JP2017168158A - 半導体記憶装置及びメモリシステム - Google Patents
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Abstract
Description
第1実施形態に係る半導体記憶装置及びメモリシステムについて説明する。以下では半導体記憶装置として、メモリセルトランジスタが半導体基板上に積層された三次元積層型NAND型フラッシュメモリを例に挙げて説明する。
1.1.1 メモリシステムの全体構成について
まず、本実施形態に係るメモリシステムの全体構成について、図1を用いて説明する。
次に、半導体記憶装置の全体構成について、図2を用いて説明する。図示するようにNAND型フラッシュメモリ100は、大まかにはコア部110及び周辺回路部120を備えている。
次に、メモリセルアレイ111の回路構成について、図3を用いて説明する。図3は、ブロックBLK0の回路構成を示しているが、他のブロックも同様である。
次に、本実施形態に係るメモリセルトランジスタMTの取り得る閾値分布について、図5を用いて説明する。以下、本実施形態では、メモリセルトランジスタMTが8値のデータを保持可能な場合について説明するが、保持可能なデータは8値に限定されない。本実施形態においては、メモリセルトランジスタMTが2値以上のデータ(1ビット以上のデータ)を保持可能であれば良い。
次に、本実施形態に従ったメモリシステムにおけるデータの書き込み方法について説明する。本実施形態では、1つのメモリセルトランジスタMTに3ビットのデータが、一括して書き込まれる。すなわち、1つのメモリセルグループMCGに対し、3ページからなるフルシーケンスユニットFSUのデータが書き込まれる。以下、フルシーケンスユニットFSUに含まれる、上位ビットに対応するページを上位ページ(upper page)、中位ビットに対応するページを中位ページ(middle page)、下位ビットに対応するページを下位ページ(lower page)と呼ぶ。
まず、コントローラ200の動作について、図6乃至図8を用いて説明する。図6乃至図8の例は、コントローラ200が、NAND型フラッシュメモリ100に、3ビットのデータを送信した後、フルシーケンスでデータを書き込む場合を示している。
次に、ブロックBLK内におけるデータの書き込み順序について、図9を用いて説明する。図9は、ある1つのブロックBLKにおけるストリングユニットSUの断面構成を模式的に示しており、各ストリングユニットSU内の1つの四角は、1つのワード線WLに対応する1つのフルシーケンスユニットFSUを表している。すなわち、1つの四角が、フルシーケンスの1回の書き込み動作に対応している。また、図9の四角の中の番号は、フルシーケンスユニットFSUのデータの書き込み順序、すなわちメモリセルグループMCGの選択順序を示している。図9の例では、ワード線WLが14本、ストリングユニットSUが4つあり、合わせて56個のメモリセルグループMCGがある。すなわち第0番目から第55番目までの書き込み順序がある。以下、例えば選択ゲート線SGD0を選択して対象となるストリングユニットSU0を選択し、且つワード線WL0を選択する場合を、「ストリングユニットSU0のワード線WL0を選択する」と記述する。また、ワード線WLの総数をN(Nは1以上の自然数)とし、最下層からワード線WL0〜ワード線WL(N−1)の順に呼ぶことがある。なお、本実施形態におけるデータの書き込み順序を適用するためには、ワード線WLの総数Nは、5以上となる。
まず、始端処理パターンについて説明する。始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含む書き込みパターンである。図9の例では、第0番目乃至第7番目の書き込みがこれに対応する。始端処理パターンでは、まず第0番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU0のワード線WL0が選択され、フルシーケンスユニットFSUのデータが書き込まれる。次に、第1番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU0のワード線WL2が選択され、フルシーケンスユニットFSUのデータが書き込まれる。同様に、第2番目乃至第7番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU1〜SU3においてワード線WL0と2層上のワード線WL2が交互に選択され、それぞれにフルシーケンスユニットFSUのデータが書き込まれる。
次に、定常処理パターンについて説明する。定常処理パターンは、始端処理パターン終了後、最上層のワード線WL(N−1)(本実施形態ではWL13)あるいは、最上層の1層下のワード線WL(N−2)(本実施形態ではWL12)が選択され、フルシーケンスユニットFSUのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。図9の例では、第8番目から第47番目までの書き込みが対応する。定常処理パターンでは、各ストリングユニットSUにおいて、あるワード線WLと3層下のワード線WLが交互に選択される。
次に、終端処理パターンについて説明する。終端処理パターンは、定常処理パターンにより最上層の1層下のワード線WL(N−2)が選択された場合に実行される書き込みパターンである。Nが5以上の奇数の場合、定常処理パターンにより最上層のワード線WL(N−1)が選択される。このような場合、終端処理パターンは適用されず、最上層の1層下のワード線WL(N−2)に対応するメモリセルグループMCGにはデータが書き込まれない(ダミー扱いとなる)。また、Nが5以上の偶数の場合、定常処理パターンによりワード線WL(N−2)が選択される。このような場合、終端処理パターンが適用され、各ストリングユニットSUにおいて、最上層のワード線WL(N−1)と、2層下のワード線WL(N−3)とが順次選択される。
次に、NAND型フラッシュメモリ100の動作について、図10を用いて説明する。なお、本実施形態では、NAND型フラッシュメモリ100が、図9で説明した書き込み順序に従って、データを書き込む場合について説明する。
次に、プログラム動作における各配線の電圧について、図11を用いて説明する。
本実施形態に係る構成では、メモリシステム及び半導体記憶装置の信頼性を向上することができる。本効果につき、以下説明する。
次に、第2実施形態に係る半導体記憶装置及びメモリシステムについて説明する。第1実施形態と異なる点は、コントローラ200がNAND型フラッシュメモリ100のストリングユニットSU及びワード線WLを指定する点である。以下、第1実施形態と異なる点についてのみ説明する。
コントローラ200の動作について、図15を用いて説明する。図15は、ホスト機器300、コントローラ200、及びNAND型フラッシュメモリ100における動作を示すフローチャートである。
本実施形態に係る構成であると、第1実施形態と同様の効果が得られる。
次に、第3実施形態に係る半導体記憶装置及びメモリシステムについて説明する。第3実施形態は、第1及び第2実施形態と書き込み順序が異なる。以下、第1及び第2実施形態と異なる点についてのみ説明する。
データを書き込む際の書き込み順序について、図16を用いて説明する。図16の例は、ワード線WLの総数N=8で、32個のメモリセルグループMCGがある場合を示している。
本実施形態における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第5番目の書き込みが対応する。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0の最上層のワード線WL(N−1)(図16の例では第25番目の書き込みに対応したワード線WL7)が選択されるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。
本実施形態における終端処理パターンでは、まず、第26番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU3の最上層から2層下のWL5が選択される。そして、第27番目及び第28番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU2のワード線WL6及びストリングユニットSU1のワード線WL7が順次選択される。
第1及び第2実施形態に本実施形態の書き込み順序を適用できる。
次に、第4実施形態に係る半導体記憶装置及びメモリシステムについて説明する。第4実施形態は、第1乃至第3実施形態と書き込み順序が異なる。以下、第1乃至第3実施形態と異なる点についてのみ説明する。
データを書き込む際の書き込み順序について、図17を用いて説明する。図17の例は、ワード線WLの総数N=8で、32個のメモリセルグループMCGがある場合を示している。
図17に示すように、本実施形態における始端処理パターンは、第0番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU0の最下層のワード線WL0を選択する。第0番目の書き込みは、ストリングユニットSU1〜SU3に1層下のワード線WLがないため、例外的な扱いとなる。
ストリングユニットSU3の最上層の1層下のワード線WL(N−2)(図17の例では第28番目の書き込みに対応したワード線WL6)が選択されるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。
本実施形態における終端処理パターンでは、第29番目乃至第31番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU1〜SU3の最上層のワード線WL7が順次選択される。
第1及び第2実施形態に本実施形態の書き込み順序を適用できる。
次に、第5実施形態に係る半導体記憶装置及びメモリシステムについて説明する。第5実施形態は、第4実施形態に対し、ストリングユニットSU0のワード線WLを選択する際に、2層上のワード線WLを選択する場合について説明する。以下、第4実施形態と異なる点についてのみ説明する。
データを書き込む際の書き込み順序について、図18を用いて説明する。図18の例は、ワード線WLの総数N=8で、32個のメモリセルグループMCGがある場合を示している。
本実施形態における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含む、第0番目乃至第9番目の書き込みが対応する。
ストリングユニットSU3の最上層の2層下のワード線WL(N−3)(図18の例では第25番目の書き込みに対応したワード線WL5)が選択されるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。
本実施形態における終端処理パターンでは、まず第26番目乃至第28番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU1〜SU3のワード線WL6が順次選択される。次に、第29番目乃至第31番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU1〜SU3の最上層のワード線WL7が選択される。
第1及び第2実施形態に本実施形態の書き込み順序を適用できる。
次に、第6実施形態に係る半導体記憶装置及びメモリシステムについて説明する。第6実施形態では、メモリセルトランジスタMTが4値(2ビット)のデータ書き込みに対応し、メモリセルトランジスタMTに1ビットずつデータを書き込む場合、すなわちメモリセルグループMCGに1ページずつデータを書き込む場合(以下、このような書き込みを「ページ・バイ・ページ」と呼ぶ)について説明する。第6実施形態では、ページ・バイ・ページの書き込みに、第3実施形態で説明した書き込み順序を適用している。以下、第1乃至第5実施形態と異なる点についてのみ説明する。
まず、コントローラ200の動作について、図19を用いて説明する。図19の例は、コントローラ200が、NAND型フラッシュメモリ100に、下位ページ、中位ページ、あるいは上位ページのデータを送信した後、データを書き込む場合を示している。すなわちコントローラ200は、1ページ分のデータを送信して、NAND型フラッシュメモリ100にデータの書き込みを実行させる。以下、第1実施形態の図6乃至図8との違いに着目し、入出力信号IO<0:7>についてのみ説明する。
次に、本実施形態における書き込み順序について、ストリングユニットSUにおけるメモリセルグループMCGのページの構成に応じて3つの例を説明する。
第1例は、全てのワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応している場合について説明する。図20は、本例に係る書き込み順序を模式的に示しており、各ストリングユニットSU内の1つの四角は、1つのワード線WLに対応する1つのページを表している。すなわち、1つの四角が、ページ・バイ・ページによる1回の書き込み動作に対応している。図20の四角の中の番号は、ページ・バイ・ページにおけるデータの書き込み順序を示している。四角が接している下位ページ(図20の参照符号“L”)と上位ページ(図20の参照符号“U”)とが、1つのメモリセルグループMCGに対応する。以下、1つのブロックBLKに含まれるストリングユニット数をK(Kは1以上の自然数)し、書き込み順序の最終番号をJ(Jは1以上の自然数)とする。図20の例は、メモリセルトランジスタMTが2ビットの書き込みに対応し、ワード線WLの総数N=8で、ストリングユニット数K=4となる。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=2×K×N=2×4×8=64となり、書き込み順序の最終番号Jは、J=63となる。すなわち、図20の例は、下位ページ及び上位ページ合わせて64個のページがある場合を示している。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第19番目の書き込みが対応する。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0の最上層のワード線WL(N−1)(本例ではWL7)が選択され、下位ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。本例では、第20番目乃至第43番目の書き込みが対応する。
上位ページ;z_up=2Kx+2(K−1)y−(K2−5K+2)
ここで、
K;1つのブロックBLKに含まれるストリングユニット数(本例ではK=4)、
x;選択されるワード線WLの番号、
y;選択されるストリングユニットSUの番号である。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、第44番目乃至第63番目の書き込みが終端処理パターンに対応するが、終端処理パターンは、最上層のワード線WLを含むため、ワード線WLの総数N(Nは1以上の自然数)により、対応する書き込み順序が異なる。このため、書き込み順序の最後から見た順序が重要となる。図20の右側の表は、終端処理パターンに対応する書き込み順序を、書き込み順序の最終番号Jを用いて表したものである。以下では、終端処理パターンに対応する第44番目乃至第63番目の書き込みについて、図20の右側の表に基づいて、第(J−19)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
本実施形態における第2例は、最上層のワード線WL(N−1)及び最下層のワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応している場合について説明する。図21は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図21の例は、ワード線WLの総数N=10となる。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=8N−8=72となり、書き込み順序の最終番号Jは、J=71となる。すなわち、図21の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(図21の参照符号“SLC”)、並びに2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)合わせて72個のページがある場合を示している。以下では、本実施形態の第1例と異なる点についてのみ説明する。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第23番目の書き込みが対応する。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0の最上層のワード線WL(N−1)(本例ではWL9)が選択され、ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。書き込み順序の基本的なパターンは本実施形態の第1例と同じである。本例では、第24番目乃至第55番目の書き込みが対応する。
上位ページ;z_up=2Kx+2(K−1)y−(K2−4K+2)
なお、メモリセルグループMCGが1ページの書き込みに対応している場合、下位ページの一般式を適用できる。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第56番目乃至第71番目の書き込みを、第(J−15)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
第3例は、ワード線WL0、WL1、WL(N−2)、及びWL(N−1)に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応している場合について説明する。図22は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図22の例は、ワード線WLの総数N=12となる。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=8N−16=80となり、書き込み順序の最終番号Jは、J=79となる。すなわち、図22の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、並びに2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)合わせて80個のページがある場合を示している。以下では、本実施形態の第1例及び第2例と異なる点についてのみ説明する。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第27番目の書き込みが対応する。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0の最上層のワード線WL(N−1)(本例ではWL11)が選択され、ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。書き込み順序の基本的なパターンは本実施形態の第1例及び第2例と同じである。本例では、第28番目乃至第67番目の書き込みが対応する。
上位ページ;z_up=2Kx+2(K−1)y−(K2−3K+2)
なお、メモリセルグループMCGが1ページの書き込みに対応している場合、下位ページの一般式を適用できる。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第68番目乃至第79番目の書き込みを、第(J−11)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
本実施形態に係る構成であれば、メモリセルトランジスタMT(メモリセルグループMCG)にページ・バイ・ページで2ビット(2ページ)のデータの書き込む場合に、第3実施形態と同様の効果を得ることができる。
次に、第7実施形態に係る半導体記憶装置及びメモリシステムについて説明する。第7実施形態は、メモリセルトランジスタMTが2ビットのデータに対応し、メモリセルグループMCGにページ・バイ・ページで2ページのデータを書き込む際に、第4実施形態で説明した書き込み順序を適用している。以下、第1乃至第6実施形態と異なる点についてのみ説明する。
本実施形態における書き込み順序について、ストリングユニットSUにおけるメモリセルグループMCGのページの構成に応じて3つの例を説明する。
第1例は、第6実施形態の第1例と同様に、全てのワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応している場合について説明する。図23は、第1例に係る書き込み順序を模式的に示している。図23の例は、ワード線WLの総数N=8、総ページ数(J+1)=64、及び書き込み順序の最終番号J=63となる。すなわち、図23の例は、下位ページ(L)及び上位ページ(U)合わせて64個のページがある場合を示している。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、下位ページのデータだけ書き込みが行われる第0番目乃至第8番目の書き込みが対応する。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU3の最上層の1層下のワード線WL(N−2)(本例ではWL6)が、選択され下位ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。本例では、第9番目乃至第48番目の書き込みが対応する。
z_low(y>1)=8x+2y−6
上位ページ;z_up=8x+2y+9
このように、下位ページの一般式は、ストリングユニットSU0と、ストリングユニットSU1〜SU3とで異なる。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第49番目乃至第63番目の書き込みを、第(J−14)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
第2例は、第6実施形態の第2例と同様に、最上層のワード線WL(N−1)及び最下層のワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応している場合について説明する。図24は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図24の例は、ワード線WLの総数N=10、総ページ数(J+1)=72、及び書き込み順序の最終番号J=71となる。すなわち図24の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、並びに2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)合わせて72個のページがある場合を示している。以下では、本実施形態の第1例と異なる点についてのみ説明する。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第12番目の書き込みが対応する。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU3のワード線WL(N−2)(本例ではWL8)が選択され、下位ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。書き込み順序の基本的なパターンは本実施形態の第1例と同じである。本例では、第13番目乃至第60番目の書き込みが対応する。
z_low(y>1)=8x+2y−10
上位ページ;z_up=8x+2y+5
本実施形態の第1例と同様に、下位ページの一般式は、ストリングユニットSU0と、ストリングユニットSU1〜SU3とで異なる。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第61番目乃至第71番目の書き込みを、第(J−10)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
第3例は、第6実施形態の第3例と同様に、ワード線WL0、WL1、WL(N−2)、及びWL(N−1)に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応している場合について説明する。図25は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図25の例は、ワード線WLの総数N=12、総ページ数(J+1)=80、及び書き込み順序の最終番号J=79となる。すなわち図25の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、並びに2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)合わせて80個のページがある場合を示している。以下では、本実施形態の第1例及び第2例と異なる点についてのみ説明する。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第16番目の書き込みが対応する。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU3の最上層の1層下のワード線WL(N−2)(本例ではWL10)が選択され、ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。書き込み順序の基本的なパターンは本実施形態の第1例及び第2例と同じである。本例では、第17番目乃至第72番目の書き込みが対応する。
z_low(y>1)=8x+2y−14
上位ページ;z_up=8x+2y+1
本実施形態の第1例及び第3例と同様に、下位ページの一般式は、ストリングユニットSU0と、ストリングユニットSU1〜SU3とで異なる。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第73番目乃至第79番目の書き込みを、第(J−6)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
本実施形態に係る構成であれば、メモリセルトランジスタMT(メモリセルグループMCG)にページ・バイ・ページで2ビット(2ページ)のデータの書き込む場合に、第4実施形態と同様の効果を得ることができる。
次に、第8実施形態に係る半導体記憶装置及びメモリシステムについて説明する。第8実施形態は、メモリセルトランジスタMTが3ビットのデータに対応し、メモリセルグループMCGにページ・バイ・ページで3ページのデータを書き込む際に、第3実施形態で説明した書き込み順序を適用している。以下、第1乃至第7実施形態と異なる点についてのみ説明する。
本実施形態における書き込み順序について、ストリングユニットSUにおけるメモリセルグループMCGのページの構成に応じて3つの例を説明する。
第1例は、最上層のワード線WL(N−1)及び最下層のワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる3ページの書き込みに対応している場合について説明する。図26は、本例に係る書き込み順序を模式的に示しており、各ストリングユニットSU内の1つの四角は、1つのワード線WLに対応する1つのページを表している。四角が接している下位ページ(図26の参照符号“L”)と中位ページ(図26の参照符号“M”)、と上位ページ(図26の参照符号“U”)とが、1つのメモリセルグループMCGに対応する。図26の例は、ワード線WLの総数N=9であり、3ビットの書き込みに対応するワード線WLが7本の場合を示す。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=12N−16=92となる。また、書き込み順序の最終番号Jは、J=91となる。すなわち、図26の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、並びに3ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)、中位ページ(M)、及び上位ページ(U)を合わせて92個のページがある場合を示している。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第37番目の書き込みが対応する。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0の最上層のワード線WL(N−1)(本例ではWL8)が選択され、ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。本例では、第38番目乃至第61番目の書き込みが対応する。
中位ページ;z_mid=3Kx+3(K−1)y−3/2K2+7/2K−3
上位ページ;z_up=3Kx+3(K−1)y−3/2K2+13/2K−2
なお、メモリセルグループMCGが1ページの書き込みに対応している場合、下位ページの一般式を適用できる。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第62番目乃至第91番目の書き込みを、第(J−29)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
第2例は、ワード線WL(N−1)及びワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、ワード線WL(N−2)に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる3ページの書き込みに対応している場合について説明する。図27は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図27の例は、ワード線WLの総数N=10であり、3ビットの書き込みに対応するワード線WLが7本の場合を示す。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=12N−20=100となる。また、書き込み順序の最終番号Jは、J=99となる。すなわち、図27の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)、並びに3ビット(ページ)の書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)、中位ページ(M)、及び上位ページ(U)を合わせて100個のページがある場合を示している。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第37番目の書き込みが対応する。始端処理パターンは、本実施形態の第1例と同じである。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0の最上層のワード線WL(N−1)(本例ではWL9)が選択され、ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。本例では、第38番目乃至第73番目の書き込みが対応する。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第74番目乃至第99番目の書き込みを、第(J−25)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
第3例は、ワード線WL(N−1)及びワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGが1ページの書き込みに対応し、ワード線WL(N−2)及びWL(N−3)に対応するメモリセルグループMCGが2ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGが3ページの書き込みに対応している場合について説明する。図28は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図28の例は、ワード線WLの総数N=11であり、3ビットの書き込みに対応するワード線WLが7本の場合を示す。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=12N−24=108となる。また、書き込み順序の最終番号Jは、J=107となる。すなわち、図28の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)、並びに3ビット(ページ)の書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)、中位ページ(M)、及び上位ページ(U)を合わせて、108個のページがある場合を示している。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第37番目の書き込みが対応する。始端処理パターンは、本実施形態の第1例及び第2例と同じである。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0の最上層のワード線WL(N−1)(本例ではWL10)が選択され、ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。本例では、第38番目乃至第85番目の書き込みが対応する。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第86番目乃至第107番目の書き込みを、第(J−21)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
本実施形態に係る構成であれば、メモリセルトランジスタMT(メモリセルグループMCG)にページ・バイ・ページで3ビット(3ページ)のデータの書き込む場合に、第3実施形態と同様の効果を得ることができる。
次に、第9実施形態に係る半導体記憶装置及びメモリシステムについて説明する。第9実施形態は、メモリセルトランジスタMTが3ビットのデータに対応し、メモリセルグループMCGにページ・バイ・ページで3ページのデータを書き込む際に、第4実施形態で説明した書き込み順序を適用している。以下、第1乃至第8実施形態と異なる点についてのみ説明する。
本実施形態における書き込み順序について、ストリングユニットSUにおけるメモリセルグループMCGのページの構成に応じて3つの例を説明する。
第1例は、第8実施形態の第1例と同様に、最上層のワード線WL(N−1)及び最下層のワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる3ページの書き込みに対応している場合について説明する。図29は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図29の例は、ワード線WLの総数N=9であり、3ビットの書き込みに対応するワード線WLが7本の場合を示す。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=12N−16=92となる。また、書き込み順序の最終番号Jは、J=91となる。すなわち、図29の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、並びに3ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)、中位ページ(M)、及び上位ページ(U)を合わせて92個のページがある場合を示している。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第22番目の書き込みが対応する。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU3のワード線WL(N−2)(本例ではWL7)が選択され、下位ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。本例では、第23番目乃至第70番目の書き込みが対応する。
z_low(y>1)=12x+3y−23
中位ページ;z_mid(y=0)=12x−13
z_mid(y>1)=12x+3y−1
上位ページ;z_up(y=0)=12x
z_up(y>1)=12x+3y+12
なお、メモリセルグループMCGが1ページの書き込みに対応している場合、下位ページの一般式を適用できる。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第71番目乃至第91番目の書き込みを、第(J−20)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
第2例は、第8実施形態の第2例と同様に、ワード線WL(N−1)及びワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、ワード線WL(N−2)に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる3ページの書き込みに対応している場合について説明する。図30は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図30の例は、ワード線WLの総数N=10であり、3ビットの書き込みに対応するワード線WLが7本の場合を示す。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=12N−20=100となる。また、書き込み順序の最終番号Jは、J=99となる。すなわち、図30の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)、並びに3ビット(ページ)の書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)、中位ページ(M)、及び上位ページ(U)を合わせて100個のページがある場合を示している。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第22番目の書き込みが対応する。始端処理パターンは、本実施形態の第1例と同じである。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU3のワード線WL(N−2)(本例ではWL8)が選択され、下位ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。本例では、第23番目乃至第82番目の書き込みが対応する。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第83番目乃至第99番目の書き込みを、第(J−16)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
第3例は、第8実施形態の第3例と同様に、ワード線WL(N−1)及びワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、ワード線WL(N−2)及びWL(N−3)に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる3ページの書き込みに対応している場合について説明する。図31は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図31の例は、ワード線WLの総数N=11であり、3ビットの書き込みに対応するワード線WLが7本の場合を示す。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=12N−24=108となる。また、書き込み順序の最終番号Jは、J=107となる。すなわち、図31の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)、並びに3ビット(ページ)の書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)、中位ページ(M)、及び上位ページ(U)を合わせて、108個のページがある場合を示している。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第22番目の書き込みが対応する。始端処理パターンは、本実施形態の第1例及び第2例と同じである。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU3のワード線WL(N−2)(本例ではWL9)が選択され、下位ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。本例では、第23番目乃至第94番目の書き込みが対応する。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第95番目乃至第107番目の書き込みを、第(J−12)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
本実施形態に係る構成であれば、メモリセルトランジスタMT(メモリセルグループMCG)にページ・バイ・ページで3ビット(3ページ)のデータの書き込む場合に、第4実施形態と同様の効果を得ることができる。
次に、第10実施形態に係る半導体記憶装置及びメモリシステムについて説明する。第10実施形態は、メモリセルトランジスタMTが2ビットのデータに対応し、メモリセルグループMCGにページ・バイ・ページで2ページのデータを書き込む順序が、第6及び第7実施形態と異なる。以下、第1乃至第9実施形態と異なる点についてのみ説明する。
本実施形態における書き込み順序について、ストリングユニットSUにおけるメモリセルグループMCGのページの構成に応じて3つの例を説明する。
第1例は、第6及び第7実施形態の第1例と同様に、全てのワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応している場合について説明する。図32は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図32の例は、ワード線WLの総数N=8、総ページ数(J+1)=64、及び書き込み順序の最終番号J=63となる。すなわち、図32の例は、下位ページ(L)及び上位ページ(U)合わせて64個のページがある場合を示している。
図32の左側の表に示すように、第0番目乃至第3番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU0〜SU3のワード線WL0が選択され、下位ページのデータがそれぞれ書き込まれる。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0〜SU3のワード線WL(N−2)(本例ではWL6)が選択され、上位ページのデータがそれぞれ書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。本例では、第4番目乃至第59番目の書き込みが対応する。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第60番目乃至第63番目の書き込みを、第(J−3)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
第2例は、第6及び第7実施形態の第2例と同様に、最上層のワード線WL(N−1)及び最下層のワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応している場合について説明する。図33は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図33の例は、ワード線WLの総数N=10、総ページ数(J+1)=72、及び書き込み順序の最終番号J=71となる。すなわち図33の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、並びに2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)合わせて72個のページがある場合を示している。以下では、本実施形態の第1例と異なる点についてのみ説明する。なお、本例においては、終端処理パターンはないため、書き込みパターンは、始端処理パターン及び定常処理パターンの2つとなる。
図33の左側の表に示すように、第0番目乃至第3番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU0〜SU3のワード線WL0が選択され、ページのデータがそれぞれ書き込まれる。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0〜SU3のワード線WL(N−1)(本例ではWL9)が選択され、ページのデータがそれぞれ書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。すなわち書き込み順序の最終番号J(本例ではJ=71)が選択されるまで繰り返される主となる書き込みパターンである。書き込み順序の基本的なパターンは、本実施形態の第1例と同じである。
第3例は、第6及び第7実施形態の第3例と同様に、ワード線WL0、WL1、WL(N−2)、及びWL(N−1)に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応している場合について説明する。図34は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図34の例は、ワード線WLの総数N=12、総ページ数(J+1)=80、及び書き込み順序の最終番号J=79となる。すなわち図34の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、並びに2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)合わせて80個のページがある場合を示している。以下では、本実施形態の第1例及び第2例と異なる点についてのみ説明する。
図34の左側の表に示すように、第0番目乃至第7番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU0〜SU3において、ワード線WL0が選択され、ページのデータが書き込まれた後、ワード線WL1が選択され、ページのデータが書き込まれる。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0〜SU3のワード線WL(N−2)(本例ではWL10)が選択され、ページのデータがそれぞれ書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。書き込み順序の基本的なパターンは、本実施形態の第1例及び第2例と同じである。本例では、第12番目乃至第75番目の書き込みが対応する。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第76番目乃至第79番目の書き込みを、第(J−3)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
本実施形態に係る構成であれば、メモリセルトランジスタMT(メモリセルグループMCG)にページ・バイ・ページで2ビット(2ページ)データの書き込む場合に、WLリークによりデータが消失するページ数を低減することができる。以下、具体的に説明する。
次に、第11実施形態に係る半導体記憶装置及びメモリシステムについて説明する。第11実施形態は、メモリセルトランジスタMTが3ビットのデータに対応し、メモリセルグループMCGにページ・バイ・ページで3ページのデータを書き込む順序が、第10実施形態で説明した書き込み順序を適用している点である。以下、第1乃至第10実施形態と異なる点についてのみ説明する。
本実施形態における書き込み順序について、ストリングユニットSUにおけるメモリセルグループMCGのページの構成に応じて3つの例を説明する。
第1例は、第8及び第9実施形態の第1例と同様に、最上層のワード線WL(N−1)及び最下層のワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる3ページの書き込みに対応している場合について説明する。図35は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図35の例は、ワード線WLの総数N=9であり、3ビットの書き込みに対応するワード線WLが7本の場合を示す。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=12N−16=92となる。また、書き込み順序の最終番号Jは、J=91となる。すなわち、図35の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、並びに3ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)、中位ページ(M)、及び上位ページ(U)を合わせて92個のページがある場合を示している。
図35の左側の表に示すように、第0番目乃至第3番目の書き込みに対応して、ストリングユニットSU0〜SU3のワード線WL0が選択され、ページのデータがそれぞれ書き込まれる。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0〜SU3のワード線WL(N−4)(本例ではWL5)が選択され、上位ページのデータがそれぞれ書き込まれるまで、ワード線WLの総数Nに応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。本例では、第16番目乃至第75番目の書き込みが対応する。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第76番目乃至第91番目の書き込みを、第(J−5)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
第2例は、第8及び第9実施形態の第2例と同様に、ワード線WL(N−1)及びワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、ワード線WL(N−2)に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる3ページの書き込みに対応している場合について説明する。図36は、第2例に係る書き込み順序を模式的に示している。図36の例は、ワード線WLの総数N=10であり、3ビットの書き込みに対応するワード線WLが7本の場合を示す。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=12N−20=100となる。また、書き込み順序の最終番号Jは、J=99となる。すなわち、図36の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)、並びに3ビット(ページ)の書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)、中位ページ(M)、及び上位ページ(U)を合わせて100個のページがある場合を示している。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第15番目の書き込みが対応する。始端処理パターンは、本実施形態の第1例と同じである。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0〜SU3のワード線WL(N−4)(本例ではWL6)が選択され、上位ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数に応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。基本的な書き込みパターンは、本実施形態の第1例と同じである。本例では、第16番目乃至第87番目の書き込みが対応する。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第88番目乃至第99番目の書き込みを、第(J−11)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
第3例は、第8及び第9実施形態の第3例と同様に、ワード線WL(N−1)及びワード線WL0に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる1ページの書き込みに対応し、ワード線WL(N−2)及びWL(N−3)に対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる2ページの書き込みに対応し、他のワード線WLに対応するメモリセルグループMCGがページ・バイ・ページによる3ページの書き込みに対応している場合について説明する。図37は、本例に係る書き込み順序を模式的に示している。図37の例は、ワード線WLの総数N=11であり、3ビットの書き込みに対応するワード線WLが7本の場合を示す。この場合、総ページ数(J+1)は、J+1=12N−24=108となる。また、書き込み順序の最終番号Jは、J=107となる。すなわち、図37の例は、1ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGのページ(SLC)、2ページの書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)及び上位ページ(U)、並びに3ビット(ページ)の書き込みに対応したメモリセルグループMCGの下位ページ(L)、中位ページ(M)、及び上位ページ(U)を合わせて、108個のページがある場合を示している。
本例における始端処理パターンは、最下層のワード線WL0の選択を含み、第0番目乃至第15番目の書き込みが対応する。始端処理パターンは、本実施形態の第1例及び第2例と同じである。
始端処理パターン終了後、ストリングユニットSU0〜SU3のワード線WL(N−5)(本例ではWL6)が選択され、上位ページのデータが書き込まれるまで、ワード線WLの総数に応じて繰り返される主となる書き込みパターンである。基本的な書き込みパターンは、本実施形態の第1例及び第2例と同じである。本例では、第16番目乃至第87番目の書き込みが対応する。
次に、本例における終端処理パターンについて説明する。本例では、終端処理パターンに対応する第88番目乃至第107番目の書き込みを、第(J−19)番目乃至第J番目の書き込みとして説明する。
本実施形態に係る構成であれば、メモリセルトランジスタMT(メモリセルグループMCG)にページ・バイ・ページで3ビット(3ページ)のデータの書き込む場合に、第10実施形態と同様の効果を得ることができる。
上記実施形態に係る半導体記憶装置は、半導体基板の上方に順に積層された第1乃至第4メモリセル(SU0のMT1~MT4@図4、SU0の“9”, “1”, “17”, “8”ページ@図9)を含む第1メモリユニット(SU0@図9)と、半導体基板の上方に順に積層された第5乃至第8メモリセル(SU1のMT1~MT4@図4、SU1の“11”, “3”, “19”, “10”ページ@図9)を含む第2メモリユニット(SU1@図9)と、第1及び第5メモリセルのゲートに接続された第1ワード線(WL1@図4,9)と、第2及び第6メモリセルのゲートに接続された第2ワード線(WL2@図4,9)と、第3及び第7メモリセルのゲートに接続された第3ワード線(WL3@図4,9)と、第4及び第8メモリセルのゲートに接続された第4ワード線(WL4@図4,9)とを含む。書き込み動作において、第4メモリセル(“8”@図9)、第1メモリセル(“9”@図9)、第8メモリセル(“10”@図9)、第5メモリセル(“11”@図9)の順に書き込む。
例えば、第1、第3、第4及び第5実施形態において、メモリセルトランジスタMTが保持可能なデータのビット数は、対応するワード線WL毎に異なっていても良い。すなわち、フルシーケンスでデータを書き込む場合に、フルシーケンスユニットFSUに含まれるページ数が、対応するワード線WLにより異なっていても良い。一例を、図38を用いて説明する。
第2変形例は、第1変形例と異なるフルシーケンスユニットFSUの構成について説明する。図39は、本変形例における1つのブロックBLKのフルシーケンスユニットFSUの構成を示すブロック図である。図39の例は、ワード線WL0〜WL2に対応するフルシーケンスユニットFSUの構成を示している。以下では、第1変形例と異なる点についてのみ説明する。
第3変形例は、第1及び第2変形例と異なるフルシーケンスユニットFSUの構成について説明する。図40は、本変形例における1つのブロックBLKのフルシーケンスユニットFSUの構成を示すブロック図である。図40の例は、ワード線WL0〜WL2に対応するフルシーケンスユニットFSUの構成を示している。また、図40の四角の中のTLCは、対応するメモリセルトランジスタMTが3ビットのデータを保持可能な場合を示している。すなわち、フルシーケンスユニットFSUが3ページのデータを含む場合を示している。以下では、第1及び第2変形例と異なる点についてのみ説明する。
第4変形例は、第1乃至第3変形例と異なるフルシーケンスユニットFSUの構成について説明する。図41は、本変形例における1つのブロックBLKのフルシーケンスユニットFSUの構成を示すブロック図である。図41の例は、ワード線WL0〜WL2に対応するフルシーケンスユニットFSUの構成を示している。以下では、第1乃至第3変形例と異なる点についてのみ説明する。
第5変形例は、第1乃至第4変形例と異なるフルシーケンスユニットFSUの構成について説明する。図42は、本変形例における1つのブロックBLKのフルシーケンスユニットFSUの構成を示すブロック図である。図42の例は、ワード線WL(N−1)〜WL(N−3)に対応するフルシーケンスユニットFSUの構成を示している。以下では、第1変形例と異なる点についてのみ説明する。
第6変形例は、第1乃至第5変形例と異なるフルシーケンスユニットFSUの構成について説明する。図43は、本変形例における1つのブロックBLKのフルシーケンスユニットFSUの構成を示すブロック図である。図43の例は、ワード線WL(N−1)〜WL(N−3)に対応するフルシーケンスユニットFSUの構成を示している。以下では、第1及び第5変形例と異なる点についてのみ説明する。
第7変形例は、第1乃至第6変形例と異なるフルシーケンスユニットFSUの構成について説明する。図44は、本変形例における1つのブロックBLKのフルシーケンスユニットFSUの構成を示すブロック図である。図44の例は、ワード線WL(N−1)〜WL(N−3)に対応するフルシーケンスユニットFSUの構成を示している。以下では、第1、第5、及び第6変形例と異なる点についてのみ説明する。
上記変形例において、第1乃至第7変形例は可能な限り組み合わせることができる。例えば、第1変形例と、第2及び第5変形例とを組み合わせても良い。より具体的には、ワード線WL0、WL1、WL11(すなわちワード線WL(N−2))、及びWL12(すなわちワード線WL(N−1))に対応するフルシーケンスユニットFSUは、1ページのデータを含む。そして、ワード線WL2、ワード線WL10(すなわちワード線(N−3))、及び他のワード線WLに対応するフルシーケンスユニットFSUは、4ページのデータを含む。このような構成であっても良い。
(1)読み出し動作では、
Aレベルの読み出し動作に選択されたワード線に印加される電圧は、例えば0V〜0.55Vの間である。これに限定されることなく、0.1V〜0.24V、0.21V〜0.31V、0.31V〜0.4V、0.4V〜0.5V、及び0.5V〜0.55Vのいずれかの間にしても良い。
プログラム動作時に選択されたワード線に最初に印加される電圧は、例えば13.7V〜14.3Vの間である。これに限定されることなく、例えば13.7V〜14.0V及び14.0V〜14.6Vのいずれかの間としても良い。
半導体基板上部に形成され、且つ、上記メモリセルが上方に配置されたウェルに最初に印加する電圧は、例えば12V〜13.6Vの間である。この場合に限定されることなく、例えば13.6V〜14.8V、14.8V〜19.0V、19.0〜19.8V、または19.8V〜21Vの間であっても良い。
半導体基板(シリコン基板)上に膜厚が4〜10nmのトンネル絶縁膜を介して配置された電荷蓄積層を有している。この電荷蓄積層は膜厚が2〜3nmのSiN、またはSiONなどの絶縁膜と膜厚が3〜8nmのポリシリコンとの積層構造にすることができる。また、ポリシリコンにはRuなどの金属が添加されていても良い。電荷蓄積層の上には絶縁膜を有している。この絶縁膜は、例えば、膜厚が3〜10nmの下層High−k膜と膜厚が3〜10nmの上層High−k膜に挟まれた膜厚が4〜10nmのシリコン酸化膜を有している。High−k膜はHfOなどが挙げられる。また、シリコン酸化膜の膜厚はHigh−k膜の膜厚よりも厚くすることができる。絶縁膜上には膜厚が3〜10nmの仕事関数調整用の材料を介して膜厚が30nm〜70nmの制御電極が形成されている。ここで仕事関数調整用の材料はTaOなどの金属酸化膜、TaNなどの金属窒化膜である。制御電極にはWなどを用いることができる。
Claims (5)
- 半導体基板の上方に順に積層された第1乃至第4メモリセルを含む第1メモリユニットと、
前記半導体基板の上方に順に積層された第5乃至第8メモリセルを含む第2メモリユニットと、
前記第1及び第5メモリセルのゲートに接続された第1ワード線と、
前記第2及び第6メモリセルのゲートに接続された第2ワード線と、
前記第3及び第7メモリセルのゲートに接続された第3ワード線と、
前記第4及び第8メモリセルのゲートに接続された第4ワード線と
を備え、
書き込み動作において、前記第4メモリセル、前記第1メモリセル、前記第8メモリセル、前記第5メモリセルの順に書き込む
ことを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記書き込み動作において、前記第4メモリセルに書き込む際、前記第2及び第6メモリセルは書き込み済みの状態であり、前記第3及び第7メモリセルは書き込まれていない状態であることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
- 半導体記憶装置とコントローラとを備えるメモリシステムであって、
前記半導体記憶装置は、
半導体基板の上方に順に積層された第1乃至第4メモリセルを含む第1メモリユニットと、
前記半導体基板の上方に順に積層された第5乃至第8メモリセルを含む第2メモリユニットと、
前記第1及び第5メモリセルのゲートに接続された第1ワード線と、
前記第2及び第6メモリセルのゲートに接続された第2ワード線と、
前記第3及び第7メモリセルのゲートに接続された第3ワード線と、
前記第4及び第8メモリセルのゲートに接続された第4ワード線と
を備え、
前記コントローラは、前記半導体記憶装置における書き込み動作において、前記第4メモリセル、前記第1メモリセル、前記第8メモリセル、前記第5メモリセルの順に書き込むように指示する
ことを特徴とするメモリシステム。 - 半導体基板の上方に順に積層された第1乃至第3メモリセルを含む第1メモリユニットと、
前記半導体基板の上方に順に積層された第4乃至第6メモリセルを含む第2メモリユニットと、
前記半導体基板の上方に順に積層された第7乃至第9メモリセルを含む第3メモリユニットと、
前記第1、第4、及び第7メモリセルのゲートに接続された第1ワード線と、
前記第2、第5、及び第8メモリセルのゲートに接続された第2ワード線と、
前記第3、第6、及び第9メモリセルのゲートに接続された第3ワード線と
を備え、
書き込み動作において、前記第7メモリセル、前記第5メモリセル、前記第3メモリセルの順に書き込む
ことを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記書き込み動作において、前記第7メモリセルに書き込む際、前記第1、第2、及び第4メモリセルは書き込み済みの状態であり、前記第6、第8、及び第9メモリセルは書き込まれていない状態であることを特徴とする請求項4記載の半導体記憶装置。
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