JP2016001308A5 - 露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents

Claims (15)

1. 光源からの光により第１面に設置された所定のパターンを照明するための照明系と、複数の反射鏡を有し前記所定のパターンを第２面に設置された感光性基板に投影する投影光学系とを備え、
   前記投影光学系は、第１方向に関する前記第１面側の開口数を規定するとともに、前記第１方向と直交する第２方向に関する前記第１面側の開口数を規定する開口絞りを備え、
   前記照明系は、
   複数の反射要素を有する第１フライアイ光学系と、
   前記第１フライアイ光学系からの光を反射する複数の反射要素を有し、前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置に配置された第２フライアイ光学系とを備え、
   前記投影光学系の前記第１方向に関する前記第１面側の開口数は、前記第２方向に関する前記第１面側の開口数よりも大きく、
   前記第２方向に対応する第３方向の大きさよりも前記第１方向に対応する第４方向の大きさの方が大きい領域に、前記第２フライアイ光学系の前記複数の反射要素が配置されている、露光装置。
2. 前記開口絞りは、前記第１方向に関する前記第２面側の開口数を規定すると共に、前記第２方向に関する前記第２面側の開口数を規定する、請求項１に記載の露光装置。
3. 前記第２方向における前記投影光学系の前記第１面側開口数は、前記照明系からの照明光が照射される領域内の一点に達する前記照明光と前記投影光学系の光軸と平行な軸とのなす角度の正弦よりも大きい、請求項１または２に記載の露光装置。
4. 前記第１面に形成される照明領域の各点に対応する主光線と前記第１面の垂線とのなす角の平均値をαとし、前記第１面における最大開口数をＮＡmaxとすると、
   ＮＡmax＞sinα
   の条件を満たす、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
5. 走査方向に沿った前記投影光学系と前記感光性基板との相対的な位置を変更しつつ露光を行い、
   前記第３方向は前記走査方向に対応している、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記第２面上における結像領域は円弧状である、請求項５に記載の露光装置。
7. 前記投影光学系は、前記円弧状の結像領域の短辺方向に沿った軸と前記投影光学系の光軸とを含む面に沿って光束を折り曲げるように配置された複数の反射鏡を備える、請求項６に記載の露光装置。
8. 前記第２面上における結像領域は矩形状である、請求項５に記載の露光装置。
9. 前記投影光学系は、前記矩形状の結像領域の短辺方向に沿った軸と前記投影光学系の光軸とを含む面に沿って光束を折り曲げるように配置された複数の反射鏡を備える、請求項８に記載の露光装置。
10. 前記結像領域の長手方向は、前記走査方向と直交する、請求項６乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
11. 前記第２フライアイ光学系の前記複数の反射要素が配列される領域の形状は、楕円形状である、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置。
12. 前記投影光学系は、前記第２面側にテレセントリックな光学系である、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の露光装置。
13. 前記投影光学系の入射瞳は、前記第１面を挟んで前記投影光学系の反対側に位置している、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の露光装置。
14. 前記光源から供給される光は波長が５ｎｍ乃至４０ｎｍのＥＵＶ光であり、
    前記投影光学系に対して前記所定のパターンおよび前記感光性基板を相対移動させて、前記所定のパターンを前記感光性基板に投影露光する、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の露光装置。
15. 請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
    前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
    前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、を含む、デバイス製造方法。