JP2016224328A - Break system - Google Patents
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Abstract
【課題】作業者による検査作業を省略でき、ブレイク後の作業効率を高めることが可能なブレイクシステムを提供する。【解決手段】ブレイク装置18、21は、第1基板および第2基板が貼り合わされた基板G2をブレイクして基板ユニットG3を生成する。ブレイク装置18、21は、基板ユニットG3を生成する際に、第2基板に形成された端子を露出させるために、端子に対向する第1基板の端部をブレイクする工程を実行する。ブレイク装置18、21によってブレイクされた端部は、基板ユニットG3の搬送過程において基板ユニットG3から分離される。検査部25、29は、基板ユニットG3から端部が分離されたことによって端子が露出していることを検査し、端子が露出していない基板ユニットG3を搬送経路から離脱させる。【選択図】図1To provide a break system capable of omitting an inspection work by an operator and improving work efficiency after the break. Breaking devices 18 and 21 break a substrate G2 on which a first substrate and a second substrate are bonded to generate a substrate unit G3. When generating the substrate unit G3, the break devices 18 and 21 perform a step of breaking the end portion of the first substrate facing the terminal in order to expose the terminal formed on the second substrate. The end portion broken by the break devices 18 and 21 is separated from the substrate unit G3 in the process of transporting the substrate unit G3. The inspection units 25 and 29 inspect that the terminal is exposed by separating the end from the substrate unit G3, and remove the substrate unit G3 from which the terminal is not exposed from the transport path. [Selection] Figure 1
Description
本発明は、基板をブレイクする際に用いられるブレイクシステムに関する。 The present invention relates to a break system used when breaking a substrate.
一般的に、液晶パネルの製造工程には、第1基板および第2基板を貼り合わせた、いわゆる貼り合わせ基板から液晶パネルの原型となる基板ユニットを切り出すブレイク工程が含まれる。たとえば、第1基板には、カラーフィルタが形成され、第2基板には、液晶を駆動するための薄膜トランジスタ(TFT)および外部接続のための端子が形成される。第2基板の端子は、外部機器と接続される部分であるため、露出している必要がある。このため、ブレイク工程には、第1基板と第2基板をそれぞれスクライブラインに沿ってブレイクして基板ユニットの外形を生成する工程の他、さらに、第2基板に形成された端子を露出させるために、端子に対向する第1基板の端部をスクライブラインに沿ってブレイクする工程が含まれる。 Generally, the manufacturing process of a liquid crystal panel includes a breaking process of cutting out a substrate unit that is a prototype of a liquid crystal panel from a so-called bonded substrate obtained by bonding a first substrate and a second substrate. For example, a color filter is formed on the first substrate, and a thin film transistor (TFT) for driving liquid crystal and a terminal for external connection are formed on the second substrate. Since the terminal of the second substrate is a part connected to an external device, it needs to be exposed. For this reason, in the breaking process, the first substrate and the second substrate are each broken along the scribe line to generate the outer shape of the substrate unit, and further, the terminals formed on the second substrate are exposed. The step of breaking the end portion of the first substrate facing the terminal along the scribe line is included.
以下の特許文献1には、薄膜トランジスターアレイ基板とカラーフィルタ基板とが対向して貼り合わされた液晶パネルにおいて、端部を切断して取り除くことにより端子を露出させる液晶パネルの切断方法が記載されている。 Patent Document 1 below describes a method for cutting a liquid crystal panel in which a thin film transistor array substrate and a color filter substrate are bonded to face each other to expose terminals by cutting and removing the end portions. Yes.
上記のようにして生成された基板ユニットは、その後、さらに研磨や洗浄等の後処理工程に供される。後処理工程を円滑に進めるためには、ブレイク工程において第1基板の端部が確実に除去されて基板ユニットの端子が露出している必要がある。このため、作業者には、基板ユニットごとに端子が適正に露出しているか否かを検査し、検査結果に基づいて後処理工程に供すべき基板ユニットを振り分けるといった作業が必要となっていた。 Thereafter, the substrate unit generated as described above is further subjected to post-processing steps such as polishing and cleaning. In order to make the post-processing process proceed smoothly, it is necessary that the end of the first substrate is reliably removed and the terminals of the substrate unit are exposed in the breaking process. Therefore, it is necessary for the operator to inspect whether or not the terminal is properly exposed for each substrate unit, and to distribute the substrate units to be subjected to the post-processing process based on the inspection result.
かかる課題に鑑み、本発明は、作業者による検査作業を省略でき、ブレイク後の作業効率を高めることが可能なブレイクシステムを提供することを目的とする。 In view of this problem, an object of the present invention is to provide a break system that can omit an inspection work by an operator and can improve work efficiency after the break.
本発明の主たる態様に係るブレイクシステムは、第1基板および第2基板が貼り合わされた基板をブレイクして基板ユニットを生成するブレイク装置と、前記ブレイク装置により生成された前記基板ユニットを後段装置へ搬送するための搬送部と、前記ブレイク装置により生成された前記基板ユニットを検査する検査部と、を備える。前記ブレイク装置は、前記基板ユニットを生成する際に、前記第2基板に形成された端子を露出させるために、前記端子に対向する前記第1基板の端部をブレイクする工程を実行し、前記搬送部は、前記ブレイク装置によってブレイクされた前記端部を前記基板ユニットの搬送過程において前記基板ユニットから分離させるための分離手段を備え、前記検査部は、前記搬送部における前記基板ユニットの搬送経路上の前記分離手段の下流側に配置され、前記分離手段により前記基板ユニットから前記端部が分離されたことによって前記端子が露出していることを検査し、前記端子が露出していない前記基板ユニットを前記搬送経路から離脱させる。 A break system according to a main aspect of the present invention includes a break device that breaks a substrate on which a first substrate and a second substrate are bonded to generate a substrate unit, and the substrate unit generated by the break device to a subsequent apparatus. A transport unit for transporting, and an inspection unit for inspecting the substrate unit generated by the break device. The breaking device performs a step of breaking an end portion of the first substrate facing the terminal in order to expose a terminal formed on the second substrate when generating the substrate unit, The transport unit includes separation means for separating the end portion broken by the break device from the substrate unit in the transport process of the substrate unit, and the inspection unit transports the substrate unit in the transport unit. The substrate is disposed on the downstream side of the separating means and inspects that the terminal is exposed when the end is separated from the substrate unit by the separating means, and the terminal is not exposed. The unit is removed from the transport path.
本態様に係るブレイクシステムによれば、ブレイク装置によって生成された基板ユニットを後段装置へと搬送する搬送過程において、基板ユニットに対する端部の分離と、その検査が行われ、端子が適正に露出した基板ユニットのみが自動的に後段装置に移送される。したがって、別途、作業者が基板ユニットごとに端子が適正に露出しているか否かを検査し、検査結果に基づいて後段装置に流すべき基板ユニットを振り分けるといった作業が不要となる。よって、本態様に係るブレイクシステムによれば、ブレイク後の作業効率を各段に高めることが可能となる。 According to the break system according to this aspect, in the transport process of transporting the substrate unit generated by the break device to the subsequent device, the end of the substrate unit is separated and the inspection is performed, and the terminals are properly exposed. Only the substrate unit is automatically transferred to the subsequent apparatus. Therefore, it is not necessary for the operator to separately inspect whether or not the terminal is properly exposed for each substrate unit, and to distribute the substrate units to be passed to the subsequent apparatus based on the inspection result. Therefore, according to the break system which concerns on this aspect, it becomes possible to raise the work efficiency after a break to each step | level.
本態様に係るブレイクシステムにおいて、前記ブレイク装置は、前記第1基板が下に向けられた状態で、前記第1基板の端部をブレイクし、前記分離手段は、前記端部がブレイクされた前記基板ユニットを持ち上げて、前記基板ユニットの下面を搬送路から離間させる構成とされ得る。こうすると、基板ユニットが持ち上げられる際に、端部が自重により基板ユニットから離れるため、端部を自動的に除去できる。 In the break system according to this aspect, the break device breaks an end portion of the first substrate in a state where the first substrate is directed downward, and the separation unit is configured to break the end portion. The substrate unit may be lifted so that the lower surface of the substrate unit is separated from the conveyance path. If it carries out like this, when a board | substrate unit is lifted, since an edge part leaves | separates from a board | substrate unit by dead weight, an edge part can be removed automatically.
この場合に、前記搬送部は、前記分離手段によって持ち上げられた前記基板ユニットを表裏反転させて前記検査部へと搬送する構成とされ得る。こうすると、端子が上側に向けられた状態で基板ユニットが検査部へと搬送されるため、検査部は、基板ユニットの上方から端子が露出していることを検査できる。よって、たとえば、ベルトコンベアに基板ユニットを載置して搬送するような場合に、ベルトコンベア上方の空き空間に検査部を簡素な構成にて容易に配置することが可能となる。 In this case, the conveyance unit may be configured to convey the substrate unit lifted by the separation unit upside down and convey the substrate unit to the inspection unit. If it carries out like this, since a board | substrate unit is conveyed to a test | inspection part in the state in which the terminal was faced up, the test | inspection part can test | inspect that the terminal is exposed from the upper direction of a board | substrate unit. Therefore, for example, when the substrate unit is placed on the belt conveyor and transported, the inspection unit can be easily arranged with a simple configuration in the empty space above the belt conveyor.
この場合に、前記搬送部は、前記基板ユニットを持ち上げた後表裏反転させて移送する第1移送部と、表裏反転された前記基板ユニットを受け取って前記検査部へと搬送する第2移送部と、を備える構成とされ得る。こうすると、基板ユニットの表裏反転と検査部への受け渡しを円滑に進めることができる。 In this case, the transport unit includes a first transport unit that lifts the substrate unit and then reverses and transports the substrate unit, and a second transport unit that receives the transported substrate unit and transports the substrate unit to the inspection unit. , May be configured. If it carries out like this, front-and-back inversion of a substrate unit and delivery to an inspection part can be advanced smoothly.
この場合に、前記第1移送部および前記第2移送部は、それぞれ、前記基板ユニットを保持部で保持して旋回するよう構成され、前記第1移送部の前記保持部の旋回経路の一部と前記第2移送部の前記保持部の旋回経路の一部が平面視において互いに重なり合うように配置され、前記2つの旋回経路が互いに重なり合う位置において、前記基板ユニットが、前記第1移送部から前記第2移送部に受け渡される。こうすると、第1移送部および第2移送部の配置スペースをコンパクトに集約しながら、第1移送部から第2移送部に基板ユニットを円滑に受け渡すことができる。 In this case, each of the first transfer unit and the second transfer unit is configured to rotate while holding the substrate unit by the holding unit, and a part of the turning path of the holding unit of the first transfer unit. And part of the swivel path of the holding part of the second transfer part are arranged so as to overlap each other in plan view, and the substrate unit is moved from the first transfer part to the position where the two swivel paths overlap each other. Delivered to the second transfer unit. Thus, the substrate unit can be smoothly transferred from the first transfer unit to the second transfer unit while the arrangement space of the first transfer unit and the second transfer unit is gathered in a compact manner.
本態様に係るブレイクシステムにおいて、前記検査部は、前記端部が取り除かれて形成された切欠部の有無を光学式変位センサにより検知することによって、前記端子が適正に露出していることを検査する構成とされ得る。こうすると、基板ユニットに接触することなく端子が露出していることを検査できる。 In the break system according to this aspect, the inspection unit inspects that the terminal is properly exposed by detecting the presence or absence of a notch formed by removing the end portion using an optical displacement sensor. It can be set as the structure to do. In this way, it can be inspected that the terminal is exposed without contacting the substrate unit.
この場合に、前記検査部は、前記切欠部を横切る方向に前記光学式変位センサを前記基板ユニットに対して相対的に移動させて、前記基板ユニットに前記切欠部が形成されていることを検査する構成とされ得る。こうすると、基板ユニットの全面を検査する場合に比べて、切欠部が形成されていることを効率的に検査できる。 In this case, the inspection unit inspects that the notch is formed in the substrate unit by moving the optical displacement sensor relative to the substrate unit in a direction crossing the notch. It can be set as the structure to do. In this case, it can be efficiently inspected that the notch is formed, as compared with the case where the entire surface of the substrate unit is inspected.
この場合に、前記搬送部は、前記基板ユニットを前記搬送経路の下流へと搬送するコンベアを備え、前記コンベアの搬送方向が前記切欠部を横切る方向に設定されており、前記検査部は、前記コンベアにより搬送される前記基板ユニットに光を照射して前記切欠部の有無を検知する。こうすると、別途、検査のために光学式変位センサを基板ユニットに対して相対的に移動させる手段を設ける必要がないため、構成の簡素化を図ることができる。 In this case, the transport unit includes a conveyor that transports the substrate unit to the downstream side of the transport path, and the transport direction of the conveyor is set in a direction across the notch. The substrate unit conveyed by the conveyor is irradiated with light to detect the presence or absence of the notch. In this case, it is not necessary to separately provide a means for moving the optical displacement sensor relative to the substrate unit for inspection, so that the configuration can be simplified.
以上のとおり、本発明によれば、作業者による検査作業を省略でき、ブレイク後の作業効率を高めることが可能なブレイクシステムを提供することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a break system capable of omitting the inspection work by the worker and improving the work efficiency after the break.
本発明の効果ないし意義は、以下に示す実施形態の説明により更に明らかとなろう。ただし、以下に示す実施形態は、あくまでも、本発明を実施化する際の一つの例示であって、本発明は、以下の実施形態に記載されたものに何ら制限されるものではない。 The effects and significance of the present invention will become more apparent from the following description of embodiments. However, the embodiment described below is merely an example when the present invention is implemented, and the present invention is not limited to what is described in the following embodiment.
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、各図には、便宜上、互いに直交するXYZ軸が付記されている。X−Y平面は水平面に平行で、Z軸正方向は鉛直上方向である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each figure, XYZ axes orthogonal to each other are added for convenience. The XY plane is parallel to the horizontal plane, and the positive Z-axis direction is a vertically upward direction.
図1は、ブレイクシステム1の構成を示す模式図である。 FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of the break system 1.
ブレイクシステム1の上流側(X軸負側)には、基板G1に対してスクライブラインを設けるためのスクライブ装置(図示せず)が設置されている。ブレイクシステム1は、スクライブ装置から搬送される基板G1を受け入れ、基板G1をスクライブラインに沿ってブレイクすることにより基板G2を生成し、基板G2をスクライブラインに沿ってブレイクすることにより、液晶パネルの原型となる基板ユニットG3を生成する。 On the upstream side (X-axis negative side) of the break system 1, a scribing device (not shown) for providing a scribing line for the substrate G1 is installed. The break system 1 receives the substrate G1 conveyed from the scribe device, generates the substrate G2 by breaking the substrate G1 along the scribe line, and breaks the substrate G2 along the scribe line. A substrate unit G3 to be a prototype is generated.
基板G1は、基板ユニットG3が切り出されるマザー基板であって、第1基板と第2基板が相互に貼り合わされた、いわゆる貼り合わせ基板によって構成されている。第1基板には、カラーフィルタが形成されており、第2基板には、液晶を駆動するための薄膜トランジスタ(TFT)および外部接続のための端子が形成されている。第1基板と第2基板は、シール材を介して貼り合わされており、第1基板と、第2基板と、シール材によって形成される領域に液晶が注入されている。スクライブラインは、シール材に沿って第1基板の外側面と第2基板の外側面に形成されている。基板G1は、下面側(Z軸負側)に第1基板が位置するよう、スクライブ装置からブレイクシステム1に搬送される。 The substrate G1 is a mother substrate from which the substrate unit G3 is cut out, and is configured by a so-called bonded substrate in which the first substrate and the second substrate are bonded to each other. A color filter is formed on the first substrate, and a thin film transistor (TFT) for driving the liquid crystal and a terminal for external connection are formed on the second substrate. The first substrate and the second substrate are bonded to each other through a sealing material, and liquid crystal is injected into a region formed by the first substrate, the second substrate, and the sealing material. The scribe line is formed on the outer surface of the first substrate and the outer surface of the second substrate along the sealing material. The substrate G1 is transferred from the scribing device to the break system 1 so that the first substrate is located on the lower surface side (Z-axis negative side).
ブレイクシステム1は、コンベア11、13、17、19、20、22、26、30、34と、ブレイク装置12、18、21と、移送部14、15、31、32と、ガイド16、33と、回転移送部23、24、27、28と、検査部25、29と、を備える。
Break system 1 includes
コンベア11は、上流のスクライブ装置から搬送された基板G1をX軸正方向に搬送する。ブレイク装置12は、基板G1の第1基板側および第2基板側にそれぞれ配されたブレイクユニット12aを備える。2つのブレイクユニット12aは、Z軸方向に見て、コンベア11とコンベア13の間に位置する。ブレイク装置12は、2つのブレイクユニット12aにより、基板G1をブレイクして基板G2を生成する。コンベア13は、生成された基板G2をX軸正方向に搬送し、移送部14、15による保持位置に位置付ける。
The
移送部14、15は、Y軸方向に延びたガイド16に沿ってY軸方向に移動可能に構成されている。移送部14、15は、コンベア13上の保持位置に位置付けられた基板G2を上側から吸着することにより上方に引き上げる。移送部14は、引き上げた基板G2をY軸正方向に移動させ、90度回転させてコンベア17上に載置する。移送部15は、引き上げた基板G2をY軸負方向に移動させ、90度回転させてコンベア20上に載置する。基板G1から生成された基板G2は、移送部14、15により、交互にコンベア17、20に搬送される。
The
コンベア17は、基板G2をX軸正方向に搬送する。ブレイク装置18は、基板G2の第1基板側および第2基板側にそれぞれ配されたブレイクユニット18aを備える。2つのブレイクユニット18aは、Z軸方向に見て、コンベア17とコンベア19の間に位置する。ブレイク装置18は、2つのブレイクユニット18aにより、基板G2をブレイクして基板ユニットG3を生成する。コンベア19は、生成された基板ユニットG3をX軸正方向に搬送し、コンベア19のX軸正側の端部に位置付ける。
The
同様に、コンベア20は、基板G2をX軸正方向に搬送する。ブレイク装置21は、基板G2の第1基板側および第2基板側にそれぞれ配されたブレイクユニット21aを備える。2つのブレイクユニット21aは、Z軸方向に見て、コンベア20とコンベア22の間に位置する。ブレイク装置21は、2つのブレイクユニット21aにより、基板G2をブレイクして基板ユニットG3を生成する。コンベア22は、生成された基板ユニットG3をX軸正方向に搬送し、コンベア22のX軸正側の端部に位置付ける。
Similarly, the
回転移送部23は、コンベア19のX軸正側の端部に位置付けられた基板ユニットG3を引き上げ、引き上げた基板ユニットG3を表裏反転させて回転移送部24に渡す。回転移送部24は、回転移送部24から受け取った基板ユニットG3を検査部25に渡す。検査部25は、基板ユニットG3に対して、ブレイク装置18によるブレイクが適正に行われたことを検査する。回転移送部24は、検査により適正と判定された基板ユニットG3をコンベア26のX軸負側の端部に載置する。コンベア26は、基板ユニットG3をX軸正方向に搬送し、コンベア26のX軸正側の端部に位置付ける。
The
同様に、回転移送部27は、コンベア22のX軸正側の端部に位置付けられた基板ユニットG3を引き上げ、引き上げた基板ユニットG3を表裏反転させて回転移送部28に渡す。回転移送部28は、回転移送部27から受け取った基板ユニットG3を検査部29に渡す。検査部29は、基板ユニットG3に対して、ブレイク装置21によるブレイクが適正に行われたことを検査する。回転移送部28は、検査により適正と判定された基板ユニットG3をコンベア30のX軸負側の端部に載置する。コンベア30は、基板ユニットG3をX軸正方向に搬送し、コンベア30のX軸正側の端部に位置付ける。
Similarly, the
移送部31、32は、Y軸方向に延びたガイド33に沿ってY軸方向に移動可能に構成されている。移送部31、32は、それぞれ、コンベア26、30のX軸正側の端部に位置付けられた基板ユニットG3を上側から吸着することにより引き上げる。移送部31、32は、それぞれ、引き上げた基板ユニットG3をY軸負方向およびY軸正方向に移動させ、コンベア34のX軸負側の端部に載置する。コンベア34は、基板ユニットG3をX軸正方向に搬送し、後段の研磨および洗浄を行う装置(図示せず)に搬出する。こうして、ブレイクシステム1による処理が終了する。
The
図2は、基板G1から、基板G2と基板ユニットG3が生成される手順を示す図である。図2は、ブレイクシステム1内を搬送される基板G1、G2および基板ユニットG3を、上側から見た図である。なお、基板G2と基板ユニットG3については、対応する側面図も併せて示されている。 FIG. 2 is a diagram showing a procedure for generating the substrate G2 and the substrate unit G3 from the substrate G1. FIG. 2 is a view of the substrates G1 and G2 and the substrate unit G3 conveyed through the break system 1 as viewed from above. For the substrate G2 and the substrate unit G3, corresponding side views are also shown.
ブレイクシステム1に搬送される基板G1は、上流のスクライブ装置によってスクライブラインL1〜L5が形成されている。スクライブラインL1は、基板G1の第1基板の下面においてY軸方向に沿って形成されている。スクライブラインL2は、基板G1の第2基板の上面においてY軸方向に沿って形成されている。Z軸方向に見て、スクライブラインL1、L2の位置は同じである。スクライブラインL3、L5は、基板G1の第1基板の下面においてX軸方向に沿って形成されている。スクライブラインL4は、基板G1の第2基板の上面においてX軸方向に沿って形成されている。Z軸方向に見て、スクライブラインL3、L4の位置は同じであり、スクライブラインL3、L4の位置とスクライブラインL5の位置は異なっている。 The substrate G1 transported to the break system 1 has scribe lines L1 to L5 formed by an upstream scribe device. The scribe line L1 is formed along the Y-axis direction on the lower surface of the first substrate of the substrate G1. The scribe line L2 is formed along the Y-axis direction on the upper surface of the second substrate of the substrate G1. The positions of the scribe lines L1 and L2 are the same when viewed in the Z-axis direction. The scribe lines L3 and L5 are formed along the X-axis direction on the lower surface of the first substrate of the substrate G1. The scribe line L4 is formed along the X-axis direction on the upper surface of the second substrate of the substrate G1. As viewed in the Z-axis direction, the positions of the scribe lines L3 and L4 are the same, and the positions of the scribe lines L3 and L4 are different from the positions of the scribe line L5.
基板G1のスクライブラインL1、L2がブレイク装置12によるブレイク位置に搬送されると、ブレイク装置12により、第1基板と第2基板が、それぞれスクライブラインL1、L2に沿ってブレイクされる。これにより、基板G2が生成される。生成された基板G2は、図1に示した移送部14、15により、Y軸正方向およびY軸負方向に搬送された後、Z軸方向に見て時計回りに90度回転され、コンベア17、20に載置される。
When the scribe lines L1 and L2 of the substrate G1 are transported to the break position by the
次に、基板G1のスクライブラインL5がブレイク装置18によるブレイク位置に搬送されると、ブレイク装置18により、第1基板がスクライブラインL5に沿ってブレイクされる。また、基板G2のスクライブラインL3、L4がブレイク装置18によるブレイク位置に搬送されると、ブレイク装置18により、第1基板がスクライブラインL3に沿ってブレイクされ、第2基板がスクライブラインL4に沿ってブレイクされる。これにより、基板ユニットG3が生成される。
Next, when the scribe line L5 of the substrate G1 is transferred to a break position by the
このとき、スクライブラインL3、L5の間に相当する第1基板の端部G2a(斜線部分)が分離されるため、生成される基板ユニットG3にはY軸方向に延びた切欠部G3aが形成される。このように端部G2aが分離され切欠部G3aが形成されると、第2基板に形成されている端子が露出することになる。 At this time, since the end portion G2a (shaded portion) of the first substrate corresponding to the scribe lines L3 and L5 is separated, a cutout portion G3a extending in the Y-axis direction is formed in the generated substrate unit G3. The When the end G2a is thus separated and the cutout G3a is formed, the terminals formed on the second substrate are exposed.
同様に、基板G2のスクライブラインL3、L4、L5がブレイク装置21によるブレイク位置に搬送されると、ブレイク装置21により、第1基板がスクライブラインL3、L5に沿ってブレイクされ、第2基板がスクライブラインL4に沿ってブレイクされる。これにより、基板ユニットG3が生成され、生成される基板ユニットG3には切欠部G3aが形成される。
Similarly, when the scribe lines L3, L4, and L5 of the substrate G2 are transferred to the break position by the
図3(a)は、ブレイク装置12をY軸負方向に見た場合の側面図である。
FIG. 3A is a side view of the breaking
ブレイク装置12は、上述したように2つのブレイクユニット12aを備える。2つのブレイクユニット12aは、コンベア11上を搬送される基板G1を介して互いに対向して配置されており、基板G1を対称面として互いに対称な構成を有する。以下、図3(a)を参照して、上側のブレイクユニット12aの構成について説明する。
The
ブレイクユニット12aは、保持部材101と、ガイド102と、シリンダ103と、摺動部材104と、保持部材105と、収容部106と、ブレイクバー107と、を備える。
The
保持部材101は、ブレイクシステム1内に固定的に設置されており、Z軸方向に延びたガイド102およびロッド103aを有するシリンダ103を保持する。摺動部材104は、ガイド102に沿ってZ軸方向に摺動可能に構成されている。シリンダ103のロッド103aの下端は、摺動部材104の上面に設置されている。シリンダ103のロッド103aがZ軸方向に移動することにより、摺動部材104がガイド102に沿ってZ軸方向に移動する。保持部材105は、摺動部材104の下面に設置されており、収容部106は、保持部材105の下面に設置されている。
The holding
収容部106内には、基板G1のスクライブラインL1、L2に沿ってY軸方向に延びるブレイクバー107が配されている。ブレイクバー107の下端には、Y軸方向に延びる端部107aが形成されている。ブレイクバー107は、収容部106の内部において、後述する機構によりZ軸方向に移動可能に支持されている。収容部106の下端には、Y軸方向に延びる2つの受け部106aが形成されており、2つの受け部106aは、ブレイクバー107を挟む位置にある。なお、収容部106、ブレイクバー107、および収容部106の内部の機構については、追って図4(a)〜図5を参照して説明する。
A
図3(b)は、基板G1の下側の第1基板がブレイクされるときの状態を示す側面図であり、図3(c)は、基板G1の上側の第2基板がブレイクされるときの状態を示す側面図である。 FIG. 3B is a side view showing a state when the first substrate below the substrate G1 is broken, and FIG. 3C is a diagram when the second substrate above the substrate G1 is broken. It is a side view which shows the state.
基板G1がX軸正方向に搬送されて、図3(a)に示すように、スクライブラインL1、L2がブレイクバー107の端部107aの位置に合わせられると、図3(b)に示すように、ブレイク装置12が駆動される。具体的には、上側のブレイクバー107が下方向に駆動されることにより、上側のブレイクバー107の端部107aが、第2基板に押し付けられる。また、下側のロッド103aが上方向に駆動されることにより、下側の収容部106の受け部106aが、第1基板に押し付けられる。
When the substrate G1 is transported in the X-axis positive direction and the scribe lines L1 and L2 are aligned with the position of the
このように、第2基板のスクライブラインL2に、端部107aが押し付けられ、第1基板のスクライブラインL1からX軸正方向およびX軸負方向に所定幅だけずれた位置に、受け部106aが押し付けられる。これにより、第1基板がスクライブラインL1に沿ってブレイクされる。第1基板のブレイクについては、追って図6(a)を参照して詳細に説明する。
In this way, the
第1基板がブレイクされると、基板G1の位置は動かされることなく、次に、図3(c)に示すように、ブレイク装置12が駆動される。具体的には、上側のブレイクバー107が上方向に駆動され、上側のロッド103aが下方向に駆動されることにより、上側の収容部106の受け部106aが、第2基板に押し付けられる。また、下側のロッド103aが下方向に駆動され、下側のブレイクバー107が上方向に駆動されることにより、下側のブレイクバー107の端部107aが、第1基板に押し付けられる。
When the first substrate is broken, the position of the substrate G1 is not moved, and then the breaking
このように、第1基板のスクライブラインL1に、端部107aが押し付けられ、第2基板のスクライブラインL2からX軸正方向およびX軸負方向に所定幅だけずれた位置に、受け部106aが押し付けられる。これにより、第2基板がスクライブラインL2に沿ってブレイクされる。第2基板のブレイクについては、追って図6(b)を参照して詳細に説明する。
In this way, the
図4(a)、(b)と図5は、上側のブレイクユニット12aの保持部材105から下の構成を示す断面図である。図4(a)は、図4(b)に示すA1−A2断面図であり、図4(b)は、図4(a)に示すB1−B2断面図であり、図5は、図4(a)、(b)に示すC1−C2断面図である。A1−A2断面は、XZ平面に平行な断面であり、B1−B2断面は、YZ平面に平行な断面であり、C1−C2断面は、XY平面に平行な断面である。
FIGS. 4A, 4B and 5 are cross-sectional views showing the structure below the holding
図4(a)、(b)と図5に示すように、収容部106は、YZ平面に平行な2つの壁部106bおよびXZ平面に平行な2つの壁部106cからなる。図4(a)、(b)に示すように、受け部106aは、2つの壁部106bの下端に形成されている。受け部106aの外側面が収容部106の内側方向に傾斜していることにより、受け部106aのX軸方向の幅(スクライブラインL1、L2を水平方向に横切る方向の幅)は、基板G1に近付くに従って狭くなっている。2つの壁部106cの下端は、受け部106aの下端よりも上に位置付けられている。
As shown in FIGS. 4 (a), 4 (b) and FIG. 5, the
壁部106b、106cに囲まれた空間内に、モータ201と、ボールねじ202と、支持部材203、204と、ブレイクバー107と、が収容されている。モータ201は、保持部材105の下面に設置されている。ボールねじ202は、モータ201の回転軸に固定されている。支持部材203は、ボールねじ202のナットに固定されている。支持部材204の上端は、支持部材203の下面に固定されている。支持部材204の下端は、2つに分かれている。支持部材204の2つの下端は、Y軸方向に離れた位置にあり、この下端にブレイクバー107が固定されている。ブレイクバー107の端部107aの側面が傾斜していることにより、端部107aのX軸方向の幅は、基板G1に近付くに従って狭くなっている。すなわち、ブレイクバー107の端部107aは、V字状に形成されている。
A
図4(a)、(b)と図5に示すように、壁部106cの内側面には、凹部106dが形成されている。Y軸正側とY軸負側の壁部106cの凹部106dに、それぞれ、ブレイクバー107のY軸正側とY軸負側の端部が収容されている。
As shown in FIGS. 4 (a), 4 (b) and FIG. 5, a
図5に示すように、基板G1のY軸方向の幅をW1、Y軸正側の壁部106cの内側面とY軸負側の壁部106cの内側面との間隔をW2、Y軸正側の凹部106dのY軸正側面とY軸負側の凹部106dのY軸負側面との間隔をW3、Y軸正側の壁部106cの外側面とY軸負側の壁部106cの外側面との間隔をW4とすると、W1〜W4の関係は、W1<W2<W3<W4となっている。ブレイクバー107のX軸方向の幅をW5、凹部106dのX軸方向の幅をW6とすると、W5、W6の関係は、W5<W6となっている。
As shown in FIG. 5, the width of the substrate G1 in the Y-axis direction is W1, the distance between the inner side surface of the Y-axis positive
図4(a)、(b)を参照して、ブレイクバー107が下方向に移動される場合、ボールねじ202のナットが下方向に移動するようモータ201が駆動される。これにより、ブレイクバー107を支持する支持部材203、204が下方向に移動され、ブレイクバー107が下方向に移動される。他方、ブレイクバー107が上方向に移動される場合、ボールねじ202のナットが上方向に移動するようモータ201が駆動される。これにより、ブレイクバー107を支持する支持部材203、204が上方向に移動され、ブレイクバー107が上方向に移動される。このとき、ブレイクバー107は、凹部106dに案内されることにより、確実に上下方向にのみ移動される。
Referring to FIGS. 4A and 4B, when
図6(a)、(b)は、収容部106の受け部106aおよびブレイクバー107の端部107aにより、基板G1がブレイクされることを詳細に示す図である。図6(a)、(b)は、図4(a)と同様のA1−A2断面図である。
FIGS. 6A and 6B are views showing in detail that the substrate G1 is broken by the receiving
図6(a)に示すように、第1基板がブレイクされる場合、上側のブレイクバー107の端部107aが第2基板に押し付けられ、下側の収容部106の受け部106aが第1基板の下面に押し付けられる。このとき、基板G1が下方向に撓むことにより、第1基板がブレイクされる。図6(b)に示すように、第2基板がブレイクされる場合、上側の収容部106の受け部106aが第2基板に押し付けられ、下側のブレイクバー107の端部107aが第1基板に押し付けられる。このとき、基板G1が上方向に撓むことにより、第2基板がブレイクされる。
As shown in FIG. 6A, when the first substrate is broken, the
以上、図3(a)〜図6(b)を参照して、ブレイク装置12の構成と、ブレイク装置12が基板G1をブレイクする動作について説明したが、ブレイク装置18の構成と、ブレイク装置18が基板G2をブレイクする動作も略同様であり、ブレイク装置21の構成と、ブレイク装置21が基板G2をブレイクする動作も略同様である。
The configuration of the
図7(a)は、ブレイク装置12の上側のブレイクユニット12aを示す模式図であり、図7(b)は、ブレイク装置18、21の上側のブレイクユニット18a、21aを示す模式図である。なお、ブレイク装置18、21は、互いに同じ構成を有している。
FIG. 7A is a schematic diagram showing the
図7(a)、(b)に示すように、ブレイクユニット18a、21aは、ブレイクユニット12aと比較して、保持部材105、収容部106、およびブレイクバー107のY軸方向の長さが短い点において異なっている。ブレイクユニット18a、21aのその他の構成は、ブレイクユニット12aと同様である。
As shown in FIGS. 7A and 7B, the
また、ブレイクユニット18a、21aにおいても、図5に示したW1〜W4の長さの関係は同様に設定されている。すなわち、図5において、W1を基板G2のY軸方向の幅とし、W2〜W4を、ブレイクユニット18a、21aの対応する長さとすれば、W1〜W4の関係は、ブレイクユニット12aの場合と同様、W1<W2<W3<W4となる。
Also in the
また、ブレイク装置18の2つのブレイクユニット18aは、基板G2を介して互いに対向して配置されており、基板G2を対称面として互いに対称な構成を有する。同様に、ブレイク装置21の2つのブレイクユニット21aは、基板G2を介して互いに対向して配置されており、基板G2を対称面として互いに対称な構成を有する。したがって、ブレイク装置18、21は、ブレイク装置12と同様にして、基板G2をブレイクできる。
Further, the two
次に、基板ユニットG3に対して切欠部G3aが形成されていることを検査するための構成および処理について説明する。ここで、コンベア19、26、回転移送部23、24、および検査部25と、コンベア22、30、回転移送部27、28、および検査部29とは、それぞれXZ平面を対称面として対称な構成となっている。したがって、以下では、ブレイク装置18によって生成された基板ユニットG3を検査する場合について説明し、ブレイク装置21によって生成された基板ユニットG3を検査する場合については説明を省略する。
Next, a configuration and processing for inspecting that the notch G3a is formed in the substrate unit G3 will be described. Here, the
図8は、コンベア19、26、回転移送部23、24、および検査部25を含む周辺の構成を、上側から見た図である。図8では、便宜上、ブレイク装置18の図示が省略されている。
FIG. 8 is a view of a peripheral configuration including the
回転移送部23は、Z軸方向に延びる軸310と、軸310を中心として回転する回転体320と、回転体320の側面に設置された4つの駆動部330と、を備える。駆動部330は、支持部331と、支持部331に支持された軸332と、軸332の先端に設置された吸着パッド支持部333と、吸着パッド支持部333によって支持された吸着パッド334と、を備える。駆動部330は、回転体320に対して昇降し、軸332を当該軸332を中心に回転させ、吸着パッド334内の空気を出し入れする。駆動部330が駆動されることにより、基板ユニットG3が、吸着パッド334を介して昇降および表裏回転される。
The
回転移送部24は、Z軸方向に延びる軸410と、軸410を中心として回転する回転体420と、回転体320の下面に設置された4つの駆動部430と、を備える。駆動部430は、吸着パッド431を備える。駆動部430は、吸着パッド431を回転体420に対して昇降させ、吸着パッド431内の空気を出し入れする。駆動部430が駆動されることにより、基板ユニットG3が、吸着パッド431を介して昇降される。検査部25は、コンベア510と、2つのレール520と、ゲート530と、センサ540と、移送部550と、を備える。
The
ブレイク装置18によって生成された基板ユニットG3は、コンベア19によってX軸正方向に搬送され、コンベア19のX軸正側の位置P1に位置付けられる。位置P1の基板ユニットG3は、吸着パッド334により吸着され、コンベア19の搬送路から引き上げられる。
The board unit G3 generated by the
ここで、分離された第1基板の端部G2aも、コンベア19によって基板ユニットG3とともにX軸正方向に搬送される。そして、基板ユニットG3が駆動部330の吸着パッド334により持ち上げられ、基板ユニットG3の下面がコンベア19の搬送路から離間したときに、端部G2aは、自重によって基板ユニットG3から離れる。すなわち、駆動部330は、端部G2aを基板ユニットG3から分離させる。基板ユニットG3から離れコンベア19上に残された端部G2aは、さらにX軸正方向に搬送されてコンベア19のX軸正側に落下することにより回収される。
Here, the edge part G2a of the separated first substrate is also conveyed in the X-axis positive direction together with the substrate unit G3 by the
なお、端部G2aは、ブレイク装置18のブレイク後、検査部25に移送されるまでの間に、上記以外の手段によって基板ユニットG3から分離されても良い。たとえば、端部G2aは、コンベア17、19の間から下に落下することにより分離されても良く、エアーを吹き付けてコンベア19から落下させることにより分離されても良く、他の吸着パッドにより吸着されて取り除かれても良い。
Note that the end G2a may be separated from the substrate unit G3 by means other than the above after the break of the
続いて、回転体320が上側から見て反時計回りに90度回転され、位置P1において引き上げられた基板ユニットG3が、位置P2に位置付けられる。そして、軸332が当該軸332を中心に回転され、位置P2の基板ユニットG3が表裏反転される。これにより、基板ユニットG3の切欠部G3aが上面側に向けられる。続いて、回転体320が上側から見て反時計回りに90度回転され、位置P2の基板ユニットG3が位置P3に位置付けられる。
Subsequently, the
続いて、位置P3の基板ユニットG3は、回転移送部23の吸着パッド334に支持された状態から、回転移送部24の吸着パッド431に吸着された状態へと移される。そして、回転体420が上側から見て時計回りに90度回転され、基板ユニットG3が、コンベア510のX軸正側の位置P4に載置される。なお、基板ユニットG3が位置P4に載置されると、回転体420が45度回転され、駆動部430が、検査部25による検査の妨げにならない位置に退避される。
Subsequently, the substrate unit G3 at the position P3 is moved from the state supported by the
続いて、ゲート530が、レール520上をX軸正方向に移送され、位置P4の基板ユニットG3の真上に位置付けられる。そして、センサ540が、移送部550によってY軸負方向に移送される。センサ540の検出信号に基づいて、位置P4の基板ユニットG3に切欠部G3aが形成されていることが検査される。検査部25の詳細な構成については、追って図9(a)〜(d)を参照して説明する。
Subsequently, the
切欠部G3aが形成されていないと判定されると、位置P4の基板ユニットG3が、コンベア510によってX軸負方向に搬送され、コンベア510のX軸負側に落とされる。コンベア510のX軸負側には図示しない回収部が設置されており、切欠部G3aが形成されていない基板ユニットG3は、回収部に回収される。他方、切欠部G3aが形成されていると判定されると、位置P4の基板ユニットG3が、再び回転移送部24の吸着パッド431により引き上げられる。そして、回転体420が上側から見て時計回りに90度回転され、位置P4において引き上げられた基板ユニットG3が、コンベア26のX軸負側の位置P5に載置される。位置P5の基板ユニットG3は、コンベア26によりX軸正方向に搬送され、コンベア26のX軸正側の位置P6に位置付けられる。
If it is determined that the notch G3a is not formed, the substrate unit G3 at the position P4 is conveyed in the negative X-axis direction by the
位置P6の基板ユニットG3は、移送部31の吸着パッド31aにより引き上げられる。そして、移送部31がガイド33に沿ってY軸負方向に移動し、基板ユニットG3がコンベア34上に載置される。コンベア34上に載置された基板ユニットG3は、コンベア34によりX軸正方向に搬送され、後段の装置へと搬出される。
The substrate unit G3 at the position P6 is pulled up by the
図9(a)〜(d)は、検査部25の構成を示す図である。図9(a)、(c)は、検査部25の斜視図であり、図9(b)、(d)は、それぞれ、図9(a)、(c)を上側から見た図である。図9(a)〜(d)には、位置P4にある基板ユニットG3が示されている。
9A to 9D are diagrams illustrating the configuration of the
2つのレール520は、コンベア510のY軸正側とY軸負側に位置し、ブレイクシステム1内に固定されている。ゲート530は、2つのレール520上をX軸方向に摺動可能となるよう構成されている。センサ540は、ゲート530のY軸方向に延びる部材の下面側に、移送部550によって支持されている。センサ540は、移送部550によりY軸方向に移動可能となっている。センサ540は、図示しないレーザ光源および受光素子を備える光学式変位センサである。センサ540は、レーザ光源からZ軸負方向にレーザ光を出射し、物体によって反射されたレーザ光を受光素子によって受光する。センサ540は、受光素子上の受光位置を検出信号として出力する。センサ540の検出信号に基づいて、三角測距方式によりセンサ540から対象物までの距離が取得される。
The two
図9(a)、(b)に示すように、コンベア510の位置P4に基板ユニットG3が載置されると、ゲート530が2つのレール520に沿ってX軸正方向に移送され、図9(c)、(d)に示すように、センサ540が位置P4の基板ユニットG3の真上に位置付けられる。センサ540が基板ユニットG3の真上に位置付けられると、センサ540からレーザ光が出射され、センサ540がY軸負方向に移送される。
As shown in FIGS. 9A and 9B, when the substrate unit G3 is placed at the position P4 of the
図10(a)〜(d)は、検査部25をX軸負方向に見た側面図である。
10A to 10D are side views of the
センサ540が位置P4の基板ユニットG3の真上に位置付けられ、センサ540のレーザ光源からレーザ光が出射されると、図10(a)に示すように、基板ユニットG3によって反射されたレーザ光がセンサ540の受光素子により受光される。そして、図10(a)に示す状態から、センサ540がY軸負方向に移送される。
When the
適正に切欠部G3aが形成されている場合、図10(a)に示す状態からセンサ540がY軸負方向に所定距離だけ移送されると、図10(b)に示すように、センサ540からZ軸負方向の対象物までの距離が、切欠部G3aのZ軸方向の幅だけ長くなる。このように、センサ540をY軸負方向に所定距離だけ移送したときに、センサ540からZ軸負方向の対象物までの距離が切欠部G3aのZ軸方向の幅だけ長くなる場合、この基板ユニットG3に切欠部G3aが形成されていると判定される。
When the notch G3a is properly formed, when the
他方、適正に切欠部G3aが形成されていない場合、図10(a)に示す状態からセンサ540がY軸負方向に所定距離だけ移送されても、図10(c)に示すように、センサ540からZ軸負方向の対象物までの距離はほぼ変わらない。このように、センサ540をY軸負方向に所定距離だけ移送したときに、センサ540からZ軸負方向の対象物までの距離がほぼ変わらない場合、この基板ユニットG3に切欠部G3aが形成されていないと判定される。
On the other hand, when the notch G3a is not properly formed, even if the
なお、図10(d)に示すように、センサ540をさらにY軸負方向に移送しても良い。こうすると、センサ540から対象物までの距離が2段階に変化した場合に、切欠部G3aが形成されていると判定できる。他方、センサ540から対象物までの距離が1段階しか変化しない場合には、切欠部G3aが形成されていないと判定できる。
As shown in FIG. 10D, the
図11は、ブレイクシステム1による処理を示すフローチャートである。 FIG. 11 is a flowchart showing processing by the break system 1.
基板G1がブレイク装置12によりブレイクされると、基板G2が生成される(S11)。生成された基板G2は、ブレイク装置18、21へと搬送される(S12)。基板G2がブレイク装置18、21によりブレイクされると、基板ユニットG3が生成される(S13)。ブレイク装置18により生成された基板ユニットG3は、コンベア19と回転移送部23、24により検査部25へと搬送され、ブレイク装置21により生成された基板ユニットG3は、コンベア22と回転移送部27、28により検査部29に搬送される(S14)。
When the substrate G1 is broken by the
検査部25、29は、基板ユニットG3に切欠部G3aが形成されていることを検査する(S15)。切欠部G3aが形成されていない場合(S16:NO)、基板ユニットG3は、コンベア510によりX軸負方向に搬送されることにより搬送経路から離脱され、回収部に回収される(S17)。切欠部G3aが形成されている場合(S16:YES)、基板ユニットG3は後段の装置へと搬出される(S18)。具体的には、検査部25にある基板ユニットG3は、回転移送部24と、コンベア26と、移送部31と、コンベア34によって、後段の装置に搬出される。検査部29にある基板ユニットG3は、回転移送部28と、コンベア30と、移送部32と、コンベア34によって、後段の装置に搬出される。
The
<実施形態の効果>
本実施形態によれば、以下の効果が奏される。
<Effect of embodiment>
According to this embodiment, the following effects are produced.
ブレイク装置18、21によって生成された基板ユニットG3を後段装置へと搬送する搬送過程において、基板ユニットG3に対する端部G2aの分離と、その検査が行われ、端子が適正に露出した基板ユニットG3のみが自動的に後段装置に移送される。したがって、別途、作業者が基板ユニットG3ごとに端子が適正に露出しているか否かを検査し、検査結果に基づいて後段装置に流すべき基板ユニットG3を振り分けるといった作業が不要となる。よって、本実施形態のブレイクシステム1によれば、ブレイク後の作業効率を各段に高めることが可能となる。
In the transporting process of transporting the substrate unit G3 generated by the
ブレイク装置18、21は、第1基板が下面側に向けられた状態で、第1基板の端部G2aをブレイクし、駆動部330は、端部G2aがブレイクされた基板ユニットG3をコンベア19、22から持ち上げて、基板ユニットG3の下面をコンベア19、22の搬送路から離間させる。これにより、基板ユニットG3が持ち上げられる際に、端部G2aが自重により基板ユニットG3から離れるため、端部G2aを自動的に除去できる。
The
回転移送部23、27は、それぞれ、コンベア19、22から持ち上げた基板ユニットG3を表裏反転させて、検査部25、29へと搬送する。これにより、端子が上側に向けられた状態で基板ユニットG3が検査部25、29に搬送されるため、検査部25、29は、基板ユニットG3の上方から端子が露出していることを検査できる。よって、本実施形態のように、基板ユニットG3が載置されたコンベア510の上方の空間に、検査に用いるセンサ540を簡素な構成にて容易に配置することが可能となる。
The
回転移送部23、27は、持ち上げた基板ユニットG3を表裏反転させ、回転移送部24、28は、それぞれ、回転移送部23、27から基板ユニットG3を受け取って検査部25、29へと搬送する。これにより、基板ユニットG3の表裏反転と検査部25、29への受け渡しを円滑に進めることができる。
The
回転移送部23、24は、それぞれ、基板ユニットG3を吸着パッドで保持して旋回するよう構成されている。また、回転移送部23の吸着パッド334の旋回経路の一部と、回転移送部24の吸着パッド431の旋回経路の一部が平面視において互いに重なり合うように配置され、2つの旋回経路が互いに重なり合う位置において、基板ユニットG3が、回転移送部23から回転移送部24に受け渡される。これにより、回転移送部23、24の配置スペースをコンパクトに集約しながら、回転移送部23から回転移送部24に基板ユニットG3を円滑に受け渡すことができる。同様に、回転移送部27、28の配置スペースをコンパクトに集約しながら、回転移送部27から回転移送部28に基板ユニットG3を円滑に受け渡すことができる。
Each of the
検査部25、29は、端部G2aが取り除かれて形成された切欠部G3aの有無を光学式変位センサからなるセンサ540により検知することによって、端子が適正に露出していることを検査する。これにより、基板ユニットG3に接触することなく端子が露出していることを検査できる。
The
検査部25、29は、位置P4の基板ユニットG3に対してY軸負方向にセンサ540を移動させて、基板ユニットG3に切欠部G3aが形成されていることを検査する。これにより、基板ユニットG3の全面を検査する場合に比べて、切欠部G3aが形成されていることを効率的に検査できる。
The
基板G1、G2の第1基板をブレイクする場合、第1基板側に配されたブレイクユニット12a、18a、21aの2つの受け部106aが第1基板を支持した状態で、第2基板側に配されたブレイクユニット12a、18a、21aのブレイクバー107が第2基板に押し付けられる。他方、基板G1、G2の第2基板をブレイクする場合、第2基板側に配されたブレイクユニット12a、18a、21aの2つの受け部106aが第2基板を支持した状態で、第1基板側に配されたブレイクユニット12a、18a、21aのブレイクバー107が第1基板に押し付けられる。このように、本実施形態に係るブレイク装置12、18、21によれば、2つのブレイクユニットを第1基板側と第2基板側に対向するように配置することで、第1基板および第2基板を同じ位置でブレイクすることができる。よって、簡素な構成で基板G1、G2をブレイクすることが可能となる。
When breaking the first substrate of the substrates G1 and G2, the two receiving
<変更例>
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に何ら制限されるものではなく、また、本発明の実施形態も上記以外に種々の変更が可能である。
<Example of change>
Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made to the embodiment of the present invention other than the above.
たとえば、上記実施形態では、第1基板が下側に向けられ第2基板が上側に向けられた状態でブレイクが行われたが、第1基板が上側に向けられ第2基板が下側に向けられた状態でブレイクが行われても良い。この場合、スクライブラインL5は上面側に設けられ、ブレイク装置18、21によって基板ユニットG3が生成されたとき、切欠部G3aは上側に向いている。このように、ブレイク直後において切欠部G3aが上側に向けられている場合、回転移送部23、27によって基板ユニットG3が表裏反転される必要はない。
For example, in the above embodiment, the break is performed in a state where the first substrate is directed downward and the second substrate is directed upward, but the first substrate is directed upward and the second substrate is directed downward. A break may be performed in the state where In this case, the scribe line L5 is provided on the upper surface side, and when the substrate unit G3 is generated by the
ただし、この場合、分離された端部G2aが基板ユニットG3上に残った状態となる。したがって、基板ユニットG3が検査部25、29に搬送される前に、基板ユニットG3に乗っている端部G2aが、エアーの吹きつけ等によって取り除かれる。
However, in this case, the separated end G2a remains on the substrate unit G3. Therefore, before the substrate unit G3 is conveyed to the
また、上記実施形態では、ブレイク装置18、21によってブレイクされた基板ユニットG3は、それぞれ、回転移送部23、27によって表裏反転されたが、これに限らず、表裏反転されなくても良い。この場合、検査部25、29において切欠部G3aは下面側に向いているため、検査部25、29は、基板ユニットG3の下側から切欠部G3aが形成されていることを検査することになる。この場合、たとえば、検査部25、29は、レーザ光を透過する検査台の下から、あるいは、基板ユニットG3が載置された台の隙間を介して下から、切欠部G3aの有無を検出するよう構成される。しかしながら、こうすると、上記実施形態に比べて検査部25、29の構成が複雑になってしまう。したがって、上記実施形態のように、切欠部G3aが上側に向けられた状態で、検査部25、29は、上方から切欠部G3aが形成されていることを検査するのが望ましい。
Moreover, in the said embodiment, although the board | substrate unit G3 broken by the breaking
また、上記実施形態では、切欠部G3aが形成されていないと判定された基板ユニットG3は、コンベア510のX軸負側にある回収部に回収された。しかしながら、これに限らず、切欠部G3aが形成されていないと判定された基板ユニットG3は、表裏反転させた上で、再度コンベア17またはコンベア20に搬送されても良い。この場合、ブレイク装置18またはブレイク装置21によって、スクライブラインL5に沿って第1基板が再度ブレイクされる。
Moreover, in the said embodiment, the board | substrate unit G3 determined that the notch part G3a was not formed was collect | recovered by the collection | recovery part in the X-axis negative side of the
また、上記実施形態では、検査部25、29は、基板ユニットG3をX軸方向に搬送するためのコンベア510を備えたが、基板ユニットG3を搬送するためのコンベアとして、それぞれコンベア26、30を利用しても良い。
Moreover, in the said embodiment, although the test |
図12は、この場合の検査部25の構成を示す図である。この場合の検査部25からは、コンベア510と、レール520と、移送部550が省略されている。ゲート530は、コンベア26の中間位置付近に跨がるようブレイクシステム1内に固定されており、センサ540は、ゲート530のY軸方向に延びる部材の下面に固定されている。
FIG. 12 is a diagram illustrating a configuration of the
図12を参照して、回転移送部24は、回転移送部23から基板ユニットG3を受け取ると、受け取った基板ユニットG3をコンベア26上の位置P5に載置する。位置P5の基板ユニットG3は、コンベアによってX軸正方向に搬送される。このとき、センサ540によって、X軸正方向に進む基板ユニットG3に対して上面までの距離が検出され、上記実施形態と同様に、切欠部G3aが形成されていることが検査される。切欠部G3aが形成されていないと、基板ユニットG3は、コンベア26のX軸正側に落とされ、図示しない回収部に回収される。切欠部G3aが形成されていると、基板ユニットG3は位置P6に位置付けられる。そして、切欠部G3aが形成されている基板ユニットG3は、上記実施形態と同様、後段の装置に搬出される。
Referring to FIG. 12, when the
なお、図12に示すように、検査部25が他のコンベアを利用する場合、検査部25は、コンベア26のX軸負側の端部付近に設置されても良く、コンベア19の中間位置付近に設置されても良い。また、検査部25、29が、基板ユニットG3を搬送するためのコンベアとしてコンベア34を利用しても良い。
As shown in FIG. 12, when the
また、上記実施形態では、検査部25で検査が行われた後、基板ユニットG3は、回転移送部24によりコンベア26に搬送され、検査部29で検査が行われた後、基板ユニットG3は、回転移送部28によりコンベア30に搬送された。しかしながら、これに限らず、コンベア26、30と、移送部31、32と、ガイド33が省略され、検査部25、29で検査が行われた後、基板ユニットG3は、それぞれ回転移送部24、28によりコンベア34まで搬送されても良い。
Moreover, in the said embodiment, after test | inspection by the test |
コンベア19上の基板ユニットG3は、回転移送部23、24によって、旋回しながら検査部25とコンベア26へと移送され、コンベア22上の基板ユニットG3は、回転移送部27、28によって、旋回しながら検査部29とコンベア30へと移送された。しかしながら、回転移送部23、24、27、28に代えて、基板ユニットG3を直線的に移送する移送部が設けられても良い。ただし、この場合、上記実施形態と比べて、移送部の設置スペースが大きくなってしまう。したがって、上記実施形態のように、回転移送部23、24、27、28によって基板ユニットG3が移送されるのが望ましい。
The substrate unit G3 on the
また、上記実施形態では、ブレイク装置12において、2つのブレイクユニット12aは互いに同じ構成とされ、ブレイク装置18において、2つのブレイクユニット18aは互いに同じ構成とされ、ブレイク装置21において、2つのブレイクユニット21aは互いに同じ構成とされた。しかしながら、これに限らず、2つのブレイクユニットは必ずしも同じ構成でなくても良い。
In the above embodiment, in the
また、上記実施形態では、モータ201とボールねじ202は、支持部材204により2箇所でブレイクバー107を支持したが、これに限らず、支持部材204により3箇所以上でブレイクバー107を支持しても良い。この場合、支持部材204は、Y軸方向に離れた3箇所以上の部位でブレイクバー107に固定される。なお、ブレイク装置18、21では、ブレイクバー107のY軸方向の長さは短いため、モータ201およびボールねじ202は、支持部材204により1箇所でブレイクバー107を支持しても良い。
In the above embodiment, the
また、上記実施形態では、図4(a)、(b)に示すように、壁部106cの基板側の端部は、受け部106aの基板側の端部よりも、基板から離れた位置とされた。しかしながら、これに限らず、Z軸方向において、壁部106cの基板側の端部は、受け部106aの基板側の端部と同じ位置であっても良い。
Moreover, in the said embodiment, as shown to Fig.4 (a), (b), the edge part by the side of the board | substrate of the
また、上記実施形態では、受け部106aは、図4(a)に示す形状とされたが、これに限らず、他の形状であっても良い。たとえば、受け部106aの内側面も収容部106の外側方向に傾斜していることにより、Y軸方向に見て、受け部106aがV字状に形成されても良い。また、Y軸方向に見て、受け部106aの外側面および内側面が、円弧状に形成されても良い。また、Y軸方向に見て、受け部106aは、矩形に形成されても良い。
Moreover, in the said embodiment, although the receiving
また、上記実施形態では、収容部106の基板側の端部に、連続的に受け部106aが形成されたが、これに限らず、部分的に受け部106aが形成されても良い。また、受け部106aの形成される方向は、スクライブラインに平行とされたが、スクライブラインに平行でなくても良い。また、受け部106aは、直線状に形成されたが、蛇行していても良い。
In the above embodiment, the receiving
本発明の実施形態は、特許請求の範囲に示された技術的思想の範囲内において、適宜、種々の変更が可能である。 The embodiment of the present invention can be appropriately modified in various ways within the scope of the technical idea shown in the claims.
1 ブレイクシステム
18、21 ブレイク装置
19、22、26、30、34 コンベア(搬送部)
23、27 回転移送部(搬送部、第1移送部)
24、28 回転移送部(搬送部、第2移送部)
25、29 検査部
31、32 移送部(搬送部)
330 駆動部(分離手段)
334、431 吸着パッド(保持部)
540 センサ(光学式変位センサ)
G2 基板
G2a 端部
G3 基板ユニット
G3a 切欠部
1
23, 27 Rotation transfer part (conveyance part, first transfer part)
24, 28 Rotation transfer part (conveyance part, second transfer part)
25, 29
330 Drive unit (separation means)
334, 431 Suction pad (holding part)
540 sensor (optical displacement sensor)
G2 board G2a end G3 board unit G3a notch
Claims (8)
前記ブレイク装置により生成された前記基板ユニットを後段装置へ搬送するための搬送部と、
前記ブレイク装置により生成された前記基板ユニットを検査する検査部と、を備え、
前記ブレイク装置は、前記基板ユニットを生成する際に、前記第2基板に形成された端子を露出させるために、前記端子に対向する前記第1基板の端部をブレイクする工程を実行し、
前記搬送部は、前記ブレイク装置によってブレイクされた前記端部を前記基板ユニットの搬送過程において前記基板ユニットから分離させるための分離手段を備え、
前記検査部は、前記搬送部における前記基板ユニットの搬送経路上の前記分離手段の下流側に配置され、前記分離手段により前記基板ユニットから前記端部が分離されたことによって前記端子が露出していることを検査し、前記端子が露出していない前記基板ユニットを前記搬送経路から離脱させる、
ことを特徴とするブレイクシステム。 A breaking device that breaks the substrate on which the first substrate and the second substrate are bonded together to generate a substrate unit;
A transport unit for transporting the substrate unit generated by the break device to a subsequent device;
An inspection unit for inspecting the substrate unit generated by the break device,
The breaking device performs a step of breaking an end portion of the first substrate facing the terminal in order to expose a terminal formed on the second substrate when generating the substrate unit;
The transport unit includes separation means for separating the end portion broken by the break device from the substrate unit in the transport process of the substrate unit,
The inspection unit is disposed downstream of the separation unit on the conveyance path of the substrate unit in the conveyance unit, and the terminal is exposed by the separation of the end from the substrate unit by the separation unit. Inspecting and removing the substrate unit from which the terminal is not exposed from the transport path,
Break system characterized by that.
前記ブレイク装置は、前記第1基板が下に向けられた状態で、前記第1基板の端部をブレイクし、
前記分離手段は、前記端部がブレイクされた前記基板ユニットを持ち上げて、前記基板ユニットの下面を搬送路から離間させる、
ことを特徴とするブレイクシステム。 The break system according to claim 1,
The break device breaks an end of the first substrate in a state where the first substrate is directed downward,
The separating means lifts the substrate unit having the end portion broken to separate the lower surface of the substrate unit from the conveyance path.
Break system characterized by that.
前記搬送部は、前記分離手段によって持ち上げられた前記基板ユニットを表裏反転させて前記検査部へと搬送する、
ことを特徴とするブレイクシステム。 The break system according to claim 2,
The transport unit transports the substrate unit lifted by the separating unit upside down and transports it to the inspection unit.
Break system characterized by that.
前記搬送部は、前記基板ユニットを持ち上げた後表裏反転させて移送する第1移送部と、表裏反転された前記基板ユニットを受け取って前記検査部へと搬送する第2移送部と、を備える、
ことを特徴とするブレイクシステム。 In the break system according to claim 3,
The transport unit includes a first transport unit that lifts the substrate unit and then reverses and transports the substrate unit, and a second transport unit that receives the transported substrate unit and transports the substrate unit to the inspection unit.
Break system characterized by that.
前記第1移送部および前記第2移送部は、それぞれ、前記基板ユニットを保持部で保持して旋回するよう構成され、前記第1移送部の前記保持部の旋回経路の一部と前記第2移送部の前記保持部の旋回経路の一部が平面視において互いに重なり合うように配置され、
前記2つの旋回経路が互いに重なり合う位置において、前記基板ユニットが、前記第1移送部から前記第2移送部に受け渡される、
ことを特徴とするブレイクシステム。 The break system according to claim 4,
The first transfer unit and the second transfer unit are configured to rotate while holding the substrate unit by a holding unit, respectively, and a part of the turning path of the holding unit of the first transfer unit and the second transfer unit. Arranged so that a part of the turning path of the holding part of the transfer part overlap each other in plan view,
The substrate unit is transferred from the first transfer unit to the second transfer unit at a position where the two swivel paths overlap each other.
Break system characterized by that.
前記検査部は、前記端部が取り除かれて形成された切欠部の有無を光学式変位センサにより検知することによって、前記端子が適正に露出していることを検査する、
ことを特徴とするブレイクシステム。 In the break system according to any one of claims 1 to 5,
The inspection unit inspects that the terminal is properly exposed by detecting the presence or absence of a notch formed by removing the end by an optical displacement sensor.
Break system characterized by that.
前記検査部は、前記切欠部を横切る方向に前記光学式変位センサを前記基板ユニットに対して相対的に移動させて、前記基板ユニットに前記切欠部が形成されていることを検査する、
ことを特徴とするブレイクシステム。 The break system according to claim 6,
The inspection unit inspects that the notch is formed in the substrate unit by moving the optical displacement sensor relative to the substrate unit in a direction across the notch.
Break system characterized by that.
前記搬送部は、前記基板ユニットを前記搬送経路の下流へと搬送するコンベアを備え、前記コンベアの搬送方向が前記切欠部を横切る方向に設定されており、
前記検査部は、前記コンベアにより搬送される前記基板ユニットに光を照射して前記切欠部の有無を検知する、
ことを特徴とするブレイクシステム。 The break system according to claim 7,
The transport unit includes a conveyor that transports the substrate unit to the downstream of the transport path, and the transport direction of the conveyor is set in a direction crossing the notch,
The inspection unit detects the presence or absence of the notch by irradiating the substrate unit conveyed by the conveyor with light.
Break system characterized by that.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015112052A JP6524803B2 (en) | 2015-06-02 | 2015-06-02 | Break system |
| KR1020160026668A KR20160142222A (en) | 2015-06-02 | 2016-03-04 | Break system |
| TW105107173A TWI684577B (en) | 2015-06-02 | 2016-03-09 | Rupture system |
| CN201610161911.1A CN106226935A (en) | 2015-06-02 | 2016-03-21 | Disconnection system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015112052A JP6524803B2 (en) | 2015-06-02 | 2015-06-02 | Break system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016224328A true JP2016224328A (en) | 2016-12-28 |
| JP6524803B2 JP6524803B2 (en) | 2019-06-05 |
Family
ID=57518946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015112052A Expired - Fee Related JP6524803B2 (en) | 2015-06-02 | 2015-06-02 | Break system |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6524803B2 (en) |
| KR (1) | KR20160142222A (en) |
| CN (1) | CN106226935A (en) |
| TW (1) | TWI684577B (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019098586A (en) * | 2017-11-30 | 2019-06-24 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Substrate processing device |
| JP2019109292A (en) * | 2017-12-15 | 2019-07-04 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | End material removing device and end material removing method |
| CN110342801A (en) * | 2019-07-16 | 2019-10-18 | 咸宁南玻玻璃有限公司 | A kind of full-automatic big glass sheet longitudinally breaks disconnected separation system |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6829870B2 (en) * | 2016-11-25 | 2021-02-17 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Board division system |
| CN109085708B (en) * | 2018-09-25 | 2021-06-18 | 苏州凌云视界智能设备有限责任公司 | Frock suitable for adjustment of triangle carousel tool layer board |
Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11142825A (en) * | 1997-11-05 | 1999-05-28 | Seiko Epson Corp | Manufacturing method of liquid crystal display device and liquid crystal display device |
| JP2002372697A (en) * | 2001-06-18 | 2002-12-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacturing method of liquid crystal display device |
| JP2003270170A (en) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | Inspection apparatus and inspection method for liquid crystal display panel |
| JP2004004448A (en) * | 2002-05-30 | 2004-01-08 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | System for manufacturing liquid crystal display device and method for manufacturing liquid crystal display device using the same |
| WO2004007164A1 (en) * | 2002-07-02 | 2004-01-22 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co.,Ltd. | Pasted base board cutting system and base board cutting method |
| WO2005047874A1 (en) * | 2003-11-13 | 2005-05-26 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Substrate inspection device, substrate inspection method, and program |
| WO2005053925A1 (en) * | 2003-12-04 | 2005-06-16 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Substrate machining method, substrate machining device, substrate carrying method, and substrate carrying mechanism |
| WO2005087458A1 (en) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Substrate dividing system, substrate manufacturing equipment, substrate scribing method and substrate dividing method |
| JP2008286856A (en) * | 2007-05-15 | 2008-11-27 | Nec Lcd Technologies Ltd | Pressure welding device |
| KR20100123907A (en) * | 2008-06-17 | 2010-11-25 | 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 | Method for processing substrate of mother board |
| JP2013056830A (en) * | 2012-12-11 | 2013-03-28 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | Substrate dividing system |
| US20130140338A1 (en) * | 2011-12-05 | 2013-06-06 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Splitting apparatus of liquid crystal display (lcd) and splitting method thereof |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3264634B2 (en) * | 1997-02-18 | 2002-03-11 | 松下電器産業株式会社 | Surface inspection device and method |
| KR100789455B1 (en) | 2002-02-20 | 2007-12-31 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | Cutting method of liquid crystal panel |
| JP2013071335A (en) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | Method for dicing mother substrate |
| JP6336735B2 (en) * | 2013-11-11 | 2018-06-06 | 第一実業ビスウィル株式会社 | Appearance inspection device |
-
2015
- 2015-06-02 JP JP2015112052A patent/JP6524803B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-03-04 KR KR1020160026668A patent/KR20160142222A/en not_active Withdrawn
- 2016-03-09 TW TW105107173A patent/TWI684577B/en not_active IP Right Cessation
- 2016-03-21 CN CN201610161911.1A patent/CN106226935A/en active Pending
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11142825A (en) * | 1997-11-05 | 1999-05-28 | Seiko Epson Corp | Manufacturing method of liquid crystal display device and liquid crystal display device |
| JP2002372697A (en) * | 2001-06-18 | 2002-12-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacturing method of liquid crystal display device |
| JP2003270170A (en) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | Inspection apparatus and inspection method for liquid crystal display panel |
| JP2004004448A (en) * | 2002-05-30 | 2004-01-08 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | System for manufacturing liquid crystal display device and method for manufacturing liquid crystal display device using the same |
| WO2004007164A1 (en) * | 2002-07-02 | 2004-01-22 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co.,Ltd. | Pasted base board cutting system and base board cutting method |
| WO2005047874A1 (en) * | 2003-11-13 | 2005-05-26 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Substrate inspection device, substrate inspection method, and program |
| WO2005053925A1 (en) * | 2003-12-04 | 2005-06-16 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Substrate machining method, substrate machining device, substrate carrying method, and substrate carrying mechanism |
| WO2005087458A1 (en) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Substrate dividing system, substrate manufacturing equipment, substrate scribing method and substrate dividing method |
| JP2008286856A (en) * | 2007-05-15 | 2008-11-27 | Nec Lcd Technologies Ltd | Pressure welding device |
| KR20100123907A (en) * | 2008-06-17 | 2010-11-25 | 미쓰보시 다이야몬도 고교 가부시키가이샤 | Method for processing substrate of mother board |
| US20130140338A1 (en) * | 2011-12-05 | 2013-06-06 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Splitting apparatus of liquid crystal display (lcd) and splitting method thereof |
| JP2013056830A (en) * | 2012-12-11 | 2013-03-28 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | Substrate dividing system |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019098586A (en) * | 2017-11-30 | 2019-06-24 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Substrate processing device |
| CN110027118A (en) * | 2017-11-30 | 2019-07-19 | 三星钻石工业股份有限公司 | Base plate processing device |
| JP7015047B2 (en) | 2017-11-30 | 2022-02-02 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Substrate processing equipment |
| JP2019109292A (en) * | 2017-12-15 | 2019-07-04 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | End material removing device and end material removing method |
| CN110342801A (en) * | 2019-07-16 | 2019-10-18 | 咸宁南玻玻璃有限公司 | A kind of full-automatic big glass sheet longitudinally breaks disconnected separation system |
| CN110342801B (en) * | 2019-07-16 | 2023-10-27 | 咸宁南玻玻璃有限公司 | Full-automatic longitudinal breaking separation system for large-plate glass |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20160142222A (en) | 2016-12-12 |
| TWI684577B (en) | 2020-02-11 |
| TW201643126A (en) | 2016-12-16 |
| CN106226935A (en) | 2016-12-14 |
| JP6524803B2 (en) | 2019-06-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
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|
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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