I-iii）の置換ユニットにおいては酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子である。

前記化合物（Ｉ）において、中央の四員環に結合している左右のユニットは それぞれ式（I-i）または式（I-ii）または式（I-iii）で表されるものであれば同一であっても異なっていてもよいが、ユニット中の置換基も含めて同一であった方が合成上容易であるため好ましい。

前記化合物（Ｉ）の好ましい構造の例としては、下記式（Ｉ−ａ）、（Ｉ−ｂ）および（Ｉ−ｃ）が挙げられる。

式（Ｉ−ａ）〜式（Ｉ−ｃ）においてＸa、Ｒ¹、Ｒ²〜Ｒ⁷は上記と同様の原子または基を表す。

前記化合物（Ｉ）の具体例としては、下記式で表わされる化合物（Ｉ−１）および化合物（Ｉ−２）などを挙げることができる。

前記化合物（Ａ）として用いることができるシアニン系化合物としては、特に限定されないが、下記式（ＩＩ）で表される化合物（ＩＩ）が好ましい。

式（ＩＩ）中、置換ユニットＣおよびＤは下記式（II-i） 〜（II-v）のいずれかを表し、Ｘb^-は一価のアニオンを表す。

式（II-i） 〜（II-v）中、波線で表わした部分が中央メチン鎖部との結合部位を表し、Ｘaは、独立に酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または−ＮＲ¹²−を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁷は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホン酸基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、リン酸基、−ＮＲ^gＲ^h基、−ＳＲⁱ基、−ＳＯ₂Ｒⁱ基、−ＯＳＯ₂Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^hのいずれかを表し、Ｒ^gおよびＲ^hは、それぞれ独立に水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、Ｒⁱは下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
（Ｌ^a）炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌ^b）炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌ^c）炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌ^d）炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌ^e）炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌ^f）炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌ^g）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基、
（Ｌ^h）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。

前記Ｒ¹²としては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、フェニル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−デシル基である。

Ｚ_a〜Ｚ_cおよびＹ_a〜Ｙ_bは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−Ｑ¹、−Ｎ=Ｎ−Ｑ¹、−Ｓ−Ｑ²、−ＳＳＱ²、−ＳＯ₂Ｑ³、あるいは
隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に隣接して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも一つ含んでもよい５乃至６員環の脂環式炭化水素基、
隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基、または、
隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成され、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも一つ含む、炭素数３〜１４の複素芳香族炭化水素基を表し、
これらの脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素環芳香族炭化水素基は、炭素数１〜９の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよく、
Ｑ¹ は、上記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｑ²は、水素原子または上記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｑ³は、水酸基または上記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表す。

前記化合物（ＩＩ）の具体例としては、下記式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−３）で表される化合物を挙げることができる。

前記化合物（Ａ）として用いることができるピロロピロール系化合物としては、特に限定されないが、下記式（III）で表される化合物（III）が好ましい。

式（III）中、置換ユニットＥおよびＦは、下記式（III-i）〜（III-ii）のいずれかを表し、Ｒ¹〜Ｒ²⁰は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホン酸基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、リン酸基、−ＮＲ^gＲ^h基、−ＳＲⁱ基、−ＳＯ₂Ｒⁱ基、−ＯＳＯ₂Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^hのいずれかを表し、Ｒ^gおよびＲ^hは、それぞれ独立に水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、Ｒⁱは下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
（Ｌ^a）炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌ^b）炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌ^c）炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌ^d）炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌ^e）炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌ^f）炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌ^g）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基、
（Ｌ^h）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。

Ｒ²¹〜Ｒ²⁸は、炭素数１〜１６の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基、炭素数３〜１８の複素環基、炭素数１〜１８のアルコキシ基、置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１６のアシル基、置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１６のアルコキシカルボニル基を示し、 置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。

Ｘc〜Ｘｆはそれぞれ独立にシアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、リン酸基、−ＳＲⁱ基、−ＳＯ₂Ｒⁱ基、−ＯＳＯ₂Ｒⁱ基、ハロゲン原子、スルホン酸基、水酸基などの電子吸引基を表す。

式（III-i）〜（III-ii）中、波線で表した部分がイミン構造部位との結合部位を表し、Ｘaは酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子、または−ＮＲ¹²−を表し、 Ｒ²〜Ｒ⁷は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホン酸基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、リン酸基、−ＮＲ^gＲ^h基、−ＳＲⁱ基、−ＳＯ₂Ｒⁱ基、−ＯＳＯ₂Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^hのいずれかを表し、Ｒ^gおよびＲ^hは、それぞれ独立に水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、Ｒⁱは下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
（Ｌ^a）炭素数１〜１６の脂肪族炭化水素基
（Ｌ^b）炭素数１〜１６のハロゲン置換アルキル基
（Ｌ^c）炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基
（Ｌ^d）炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基
（Ｌ^e）炭素数３〜１８の複素環基
（Ｌ^f）炭素数１〜１６のアルコキシ基
（Ｌ^g）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１６のアシル基、
（Ｌ^h）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１６のアルコキシカルボニル基
置換基Ｌは、炭素数１〜１６の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１８の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１８の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。

前記化合物（III）の具体例としては、例えば、下記式（III−１）〜（III−２）で表される化合物を挙げることができる。

前記化合物（Ａ）として用いることができるクロコニウム系化合物としては、特に限定されないが、下記式（ＩＶ）で表される化合物（ＩＶ）が好ましい。

式（ＩＶ）中、Ｒ¹〜Ｒ⁵は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホン酸基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、リン酸基、−ＮＲ^gＲ^h基、−ＳＲⁱ基、−ＳＯ₂Ｒⁱ基、−ＯＳＯ₂Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^hのいずれかを表し、Ｒ^gおよびＲ^hは、それぞれ独立に水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、Ｒⁱは下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
（Ｌ^a）炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌ^b）炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌ^c）炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌ^d）炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌ^e）炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌ^f）炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌ^g）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基、
（Ｌ^h）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。

Ｘgは、独立に酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子または−ＮＲ¹²−を表し、前記Ｒ¹²としては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、フェニル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−デシル基である。

前記化合物（ＩＶ）の具体例としては、下記式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−２）で表される化合物を挙げることができる。

前記化合物（Ａ）として用いることができるペリレン系化合物としては、特に限定されないが、クオタリレン、ペンタリレン、ヘキサリレン化合物を使用することができる。ペリレン系化合物の具体例としては、例えば特開2012-111863号公報に記載の化合物が挙げられる。

前記化合物（Ａ）として用いることができる金属ジチオラート系化合物としては、特に限定されないが、下記式（Ｖ）で表される化合物（Ｖ）が好ましい。

式（Ｖ）中、Ｒ²⁹〜Ｒ³²は、それぞれ独立にメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル器、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、フェニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、フェニルチオ基、ベンジルチオ基、隣り合うＲ²⁹とＲ³⁰、Ｒ³¹とＲ³²同士が環を形成する基である。隣り合うＲ²⁹とＲ³⁰、Ｒ³¹とＲ³²同士が環を形成する基である場合、環の中に少なくとも一つ以上の硫黄原子もしくは窒素原子が含まれる複素環であることが好ましい。Ｍaは金属原子であり、好ましくは遷移金属であり、より好ましくはＮｉ、Ｐｄ，Ｐｔである。ＱはＧ（Ｒⁱ）₄を表し、Ｇは窒素原子、リン原子またはビスマス原子を表し、Ｒⁱはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル器、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、フェニル基である。ｙは０もしくは１を表す。

前記化合物（Ｖ）の具体例としては、下記式（Ｖ−１）で表される化合物を挙げることができる。

＜化合物（Ｂ）＞
前記化合物（Ｂ）としては、特に限定されるものではないが、例えば、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物などが挙げられる。化合物（Ｂ）を用いることで、光学特性の入射角依存性が小さい光学フィルターを得ることができる。

前記化合物（Ｂ）として用いることができるスクアリリウム系化合物としては、特に限定されないが、下記式（VI）および式（VII）で表される化合物（VI）および（VII）が好ましい。

式（VI）中、Ｒ^a、Ｒ^bおよびＹは、下記（VI-i）または（VI-ii）の条件を満たす。

条件（VI-i）
複数あるＲ^aは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホン酸基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、リン酸基、−Ｌ¹または−ＮＲ^eＲ^f基を表す。Ｒ^eおよびＲ^fは、それぞれ独立に水素原子、−Ｌ^a、−Ｌ^b、−Ｌ^c、−Ｌ^dまたは−Ｌ^eを表す。

複数あるＲ^bは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホン酸基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、リン酸基、−Ｌ¹または−ＮＲ^gＲ^h基を表す。Ｒ^gおよびＲ^hは、それぞれ独立に水素原子、−Ｌ^a、−Ｌ^b、−Ｌ^c、−Ｌ^d、−Ｌ^eまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒⁱ基（Ｒⁱは、−Ｌ^a、−Ｌ^b、−Ｌ^c、−Ｌ^dまたは−Ｌ^eを表す。）を表す。

複数あるＹは、それぞれ独立に−ＮＲ^jＲ^k基を表す。Ｒ^jおよびＲ^kは、それぞれ独立に水素原子、−Ｌ^a、−Ｌ^b、−Ｌ^c、−Ｌ^dまたは−Ｌ^eを表す。
Ｌ¹は、Ｌ^a、Ｌ^b、Ｌ^c、Ｌ^d、Ｌ^e、Ｌ^f、Ｌ^gまたはＬ^hである。

前記Ｌ^a〜Ｌ^hは、
（Ｌ^a）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜９の脂肪族炭化水素基、
（Ｌ^b）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜９のハロゲン置換アルキル基、
（Ｌ^c）置換基Ｌを有してもよい炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、
（Ｌ^d）置換基Ｌを有してもよい炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基、
（Ｌ^e）置換基Ｌを有してもよい炭素数３〜１４の複素環基、
（Ｌ^f）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜９のアルコキシ基、
（Ｌ^g）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜９のアシル基、または
（Ｌ^h）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜９のアルコキシカルボニル基
を表す。

置換基Ｌは、炭素数１〜９の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜９のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種である。

前記Ｌ^a〜Ｌ^hは、さらにハロゲン原子、スルホン酸基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子または基を有していてもよい。

前記Ｌ^a〜Ｌ^hは、置換基を含めた炭素数の合計が、それぞれ５０以下であることが好ましく、炭素数４０以下であることが更に好ましく、炭素数３０以下であることが特に好ましい。炭素数がこの範囲よりも多いと、色素の合成が困難となる場合があるとともに、単位質量あたりの吸収強度が小さくなってしまう傾向がある。

条件（VI-ii）
１つのベンゼン環上の２つのＲ^aのうちの少なくとも１つが、同じベンゼン環上のＹと相互に結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む構成原子数５または６の複素環を形成し、前記複素環は置換基を有していてもよく、Ｒ^bおよび前記複素環の形成に関与しないＲ^aは、それぞれ独立に前記（VI-i）のＲ^bおよびＲ^aと同義である。

式（VII）中、Ｘhは、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｎ−Ｒ^cまたはＣ−Ｒ^dＲ^dを表し；複数あるＲ^cは、それぞれ独立に水素原子、−Ｌ^a、−Ｌ^b、−Ｌ^c、−Ｌ^dまたは−Ｌ^eを表し；複数あるＲ^dは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホン酸基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、リン酸基、−Ｌ¹または−ＮＲ^eＲ^f基を表し、隣り合うＲ^d同士は連結して置換基を有していてもよい環を形成してもよく；Ｌ^a〜Ｌ^e、Ｌ¹、Ｒ^eおよびＲ^fは、前記式（VI）において定義したＬ^a〜Ｌ^e、Ｌ¹、Ｒ^eおよびＲ^fと同義である。

化合物（VI）および化合物（VII）は、下記式（VI-1）および下記式（VII-1）のような記載方法に加え、下記式（VI-2）および下記式（VII-2）のように共鳴構造を取るような記載方法でも構造を表すことができる。つまり、下記式（VI-1）と下記式（VI-2）の違い、および下記式（VII-1）と下記式（VII-2）の違いは構造の記載方法のみであり、化合物としてはどちらも同一のものを表す。本発明中では特に断りのない限り、下記式（VI-1）および下記式（VII-1）のような記載方法にてスクアリリウム系化合物の構造を表すものとする。

化合物（VI）および化合物（VII）は、それぞれ上記式（VI）および上記式（VII）の要件を満たせば特に構造は限定されないが、例えば上記式（VI-1）および上記式（VII-1）のように構造を表した場合、中央の四員環に結合している左右の置換基は同一であっても異なっていてもよいが、同一であった方が合成上容易であるため好ましい。なお、例えば、下記式（VI-3）で表される化合物と下記式（VI-4）で表される化合物は、同一の化合物であると見なすことができる。

前記化合物（Ｂ）として用いることができるフタロシアニン系化合物としては、特に限定されないが、例えば、下記式（VIII）で表される化合物（VIII）が好ましい。

式（VIII）中、Ｍbは、２個の水素原子、２個の１価の金属原子、２価の金属原子、または３価もしくは４価の金属原子を含む置換金属原子を表し、複数あるＲ_a、Ｒ_b、Ｒ_cおよびＲ_dは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−Ｌ¹、−Ｓ−Ｌ²、−ＳＳ−Ｌ²、−ＳＯ₂−Ｌ³、−Ｎ＝Ｎ−Ｌ⁴を表す。または、複数あるＲ_a、Ｒ_b、Ｒ_cおよびＲ_dは、Ｒ_aとＲ_b、Ｒ_bとＲ_cおよびＲ_cとＲ_dのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、下記式（VIII−Ａ）〜（VIII−Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表す。ただし、同じ芳香環に結合したＲ_a、Ｒ_b、Ｒ_cおよびＲ_dのうち少なくとも１つが水素原子ではない。

前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（VI）において定義した置換基Ｌを有してもよく、
Ｌ¹は前記式（VI）において定義したＬ¹と同義であり、
Ｌ²は、水素原子または前記式（VI）において定義したＬ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｌ³は、水酸基または前記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｌ⁴は、前記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表す。

式（VIII−Ａ）〜（VIII−Ｈ）中、Ｒ_xとＲ_yの組み合わせは、Ｒ_aとＲ_b、Ｒ_bとＲ_cまたはＲ_cとＲ_dの組み合わせであり、
複数あるＲ_A〜Ｒ_Lは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−Ｌ¹、−Ｓ−Ｌ²、−ＳＳ−Ｌ²、−ＳＯ₂−Ｌ³、−Ｎ＝Ｎ−Ｌ⁴を表し、
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Ｌを有してもよく、Ｌ¹〜Ｌ⁴は前記式（VI）において定義したＬ¹〜Ｌ⁴と同義である。

前記化合物（Ｂ）として用いることができるナフタロシアニン系化合物としては、特に限定されないが、例えば、下記式（IX）で表される化合物（IX）が好ましい。

式（IX）中、Ｍcは、前記式（VIII）のＭbと同義であり、Ｒ_a、Ｒ_b、Ｒ_c、Ｒ_d、Ｒ_eおよびＲ_fは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−Ｌ¹、−Ｓ−Ｌ²、−ＳＳ−Ｌ²、−ＳＯ₂−Ｌ³、−Ｎ＝Ｎ−Ｌ⁴を表す。

前記化合物（Ｂ）として用いることができるシアニン系化合物としては、特に限定されないが、例えば、下記式（Ｘ−１）〜（Ｘ−３）で表される化合物（Ｘ−１）〜（Ｘ−３）が好ましい。

式（Ｘ−１）〜（Ｘ−３）中、Ｘ_b ^-は１価のアニオンを表し、
複数あるXiは、独立に炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、
複数あるＲ_a、Ｒ_b、Ｒ_c、Ｒ_d、Ｒ_e、Ｒ_f、Ｒ_g、Ｒ_hおよびＲ_iは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−Ｌ¹、−Ｓ−Ｌ²、−ＳＳ−Ｌ²、−ＳＯ₂−Ｌ³、−Ｎ＝Ｎ−Ｌ⁴、または、Ｒ_bとＲ_c、Ｒ_dとＲ_e、Ｒ_eとＲ_f、Ｒ_fとＲ_g、Ｒ_gとＲ_hおよびＲ_hとＲ_iのうち少なくとも１つの組み合わせが結合した、下記式（Ｘ−Ａ）〜（Ｘ−Ｈ）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を表し、
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式（VI）において定義した置換基Ｌを有してもよく、
Ｌ¹は、前記式（VI）において定義したＬ¹と同義であり、
Ｌ²は、水素原子または前記式（VI）において定義したＬ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｌ³は、水素原子または前記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｌ⁴は、前記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
Ｚ_a〜Ｚ_dおよびＹ_a〜Ｙ_dは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−Ｌ¹、−Ｓ−Ｌ²、−ＳＳ−Ｌ²、−ＳＯ₂−Ｌ³、−Ｎ＝Ｎ−Ｌ⁴（Ｌ¹〜Ｌ⁴は、前記Ｒ_a〜Ｒ_iにおけるＬ¹〜Ｌ⁴と同義である。）、あるいは、
隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含んでもよい５乃至６員環の脂環式炭化水素基、
隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成される、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基、または、
隣接した二つから選ばれるＺ同士もしくはＹ同士が相互に結合して形成され、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも１つ含む、炭素数３〜１４の複素芳香族炭化水素基を表し、
これらの脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数１〜９の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよい。

式（Ｘ−Ａ）〜（Ｘ−Ｈ）中、Ｒ_xとＲ_yの組み合わせは、Ｒ_bとＲ_c、Ｒ_dとＲ_e、Ｒ_eとＲ_f、Ｒ_fとＲ_g、Ｒ_gとＲ_hおよびＲ_hとＲ_iの組み合わせであり、
複数あるＲ_A〜Ｒ_Lは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−Ｌ¹、−Ｓ−Ｌ²、−ＳＳ−Ｌ²、−ＳＯ₂−Ｌ³または−Ｎ＝Ｎ−Ｌ⁴（Ｌ¹〜Ｌ⁴は、前記式（Ｘ−１）〜（Ｘ−３）において定義したＬ¹〜Ｌ⁴と同義である。）を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Ｌを有してもよい
＜化合物（Ｃ）＞
前記化合物（Ｃ）としては、近赤外線を吸収する色素として作用する金属錯体系化合物、染料または顔料を用いることができ、具体的には、ジイモニウム系化合物、金属ジチオラート錯体系化合物、およびリン酸銅錯体系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を挙げることができる。このような化合物（Ｃ）を用いることにより、幅広い近赤外波長領域における吸収特性と優れた可視光透過率を達成することができる。化合物（Ｃ）は、１種単独で使用してもよく、２種以上を使用してもよい。

≪ジイモニウム系化合物≫
前記ジイモニウム系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば、下記式（XI）で表わされる化合物が好ましい。

式（XI）中、Ｒ¹〜Ｒ¹⁷は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−ＮＲ^gＲ^h基、−ＳＲⁱ基、−ＳＯ₂Ｒⁱ基、−ＯＳＯ₂Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^hのいずれかを表し、Ｒ^gおよびＲ^hは、それぞれ独立に水素原子、−Ｃ（Ｏ）Ｒⁱ基または下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、Ｒⁱは下記Ｌ^a〜Ｌ^eのいずれかを表し、
（Ｌ^a）炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基
（Ｌ^b）炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基
（Ｌ^c）炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基
（Ｌ^d）炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基
（Ｌ^e）炭素数３〜１４の複素環基
（Ｌ^f）炭素数１〜１２のアルコキシ基
（Ｌ^g）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアシル基、
（Ｌ^h）置換基Ｌを有してもよい炭素数１〜１２のアルコキシカルボニル基
置換基Ｌは、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のハロゲン置換アルキル基、炭素数３〜１４の脂環式炭化水素基、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基および炭素数３〜１４の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、ｎは０〜４の整数、Ｘは電荷を中和させるのに必要なアニオンを表す。

前記Ｒ¹としては、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基であり、より好ましくはイソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基である。

前記Ｒ²〜Ｒ¹⁷としては、好ましくは塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基フェニル基、水酸基、アミノ基、ジメチルアミノ基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、Ｎ−メチルアセチルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基、ｎ−ブチルスルホニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基であり、より好ましくは塩素原子、フッ素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、水酸基、ジメチルアミノ基、メトキシ基、エトキシ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、トリフルオロメタノイルアミノ基、ペンタフルオロエタノイルアミノ基、ｔ−ブタノイルアミノ基、シクロヘキシノイルアミノ基であり、特に好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基である。同じ芳香環に結合しているＲ²の数（ｎの値）は０〜４であれば特に制限されないが、０もしくは１であることが好ましい。

前記Ｘcは電荷を中和するのに必要なアニオンであり、アニオンが２価である場合には１分子、アニオンが１価の場合には２分子が必要となる。後者の場合は２つのアニオンが同一であっても異なっていてもよいが、合成上の観点から同一である方が好ましい。Ｘcはこのようなアニオンであれば特に制限されないが、一例として、下記の表１に記載のものを挙げることができる。

Ｘcは、酸とした際の酸性度が高いものであればジイモニウム系化合物のアニオンとした際にジイモニウム系化合物の耐熱性を向上できる傾向にあり、上記表１中の（Ｘｃ−１０）、（Ｘｃ−１６）、（Ｘｃ−１７）、（Ｘｃ−２１）、（Ｘｃ−２２）、（Ｘｃ−２４）、（Ｘｃ−２８）が特に好ましい。

≪金属ジチオラート系化合物≫
前記金属ジチオラート系化合物としては、特に限定されないが、下記式（XII）で表される化合物が好ましい。

式（XII）中、Ｒ²⁹〜Ｒ³²は、それぞれ独立にメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル器、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、フェニル基、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、フェニルチオ基、ベンジルチオ基、隣り合うＲ²⁹とＲ³⁰、Ｒ³¹とＲ³²同士が環を形成する基である。隣り合うＲ²⁹とＲ³⁰、Ｒ³¹とＲ³²同士が環を形成する基である場合、環の中に少なくとも一つ以上の硫黄原子もしくは窒素原子が含まれる複素環であることが好ましい。Ｍａは金属原子であり、好ましくは遷移金属であり、より好ましくはＮｉ、Ｐｄ，Ｐｔである。ＱはＧ（Ｒⁱ）₄を表し、Ｇは窒素原子、リン原子またはビスマス原子を表し、Ｒⁱはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル器、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、フェニル基である。ｙは０もしくは１を表す。

≪市販品≫
前記化合物（Ｃ）の市販品としては、Ｓ２０５８（ＤＫＳＨ製）、ＣＩＲ−１０８ｘ、ＣＩＲ−９６ｘ、ＣＩＲ−ＲＬ、ＣＩＲ−１０８０（日本カーリット製）、Ｔ０９０８２１、Ｔ０９１０２１、Ｔ８９０２１，Ｔ０９０７２１、Ｔ０９０１２２（トスコ製）、Ｂ４３６０、Ｄ４７７３、Ｄ５０１３（東京化成工業製）、Ｓ４２５３、Ｓ１４２６、Ｓ１４４５（スペクトラムインフォ製）、Ｅｘｃｏｌｏｒ ＩＲ１、ＩＲ２ 、ＩＲ３ 、ＩＲ４（日本触媒製）などを挙げることができる。

＜その他成分＞
前記透明樹脂基板および前記樹脂層には、本発明の効果を損なわない範囲において、その他成分として、さらに酸化防止剤、近紫外線吸収剤および蛍光消光剤などを含有してもよい。これらその他成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記近紫外線吸収剤としては、例えばアゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物などが挙げられる。
前記酸化防止剤としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２'−ジオキシ−３，３'−ジ−ｔ−ブチル−５，５'−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、およびトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。

なお、これらその他成分は、透明樹脂基板および樹脂層を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を合成する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂１００質量部に対して、通常０．０１〜５．０質量部、好ましくは０．０５〜２．０質量部である。

＜基材の製造方法＞
前記基材として、ガラス基板または透明樹脂基板上に前記化合物（Ａ）等の光吸収性化合物を含有する透明樹脂層（光吸収層）を積層する場合、例えば、ガラス基板または透明樹脂基板上に光吸収性化合物を含む樹脂溶液を溶融成形またはキャスト成形することで、好ましくはスピンコート、スリットコート、インクジェットなどの方法にて塗工した後に溶媒を乾燥除去し、必要に応じてさらに光照射や加熱を行うことで、前記ガラス基板または前記透明樹脂基板上に光吸収層が形成された基材を製造することができる。

前記基材が、前記化合物（Ａ）等の光吸収性化合物を含有する透明樹脂製基板（光吸収層）からなる場合、例えば、光吸収性化合物を含む樹脂溶液を溶融成形またはキャスト成形することにより、透明樹脂基板（光吸収層）からなる基材を製造することができる。さらに、必要により、前記透明樹脂基板（光吸収層）の成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基材を製造することができる。

≪溶融成形≫
前記溶融成形としては、具体的には、樹脂と光吸収性化合物と必要に応じて他の成分とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法；樹脂と光吸収性化合物と必要応じて他の成分とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法；または、光吸収性化合物、樹脂、溶剤および必要に応じて他の成分を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。

≪キャスト成形≫
前記キャスト成形としては、光吸収性化合物、樹脂、溶剤および必要に応じて他の成分を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法；または光吸収性化合物と、光硬化性樹脂および／または熱硬化性樹脂と、必要に応じて他の成分とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法などにより製造することもできる。

前記基材が、前記化合物（Ａ）等の光吸収性化合物を含有する透明樹脂製基板からなる場合には、該基板は、キャスト成形後、支持体から塗膜を剥離することにより得ることができ、また、前記基材が、ガラス基板や透明樹脂基板上に光吸収性層が積層されたものである場合には、該基材は、キャスト成形後、塗膜を剥離しないことで得ることができる。

前記方法で得られた透明樹脂層（光吸収層）中の残留溶剤量は可能な限り少ない方がよい。具体的には、前記残留溶剤量は、透明樹脂層の重さに対して、好ましくは３質量％以下、より好ましくは１質量％以下、さらに好ましくは０．５質量％以下である。残留溶剤量が前記範囲にあると、変形や特性が変化しにくい、所望の機能を容易に発揮できる透明樹脂層が得られる。

≪密着層≫
前記透明樹脂層とガラス基板は、互いに化学的な組成、および熱線膨張率が異なるため、透明樹脂層とガラス基板との間に硬化層を設けて、それらの十分な密着性を確保することが好ましい。本発明に用いる硬化層は、透明樹脂層とガラス基板との間の密着性を確保できる材料からなれば、特に限定されないが、例えば、（ａ）（メタ）アクリロイル基含有化合物に由来する構造単位、（ｂ）カルボン酸基含有化合物に由来する構造単位、および（ｃ）エポキシ基含有化合物に由来する構造単位を有すると、樹脂層とガラス基板との密着性が高くなるため好ましい。

（ａ）（メタ）アクリロイル基含有化合物に由来する構造単位
構造単位（ａ）としては、（メタ）アクリロイル基含有化合物に由来する構造単位であれば特に限定されるものではない。（メタ）アクリロイル基含有化合物としては、例えば、単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルが、重合性が良好である点から好ましい。本発明において、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を意味する。

上記単官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルメタクリレート、（２−アクリロイルオキシエチル）（２−ヒドロキシプロピル）フタレート、（２−メタクリロイルオキシエチル）（２−ヒドロキシプロピル）フタレートおよびω―カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレートを挙げることができる。

これらの市販品としては、商品名で、例えば、アロニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４、同Ｍ−５３００（以上、東亞合成（株）製）；ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ−１１０Ｓ、同 ＴＣ−１２０Ｓ（以上、日本化薬（株）製）；ビスコート１５８、同２３１１（以上、大阪有機化学工業（株）製）を挙げることができる。

上記２官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、９，９−ビス[４−（２−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレートおよび１，９−ノナンジオールジメタクリレートを挙げることができる。

これらの市販品としては、商品名で、例えばアロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（以上、東亞合成（株）製）；ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ、同 ＨＸ−２２０、同 Ｒ−６０４（以上、日本化薬（株）製）；ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）；ライトアクリレート１，９−ＮＤＡ（共栄社化学（株）製）；を挙げることができる。

上記３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリ（２−アクリロイルオキシエチル）フォスフェート、トリ（２−メタクリロイルオキシエチル）フォスフェートのほか、直鎖アルキレン基および脂環式構造を有し且つ２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内に１個以上の水酸基を有し且つ３個、４個または５個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物とを反応させて得られる多官能ウレタンアクリレート系化合物を挙げることができる。

３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルの市販品としては、商品名で、例えばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−３１５、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同ＴＯ−１４５０（以上、東亞合成（株）製）；ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同 ＤＰＨＡ、同 ＤＰＣＡ−２０、同 ＤＰＣＡ−３０、同 ＤＰＣＡ−６０、同 ＤＰＣＡ−１２０、同 ＤＰＥＡ−１２（以上、日本化薬（株）製）；ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）；や、多官能ウレタンアクリレート系化合物を含有する市販品として、ニューフロンティア Ｒ−１１５０（第一工業製薬（株）製）；ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬（株）製）を挙げることができる。
上記硬化層には、これらの（メタ）アクリロイル基含有化合物（ａ）を１種単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

（ｂ）カルボン酸基含有化合物に由来する構造単位
構造単位（ｂ）としては、カルボン酸基を含有する化合物に由来する構造単位であれば特に限定されるものではない。カルボン酸基含有化合物としては、例えばモノカルボン酸、ジカルボン酸、ジカルボン酸の無水物およびカルボン酸基を有する重合体を挙げることができる。

モノカルボン酸としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸および２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸を挙げることができる。

上記ジカルボン酸としては、例えばマレイン酸、フマル酸およびシトラコン酸を挙げることができる。
上記ジカルボン酸の無水物としては、上記ジカルボン酸の無水物等を挙げることができる。

また、カルボン酸基を有する重合体としては、カルボン酸基を含有する化合物である、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸および無水マレイン酸等から選ばれる１種以上の重合性を有する化合物からなる重合体、または、これらの化合物と前記（メタ）アクリロイル基含有化合物との共重合体を好適に用いることができる。

これらのうち、共重合反応性の点から、アクリル酸、メタクリル酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸または無水マレイン酸が好ましい。

（ｃ）エポキシ基含有化合物に由来する構造単位
構造単位（ｃ）としては、エポキシ基含有化合物に由来する構造単位であれば特に限定されるものではない。エポキシ基(オキシラニル基)含有化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステル、α−アルキルアクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステルおよび不飽和結合を有するグリシジルエーテル化合物等のオキシラニル基を有する不飽和化合物；オキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル等のオキセタニル基を有する不飽和化合物を挙げることができる。

（メタ）アクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステルとして、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２−メチルグリシジル、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸６，７−エポキシヘプチル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルおよび（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチルを挙げることができ、α−アルキルアクリル酸オキシラニル（シクロ）アルキルエステルとして、例えばα−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチルおよびα−エチルアクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルを挙げることができ、不飽和結合を有するグリシジルエーテル化合物として、例えばｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテルおよびｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルを挙げることができ、オキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルとして、例えば３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２−メチルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−３−エチルオキセタン、２−エチル−３−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタンおよび３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタンを挙げることができる。

これらのうち特に、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸２−メチルグリシジル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、３−メタクリロイルオキシメチル−３−エチルオキセタン、３−メチル−３−メタクリロイルオキシメチルオキセタンまたは３−エチル−３−メチルオキセタンが、重合性の点から好ましい。

（ｄ）任意成分
前記硬化層には、本発明の効果を損なわない範囲において、酸発生剤、密着助剤、界面活性剤、重合開始剤等の任意成分を添加することができる。これらの添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるが、前記（メタ）アクリロイル基含有化合物、前記カルボン酸基含有化合物および前記エポキシ基含有化合物の合計１００質量部に対して、それぞれ通常０．０１〜１５．０質量部、好ましくは０．０５〜１０．０質量部であることが望ましい。

前記重合開始剤は、紫外線や電子線等の光線に感応してモノマー成分の重合を開始しうる活性種を生じる成分である。このような重合開始剤としては特に限定されるものではないが、Ｏ−アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、アルキルフェノン化合物、ベンゾフェノン化合物などを挙げることができる。これらの具体例としては、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−ｎ−ブチル−６−（２−エチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１，２−オクタンジオン−１−[４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）]、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどを挙げることができる。これらの重合開始剤は単独で、または２種以上を混合して使用することができる。

硬化層は、例えば、前記（メタ）アクリロイル基含有化合物、前記カルボン酸基含有化合物、前記エポキシ基含有化合物および必要により前記任意成分を含む組成物（Ｉ）を溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法、該組成物（Ｉ）および溶剤を含む液状組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法、または、上述の液状組成物をキャスティング（キャスト成形）する方法により製造することができる。

溶融成形する方法およびキャスト成形する方法としては、前記と同様の方法等が挙げられる。
前記（メタ）アクリロイル基含有化合物の配合量は、組成物（Ｉ）１００質量部あたり、好ましくは３０〜７０質量部、さらに好ましくは４０〜６０質量部であり、前記カルボン酸基含有化合物の配合量は、組成物（Ｉ）１００質量部あたり、好ましくは５〜３０質量部、さらに好ましくは１０〜２５質量部であり、前記エポキシ基含有化合物の配合量は、組成物（Ｉ）１００質量部あたり、好ましくは１５〜５０質量部、さらに好ましくは２０〜４０質量部である。

また、任意成分の配合量は、所望の特性に応じて適宜選択されるが、組成物（Ｉ）１００質量部あたり、好ましくは０．０１〜１５．０質量部、さらに好ましくは０．０５〜１０．０質量部である。
硬化層の厚みは、本発明の効果を損なわない限り特に制限されないが、好ましくは０．１〜５．０μｍ、さらに好ましくは０．２〜３．０μｍである。

＜誘電体多層膜＞
本発明の光学フィルターは、前記基材の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有することが好ましい。本発明における誘電体多層膜とは、近赤外線を反射する能力を有する膜または可視域における反射防止効果を有する膜であり、誘電体多層膜を有することでより優れた可視光透過率と近赤外線カット特性を達成することができる。

誘電体多層膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層したものが挙げられる。高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．７〜２．５の材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウム等を少量（例えば、主成分に対して０〜１０質量％）含有させたものが挙げられる。

低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率が通常は１．２〜１．６の材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。

高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これらの材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、基板上に、直接、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法等により、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。

高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さは、通常、遮断しようとする近赤外線波長をλ（ｎｍ）とすると、０．１λ〜０．５λの厚さが好ましい。λ（ｎｍ）の値としては、例えば７００〜１４００ｎｍ、好ましくは７５０〜１３００ｎｍである。厚さがこの範囲であると、屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）との積（ｎ×ｄ）がλ／４で算出される光学的膜厚と、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さとがほぼ同じ値となって、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮断・透過を容易にコントロールできる傾向にある。

誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、光学フィルター全体として１６〜７０層であることが好ましく、２０〜６０層であることがより好ましい。各層の厚み、光学フィルター全体としての誘電体多層膜の厚みや合計の積層数が前記範囲にあると、十分な製造マージンを確保できる上に、光学フィルターの反りや誘電体多層膜のクラックを低減することができる。

本発明では吸収性化合物の吸収特性に合わせて高屈折率材料層および低屈折率材料層を構成する材料種、高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚さ、積層の順番、積層数を適切に選択することで、可視域に十分な透過率を確保した上で近赤外波長域に十分な光線カット特性を有し、且つ、斜め方向から近赤外線が入射した際の反射率を低減することができる。

ここで、前記条件を最適化するには、例えば、光学薄膜設計ソフト（例えば、Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用い、可視域の反射防止効果と近赤外域の光線カット効果を両立できるようにパラメーターを設定すればよい。上記ソフトの場合、例えば第一光学層の設計にあたっては、波長４００〜７００ｎｍの目標透過率を１００％、Ｔａｒｇｅｔ Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を１とした上で、波長７０５〜９５０ｎｍの目標透過率を０％、Ｔａｒｇｅｔ Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を０．５にするなどのパラメーター設定方法が挙げられる。これらのパラメーターは基材の各種特性などに合わせて波長範囲をさらに細かく区切ってＴａｒｇｅｔ Ｔｏｌｅｒａｎｃｅの値を変えることもできる。

本発明の光学フィルターが前記誘電体多層膜を有する場合、波長８００〜１０００ｎｍの領域において、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＯＤ値（２）の最大値が、好ましくは５．０以上、より好ましくは５．０〜８．０、さらに好ましくは５．０〜７．０である。また、波長４３０〜５８０ｎｍの領域において、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値（以下「平均透過率」ともいう。）が、好ましくは６０％以上、より好ましくは６５〜９９％、さらに好ましくは７０〜９０％である。このような光学特性を有することにより、環境光センサー素子、固体撮像素子に対するセンシング光源からの反射光の影響を問題無いレベルまで軽減しつつ、高可視光透過率(センサー感度の低下が無い)を両立させることが可能となり、センシング機能を備えた電子機器用環境光センサー、固体撮像素子用として高性能の光学フィルターを提供することが可能となる。

＜その他の機能膜＞
本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材と誘電体多層膜との間、基材の誘電体多層膜が設けられた面と反対側の面、または誘電体多層膜の基材が設けられた面と反対側の面に、基材や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。

本発明の光学フィルターは、前記機能膜からなる層を１層含んでもよく、２層以上含んでもよい。本発明の光学フィルターが前記機能膜からなる層を２層以上含む場合には、同様の層を２層以上含んでもよいし、異なる層を２層以上含んでもよい。

機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および／または帯電防止剤等のコーティング剤などを基材または誘電体多層膜に、前記と同様に溶融成形またはキャスト成形する方法等を挙げることができる。

また、前記コーティング剤などを含む硬化性組成物をバーコーター等で基材または誘電体多層膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。

前記コーティング剤としては、紫外線（ＵＶ）／電子線（ＥＢ）硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤を含む前記硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。

また、前記硬化性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。前記重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を１００質量％とした場合、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜１０質量％、さらに好ましくは１〜５質量％である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性が優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。

さらに、前記硬化性組成物には溶剤として有機溶剤を加えてもよく、有機溶剤としては、公知のものを使用することができる。有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。

これら溶剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記機能膜の厚さは、好ましくは０．１〜２０μｍ、さらに好ましくは０．５〜１０μｍ、特に好ましくは０．７〜５μｍである。

また、基材と機能膜および／または誘電体多層膜との密着性や、機能膜と誘電体多層膜との密着性を上げる目的で、基板、機能膜または誘電体多層膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。

［光学フィルターの用途］
本発明の光学フィルターは、センシング光源からの反射光を効果的にカットしつつ、高可視光透過率、反り、誘電体多層膜の密着性、多層膜での反射によるセンサーへのノイズレスを両立させることが可能な特性を有する。従って、スマートフォン、タブレット端末、ウエアラブルデバイス、自動車用カメラ、テレビ、ゲーム機などのセンシング機能を備えた装置内の環境光センサーモジュールやカメラモジュール用の光学フィルターとして特に有用である。

＜固体撮像装置＞
本発明の固体撮像装置は、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、固体撮像装置とは、ＣＣＤやＣＭＯＳイメージセンサー等といった固体撮像素子を備えたイメージセンサーであり、具体的にはデジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、デジタルビデオカメラ等の用途に用いることができる。

＜カメラモジュール＞
本発明のカメラモジュールは、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、本発明の光学フィルターをカメラモジュールに用いる場合について具体的に説明する。図３に、カメラモジュールの断面概略図の一例を示す。図３では、光学フィルター６はレンズ５とイメージセンサー７の間に配置されているが、レンズの上部に配置することもできる。

＜環境光センサーモジュール＞
本発明の環境光センサーモジュールは、本発明の光学フィルターを具備する。すなわち、本発明の光学フィルター、光電変換素子および光拡散フィルム等を組み合わせて環境光センサーモジュールとして用いることができる。ここで、環境光センサーとは、周囲の明るさや色調（夕方の時間帯で赤色が強いなど）を感知可能なセンサーであり、例えば、環境光センサーで感知した情報により機器に搭載されているディスプレイの照度や色合いを制御することが可能である。

図４は、周囲の明るさを検知する環境光センサー２００ａの一例を示す。環境光センサー２００ａは、光学フィルター１００及び光電変換素子２０２を備える。光電変換素子２０２は、受光部に光が入射すると光起電力効果により電流や電圧を発生する。光学フィルター１００は光電変換素子２０２の受光面側に設けられている。光学フィルター１００により、光電変換素子２０２の受光面に入射する光は可視光帯域の光となり、近赤外線帯域（８００ｎｍ〜２５００ｎｍ）の光は遮断される。環境光センサー２００ａは可視光に感応して信号を出力する。

なお、環境光センサー２００ａにおいて、光学フィルター１００と光電変換素子２０２との間には他の透光性の層が介在していてもよい。例えば、光学フィルター１００と光電変換素子２０２との間には、封止材として透光性を有する樹脂層が設けられていてもよい。

光電変換素子２０２は、第１電極２０６、光電変換層２０８、第２電極２１０を有している。また、受光面側にはパッシベーション膜２１６が設けられている。光電変換層２０８は光電効果を発現する半導体で形成される。例えば、光電変換層２０８は、シリコン半導体を用いて形成される。光電変換層２０８はダイオード型の素子であり、内蔵電界により光起電力を発現する。なお、光電変換素子２０２は、ダイオード型の素子に限定されず、光導電型の素子（フォトレジスタ、光依存性抵抗、光導電体、フォトセルとも呼ばれる）、またはフォトトランジスタ型の素子であってもよい。

光電変換層２０８はシリコン半導体以外に、ゲルマニウム半導体、シリコン・ゲルマニウム半導体を用いてもよい。また、光電変換層２０８として、ＧａＰ、ＧａＡｓＰ、ＣｄＳ、ＣｄＴｅ、ＣｕＩｎＳｅ₂などの化合物半導体材料を用いてもよい。半導体材料によって形成される光電変換素子２０２は、可視光線帯域から近赤外線帯域の光に対して感度を有する。例えば、光電変換層２０８がシリコン半導体で形成される場合、シリコン半導体のバンドギャップエネルギーは１．１２ｅＶであるので、原理的には近赤外光である波長７００〜１１００ｎｍの光を吸収し得る。しかし、光学フィルター１００を備えることで環境光センサー２００ａは近赤外光には感応せず、可視光域の光に対して感度を有する。なお、光電変換素子２０２は、光学フィルター１００を透過した光が選択的に照射されるように、遮光性の筐体２０４で囲まれていることが好ましい。環境光センサー２００ａは、光学フィルター１００を備えることで、近赤外光を遮断して、周囲光を検知することができる。それにより環境光センサー２００ａが、近赤外光に感応して誤動作するといった不具合を解消することができる。

図５は、周囲の明るさに加え色調を検知する環境光センサー２００ｂの一例を示す。環境光センサー２００ｂは、光学フィルター１００、光電変換素子２０２ａ〜２０２ｃ、カラーフィルタ２１２ａ〜２１２ｃを含んで構成されている。光電変換素子２０２ａの受光面上には赤色光帯域の光を透過するカラーフィルタ２１２ａが設けられ、光電変換素子２０２ｂの受光面上には緑色光帯域の光を透過するカラーフィルタ２１２ｂが設けられ、光電変換素子２０２ｃの受光面上には青色光帯域の光を透過するカラーフィルタ２１２ｃが設けられている。光電変換素子２０２ａ〜２０２ｃは、素子分離絶縁層２１４で絶縁されていることを除き、図４で示すものと同様の構成を備えている。この構成により、光電変換素子２０２ａ〜２０２ｃは独立して照度を検知することが可能となっている。なお、カラーフィルタ２１２ａ〜２１２ｃと光電変換素子２０２ａ〜２０２ｃとの間にはパッシベーション膜２１６が設けられていてもよい。

光電変換素子２０２ａ〜２０２ｃは、可視光線波長領域から近赤外線波長領域の広い範囲にわたって感度を有する。そのため、光学フィルター１００に加え、光電変換素子２０２ａ〜２０２ｃに対応してカラーフィルタ２１２ａ〜２１２ｃを設けることで、環境光センサー２００ｂは、近赤外光を遮断して、センサーの誤動作を防止しつつ、各色に対応した光を検知することができる。環境光センサー２００ｂは、近赤外域の光を遮断する光学フィルター１００とカラーフィルタ２１２ａ〜２１２ｃとを備えることにより、周囲光を複数の波長帯域の光に分光して検知するこができるだけでなく、従来のカラーセンサーでは近赤外線の影響を受けて正確に検知ができなくなっていた暗い環境下でも適用可能となる。

＜電子機器＞
本発明の電子機器は、本発明の光学フィルターを具備し、より好ましい態様としては、上述した本発明の環境光センサーを含む。以下、図面を参照しながら、本発明の電子機器について説明する。

図６は、本発明の一実施形態に係るイメージセンサー７および環境光センサー２００を有する電子機器３００の一例を示す。電子機器３００は、筐体３０７、表示パネル３０６、スピーカ部３０５、ＲＧＢカメラモジュール３０１、環境光センサー２００、ドットプロジェクター３０２、投光イルミネーター３０３およびＩＲカメラ３０４を含む。表示パネル３０６はタッチパネルが採用され、表示機能に加え入力機能を兼ね備えている。

環境光センサー２００は、筐体３０７に設けられる表面パネル３０６の背面に設けられている。すなわち、環境光センサー２００は電子機器３００の外観に表れず、透光性の表面パネルを通して光が入射する。表面パネルは、光学フィルター１００により近赤外線域の光を遮断し、可視光域の光が光電変換素子２０２へ入射する。電子機器３００は環境光センサー２００により、表示パネル３０６の照度や色合いを制御することができる。

本実施形態によれば、ドットプロジェクター３０２や投光イルミネーター３０３の発光素子（発光中心波長８５０ｎｍ、９４０ｎｍなど）からの反射光（対象物および筐体内からの反射光）を本発明の光学フィルターが効率的にカットすることにより、カメラモジュールのイメージセンサーや、環境光センサーへのノイズ光の入射を抑制し、カメラ画質の悪化や、環境光センサーによる画面色調調整の作動不良を防止することができる。

近年、電子機器の高機能化に伴い、多種多様なセンサー類が電子機器内に装備されるようになり、限られた機器内のスペースに多数のセンサーを装着することが必要となるため、各モジュールの小型化と共に、各モジュールがより近接して設置されるようになりつつある。例えばセンシング用発光素子と光電変換素子（環境光センサー素子、固体撮像素子等）が近接して設置された場合、発光素子からの光が筐体内で反射し、光電変換素子に入光することによる悪影響が拡大する問題があるが、本発明の光学フィルターを適用することにより有効にその悪影響を軽減することが可能となる。本発明の光学フィルターは、同一装置内にある発光素子モジュールと環境光センサーモジュール、カメラモジュール間の距離が４ｃｍ以内である場合に有効に使用することができ、３ｃｍ以内である場合に更に有効に使用することができる。

以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、「部」は、特に断りのない限り「質量部」を意味する。また、各物性値の測定方法および物性の評価方法は以下のとおりである。

＜分子量＞
樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の（ａ）または（ｂ）の方法にて測定を行った。

（ａ）ウオターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製のゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（１５０Ｃ型、カラム：東ソー社製Ｈタイプカラム、展開溶剤：ｏ−ジクロロベンゼン）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。

（ｂ）東ソー社製ＧＰＣ装置（ＨＬＣ−８２２０型、カラム：ＴＳＫｇｅｌα‐Ｍ、展開溶剤：ＴＨＦ）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）を測定した。

＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００）を用いて、昇温速度：毎分２０℃、窒素気流下で測定した。

＜分光透過率および光学濃度（ＯＤ値）＞
光学フィルターの各波長域における反射率および透過率は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計（Ｕ−４１００）を用いて測定した。
また、光学フィルターの光学濃度（ＯＤ値）は、日本分光株式会社 紫外可視赤外分光光度計Ｖ−７３００を用いて測定した透過率の値から計算により求めた。

＜反り評価＞
縦２００ｍｍ×横２００ｍｍの光学フィルターを平らなガラス板上に静置し、光学フィルターの角がガラス板上から反りあがった垂直高さを反りとして、定規を用いて測定した。光学フィルターの四隅について、反りを測定し、四隅の反りの平均値を反り量とした。反り量が１０ｍｍ以下の場合、反り特性「○」と評価し、１０ｍｍ以上の場合、反り特性「×」と評価した。

＜誘電体多層膜の密着性評価＞
２０ｍｍ角にカットした誘電体多層膜を付けたフィルムを純水中で３０分間煮沸した。その後、取り出したフィルムにカッターナイフを用いて１ｍｍ間隔のクロスカット（縦横１１本）を付け、カット面にテープニチバンＮｏ．４０５を貼って引き剥がし、剥がれの有無を確認した。剥離が認められない場合を「○」、剥離が認められる場合を「×」と評価した。

＜環境光センサー性能＞
Ａｐｐｌｅ社製「ｉＰｈｏｎｅ Ｘ」の環境光センサーモジュールの近赤外線カットフィルターを取り出し、代わりに、後述の実施例および比較例で作製した光学フィルターを環境光センサーモジュールに組み込んだ。Ｍｉｇｈｔｅｘ社製ＬＥＤライトＬＣＳ−０８５０−０２（発光ピーク波長：８５０ｎｍ）またはＬＣＳ−０９４０−０２（発光ピーク波長：９４０ｎｍ）を約１ｍの距離から環境光センサーモジュールが組み込まれている窓部に照射し、環境光センサーの作動状況を観察した。環境光センサーの作動状況が非常に良好な場合を「◎」。概ね作動状況は良好であるが、時々作動不良が認められることがある場合を「○」、作動状況が不良である場合を「×」とした。

＜カメラモジュール画像評価＞
Ａｐｐｌｅ社製「ｉＰｈｏｎｅ Ｘ」のフロント(サブ)カメラのカメラモジュールの近赤外線カットフィルターを取り出し、代わりに、後述の実施例および比較例で作製した光学フィルターをカメラモジュールに組み込んだ。Ｍｉｇｈｔｅｘ社製ＬＥＤライトＬＣＳ−０８５０−０２（発光ピーク波長：８５０ｎｍ）またはＬＣＳ−０９４０−０２（発光ピーク波長：９４０ｎｍ）を約１ｍの距離からフロント(サブ)カメラの窓部に照射した状態で写真を撮影し、写真画像品質の評価を行った。写真画質が良好である場合を「◎」、写真画質の色調バランスが若干悪く赤っぽく見える場合を「○」、写真画質の色調バランスが悪く、全体的に赤っぽく見える場合を「×」とした。

下記実施例で用いた近赤外線吸収色素（光吸収化合物）は、一般的に知られている方法で合成した。一般的合成方法としては、例えば、特許第３３６６６９７号公報、特許第２８４６０９１号公報、特許第２８６４４７５号公報、特許第３７０３８６９号公報、特開昭６０−２２８４４８号公報、特開平１−１４６８４６号公報、特開平１−２２８９６０号公報、特許第４０８１１４９号公報、特開昭６３−１２４０５４号公報、「フタロシアニン−化学と機能―」（アイピーシー、１９９７年）、特開２００７−１６９３１５号公報、特開２００９−１０８２６７号公報、特開２０１０−２４１８７３号公報、特許第３６９９４６４号公報、特許第４７４０６３１号公報等などに記載されている方法を挙げることができる。

＜樹脂合成例１＞
下記式（XIII）で表される８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン（以下「ＤＮＭ」ともいう。）１００部、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部およびトルエン（開環重合反応用溶媒）３００部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／リットル）０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液（濃度０．０２５ｍｏｌ／リットル）０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であった。

このようにして得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ₆Ｈ₅）₃］₃を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ²、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下「樹脂Ａ」ともいう。）を得た。得られた樹脂Ａは、数平均分子量（Ｍｎ）が３２，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１３７，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１６５℃であった。

＜樹脂合成例２＞
３Ｌの４つ口フラスコに２，６−ジフルオロベンゾニトリル３５．１２ｇ（０．２５３ｍｏｌ）、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン８７．６０ｇ（０．２５０ｍｏｌ）、炭酸カリウム４１．４６ｇ（０．３００ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下「ＤＭＡｃ」ともいう。）４４３ｇおよびトルエン１１１ｇを添加した。続いて、４つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を１４０℃で３時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を１６０℃まで上昇させ、そのままの温度で６時間反応させた。室温（２５℃）まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物（残渣）を単離した。得られたろ物を６０℃で一晩真空乾燥し、白色粉末（以下「樹脂Ｂ」ともいう。）を得た（収率９５％）。得られた樹脂Ｂは、数平均分子量（Ｍｎ）が７５，０００、重量平均分子量（Ｍｗ）が１８８，０００であり、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２８５℃であった。

［実施例１］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、化合物（Ａ）として下記式（ａ−１）で表される化合物（吸収極大波長：９４０ｎｍ）０．２５質量部、化合物（Ｂ）として下記式（ｂ−１）で表される化合物 ０．０５質量部、下記式（ｂ−２）で表される化合物 ０．０５６質量部、化合物（Ｃ）として日本カーリット社製の光吸収剤「ＣＩＲ−ＲＬ」（吸収極大波長１０９５ｎｍ）（以下「化合物（ｃ−１）」ともいう。）０．０９質量部、およびジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の樹脂溶液（Ｅ１）を得た。得られた溶液（Ｅ１）を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、更に真空中、１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離したフィルムを更に真空中、１００℃で８時間乾燥さぜて厚さ１００μｍ、２１０ｍｍ×２１０ｍｍの透明樹脂製基板を得た。

得られた透明樹脂基板の片面に、下記樹脂組成物（１）を乾燥後の塗布層の厚みが３μｍとなるようにバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。次にコンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ²、２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化させ、透明樹脂基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成した。これにより、化合物（Ａ）を含む透明樹脂基板の両面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する基材を得た。

樹脂組成物（１）：トリシクロデカンジメタノールアクリレート６０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４０質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５質量部、メチルエチルケトン（溶剤、固形分濃度：３０％）。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は３．３（＠９４０ｎｍ）であり、波長８４０〜１０４０ｎｍのＯＤ値の平均値は１．１であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は６９．６％であった。基材の光学特性（波長別透過率）を図７に示す。

続いて、得られた基材の片面に誘電体多層膜（α）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（β）を形成し、厚さ０．１１０ｍｍの誘電体多層膜を積層した光学フィルターを得た。

誘電体多層膜（α）は、蒸着温度１００℃でシリカ（ＳｉＯ₂）層とチタニア（ＴｉＯ₂）層が交互に積層されてなる。誘電体多層膜（β）はシリカ（ＳｉＯ₂）層とチタニア（ＴｉＯ₂）層が交互に積層されてなる。誘電体多層膜（α）および（β）のいずれにおいても、シリカ層およびチタニア層は、基材側からチタニア層、シリカ層、チタニア層、・・・シリカ層、チタニア層、シリカ層の順で交互に積層されており、光学フィルターの最外層をシリカ層とした。なお、誘電体多層膜（α）および（β）は以下の様に設計を行った。

各層の厚さと層数については、可視域の反射防止効果と近赤外域の選択的な透過・反射性能を達成できるよう基材屈折率の波長依存特性や、適用した化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）等の吸収特性に合わせて光学薄膜設計ソフト（Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用いて最適化を行った。最適化を行う際、本実施例においてはソフトへの入力パラメータ（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表２の通りとした。

膜構成最適化の結果、実施例１では、誘電体多層膜（α）は、膜厚約３２〜１５８μｍのシリカ層と膜厚約１０〜９６μｍのチタニア層が交互に積層されてなる、積層数２２層の多層蒸着膜とし、誘電体多層膜（β）は、膜厚約３８〜１９２μｍのシリカ層と膜厚約１０〜１１２μｍのチタニア層が交互に積層されてなる、積層数１８層の多層蒸着膜とした。最適化を行った膜構成の一例を下記表３に示す。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は５．３であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７２．８％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図８に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０９４０−０２を用いて、本実施例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーの作動状況は良好であり、カメラモジュールの写真画像は良好であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［実施例２］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、化合物（ａ−１）４．３質量部、およびジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製し、孔径５μｍのミリポアフィルタで濾過を行い、樹脂溶液（Ｅ２−１）を得た。同様にして、樹脂Ａ １００質量部、化合物（ｂ−１）０．５質量部、化合物（ｂ−２）０．５６質量部、およびジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製し、孔径５μｍのミリポアフィルタで濾過を行い、樹脂溶液（Ｅ２−２）を得た。

２００ｍｍ×２００ｍｍの大きさにカットした、日本電気硝子（株）製透明ガラス基板「ＯＡ−１０Ｇ」（厚み２００μｍ）の両面に下記樹脂組成物（２）を、乾燥後の膜厚が約１μｍとなるようにスピンコートで塗布した後、ホットプレート上８０℃で２分間加熱し、溶媒を揮発除去し、後述する透明樹脂層との接着層として機能する樹脂層を形成した。次に、上記片面の接着層上にスピンコーターを用いて、樹脂溶液（Ｅ２−１）を乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶媒を揮発除去して透明樹脂層を形成させた。更に、もう一方の面に、樹脂溶液（Ｅ２−２）を乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶媒を揮発除去して透明樹脂層を形成した。これにより、無色ガラス基板の一方の面に化合物（Ａ）を含む樹脂層を積層し、他方の面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を積層した厚み２２０μｍの基材を得た。

樹脂組成物（２）：イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート（送品名・アロニックＭ−３１５、東亜合成化学（株）製）３０質量部、１，９−ノナンジオールジアクリレート２０質量部、メタクリル酸２０質量部、メタクリル酸グリシジル３０質量部、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５質量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルベンゾフェノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカル（株）製）５質量部およびサンエイドＳＩ−１１０主剤（三新化学工業（株）製）１質量部を混合し、固形分濃度が５０質量％となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解した後、孔径０．２μｍのミリポアフィルタでろ過し、樹脂組成物（２）を調製した。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は４．５（＠９４０ｎｍ）であり、波長８４０〜１０４０ｎｍのＯＤ値の平均値は０．６であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は６７．９％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図９に示す。

続いて、実施例１と同様の方法により、上記基材の片面に誘電体多層膜（α）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（β）を形成し、厚さ２２４μｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は６．３（＠９４０ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７１．１％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図１０に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０９４０−０２を用いて、本実施例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーの作動状況は良好であり、カメラモジュールの写真画像は良好であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［実施例３］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、下記式（ａ−２）で表される化合物（吸収極大波長：９４０ｎｍ）０．１８質量部、下記式（ｂ−３）で表される化合物（ｂ−３）０．０６質量部、下記式（ｂ−４）で表される化合物（ｂ−４）０．０７質量部、化合物（ｃ−１）０．１２質量部、およびジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の樹脂溶液（Ｅ３）を得た。得られた溶液（Ｅ３）を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、更に真空中、１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離したフィルムを更に真空中、１００℃で８時間乾燥さぜて厚さ１００μｍ、２００ｍｍ×２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。

得られた透明樹脂基板の片面に、上記樹脂組成物（１）を乾燥後の塗布層の厚みが３μｍとなるようにバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。次にコンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ²、２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化さぜ、透明樹脂基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成させた。これにより、化合物（Ａ）を含む透明樹脂基板の両面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する基材を得た。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は４．７（＠９４０ｎｍ）であり、波長８４０〜１０４０ｎｍのＯＤ値の平均値は１．６であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は６９．９％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図１１に示す。

続いて、実施例１と同様にして、得られた上記基材の片面に誘電体多層膜（α）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（β）を形成し、厚さ０．１１０ｍｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は６．５（＠９４０ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７３．２％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図１２に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０９４０−０２を用いて、本実施例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーの作動状況は良好であり、カメラモジュールの写真画像は良好であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［実施例４］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、下記式（ａ−３）で表される化合物（吸収極大波長：８７４ｎｍ）２．５質量部、およびジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製し、孔径５μｍのミリポアフィルタで濾過を行い、樹脂溶液（Ｅ４−１）を得た。同様にして、化合物（ｂ−３）０．６質量部、化合物（ｂ−４）０．７質量部、化合物（ｃ−１）１．２質量部、およびジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製し、孔径５μｍのミリポアフィルタで濾過を行い、樹脂溶液（Ｅ４−２）を得た。

２００ｍｍ×２００ｍｍの大きさにカットした、日本電気硝子（株）製透明ガラス基板「ＯＡ−１０Ｇ」（厚み２００μｍ）の両面に上記樹脂組成物（２）を、乾燥後の膜厚が約１μｍとなるようにスピンコートで塗布した後、ホットプレート上８０℃で２分間加熱し、溶媒を揮発除去し、後述する透明樹脂層との接着層として機能する樹脂層を形成した。次に、上記接着層の片面にスピンコーターを用いて、樹脂溶液（Ｅ４−１）を乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶媒を揮発除去して樹脂層を形成させた。更に、もう一方の面にスピンコーターを用いて、樹脂溶液（Ｅ４−２）を乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶媒を揮発除去して透明樹脂層を形成した。これにより、無色ガラス基板の一方の面に化合物（Ａ）を含む樹脂層を積層し、他方の面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を積層した厚み２２２μｍの基材を得た。

得られた基材において、８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は３．９（＠８７４ｎｍ）であり、波長７７４〜９７４ｎｍのＯＤ値の平均値は１．１であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７１．８％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図１３に示す。

続いて、実施例１と同様の方法により、上記積層体の片面に誘電体多層膜（α）を形成し、さらに積層体のもう一方の面に誘電体多層膜（β）を形成し、厚さ２２６μｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は５．８（＠８７４ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７５．２％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図１４に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０８５０−０２を用いて、本実施例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーの作動状況は良好であり、カメラモジュールの写真画像は良好であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［実施例５］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、化合物（ａ−２）１．５質量部、ならびにジクロロベンゼンを加えて、樹脂濃度が１０質量％の樹脂溶液（Ｅ５―１）を得た。同様にして、樹脂Ａ １００質量部、化合物（ｂ−３）０．６質量部、化合物(ｂ−４)０．７質量部、化合物（ｃ−１）０．５質量部、ならびにジクロロベンゼンを加えて、樹脂濃度が１０質量％の樹脂溶液（Ｅ５−２）を得た。

ゼオノアフィルムＺＦ−１６（日本ゼオン製、１００μｍ厚）の片面に、樹脂溶液（Ｅ５−１）を乾燥後の厚みが１０μｍとなるように塗布し、８０℃で８時間乾燥させた後、更に真空中、１５０℃で８時間乾燥させた。更に、もう一方の面に、樹脂溶液（Ｅ５−２）を乾燥後の厚み１０μｍとなるように塗布し、８０℃で８時間乾燥させた後、更に真空中、１５０℃で８時間乾燥させた。これにより、透明樹脂基板の一方の面に化合物（Ａ）を含む樹脂層を有し、他方の面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する厚み１２０μｍの積層体（基材）を得た。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は３．５（＠９４０ｎｍ）であり、波長８４０〜１０４０ｎｍＯＤ値の平均値は１．０であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７５．６％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図１５に示す。

続いて、実施例１と同様の方法により、得られた上記積層体の片面に誘電体多層膜（α）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（β）を形成し、厚さ２２６μｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は５．５（＠９４０ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７９．１％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図１６に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０９４０−０２を用いて、本実施例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーの作動状況は良好であり、カメラモジュールの写真画像は良好であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［実施例６］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、化合物(ａ−１)２部およびジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製し、孔径５μｍのミリポアフィルタで濾過を行い、樹脂溶液（Ｅ６）を得た。２００ｍｍ×２００ｍｍの大きさにカットした、松波硝子（株）製吸収ガラス基板「ＢＳ−６」（厚み２００μｍ）の片面に上記樹脂組成物（２）を、乾燥後の膜厚が約１μｍとなるようにスピンコートで塗布した後、ホットプレート上８０℃で２分間加熱し、溶媒を揮発除去し、後述する透明樹脂層との接着層として機能する樹脂層を形成した。

次に、上記接着層にスピンコーターを用いて、樹脂溶液（Ｅ６）を乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶媒を揮発除去して透明樹脂層を形成させ、ガラス基板上に化合物（Ａ）を含有する樹脂層を積層した。これにより、吸収型ガラス基板の片面に化合物（Ａ）を含む樹脂層を積層させた、厚み２１１μｍの基材を得た。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は３．４（＠９４０ｎｍ）であり、波長８４０〜１０４０ｎｍのＯＤ値の平均値は１．５であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７７．０％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図１７に示す。

続いて、実施例１と同様の方法で、上記積層体の片面に誘電体多層膜（α）を形成し、さらに積層体のもう一方の面に誘電体多層膜（β）を形成し、厚さ０．２１４ｍｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は５．３（＠９４０ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は８０．６％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図１８に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０９４０−０２を用いて、本実施例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーの作動状況は良好であり、カメラモジュールの写真画像は良好であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［実施例７］
容器に、樹脂合成例２で得られた樹脂Ｂ １００質量部、下記式（ａ−４）で表される化合物（吸収極大波長：８５０ｎｍ）０．２５質量部、化合物（ｂ−１）０．０５質量部、化合物（ｂ−２）０．０５６質量部、化合物（ｃ−１）０．０９質量部、およびジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を得た。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、更に真空中、１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離したフィルムを更に真空中、１００℃で８時間乾燥さぜて厚さ１００μｍ、２００ｍｍ×２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。

得られた透明樹脂基板の片面に、上記樹脂組成物（１）を乾燥後の塗布層の厚みが３μｍとなるようにバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。次にコンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ²、２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化さぜ、透明樹脂基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成させた。これにより、化合物（Ａ）を含む透明樹脂基板の両面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する基材を得た。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は４．０（＠８４４ｎｍ）であり、波長７４４〜９４４ｎｍのＯＤ値の平均値は１．３であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は６９．４％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図１９に示す。

続いて、実施例１と同様の方法により、上記基材の片面に誘電体多層膜（α）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（β）を形成し、厚さ０．１１０ｍｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は５．８（＠８５０ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７２．７％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図２０に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０８５０−０２を用いて、本実施例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーの作動状況は良好であり、カメラモジュールの写真画像は良好であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［実施例８］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、下記式（ａ−５）で表される化合物（吸収極大波長：８２４ｎｍ）０．１４質量部、化合物（ｂ−１）０．０５質量部、化合物（ｂ−２）０．０５６質量部、化合物（ｃ−１）０．０９質量部、ならびにジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を得た。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、更に真空中、１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離したフィルムを更に真空中、１００℃で８時間乾燥さぜて厚さ１００μｍ、２００ｍｍ×２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。

得られた透明樹脂基板の片面に、上記樹脂組成物（１）を乾燥後の塗布層の厚みが３μｍとなるようにバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。次にコンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ²、２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化さぜ、透明樹脂基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成させた。これにより、化合物（Ａ）を含む透明樹脂基板の両面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する基材を得た。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は３．２（＠８２４ｎｍ）であり、波長７２４〜９２４ｎｍのＯＤ値の平均値は１．１であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７０．９％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図２１に示す。なお、本基材の波長８５０ｎｍのＯＤ値は１．３であった。

続いて、実施例１と同様の方法により、上記基材の片面に誘電体多層膜（α）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（β）を形成し、厚さ０．１１０ｍｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は５．２（＠８２４ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７４．４％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図２２に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０８５０−０２を用いて、本実施例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーの作動状況は概ね良好であるが時々作動不良が認められたが、カメラモジュールの写真画像は良好であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［実施例９］
容器に、樹脂合成例２で得られた樹脂Ｂ １００質量部、化合物（ａ−４）０．３０部、下記式（ｂ−５）で表される化合物０．１０部、化合物（ｃ−１）１．００部、ならびにジクロロメタンを加えて樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製した。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、６０℃で８時間乾燥、さらに減圧下１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下１００℃で８時間乾燥して、厚さ０．１００ｍｍ、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。

得られた透明樹脂基板の片面に、上記樹脂組成物（１）を乾燥後の塗布層の厚みが３μｍとなるようにバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。次にコンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ²、２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化さぜ、透明樹脂基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成させた。これにより化合物（Ａ）を含む透明樹脂基板の両面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する基材を得た。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は７．６（＠８４４ｎｍ）であり、波長７４４〜９４４ｎｍのＯＤ値の平均値は４．４であった。また、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は３３．８％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図２３に示す。

続いて、得られた基材の両面に実施例１と同様の方法により誘電体多層膜を形成し、厚さ０．１１０ｍｍの光学フィルターを得た。
得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は６．３（＠８４４ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は３５．５％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図２４に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０８５０−０２を用いて、本施実例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーは、概ね作動状況は良好であり、カメラモジュールの写真画像は概ね良好であるが、写真画質の色調バランスが若干悪く、少し赤っぽい色調で画質が若干暗いものであった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［実施例１０］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、化合物（ｂ−１）０．５質量部、化合物（ｂ−２）０．５６質量部、およびジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製し、孔径５μｍのミリポアフィルタで濾過を行い、樹脂溶液（Ｅ１０−１）を得た。同様にして、樹脂Ａ １００質量部、化合物（ｃ−１）６．０質量部、およびジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を調製し、孔径５μｍのミリポアフィルタで濾過を行い、樹脂溶液（Ｅ１０-２）を得た。

２００ｍｍ×２００ｍｍの大きさにカットした、日本電気硝子（株）製透明ガラス基板「ＯＡ−１０Ｇ」（厚み２００μｍ）の両面に上記樹脂組成物（２）を、乾燥後の膜厚が約１μｍとなるようにスピンコートで塗布した後、ホットプレート上８０℃で２分間加熱し、溶媒を揮発除去し、後述する透明樹脂層との接着層として機能する樹脂層を形成した。次に、上記片面の接着層にスピンコーターを用いて、樹脂溶液（Ｅ１０−１）を乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶媒を揮発除去して透明樹脂層を形成させた。更に、もう一方の面に、ガラス基板上樹脂溶液（Ｅ１０−２）を乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように塗布し、ホットプレート上８０℃で５分間加熱し、溶媒を揮発除去して透明樹脂層を形成させた。これにより、無色ガラス基板の両面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を積層した厚み２２０μｍの基材を得た。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は５．１（＠９８２ｎｍ）であり、波長８８２〜１０８２ｎｍＯＤ値の平均値は４．３であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は５３．４％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図２５に示す。

続いて、実施例１と同様の方法により、上記基材の片面に誘電体多層膜（α）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（β）を形成し、厚さ２２４μｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は６．０（＠９８２ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は５５．９％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図２６に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０９４０−０２を用いて、本実施例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーは作動状況が良好であり、カメラモジュールの写真画像は概ね良好であるが、写真画質の色調バランスが若干悪く、少し赤っぽい色調となった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［比較例１］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、化合物（ａ−１）０．１８質量部、化合物（ｂ−１）０．０５質量部、化合物（ｂ−２）０．０５６質量部、化合物（ｃ−１）０．０９質量部、ならびにジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を得た。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、更に真空中、１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離したフィルムを更に真空中、１００℃で８時間乾燥さぜて厚さ１００μｍ、２００ｍｍ×２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。

得られた透明樹脂基板の片面に、上記樹脂組成物（１）を乾燥後の塗布層の厚みが３μｍとなるようにバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。次にコンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ²、２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化さぜ、透明樹脂基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成させた。これにより、化合物（Ａ）を含む透明樹脂基板の両面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する基材を得た。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は２．６（＠９４０ｎｍ）であり、波長８４０〜１０４０ｎｍのＯＤ値の平均値は１．０であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７２．１％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図２７に示す。

比較例１では、誘電体多層膜の層数を合計５２層とし、誘電体多層膜の反射により８００〜１０００ｎｍ領域の透過率低減を図った光学フィルターを作製した。誘電体多層膜（γ）および（δ）は以下の様に設計を行った。

各層の厚さと層数については、可視域の反射防止効果と近赤外域の選択的な透過・反射性能を達成できるよう基材屈折率の波長依存特性や、適用した化合物（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）等の吸収特性に合わせて光学薄膜設計ソフト（Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ Ｍａｃｌｅｏｄ、Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｃｅｎｔｅｒ社製）を用いて最適化を行った。最適化を行う際、本実施例においてはソフトへの入力パラメータ（Ｔａｒｇｅｔ値）を下記表４の通りとした。

膜構成最適化の結果、比較例１では、誘電体多層膜（γ）は、膜厚約３２〜１５９μｍのシリカ層と膜厚約９〜９４μｍのチタニア層が交互に積層されてなる、積層数２８層の多層蒸着膜とし、誘電体多層膜（δ）は、膜厚約３９〜１９３μｍのシリカ層と膜厚約１２〜１１７μｍのチタニア層が交互に積層されてなる、積層数２４層の多層蒸着膜とした。最適化を行った膜構成の一例を下記表５に示す。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は５．５（＠９４０ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７４．３％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図２８に示す。得られた光学フィルターは反りが大きく、誘電体多層膜の密着性評価において、誘電体多層膜の剥離が認められた。また、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０９４０−０２を用いて、本比較例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーは、外光変化に応じた画面の色調変化が上手く機能せず、作動状況が不良であった。カメラモジュールの写真画像は赤味が強く、写真画質の色調バランスが不良であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［比較例２］
化合物（ａ−１）を用いなかったこと以外は実施例１と同様にして、基材および該基材に誘電体多層膜を積層した光学フィルターを作製した。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は０．８（＠９８２ｎｍ）であり、波長８８２〜１０８２ｎｍのＯＤ値の平均値は０．８であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７９．３％であった。基材の光学特性（波長別透過率）を図２９に示す。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は２．０（＠９８２ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は８３．０％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図３０に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０９４０−０２を用いて、本比較例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーは、外光変化に応じた画面の色調変化が上手く機能せず、作動状況が不良であった。カメラモジュールの写真画像は赤味が強く、写真画質の色調バランスが不良であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［比較例３］
化合物（ａ−１）の使用量を１．５重量部に変更したこと以外は実施例６と同様にして、透明樹脂基板および誘電体多層膜を積層した光学フィルターを作製した。

得られた透明樹脂基板において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は２．９（＠９４０ｎｍ）であり、波長８８２〜１０８２ｎｍのＯＤ値の平均値は１．５であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７９．１％であった。基材の光学特性（波長別透過率）を図３１に示す。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は４．９（＠９４０ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は８２．９％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図３２に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０９４０−０２を用いて、本比較例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーは、外光変化に応じた画面の色調変化が上手く機能せず、作動状況が不良であった。カメラモジュールの写真画像は赤味が強く、写真画質の色調バランスが不良であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［比較例４］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、化合物（ａ−１）２．０質量部、ならびにジクロロベンゼンを加えて、樹脂濃度が１０質量％の樹脂溶液（ＣＥ４−１）を得た。同様にして、樹脂Ａ １００質量部、化合物（ｂ−１）０．５質量部、化合物(ｂ−２)０．５６質量部、および化合物（ｃ−１）０．９質量部、ならびにジクロロベンゼンを加えて、樹脂濃度が１０質量％の樹脂溶液（ＣＥ４−２）を得た。

ゼオノアフィルムＺＦ−１６（日本ゼオン製、１００μｍ厚）の片面に、樹脂溶液（ＣＥ４−１）を乾燥後の厚みが１０μｍとなるように塗布し、８０℃で８時間乾燥させた後、更に真空中、１５０℃で８時間乾燥させた。更にもう一方の面に、樹脂溶液（ＣＥ４−２）を乾燥後の厚み１０μｍとなるように塗布し、８０℃で８時間乾燥させた後、更に真空中、１５０℃で８時間乾燥させた。これにより、透明樹脂基板の一方の面に化合物（Ａ）を含む樹脂層を有し、他方の面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する厚み１２０μｍの基材を得た。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は２．８（＠９４０ｎｍ）であり、波長８４０〜１０４０ｎｍのＯＤ値の平均値は１．０であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７１．４％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図３３に示す。

続いて、実施例１と同様の方法により、得られた上記積層体の片面に誘電体多層膜（α）を形成し、さらに基材のもう一方の面に誘電体多層膜（β）を形成し、厚さ２２６μｍの光学フィルターを得た。

得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１，０００ｎｍのＯＤ値の最大値は４．８（＠９４０ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７４．７％であった。誘電体多層膜を積層した光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図３４に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−９４０−０２を用いて、本比較例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーは、外光変化に応じた画面の色調変化が上手く機能せず、作動状況が不良であった。カメラモジュールの写真画像は赤味が強く、写真画質の色調バランスが不良であった。
基材および誘電体多層膜を積層した光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［比較例５］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、下記式（ａ’−１）で表される化合物（吸収極大波長：１０３７ｎｍ）０．１８質量部、化合物（ｂ−１）０．０５質量部、化合物（ｂ−２）０．０５６質量部、化合物（ｃ−１）０．０９質量部、ならびにジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を得た。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、更に真空中、１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離したフィルムを更に真空中、１００℃で８時間乾燥さぜて厚さ１００μｍ、２００ｍｍ×２００ｍｍの透明樹脂基板を得た。

得られた透明樹脂基板の片面に、上記樹脂組成物（１）を乾燥後の塗布層の厚みが３μｍとなるようにバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。次にコンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ²、２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化さぜ、透明樹脂基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂基材のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成させた。これにより、化合物（Ａ）を含まない透明樹脂基板の両面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する基材を得た。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍにおけるＯＤ値の最大値は２．３（＠１０００ｎｍ）であり、波長９００〜１１００ｎｍのＯＤ値の平均値は１．７であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は６４．８％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図３５に示す。

続いて、得られた基材の両面に実施例１と同様の方法により誘電体多層膜を形成し、厚さ０．１１０ｍｍの光学フィルターを得た。
得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は３．６（＠１０００ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は６７．９％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図３６に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−９４０−０２を用いて、本比較例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーは、外光変化に応じた画面の色調変化が上手く機能せず、作動状況が不良であった。カメラモジュールの写真画像は赤味が強く、写真画質の色調バランスが不良であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

［比較例６］
容器に、樹脂合成例１で得られた樹脂Ａ １００質量部、下記式（ｂ−６）で表される化合物（吸収極大波長：７８６ｎｍ）０．１５質量部、化合物（ｂ−１）０．０５質量部、化合物（ｂ−２）０．０５６質量部、化合物（ｃ−１）０．０９質量部、ならびにジクロロメタンを加えて、樹脂濃度が２０質量％の溶液を得た。得られた溶液を平滑なガラス板上にキャストし、６０℃で８時間乾燥した後、更に真空中、１４０℃で８時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離したフィルムを更に真空中、１００℃で８時間乾燥さぜて厚さ１００μｍ、２００ｍｍ×２００ｍｍの透明樹脂製基板を得た。

得られた透明樹脂基板の片面に、上記樹脂組成物（１）を乾燥後の塗布層の厚みが３μｍとなるようにバーコーターで塗布し、オーブン中７０℃で２分間加熱し、溶剤を揮発除去した。次にコンベア式露光機を用いて露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ²、２００ｍＷ）を行い、樹脂組成物（１）を硬化さぜ、透明樹脂基板上に樹脂層を形成した。同様に、透明樹脂製基板のもう一方の面にも樹脂組成物（１）からなる樹脂層を形成させた。こえｒにより、化合物（Ａ）を含まない透明樹脂基板の両面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する基材を得た。

得られた基材において、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は２．８（＠８００ｎｍ）であり、波長７００〜９００ｎｍのＯＤ値の平均値は０．９であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７１．１％であった。基材の分光特性（波長別透過率）を図３７に示す。

続いて、得られた基材の両面に実施例１と同様の方法により誘電体多層膜を形成し、厚さ０．１１０ｍｍの光学フィルターを得た。
得られた光学フィルターにおいて、波長８００〜１０００ｎｍのＯＤ値の最大値は４．７（＠８００ｎｍ）であり、波長４３０〜５８０ｎｍの平均透過率は７４．５％であった。光学フィルターの分光特性（波長別透過率）を図３８に示す。また、得られた光学フィルターの反り、誘電体多層膜の密着性は良好であった。さらに、ＬＥＤ光源としてＬＣＳ−０８５０−０２を用いて、本比較例の光学フィルターを組み込んだ環境光センサーの作動状況とカメラモジュールの写真画像評価を実施した。環境光センサーは、外光変化に応じた画面の色調変化が上手く機能せず、作動状況が不良であった。カメラモジュールの写真画像は赤味が強く、写真画質の色調バランスが不良であった。
基材および光学フィルターの評価結果を表６中にまとめて示す。

表６中の「基材の形態」における記号の意味は下記の通りである。
（１）：化合物（Ａ）を含む透明樹脂製基板の両面に、化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する。
（２）：ガラス基板の片方の面に化合物（Ａ）を含む樹脂層を有し、他方の面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する。
（３）：化合物（Ａ）を含まない樹脂フィルムの片方の面に化合物（Ａ）を含む樹脂層を有し、他方の面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する。
（４）：近赤外線吸収型ガラス基板の片面に化合物（Ａ）を含む樹脂層を有する。
（５）：ガラス基板の両面に化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する。
（６）：化合物（Ａ）を含まない透明樹脂製基板の両面に、化合物（Ａ）を含まない樹脂層を有する。

１：カメラモジュール
２：レンズ鏡筒
３：フレキシブル基板
４：中空パッケージ
５：レンズ
６：（固体撮像素子用）光学フィルター
７：（ＣＣＤまたはＣＭＯＳ）イメージセンサー
１００：光学フィルター
１０１：透明ガラス基板または透明樹脂基板
１０２：透明ガラス基板または透明樹脂基板
１０３：基材
１０４：誘電体多層膜
１０５：透明樹脂基板
１０６：反射防止膜
１１０：樹脂層
１１１：樹脂層
２００：環境光センサー
２０２：光電変換素子
２０４：筐体
２０６：第１電極
２０８：光電変換層
２１０：第２電極
２１２：カラーフィルター
２１４：素子分離絶縁層
２１６：パッシベ―ション膜
３００：電子機器
３０１：ＲＧＢカメラ
３０２：ドットプロジェクター
３０３：投光イルミネーター
３０４：ＩＲカメラ
３０５：スピーカ
３０６：表示パネル
３０７：筐体

Claims (15)

1. 光吸収層を含む基材を有し、かつ、可視光を透過する光学フィルターであって、
   波長８００〜１０００ｎｍの領域において、前記基材の垂直方向から測定した場合のＯＤ値（１）の最大値が３．０以上であることを特徴とする光学フィルター。
2. 前記ＯＤ値（１）が最大値を示す波長±１００ｎｍの領域において、前記ＯＤ値（１）の平均値が２．０以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルター。
3. 前記ＯＤ値（１）が最大値を示す波長が、波長８２０〜８８０ｎｍまたは波長９１０〜９７０ｎｍのいずれか一方の領域にあることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルター。
4. 前記光吸収層が、波長８００〜１０００ｎｍの領域に吸収極大を有する化合物（Ａ）を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルター。
5. 前記化合物（Ａ）が、スクアリリウム系化合物、シアニン系化合物、ピロロピロール系化合物、ペリレン系化合物、クロコニウム系化合物、および金属ジチオラート系化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項４に記載の光学フィルター。
6. 前記基材がガラス基板を含み、前記光吸収層は前記ガラス基板の少なくとも一方の面に設けられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルター。
7. 前記基材が透明樹脂基板を含み、前記光吸収層は前記透明樹脂基板の少なくとも一方の面に設けられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルター。
8. 前記基材の少なくとも片面に誘電体多層膜を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルター。
9. 波長８００〜１０００ｎｍの領域において、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合のＯＤ値（２）の最大値が５．０以上であることを特徴とする請求項８に記載の光学フィルター。
10. 波長４３０〜５８０ｎｍの領域において、前記光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率の平均値が６０％以上であることを特徴とする請求項８または９に記載の光学フィルター。
11. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とする固体撮像装置。
12. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。
13. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とする環境光センサーモジュール。
14. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルターを具備することを特徴とする電子機器。
15. 請求項１２に記載のカメラモジュールおよび請求項１３に記載の環境光センサーモジュールからなる群より選ばれる少なくとも１種のモジュール（Ａ）と、センシング用発光素子を具備したモジュール（Ｂ）とが、同一面かつ４ｃｍ以内の近傍に配置されていることを特徴とする電子機器。