[go: up one dir, main page]

JP2018140469A - 被加工物の検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置 - Google Patents

被加工物の検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2018140469A
JP2018140469A JP2017036598A JP2017036598A JP2018140469A JP 2018140469 A JP2018140469 A JP 2018140469A JP 2017036598 A JP2017036598 A JP 2017036598A JP 2017036598 A JP2017036598 A JP 2017036598A JP 2018140469 A JP2018140469 A JP 2018140469A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
processing
captured image
light
state
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2017036598A
Other languages
English (en)
Inventor
高橋 邦充
Kunimitsu Takahashi
邦充 高橋
元己 北野
Motoki Kitano
元己 北野
信 前嶋
Makoto Maejima
信 前嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2017036598A priority Critical patent/JP2018140469A/ja
Priority to CN201810088187.3A priority patent/CN108500842A/zh
Priority to KR1020180020482A priority patent/KR20180099490A/ko
Priority to TW107106243A priority patent/TWI741151B/zh
Publication of JP2018140469A publication Critical patent/JP2018140469A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B49/00Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
    • B24B49/12Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation involving optical means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/005Control means for lapping machines or devices
    • B24B37/0053Control means for lapping machines or devices detecting loss or breakage of a workpiece during lapping
    • H10P72/06
    • H10P74/203
    • H10P74/235
    • H10P74/27

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

【課題】被加工物の研削痕をより適切かつ容易に検出する。【解決手段】被加工物を研削砥石又は研磨パッドで加工する加工ステップと、光源からの光を該被加工物の被加工面に照射して、該被加工面で反射された該光がスクリーンに到達することで該加工ステップにおいて被加工面に形成された凹凸の状態が反映された投影像を該スクリーンに映す投影ステップと、該スクリーンの該投影像を撮像して撮像画像を形成する撮像ステップと、該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ステップと、を備える。【選択図】図2

Description

本発明は、被加工物に形成された研削痕を検査する検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置に関する。
シリコンやSiC、サファイア等の材料でなる各種平板状の被加工物を研削砥石で研削する加工や、研磨パッドで研磨する加工が知られている。該研削砥石は、ダイヤモンド等の砥粒が樹脂や金属等の結合材により固められて形成されている。また、不織布やウレタンパッドで構成される該研磨パッドは、砥粒とともに用いられて被加工物の被研磨面を研磨する。
研削砥石を用いた研削加工や研磨パッドを用いた研磨加工では、研削砥石や研磨パッドが被加工物に触れることで加工が進行する。こうした加工においては、研削砥石から脱落した砥粒、被加工物から削り取られた研削屑や凝集した砥粒が、研削砥石や研磨パッドと、被加工物と、の間に入り込む場合があり、そのまま加工が進行すると被加工物に深くて長い研削痕(スクラッチ)が形成される。
該研削痕が形成された被加工物が分割されて個々のデバイスチップが形成されると、デバイスチップの抗折強度が低下してしまう。そこで、加工中または加工後の被加工物を撮像して研削痕を検出する方法や、レーザビームを被加工物に照射して反射されたレーザビームの強度に基づいて研削痕を検出する方法が提案されている。
特開2016−49581号公報 特開2010−17792号公報
しかしながら、いずれの方法を実施する場合においても研削痕の検出を実現する装置の構成が複雑であり、また、該装置が高価となることが問題である。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、被加工物の被加工面に形成された研削痕(スクラッチ)等の凹凸の状態をより適切かつ容易に検出できる被加工物の検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置を提供することである。
本発明の第1態様によれば、被加工物を研削砥石又は研磨パッドで加工する加工ステップと、光源からの光を該被加工物の被加工面に照射して、該被加工面で反射された該光がスクリーンに到達することで該加工ステップにおいて被加工面に形成された凹凸の状態が反映された投影像を該スクリーンに映す投影ステップと、該スクリーンの該投影像を撮像して撮像画像を形成する撮像ステップと、該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ステップと、を備えることを特徴とする被加工物の検査方法が提供される。
本発明の第2態様によれば、被加工物を研削砥石又は研磨パッドで加工する加工ステップと、光源からの光を該被加工物の被加工面に照射して、該被加工面で反射された該光を撮像することで、該加工ステップにおいて被加工面に形成された凹凸の状態が反映された像が写る撮像画像を形成する撮像ステップと、該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ステップと、を備えることを特徴とする被加工物の検査方法が提供される。
本発明の第3態様によれば、該撮像画像には、該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域が写されており、該撮像画像には、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域が写されていないことを特徴とする本発明の第1態様または第2態様に係る被加工物の検査方法が提供される。
本発明の第4態様によれば、研削砥石又は研磨パッドで加工された被加工物の被加工面を露出した状態で該被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された該被加工物の被加工面に光を照射する光源と、該被加工面で反射された該光が照射されることで、該被加工物の該被加工面に該加工により形成された凹凸の状態が反映された投影像が映されるスクリーンと、該スクリーンに映される投影像を撮像して撮像画像を形成する撮像ユニットと、を備えることを特徴とする被加工物の検査装置が提供される。
本発明の第5態様によれば、研削砥石又は研磨パッドで加工された被加工物の被加工面を露出した状態で該被加工物を保持する保持テーブルと、該保持テーブルに保持された該被加工物の被加工面に光を照射する光源と、該被加工面で反射された該光を検出して撮像画像を形成する撮像ユニットと、を備えることを特徴とする被加工物の検査装置が提供される。
本発明の第4態様及び第5態様において、該被加工物の検査装置は、該撮像画像に基づいて被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ユニットをさらに備えてもよい。該判定ユニットは、該被加工面の中心を含む中央領域と、該中央領域を囲繞する外周領域と、に連続した該凹凸が検出された場合、該被加工物を不良と判定してもよい。
本発明の第4態様及び第5態様において、該撮像画像には、該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域が写されており、該撮像画像には、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域が写されていなくてもよい。
被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された該被加工物を該研削砥石または該研磨パッドで加工する加工ユニットと、加工された該被加工物の被加工面を洗浄する洗浄ユニットと、洗浄された該被加工物の該被加工面に形成された加工痕の凹凸の状態を検査する検査ユニットと、を備え、該検査ユニットは、本発明に係る被加工物の検査装置であることを特徴とする加工装置もまた本発明の一態様である。
本発明の一態様に係る検査方法、検査装置及び加工装置によると、被加工物の被加工面に加工により形成された研削痕(スクラッチ)等の凹凸の状態を、光源と、スクリーン又は凹面鏡と、を含む簡便な構成を用いて撮像した撮像画像に基づいて把握できる。該撮像画像の撮像には、光源から被加工物の被加工面に照射され、該被加工面から反射された光が用いられる。
被加工物の被加工面に加工により凹凸が形成されていると、該被加工面に照射され反射された光を用いて形成した撮像画像には、該凹凸の状態が強調された像が写る。そのため、被加工面に形成された凹凸の状態を容易に把握することができ、被加工物を容易に検査できる。被加工物の被加工面に許容される程度を超える凹凸が形成されていることが確認される場合、該被加工物を不良と判定し、加工を停止させて研削砥石や研磨パッドの状態を確認することができる。
したがって、本発明の一態様によると、被加工物の被加工面に形成された研削痕(スクラッチ)等の凹凸の状況をより適切かつ容易に検出できる被加工物の検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置が提供される。
図1(A)は、被加工物を模式的に示す斜視図であり、図1(B)は、保護テープが貼着された被加工物を模式的に示す斜視図である。 検査装置を含む加工装置を模式的に示す斜視図である。 図3(A)は、研削加工を模式的に示す側面図であり、図3(B)は、研磨加工を模式的に示す側面図である。 検査装置の構成例を模式的に示す図である。 図5(A)及び図5(B)は、検査装置の構成例を模式的に示す図である。 検査装置の構成例を模式的に示す図である。
添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。図1(A)は、本発明の一態様に係る実施形態に係る被加工物の検査方法、被加工物の検査装置、または、加工装置における被加工物を模式的に示す斜視図である。
図1(A)には、被加工物1が模式的に示されている。該被加工物1は、例えば、シリコン、SiC(シリコンカーバイド)、若しくは、その他の半導体等の材料、または、サファイア、ガラス、石英等の材料からなる略円板状の基板である。
被加工物1の表面1aは格子状に配列された複数の分割予定ライン(ストリート)3で複数の領域に区画されており、該複数の分割予定ライン3により区画された各領域にはIC等のデバイス5が形成されている。最終的に、被加工物1がストリート3に沿って分割されることで、個々のデバイスチップが形成される。
次に、該被加工物1の表面1aに貼着される保護テープについて図1(B)を用いて説明する。図1(B)には、保護テープ7が模式的に示されている。保護テープ7は、該被加工物1の表面1aに形成されたデバイス5等を保護する機能を有する。保護テープ7は、被加工物1の裏面に対する加工や搬送等の際に加わる衝撃から被加工物1の表面1a側を保護し、デバイス5に損傷が生じるのを防止する。
保護テープ7は、可撓性を有するフィルム状の基材と、該基材の一方の面に形成された糊層(接着剤層)と、を有する。例えば、基材にはPO(ポリオレフィン)が用いられる。POよりも剛性の高いPET(ポリエチレンテレフタラート)、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等が用いられても良い。また、糊層(接着剤層)には、例えば、シリコーンゴム、アクリル系材料、エポキシ系材料等が用いられる。
次に、凹凸が形成された被加工物1を検査する検査装置が組み込まれた加工装置について説明する。図2は、検査装置を含む加工装置の構成例として研削装置を模式的に示す斜視図である。
研削装置2は、円盤状のターンテーブル6上に据え付けられたチャックテーブル8と、研削ユニット10及び研削ユニット10aと、を略直方体状の基台4上に備える。基台4の後部にはコラム12及びコラム12aが立設されており、このコラム12及びコラム12aにはそれぞれ研削ユニット10及び研削ユニット10aが設けられている。
基台4上には、円盤状のターンテーブル6が水平面内において回転可能に設けられている。ターンテーブル6の上面には、円周方向に120度離間して3個のチャックテーブル8が備えられており、ターンテーブル6を回転させることで各チャックテーブル8が、被加工物搬入・搬出領域、第1の研削領域、第2の研削領域にそれぞれ位置付けられるようになっている。第1の研削領域では、例えば、粗い研削が実施され、第2の研削領域では、例えば、仕上げ研削が実施される。
チャックテーブル8は、一端が吸引源(不図示)と接続された吸引路(不図示)を内部に有し、該吸引路の他端がチャックテーブル8上の保持面8aに接続されている。該保持面8aは多孔質部材によって構成され、該保持面8a上に載せ置かれた被加工物1に該多孔質部材を通して該吸引源により生じた負圧を作用させて、チャックテーブル8は被加工物を吸引保持する。
研削ユニット10は、スピンドルモータ14によって回転駆動される研削ホイール16に保持された研削砥石18を備えている。研削ユニット10aは、スピンドルモータ14aによって回転駆動される研削ホイール16aに保持された研削砥石18aを備えている。該研削ホイール16,16aに保持された研削砥石18,18aは、加工送りユニット20,20aにより上下移動されるように構成されており、チャックテーブル8上に保持される被加工物1に接触して該被加工物1を所定の厚さに研削する。
基台4の前側となる部分はターンテーブル8が設けられた部分よりも一段高くなるように構成されており、基台4の前端にカセット載置台22,22aが固定されている。カセット載置台22上には研削加工前の被加工物1を収容したカセット22が載置され、カセット載置台22aには研削の終了した被加工物1を収容するためのカセット24aが載置される。
カセット載置台22,22aに隣接して基台4上に被加工物搬送ロボット26が据え付けられている。基台4の前側部分には更に、複数の位置決めピンを有する位置決めテーブル28と、被加工物搬入機構(ローディングアーム)30と、被加工物搬出機構(アンローディングアーム)32と、研削された被加工物を洗浄及びスピン乾燥するスピンナ洗浄装置34と、が配設されている。
研削装置2は、該スピンナ洗浄装置34と、カセット載置台22aと、の間に本実施形態に係る検査装置36を備える。該検査装置36は、検査の対象となる被加工物1を保持する保持テーブル38と、光源40と、スクリーン42と、撮像ユニット44と、を備える。
保持テーブル38の斜め上方には、保持テーブル38によって保持される被加工物1の全体に光を放射するための光源40が配置されている。光源40としては、例えば、白熱電球やLED等が用いられる。ただし、光源40の種類や位置等に制限はない。また、該光は、平行光でも良いし非平行光でも良い。該光を平行光とする場合には、例えば、光源40に対して凹面鏡等の光学素子を組み合わせると良い。また、発光領域が小さく点光源とみなせる光源を用いて平行光又は非平行光を得てもよい。
被加工物1で反射される光の経路(光路)上には、反射後の該光を照射することによって投影像が形成されるスクリーン42が設けられている。スクリーン42は、代表的には、平坦なスクリーンであり、被加工物1と同程度の大きさ又は被加工物の中央の領域が表示出来る程度の大きさに形成される。加工により該被加工面に形成される凹凸は被加工物の中央の領域を通りやすいため、例えば、被加工物の中心付近の直径約50mmの範囲を投影できるスクリーンを用いると、該凹凸の状態を確認しやすい。
本実施形態では、保持テーブル38の斜め上方に光源40を配置するとともに、被加工物1で反射される光の経路上に、スクリーン42を配置する。光源40から斜め下方に進行する光を被加工物1に放射すると、この光は、被加工物1の露出した面(ここでは、裏面11b)で反射されてスクリーン42に照射される。その結果、スクリーン42には、被加工物1の露出した面(すなわち、裏面1b)の状態を反映した投影像が形成される。
スクリーン42を見ることができる位置には、スクリーン42に形成される投影像を撮像して撮像画像を形成するための撮像ユニット(撮像手段)44が配置されている。この撮像ユニット44は、例えば、CCDやCMOS等の撮像素子にレンズ等の光学素子を組み合わせたデジタルカメラであり、投影像を撮像して形成した撮像画像(映像)を外部へと出力する。なお、この撮像ユニット44としては、静止画を形成するデジタルスチルカメラ、動画を形成するデジタルビデオカメラのいずれを用いることもできる。
ここで、図4を用いて、スクリーン42の傾き角について説明する。図4には、光源40と、被加工物1と、スクリーン42と、撮像ユニット44と、の位置関係が模式的に示されている。図4に示される通り、好ましくは被加工物1の裏面1bに反射された該光がスクリーン42に対して垂直に入射するようにスクリーン42が傾けられる。
すなわち、被加工物1に入射する光と該裏面1bのなす角度及び反射する光と該裏面1bのなす角度と、被加工物1の裏面1bと垂直な面からのスクリーン42の傾き角と、が一致するようにスクリーン42が傾けられる。この場合、極めて歪みの小さい投影像をスクリーン42に投影できるため、被加工物1の裏面1bに形成された凹凸の状態をより正確に把握できるようになる。このとき、撮像ユニット44で撮像されて形成される撮像画像を鮮明にするために、撮像ユニット44の被写界深度が適切に調整される。
撮像ユニット44には、撮像ユニット44から出力される撮像画像から加工により被加工物1の被加工面(裏面1b)に形成される凹凸の状態を確認し、該凹凸の状態に基づいて被加工物1の良否を判定するための判定ユニット(不図示)が接続されている。
なお、検査装置36は、スクリーン42に代えて凹面鏡を備えてもよい。スクリーン42に代えて凹面鏡が備えられると、該被加工物1の被加工面から反射した光を該凹面鏡により撮像ユニット44に集光できる。そのため、撮像ユニット44に到達する光量が増して撮像ユニット44はより鮮明な撮像画像を形成できる。
また、本実施形態に係る加工装置は、研削砥石を備える研削ユニットにより被加工物を研削する研削装置でなくてもよく、研磨パッドを備える研磨ユニットにより被加工物を研磨する研磨装置でもよい。
次に、研削装置2に備えられた検査装置36により実施される本実施形態に係る被加工物の検査方法について説明する。該検査方法では、まず、被加工物を研削砥石又は研磨パッドで加工する加工ステップを実施する。
該加工ステップについて、図3(A)及び図3(B)を用いて説明する。図3(A)は、研削加工を模式的に示す側面図であり、図3(B)は、研磨加工を模式的に示す側面図である。
まず、図3(A)に示すように、研削装置2に備えられた研削ユニット10により被加工物1の裏面1b側を研削加工する場合について説明する。表面1a側を下方に向けた状態で保護テープ7を介して被加工物1をチャックテーブル8の保持面8a上に載せる。そして、チャックテーブル8に被加工物1を吸引保持させて、被加工物1の裏面1b側を上方に露出する。研削装置2のターンテーブル6(図2参照)を回転させてチャックテーブル8を研削ユニット10の下方に位置付ける。
次に、研削ユニット10のスピンドルモータ14を作動させて研削ホイール16を回転させる。また、チャックテーブル8を保持面8aに垂直な軸の周りに回転させる。そして、加工送りユニット20を作動させて研削ホイール16を被加工物1に向けて下降させ、回転する研削ホイール16に装着された研削砥石18が被加工物1の裏面1b側に触れると被加工物1が研削加工される。加工送りユニット20により所定の高さ位置に研削砥石18が位置付けられると、被加工物1が所定の厚さにまで薄化される。
なお、加工ステップでは、図3(B)に示すように、研磨ユニット10bにより被加工物1の裏面1b側を研磨加工してもよい。該研磨ユニット10bは、例えば、図2に示す研削装置2の研削ユニット10aに代えて研削装置2に備えられる。なお、該研磨ユニット10bは、研削ユニットを含まない研磨装置に備えられてもよい。
該研磨ユニット10bは、研磨ホイール16bに装着された研磨パッド18bを有する。一端が該研磨ホイール16bに接続されたスピンドルの他端に接続されたスピンドルモータ(不図示)を作動させることにより、研磨ホイール16bが回転される。
研磨ユニット10bによる研磨加工の際には、上述の研削加工の際と同様に、被加工物1の表面1a側をチャックテーブル8に向けた状態で保護テープ7を介してチャックテーブル8の保持面8a上に被加工物1を置く。そして、チャックテーブル8に被加工物1を吸引保持させ、被加工物1の裏面1b側を上方に露出する。
そして、研磨ホイール16bを回転させ、チャックテーブル8を保持面8aに垂直な軸の周りに回転させ、研磨ホイール16bを被加工物1に向けて下降させる。該研磨ホイール16bに装着された研磨パッド18bが該被加工物1の裏面1b側に接触すると研磨加工が実施される。
研削砥石18を用いた研削加工や研磨パッド18bを用いた研磨加工においては、研削砥石18から脱落した砥粒、被加工物1から削り取られた研削屑や凝集した砥粒が研削砥石18や研磨パッド18bと、被加工物1と、の間に入り込む場合があり、そのまま加工が進行すると被加工物1に深くて長い研削痕(スクラッチ)が形成される。該研削痕が形成された被加工物1が分割されて個々のデバイスチップが形成されると、デバイスチップの抗折強度が低下したり、デバイスとして機能しない不良となってしまう。
そこで、本実施形態に係る被加工物の検査方法では、次に投影ステップと、撮像ステップと、判定ステップと、を実施して被加工物1の被加工面に形成された研削痕(スクラッチ)等の凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する。
投影ステップでは、加工が完了した被加工物1の被加工面に光を照射して、反射した光をスクリーンに投影させる。まず、加工が完了した被加工物1をチャックテーブル8上から検査装置36(図2参照)の保持テーブル38上に移す。その過程で、スピンナ洗浄装置34により被加工物1の該被加工面を洗浄する。保持テーブル38に被加工物1の表面1a側を向けた状態で保護テープ7を介して被加工物1を保持テーブル38上に置き、被加工面(裏面1b)を上方に露出する。
次に、図4に示すように、光源40から光46を放射する。光源40は、保持テーブル38によって保持される被加工物1の全体に対して光46を照射できる態様(位置、向き等)で設けられている。よって、光源40から放射された光46は、被加工物1の被加工面(裏面1b)で反射される。
また、被加工物1で反射される光46の経路上には、スクリーン42が配置されている。よって、被加工物1の被加工面(裏面1b)で反射された光46は、スクリーン42に照射され、加工により該被加工面に形成された凹凸の状態に応じた投影像が形成される。ここで、被加工物1で反射される光46と裏面1bとのなす角と、スクリーン42の加工物1の被加工面に垂直な面に対する傾き角と、が一致している場合、該投影像の歪みが極めて小さくなる。
その後、撮像ステップが実施される。撮像ユニット44で該投影像を撮像し、撮像画像を形成する。このとき、該撮像画像を鮮明にするために撮像ユニット(カメラ)44の被写界深度を適切に調整する。そして、撮像ユニット44によって形成された撮像画像が判定ユニット(不図示)に送られる。
撮像ステップの後には、撮像ユニット44で形成された該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ステップが実施される。本実施形態においては、該検査装置36の撮像ユニット44で形成される撮像画像には、被加工物1の被加工面(裏面1b)ではなく、スクリーン42に投影された投影像が写る。
該投影像は、被加工物の被加工面に照射された光46が該被加工面に反射されてスクリーン42に照射されて形成された像である。ここで、該被加工面は略鏡面であり光46は該被加工面に鏡面反射されるが、該被加工面に微小な凹凸が形成されている場合、該光46は該凹凸により部分的に拡散又は収束される。
そのため、該投影像は、該被加工面に形成された微小な凹凸の状態を反映した明暗が現れた像となる。なお、このように鏡面反射された光をスクリーン等に投影して形成された像に該鏡面の凹凸の状態が反映された明暗が現れる現象は魔鏡現象と呼ばれる。そして、該被加工面を直接撮像して形成した撮像画像よりも、スクリーン42に投影された投影像を撮像して形成された撮像画像の方が、被加工面に形成された該凹凸の状態の把握にはより有用である。魔鏡現象により、該凹凸の状態が強調されるためである。
したがって、該投影像が写る該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を容易に把握できる。例えば、被加工面に凹凸が形成されていない場合、該撮像画像に写された被加工面は全体に一様の明るさとなる。また、例えば、被加工面に凹凸が形成されている場合、該撮像画像に写された投影像には被加工面に形成された該凹凸の状態が強調された明暗模様が現れる。つまり、該撮像画像から被加工物の凹凸の状態を把握できる。
ところで、撮像ユニット44に接続された判定ユニット(不図示)には、該撮像画像から把握される被加工面の凹凸の状態に基づいて、被加工物1の抗折強度が十分に確保されているか否かを判定するための条件が予め登録されている。該判定ユニットは、被加工物1の抗折強度が十分である場合に被加工物1を良品と判定する。その一方で、該判定ユニットは、被加工物1の被加工面に形成された凹凸の状態により被加工物1の抗折強度が不十分となる場合に、該被加工物1を不良品と判定する。
例えば、該判定ユニットは、該被加工物1の該被加工面の中心を含む中央領域と、該中央領域を囲繞する外周領域と、に連続した凹凸(加工痕)が検出された場合、該被加工物1を不良と判定する。ここで、該中央領域とは、例えば該被加工面の中央から該被加工物の半径の3分の1乃至4分の1離れた位置までの円形の領域であり、該外周領域とは、被加工面の該中央領域以外の領域である。
該中央領域と、該外周領域と、に連続した凹凸(加工痕)は正常な加工によっては形成されにくいため、そのような凹凸が検出される場合、加工装置に何らかの異常が生じたと判断できるため、判定ユニットは該凹凸が検出される被加工物1を不良と判定する。
判定ユニットにより被加工物1が不良と判定された場合、該被加工物1をその後の工程に送らずに廃棄できる。そして、被加工面に形成された凹凸が加工ステップにおける加工に起因して生じたと断定される場合には、加工ステップにおける加工条件等を点検する。または、研削砥石または研磨パッド等に異常がないか確認する。
以上の被加工物の検査方法を実施すると、被加工物1の被加工面に加工により形成された加工痕(スクラッチ)等の凹凸の状態を、簡便な構成を用いて形成した撮像画像に基づいて容易に把握できる。
なお、上記実施形態では、光源から光を直接被加工物1に照射しているが、光源から発せられた光を凹面鏡に照射して、該凹面鏡により反射された平行光を被加工物1に照射することもできる。そのような場合について、図5(A)を用いて説明する。
図5(A)は、検査装置36aの構成例を模式的に示す図である。図5(A)に示す検査装置36aは、光源40aと、凹面鏡48aと、保持テーブル38aと、スクリーン42aと、撮像ユニット44と、PC50と、を備える。
該検査装置36aでは、光源40aから発せられた光は凹面鏡48aに照射される。該凹面鏡48aは保持テーブル38aに保持された被加工物1に向けて平行光を反射する。被加工物1は、該平行光が照射されると、該平行光をスクリーン42aに向けて反射し、該スクリーン42aには該被加工物の該凹凸の状態を反映した投影像が形成される。撮像ユニット44は該投影像を形成して撮像画像をPC50に送る。該PC50は、判定ユニットとしての機能を有し、該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する。
さらに、上記実施形態では、被加工物1により反射された光をスクリーンに照射させて投影像を形成し、該投影像を撮像ユニットに撮像させて撮像画像を形成している。しかし、該スクリーンに代えて凹面鏡を設置して、被加工物1により反射された光を該凹面鏡に照射させて、該光を撮像ユニットに向けて集光させてもよい。そのような場合について、図5(B)を用いて説明する。
図5(B)は、検査装置36bの構成例を模式的に示す図である。図5(B)に示す検査装置36bは、光源40bと、凹面鏡48bと、保持テーブル38bと、凹面鏡48cと、撮像ユニット44と、PC50と、を備える。
該検査装置36bでは、光源40bから発せられた光は凹面鏡48bに照射される。該凹面鏡48bは保持テーブル38bに保持された被加工物1に向けて平行光を反射する。被加工物1は、該平行光が照射されると、該平行光を凹面鏡48cに向けて反射する。該凹面鏡48cは、該凹面鏡48cに照射される該平行光を撮像ユニット44に向けて反射し集光させる。撮像ユニット44では、該凹面鏡48cに反射された光を検出する。
撮像ユニット44は撮像で得られた撮像画像をPC50に送る。該PC50は、判定ユニットとしての機能を有し、該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する。ここで、該撮像画像は、被加工物1により反射された光がスクリーンに照射されて形成される投影像を撮像した画像ではなく、該光が凹面鏡48cにより反射されて撮像ユニット44に集光された光を直接捉えた画像となる。
被加工物1により反射された光を撮像ユニット44に集光させるので、撮像画像に到達する光量は大きくなり、得られる撮像画像が比較的鮮明となる。すると、より正確に被加工物1の被加工面の凹凸の状態を評価することができ、判定ユニットとして機能するPC50により細かい判定を実施させることができる。
さらに、被加工物1の裏面1bに対して垂直に光を入射させて、反射された光を被加工物1の裏面1bに対して正面に配置した撮像ユニット44で捉えることにより、歪みのない撮像画像を得ることができる。そのような歪みのない撮像画像が得られる検査装置36cについて、図6を用いて説明する。図6は、検査装置36cの構成例を模式的に示す図である。
検査装置36cは、光源40cと、ビームスプリッター52と、撮像ユニット44と、を備える。光源40cから放射された光は、光源40cと、ビームスプリッター52と、の間のレンズ56aにより平行光にされる。該平行光は、保持テーブル38cに保持された被加工物1の正面に配設された該ビームスプリッター52に入射すると、その一部が被加工物1に向けて反射される。
すると、図6に示す通り被加工物1の裏面1bに対して正面から光が入射される。このとき、被加工物1の裏面1bの全面に該光が照射されなくてもよく、例えば、裏面1bの中央を含む直径50mmの範囲に照射される。被加工物1は、裏面1bに入射した該光を該正面方向に反射させる。被加工物1に反射された該光は、ビームスプリッター52に入射し、その一部が透過する。
そして、ビームスプリッター52を透過した光は、該ビームスプリッター52と、撮像ユニット44と、の間に配設されたレンズ56bにより撮像ユニット44に集光される。撮像ユニット44に集光され入射した光は、撮像ユニット44が備えるレンズ56cにより最終的に集光されて受光素子54に到達する。撮像ユニット44は、受光素子54に到達した光を撮像することで撮像画像を形成する。
検査装置36cを用いると、撮像ユニット44により形成される撮像画像の歪みは極めて小さくなるため、被加工物1の裏面1bの凹凸の状態をより正確に評価できる。
なお、該撮像画像には該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域が写されており、該撮像画像には、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域が写されていなくてもよい。該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域には、研削加工等により被加工物の被加工面に形成される加工痕が通りやすいため、該中央領域に形成された凹凸の状態を把握することで被加工物の良否を判定できる場合がある。例えば、該中央領域は直径50mmの円形の領域である。
その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
1 被加工物
1a 表面
1b 裏面
3 分割予定ライン
5 デバイス
7 保護テープ
2 研削装置
4 基台
6 ターンテーブル
8 チャックテーブル
8a 保持面
10,10a 研削ユニット
10b 研磨ユニット
12,12a コラム
14,14a スピンドルモータ
16,16a 研削ホイール
16b 研磨ホイール
18,18a 研削砥石
18b 研磨パッド
20,20a 加工送りユニット
22,22a カセット載置台
24,24a カセット
26 被加工物搬送ロボット
28 位置決めテーブル
30 被加工物搬入機構(ローディングアーム)
32 被加工物搬出機構(アンローディングアーム)
34 スピンナ洗浄装置
36,36a,36b,36c 検査装置
38,38a,38b,38c 保持テーブル
40,40a,40b,40c 光源
42,42a スクリーン
44 撮像ユニット
46 光
48a,48b,48c 凹面鏡
50 PC
52 ビームスプリッター
54 受光素子
56a,56b,56c レンズ

Claims (9)

  1. 被加工物を研削砥石又は研磨パッドで加工する加工ステップと、
    光源からの光を該被加工物の被加工面に照射して、該被加工面で反射された該光がスクリーンに到達することで該加工ステップにおいて被加工面に形成された凹凸の状態が反映された投影像を該スクリーンに映す投影ステップと、
    該スクリーンの該投影像を撮像して撮像画像を形成する撮像ステップと、
    該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ステップと、を備えることを特徴とする被加工物の検査方法。
  2. 被加工物を研削砥石又は研磨パッドで加工する加工ステップと、
    光源からの光を該被加工物の被加工面に照射して、該被加工面で反射された該光を撮像することで、該加工ステップにおいて被加工面に形成された凹凸の状態が反映された像が写る撮像画像を形成する撮像ステップと、
    該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ステップと、を備えることを特徴とする被加工物の検査方法。
  3. 該撮像画像には、該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域が写されており、
    該撮像画像には、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域が写されていないことを特徴とする請求項1又は2記載の被加工物の検査方法。
  4. 研削砥石又は研磨パッドで加工された被加工物の被加工面を露出した状態で該被加工物を保持する保持テーブルと、
    該保持テーブルに保持された該被加工物の被加工面に光を照射する光源と、
    該被加工面で反射された該光が照射されることで、該被加工物の該被加工面に該加工により形成された凹凸の状態が反映された投影像が映されるスクリーンと、
    該スクリーンに映される投影像を撮像して撮像画像を形成する撮像ユニットと、
    を備えることを特徴とする被加工物の検査装置。
  5. 研削砥石又は研磨パッドで加工された被加工物の被加工面を露出した状態で該被加工物を保持する保持テーブルと、
    該保持テーブルに保持された該被加工物の被加工面に光を照射する光源と、
    該被加工面で反射された該光を検出して撮像画像を形成する撮像ユニットと、
    を備えることを特徴とする被加工物の検査装置。
  6. 該撮像画像に基づいて該被加工物の該凹凸の状態を把握して被加工物の良否を判定する判定ユニットをさらに備えることを特徴とする請求項4又は5記載の被加工物の検査装置。
  7. 該判定ユニットは、該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域と、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域と、に連続した該凹凸が検出された場合、該被加工物を不良と判定することを特徴とする請求項6記載の被加工物の検査装置。
  8. 該撮像画像には、該被加工面の中心を含む該被加工面の中央領域が写されており、
    該撮像画像には、該中央領域を囲繞する該被加工面の外周領域が写されていないことを特徴とする請求項4乃至6記載の被加工物の検査装置。
  9. 被加工物を保持するチャックテーブルと、
    該チャックテーブルに保持された該被加工物を該研削砥石または該研磨パッドで加工する加工ユニットと、
    加工された該被加工物の被加工面を洗浄する洗浄ユニットと、
    洗浄された該被加工物の該被加工面に形成された加工痕の凹凸の状態を検査する検査ユニットと、を備え、
    該検査ユニットは、請求項4乃至8記載の被加工物の検査装置であることを特徴とする加工装置。
JP2017036598A 2017-02-28 2017-02-28 被加工物の検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置 Pending JP2018140469A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017036598A JP2018140469A (ja) 2017-02-28 2017-02-28 被加工物の検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置
CN201810088187.3A CN108500842A (zh) 2017-02-28 2018-01-30 被加工物的检査方法、被加工物的检査装置和加工装置
KR1020180020482A KR20180099490A (ko) 2017-02-28 2018-02-21 피가공물의 검사 방법, 피가공물의 검사 장치 및 가공 장치
TW107106243A TWI741151B (zh) 2017-02-28 2018-02-23 工件的檢查方法、工件的檢查裝置及加工裝置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017036598A JP2018140469A (ja) 2017-02-28 2017-02-28 被加工物の検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018140469A true JP2018140469A (ja) 2018-09-13

Family

ID=63375560

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017036598A Pending JP2018140469A (ja) 2017-02-28 2017-02-28 被加工物の検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2018140469A (ja)
KR (1) KR20180099490A (ja)
CN (1) CN108500842A (ja)
TW (1) TWI741151B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021190532A (ja) * 2020-05-28 2021-12-13 株式会社ディスコ ウエーハ検査装置、及びウエーハ検査方法
WO2023047684A1 (ja) * 2021-09-24 2023-03-30 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110153859A (zh) * 2019-06-28 2019-08-23 深圳方达半导体装备有限公司 一种全自动研磨机
JP7529408B2 (ja) * 2020-02-17 2024-08-06 株式会社ディスコ 加工装置
JP7519804B2 (ja) * 2020-04-27 2024-07-22 株式会社ディスコ 加工装置
CN111843675B (zh) * 2020-07-15 2021-09-07 郑州龙华机电工程有限公司 一种电力设备在线监测系统
CN112025547B (zh) * 2020-09-15 2021-11-02 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 激光投影虚拟校正设备和方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002544475A (ja) * 1999-05-10 2002-12-24 メトソ・ペーパー・オートメーション・オイ 紙表面を測定するための方法および測定装置
JP2005503272A (ja) * 2001-09-13 2005-02-03 ネイダーランゼ、オルガニザティー、ボー、トゥーゲパストナトゥールウェテンシャッペルーク、オンダーツォーク、ティーエヌオー ワークピース表面を研磨する方法および装置
JP2006208347A (ja) * 2004-02-25 2006-08-10 Jfe Steel Kk 圧延用ロールの表面欠陥検出装置、研削装置、表面欠陥検出方法及び表面欠陥検出用プログラム並びに圧延用ロール研削方法
JP2006226804A (ja) * 2005-02-17 2006-08-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd フラットディスプレイパネルの検査方法
JP2007271312A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Nikon Corp 表面検査装置
JP2008155292A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Disco Abrasive Syst Ltd 基板の加工方法および加工装置
US20150364387A1 (en) * 2014-06-13 2015-12-17 Moon-Gi Cho Wafer polishing method
JP2016156822A (ja) * 2015-02-25 2016-09-01 株式会社昭和電気研究所 ウェハ欠陥検査装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06105741B2 (ja) * 1989-11-24 1994-12-21 株式会社東芝 インナーリードボンディング検査方法
JPH05288687A (ja) * 1992-04-09 1993-11-02 Fujitsu Ltd リード検査装置
TWI286961B (en) * 2004-12-02 2007-09-21 Taiwan Semiconductor Mfg Methods of predicting CMP removal rate and transferring CMP processes
JP5274919B2 (ja) 2008-07-09 2013-08-28 株式会社ディスコ 研削装置及びスクラッチ検出装置
CN101762250A (zh) * 2010-01-28 2010-06-30 上海交通大学 磨削工件表面质量光学实时检测装置
CN101805903B (zh) * 2010-04-12 2012-07-25 太原理工大学 一种钢基表面激光钎焊熔覆铜合金层的方法
JP6377459B2 (ja) * 2014-08-29 2018-08-22 株式会社ディスコ ウエーハ検査方法、研削研磨装置
WO2016080401A1 (ja) * 2014-11-18 2016-05-26 三菱レイヨン株式会社 金属板の補修方法、及び鋳型の製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002544475A (ja) * 1999-05-10 2002-12-24 メトソ・ペーパー・オートメーション・オイ 紙表面を測定するための方法および測定装置
JP2005503272A (ja) * 2001-09-13 2005-02-03 ネイダーランゼ、オルガニザティー、ボー、トゥーゲパストナトゥールウェテンシャッペルーク、オンダーツォーク、ティーエヌオー ワークピース表面を研磨する方法および装置
JP2006208347A (ja) * 2004-02-25 2006-08-10 Jfe Steel Kk 圧延用ロールの表面欠陥検出装置、研削装置、表面欠陥検出方法及び表面欠陥検出用プログラム並びに圧延用ロール研削方法
JP2006226804A (ja) * 2005-02-17 2006-08-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd フラットディスプレイパネルの検査方法
JP2007271312A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Nikon Corp 表面検査装置
JP2008155292A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Disco Abrasive Syst Ltd 基板の加工方法および加工装置
US20150364387A1 (en) * 2014-06-13 2015-12-17 Moon-Gi Cho Wafer polishing method
JP2016156822A (ja) * 2015-02-25 2016-09-01 株式会社昭和電気研究所 ウェハ欠陥検査装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021190532A (ja) * 2020-05-28 2021-12-13 株式会社ディスコ ウエーハ検査装置、及びウエーハ検査方法
JP7455476B2 (ja) 2020-05-28 2024-03-26 株式会社ディスコ ウエーハ検査装置、及びウエーハ検査方法
WO2023047684A1 (ja) * 2021-09-24 2023-03-30 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP2023046631A (ja) * 2021-09-24 2023-04-05 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP7746093B2 (ja) 2021-09-24 2025-09-30 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180099490A (ko) 2018-09-05
TW201834051A (zh) 2018-09-16
TWI741151B (zh) 2021-10-01
CN108500842A (zh) 2018-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018140469A (ja) 被加工物の検査方法、被加工物の検査装置及び加工装置
CN105390410B (zh) 晶片检查方法以及磨削研磨装置
KR20170137639A (ko) 피가공물의 검사 방법, 검사 장치, 레이저 가공 장치 및 확장 장치
TWI837411B (zh) 工件之確認方法以及加工方法
CN110293480A (zh) 磨削装置
JP2019054056A (ja) 加工装置
JP2009061511A (ja) ウエーハの研削方法及び研削装置
US11673229B2 (en) Processing apparatus
JP2008155292A (ja) 基板の加工方法および加工装置
KR102257264B1 (ko) 스크래치 검출 방법
JP2010030007A (ja) 研削装置及びスクラッチ検出装置
CN116230510A (zh) 晶片的制造方法和磨削装置
JP2018187688A (ja) 加工装置
JP7034797B2 (ja) 貼り合せ基板の測定方法および加工方法並びにそれらに用いる装置
JP7370265B2 (ja) 加工方法及び加工装置
TWI899402B (zh) 研削裝置
JP6989392B2 (ja) 板状物の加工方法
JP2005259967A (ja) 化学機械研磨装置及び化学機械研磨方法
JP7200413B2 (ja) 貼り合せ基板の測定方法および加工方法並びにそれらに用いる装置
CN108015673B (zh) 磨削装置
TW202437364A (zh) 被加工物的加工方法
JP2024082035A (ja) チャックテーブルの検査方法
TW202329315A (zh) 磨削裝置
JP2020191430A (ja) ウェーハの処理方法及びテープ剥離装置
JP5656688B2 (ja) 透明板状物のエッジ検出装置及び研削装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20191224

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210202

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210330

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210608

C60 Trial request (containing other claim documents, opposition documents)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60

Effective date: 20210907

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20220105

C13 Notice of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13

Effective date: 20220201

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220322

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20220913

C13 Notice of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13

Effective date: 20220920

C23 Notice of termination of proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23

Effective date: 20230131

C03 Trial/appeal decision taken

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03

Effective date: 20230228

C30A Notification sent

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012

Effective date: 20230228